TWM582746U - Wet process equipment - Google Patents

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TWM582746U
TWM582746U TW108205891U TW108205891U TWM582746U TW M582746 U TWM582746 U TW M582746U TW 108205891 U TW108205891 U TW 108205891U TW 108205891 U TW108205891 U TW 108205891U TW M582746 U TWM582746 U TW M582746U
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呂信達
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登泰電路機械股份有限公司
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Abstract

本新型係有關一種濕製程設備,其於機架設置包括有:一基板輸送裝置、一加工液增壓吸引裝置以及一加工液增壓噴灑裝置:而利用加工液增壓吸引裝置之第一供液泵自加工液儲槽內抽吸加工液,加工液經由第一供液主管、第一供液支管與注液管來到吸引筒之縱向通道,加工液接著通過第一增壓器之第一內管體,而由第一噴流口噴向第一增壓通道,加工液在噴出第一增壓通道時會在吸液口形成極大的負壓,致使吸液管透過底面的複數個吸嘴快速吸引噴附在基板頂面的加工液:而且,利用加工液增壓噴灑裝置之第二供液泵自加工液儲槽內抽吸加工液,加工液經由第二供液主管、第二供液支管來到與噴液管內,加工液接著通過第二增壓器之第二內管體,而由第二噴流口噴向第二增壓通道,加工液在噴出第二增壓通道時會在第二外環體底部形成極大的負壓,大量吸引外部的空氣而與加工液混合,致使噴嘴噴出的加工液粒徑得以自然微小化。

Description

濕製程設備
本新型係有關一種濕製程設備,尤指一種設置第一增壓器使加工液產生三倍大的噴射壓力,而形成極大的負壓快速吸引噴附在基板頂面加工液,且設置第二增壓器使加工液產生三倍大的噴射壓力,而形成極大的中空負壓大量吸引外部空氣而與加工液自然混合成粒徑微小化加工液之設計者。
按,濕製程設備係為對印刷電路板(軟板丶單面板、雙面板及多層板等)、液晶顯示玻璃板、銘板或不鏽鋼導線板等(簡稱基板)利用噴灑化學加工液進行加工的設備,諸如利用加工液噴灑裝置噴灑蝕刻液對印刷電路板上未設有保護層的銅箔部位進行蝕刻加工,使該基板上的銅箔或金屬導電呈現出電路的圖樣,或是用於噴灑顯影液進行顯影加工;其中,若濕製程設備的基板輸送裝置為水平式,則還需在基板輸送裝置的上方配設有加工液吸引裝置,用以將噴附於基板頂面的舊加工液吸引去除,俾讓基板頂面能夠持續接觸到新噴灑出來的加工(蝕刻、顯影)液,維持加工板面不積水液可更均勻地增進加工(蝕刻、顯影)品質。
次按,TWI539876B(CN103046049B) 揭露一種蝕刻方法及蝕刻裝置,其加工(蝕刻)液吸引裝置係設置有覆蓋基板全寬的複數支吸引管,各吸引管的下面形成複數個開縫狀吸引噴嘴,各吸引管透過吸引管路而被連接在設於循環管路之途中的射出器的吸引口,循環管路兩端與蝕刻液儲槽相連通,在循環管路途中設有循環泵,而由循環泵汲出蝕刻液儲槽內的蝕刻液,形成為以射出器施加壓力的狀態,而再次送回至蝕刻液儲槽,蝕刻液在通過射出器時會讓將射出器的吸引口形成為負壓,因此被噴附在基板頂面的蝕刻液係由吸引噴嘴通過吸引管路而被吸引至蝕刻液儲槽。
