WO1988004104A1 - Apparatus for observation using charged particle beams and method of surface observation using charged particle beams - Google Patents

Apparatus for observation using charged particle beams and method of surface observation using charged particle beams Download PDF

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WO1988004104A1
WO1988004104A1 PCT/JP1987/000880 JP8700880W WO8804104A1 WO 1988004104 A1 WO1988004104 A1 WO 1988004104A1 JP 8700880 W JP8700880 W JP 8700880W WO 8804104 A1 WO8804104 A1 WO 8804104A1
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sample
charged particle
particle beam
magnetic field
coil
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PCT/JP1987/000880
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Ken'ichi Saito
Kou Wada
Masahiro Yoshizawa
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Nippon Telegraph And Telephone Corporation
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/26Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
    • H01J37/28Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/26Electron or ion microscopes
    • H01J2237/28Scanning microscopes
    • H01J2237/2809Scanning microscopes characterised by the imaging problems involved
    • H01J2237/281Bottom of trenches or holes

Definitions

  • the present invention relates to a concave portion (for example, a field hole formed during a process in an LSI manufacturing line).
  • the charged particle beam observation device and the charged particle beam are suitable for observing the image of secondary electrons generated from the inside of the recess when the charged particle beam is irradiated to the sample having It relates to a surface observation method.
  • the residue on the bottom of the sample which has a recess (hereinafter collectively referred to as a “thru-hole”), such as a thru-hole and a capacitive groove,
  • a recess hereinafter collectively referred to as a “thru-hole”
  • a charged particle beam observation device that can observe the bottom of the hole is required. Have been coming.
  • Fig. 1 shows the mirror part of the charged particle beam observation device described in (1).
  • Electrons 1 (hereinafter referred to as primary electrons) emitted from the cathode 2 are accelerated by the first anode 3 and the second anode 4, and are focused by the focusing lens 5 and the objective lens.
  • the lens is focused on the upper surface of the sample 8 by the lens operation of the lens 6.
  • the position of the collecting point of the primary electron 1 on the sample surface 8 is controlled by the deflection coil 7.
  • Secondary electrons 9 generated from the sample 8 due to the collision of the primary electrons 1 pass through the objective lens 6 and are detected by the secondary electron detector i 0 .
  • the primary electron 1 is scanned on the sample 8 using the deflection coil 7, and the secondary electron 9 is detected by the secondary electron detector ⁇ 0. You can observe an electronic image.
  • FIG. 2 shows the trajectories of secondary electrons emitted from a cylindrical through hole with a diameter of Q .5 ⁇ m and a depth of 1 ⁇ m.
  • An insulating layer 12 is formed on a substrate 11, and a sample 8 shown in FIG. 1 is composed of the substrate 11 and the insulating layer 12.
  • the center axis of the wheel is 14, the orbit of secondary electrons emitted from the center of the through-hole at an angle of 5 degrees with respect to the center axis 13, and 15 is the center axis of 13.
  • the trajectory of secondary electrons emitted from the center of the through-hole at an angle of 10 degrees to the center of the through-hole, and the orbit of the through-hole at an angle of 15-85 degrees to the central axis 13 Shows the orbit of the secondary electrons emitted from the center.
  • the energy of the secondary electrons 14-16 is 5 eV.
  • the magnetic field applied to the surface of the sample 8 in the direction perpendicular to the surface is about 1 ⁇ 10 A T / m.
  • the magnetic field applied to Sample 8 was increased by about 1 G ⁇ . It needs to be strengthened. Therefore, it is necessary to increase the exciting current of the objective lens 7 by about 100 times.
  • the focal point of the primary electron 17 coincides with the upper surface of the sample 8, but when the exciting current of the objective lens & is increased, Move to the point of primary electron collecting point 1 9 above sample 8. For this reason, the beam diameter of the primary electrons irradiating the surface of the sample 8 was increased, and the observed secondary electron image was blurred, which caused a problem.
  • the present invention has been made to solve the above-mentioned conventional problems.
  • the purpose of the present invention is to provide a charged particle beam for observing a secondary electron image emitted from the bottom surface of a concave portion such as a thruhole provided on the surface of a sample.
  • the purpose is to provide a room observation device.
  • Another object of the present invention is to provide a surface observation method using a charged particle beam for obtaining a clear secondary electron image of a sample surface.
  • the apparatus of the present invention includes a charged particle gun that emits a charged particle beam, and irradiates a sample with the charged particle beam.
  • a charged particle beam irradiation trajectory control unit a secondary electron detector that detects secondary electrons emitted from the sample by irradiation of the charged particle beam, and a strong magnetic field on the sample surface It is characterized by having an exciting device for causing the laser beam and a focusing lens for controlling the focusing position of the charged particles.
  • the charged particles may be electrons.
  • the excitation device applies a strong magnetic field to the sample surface in the direction in which the lines of magnetic force intersect the bottom surface or the side surfaces of the concave portion on the sample surface.
  • the generated secondary electrons are spirally moved along the strong magnetic field generated by the excitation device, so that the concave surface of the sample is It may be released to the outside from the part.
  • the exciter may consist of a coil and a magnetic path, or the coil may be cooled by a refrigerant.
  • the exciter may be made of a superconducting coil, and the casing is made of a superconducting material in which the coil is made of superconducting material and has an air gap only at the position facing the sample. It may be surrounded by the body.
  • a superconducting coil may be installed above and below the sample.
  • the focusing lens may be arranged so that it exists between the lens and the sample, and the charged particles may be focused at the position of the collecting point.
  • charged particles are irradiated to the sample surface to emit secondary electrons from the bottom surface or the side surface of the concave portion on the sample surface, and to the excitation means. Therefore, a strong magnetic field is applied to the sample surface in the direction in which the lines of magnetic force cross each other on the bottom surface or side surface of the concave portion of the sample surface, and the secondary electrons spirally move along the strong magnetic field generated by the excitation means.
  • the sample is released from the recess on the sample surface to the outside, and this is detected, and the surface including the bottom surface or side surface of the sample recess is observed.
  • charged particles may be electrons.
  • the charged particles are irradiated to the sample surface, and are emitted from the bottom surface of the concave part of the sample surface or almost the side surface.
  • the magnitude of the magnetic field generated by the excitation means for applying a strong magnetic field to the sample surface is almost the same as that of charged particles.
  • the positions of the virtual focusing points of the equivalent energy charged particles formed when the charged particles of the energy are virtually released from the sample surface are determined in advance.
  • secondary electrons generated on the bottom surface or side surface of the concave part on the sample surface by the irradiation of the charged particle beam spirally move along the strong magnetic field generated by the excitation means.
  • the excitation current of the focusing means is released from the concave portion of the sample surface to the outside, and the charged particles are focused at the position of the virtual focusing point.
  • secondary electrons are detected by setting the applied voltage.
  • a virtual focusing point may be located between the focusing means and the sample.
  • the charged particles may be electrons, or the charged particle beams may be capable of scanning the surface of the sample.
  • the exciting means may consist of a coil and a magnetic path, and the coil may be cooled by a refrigerant.
  • the excitation means may be made of a superconducting coil, and the coil may be made of a superconducting material having a gap only at a position facing the sample.
  • the superconducting coil may be placed above and below the sample, or may be surrounded by a casing.
  • Fig. 2 shows a surface showing the electron trajectory in a single hole in a conventional charged particle beam observation system.
  • Fig. 3 is a diagram showing the change in beam retraction when the exciting current of the objective lens was increased in the conventional charged particle beam observation device.
  • Fig. 4 shows an example of the relationship between the size of the through hole and the magnetic field when observing the bottom of the through hole.
  • FIG. 5 is a sectional view showing the configuration of an embodiment of the charged particle beam observation apparatus according to the present invention.
  • FIG. S is a sectional view showing an example of the excitation device according to the embodiment of the present invention.
  • Fig. 7 Diagram illustrating the path of secondary electrons emitted from the bottom of the through hole.
  • Fig. 8 is a diagram for reading dark areas appearing in the secondary electron observation image.
  • Fig. 9 is a diagram showing the secondary electron trajectory without generating dark areas in the secondary electron observation image.
  • FIG. 1 Sectional view of another example of the excitation device according to the invention
  • Fig. 12 / shows the trajectory of the electron starting from the sample under a strong magnetic field
  • Fig. 12B shows the trajectory along the central axis 41 in Fig. 12A.
  • FIG. 13 is a sectional view showing the configuration of another embodiment of the charged particle beam observation device of the present invention.
  • FIG. 14 is a diagram showing the structure of the focusing lens and the excitation device in the charged particle beam observation device of the present invention, and the electron orbit.
  • FIG. 15 is a diagram showing the dependence of the focal point position on the electron energy in the embodiment of the present invention.
  • Fig. 16 is a diagram showing a focusing lens and an electron trajectory passing through an exciter in an embodiment of the present invention.
  • FIGS. 17 and 18 are diagrams showing the positional relationship between the excitation device and the sample in the present invention, respectively.
  • FIG. 19 is a cross-sectional view showing an example of a coil in the exciter according to the present invention.
  • Figure 20 shows the relationship between the exciting current and the coil temperature when a water-cooled coil was used.
  • FIG. 2Q-FIG. 23 are cross-sectional views of the excitation device according to the present invention, respectively.
  • BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION A strong magnetic field is applied perpendicularly to the surface of a sample. The emitted secondary electrons move spirally along the magnetic field. Assuming that the strength of this magnetic field is H and the energy of the secondary electron is E, the helical motion of the secondary electron is the radius of the secondary electron. The radius of the projected circle) R c is expressed as follows.
