WO1999015302A1 - Verfahren und vorrichtung zum materialbearbeiten mit plasma induzierender hochenergiestrahlung - Google Patents

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Definitions

  • a very simple embodiment of the device is present if the detectors are formed by pinholes. With ⁇ means of only two pinholes can be detected process states, since each aperture observed only a dot area of the interaction zone of the processing or the Dampfkapil ⁇ stellar or measures.

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