WO2002067286A3 - Teilchenstrahlsystem mit einem spiegelkorrektor - Google Patents

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Abstract

Die Erfindung betrifft ein Teilchenstrahlsystem mit einer Teilchenquelle (1), einem Spiegelkorrektor (9, 21-25) und einem Objektiv (16). Der Spiegelkorrektor weist dabei einen elektrostatischen Spiegel (9) und im Strahlengang zwischen der Teilchenquelle (1) und dem elektrostatischen Spiegel (9) sowie zwischen dem elektrostatischen Spiegel (9) und dem Objektiv (16) einen magnetischen Strahlumlenker (21, 22, 23, 24, 25) auf. Der magnetische Strahlumlenker (21, 22, 23, 24, 25) ist für jeweils einfachen Durchgang dispersionsfrei. Weiterhin weist der magnetische Strahlumlenker (21, 22, 23, 24, 25) Quadrupole und/oder Quadrupolkomponenten auf, die derart bestimmt sind, dass auf dem gesamten Bahnverlauf zwischen dem erstmaligen Austritt aus dem magnetischen Strahlumlenker (21, 22, 23, 24, 25) und dem Objektiv (16) maximal zwei zur Beugungsebene (28) des Objektivs (16) konjugierte Ebenen auftreten.
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Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002566518A JP4004961B2 (ja) 2001-02-20 2002-02-14 ミラー補正器を有する粒子ビームシステム
DE50212143T DE50212143D1 (de) 2001-02-20 2002-02-14 Teilchenstrahlsystem mit einem spiegelkorrektor
EP02722075A EP1362361B1 (de) 2001-02-20 2002-02-14 Teilchenstrahlsystem mit einem spiegelkorrektor
US10/634,810 US7022987B2 (en) 2001-02-20 2003-08-06 Particle-optical arrangements and particle-optical systems
US10/644,037 US6855939B2 (en) 2001-02-20 2003-08-20 Particle beam system having a mirror corrector

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10107910A DE10107910A1 (de) 2001-02-20 2001-02-20 Teilchenstrahlsystem mit einem Spiegelkorrektor
DE10107910.9 2001-02-20

Related Child Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
US10/634,810 Continuation-In-Part US7022987B2 (en) 2001-02-20 2003-08-06 Particle-optical arrangements and particle-optical systems
US10/644,037 Continuation US6855939B2 (en) 2001-02-20 2003-08-20 Particle beam system having a mirror corrector

Publications (2)