  • Rc (2mE) 1/2 s ⁇ n ⁇ / (e 0 ⁇ ) (1)
  • K amount of m electron, ⁇ emission angle of secondary electron with reference to vertical direction of sample, e Is the elementary charge, ⁇ . It is the permeability of a vacuum.
  • the shape of the through-hole is usually close to a rectangular parallelepiped or a cylinder.
  • the diameter of the circle inscribed in the figure obtained when the through hole is cut along a plane parallel to the sample surface (square if the through hole is a cube, or approximately circular if the through hole is a cylinder) Is called Dt), the secondary electrons emitted at the angle ⁇ from the center of the through-hole at the bottom of the through-hole, scan Ruho Le out the conditions for Ru come out, Ru is I table to jar good of the following geometric of Ri by consideration a
  • FIG. 5 shows a mirror of a charged particle beam observation apparatus according to an embodiment of the present invention. This device is for observing a snorkel hole about 0.5 ⁇ m in size.
  • the primary electrons 20 emitted from the cathode 2 i are accelerated by the anode 22, and the focusing lens 23, the focusing lens 24, and the excitation capable of applying a strong magnetic field perpendicular to the sample
  • the sample is focused on the upper surface of the sample 8 by the magnetic field created by the device 25.
  • the position of the focal point on the sample surface is controlled by the deflection coil 26.
  • Secondary electrons 28 emitted from the sample surface pass through the excitation device 25 and the focusing lens 24, and are detected by the secondary electron detector 27.
  • This device is the same as the conventional charged particle beam observation device except that an excitation device 25 is added.
  • the primary electron 2Q is scanned on the sample S while the secondary electron beam is scanned on the sample S. Electronic By detecting the secondary electrons with the detector 27, the secondary electron image of the sample 8 can be observed.
  • Fig. 6 shows an example of the structure of the excitation device.
  • the excitation device 25 is composed of a magnetic path 29 and a coil 30.
  • 31 is an extraction electrode.
  • 32 is the line of magnetic force created by the excitation device 25, and 28 is the secondary electrons emitted from the sample &.
  • Sample 8 has a through hole 33 with a size of 0.51 m.
  • the extraction electrode 31 is formed of a mesh, and a voltage of 1 kV is applied.
  • the excitation device 25 is installed near the sample, and the magnetic field satisfying the condition of the equation (4) is applied to the sample 8. Because Most of the secondary electrons from the bottom of the through-hole can be emitted outside the through-hole. This makes it possible to observe a secondary electron image on the bottom of the through-hole.
  • the secondary electrons 28 move out of the snorle hole 33 while making a spiral motion.
  • secondary electrons emitted from the bottom end of the through-hole may collide with the side wall of the through-hole and exit the through-hole.
  • the scanning electron microscope image observed as an image of the bottom of the through-hole has a dark area 34 with a width J2 as shown in FIG. 8 around it. It becomes an image.
  • This width J2 is about the radius of the secondary electron ram. Therefore, the width J2 can be reduced by increasing the magnetic field generated by the excitation device.
  • Another method of observing the entire surface of the through-hole is as shown in Fig. 9, so that the secondary electron deficit 28 B draws a large arc.
  • FIG. 10 shows a second embodiment of the charged particle beam observation device of the present invention.
  • FIG. 10 shows only the excitation device 35 and the sample 8, and the other parts are the same as those in FIG.
  • Excited magnetic device 3 5 is the magnetic path 3 6 your good beauty Coil Le 3 7 or et al., That has been configured.
  • Reference numeral 38 denotes an extraction electrode.
  • the sample table 39 is made of a magnetic material, and is moved up and down by a mechanism (not shown). It can be moved. By applying a current to the coil 37, a magnetic field line 40 perpendicular to the sample 8 is generated between the magnetic path 36 and the sample table 39.
  • the sample stage 33 is moved downward as shown in FIG. 11, and the sample 8 is moved in and out between the magnetic path 40 and the sample stage 39.
  • the movement of the secondary electrons generated from the through hole is the same as the excitation device shown in Fig. 6.
  • the distance between the sample 33 made of a magnetic material and the magnetic path 3S was obtained.
  • the magnetic field can be applied vertically to the sample 8 over a wide area of the sample 8. For this reason, the through-hole can be observed in a wide area of the sample 8. :
  • the electrons 42 and 43 rotate under the action of the magnetic field around the central axis 41, but here the coordinates that rotate with the electrons 42 and 43.
  • the electron orbit as seen from the system is shown.
  • 44 and 45 are the intersections of the electron 42 and the electron 43. All electrons starting from the upper surface of sample 8 at a small angle with respect to central axis 41 pass through these points. Hereinafter, the intersections 44 and 45 are referred to as electron focusing points.
  • the energy of electrons 42 and 43 is about 5 keV.
  • the magnetic field distribution on the central axis 41 is as shown in Fig. 12B. In FIG.
  • the horizontal axis represents the magnetic field component ⁇ ⁇ in the direction of the central axis 41
  • the vertical axis represents the position ⁇ ⁇ on the central axis with respect to the upper surface of the sample 8.
  • the sample 8 to about 1. Strong magnetic field of 6 X i 0 5 AT / ra is that is applied. This magnetic field distribution is obtained, for example, by increasing the exciting current of the objective lens 6 in the conventional charged particle beam observation apparatus shown in Fig. 1 when the exciting current of the objective lens 6 is increased. It corresponds to the axial magnetic field distribution. .
  • the electrons 42 and 43 emitted from the sample 8 travel above the sample 8 through the focusing points 44 and 45. From the reciprocity of the electron orbit (for example, Katsumi Ura, “Electron Optics (Kyoritsu Shuppan, 1979)” on page 7Q), the direction of the magnetic field can be changed without changing the magnitude. In other words (for example, in the conventional charged particle beam observation device shown in Fig. 1 when the exciting current of the objective lens 6 is passed in the opposite direction), the Fig. 12A Electrons 42 and 43 shown Electrons can pass from the top to the sample 8 on the same path as 6.
  • an exciting device that applies a strong magnetic field on the sample surface and a focusing lens that controls the focusing position of the primary electrons are provided. Then, when electrons of the same energy as the primary electrons are virtually emitted from the sample surface, the focal point of the formed electrons exists between the focusing lens and the sample.
  • the focusing lens is arranged as described above, and the primary lens is focused at the position of the focusing point by using this.
  • FIG. 13 is a sectional view showing a third embodiment of the charged particle beam observation device according to the present invention.
  • the primary electrons 46 emitted from the cathode 47 are accelerated by the anode 48 as in the conventional example.
  • the focusing lens 50 is the magnetic field lens in the embodiment.
  • This device has a focusing lens 50 and an exciting device 51. Work in combination with the objective lens. More specifically, the function of a conventional objective lens can be separated into the application of a magnetic field and the focusing, so that focusing under a strong magnetic field is possible. Except for this point, it is the same as the conventional charged particle beam observation device, and the position of the focal point of the primary electron 4S on the sample 8 is controlled by the deflection coil 49.
  • the secondary electrons 53 emitted from the surface of the sample 8 are detected by the secondary electron detector 52, and the secondary electron image of the sample 8 can be observed.
  • the focusing lens 50 is composed of a magnetic path 54 and a coil '55.
  • the excitation device 51 is composed of a magnetic path 56 and a coil 57.
  • Sample 8 is placed at the bottom of magnetic path 56.
  • the inner diameter d of the magnetic path 56 is about 6 ⁇ ra, the distance S between the magnetic path 56 and the upper surface of the sample 8 is about 1 mm, and an exciting current of about 10 kAT flows through the coil 57. If, strong magnetic field of about 1. 5 X 1 0 6 AT / m on the upper surface of the specimen 8 is that whether.
  • the focusing point 6 Q was based on the upper surface of sample 8.
  • the current of coil 57 is about 10 kA ⁇ .
  • the position of the focusing point 60 has a finite value.
  • the energy of electrons 5 ⁇ and 53 is lower than about 11 V (corresponding to the characteristic ⁇ in Fig. 15)
  • _2 focusing points are formed as shown in Fig. 14.
  • the energy of electrons 58 and 53 is higher than about 11 keV (corresponding to characteristic B in Fig. 15)
  • the focal point is reduced to one as shown in Fig. 15.
  • the focusing lens 50 is arranged so that the lower surface of the magnetic path 54 is located 2 Oram above the upper surface of the sample 8. Therefore, under the condition that the current of coil 57 is about 10 kAT, except for the vicinity of about 11 keV, 5 to 25 ke?
  • the focal point 60 can be formed between the sample 8 and the focusing lens 50. Therefore, using the method described below, the primary electrons 46 are focused on the upper surface of the sample 8 for all the energies of 5 to 25 keV except for about 1 IkeV. You can do it.
  • the procedure for focusing the primary electrons 46 on the upper surface of the sample 8 is as follows.
  • the focal point of the primary electron 46 formed in the lens field of the focusing lens is the Z determined in (1). Set the current of coil 55 so that it comes to the position.
  • the primary electrons are focused on the point 62 on the surface of the sample 8 through the focusing points S0 and Si in order.
  • FIG. 17 shows a case where the sample 8 is placed on the excitation device 51
  • FIG. 18 shows a case where the sample 8 is placed under the excitation device 51.
  • Fig. 13 shows a cross-sectional view of an example of the coil constituting the excitation device.
  • the coil S3 is configured by winding an insulated copper tube 54 whose outside is covered with an epoxy.
  • Pipe 6 4 The outer cross-section was a square with a side of 5 mm, and the inner cross-section was a square with a side of 3 ⁇ .
