UA79779C2 - Gas preheater (variants) and method for regulation of gas-reagent distribution in furnace of chemical gas soaking - Google Patents

Gas preheater (variants) and method for regulation of gas-reagent distribution in furnace of chemical gas soaking Download PDF

Info

Publication number
UA79779C2
UA79779C2 UA20041109125A UA20041109125A UA79779C2 UA 79779 C2 UA79779 C2 UA 79779C2 UA 20041109125 A UA20041109125 A UA 20041109125A UA 20041109125 A UA20041109125 A UA 20041109125A UA 79779 C2 UA79779 C2 UA 79779C2
Authority
UA
Ukraine
Prior art keywords
gas
ring
distribution plate
bottom wall
current collector
Prior art date
Application number
UA20041109125A
Other languages
English (en)
Inventor
Eric Sion
Yvan Baudry
Original Assignee
Messier Bugatti
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Messier Bugatti filed Critical Messier Bugatti
Publication of UA79779C2 publication Critical patent/UA79779C2/uk

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/04Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/22Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
    • C23C16/26Deposition of carbon only
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/04Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C16/045Coating cavities or hollow spaces, e.g. interior of tubes; Infiltration of porous substrates

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Furnace Details (AREA)

Description

Опис винаходу
Даний винахід стосується ущільнення пористих кільцевих підкладок (каркасів) способом хімічного газового 2 просочення.
Конкретною ділянкою використання винаходу є виготовлення кільцевих частин у виробах з термоконструкційного композитного матеріалу, як-от: гальмівні диски для літаків або наземних транспортних засобів, виготовлені з композитних матеріалів вуглець/вуглець (С/С).
Термоконструкційні композитні матеріали відзначаються тим, що мають механічні властивості, що 70 дозволяють використовувати їх для виготовлення конструктивних деталей, і зберігають ці властивості при високих температурах. Типовими прикладами термоконструкційних композитних матеріалів є композитні матеріали С/С (вуглець-вуглецеві) з волокнистою армуючою структурою з вуглецевих волокон, ущільненою матрицею піролітичного вуглецю, а також композитні матеріали з керамічною матрицею (сегатіс таїгіх сотрозіез - СМС) з армуючою структурою з тугоплавких (вуглецевих або керамічних) волокон, ущільненою 72 керамічною матрицею.
У процесі хімічного газового просочення підкладки, що підлягають ущільненню, вміщують у реакційну камеру печі, де їх нагрівають. У реакційну камеру вводять газ-реагент, що містить один або декілька газових напівпродуктів того матеріалу, який має утворити матрицю. Температуру й тиск усередині реакційної камери регулюють таким чином, щоб газ-реагент міг дифундувати в пори підкладки й осаджувати в них утворюючий 20 матрицю матеріал за рахунок розкладання одного або декількох компонентів газу-реагенту або їхньої реакції один з одним. Процес виконують при низькому тиску, щоб підсилити дифузію газу-реагенту в підкладки.
Температура, при якій напівпродукт або напівпродукти трансформуються в матеріал матриці, такий як піролітичний вуглець або кераміка, зазвичай перевищує 9002 і в типовому випадку близька до 100020.
Для забезпечення якомога більшої рівномірності ущільнення підкладок у всьому об'ємі реакційної камери як с 29 щодо підвищення щільності, так і щодо мікроструктури осаджуваного матеріалу матриці, в ідеальному випадку (У необхідно забезпечити, по суті, рівномірну температуру всередині реакційної камери і відносно рівномірний доступ газу-реагенту до всіх підкладок.
Печі хімічного газового просочення містять підігрівач газу, розташований усередині печі між уводом для газу-реагенту й реакційною камерою. В типовому випадку зона підігрівача газу містить теплообмінник у вигляді б 30 множини перфорованих пластин, через які газ проходить перед надходженням у реакційну камеру. -
Підкладки, як і теплообмінник, нагріваються, оскільки вони знаходяться в печі. Останні звичайно нагріваються за допомогою струмоприймача, виконаного, наприклад, з графіту. Струмоприймач утворює бічну - стінку реакційної камери й нагрівається за рахунок індуктивного зв'язку з індуктором, що оточує реакційну Ге) камеру, або за допомогою резисторів, що оточують піч.
Зо Заявником було встановлено, що ефективність підігрівача газу не завжди відповідає бажаній. У цьому т відношенні показовий приклад ущільнення пористих підкладок, утворених кільцевими каркасами з вуглецевих волокон, або попередньо ущільнених кільцевих заготовок для використання при виготовленні гальмівних дисків з композитного матеріалу С/С. «
Кільцеві підкладки завантажують вертикальними стопками в реакційну камеру над підігрівачем газу, який З7З розташований на дні печі. Незважаючи на підігрів газу, в реакційній камері часто спостерігається градієнт с температури. При цьому температура поблизу каркасів біля основи стопок може бути на декілька десятків "з градусів Цельсія нижчою за температуру в іншій частині стопок. Це може призводити до великого градієнту ущільнення в підкладках однієї і тієї ж стопки залежно від розташування каркаса в стопці.
Для вирішення цієї проблеми можна було б підвищити ефективність підігріву газу-реагенту шляхом 75 збільшення розміру підігрівача газу. Проте для печі даного об'єму це зменшило б її ємність у відношенні - підкладок. Оскільки процеси хімічного газового просочення потребують великих капіталовкладень і мають велику (Се) тривалість, дуже бажано мати за можливістю максимальну продуктивність, а, отже, якомога вище відношення об'єму, призначеного для завантаження підкладок, до об'єму зони підігріву газу. ї Інша проблема полягає в тому, що градієнт температури спостерігається не тільки у вертикальному напрямку -І 50 вздовж стопок підкладок, але також і в горизонтальному напрямку між окремими стопками. Зокрема, було с помічено, що стопки, розташовані в центральній частині реакційної камери, не одержують стільки Ж тепла, випромінюваного струмоприймачем, скільки стопки, розташовані ближче до внутрішньої стінки струмоприймача.
