RU2004132226A - Подогреватель газа - Google Patents

Подогреватель газа Download PDF

Info

Publication number
RU2004132226A
RU2004132226A RU2004132226/02A RU2004132226A RU2004132226A RU 2004132226 A RU2004132226 A RU 2004132226A RU 2004132226/02 A RU2004132226/02 A RU 2004132226/02A RU 2004132226 A RU2004132226 A RU 2004132226A RU 2004132226 A RU2004132226 A RU 2004132226A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
gas
current collector
bottom wall
substrates
distribution plate
Prior art date
Application number
RU2004132226/02A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2315821C2 (ru
Inventor
Эрик СИОН (FR)
Эрик СИОН
Иван БОДРИ (FR)
Иван Бодри
Original Assignee
Мессье-Бугатти (Fr)
Мессье-Бугатти
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Мессье-Бугатти (Fr), Мессье-Бугатти filed Critical Мессье-Бугатти (Fr)
Publication of RU2004132226A publication Critical patent/RU2004132226A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2315821C2 publication Critical patent/RU2315821C2/ru

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/04Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/22Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
    • C23C16/26Deposition of carbon only
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/04Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C16/045Coating cavities or hollow spaces, e.g. interior of tubes; Infiltration of porous substrates

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Furnace Details (AREA)

Claims (17)