  • water for cooling is injected at a pressure of 2 Kg / era 2 from the water suction port 64 A of the tube. Water exits through the outlet of the pipe 54B through the interior of the pipe S4.
  • the heat generated from the pipe is discharged to the outside of the pipe through ice passing through the pipe, so that the temperature rise of the coil can be reduced. And can be done.
  • Figure 2D shows the dependence of the coil temperature on the excitation current obtained experimentally using a coil.
  • the exciting current is 1 S 00 AT
  • the coil temperature rises to i 0 ° C or more in the objective lens of the conventional charged particle beam observation device, but this coil The coil temperature is about 70 ° C. For this reason, in the charged particle beam observation device, accidents such as coil insulation breakdown can be prevented, and stable operation of the device can be realized.
  • the cooling medium flowing through the coil is not limited to water, but may be liquid nitrogen, etc., and the cross-section of the pipe is not square, but is rectangular, circular, or almost any other shape. It may be shaped, and even if the material of the pipe is a conductor other than copper, such as aluminum, it is only necessary that the surface of the conductor be insulated.
  • Fig. 21 shows another example of the excitation device.
  • the exciter & 5 uses a superconducting coil. That is, a superconducting coil S7 is placed in an insulated container S5, such as a liquid helium. It is cooled by the second cooling medium 68. 6 9 is a bow electrode. That Ki superconducting co-I-le 6 7 by One in the surface of the sample 8 1 0 7 AT / ra or more of the strong magnetic field or only that this and is out to. As a result, the secondary electrons 70 emitted from the bottom surface of the slide hole 33 are sloW while spiraling along magnetic lines of force 71 perpendicular to the sample surface. You can get out of rule 33.
  • Fig. 22 shows another example of the excitation device.
  • the exciter 72 is made of a superconducting material such as a heat insulating container 73, a superconducting coil 74, and a niob alloy, and a housing 75 surrounding the superconducting coil 74. And a cooling medium 76.
  • the housing 75 is provided with an air gap 75 A only at a position facing the sample 8.
  • the magnetic field generated by the conductive coil 74 is
  • the exciter shown in FIG. 23 comprises two exciters 65A and 65B.
  • Each of the exciters 65 A and 65 B is a heat insulating container 66 A, 6 ⁇ and a superconducting coil 6, respectively, in the same manner as the exciter S 5 shown in FIG. 21. 7A, S7 ⁇ and cooling medium ⁇ 3A, 68 6.
  • Exciters 65 ⁇ and 65 B are placed above and below sample 8, respectively. In Tsu by the and the child you provided the two excitation device cormorant good of this, and Tsu was I in a wide range of sample 8, is and this you apply a more intense magnetic field 1 Q 7 AT / ra it can . Therefore, secondary discharge from the bottom of the through-hole 33 provided over the wide range of the sample 8 The electron 79 can be drawn out of the hole 33 while making a spiral movement along the magnetic field line & 0.
  • the case where the charged particles to be focused are electrons has been read, but the charged particles are electrons such as gallimion. It is obvious that the present invention can be realized in other cases. Also, the case where the focusing lens is a magnetic lens has been described, but the focusing lens may be an electrostatic lens. However, in this case, the position of the focal point of the primary electron is controlled by the voltage applied to the electrostatic lens. In addition, although the present invention has been described using an example in which the extraction electrode is formed by a mesh, the extraction electrode is not drawn out of the mesh, such as a metal with a hole. Alternatively, an electrode may be formed.
  • the exciter has been described as an example in which the exciter is formed by a magnetic path and a coil. However, the exciter may be formed by other means such as a permanent magnet. ',-The size of the through hole is not limited to the size described in the actual example, and the size of the through hole depends on the size of the through hole so that equation (4) holds.
  • the magnetic field to be applied to the sample should be determined.
  • the present invention can be applied to the case where the bottom of the through hole is irradiated with electrons obliquely because the side surface of the through hole is observed.
  • the superconducting coil used for the excitation device and the housing that houses it Various superconducting materials such as a niobium alloy superconducting material or an oxide superconducting material can be used for the body.
  • the cooling medium can be selected according to the superconducting material used.
  • the present invention is useful when applied to inspection of a through hole in a manufacturing process such as a microstructure (3 SLSI).

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Description

明 荷電粒子 ビ ー ム 観察装置 お よ び
荷電粒子 ビ ー ム に よ る 表面観察方法 技術分野 本発明 は、 凹部 ( 例 え ば L S I 製造 ラ イ ン に お い て プ ロ セ ス 途 中 に 形成 さ れ る田ス ル 一 ホ ー ル等 ) を 有 す る 試料 に 荷電粒子 ビー ム を照射 し た 時、 凹部の 内部 か ら 発生す る 2 次電子の像の観察 に 好適 な荷電粒子 ビー ム 観察装置 お よ び荷電粒子 ビー ム に よ る 表面観察方法 に 関 す る も の で あ る 。 背景技術