Це також призводить до розходжень у ступені ущільнення між підкладками в різних стопках.
У загальному плані задача, на вирішення якої спрямовано даний винахід, полягає у створенні засобів для 99 досягнення ефективного й економічного, по суті, рівномірного ущільнення пористих кільцевих підкладок у печі
ГФ) хімічного газового просочення. т Конкретною задачею винаходу є створення підігрівача газу, який забезпечує таке, по суті, рівномірне ущільнення без значного впливу на продуктивність хімічного газового просочення підкладок.
Згідно з одним аспектом винаходу в печі хімічного газового просочення для ущільнення кільцевих пористих 60 підкладок, розташованих у вигляді множини вертикальних кільцевих стопок, яка містить струмоприймач, що має внутрішню бокову стінку, яка обмежує зону підігріву газу й реакційну камеру всередині печі, і донну стінку, а також принаймні один наскрізний отвір для введення газу через донну стінку струмоприймача, передбачено підігрівач газу. Даний підігрівач містить: кільце з теплопровідного матеріалу, що спирається на донну стінку струмоприймача й обмежує камеру бо підігріву газу, із принаймні одним отвором для введення газу в камеру підігріву газу,
теплообмінник, розташований у камері підігріву газу, газорозподільну плиту, що спирається на кільце, яка закриває зверху камеру підігріву газу й постачена множиною отворів для підігрітого газу, вантажну плиту, що несе стопки кільцевих підкладок, які підлягають завантаженню в реакційну камеру для їхнього ущільнення, постачену множиною отворів, сполучених з відповідними отворами газорозподільної плити й узгоджених за положенням із внутрішніми об'ємами відповідних стопок кільцевих підкладок, і сопла, встановлені в каналах, які служать для встановлення сполучення між зоною підігріву газу і внутрішніми об'ємами відповідних стопок кільцевих підкладок, і призначені для регулювання потоків підігрітого 7/о газу, що надходять у ці внутрішні об'єми.
Кільце, яке переважно утворене масивним тілом, виготовленим як одне ціле з теплопровідного матеріалу, забезпечує виконання різноманітних функцій: оскільки воно спирається на донну стінку струмоприймача й відповідно оточене його бічною стінкою, воно забезпечує ефективний нагрів зони підігріву, воно оточує зону підігріву і сприяє її герметизації, не допускаючи того, щоб більша частина поданого в цю зону газу-реагенту надходила в реакційну камеру, не пройшовши цілком підігрівач газу, і воно сприймає навантаження від ваги підкладок, передане через газорозподільну плиту й вантажну плиту, й передає це навантаження на донну стінку струмоприймача без необхідності в окремій опорній конструкції для вантажної плити.
Зазначені особливості сприяють ефективності підігріву газу й компактності конструкції, розташованої біля дна печі.
Наявність регулюючих потік сопел, які можуть бути вставлені в отвори газорозподільної плити, дає можливість подавати в одні стопки підкладок більший потік газу-реагенту порівняно до інших стопок підкладок.
За рахунок цього можна компенсувати градієнт температури між різними стопками підкладок для досягнення, по с буті, рівномірного ущільнення, оскільки інтенсивність осадження матеріалу матриці змінюється залежно від о температури й потоку газу-реагенту.
Відповідно до окремого аспекту винаходу теплообмінник підігрівача газу містить множину віддалених одна від одної перфорованих пластин, оточених кільцем і розташованих, по суті, горизонтально між донною стінкою струмоприймача й газорозподільною плитою, причому пластини теплообмінника виготовлені з плівкового (33 зо теплопровідного матеріалу. Використання плівкового матеріалу, як-от графітовий плівковий матеріал або композитний матеріал С/С, дозволяє зменшити товщину пластин, а, отже, масу й габарити підігрівача газу. В - даному випадку пластини, яки можуть мати, по суті, круглу форму, переважно утримуються на відстані одна від ї- одної за допомогою розміщених між ними радіально розташованих прокладок.
Згідно з другим окремим аспектом винаходу пластини теплообмінника містять принаймні одну пару пластин, Ме з5 розташованих безпосередньо одна над одною. При цьому одна пластина має перфорацію тільки у своїй ча центральній частині, а інша - тільки у своїй периферійній частині. За рахунок цього забезпечується примусове протікання газу по звивистій траєкторії, так що ефективний підігрів може досягатися в межах обмеженого об'єму.
Газорозподільна плита й вантажна плита можуть бути утворені однією і тією ж плитою або двома різноманітними плитами, розташованими одна над одною. В останньому випадку передбачена множина труб « (каналів), кожна з яких з'єднує отвір газорозподільної плити з відповідним отвором вантажної плити. Кожна з с труба може бути постачена вставкою, виготовленою з теплопровідного матеріалу, для теплообміну з газом-реагентом, що протікає в трубі, на заключній стадії підігріву газу. ;» Відповідно до наступного аспекту винаходу передбачений спосіб регулювання розподілу підігрітого газу-реагенту в печі хімічного газового просочення для ущільнення кільцевих пористих підкладок, завантажених
У реакційну камеру печі у вигляді множини вертикальних стопок, кожна з яких містить накладені одна на одну -І підкладки, що утворюють внутрішній об'єм стопки, причому реакційну камеру нагрівають за допомогою струмоприймача, що має внутрішню стінку, обмежуючу реакційну камеру. ік Спосіб за винаходом включає операції впуску газу-реагенту в зону підігріву біля дна печі, підігріву -І газу-реагенту за допомогою його пропускання через зону підігріву, поділу підігрітого газу-реагенту на множину 5р окремих потоків біля відповідних виводів зони підігріву й спрямування окремих потоків газу-реагенту у - відповідні внутрішні об'єми стопок кільцевих підкладок.
Ге При цьому окремі потоки газу-реагенту регулюють залежно від місця розташування відповідних стопок підкладок усередині реакційної камери.