1. Подогреватель газа для печи химической газовой пропитки с целью уплотнения кольцевых пористых подложек, устанавливаемых в виде множества вертикальных кольцевых стопок, содержащей токоприемник, который имеет внутреннюю боковую стенку, ограничивающую зону подогрева газа и реакционную камеру внутри печи, и донную стенку, а также, по меньшей мере, одно сквозное отверстие для ввода газа через донную стенку токоприемника, причем подогреватель газа содержит: кольцо из теплопроводного материала, опирающееся на донную стенку токоприемника и ограничивающее камеру подогрева газа, с, по меньшей мере, одним отверстием для ввода газа в камеру подогрева газа, теплообменник, расположенный в камере подогрева газа, опирающуюся на кольцо газораспределительную плиту, закрывающую сверху камеру подогрева газа и снабженную множеством отверстий для подогретого газа, грузовую плиту, несущую стопки кольцевых подложек, подлежащих загрузке в реакционную камеру для их уплотнения, снабженную множеством отверстий, сообщающихся с соответствующими отверстиями газораспределительной плиты и согласованных по положению с внутренними объемами соответствующих стопок кольцевых подложек, и сопла, установленные в каналах, которые служат для установления сообщения между зоной подогрева газа и внутренними объемами соответствующих стопок кольцевых подложек, и предназначенные для регулирования потоков подогретого газа, поступающих в эти внутренние объемы.
2. Подогреватель газа по п.1, отличающийся тем, что газораспределительная плита и грузовая плита образованы одной и той же плитой.
3. Подогреватель газа по п.1, отличающийся тем, что грузовая плита выполнена отдельно от газораспределительной плиты и расположена над ней, причем предусмотрено множество труб для соединения отверстий газораспределительной плиты с соответствующими отверстиями грузовой плиты.
4. Подогреватель газа по п.3, отличающийся тем, что указанные трубы снабжены вставками, изготовленными из теплопроводного материала, для теплообмена с газом, протекающим в трубах.
5. Подогреватель газа по п.1, отличающийся тем, что грузовая плита опирается на газораспределительную плиту.
6. Подогреватель газа по п.1, отличающийся тем, что сопла для регулирования потоков вставлены в отверстия газораспределительной плиты.
7. Подогреватель газа по п.1, отличающийся тем, что указанное кольцо образовано цельным массивным телом, изготовленным из теплопроводного материала.
8. Подогреватель газа по п.1, отличающийся тем, что теплообменник содержит множество отстоящих одна от другой перфорированных пластин, окруженных кольцом и расположенных, по существу, горизонтально между донной стенкой токоприемника и газораспределительной плитой, причем пластины теплообменника изготовлены из пленочного теплопроводного материала.
9. Подогреватель газа по п.8, отличающийся тем, что пластины теплообменника выполнены, по существу, круглыми и удерживаются на расстоянии одна от другой с помощью помещенных между ними радиально расположенных прокладок.
10. Подогреватель газа по п.1, отличающийся тем, что теплообменник содержит множество отстоящих одна от другой перфорированных пластин, окруженных кольцом и расположенных, по существу, горизонтально между донной стенкой токоприемника и газораспределительной плитой, причем пластины теплообменника содержат, по меньшей мере, одну пару расположенных непосредственно одна над другой пластин, одна из которых имеет перфорацию только в своей центральной части, а другая имеет перфорацию только в своей периферийной части.
11. Подогреватель газа для печи химической газовой пропитки с целью уплотнения кольцевых пористых подложек, устанавливаемых в виде множества вертикальных кольцевых стопок, содержащей токоприемник, который имеет внутреннюю боковую стенку, ограничивающую зону подогрева газа и реакционную камеру внутри печи, и донную стенку, а также, по меньшей мере, одно сквозное отверстие для ввода газа через донную стенку токоприемника, причем подогреватель газа содержит: кольцо из теплопроводного материала, опирающееся на донную стенку токоприемника и ограничивающее камеру подогрева газа, с, по меньшей мере, одним отверстием для ввода газа в камеру подогрева газа, опирающуюся на кольцо газораспределительную плиту, закрывающую сверху камеру подогрева газа и снабженную множеством отверстий для подогретого газа, грузовую плиту, несущую стопки кольцевых подложек, подлежащих загрузке в реакционную камеру для их уплотнения, снабженную множеством отверстий, сообщающихся с соответствующими отверстиями газораспределительной плиты и согласованных по положению с внутренними объемами соответствующих стопок кольцевых подложек, и теплообменник, содержащий множество отстоящих одна от другой и, по существу, круглых перфорированных пластин, окруженных кольцом и расположенных, по существу, горизонтально между донной стенкой токоприемника и газораспределительной плитой, причем пластины теплообменника изготовлены из пленочного теплопроводного материала и удерживаются на расстоянии одна от другой с помощью помещенных между ними радиально расположенных прокладок.
12. Подогреватель газа для печи химической газовой пропитки с целью уплотнения кольцевых пористых подложек, устанавливаемых в виде множества вертикальных кольцевых стопок, содержащей токоприемник, который имеет внутреннюю боковую стенку, ограничивающую зону подогрева газа и реакционную камеру внутри печи, и донную стенку, а также, по меньшей мере, одно сквозное отверстие для ввода газа через донную стенку токоприемника, причем подогреватель газа содержит: кольцо из теплопроводного материала, опирающееся на донную стенку токоприемника и ограничивающее камеру подогрева газа, с, по меньшей мере, одним отверстием для ввода газа в камеру подогрева газа, опирающуюся на кольцо газораспределительную плиту, закрывающую сверху камеру подогрева газа и снабженную множеством отверстий для подогретого газа, грузовую плиту, несущую стопки кольцевых подложек, подлежащих загрузке в реакционную камеру для их уплотнения, снабженную множеством отверстий, сообщающихся с соответствующими отверстиями газораспределительной плиты и согласованных по положению с внутренними объемами соответствующих стопок кольцевых подложек, и теплообменник, содержащий множество отстоящих одна от другой перфорированных пластин, окруженных кольцом и расположенных, по существу, горизонтально между донной стенкой токоприемника и газораспределительной плитой, причем пластины теплообменника содержат, по меньшей мере, одну пару расположенных непосредственно одна над другой пластин, одна из которых имеет перфорацию только в своей центральной части, а другая имеет перфорацию только в своей периферийной части.