L S I 製造 プ ロ セ ス に お い て 、 ス ル ー ホ ー ル や容量 性溝等、 凹部 ( 以下ス ル ー ホ ー ル と 総称す る ) を有す る 試料の底の レ ジ ス ト 残 り 等 に 起因す る 配線の断線現 象が問題 と な っ て お り 、 ス ル 一 ホ ー ル の底を観察で き る 荷 電 粒 子 ビ ー ム 観 察 装 置 が 必 要 と な っ て き て い る 。
- 試料表面の 2 次電子像 の観察が可能 な荷電粒子 ビー ム 観察装置 の 一例 と し て 、 古屋寿宏 、 大高正、 山 田 理、 森弘義、 山 田満彦、 渡部忠雄、 石川勝彦 「 F E B 測長装置 S—— 6 (] ϋ D」 日 末学術振興会苐 1 3 2 委員会第 9 3 回研究会資料 ( 6 0 . 1 i - 8〜 9 )、 1 ペー ジ ( 1 9 8 5年) に掲 載さ れて い る 荷電粒子 ビー ム観察装置の鏡体部分を第 1 図 に示す。
陰極 2 か ら 放 出 さ れ た電子 1 ( 以後 1 次電子 と 呼 ぶ ) は第 1 陽極 3 お よ び第 2 陽極 4 に よ っ て 加速 さ れ、 集束 レ ン ズ 5 お よ び対物 レ ン ズ 6 の レ ン ズ作甩 に よ っ て、 試料 8 の上面に集束す る。 1 次電子 1 の試料 面 8 上での '集吏点の位置せ偏向 コ イ ル 7 に よ っ て釗御 さ れ る 。 1 次電子 1 の衝突 に よ 'ひ 試料 8 か ら 棻生 し た 2 次電子 9 は、 対物 レ ン ズ 6 中を通過 し 、 2 次電子検 •出器 i 0に よ っ て検出 さ れる 。 偏向 コ イ ル 7 を用い て 1 次電子 1 を試料 8 上で走査 し なが ら 、 2 次電子検出器 Γ0で 2 次電子 9 を検出す る こ と に よ り 、 試料 8 面の 2 次電子像を観察す る こ と がで き る 。
し か し上述 し た従来の荷電粒子ビー ム観察装置を用 い て ス ルー ホ ー ル を観察す る 場合、 ス ル ー ホ ール の底 か ら 放出 さ れ る 2 次電子の大部分は、 ス ルーホールの 側壁 に 衝突す る だ め 、 ス ル ーホ ー ル の タ {· に ffi て こ な い。 た と え ば、 直径 Q . 5 μ m 、 深さ 1 ^ m の 円筒形の ス ルーホールか ら 放出さ れる 2 次電子の軌道を第 2 図 に示す。 基扳 1 1上 に絶縁層 1 2が形成さ れて お り 、 第 1 図に示 し た試料 8 は こ れ ら 基板 1 1、 絶縁層 1 2に よ っ て 構成さ れて い る 。 絶縁層 1 2に ほ、 直径 D = Q . 5 m 深 さ T - 1 m の ス ルー ホ ー ル-が あ い て レヽ る 。 丄 3ほ ス ル ー ホ ー ル の 中心軸、 14は 中心軸 13に 対 し て 5 度の 角 度で ス ルー ホ ー ル の 中心か ら 放出 さ れ た 2 次電子の軌 道、 15は 中心軸 13に対 し て 10度の 角度で ス ル ー ホ ー ル の 中心か ら 放出 さ れ た 2 次電子の軌道、 16は 中心軸 13 に 対 し て 15 - 85 度の 角度 で ス ルー ホ ー ル の 中心か ら 放 出 さ れ た 2 次電子の軌道 を示す。 2 次電子 14- 16 の ェ ネ ルギ は 5 e Vで あ る 。 ス ルー ホ ー ル に は、 対物 レ ン ズ 6 の漏れ磁界 に 相当す る 1 X 1 Q 4 A T/ m の磁界が中心軸 13と 平行 に 存在す る 。 第 2 図か ら 、 中心軸 13に 対 し て 約 15度以上の 角度 で放出 さ れ た 2 次電子 は、 ス ル ー ホ —ルの側壁 に ぶ っ か り ス ルー ホ ー ルの外 に 出 な い こ と が わ か る 。 こ の よ う に 従来の荷電粒子 ビー ム装置 に お "ΊΤχは 、 ス ルー ホ ールの底か ら 放出 さ れ た 2 次電子の 大部分 は 2 次電子検出器 に 到達で き ず、 こ の た め ス ル 一ホ ールめ底の 2 次電子像 を観察す る こ と がで き な い と レヽ ぅ 問題点が あ っ た。
本発明者 ら は ス ル ーホ ール を観察す る 方法 と し て、 「低エ ネ ル ギ電子軌道追跡法 と そ の応用 」 日 本学術振 興会第 132 委員会第 97回研究会資料 (61 . 11 . 14 〜 15 ) の 118 - 123 ペー ジ に お い て 、 ス ル一 ホ ールの底面 に 垂 直 に 強磁界を 印加 し、 磁力線 に巻 き つ け て 2 次電子を ス ル ー ホ ール外 に 引出 し て覬察す る 方法を提案 し た。 L S I 製造 プ ロ セ ス で形成 さ れ る ス ル ー ホールの底部 の 2 次電子像を観察す る た め に は 、 約 10 S A T/m 以上の 磁界 を試料面 と 垂直 に 印加す る 必要が あ る と 推定 さ れ る 。
第 1 図 に示 し た装置に お い て 、 試料 8 の表面に表面 と 垂直方向 に印加 さ れてい る 磁界ほ約 1 X 1 0 A T/ m 程 度で あ る 。 上述 し た よ う な強磁界を印加 し て 2 次電子 を弓 [ き だす方法でス ルーホー ル の底部を観察す る た め に ほ 、 試料 8 に か か る 磁界を約 1 G ϋ 倍程度強く す る 必 要 が あ る 。 こ の た め 、 対物 レ ン ズ 7 の励磁電流を 約 1 0 0 倍程度増大さ せ る 必要があ る 。
し か し なが ら 、 前述 し た従来の荷電粒子 ビー ム観察 装置 に お い て、 対物 レ ン ズ 6 の励磁電流を増大さ せ る と 試料 8 の表面に あ つ た 1 次電子 1 の集束点が試料 8 の上方に 移動 し、 試料 8 の 2 次電子像がぼ圩 る 。 こ の 様子を第 3 図に示す。 同図 に お い ぞ—、——'Τ1ϊ ϊ'— #J レ ン ズ 6 の励磁電流を増大さ せ る 前の 1 次電子の執道、 1 7は 1 次電子 1 の集束点、 1 8は対物 レ ン ズ S の励磁電流-一を 増大 さ せ た後の 1 次電子の軌道、 1 9は励磁電流増大時 の 1 次電子の集束点で あ る。 対物 レ ンズ 6 の励磁電流 を増大 さ せ る 前、 1 次電子の集束点 1 7ほ試料 8 の上面 と 一致 し て い る が、 対物 レ ン ズ & の励磁電流を増大さ せ る と 、 1 次電子の集吏点 1 9ほ試料 8 の上方に移る 。 こ の た め試料 8 の表面に照射ざ れる 1 次電子の ビー ム 径が大 き く な り 、 観察 さ れる 2 次電子像がぼけて し ま う と レヽ ぅ 問題点が あ っ た。 発明 の 開示 本発明 は上述 し た 従来の問題 を解決す る た め に な さ れ た も の で あ る 。
本発明の 目 的 は試料の表面 に 設 け ら れ た ス ル ー ホ ー ル な ど の凹部の底面か ら 放出 さ れ る 2 次電子像 を観察 す る こ と が で き る 荷電粒子 ビ ー ム 観察装置を提供す る こ と で あ る 。
本発明の他の 目 的 は 試料表面の鮮明 な 2 次電子像を 得 る た めの荷電粒子 ビー ム に よ る 表面観察方法を提供 す る こ と で あ る 。
か か る 目 的 を達成す る た め に.、 本発明装置 は 、 荷電 粒子 ビ 一 ム を放出 す る 荷電粒子銃 と 、 荷電粒子 ビー ム を試料 に照射す る と と も に走査す る 荷電粒子 ビ一 ム 照 射軌道制御部 と 、 荷電粒子 ビー ム の照射 に よ り 試料か ら 放出す る 2 次電子 を検出 す る 2 次電子検出器 と 、 試 料面上 に 強磁界 を発生 さ せ る 励磁装置 と 、 荷電粒子の 集束位置を制御す る 焦点合わ せ レ ン ズ と を備 え た こ と を特徴 と す る 。
こ こ で荷電粒子が電子で あ つ て も よ い。
励磁装置が試料表面 に 試料表面の凹部の底面 ま た は 側面 に 磁力線が交差す る 方向 に 強磁界を印加 し 、 荷電 粒子 ビー ム の照射 に よ り 試料表面の凹部の底面 ま た ほ 側面で発生 し た 2 次電子 を 、 励磁装置が発生す る 強磁 界 に 沿 つ て螺旋運動せ し め る こ と に よ り 試料表面の凹 部か ら そ の外部 に放出せ しめ て も よ い。
励磁装置が コ イ ル と 磁路 と か ら な っ て も よ く 、 コ ィ ルが冷媒 に よ っ て冷却さ れて い て も よ い。
励磁装置が超伝導コ イ ルか ら な っ て も よ く 、 コ イ ル が超伝導材料か ら な り かつ試料 と 対向す る位置に のみ 空隙を有す る 超伝導材料か ら な る 筐体 に よ つ て囲 ま れ ていて も よ い。 ま た超伝導コ イ ルが試料の上下に設置 さ れ て レヽ て も よ い 。
荷電粒子 と ほ ぼ同等のエ ネ ルギの荷電粒子を試料面 か 'ら 仮想的 に放出 さ せ と き に形成さ れ る 同等のエネ ルギの—荷電粒子の集束点が、 焦点合わ せ レ ン ズ と 試料 と の間 に存在す る よ う に焦点合わ せ レ ン ズを配置 し 、 集吏..点の位置に荷電粒子を臬束さ せ て も よ い。
ま た末発明方法の第 1 の態様ほ荷電粒子を試科表面 に照射 して試料表面の凹部の底面ま た は側面か ら 2 次 電子を放出せ し め る と と も に、 励磁手段に よ っ て試料 表面に試料表面の凹部の底面ま た は側面に磁力線が交 差す る方向に強磁界を印加し、 2 次電子を、 励磁手段 が発生す る強磁界に沿つ て螺旋運動せ し め る こ と に よ り 試料表面の凹部か ら そ の外部 に放出せ し め、 こ れを 検出 し て試料の凹部の底面ま た は側面を含む表面を観 察す る こ と を特徴 と す る 。
こ こ で荷電粒子ほ電子で あ っ て も よ い。
末発 B月の第 2 の態様は荷電粒子を試料表面に照射 し て、 試料表面の凹部の底面ま た.ほ側面か ら放出さ れる 2 次電子の像 を観察す る に 際 し て 、 試料表面 に強磁界 を加 え る た め の励磁手段の発生す る 磁場の大 き さ に対 し て 、 荷電粒子 と ほ ぼ同等のエ ネ ル ギ の荷電粒子を試 料面か ら 仮想的 に 放出 さ せ た と き に 形成 さ れ る 同等の エ ネ ル ギ の荷電粒子の仮想的 な集束点 の位置を あ ら か じ め 求め て お き 、 荷電粒子 ビー ム の照射 に よ り 試料表 面の凹部の底面 ま た は側面で発生 し た 2 次電子を、 励 磁手段が発生す る 強磁界 に 沿 っ て 螺旋運動せ し め る こ と に よ り 試料表面の凹部か ら そ の外部 に 放岀 せ し め、 か つ仮想的 な集束点の位置 に 荷電粒子を集束 さ せ る よ う に 焦点合わ せ手段の励磁電流 も し く は 印加電圧を設 定 し て 2 次電子を検出す る こ と を特徴 と す る 。
こ こ で仮想的 な集束点 を焦点合わ せ手段 と 試料 と の 間 に 位置せ し め て も よ い。
荷電粒子が電子で あ つ て も よ く 、 荷電粒子 ビー ム が 前記試料の表面を走査可能で あ つ て も よ い。
励磁手段が コ イ ル と 磁路 と か ら な っ て も よ く 、 コ ィ ルが冷媒 に よ つ て 冷却ざ れ て い て も よ レ、 。
励磁手段が超伝導 コ イ ル か ら な っ て も よ く 、 コ イ ル が超伝導材料か ら な り か つ試料 と 対向す る 位置 に の み 空隙を有す る 超伝導材料か ら な る 筐体 に よ っ て囲 ま れ て い て も よ く 、 ま た超伝導 コ イ ルが前記試料の上下 に 設置 さ れ て レ、 て も よ い 。 図面の簡单な説明 第 1 図は従来の荷電粒子ビーム観察装置の構成を示 す断面図、