Publication Number Publication Date
WO2002067286A2 WO2002067286A2 (de) 2002-08-29
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US (1) US6855939B2 (de)
EP (1) EP1362361B1 (de)
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DE (2) DE10107910A1 (de)
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Families Citing this family (66)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7022987B2 (en) 2001-02-20 2006-04-04 Carl Zeiss Nis Gmbh Particle-optical arrangements and particle-optical systems
DE10235981B9 (de) * 2002-08-06 2009-01-22 Leo Elektronenmikroskopie Gmbh Teilchenoptische Vorrichtung und Elektronenmikroskop
DE10159454B4 (de) * 2001-12-04 2012-08-02 Carl Zeiss Nts Gmbh Korrektor zur Korrektion von Farbfehlern erster Ordnung, ersten Grades
DE10235456B4 (de) * 2002-08-02 2008-07-10 Leo Elektronenmikroskopie Gmbh Elektronenmikroskopiesystem
EP2579273B8 (de) 2003-09-05 2019-05-22 Carl Zeiss Microscopy GmbH Optische Partikelsysteme und Anordnungen und optische Partikelkomponenten für solche Systeme und Anordnungen
US6878937B1 (en) * 2004-02-10 2005-04-12 Kla-Tencor Technologies Corporation Prism array for electron beam inspection and defect review
US7348566B2 (en) * 2006-02-28 2008-03-25 International Business Machines Corporation Aberration-correcting cathode lens microscopy instrument
EP1883094B1 (de) * 2006-07-24 2012-05-02 ICT, Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH Teilchenstrahlapparat und Verfahren zur Untersuchung einer Probe
DE102008001812B4 (de) * 2008-05-15 2013-05-29 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Positioniereinrichtung für ein Teilchenstrahlgerät
JP5250350B2 (ja) * 2008-09-12 2013-07-31 株式会社日立ハイテクノロジーズ 荷電粒子線応用装置
DE102008064696B4 (de) * 2008-12-23 2022-01-27 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Teilchenoptische Vorrichtung mit Magnetanordnung und ihre Verwendung zum Abbilden oder Beleuchten
DE102009016861A1 (de) 2009-04-08 2010-10-21 Carl Zeiss Nts Gmbh Teilchenstrahlmikroskop
US8129693B2 (en) * 2009-06-26 2012-03-06 Carl Zeiss Nts Gmbh Charged particle beam column and method of operating same
DE102009052392A1 (de) 2009-11-09 2011-12-15 Carl Zeiss Nts Gmbh SACP-Verfahren und teilchenoptisches System zur Ausführung eines solchen Verfahrens
EP2511936B1 (de) * 2011-04-13 2013-10-02 Fei Company Verzerrungsfreie Stigmation eines TEM
DE102011076893A1 (de) 2011-06-01 2012-12-06 Carl Zeiss Nts Gmbh Verfahren und Teilchenstrahlgerät zum Fokussieren eines Teilchenstrahls
DE102012215945A1 (de) 2012-09-07 2014-03-13 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Teilchenstrahlgerät und Verfahren zum Betrieb eines Teilchenstrahlgeräts
JP5493029B2 (ja) * 2013-04-12 2014-05-14 株式会社日立ハイテクノロジーズ 荷電粒子線応用装置
US8841631B1 (en) * 2013-06-26 2014-09-23 Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. Apparatus and techniques for controlling ion angular spread
US9312093B1 (en) 2014-06-27 2016-04-12 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Particle beam device comprising an electrode unit
US9595417B2 (en) * 2014-12-22 2017-03-14 ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH High resolution charged particle beam device and method of operating the same
JP6339734B2 (ja) * 2015-02-18 2018-06-06 株式会社日立製作所 荷電粒子線応用装置、及び、収差補正器
DE102015108245A1 (de) 2015-05-26 2016-12-01 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Verfahren zur Erzeugung eines Bildes eines Objekts mit einem Teilchenstrahlgerät sowie Teilchenstrahlgerät zur Durchführung des Verfahrens
DE102015210893B4 (de) 2015-06-15 2019-05-09 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Analyseeinrichtung zur Analyse der Energie geladener Teilchen und Teilchenstrahlgerät mit einer Analyseeinrichtung
US9472373B1 (en) * 2015-08-17 2016-10-18 ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH Beam separator device, charged particle beam device and methods of operating thereof
US9620331B1 (en) * 2015-11-19 2017-04-11 Carl Zeiss Microscopy Ltd. Method for analyzing an object and charged particle beam device for carrying out the method
EP3176808B1 (de) 2015-12-03 2019-10-16 Carl Zeiss Microscopy Ltd. Verfahren zur detektion geladener partikel und partikelstrahlvorrichtung zur durchführung des verfahrens
EP3236486A1 (de) 2016-04-22 2017-10-25 Carl Zeiss Microscopy GmbH Verfahren zur erzeugung eines zusammengesetzen bildes eines objekts und teilchenstrahlvorrichtung zur durchführung des verfahrens