13. Подогреватель газа для печи химической газовой пропитки с целью уплотнения кольцевых пористых подложек, устанавливаемых в виде множества вертикальных кольцевых стопок, содержащей токоприемник, который имеет внутреннюю боковую стенку, ограничивающую зону подогрева газа и реакционную камеру внутри печи, и донную стенку, а также, по меньшей мере, одно сквозное отверстие для ввода газа через донную стенку токоприемника, причем подогреватель газа содержит: кольцо из теплопроводного материала, опирающееся на донную стенку токоприемника и ограничивающее камеру подогрева газа, с, по меньшей мере, одним отверстием для ввода газа в камеру подогрева газа, опирающуюся на кольцо газораспределительную плиту, закрывающую сверху камеру подогрева газа и снабженную множеством отверстий для подогретого газа, грузовую плиту, несущую стопки кольцевых подложек, подлежащих загрузке в реакционную камеру для их уплотнения, снабженную множеством отверстий, сообщающихся с соответствующими отверстиями газораспределительной плиты и согласованных по положению с внутренними объемами соответствующих стопок кольцевых подложек, и множество отстоящих одна от другой перфорированных пластин, окруженных кольцом и расположенных, по существу, горизонтально между донной стенкой токоприемника и газораспределительной плитой, причем указанные пластины содержат, по меньшей мере, одну пару расположенных непосредственно одна над другой пластин, одна из которых имеет перфорацию только в своей центральной части, а другая имеет перфорацию только в своей периферийной части, при этом перфорированные пластины изготовлены из пленочного теплопроводного материала и удерживаются на расстоянии одна от другой с помощью помещенных между ними радиально расположенных прокладок.
14. Подогреватель газа для печи химической газовой пропитки с целью уплотнения кольцевых пористых подложек, устанавливаемых в виде множества вертикальных кольцевых стопок, содержащей токоприемник, который имеет внутреннюю боковую стенку, ограничивающую зону подогрева газа и реакционную камеру внутри печи, и донную стенку, а также, по меньшей мере, одно сквозное отверстие для ввода газа через донную стенку токоприемника, причем подогреватель газа содержит: кольцо из теплопроводного материала, опирающееся на донную стенку токоприемника и ограничивающее камеру подогрева газа, с, по меньшей мере, одним отверстием для ввода газа в камеру подогрева газа, теплообменник, расположенный в камере подогрева газа и содержащий множество отстоящих одна от другой перфорированных пластин, окруженных кольцом и расположенных, по существу, горизонтально между донной стенкой токоприемника и газораспределительной плитой, причем пластины теплообменника содержат, по меньшей мере, одну пару расположенных непосредственно одна над другой пластин, одна из которых имеет перфорацию только в своей центральной части, а другая имеет перфорацию только в своей периферийной части, при этом пластины теплообменника изготовлены из пленочного теплопроводного материала и удерживаются на расстоянии одна от другой с помощью помещенных между ними радиально расположенных прокладок, опирающуюся на кольцо газораспределительную плиту, закрывающую сверху камеру подогрева газа и снабженную множеством отверстий для подогретого газа, грузовую плиту, несущую стопки кольцевых подложек, подлежащих загрузке в реакционную камеру для их уплотнения, снабженную множеством отверстий, сообщающихся с соответствующими отверстиями газораспределительной плиты и согласованных по положению с внутренними объемами соответствующих стопок кольцевых подложек, и сопла, установленные в каналах, которые служат для установления сообщения между зоной подогрева газа и внутренними объемами соответствующих стопок кольцевых подложек, и предназначенные для регулирования потоков подогретого газа, поступающих в эти внутренние объемы.
15. Способ регулирования распределения подогретого газа-реагента в печи химической газовой пропитки для уплотнения кольцевых пористых подложек, загруженных в реакционную камеру печи в виде множества вертикальных стопок, причем каждая стопка содержит наложенные друг на друга подложки, образующие внутренний объем стопки, а реакционную камеру нагревают с помощью токоприемника, имеющего внутреннюю стенку, ограничивающую реакционную камеру, при этом способ включает операции впуска газа-реагента в зону подогрева у дна печи, подогрева газа-реагента посредством его пропускания через зону подогрева, разделения подогретого газа-реагента на множество отдельных потоков у соответствующих выводов зоны подогрева и направления отдельных потоков газа-реагента в соответствующие внутренние объемы стопок кольцевых подложек, причем отдельные потоки газа-реагента регулируют в зависимости от местоположения соответствующих стопок подложек внутри реакционной камеры.
16. Способ по п.15, отличающийся тем, что отдельный поток газа-реагента, направляемый во внутренний объем стопки подложек, находящейся дальше от внутренней стенки токоприемника, чем другая стопка подложек, больше отдельного потока газа-реагента, направляемого во внутренний объем этой другой стопки подложек.
17. Способ по п.15, отличающийся тем, что отдельные потоки газа-реагента регулируют посредством сопел с различными поперечными сечениями, вводимых в отверстия, образованные в газораспределительной плите, закрывающей сверху камеру подогрева газа, расположенную в зоне подогрева газа.
RU2004132226/02A 2002-05-06 2003-05-05 Подогреватель газа RU2315821C2 (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US10/139,553 US6572371B1 (en) 2002-05-06 2002-05-06 Gas preheater and process for controlling distribution of preheated reactive gas in a CVI furnace for densification of porous annular substrates
US10/139,553 2002-05-06

