TWM630088U

TWM630088U - 離線校驗模組

Info

Publication number: TWM630088U
Application number: TW110215045U
Authority: TW
Inventors: 張鴻明
Original assignee: 川寶科技股份有限公司
Priority date: 2021-12-17
Filing date: 2021-12-17
Publication date: 2022-08-01

Abstract

本創作提供一種離線校驗模組，適於校驗一光學裝置，包含一承載台、一承載座、一位移調整裝置與一光學擷取裝置。承載座配置於承載台上且適於承載光學裝置。位移調整裝置配置於承載台上。光學擷取裝置配置於位移調整裝置上。當光學裝置配置於承載座上時，位移調整裝置適於調整光學擷取裝置之一位移，使得光學擷取裝置的一光學擷取鏡頭對應於光學裝置之一出光鏡頭且位於預定的一收光位置。

Description

離線校驗模組

本創作是有關於一種校驗模組，且特別是有關於一種離線校驗模組。

圖1繪示習知技術的光刻機台的俯視圖。請參考圖1，習知技術的光刻機台100具有多個並排的光刻裝置110，其配置於一橫臂120上。在這些光刻裝置110對於承載台130上的基板10進行光蝕刻製程之前，這些光刻裝置110必須先完成校驗的工作。這些光刻裝置110的校驗過程如下。首先，所有光刻裝置110必須全部從橫臂120上拆卸下來。接著，針對光刻裝置110的其中之一先進行調校，亦即將此光刻裝置110的外殼112的一部分拆離，以手動方式調整此光刻裝置110的內部元件。接著，將拆離的外殼112的一部分組裝回此光刻裝置110，並且將此光刻裝置110組裝回橫臂120上。接著，調整此光刻裝置110的外部元件。接著，藉由位於承載台130的一邊緣上的UV鏡頭140對於此光刻裝置110所發出之光束進行收光，以確認此光刻裝置110所發出之光束的光路的光學性質是否符合要求。如此重複上述步驟，直到此光刻裝置110的光學性質，例如圖像清晰度、均勻度、影像平面度……等達到所需要求時。

當上述光刻裝置110的其中之一調整完畢時，此光刻裝置110就會保留在橫臂120上的預定位置上。接著，上述光刻裝置110的其中另一將重複上述步驟進行調校，如此直到所有光刻裝置110完成調校並且都組裝在橫臂120上。由上述可知，這些光刻裝置110的其中之一進行調校時，常常需要不斷地將此光刻裝置110拆離(以進行內部元件的不斷微調)與組裝回橫臂120(以藉由UV鏡頭140對於光刻裝置110的光學性質的重複確認)，如此不僅耗時費力，而且光刻機台100也因為這些光刻裝置110進行調校而無法作其他有效地利用。

本創作的一目的是提供一種離線校驗模組，方便使用者校驗光學裝置(例如為光刻裝置)。此外，在進行校驗作業時，光學機台(例如為光刻機台)仍可進行作業，以提升光學機台的使用效率。

在本創作一實施例中，上述承載座包含一底座與一可拆卸式承載件。底座配置於承載台上。可拆卸式承載件係可拆卸地配置於底座上。可拆卸式承載件適於承載光學裝置。

在本創作一實施例中，上述位移調整裝置是一個三維位移調整裝置。

在本創作一實施例中，上述光學擷取鏡頭為一紫外光擷取鏡頭。

在本創作一實施例中，上述光學裝置為一光刻裝置。

請參考圖2，其繪示本創作一實施例之一種正在承載光學裝置的離線校驗模組的側視圖。本實施例之離線校驗模組20，適於校驗一光學裝置210(例如為一光刻裝置)，當離線校驗模組20並未用來進行校驗時，是可以不承載任何光學裝置210。離線校驗模組20包含一承載台22、一承載座24、一位移調整裝置26與一光學擷取裝置28。承載座24配置於承載台22上且適於承載光學裝置210。位移調整裝置26配置於承載台22上，且光學擷取裝置28配置於位移調整裝置26上。