Переважно окремий потік газу-реагенту, що спрямовується у внутрішній об'єм стопки підкладок, яка ов Знаходиться далі від внутрішньої стінки струмоприймача, ніж інша стопка підкладок, більший за окремий потік газу-реагенту, що спрямовується у внутрішній об'єм цієї іншої стопки підкладок. (Ф, Окремі потоки газу-реагенту можуть регулюватися за допомогою сопел з різноманітними поперечними ка перерізами, що вводяться в отвори, утворені в газорозподільній плиті, яка закриває зверху камеру підігріву газу, розташовану в зоні підігріву газу. 60 Інші властивості й переваги даного винаходу стануть ясні з нижченаведеного опису, що не вносить яких-небудь обмежень і містить посилання на додані креслення. На кресленнях:
Фіг.1 схематично зображує піч хімічного газового просочення з підігрівачем газу за винаходом в розрізі площиною І-І (див. Фіг.2),
Фіг.2 схематично зображує піч за Фіг.1 у розрізі площиною І-ІІ (див. Фіг.1), 65 Фіг.3 зображує у збільшеному вигляді в розрізі підігрівач газу печі за Фіг.1,
Фіг.4-7 - це схематичні часткові вигляди в розрізах площинами ІМ-ІМ, М-М, МІ-МІ ї МІІ-МІІ (див. Фіг.3),
Фіг.8 схематично зображує в розрізі підігрівай газу за винаходом в іншому варіанті виконання.
На Фіг.1 і 2 показана піч 10 з утвореними струмоприймачем циліндричною бічною стінкою 12, донною стінкою 14 і верхньою стінкою 16. Струмоприймач 12, 14 утворює вторинний ланцюг трансформатора, індуктивно зв'язаний з первинним трансформаторним ланцюгом у вигляді принаймні одного індуктора 18. Між індуктором 18 і бічною стінкою 12 струмоприймача передбачена ізоляція 20, а під донною стінкою 14 струмоприймача - ізоляція 22. Піч 10 нагрівається за допомогою подання електричного струму на індуктор 18. У іншому варіанті здійснення нагрів струмоприймача може виконуватися за допомогою електричних резисторів, що знаходяться з ним у тепловому контакті. 70 Внутрішній об'єм печі 10 містить підігрівач газу, тобто зону 24 підігріву газу, розташовану біля дна печі, й реакційну камеру, або завантажувальну зону 26, куди вміщують пористі кільцеві підкладки 30, що підлягають ущільненню. Реакційна камера 26 розташована над зоною 24 підігріву газу.
Підкладки 30, що підлягають ущільненню, можуть являти собою каркаси з вуглецевих волокон або попередньо ущільнені заготовки для виготовлення гальмівних дисків з композитних матеріалів С/С. Попередньо /5 Ущільнені заготовки одержують шляхом попереднього ущільнення каркасів способом хімічного газового просочення або способом рідкого просочення (смолою) з подальшою карбонізацію. Такі гальмівні диски С/С зазвичай використовуються для посадкових шасі літаків і для гоночних автомобілів.
Кільцеві підкладки ЗО розташовують з утворенням множини кільцевих вертикальних стопок 32, що спираються на нижню вантажну плиту 40. Кожна стопка підкладок може бути підрозділена на множину розташованих одна над одною секцій, розділених однією або декількома проміжними плитами 42, причому плити 40 ії 42 можуть бути виготовлені з графіту. У плитах утворені наскрізні отвори 40а, 42а, узгоджені за положенням з отворами, наявними в підкладках. Проміжні плити 42 підтримуються вантажною плитою 40 за допомогою стійок 44.
У показаному прикладі виконання (Фіг.2) утворено дванадцять стопок, при цьому дев'ять стопок утворюють сч
Кільце рівномірно віддалених одна від одної стопок, що знаходяться поблизу струмоприймача, а три стопки розташовані в центральній частині завантажувальної зони. Можуть бути передбачені також інші схеми і) завантаження. Так, наприклад, можуть використовуватися сім стопок з розташуванням шести стопок по кільцю й однією стопкою в центрі.
Кожна кільцева стопка 32 закрита зверху кришкою 34, так що внутрішній об'єм реакційної камери 26 Ге! зо Підрозділений на множину внутрішніх об'ємів Зб стопок і на об'єм 28 поза стопками. Кожний внутрішній об'єм стопки утворений центральними отворами підкладок 30 і отворами в проміжних плитах 42. -
Кожна підкладка 30 у стопці 32 відділена, залежно від її розташування, від сусідніх підкладок або від М плити 40, 42, або від кришки 34 за допомогою прокладок 38, які залишають зазори 39 між підкладками.
Прокладки можуть бути розташовані так, щоб залишати проходи для газу між об'ємами 36 і 28 через зазори 39. ме)
Ці зазори можуть бути організовані таким чином, щоб забезпечувати врівноважування тисків між об'ємами 36 і ї- 28, як це описано в (патенті США Мо59049571|, або ж таким чином, щоб створювати прості проходи для витоків газу й підтримувати градієнт тиску між об'ємами 36 і 28.
Зона 24 підігріву газу, оточена струмоприймачем, як і реакційна камера 26, містить підігрівач 50 газу, докладно показаний на Фіг.3-6. «
Підігрівач газу містить кільце (втулку) 52, яке спирається на донну стінку 14 струмоприймача й проходить з с поблизу його бічної стінки 12. Кільце 52 переважно являє собою єдине масивне тіло з теплопровідного матеріалу, як-от графіт. ;» Кільце 52 обмежує камеру 54 підігріву газу. Наскрізний прохід, сформований у донній ізоляції 22 і донній стінці 14 струмоприймача, утворює газовий ввід 56 для газу-реагенту, що веде в камеру 54 підігріву газу.
Газовий ввід 56 приєднаний до джерела газу-реагенту (не показано). У варіанті виконання можуть бути утворені -І декілька впускних проходів для газу, що сполучаються із зоною підігріву газу. Газовий ввід 56 може бути постачений екраном 58, що перешкоджає виходу тепла з камери 54 підігріву газу. ік Камера 54 підігріву газу закрита газорозподільною плитою 60, яка спирається на верхню поверхню кільця 52. -І В газорозподільній плиті 60 утворені наскрізні отвори бба, вирівняні, або просторово узгоджені з отворами 40ба 5ор | з внутрішніми об'ємами 36 стопок 32. Як показано на Фіг.З і 4, кожний отвір бба постачений вкладишем 62 у
Ш- вигляді сопла з каліброваним поперечним перерізом (на Фіг4 розташування стопок 32 показано
Ге) штрихпунктирними лініями).
Газ, подаваний через газовий ввід 56, попередньо, до надходження до отворів бба, нагрівається в камері 54 підігріву. Попередній нагрів виконується за допомогою того, що газ примусово направляється вздовж множини віддалених одна від одної перфорованих пластин 66, які встановлені горизонтально між донною стінкою 14 струмоприймача й газорозподільною плитою 60, і крізь ці пластини.
Ф) Перфоровані пластини 66 можуть бути виготовлені з теплопровідного плівкового матеріалу, як-от графітова ка плівка. Використання таких тонких перфорованих пластин дозволяє знизити масу та об'єм підігрівача газу порівняно до масивних перфорованих графітових пластин. Як альтернативний варіант пластини 66 можуть бути бо Виготовлені з композитного матеріалу С/С.