DE102016208689B4 (de) 2016-05-20 2018-07-26 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Verfahren zum Erzeugen eines Bildes eines Objekts und/oder einer Darstellung von Daten über das Objekt sowie Computerprogrammprodukt und Teilchenstrahlgerät zur Durchführung des Verfahrens
DE102017201706A1 (de) 2017-02-02 2018-08-02 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Abbildungseinrichtung zur Abbildung eines Objekts und zur Abbildung einer Baueinheit in einem Teilchenstrahlgerät
DE102017203554A1 (de) 2017-03-04 2018-09-06 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Objektpräparationseinrichtung und Teilchenstrahlgerät mit einer Objektpräparationseinrichtung sowie Verfahren zum Betrieb des Teilchenstrahlgeräts
DE102017203553A1 (de) 2017-03-04 2018-09-06 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Objektpräparationseinrichtung und Teilchenstrahlgerät mit einer Objektpräparationseinrichtung sowie Verfahren zum Betrieb des Teilchenstrahlgeräts
DE102018202728B4 (de) 2018-02-22 2019-11-21 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Verfahren zum Betrieb eines Teilchenstrahlgeräts, Computerprogrammprodukt und Teilchenstrahlgerät zur Durchführung des Verfahrens
DE102018010335B3 (de) 2018-02-22 2023-08-10 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Verfahren zum Betrieb eines Teilchenstrahlgeräts, Computerprogrammprodukt und Teilchenstrahlgerät zur Durchführung des Verfahrens
DE102018203096B9 (de) 2018-03-01 2020-02-27 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Verfahren zum Betrieb eines Drucksystems für eine Vorrichtung zum Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten eines Objekts und Vorrichtung zum Ausführen des Verfahrens
DE102018207645B9 (de) 2018-05-16 2022-05-05 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Verfahren zum Betrieb eines Teilchenstrahlerzeugers für ein Teilchenstrahlgerät, Computerprogrammprodukt und Teilchenstrahlgerät mit einem Teilchenstrahlerzeuger
DE102018010383A1 (de) 2018-10-02 2020-07-23 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Verfahren zum Einstellen einer Position eines Bauteils eines Teilchenstrahlgeräts, Computerprogrammprodukt sowie Teilchenstrahlgerät zur Durchführung des Verfahrens
DE102018216968B9 (de) 2018-10-02 2021-01-28 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Verfahren zum Einstellen einer Position eines Bauteils eines Teilchenstrahlgeräts, Computerprogrammprodukt sowie Teilchenstrahlgerät zur Durchführung des Verfahrens
US10658152B1 (en) 2018-10-04 2020-05-19 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Method for controlling a particle beam device and particle beam device for carrying out the method
DE102018222522A1 (de) 2018-12-20 2020-06-25 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Verfahren zum Betrieb einer Gaszuführungseinrichtung sowie Gaszuführungseinrichtung zur Durchführung des Verfahrens und Teilchenstrahlgerät mit einer Gaszuführungseinrichtung
DE102019208661A1 (de) * 2019-06-13 2020-12-17 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Verfahren zum Betrieb eines Teilchenstrahlgeräts und Teilchenstrahlgerät zum Ausführen des Verfahrens
DE102019004124B4 (de) * 2019-06-13 2024-03-21 Carl Zeiss Multisem Gmbh Teilchenstrahl-System zur azimutalen Ablenkung von Einzel-Teilchenstrahlen sowie seine Verwendung und Verfahren zur Azimut-Korrektur bei einem Teilchenstrahl-System
DE102019214936A1 (de) * 2019-09-27 2021-04-01 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Verfahren zum Bestimmen einer Materialzusammensetzung eines Objekts mit einem Teilchenstrahlgerät, Computerprogrammprodukt und Teilchenstrahlgerät zur Durchführung des Verfahrens sowie System mit einem Teilchenstrahlgerät
DE102019216791B4 (de) 2019-10-30 2023-08-10 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Verfahren zum Betreiben eines Teilchenstrahlgeräts und/oder eines Lichtmikroskops, Computerprogrammprodukt sowie Teilchenstrahlgerät und Lichtmikroskop zur Durchführung des Verfahrens
DE102020102314B4 (de) 2020-01-30 2022-02-10 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Objektaufnahmebehälter, Objekthaltesystem mit einem Objektaufnahmebehälter, Strahlgerät und Gerät mit einem Objektaufnahmebehälter oder einem Objekthaltesystem sowie Verfahren zum Untersuchen, Analysieren und/oder Bearbeiten eines Objekts
DE102020102854A1 (de) 2020-02-05 2021-08-05 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Teilchenstrahlgerät
DE102020103339A1 (de) 2020-02-10 2021-08-12 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Verfahren zum Betrieb eines Teilchenstrahlgeräts, Computerprogrammprodukt und Teilchenstrahlgerät zur Durchführung des Verfahrens