在本實施例中，光學擷取裝置28可包含一光學擷取鏡頭28a(例如紫外光擷取鏡頭)，且承載座24可包含一底座24a與一可拆卸式承載件24b。底座24a配置於承載台22上。可拆卸式承載件24b係可拆卸地配置於底座24a上。此外，可拆卸式承載件24b適於承載光學裝置210。例如為光刻裝置的光學裝置210在本實施例中例如具有倍率為0.8倍的出光鏡頭212。然而，在其他實施例中，例如為光刻裝置的光學裝置的出光鏡頭可具有其他倍率，例如1.5倍的倍率或2.4倍的倍率，所以在進行校驗時(詳見後述)，可拆卸式承載件24b可替換為其他不同高度(亦即在Z軸方向上的高度有所不同)的可拆卸式承載件，使得後續的校驗過程得以(更有效率地)進行。

在本實施例中，位移調整裝置26例如是一個三維位移調整裝置，其可具有相對於一基座26a而可沿著Y軸移動的一第一移動件26b、相對於第一移動件26b而可沿著X軸移動的一第二移動件26c，以及可調整光學擷取裝置28沿著Z軸之位移的一高度調整件26d。

離線校驗模組20對於光學裝置210的校驗過程說明如下。首先，將光學裝置210從一光學機台(例如是光刻機台，但未繪示)上拆離。接著，選擇適當高度的可拆卸式承載件24b，將其固定地配置於底座24a上，並將光學裝置210配置於可拆卸式承載件24b上。接著，針對光學裝置210的外殼的一部分拆離，以手動方式調整此光學裝置210的內部元件。接著，調整光學裝置210的外部元件。接著，例如藉由位移調整裝置26的第一移動件26b、第二移動件26c或/與高度調整件26d來調整光學擷取裝置28在三維方向(亦即，Y軸、X軸與Z軸三個方向)上的各自的位移，使得光學擷取裝置28的光學擷取鏡頭28a對應於光學裝置210之出光鏡頭212且位於預定的一收光位置(例如，出光鏡頭212的一焦點上)。接著，啟動光學裝置210，並且藉由光學擷取裝置28的光學擷取鏡頭28a的擷取以及藉由電性連接至光學擷取裝置28並接收光學擷取鏡頭28a所擷取的資料的一外部電腦(未繪示)的處理，以校驗光學裝置210的光學性質(例如圖像清晰度、均勻度、影像平面度……等)。

如果光學裝置210的某些光學性質並未符合預期的標準，則關閉光學裝置210，並且進一步調整光學裝置210的內部元件或外部元件。然後，重新啟動光學裝置210，並重新校驗光學裝置210的光學性質，如此重複直到光學裝置210的所有光學性質皆符合預期的標準為止。

基於上述，與在習知的光刻機台上校驗的方式相較，本創作實施例的離線校驗模組在校驗過程中，在光學裝置校驗完成前不必將光學裝置重複拆離與組裝回光學機台，因此較為省時省力。此外，在光學裝置校驗的過程中，原本的光學機台可搭配其他已經完成較驗的光學裝置進行其他作業，使得光學機台可以更有效率地運用。

10:基板

20:離線校驗模組

22:承載台

24:承載座

24a:底座

24b:可拆卸式承載件

26:位移調整裝置

26a:基座

26b:第一移動件

26c:第二移動件

26d:高度調整件

28:光學擷取裝置

28a:光學擷取鏡頭

100:光刻機台

110:光刻裝置

112:外殼

120:橫臂

130:承載台

140:UV鏡頭

210:光學裝置

212:出光鏡頭

圖1繪示習知技術的光刻機台的俯視圖。

圖2繪示本創作一實施例之一種正在承載光學裝置的離線校驗模組的側視圖。