Перфоровані пластини 66 утримуються на відстані одна від одної за допомогою прокладок 68, переважно у вигляді радіально розташованих графітових стрижнів (також показані штриховими лініями на Фіг.5 і 6).
У кращому варіанті пластини 6б містять одну або декілька пар пластин 6б 3, 66», розташованих безпосередньо одна над одною. При цьому одна пластина 6бб» має перфорацію 675 тільки в центральній 65 частині, а інша пластина 66. має перфорацію 674 тільки в периферійній частині. За рахунок цього потік газу змушений текти не тільки крізь пластини, але й уздовж них. У цьому випадку краще, щоб пластина з перфорацією в периферійній частині була нижньою.
Для забезпечення відносно рівномірного виходу підігрітого газу у верхній частині камери підігріву газу, принаймні верхня перфорована пластина або дві верхні перфоровані пластини 663 постачені перфорацією, рівномірно розподіленою по їхній поверхні (Фіг.3).
Пластини 66 утримуються в бажаному горизонтальному положенні вертикальними стійками 70, що проходять через отвори 71 у пластинах. Стійки 70 укріплені на нижній неперфорованій пластині 72, яка має центральний канал, суміщений з газовим вводом 56, і спирається на внутрішню кромку 52а в нижній частині кільця 52. Таким чином, кільце 52 з пластинами 66, 72 і стійками 70 перед установкою в піч можуть бути попередньо зібрані в 70 єдиний вузол.
Газ, що виходить через отвори бба в газорозподільній плиті 60, направляється по трубах 74, вставлених у отвори 76, виконані в утримуючій плиті 78 і суміщені за положенням з отворами бба. Труби 74 постачені верхніми фланцями, що спираються на плиту 78 навколо отворів 76. Усередині труб 74 розміщені вставки 80, виконані, наприклад, у формі призм (Фіг.З і 7) їі призначені для додаткового нагрівання газу, що протікає.
Труби 74 і вставки 80, а також плити 60 і 78 виготовлені з теплопровідного матеріалу, як-от графіт. Плита 78 спирається на газорозподільну плиту 60 за допомогою колон 82.
Труби 74 сполучаються з отворами 40а у вантажній плиті 40. Кільця 84 вставлені в отвори 40а і спираються на верхні кромки труб 74 для спрямування потоків газу між плитами 78 і 40. Плита 40 спирається на плиту 78 за допомогою колон 86.
При роботі стопки підкладок завантажують у реакційну камеру над підігрівачем газу. Вага навантаження підтримується дном струмоприймача за посередництвом плит 40, 78, 60, колон 86, 82 і кільця 52. Донна стінка 14 струмоприймача спирається на колони, які підтримують усю піч.
Піч нагрівається струмоприймачем для доведення підкладок, завантажених у реакційну камеру, до необхідної температури. При цьому нагріваються також елементи конструкції, що несуть навантаження, й елементи с г Підігрівача газу.
Після досягнення бажаної температури всередині печі через газовий ввід 56 подають газ-реагент. Газ і) підігрівається при його протіканні вздовж перфорованих пластин 66 у камері 54 підігріву й крізь ці пластини.
Використання масивного кільця 52, яке має високу теплову інерцію й виконане як одне ціле, сприяє ефективному нагріванню й герметизації камери підігріву газу. Ге! зо Підігрітий газ виходить з камери 54 підігріву через сопла 62 й додатково нагрівається за рахунок теплообміну зі стінками труб 74 і вставок 80 до надходження у внутрішні об'єми стопок підкладок. -
Описаним чином досягається ефективний підігрів газу-реагенту, що знижує до мінімуму температурний М градієнт між нижньою частиною кожної стопки та її іншою частиною.
Газ, пропущений у внутрішній об'єм 36 стопки підкладок, проникає в об'єм 28 реакційної камери за ме)
Зв Допомогою дифузії через пористу структуру підкладок, здійснюючи при цьому осадження бажаної матриці, а ї- потім і через зазори 39. Відпрацьований газ відводиться з об'єму 28 реакційної камери через газовий вивід 17, виконаний у верхній стінці 16 струмоприймача і приєднаний до насосного пристрою (не показано).
В оптимальному варіанті здійснення поділ потоку підігрітого газу-реагенту на індивідуальні потоки, подавані у внутрішні об'єми стопок підкладок, регулюється залежно від місця розташування стопки в реакційній « камері. Регулювання здійснюється з тією метою, щоб пропускати значніші потоки газу-реагенту в стопки, в с віддалені від бічної стінки 12 струмоприймача, порівняно до потоку газу-реагенту в стопку, розташовану поблизу цієї стінки. з Справді, стопка підкладок, розташована в центральній частині реакційної камери, як-от стопка 32.4 на Фіг.2, нагрівається струмоприймачем дещо менше порівняно до стопки підкладок, розташованої поблизу бічної стінки 455.12 струмоприймача, такою як стопка 32». За рахунок невеличкого збільшення потоку газу-реагенту в стопку 324 -І можна компенсувати дещо менш ефективний нагрів і знизити градієнт ущільнення між різноманітними стопками.
Індивідуальні потоки газу-реагенту в різноманітні стопки регулюються шляхом вибору поперечного перерізу ік каналів, утворюваних соплами 62. Як показано на Фіг.4, сопло 624 для центральної стопки (як-от стопка 32 4) -І утворює канал дещо більшого поперечного перерізу порівняно до каналу, утворюваного соплом 62 5 для периферійної стопки (як-от стопка 325). Для створення можливості вибору й регулювання індивідуальних потоків ш- газу-реагенту може бути передбачений комплект сопел 62 однакового зовнішнього діаметра відповідно до
Ге) діаметра отворів бба, але із внутрішніми каліброваними каналами, що мають різноманітні поперечні перерізи.
Інший, спрощений приклад виконання підігрівача газу за винаходом подано на Фіг.8.
Рішення за Фіг.8 відрізняється від приклада виконання за Фіг.3З тим, що стопка 32 кільцевих каркасів 30 в спирається безпосередньо на плиту 60, яка являє собою як газорозподільну, так і вантажну плиту.
Цей альтернативний приклад виконання може використовуватися, коли ефективність камери підігріву газу (Ф) достатня і немає необхідності в додатковому нагріванні індивідуальних потоків газу, що виходять з неї. ка Ефективність камери 54 підігріву газу може бути відрегульована шляхом вибору відповідної кількості перфорованих пластин 66.