然而,前揭專利案之加工(蝕刻)液吸引裝置,其射出器僅是單純的施加壓力致使射出器的吸引口形成為負壓,射出器所產生的負壓吸引力有限,致使對蝕刻液的吸引效果並不高;再者,由於前揭專利案之加工(蝕刻)液吸引裝置,其連接在射出器吸引口與各吸引管的吸引管路具有一段揚程,對於蝕刻液的吸引效果會予以減損:此外,濕製程設備之加工液噴灑裝置,廣泛使用單流體噴嘴對基板噴射加工液,而單流體噴嘴噴射出的加工液因粒徑大,會有加工品質的精細度受限的問題,故有使用二流體噴嘴混合噴射出加工液與壓縮空氣,可使加工液粒徑微小化,提升加工品質的精細度,但二流體噴嘴另有額外設置壓縮空氣輸送管線與耗費壓縮空氣的問題。
本新型之主要目的,係欲解決先前技術對於加工液吸引效果不佳之問題,而具有提升加工液吸引效果之功效。
本新型之另一目的,則欲解決先前技術必須額外設置壓縮空氣輸送管線與耗費壓縮空氣致使加工液粒徑微小化之問題,而具有無需耗費壓縮空氣即可使加工液粒徑微小化之功效。
本新型之又一目的,乃具有加工液噴灑均勻且避免加工液噴灑死角之功效。
本新型之再一目的,遂具有節能之功效。
為達上述功效,本新型之結構特徵,係於機架設置包括有:一基板輸送裝置:一加工液增壓吸引裝置,將複數支吸液管與複數支注液管跨設於該基板輸送裝置上方,致使該吸液管貼近該基板輸送裝置所輸送之被加工基板,該吸液管底面設有複數個吸嘴,而該注液管跨設於該吸液管上方:並將複數對吸引筒設置於各該吸液管與各該注液管兩端,各該吸引筒具有一縱向通道、一注液口與一吸液口,該縱向通道頂端為封閉狀,該注液口橫向接通該縱向通道且與該注液管結合,該吸液口橫向接通該縱向通道且與該吸液管結合,並將複數對第一增壓器設置於各對吸引筒內部,各該第一增壓器將一第一外環體設置於該縱向通道內,該第一外環體之頂緣低於該注液口之底緣,該第一外環體之底緣高於吸液口之底緣,該第一外環體之底部設為縮口狀,該第一外環體之內部設置一第一內管體,該第一內管體之底部相對該第一外環體之底部設為封閉倒錐狀,而於該第一外環體之下半部內周緣與該第一內管體之下半部外周緣之間留設有第一增壓通道,該第一內管體之底部相對該第一增壓通道設有數個第一噴流口;並將複數支第一供液支管連接各該注液管,各該第一供液支管連接至一第一供液主管,該第一供液主管頭端位於濕製程設備之加工液儲槽內,該第一供液主管尾端為封閉狀,該第一供液主管設有第一供液泵:以及一加工液增壓噴灑裝置,將至少一噴灑盤設置於該加工液增壓吸引裝置上方,該噴灑盤將複數支噴液管安裝於一框架內,各該噴液管各安裝有複數個第二增壓器;各該第二增壓器將一第二內管體頭部結合於該噴液管,該第二內管體之底部為封閉倒錐狀,該第二內管體外周緣結合一第二外環體,該第二外環體之內部相對該第二內管體之底部設為頸縮狀,而於該第二外環體包含頸縮處之中段部內周緣與該第二內管體之下半部外周緣之間留設有第二增壓通道,該第二內管體之底部相對該第二增壓通道設有數個第二噴流口,且將複數個噴嘴結合於各該第二增壓器之第二外環體底部;並將複數支第二供液支管連接各該噴液管,各該第二供液支管連接至一第二供液主管,該第二供液主管頭端位於濕製程設備之加工液儲槽內,該第二供液主管尾端為封閉狀,該第二供液主管設有第二供液泵。
此外,該第一增壓通道之寬度為0.6~2.0mm,該第二增壓通道之寬度為0.6~2.0mm:各該噴液管之間平行但相對該框架為傾斜狀:各該噴嘴相對被加工基板輸送軸向之橫向間距相等且橫向座標皆不同:該框架進一步與一搖擺單元結合:該噴灑盤成對相向或/及連續設置:該縱向通道頂端設置一封塞成為封閉狀,該縱向通道底端進一步設置一排液管,該第一內管體之底部相對該第一增壓通道設有三~六個第一噴流口,該吸引筒具有六~二十六對而與該吸液管構成一吸引面:該噴灑盤安裝六~九支噴液管,該第二供液主管連接六~九支第二供液支管,該第二內管體之底部相對該第二增壓通道設有三~六個第二噴流口:第二內管體頭部螺合於該噴液管,該第二外環體緊配合於該第二內管體外周緣,該噴嘴緊配合於該第二外環體之底部,該基板輸送裝置由設置於同一水平面的複數個滾輪所組成。