第 2 図は従来の荷電粒子ビーム観察装置における ス ル一ホール中の電子軌道を示す面、
第 3 図は従来の荷電粒子ビーム観察装置にお い て、 対物 レ ン ズの励磁電流を増大さ せ て い つ た と き の ビー ム執道変化を示す図、
第 4 図はス ルー ホールの底部を観察す る と き のス ル — ホ ー ル の 大 き さ と 磁界 と の 閱係 の 一例 を表わ す 図、 -
- 第 5 図ほ本発明に よ る荷電粒子ビーム観察装置の実 施例の構成を示す断面図、
第 S 図ほ本発明の実施例に おけ る励磁装置の一例を 示す断面図、 . ' -'
第 7 図ほス ルーホール底部か ら放出 される 2 次電子 の轨道を説明する図、
第 8 図 は 2 次電子観察像 に現れ る暗部を読明す る 図、
第 9 図は 2 次電子観察像に お ける暗部を発生させ な い 2次電子軌道を示す図、
第 1 Q図 ほ末発明 に お-け る 励磁装置の他の例の断面 図、
苐 1—1図ほ第 1 0図に示し た励磁.装置に おける試料交換 動作 を説明 す る た め の図、
第 1 2 / 図 は強磁界下で試料か ら 出発す る電子の軌道 を示.す図で あ り 、 第 1 2 B 図 は 、 第 1 2 A 図 に お け る 中心 軸 4 1に 沿 つ た磁界分布を示す図、
第 1 3図 は本発明の荷電粒子 ビ ー ム 観察装置の他の実 施例の構成を示す断面図、
第 1 4図 は本発明 の荷電粒子 ビー ム 観察装置 に お け る 焦点合わ せ レ ン ズ お よ び励磁装置 の構造、 お よ び電子 軌道 を 示す図、
第 1 5図 は本発明の実施例に お け る 集束点位置の電子 エ ネ ルギ依存性 を示す図、
第 1 6図 は本発明 の実施例 に お け る 焦点合わせ レ ン ズ .お よ び励磁装置中 を通 る 電子の軌道.を示す図、
第 1 7図お よ び第 1 8図は そ れ ぞ れ本発明 に お け る 励磁 装置 と 試料 と の位置関係 を示す 図、
第 1 9図 は本発明 に お け る '励磁装置中 の コ ィ ル の一例 を示す断面図、
第 2 0図 は水冷 コ ィ ルを用 い た 場合の励磁電流 と コ ィ ル温度 と の関係 を示す図、
第 2 Q図 - 第 2 3図は そ れ ぞれ本発明 に お け る励磁装置 の断面図で あ る 。 発明 を実施'す る た め の最良 の形態 試料表面 に 垂直 に強磁界を 印.加 し た 場合、 試料か ら 出 た 2 次電子は磁界 に沿 つ て螺旋状に運動する 。 こ の 磁界の強 さ を H 、 2 次電子の エ ネ ル ギ を E と す る と 、 螺旋運動す る _ 2 次電子の ラー マ一半径 —( 2 次電子の軌 道を試料面上に投影 し た 円の半径) R cほ、 以下の よ う に表わ さ れる。
Rc = (2mE) 1 / 2s ί n Β / ( e 0 Η ) (1) こ こ で 、 m ほ電子の K量、 Θ ほ試料垂直方向を基準 と し た 2 次電子の放出角度、 e は素電荷、 μ 。 ほ真空 の透磁率で ある 。
ス ル ー ホ ール の形状は 、 通常、 直方体や円筒形 に 近 い形 を し て い る 。 ス ルーホール を試料表面 と 平行な面 で切 つ た と き に得 ら れる 図形 ( ス ルーホールが立方体 の場合 は正方形、 円筒形の場合ほ円形 ) に 内接す る 円 の直径 ( 以下、 ス ル ーホー ル の大 き さ と 呼ぶ) を D tと し た と き 、 ス ルー ホ ー レ の底 に お レヽ て ス ルー ホ ー ル の 中心か ら 角度 Θ で放出 さ れ た 2 次電子が、 ス ルーホー ル外 に 出 る ため の条件は、 幾何学的 な考察よ り 以下の よ う に表わ され る a
D t> 4 Rc (2) 式 (2) を D tと H と の関係 で表わす と 、
'- H > 4 (2mE) 1 /2s i n Θ / (e μ. 0D t) (5) と な る 。
ス ル ー ホ ー ル の底の 2 次電子像を観測す る た め に ほ、 ス ル ーホールの底か ら 放岀 さ れた 2 _次電子の大部 分 が ス ル ー -ホ 一 ル外 に 出 る 必要があ る 。 す な わ ち 式 (3) の Θ に 、 大部分の 2 次電子がス ル ー ホ ール外 に 出 る た め の放出角度の値 ø ( ス ル ー ホ ー ル の大 き さ Dt、 お よ びス ル ー ホ ー ル の深 さ に 依存す る 値 で あ り 、 通常 45度 — 30度の範囲の値 ) を代入 し た条件、
H > 4 (2raE) 1 /2s in ø / (e 0Dt) (4) を 満 た す磁界を ス ル ー ホ ー ル に 印加す る こ と に よ り 、 ス ル ー ホールの 2 次電子像観察が可能 と な る 。 た と え ば 、 0 = 90 、 E = 5 e Vの と き の式 ( 4 ) の関係 を第 4 図 に 示す。 ス ル ー ホ ー ル の大 き さ D tに対 し て 、 斜線 で 示 し た領域の磁界 H を ス ル ー ホ ー ル に 印加す る こ と に よ り 、 ス ル ー ホ ー ル の 2 次 電 子 像 観 察 が 可 能 と な る 。
本発明の実施例 で あ る 荷電粒子 ビー ム 観察装置の鏡 体 を第 5 図 に 示す。 本装置 は 0 , 5 μ m 程度の大 き さ の ス ノレ 一 ホ ー ル を観察す る た め の 装置 で あ る 。
陰極 2 iか ら 放出 さ れ る 一次電子 20は陽極 22に よ つ て 加速 さ れ、 集束 レ ン ズ 23、 焦点合せ レ ン ズ 24お よ び強 磁界を試料 に垂直 に 印加 で き る励磁装置 25の作 る 磁界 に よ っ て 、 試料 8 の上面 に 集束す る 。 試料表面上の集 束点の位置 は偏向 コ ィ ル 26に よ つ て制御 さ れ る 。 試料 表面か ら 放出 さ れ る 2 次電子 28は励磁装置 25お よ び焦 点合わ せ レ ン ズ 24を通過 し 、 2 次電子検出器 27に よ つ て 検出 さ れ る 。 本装置 は 、 励磁装置 25を付加 し た こ と を 除 い て 従来 の 荷電粒子 ビ ー ム 観察装置 と 同様 で あ り 、 1 次電子 2 Qを試料 S 上 で走査 し な が ら 、 2 次電子 検出器 2 7で 2 次電子を検出す る こ と に よ っ て、 試料 8 の : 2 次霉子像を観察す る こ と がで き る 。
第 6 図 に励磁装置の構造の一例を示す。 励磁装置 2 5 は磁路 2 9お よびコ イ ル 3 0か ら 構成さ れて い る 。 3 1は引 出 し電極であ る 。 図 に お い て、 3 2は励磁装置 2 5の作 る 磁力線で あ り 、 2 8は試料 & か ら 放出 さ れる 2 次電子で あ る 。 試料 8 に は大 き さ 0 · 5 1 m の スルー ホール 3 3が 設 け ら れ て い る 。 コ イ ル 3 0は半径が約 1 ra mで あ り 、 2 X 1 0 5 A Tの電流を流す。 引 出 し電極 3 1ほメ ッ シ ュ で 形成さ れて お り 、 1 k Vの電圧を印加す る 。
以上の檍成の下で は、 試料 8 に試料面 と垂直方向の 約 1 X 1 0 8 Α Τ / ιπ の磁界がか か る 。 こ の ため、 ス ルー ホ —ル 3 3の底か ら ffi た 2 次電子 2 8ほ ラ ーマ一半径約 0 . 1 UL m の螺旋違動を し なが ら スルー ホール 3 3中を進み、 大部分の 2 次電子 2 8がス ルーホール 3 3の外 に 出 る 。 ス ル一ホ ール 3 3の外 に 出 た 2 次電子 2 8は、 螺旋違動を し なが ら 試料面 と 垂直方向 に進み、 引 出 し電極 3 1の作 る 引 出 し電界に よ り 励磁装置 2 5の外部へ引 き 出 さ れ る 。 こ の結果、 ス ルーホール 3 3の底か ら 放出 さ れた 2 次電 子 2 8の大部分は 2 次電子検出器 2 7に 到達す る こ と がで き 、 ス ルーホールの底面の 2 次電子像を観察す る こ と がで き る 。
以上述べて き た よ う に本発明 の実施例の荷電粒子ビ ーム観察装置で は、 試料近傍に励磁装置 2 5を設置 し 、 式 ( 4 ) の条件を満たす磁界を試料 8 に 印加す る た め、 ス ル ー ホ ー ル の底か ら 出 た 2 次電子の大部分 を ス ル ー ホ ー ルの 外 に 出 す こ と が で き る 。 こ の た め ス ルー ホ ー - ルの底面の 2 次電子像 を観察す る こ と が で き る 。
第 7 図 に 示す よ う に 2 次電子 2 8は螺旋運動 し な が ら ス ノレー ホ 一ル 3 3の外へ出 る 。 し か し ス ルー ホ 一ルの底 の端部 か ら 放出 さ れ る 2 次電子 は ス ル ー ホー ル の 側壁 に 衝突す る た め に 、 ス ルー ホ ー ル外 に 出 る こ と が で き な い。 そ の た め に ス ルー ホ ー ル の底部の像 と し て 観察 さ れ る 走査電子顕微鏡像 は 、 第 8 図 に 示 さ れ る よ な 、 幅 J2 の暗部 3 4を周囲 に 有す る 像 と な る 。 こ の幅 J2 は 2 次電子の ラ ー マ一半径程度 で あ る 。 従 っ て励磁装 置 に よ る 磁界 を強 く す る こ と に よ っ て 、 幅 J2 を小 さ く す る こ と が で き る 。 ス ル ー ホ ー ル の全面を観察す る 他 の方法 は 、 第 9 図 に示 さ れ る よ う に 、 2 次電子の執道 2 8 B が大 き な弧 を描 く よ う に 、 磁界の強 さ を設定す る こ と で あ る 。 こ の場合、 ス ルー ホ ー ル 3 3の底か ら 放出 さ れ、 ス ル ー ホ ール外 に 引 出 ざ れ る 2 次電子の数 は、 第 7 図の 場合 に 比べ て 少 な く な る が、 ス ル ー ホール の 底の全面を観察す る こ と が で き る 。
本発明 の荷電粒子 ビー ム 観察装置の第 2 の実施例を 第 1 0図 に示す。 第 1 0図で は励磁装置 3 5お よ び試料 8 だ け を示 し て あ り 、 他の部分 は第 1 図 と 同 じ で あ る 。 励 磁装置 3 5は 磁路 3 6お よ び コ イ ル 3 7か ら、構成 さ れ て い る 。 3 8は 引 出 し 電極で あ る 。 試料台 3 9は磁性体で形成 さ れ て お り 、 図示 さ れ な い移動.機構 に よ っ て 、 上下 に 移動 さ せ る こ と が で き る 。 .ィ ル 37に電流を流-す こ と に よ り 、 磁路 36と 試料台 39の間 に 、 試料 8 と 垂直な磁 力線 40が発生す る 。 試料 8 を交換す る場合ほ、 第 11図 に 示す よ う に試料台 33を下方向に 移勖 さ せ、 磁路 40と 試料台 39の間か ら試料 8 を 出 し入れす る 。 ス ルーホー ルか ら 発生す る 2 次電子の動 き ほ、 第 6 図 に示 し た励 磁装置 と 同 じ で あ る。
以上述べて き た末発明 に よ る荷電粒子ビー ム観察装 置の第 2 の実施例 に お レ、.て ほ、 試料 8 を磁性体で で き た試料合 33と 磁路 3 Sの間 に配置 し て い る ため、 磁界を 試料 8 の広い領域 に わた っ て試料 8 に 垂直に印加す る こ と.がで き る 。 こ の ため、 試料 8 の広い領域に お いて ス ルー ホ ー ル の観察が可能 と な る 。 :
次に上 に説明 し た焦点合わ せ レ ン ズお よ び励磁装置 を具え た荷電粒子ビーム 観察装置に お け る焦点合わせ の方法に つ い て説明す る 。
こ こ で、 本発明に よ る焦点合わ せの実施例を説明す る 前 に末発日月 の内容の理解を容易 に す る ため にその原 理に つ い て説明す る 。 .