Claims (17)

Формула винаходу
1. Підігрівач газу для печі хімічного газового просочення, призначеної для ущільнення кільцевих пористих 65 підкладок (32), розташованих у вигляді множини вертикальних кільцевих стоп, що містить струмоприймач, який має внутрішню бічну стінку, яка обмежує зону підігріву газу і реакційну камеру всередині печі, й донну стінку, а також принаймні один наскрізний отвір для введення газу через донну стінку струмоприймача, причому підігрівач газу містить: кільце з теплопровідного матеріалу, яке спирається на донну стінку струмоприймача й обмежує камеру підігріву газу з принаймні одним отвором для введення газу в камеру підігріву газу, теплообмінник, розташований у камері підігріву газу, газорозподільну плиту, що спирається на кільце, яке закриває зверху камеру підігріву газу, й оснащена множиною отворів для підігрітого газу, вантажну плиту, що несе стопи кільцевих підкладок, які підлягають завантаженню в реакційну камеру для 7/0 їхнього ущільнення, оснащену множиною отворів, які сполучені з відповідними отворами газорозподільної плити й узгоджені за положенням із внутрішніми об'ємами відповідних стоп кільцевих підкладок, і сопла, встановлені в каналах, які служать для встановлення сполучення між зоною підігріву газу і внутрішніми об'ємами відповідних стоп кільцевих підкладок, і призначені для регулювання потоків підігрітого газу, що надходять у ці внутрішні об'єми.
2. Підігрівач газу за п. 1, який відрізняється тим, що газорозподільна плита і вантажна плита утворені однією і тією ж плитою.
З. Підігрівач газу за п. 1, який відрізняється тим, що вантажна плита виконана окремо від газорозподільної плити і розташована над нею, причому передбачена множина труб для з'єднання отворів газорозподільної плити з відповідними отворами вантажної плити.
4. Підігрівач газу за п. 3, який відрізняється тим, що зазначені труби оснащені вставками, виготовленими з теплопровідного матеріалу, для теплообміну з газом, що протікає в трубах.
5. Підігрівач газу за п. 1, який відрізняється тим, що вантажна плита спирається на газорозподільну плиту.
6. Підігрівач газу за п. 1, який відрізняється тим, що сопла для регулювання потоків уставлені в отвори газорозподільної плити. сч
7. Підігрівач газу за п. 1, який відрізняється тим, що згадане кільце утворене суцільним масивним тілом, о виготовленим з теплопровідного матеріалу.
8. Підігрівач газу за п. 1, який відрізняється тим, що теплообмінник містить множину віддалених одна від одної перфорованих пластин, оточених кільцем і розташованих, по суті, горизонтально між донною стінкою струмоприймача й газорозподільною плитою, причому пластини теплообмінника виготовлені з плівкового (33 зо теплопровідного матеріалу.
9. Підігрівач газу за п. 8, який відрізняється тим, що пластини теплообмінника виконані, по суті, круглими й - утримуються на відстані одна від одної за допомогою розміщених між ними радіально розташованих прокладок. М
10. Підігрівач газу за п. 1, який відрізняється тим, що теплообмінник містить множину віддалених одна від одної перфорованих пластин, оточених кільцем і розташованих, по суті, горизонтально між донною стінкою ме) струмоприймача й газорозподільною плитою, причому пластини теплообмінника містять принаймні одну пару ча розташованих безпосередньо одна над одною пластин, одна з яких має перфорацію тільки у своїй центральній частині, а інша має перфорацію тільки у своїй периферійній частині.
11. Підігрівач газу для печі хімічного газового просочення, призначеної для ущільнення кільцевих пористих підкладок (32), розташованих у вигляді множини вертикальних кільцевих стоп, що містить струмоприймач, який « має внутрішню бічну стінку, що обмежує зону підігріву газу й реакційну камеру всередині печі, і донну стінку, ще) с а також принаймні один наскрізний отвір для введення газу через донну стінку струмоприймача, причому підігрівач газу містить: ;» кільце з теплопровідного матеріалу, яке спирається на донну стінку струмоприймача й обмежує камеру підігріву газу з принаймні одним отвором для введення газу в камеру підігріву газу, газорозподільну плиту, що спирається на кільце, яка закриває зверху камеру підігріву газу, й оснащена -І множиною отворів для підігрітого газу, вантажну плиту, що несе стопи кільцевих підкладок, які підлягають завантаженню в реакційну камеру для ік їхнього ущільнення, оснащену множиною отворів, що сполучені з відповідними отворами газорозподільної плити -І й узгоджені за положенням із внутрішніми об'ємами відповідних стоп кільцевих підкладок, і теплообмінник, що містить множину віддалених одна від одної й, по суті, круглих перфорованих пластин, ш- оточених кільцем і розташованих, по суті, горизонтально між донною стінкою струмоприймача й Ге газорозподільною плитою, причому пластини теплообмінника виготовлені з плівкового теплопровідного матеріалу й утримуються на відстані одна від одної за допомогою розміщених між ними радіально розташованих прокладок.
12. Підігрівач газу для печі хімічного газового просочення, призначеної для ущільнення кільцевих пористих підкладок (32), розташованих у вигляді множини вертикальних кільцевих стоп, що містить струмоприймач, який Ф) має внутрішню бічну стінку, яка обмежує зону підігріву газу й реакційну камеру всередині печі, і донну ка стінку, а також принаймні один наскрізний отвір для введення газу через донну стінку струмоприймача, причому підігрівач газу містить: 60 кільце з теплопровідного матеріалу, що спирається на донну стінку струмоприймача й обмежує камеру підігріву газу, із принаймні одним отвором для введення газу в камеру підігріву газу, газорозподільну плиту, що спирається на кільце, яка закриває зверху камеру підігріву газу й оснащена множиною отворів для підігрітого газу, вантажну плиту, що несе стопи кільцевих підкладок, які підлягають завантаженню в реакційну камеру для їх 65 ущільнення, оснащену множиною отворів, що сполучені з відповідними отворами газорозподільної плити й узгоджені за положенням із внутрішніми об'ємами відповідних стоп кільцевих підкладок, і теплообмінник, що містить множину віддалених одна від одної перфорованих пластин, оточених кільцем і розташованих, по суті, горизонтально між донною стінкою струмоприймача й газорозподільною плитою, причому пластини теплообмінника містять принаймні одну пару розташованих безпосередньо одна над одною пластин, одна з яких має перфорацію тільки у своїй центральній частині, а інша має перфорацію тільки у своїй периферійній частині.