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2004132226A true RU2004132226A (ru) 2005-06-27
RU2315821C2 RU2315821C2 (ru) 2008-01-27

Family

ID=22487231

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2004132226/02A RU2315821C2 (ru) 2002-05-06 2003-05-05 Подогреватель газа

Country Status (13)

Country Link
US (1) US6572371B1 (ru)
EP (1) EP1501963B1 (ru)
JP (1) JP4417831B2 (ru)
KR (1) KR101057215B1 (ru)
CN (1) CN100371494C (ru)
AU (1) AU2003242547C1 (ru)
BR (1) BR0304664B1 (ru)
CA (1) CA2484915C (ru)
IL (1) IL164970A (ru)
MX (1) MXPA04011025A (ru)
RU (1) RU2315821C2 (ru)
UA (1) UA79779C2 (ru)
WO (1) WO2003093531A1 (ru)

Families Citing this family (37)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7476419B2 (en) * 1998-10-23 2009-01-13 Goodrich Corporation Method for measurement of weight during a CVI/CVD process
US6669988B2 (en) * 2001-08-20 2003-12-30 Goodrich Corporation Hardware assembly for CVI/CVD processes
DE60108078T2 (de) * 2001-04-12 2005-12-01 Infineon Technologies Sc300 Gmbh & Co. Ohg Heizungsanlage und Verfahren zur Heizung für einen Reaktor
US6758909B2 (en) * 2001-06-05 2004-07-06 Honeywell International Inc. Gas port sealing for CVD/CVI furnace hearth plates
US6953605B2 (en) * 2001-12-26 2005-10-11 Messier-Bugatti Method for densifying porous substrates by chemical vapour infiltration with preheated gas
US7431585B2 (en) * 2002-01-24 2008-10-07 Applied Materials, Inc. Apparatus and method for heating substrates
US20040253377A1 (en) * 2002-10-24 2004-12-16 Bok Lowell D. Batch and continuous CVI densification furnace
CN1304912C (zh) * 2005-02-21 2007-03-14 西北工业大学 碳/碳复合材料热梯度化学气相渗透过程温度自动控制器
US8057855B1 (en) 2005-05-31 2011-11-15 Goodrich Corporation Non-pressure gradient single cycle CVI/CVD apparatus and method
US7691443B2 (en) * 2005-05-31 2010-04-06 Goodrich Corporation Non-pressure gradient single cycle CVI/CVD apparatus and method
KR100792396B1 (ko) * 2005-10-11 2008-01-08 주식회사 유진테크 파티션 구조형 가열유닛과 이를 이용한 히팅장치
US7811085B2 (en) * 2006-05-04 2010-10-12 Honeywell International Inc. Gas preheater for chemical vapor processing furnace
US7771194B2 (en) * 2006-05-26 2010-08-10 Honeywell International Inc. Gas preheater for chemical vapor processing furnace having circuitous passages
WO2008052923A2 (en) * 2006-10-29 2008-05-08 Messier-Bugatti Method of densifying porous articles
IL198123A0 (en) * 2008-04-18 2009-12-24 Snecma Propulsion Solide A heat treatment oven with inductive heating
JP5730496B2 (ja) * 2009-05-01 2015-06-10 株式会社日立国際電気 熱処理装置、半導体デバイスの製造方法および基板処理方法
US11326255B2 (en) * 2013-02-07 2022-05-10 Uchicago Argonne, Llc ALD reactor for coating porous substrates
FR3018526B1 (fr) * 2014-03-14 2021-06-11 Herakles Installation de densification cvi comprenant une zone de prechauffage a forte capacite
DE102014226138A1 (de) 2014-12-16 2016-06-16 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zum Herstellen einer Vorrichtung mit einer dreidimensionalen magnetischen Struktur
DE102016215617A1 (de) * 2016-08-19 2018-02-22 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zum Herstellen eines Hohlraums mit poröser Struktur
DE102016215616B4 (de) 2016-08-19 2020-02-20 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zum Herstellen einer magnetischen Struktur und Vorrichtung
CN108106412B (zh) * 2017-11-16 2019-10-15 山东道普安制动材料有限公司 一种高效率刹车盘生产设备及应用
CN107779843B (zh) * 2017-12-11 2019-10-08 湖南顶立科技有限公司 一种化学气相沉积炉
CN108588678B (zh) * 2018-05-07 2020-06-09 西安航空制动科技有限公司 一种化学气相沉积炉气体预热装置
US10731252B2 (en) * 2018-05-25 2020-08-04 Rolls-Royce High Temperature Composites Apparatus and method for coating specimens
FR3084672B1 (fr) * 2018-08-03 2020-10-16 Safran Ceram Procede de densification par infiltration chimique en phase gazeuse de substrats annulaires poreux
FR3084892B1 (fr) 2018-08-10 2020-11-06 Safran Ceram Procede de densification par infiltration chimique en phase gazeuse de substrats annulaire poreux
CN110699667A (zh) * 2019-11-25 2020-01-17 美尔森银河新材料(烟台)有限公司 一种炭炭坩埚生产装置
US11111578B1 (en) 2020-02-13 2021-09-07 Uchicago Argonne, Llc Atomic layer deposition of fluoride thin films
US12065738B2 (en) 2021-10-22 2024-08-20 Uchicago Argonne, Llc Method of making thin films of sodium fluorides and their derivatives by ALD
US12000046B1 (en) * 2021-12-29 2024-06-04 Rolls-Royce High Temperature Composites, Inc. Load assemblies for loading parts in a furnace
US11932941B1 (en) 2021-12-29 2024-03-19 Rolls-Royce High Temperature Composites, Inc. Load assemblies for loading parts in a furnace
US12078417B1 (en) 2021-12-29 2024-09-03 Rolls-Royce High Temperature Composites, Inc. Load assemblies for loading parts in a furnace
US11912628B1 (en) 2021-12-29 2024-02-27 Rolls-Royce High Temperature Composites, Inc. Slurry infiltration fixture
US11901169B2 (en) 2022-02-14 2024-02-13 Uchicago Argonne, Llc Barrier coatings
CN114990521A (zh) * 2022-06-22 2022-09-02 湖南九华碳素高科有限公司 一种卧式装炉沉积炉
CN116043193A (zh) * 2022-12-06 2023-05-02 湖南恒升热工机械设备有限公司 一种气相沉积炉