DE102020104704A1 (de) 2020-02-21 2021-08-26 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Verfahren zur Verarbeitung von Bildern, Computerprogrammprodukt, Bildbearbeitungsvorrichtung und Strahlvorrichtung zum Ausführen des Verfahrens
DE102020111151B4 (de) 2020-04-23 2023-10-05 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Verfahren zum Belüften und Abpumpen einer Vakuumkammer eines Teilchenstrahlgeräts, Computerprogrammprodukt und Teilchenstrahlgerät zur Durchführung des Verfahrens
DE102020112220B9 (de) 2020-05-06 2022-05-25 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Teilchenstrahlgerät zum Abtragen mindestens eines Materials von einer Materialeinheit und Anordnen des Materials an einem Objekt
DE102020122535B4 (de) 2020-08-28 2022-08-11 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Verfahren zum Betrieb eines Strahlgeräts, Computerprogrammprodukt und Strahlgerät zum Durchführen des Verfahrens
US11380519B1 (en) 2020-11-05 2022-07-05 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Operating a particle beam generator for a particle beam device
DE102021102900B4 (de) 2021-02-08 2022-11-17 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Verfahren zum Betrieb eines Teilchenstrahlgeräts, Computerprogrammprodukt und Teilchenstrahlgerät zur Durchführung des Verfahrens
JP7381515B2 (ja) * 2021-03-31 2023-11-15 株式会社日立ハイテク 電子線応用装置
DE102021110948B4 (de) 2021-04-28 2023-09-28 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Verfahren zum Bearbeiten eines Objekts mit einer Materialbearbeitungseinrichtung, Computerprogrammprodukt und Materialbearbeitungseinrichtung zum Durchführen des Verfahrens
DE102021113930A1 (de) 2021-05-28 2022-12-01 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Verfahren zum Erzeugen eines Bildes eines Objekts und/oder einer Darstellung von Daten über das Objekt, Computerprogrammprodukt sowie Teilchenstrahlgerät zur Durchführung des Verfahrens
DE202021004363U1 (de) 2021-05-28 2023-12-04 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Teilchenstrahlgerät zum Erzeugen eines Bildes eines Objekts und/oder einer Darstellung von Daten über das Objekt, sowie Computerprogrammprodukt zum Erzeugen des Bildes des Objekts und/oder der Darstellung von Daten über das Objekt
DE102021128117A1 (de) 2021-10-28 2023-05-04 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Verfahren zum Herstellen einer Probe an einem Objekt, Computerprogrammprodukt und Materialbearbeitungseinrichtung zum Durchführen des Verfahrens
WO2023072919A2 (en) 2021-10-28 2023-05-04 Carl Zeiss Smt Gmbh High resolution, low energy electron microscope for providing topography information and method of mask inspection
DE102021212978A1 (de) 2021-11-18 2023-05-25 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zur Bildgebung mit einem Rasterelektronenmikroskop sowie Rasterelektronenmikroskop zur Durchführung des Verfahrens
DE102021132832A1 (de) 2021-12-13 2023-06-15 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Gaszuführungseinrichtung, Teilchenstrahlgerät mit einer Gaszuführungseinrichtung sowie Verfahren zum Betrieb der Gaszuführungseinrichtung und des Teilchenstrahlgeräts
DE102021132833A1 (de) 2021-12-13 2023-06-15 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Gaszuführungseinrichtung, System mit einer Gaszuführungseinrichtung sowie Teilchenstrahlgerät mit einer Gaszuführungseinrichtung oder dem System
DE102021132834A1 (de) 2021-12-13 2023-06-29 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Gasreservoir, Gaszuführungseinrichtung mit einem Gasreservoir und Teilchenstrahlgerät mit einer Gaszuführungseinrichtung
DE102022119041A1 (de) 2022-07-28 2024-02-08 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Verfahren zum Befestigen eines Objekts an einem Manipulator und zum Bewegen des Objekts in einem Teilchenstrahlgerät, Computerprogrammprodukt sowie Teilchenstrahlgerät
DE102022119042A1 (de) 2022-07-28 2024-02-08 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Verfahren zum Befestigen eines Objekts an einem Manipulator und/oder an einem Objekthalter in einem Teilchenstrahlgerät, Computerprogrammprodukt, Teilchenstrahlgerät sowie Vorrichtung zum Befestigen und Bewegen eines Objekts
DE102022120496A1 (de) * 2022-08-12 2024-02-15 Carl Zeiss Multisem Gmbh Teilchenoptische Anordnung, insbesondere Vielstrahl-Teilchenmikroskop, mit einer Magnetanordnung zum Separieren eines primären und eines sekundären teilchenoptischen Strahlenganges