13. Підігрівач газу для печі хімічного газового просочення, призначеної для ущільнення кільцевих пористих підкладок (32), розташованих у вигляді множини вертикальних кільцевих стоп, що містить струмоприймач, який має внутрішню бічну стінку, яка обмежує зону підігріву газу й реакційну камеру всередині печі, й донну 7/0 стінку, а також принаймні один наскрізний отвір для введення газу через донну стінку струмоприймача, причому підігрівач газу містить: кільце з теплопровідного матеріалу, що спирається на донну стінку струмоприймача й обмежує камеру підігріву газу, з принаймні одним отвором для введення газу в камеру підігріву газу, газорозподільну плиту, що спирається на кільце, яка закриває зверху камеру підігріву газу й оснащена у/5 МНОЖИНОЮ отворів для підігрітого газу, вантажну плиту, що несе стопи кільцевих підкладок, що підлягають завантаженню в реакційну камеру для їх ущільнення, оснащену множиною отворів, які сполучені з відповідними отворами газорозподільної плити й узгоджені за положенням із внутрішніми об'ємами відповідних стоп кільцевих підкладок, і множину віддалених одна від одної перфорованих пластин, оточених кільцем і розташованих, по суті, 2о горизонтально між донною стінкою струмоприймача й газорозподільною плитою, причому зазначені пластини містять принаймні одну пару розташованих безпосередньо одна над одною пластин, одна з яких має перфорацію тільки у своїй центральній частині, а інша має перфорацію тільки у своїй периферійній частині, при цьому перфоровані пластини виготовлені з плівкового теплопровідного матеріалу й утримуються на відстані одна від одної за допомогою розміщених між ними радіально розташованих прокладок. сч
14. Підігрівач газу для печі хімічного газового просочення, призначеної для ущільнення кільцевих пористих підкладок (32), розташованих у вигляді множини вертикальних кільцевих стоп, що містить струмоприймач, який і) має внутрішню бічну стінку, яка обмежує зону підігріву газу й реакційну камеру всередині печі, й донну стінку, а також принаймні один наскрізний отвір для введення газу через донну стінку струмоприймача, причому підігрівач газу містить: Ге! зо кільце з теплопровідного матеріалу, що спирається на донну стінку струмоприймача й обмежує камеру підігріву газу, з принаймні одним отвором для введення газу в камеру підігріву газу, - теплообмінник, розташований у камері підігріву газу й утримуючий множину віддалених одна від одної М перфорованих пластин, оточених кільцем і розташованих, по суті, горизонтально між донною стінкою струмоприймача й газорозподільною плитою, причому пластини теплообмінника містять принаймні одну пару Ме з5 розташованих безпосередньо одна над одною пластин, одна з яких має перфорацію тільки у своїй центральній ча частині, а інша має перфорацію тільки у своїй периферійній частині, при цьому пластини теплообмінника виготовлені з плівкового теплопровідного матеріалу й утримуються на відстані одна від одної за допомогою розміщених між ними радіально розташованих прокладок, газорозподільну плиту, яка спирається на кільце та закриває зверху камеру підігріву газу й оснащена « МНОЖИНОЮ отворів для підігрітого газу, з с вантажну плиту, що несе стопи кільцевих підкладок, які підлягають завантаженню в реакційну камеру для їх ущільнення, оснащену множиною отворів, які сполучені з відповідними отворами газорозподільної плити й з узгоджені за положенням із внутрішніми об'ємами відповідних стоп кільцевих підкладок, і сопла, встановлені в каналах, які служать для встановлення сполучення між зоною підігріву газу і внутрішніми об'ємами відповідних стоп кільцевих підкладок, і призначені для регулювання потоків підігрітого -І газу, що надходять у ці внутрішні об'єми.
15. Спосіб регулювання поділу підігрітого газу-реагенту в печі хімічного газового просочення для ік ущільнення кільцевих пористих підкладок, завантажених у реакційну камеру печі у вигляді множини -І вертикальних стоп, причому кожна стопа містить накладені одна на одну підкладки, що утворюють внутрішній об'єм стопи, а реакційну камеру нагрівають за допомогою струмоприймача, який має внутрішню стінку, яка Ш- обмежує реакційну камеру, Ге) при цьому спосіб включає операції впуску газу-реагенту в зону підігріву біля дна печі, підігріву газу-реагенту за допомогою його пропускання через зону підігріву, поділу підігрітого газу-реагенту на множину окремих потоків біля відповідних виводів зони підігріву і спрямування окремих потоків газу-реагенту у відповідні внутрішні об'єми стоп кільцевих підкладок, причому окремі потоки газу-реагенту регулюють, враховуючи місця розташування відповідних стоп підкладок Ф) усередині реакційної камери. ка
16. Спосіб за п. 15, який відрізняється тим, що окремий потік газу-реагенту, що спрямовують у внутрішній об'єм стопи підкладок, яка знаходиться далі від внутрішньої стінки струмоприймача, ніж інша стопа підкладок, во більший за окремий потік газу-реагенту, що спрямовують у внутрішній об'єм цієї іншої стопи підкладок.
17. Спосіб за п. 15, який відрізняється тим, що окремі потоки газу-реагенту регулюють за допомогою сопел з різноманітними поперечними перерізами, що вводяться в отвори, утворені в газорозподільній плиті, яка закриває зверху камеру підігріву газу, розташовану в зоні підігріву газу. б5
UA20041109125A 2002-05-06 2003-05-05 Gas preheater (variants) and method for regulation of gas-reagent distribution in furnace of chemical gas soaking UA79779C2 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US10/139,553 US6572371B1 (en) 2002-05-06 2002-05-06 Gas preheater and process for controlling distribution of preheated reactive gas in a CVI furnace for densification of porous annular substrates
PCT/EP2003/005259 WO2003093531A1 (en) 2002-05-06 2003-05-05 Gas preheater