回転对称な磁界中 に置い た試料か ら 出発す る.電子の 軌道を K . S a i 10 , T . Okubo , K.Takamoto.Y.Uno. . ondo " E l e c t ron ray trac ing wi th hi h accura cy" , J .Vac .Sci .Technol - ,A , (4) , 1913 - 1917 (1985) に掲載 ざ れて い る電子孰道追跡プ ロ グ ラ ム に よ つ て求め た結 果を第 12 A 図 に示す。 同図 に お.レヽ て、 8 ほ試料、 41は 回転対称 な磁界の 中心軸、 4 2お よ び 4 3は試料 8 か ら 出 発 し た電子の軌道 を示す 。 な お軌道 4 2お よ び 4 3上 を 運 動す る 電子を そ れ ぞ れ同一参照番号 4 2お よ び 4 3で示す こ と と す る 。 電子 4 2お よ び 4 3は磁界の作用 を受 け て 中 心軸 4 1の回 り に 回転す る が、 こ こ で は、 電子 4 2お よ び 4 3と 共 に 回転す る 座標系 か ら 見 た電子軌道を示 し た 。 4 4お よ び 4 5は電子 4 2と 電子 4 3と の交点 で あ る 。 中心軸 4 1に 対 し て 微少角度 で試料 8 の上面か ら 出発 し た電子 は全 て こ れ ら の 点 を通過 す る 。 以後、 交点 4 4お よ び 4 5 を電子の集束点 と 呼ぶ。 電子 4 2お よ び 4 3の エ ネ ル ギ は 約 5 k e V で あ る 。 中心軸 4 1上の磁界分布は第 1 2 B 図 に 示す と お り で あ る 。 第 i 2 B 図 で横軸 は中心軸 4 1方向 の 磁界成分 Η ζ , 縦軸 は試料 8 の上面 を基準 と し た 中心軸 上の位置 Ζ で あ る 。 試料 8 に は約 1 . 6 X i 0 5 A T / ra の強 磁界が印加 さ れ て い る 。 本磁界分布は、 例 え ば第 1 図 に 示 し た従来の荷電粒子 ビー ム 観察装置 に お い て 対物 レ ン ズ 6 の励磁電流 を 増大 さ せ た と き の対物 レ ン ズ 6 の光軸の磁界分布 に 対応 し て い る 。 .
試料 8 か ら 出 た 電子 4 2お よ び 4 3は、 集束点 4 4お よ び 4 5を通 っ て試料 8 の上方へ進ん で い く 。 電子軌道の相 反性 ( 例 え ば、 裏克己 , 「電子光学 (共立出版、 1 9 7 9 年)」 7 Qペー ジ参照 ) か ら 、 大 き さ を変 え ず に磁界の方 向を逆 に す る と ( 例 え ば第 1 図 に 示 し た従来の荷電粒 子 ビー ム 観察装置 に お い て対物 レ ン ズ 6 の励磁電流 を 逆向 き に 流す と ) 、 第 1 2 A 図 に.示 し た電子 4 2お よ び 4 3 6 と 同一の轨道 に上方か ら 試料 8 面に向か つ て電子を通 す こ と がで き る 。 す なわ ち エネ ルギ約 5 k e V の電子を 試料 8 の上方か ら 集束点 4 5を通過さ せ る よ う に照射す れば、 こ の電子を試料 8 の上面に集束さ せ る こ と がで き る 。 こ こ で は電子のエ ネルギが約 5 k e V ,磁界分布が 1 2 B 図に示 し た分布で あ る 場合 に つ い て説明 し て き たが、 電子のエネ ルギお よ び磁界分布を変 え て も集束 点の数 と 位置が変わ る の みで、 集束点を通過 させ る よ う に 1 次電子を照射す れば試料面上 に 1 次電子が集束 す る と い う 現象ほ変わ ら ない。 集束点が複数の場合に ほ、 試料か ら最 も 遠い集束点を通過させる の が最も单 純で便利であ る 。
本-発 B月 に おいて は こ の現象を利用 し て、 試料面上に 強磁界を印加す る励磁装置 と 1 次電子の集束位置を釗 御す る 焦点合わ せ レ ン ズ と を具備 し、 1 次電子 と 同 じ エネ ル ギ の電子を試料面か ら 仮想的 に放出 さ せ た と き 形成さ れ る電子の集束点が焦点合わせ レ ン ズ と 試料 と の間に存在す る よ う に焦点合わせ レ ン ズ を配置 し、 こ れを甩い て集束点の位置に 1 次電子を集束さ せ る も の であ る 。
第 1 3図は本発明 に よ る 荷電粒子ビー ム観察装置の第 3 の実施例を示す断面図で あ る 。 陰極 4 7か ら 放出さ れ た 1 次電子 4 6ほ従来例 と 同様に陽極 4 8に よ つ て加速さ れる 。 焦点合わ せ レ ン ズ 5 0は术実施例で は磁界 レ ン ズ で あ る 。 本装置 は焦点合わ せ レ.ン ズ 5 0と 励磁装置 5 1と が組 み合わ さ つ て 対物 レ ン ズ の働 き を す る 。 よ り 詳 し く は従来の対物 レ ン ズ の機能 を 、 磁界の印加 と 焦点合 わ せ に 分離 し 、 そ の た め に 強磁界下で の焦点合わ せ が 可能 で あ る 。 こ の点 を除い て は従来の荷電粒子 ビー ム 観察装置 と 同様 で あ り 、 試料 8 上の 1 次電子 4 Sの集束 点の位置 を偏向 コ ィ ル 4 9に よ つ て釗御 し 、 試料 8 の表 面か ら 放出 さ れ る 2 次電子 5 3を 2 次電子検出器 5 2に よ つ て 検出 し て 、 試料 8 の 2 次電子像 を観察す る こ と が で き る 。
こ の よ う な 構成 に お い て 、 試料 8 の上面か ら 1 次電 子 4 7と 同 じ エ ネ ル ギ を有す る 電子を仮想的 に飛ば し た と き の電子軌道 を第 1 4図 に 示す。 焦点合わ せ レ ン ズ 5 0 は磁路 5 4お よ び コ ィ ル' 5 5か ら 構成 さ れ て レ、 る 。 励磁装 置 5 1は磁路 5 6お よ び コ イ ル 5 7か ら 構成 さ れ て い る 。 試 料 8 は磁路 5 6の底 に 載置 さ れ て い る 。 磁路 5 6の 内径 d は約 6 πι ra、 磁路 5 6と 試料 8 の上面 と の距離 S ほ約 1 m m で あ り 、 コ イ ル 5 7に 約 1 0 k A T の励磁電流 を流す と 、 試 料 8 の上面 に 約 1 . 5 X 1 0 6 A T / m の強磁界がか か る 。 5 8 お よ び 5 9は 1 次電子 4 6と 同 じ エ ネ ル ギ で試料 · 8 の上面 か ら 出発 し た電子で あ る 。 6 0お よ び S 1は電子 5 8お よ び 5 9の集束点 で あ る 。 集束点 6 Qお よ び 6 1の位置は コ イ ル 5 7の電流 と 電子 5 3お よ び 5 9の エ ネ ル ギ に よ り 一義的 に 決 ま る 。 電子 5 3お よ び 5 9のエ ネ ル ギ と 試料 8 か ら 最も 遠い集束点 6 0の 位置 Ζ。 と の関係 を Κ . S a i t 0 ら の前掲論 文 に 掲載 さ れ て い る 電子軌道追.跡 プ ロ グ ラ ム に よ つ て 求め た結果を第 1 ·5図に示す。 集束点 6 Qの位置は試料 8 の上面を基準に し た。 コ イ ル 57の電流ほ約 10 k A Τ で あ る 。 電子 58お よ び 5 Sのエネ ルギが約 11 k e V の と き を除 いて集束点 60の位置は有限の値を と る。 電子 5 δお よ び 53のェネ ルギが約 11 V よ り 低い と き (第 15図の特性 Α に対応) 、 集束点ほ第 14図 に示す よ う に _2 個形成 ざ れてい る 。 電子 58お よ び 53のエ ネ ルギが約 11 k e V よ り 高い と き (第 15図の特性 B に対応) 、 集束点は箦 15図 に示す よ う に 1 個 に減少す る 。 本実施例でほ磁路 54の 下面が試料 8 の上面か ら 2 Oram上方 に く る よ う 焦点合わ せ レ ン ズ 50を配置 し て レ、 る 。 こ の た め、 コ イ ル 57の電 流が約 10 k A T の.条件下で ほ、 約 11 k e V 付近を,除 く 5 〜 25 k e? の全て の電子エネ ルギに お い て、 集束点 60を試 料 8 と 焦点合わ せ レ ン ズ 50と の 中間 に形成する こ と が で き る 。 し た が っ て以下に述べる方法を甩い る と 、 約 1 IkeV ィ寸近を除 く 5 〜 25keV の全て のエネ ルギに わ た つ て 1 次電子 46を試料 8 の上面に集束さ せ る こ と がで き る。