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
ATE172753T1 (de) * 1994-11-16 1998-11-15 Goodrich Co B F Vorrichtung zur druckfeld cvd/cvi, verfahren und produkt
US5480678A (en) 1994-11-16 1996-01-02 The B. F. Goodrich Company Apparatus for use with CVI/CVD processes

Also Published As

Publication number Publication date
CN100371494C (zh) 2008-02-27
AU2003242547B2 (en) 2008-07-31
EP1501963B1 (en) 2012-08-08
AU2003242547C1 (en) 2009-01-22
MXPA04011025A (es) 2005-02-14
UA79779C2 (en) 2007-07-25
CA2484915C (en) 2010-04-13
US6572371B1 (en) 2003-06-03
JP2005524773A (ja) 2005-08-18
IL164970A0 (en) 2005-12-18
CN1650042A (zh) 2005-08-03
KR101057215B1 (ko) 2011-08-16
AU2003242547A1 (en) 2003-11-17
EP1501963A1 (en) 2005-02-02
CA2484915A1 (en) 2003-11-13
JP4417831B2 (ja) 2010-02-17
KR20040108781A (ko) 2004-12-24
WO2003093531A1 (en) 2003-11-13
RU2315821C2 (ru) 2008-01-27
BR0304664A (pt) 2004-08-03
IL164970A (en) 2010-06-16
BR0304664B1 (pt) 2013-07-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2004132226A (ru) Подогреватель газа
AU2002313020B2 (en) Improved device for exchange and/or reaction between fluids
US4438728A (en) Multi-stage hot water heating apparatus
KR101357666B1 (ko) 두 개의 1차 다발과 하나의 2차 다발을 포함하는 응축열교환기
JPH03113295A (ja) 管束式熱交換器
JPH0339207B2 (ru)
WO2009099404A2 (en) High efficiency combustion stove
RU2002118118A (ru) Теплообменный агрегат и способ контролирования жидкости в теплообменном агрегате
ATE287071T1 (de) Kessel
JPH0351696A (ja) 積層型熱交換器
JP2009516077A (ja) Ald反応容器
PL200788B1 (pl) Zawór i regeneracyjny utleniacz cieplny
US4280450A (en) Liquid heating apparatus
US20070275339A1 (en) Gas preheater for chemical vapor processing furnace having circuitous passages
US20020134370A1 (en) Heater for hydrogen storage system
CN112275246B (zh) 一种热循环化工反应釜
JP2008157486A (ja) 蓄熱型排気処理装置
GB2044900A (en) Incinerator and method for treating gases for removing impurities
KR200421142Y1 (ko) 연소가스의 다중 이용통로가 형성된 보일러
JP5450869B1 (ja) 蓄熱式バーナの蓄熱部構造
US4433723A (en) Heat exchanger method and apparatus
GB2279446A (en) Oil-fired boiler
US867905A (en) Furnace.
JP2003513221A (ja) 再生式再燃焼装置
AU671788B1 (en) Gas quick water heater

Legal Events

Date Code Title Description
PC43 Official registration of the transfer of the exclusive right without contract for inventions

Effective date: 20130610

MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20150506