Publications (1)

Publication Number Publication Date
UA79779C2 true UA79779C2 (en) 2007-07-25

Family

ID=22487231

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
UA20041109125A UA79779C2 (en) 2002-05-06 2003-05-05 Gas preheater (variants) and method for regulation of gas-reagent distribution in furnace of chemical gas soaking

Country Status (13)

Country Link
US (1) US6572371B1 (uk)
EP (1) EP1501963B1 (uk)
JP (1) JP4417831B2 (uk)
KR (1) KR101057215B1 (uk)
CN (1) CN100371494C (uk)
AU (1) AU2003242547C1 (uk)
BR (1) BR0304664B1 (uk)
CA (1) CA2484915C (uk)
IL (1) IL164970A (uk)
MX (1) MXPA04011025A (uk)
RU (1) RU2315821C2 (uk)
UA (1) UA79779C2 (uk)
WO (1) WO2003093531A1 (uk)

Families Citing this family (37)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7476419B2 (en) * 1998-10-23 2009-01-13 Goodrich Corporation Method for measurement of weight during a CVI/CVD process
US6669988B2 (en) * 2001-08-20 2003-12-30 Goodrich Corporation Hardware assembly for CVI/CVD processes
DE60108078T2 (de) * 2001-04-12 2005-12-01 Infineon Technologies Sc300 Gmbh & Co. Ohg Heizungsanlage und Verfahren zur Heizung für einen Reaktor
US6758909B2 (en) * 2001-06-05 2004-07-06 Honeywell International Inc. Gas port sealing for CVD/CVI furnace hearth plates
US6953605B2 (en) * 2001-12-26 2005-10-11 Messier-Bugatti Method for densifying porous substrates by chemical vapour infiltration with preheated gas
US7431585B2 (en) * 2002-01-24 2008-10-07 Applied Materials, Inc. Apparatus and method for heating substrates
US20040253377A1 (en) * 2002-10-24 2004-12-16 Bok Lowell D. Batch and continuous CVI densification furnace
CN1304912C (zh) * 2005-02-21 2007-03-14 西北工业大学 碳/碳复合材料热梯度化学气相渗透过程温度自动控制器
US8057855B1 (en) 2005-05-31 2011-11-15 Goodrich Corporation Non-pressure gradient single cycle CVI/CVD apparatus and method
US7691443B2 (en) * 2005-05-31 2010-04-06 Goodrich Corporation Non-pressure gradient single cycle CVI/CVD apparatus and method
KR100792396B1 (ko) * 2005-10-11 2008-01-08 주식회사 유진테크 파티션 구조형 가열유닛과 이를 이용한 히팅장치
US7811085B2 (en) * 2006-05-04 2010-10-12 Honeywell International Inc. Gas preheater for chemical vapor processing furnace
US7771194B2 (en) * 2006-05-26 2010-08-10 Honeywell International Inc. Gas preheater for chemical vapor processing furnace having circuitous passages
WO2008052923A2 (en) * 2006-10-29 2008-05-08 Messier-Bugatti Method of densifying porous articles
IL198123A0 (en) * 2008-04-18 2009-12-24 Snecma Propulsion Solide A heat treatment oven with inductive heating
JP5730496B2 (ja) * 2009-05-01 2015-06-10 株式会社日立国際電気 熱処理装置、半導体デバイスの製造方法および基板処理方法
US11326255B2 (en) * 2013-02-07 2022-05-10 Uchicago Argonne, Llc ALD reactor for coating porous substrates
FR3018526B1 (fr) * 2014-03-14 2021-06-11 Herakles Installation de densification cvi comprenant une zone de prechauffage a forte capacite
DE102014226138A1 (de) 2014-12-16 2016-06-16 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zum Herstellen einer Vorrichtung mit einer dreidimensionalen magnetischen Struktur
DE102016215617A1 (de) * 2016-08-19 2018-02-22 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zum Herstellen eines Hohlraums mit poröser Struktur
DE102016215616B4 (de) 2016-08-19 2020-02-20 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zum Herstellen einer magnetischen Struktur und Vorrichtung
CN108106412B (zh) * 2017-11-16 2019-10-15 山东道普安制动材料有限公司 一种高效率刹车盘生产设备及应用
CN107779843B (zh) * 2017-12-11 2019-10-08 湖南顶立科技有限公司 一种化学气相沉积炉