1 次電子 46を試料 8 の上面に集束 さ せ る 手順ほ以下 の通 り で あ る 。
(1) 電子軌道追跡 プ ログ ラ ム等を 用 ·レヽ て コ イ ル 57の電 流お よ び 1 次電子 4 Sのエネ ルギ に'対応す る集束点 50 の位置 Z 0を求め る 。 た と えば コ ィ ル 57の電流をパ ラ メ ータ と し て第 15図に示 し た よ う な- Z。の電 '子エネ ル ギ依存性を 求め、 こ の図を基.に コ ィ ル 57の電流お よ び 1 次電子 4 Sの エ ネ ル ギ に 対応す る Z。を 求 め る 。
( 2 ) 焦点合わ せ レ ン ズ の レ ン ズ界 で形成 さ れ る 1 次電 子 4 6の集束点 が、 ( 1 ) で求 め た Z。の位置 に く る よ う に コ ィ ル 5 5の電流を設定す る 。
( 3 ) 鮮明 な 2 次電子像が得 ら れ る よ う に ( 2 ) で設定 し た 値 を 初 期 値 と し て コ イ ル 5 5の 電 流 を 微 調 整 す る 。
こ の 操作 に よ り 、 1 次電子 は集束点 S 0お よ び S iを順 次通 つ て 試料 8 の面上の 点 6 2に 集束す る 。
以上の説明で は電子の集束点 が 1 個か ら 2 個の場合 に つ い て 説明 し た が、 集束点 が 3 個以上の場合で も 本 発明 が成 り 立つ の は 自 明 で あ る 。 ま た 、 試料 を励磁装— 置 を形成す る 磁路上 に 設置 し た 場合 に つ い て 説明 し た が、 第 1 7図お よ び第 1 3図 に 示す よ う に 試料 8 を励磁装 置 5 1の上あ る い は下 に お い た場合 に も 本発日月が成 り 立 つ の は 自 明 で あ る 。 こ こ で 、 第 1 7図 は試料 8 を励磁装 置 5 1の上 に 置い た場合、 第 1 8図 は試料 8 を励磁装置 5 1 の下 に 置い た場合 を示 し て い る 。
ま た 、 鏡体 を計算機釗御 で き る 荷電粒子 ビ ー ム 観察 装置 に 以上 に述べ た *発明 の焦点合わせ方法 を適用 す れ ば、 計算機 に よ り 自 動的 に 焦 点合わ せ が で き る こ と も 自 明 で あ る 。
第 1 3図 に 励磁装置を構成す る コ ィ ルの一例の断面図 を示す。 コ イ ル S 3は こ の例 で は 外側 をエポ キ シ で被覆 し た絶縁銅管 5 4を捲回.し て構成.さ れ て い る 。 パ イ プ 6 4 は、 外側の断面形状が一辺 5 m mの正方形、 内側の断面 形状が一辺 3 πι ιπの正方形 と し た。 本実施例の コ イ ルで ほパ イ ブの吸水口 6 4 A か ら 冷却用 の水を 2 K g/ e ra 2の圧 力 で注入 し て い る 。 水は パ イ ブ S 4の内部を通 つ て パ イ ブの排水口 5 4 B か ら 出 る 。 末コ イ ルで は、 パ イ ブか ら 発生す る熱をパ イ ブ中を通る 氷を通 し て パ イ ブ外 に放 出す る ため、 コ イ ルの温度上昇を低減さ せ る こ と がで き る 。
末 コ イ ルを用い て実験的に求め た コ イ ル温度の励磁 電流依存性を第 2 D図 に示す。 励磁電流が 1 S 0 0 0 A T の と き 、 従来の荷電粒子ビー ム観察装置の対物 レ ン ズ で は コ イ ル温度が i 0 0 °C 以上 に上昇する の に対 し、 本 コ ィ ルで ほ コ ィ ル温度が 7 0 °C .と な っ てい る 。 こ の た め荷電 粒子ビーム観.察装置に お い て は、 コ イ ルの絶縁破壊等 の事故を防 ぐ こ と がで き 、 装置の安定な動作が実現で き る 。
コ ィ ル に流す冷却用媒体ほ水に限 ら れず、 液体窒素 な ど でも よ く 、 パ ィ プの断面形状が正方形で な く 、 長 方形状、. 円形状 あ る い ほ そ の他の形状 で あ つ て も よ く 、 ま たパ イ ブの材質ほ アル ミ ニ ウ ム な ど銅以外の導 電体 で あ っ て も 、 そ の 表面 が絶緣 さ れ て い れ ば よ レヽ。
第 2 1図に励磁装置の他.の例を示す。 末例の励磁装置 & 5は超伝導コ イ ルを用 い て い る 。 す なわ ち 、 断熱容器 S 5內に超伝導コ イ ル S 7が納め ら _れ、 液体ヘ リ ゥ ム な ど 2 の 冷却媒体 6 8に よ つ て 冷却 さ れ て い る 。 6 9は 弓 ί 出 し 電 極 で あ る 。 超伝導 コ ィ ル 6 7に よ つ て 試料 8 の 表面 に 1 0 7 A T / ra 以上の強磁界 を か け る こ と が で き る 。 そ の結 果ス ル一 ホ ー ル 3 3の底面か ら 放 出 さ れ る 2 次電子 7 0は 試料表面 に 垂直 な磁力線 7 1に 沿 つ て螺旋運動 を し な が ら ス ル ー ホ ール 3 3の外 に で る こ と が で き る 。
第 2 2図 に励磁装置の さ ら に 他の例 を示す。 こ の励磁 装置 7 2は断熱容器 7 3、 超伝導 コ イ ル 7 4、 ニ オ ブ合金 な ど の超伝導材料か ら な り 超伝導 コ ィ ル 7 4を 囲 む筐体 7 5 お よ び冷却媒体 7 6か ら な つ て い る 。 筐体 7 5に は、 試料 8 と 対向す る 位置 に の み空隙 7 5 A が設 け ら れ て い る 。 藓伝導 コ イ ル 7 4に よ っ て 発生 さ れ た磁界 は 、 こ の空隙
7 5 A か ら の み筐体 の 外部 に 漏洩す る の で試料付近の狭 い範囲 に の み強磁界を か け る こ と が で き る 。 図 に お い て 、 7 7は磁力線、 7 8は 2 次電子の執道を示す。
第 2 3図 に 示す励磁装置 は 2 個の励磁装置 6 5 A お よ び 6 5 B か ら な つ て い る 。 各励磁装置 6 5 A , 6 5 Bは第 2 1図 に 示 し た 励 磁 装 置 S 5 と 同 様 に そ れ ぞ れ 断熱 容 器 6 6 A , 6 δ Β 、 超伝導 コ イ ル 6 7 A , S 7 βお よ び冷却媒体 δ 3 A , 6 8 Β か ら な つ て い る 。 .励磁装置 6 5 Α お よ び 6 5 B は そ れ ぞれ 試料 8 の上お よ び下 に 配置 さ れ て い る 。 こ の よ う に 2 個の励磁装置 を配設す る こ と に よ っ て 、 試料 8 の広い 範囲 に わ た っ て 、 1 Q 7 A T / ra 以上の強磁界 を 印加す る こ と が で き る 。 従 っ て試料 8 の広い範囲 に わ た っ て 設 け ら れ て い る ス ルー ホ ー ル 3 3の底部 か ら 放出 さ れ る 2 次 電子 7 9を磁力線 & 0に沿つ て螺旋違動 さ せ な が ら 、 ス ル 一ホール 3 3の外 に 引出す こ と が で き る 。
な お、 前述 し た実施例に お い て は、 焦点を合わ せ る べ き荷電粒子が電子の場合に つ い て読明 し たが、 荷電 粒子がガ リ ゥ ム ィ ォ ン な ど電子以外の場合に も本発明 が成 り 立つ の は 自 明で あ る 。 ま た、 焦点合わせ レ ン ズ が磁界 レ ン ズ の場合に つい て説明 し た が、 焦点合わ せ レ ン ズ は静電 レ ン ズ で あ っ て も よ い 。 た だ し 、 こ の場 合ほ静電 レ ン ズの印加電圧 に よ り 1 次電子の集束点の 位置を制御す る 。 ま た、 引出 し電極を メ ッ シ ュ で形成 し た場合を例 に と り 本癸明 を説明 し て き たが、 穴の あ い た金属扳な ど、 メ ッ シ ュ 以外 で引 出 し電極を形成 し て も よ い 。 一次 ム を加 メ イ ン ツ エ ル t ^ で— 集束させ る と 、 試料表面に 2 次電子の引 出 し電界がか か る の で引出 し電極を省 く こ と も で き る 。 ま た、 励磁 装置につい て磁路 と.コ イ ルで形成 し た場合を例と し て 説明 し て き た が、 永久磁石等、 他の手段で励磁装置を 形成 し て も よ い。 ' , - ス ルー ホ ー ル の大 き ざ ほ実旎例中 で説明 し た大 き さ に 限 ら れず、 ( 4 ) 式が成立する よ う に、 ス ル ーホール の 大 き さ に 応 じ て試料 に 印加す る 磁界 を定め れ ば よ い。 さ ら に ス ル ー ホール の側面を観察す る た め ス ル一 ホールの底 に対 し て斜め に電子を照射さ せ る 場合 に も 本発明を適甩 す る こ と がで き る。