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0530640A1 (de) * 1991-09-04 1993-03-10 Firma Carl Zeiss Abbildungssystem für Strahlung geladener Teilchen mit Spiegelkorrektor

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB458015A (en) * 1935-05-20 1936-12-10 British Thomson Houston Co Ltd Improvements in and relating to the control of electronic rays
FR2036373A5 (de) * 1969-03-12 1970-12-24 Thomson Csf
US4107526A (en) * 1976-03-22 1978-08-15 Minnesota Mining And Manufacturing Company Ion scattering spectrometer with modified bias
US4367406A (en) * 1981-01-13 1983-01-04 Trustees Of Boston University Cylindrical mirror electrostatic energy analyzer free of third-order angular aberrations
JPS63276860A (ja) * 1987-05-07 1988-11-15 Nissin Electric Co Ltd 表面解析装置
DE3931970A1 (de) 1989-09-25 1991-04-04 Roethele S Sektorfeldablenksystem, insbes. fuer ein niederspannungselektronen-mikroskop
DE4041495A1 (de) * 1990-12-22 1992-06-25 Zeiss Carl Fa Elektronenenergiefilter, vorzugsweise vom alpha- oder omega-typ
DE69213157T2 (de) * 1991-10-24 1997-03-06 Philips Electronics Nv Elektronenstrahlvorrichtung
DE4310559A1 (de) * 1993-03-26 1994-09-29 Zeiss Carl Fa Abbildendes Elektronenenergiefilter
US5644132A (en) * 1994-06-20 1997-07-01 Opan Technologies Ltd. System for high resolution imaging and measurement of topographic and material features on a specimen
JPH09270241A (ja) * 1996-04-01 1997-10-14 Jeol Ltd 走査電子顕微鏡
WO1998012732A1 (en) * 1996-09-20 1998-03-26 Philips Electronics N.V. Correction device for correcting chromatic aberration in particle-optical apparatus
JP3400284B2 (ja) * 1997-02-27 2003-04-28 日本電子株式会社 オメガ型エネルギーフィルタ及び該フィルタを組み込んだ電子顕微鏡
JP3518271B2 (ja) * 1997-08-28 2004-04-12 株式会社日立製作所 エネルギーフィルタおよびこれを備えた電子顕微鏡
DE19746785A1 (de) * 1997-10-23 1999-04-29 Leo Elektronenmikroskopie Gmbh Teilchenstrahlgerät mit Energiefilter
JP3571523B2 (ja) * 1998-03-09 2004-09-29 日本電子株式会社 オメガ型エネルギーフィルタ
DE19828741A1 (de) * 1998-06-27 1999-12-30 Leo Elektronenmikroskopie Gmbh Elektronenmikroskop mit einem abbildenden magnetischen Energiefilter
EP0999573B1 (de) * 1998-11-06 2006-06-28 ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH Strahlrohr für geladene Teilchen
US6522056B1 (en) * 1999-07-02 2003-02-18 Coincident Beams Licensing Corporation Method and apparatus for simultaneously depositing and observing materials on a target

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0530640A1 (de) * 1991-09-04 1993-03-10 Firma Carl Zeiss Abbildungssystem für Strahlung geladener Teilchen mit Spiegelkorrektor

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
ROSE H ET AL: "Time-dependent perturbation formalism for calculating the aberrations of systems with large ray gradients", NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH, SECTION - A: ACCELERATORS, SPECTROMETERS, DETECTORS AND ASSOCIATED EQUIPMENT, NORTH-HOLLAND PUBLISHING COMPANY. AMSTERDAM, NL, vol. A363, no. 1, 1995, pages 301 - 315, XP004009661, ISSN: 0168-9002 *

Also Published As

Publication number Publication date
EP1362361A2 (de) 2003-11-19
DE10107910A1 (de) 2002-08-22
US6855939B2 (en) 2005-02-15
EP1362361B1 (de) 2008-04-23
JP4004961B2 (ja) 2007-11-07
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