CN108588678B (zh) * 2018-05-07 2020-06-09 西安航空制动科技有限公司 一种化学气相沉积炉气体预热装置
US10731252B2 (en) * 2018-05-25 2020-08-04 Rolls-Royce High Temperature Composites Apparatus and method for coating specimens
FR3084672B1 (fr) * 2018-08-03 2020-10-16 Safran Ceram Procede de densification par infiltration chimique en phase gazeuse de substrats annulaires poreux
FR3084892B1 (fr) 2018-08-10 2020-11-06 Safran Ceram Procede de densification par infiltration chimique en phase gazeuse de substrats annulaire poreux
CN110699667A (zh) * 2019-11-25 2020-01-17 美尔森银河新材料(烟台)有限公司 一种炭炭坩埚生产装置
US11111578B1 (en) 2020-02-13 2021-09-07 Uchicago Argonne, Llc Atomic layer deposition of fluoride thin films
US12065738B2 (en) 2021-10-22 2024-08-20 Uchicago Argonne, Llc Method of making thin films of sodium fluorides and their derivatives by ALD
US12000046B1 (en) * 2021-12-29 2024-06-04 Rolls-Royce High Temperature Composites, Inc. Load assemblies for loading parts in a furnace
US11932941B1 (en) 2021-12-29 2024-03-19 Rolls-Royce High Temperature Composites, Inc. Load assemblies for loading parts in a furnace
US12078417B1 (en) 2021-12-29 2024-09-03 Rolls-Royce High Temperature Composites, Inc. Load assemblies for loading parts in a furnace
US11912628B1 (en) 2021-12-29 2024-02-27 Rolls-Royce High Temperature Composites, Inc. Slurry infiltration fixture
US11901169B2 (en) 2022-02-14 2024-02-13 Uchicago Argonne, Llc Barrier coatings
CN114990521A (zh) * 2022-06-22 2022-09-02 湖南九华碳素高科有限公司 一种卧式装炉沉积炉
CN116043193A (zh) * 2022-12-06 2023-05-02 湖南恒升热工机械设备有限公司 一种气相沉积炉

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
ATE172753T1 (de) * 1994-11-16 1998-11-15 Goodrich Co B F Vorrichtung zur druckfeld cvd/cvi, verfahren und produkt
US5480678A (en) 1994-11-16 1996-01-02 The B. F. Goodrich Company Apparatus for use with CVI/CVD processes

Also Published As

Publication number Publication date
RU2004132226A (ru) 2005-06-27
CN100371494C (zh) 2008-02-27
AU2003242547B2 (en) 2008-07-31
EP1501963B1 (en) 2012-08-08
AU2003242547C1 (en) 2009-01-22
MXPA04011025A (es) 2005-02-14
CA2484915C (en) 2010-04-13
US6572371B1 (en) 2003-06-03
JP2005524773A (ja) 2005-08-18
IL164970A0 (en) 2005-12-18
CN1650042A (zh) 2005-08-03
KR101057215B1 (ko) 2011-08-16
AU2003242547A1 (en) 2003-11-17
EP1501963A1 (en) 2005-02-02
CA2484915A1 (en) 2003-11-13
JP4417831B2 (ja) 2010-02-17
KR20040108781A (ko) 2004-12-24
WO2003093531A1 (en) 2003-11-13
RU2315821C2 (ru) 2008-01-27
BR0304664A (pt) 2004-08-03
IL164970A (en) 2010-06-16
BR0304664B1 (pt) 2013-07-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
UA79779C2 (en) Gas preheater (variants) and method for regulation of gas-reagent distribution in furnace of chemical gas soaking
JP3815796B2 (ja) 環形状の積重ねで配された多孔性基材を強化するための化学気相浸透法
JP4495970B2 (ja) 化学的蒸気浸透による基材の緻密化方法および装置
JP4426302B2 (ja) 化学的蒸気浸透によって多孔質基材を緻密化するための方法と装置
JP4960264B2 (ja) 化学蒸気浸透により薄い多孔質基体を高密度化する方法、及び当該基体のローディング装置
JP3759166B2 (ja) Cvi/cvdプロセスに使用するための装置
EP1728889A2 (en) CVI apparatus and method
MX2014003617A (es) Un dispositivo para cargar sustratos porosos de forma tridimensional a fin de ser densificados mediante infiltracion quimica de vapor en flujo dirigido.
US20210261471A1 (en) Method for densifying porous annular substrates by chemical vapour infiltration
KR20000049264A (ko) 증기상의 화학적 침투에 의한 고리형 적층체 내에 넣어진 기질을 온도구배로 고밀도화시키는 방법
US8133532B2 (en) Method of densifying porous articles
US11549176B2 (en) Method for densifying porous annular substrates by chemical vapour infiltration