励磁装置に 用い る超伝導コ ィ .ルお よ びそ れを園む筐 体 に は 、 ニ オ ブ系合金超伝導材料 ま た は酸化物超伝導 材料 な ど各種の超伝導材料 を 用 い る こ と がで き る 。 冷 却媒体 は使用 す る超伝導材料 に 応 じ て選べば よ い。 産業上の利用 可能性 以上説日月 し た よ う に 本発明 の荷電粒子 ビー ム 観察装 置で は 、 試料近傍 に 強磁界 を 発生 さ せ る た めの励磁装 置を設置 し 、 強磁界 を試料 に 印力 αす る た め 、 ス ル ー ホ ール の底か ら 出 た 2 次電子の ほ と ん ど を磁力線 に 沿わ せ て ス ル ー ホ ー ル の 外 に 出 す こ と が で き る 。 さ ら に 本 発明 の 焦点合わ せ方法 に よ れ ば試料 に 強磁界 を か け て も 1 次電子を試料上面 に 集束 さ せ る こ と が で き る 。 し た が っ て 、 強磁界下 で の 試料面 の 2 次電子像.'が鮮明 に 得 ら れ、 ス ルー ホール底部の 2 次電子像観察が可能 と な る 。 従 つ て本発明 は微細 Μ (3 S L S Iな ど の製造プ ロ セ ス に お け る ス ルー ホ ー ル な ど の検査 に 適用 し て有益で あ る 。

Claims

請求の範國
. 荷電粒子ビー ム を放出す る荷電粒子銃 と 、
前記荷電粒子ビーム を試料 に照射す る と と も に 走 查す る荷電粒子 ビー ム 照射軌道釗御部 と 、
前記荷電粒子 ビー ム の照射 に よ り 前記試料か ら 放 出す る 2 次電子を検出す る 2 次電子検出器 と 、
前 記試 料面 上 に 強 磁 界 を 発生 さ せ る 励 磁装置 と 、
前記荷電粒子の集束位置を制御す る:!点合わ せ レ ン ズ と を備え た こ と を特徴 と す る荷電粒子ビーム 観 . 前記荷電粒子が電子で あ る こ と を特徴 と す る 請 求 の 範囲第 1 項記 載 の 荷 電粒子 ビ ー ム 観察装 . 前記励磁装置が前記試料表面に該試料表面の 凹部 の底面ま た は側面に磁力線が交差す る方向に強磁界 を印加 し、 該荷電粒子ビーム の照射に よ り 前記試料 表面 の 凹部の底面 ま た は側面 で宪生 し た 2 次電子 を、 前記励磁装置が発生す る 強磁界 に沿 つ て螺旋運 ¾せ しめる こ と に よ り 前記試料表面の凹部か ら ぞの 外部 に放出せ しめ る こ と を特徴 と す る請求の範圏第 1 項記載の荷電粒子ビー ム 観察装置。
. 前記励磁装置がコ イ ル と 磁路 と か ら な る こ と を特 徴 と す る請求の範囲第 1 項記.載の荷電粒子ビー ム 観 察装置。
. 前記 コ イ ル 力く冷媒 に よ っ て 冷却 さ れ て レ、 る こ と を 特徴 と す る 請求 の範囲第 4 項記載の荷電粒子 ビー ム 観察装置。
. 前記励磁装置が超伝導 コ イ ル か ら な る こ と を特徴 と す る 請求の範囲第 1 項記載の荷電粒子 ビー ム 観察
. 前記 コ イ ル が超伝導材料か ら な り か つ前記試料 と 対向す る 位置 に の み空隙を有す る 超伝導材料か ら な る 筐体 に よ っ て 囲 ま れ て レヽ る こ と を特徴 と す る 請求 の範囲第 6 項記載の荷電粒子 ビ ー ム 観察装置。
. 前記超伝導 コ イ ルが前記試料の上下 に 設置 さ れ て い る こ と を特徴 と す る 請求の範囲第 6 項記載の荷—電 粒子 ビ ー ム 観察装置。
. 前記荷電粒子 と ほ ぼ同等の エ ネ ルギ の荷電粒子 を 前記試料面か ら 仮想的 に放出 さ せ た と き に 形成 さ れ る 該同等の エ ネ ルギ の荷電粒子の集束点が、 前記焦 点合わ せ レ ン ズ と 前記試料 と の間 に 存在す る よ う に 前記焦点合わ せ レ ン ズ を配置 し 、 該集束点 の位置 に 前記荷電粒子を集束 さ せ る こ と を特徴 と す る 請求 の 範囲第 1 項記載の荷電粒子 ビー ム 観察装置。
. 荷電粒子を試料表面 に 照射 し て 該試料表面の凹部 の底面 ま た は側面か ら 2 次電子を放出 せ し め る と と t に 、
励磁手段 に よ つ て 前記試料表面 に 該試料表面の 凹 2 5 部の底面ま た は側面に磁力線が交差す る方向に強磁 界を印加 し、
前記 2 次電子を、 前記励磁手段が発生する強磁界 に沿っ て螺旋運 Kせ しめる こ と に よ り 前記試料表面 の凹部か ら その外部 に放出せ し め、 こ れを検出 し て 前記試料の凹部の底面ま た は側面を含む表面を観察 す る こ と を特徴 と する荷電粒子ビーム に よ る表面観 察方法-。
. 前記荷電粒子が電子であ る こ と を特徴 と する請求 の範囲第 1 0項記載の荷電粒子ビーム に よ る表面観察 方法。
. 荷電粒子を試料表面に照射して、 該試料表面の凹 部の底面ま た は側面か ら放出さ れ る 2 次電子の像を 観察する に際し て、 前記試料表面に強磁界を加え る ための励磁手段の発生する磁場の大き さ に対し て、 前記荷電粒子と ほぼ同等のエネ ルギの荷電粒子を前 記試料面か ら仮想的に放出さ せ た と き に形成さ れ る 該同等のエネ ルギの荷電粒子の仮想的な集吏.点の位 置をあら か じめ求め てお き、
前記荷電粒子ビーム の照射に よ り 該試料表面の凹 部の底面ま たは側面で発生し た 2 次電子を、 前記励 磁手段が発生す る強磁界に沿つ て螺旋違 ¾せ し め る こ と に よ り 前記試料表面の凹部か ら その外部 に放出 せ し め 、 かつ
前記仮想的な集束点の位置に前記荷電粒子を集束 さ せ る よ う に 焦点合わ せ手段の励磁電流 も し く ほ印 加電圧を設定 し て 前記 2 次電子を検出 す る こ と を特 徴 と す る 荷電粒子 ビ ー ム に よ る 表面観察方法。
13 . 前記仮想的 な集束点 を前記焦点合わ せ手段 と 前記 試料 と の間 に 位置せ し め る こ と を特徴 と す る 請求 の 範囲第 12項記載の荷電粒子 ビー ム に よ る 表面観察方 法。
14. 前記荷電粒子が電子 で あ る こ と を特徴 と す る 請求 の範囲第 12項記載の荷電粒子 ビー ム に よ る 表面観察 方法。
15 . 前記荷電粒子 ビー ム が前記試料の表面を走査可能 で あ る こ と を特徴 と す る 請求の範囲第 12項記載の荷 電粒子 ビ ー.ム に よ る 表面観察方法。
15 . 前記励磁手段が コ イ ル と 磁路 と か ら な る こ と を特 徴 と す る 請求 の範囲第 12項記載の荷電粒子 ビ ー ム に よ る 表面観察方法。
17. 前記 コ イ ル が冷媒 に よ っ て冷却 さ れ て レヽ る こ と を 特徴 と す る 請求 の範囲第 16項記載の荷電粒子 ビー ム に よ る 表面観察方法。
18. 前記励磁手段が超伝導 コ イ ルか ら な る こ と を特徴 と す る 請求 の範囲第 12項記載の荷電粒子 ビー ム に よ る 表面観察方法。
19. 前記 コ イ ル が超伝導材料か ら な り か つ前記試料 と - 対向す る 位置 に の み空隙 を有す る超伝導材料か ら な る 筐体 に よ っ て 囲 ま れ_て レ、 る'こ と を特徴 と す る 請求 の範囲第 1 8項記載の荷電粒子ビー ム に よ る表面観察 方法。
0 . 前記超伝導コ イ ルが前記試料の上下に設置さ れて いる こ と を特徴 と す る請求の範囲第 1 8項記載の荷電 粒子ビ ー ム に よ る 表面観察方法。
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