藉此,利用第一供液泵自加工液儲槽內抽吸加工液,加工液經由第一供液主管、第一供液支管與注液管來到吸引筒之縱向通道,加工液接著通過第一增壓器之第一內管體,而由第一噴流口噴向第一增壓通道,加工液在噴出第一增壓通道時會在吸液口形成極大的負壓,致使吸液管透過底面的複數個吸嘴快速吸引噴附在基板頂面吸引(蝕刻、顯影)的加工液:而且,利用第二供液泵自加工液儲槽內抽吸加工液,加工液經由第二供液主管、第二供液支管來到與噴液管內,加工液接著通過第二增壓器之第二內管體,而由第二噴流口噴向第二增壓通道,加工液在噴出第二增壓通道時會在第二外環體底部形成極大的負壓,大量吸引外部的空氣而與加工液混合,致使噴嘴噴出的加工液粒徑得以自然微小化。
首先,請參閱[圖1〕所示,本新型係於機架40設置包括有:一基板輸送裝置10,由設置於同一水平面的複數個滾輪所組成:一加工液增壓吸引裝置20以及一加工液增壓噴灑裝置30。
接著,請參閱[圖2〕~[圖4〕所示,該加工液增壓吸引裝置20將複數支吸液管21與複數支注液管22跨設於該基板輸送裝置10上方,致使該吸液管21貼近該基板輸送裝置10所輸送之被加工基板,該吸液管21底面設有複數個吸嘴,而該注液管22跨設於該吸液管21上方:並將複數對吸引筒23設置於各該吸液管21與各該注液管22兩端,各該吸引筒23具有一縱向通道231、一注液口232與一吸液口233,該縱向通道231頂端設置一封塞234成為封閉狀,該注液口232橫向接通該縱向通道231且與該注液管22結合,該吸液口233橫向接通該縱向通道231且與該吸液管21結合,該縱向通道231底端進一步設置一排液管235;並將複數對第一增壓器24設置於各對吸引筒23內部,各該第一增壓器24將一第一外環體241設置於該縱向通道231內,該第一外環體241之頂緣低於該注液口232之底緣,該第一外環體241之底緣高於吸液口233之底緣,該第一外環體241之底部設為縮口狀,該第一外環體241之內部設置一第一內管體242,該第一內管體242之底部相對該第一外環體241之底部設為封閉倒錐狀,而於該第一外環體241之下半部內周緣與該第一內管體242之下半部外周緣之間留設有第一增壓通道243,該第一增壓通道243之寬度為0.6~2.0mm,該第一內管體242之底部相對該第一增壓通道243設有數個(三~六個)第一噴流口244;並將複數支第一供液支管251連接各該注液管22,各該第一供液支管251連接至一第一供液主管25,該第一供液主管25頭端位於濕製程設備之加工液儲槽內,該第一供液主管25尾端為封閉狀,該第一供液主管25設有第一供液泵252。
然後,請參閱[圖5〕~[圖7〕所示,該加工液增壓噴灑裝置30將至少一噴灑盤31設置於該加工液增壓吸引裝置20上方,該噴灑盤31將複數支(六~九支)噴液管311安裝於一框架312內,各該噴液管311各安裝有複數個第二增壓器32,各該噴液管311之間平行但相對該框架312為傾斜狀,該框架312進一步與一搖擺單元313結合;各該第二增壓器32將一第二內管體321頭部結合(螺合)於該噴液管311,該第二內管體321之底部為封閉倒錐狀,該第二內管體321外周緣結合(緊配合)一第二外環體322,該第二外環體322之內部相對該第二內管體321之底部設為頸縮狀,而於該第二外環體322包含頸縮處之中段部內周緣與該第二內管體321之下半部外周緣之間留設有第二增壓通道323,該第二增壓通道323之寬度為0.6~2.0mm,該第二內管體321之底部相對該第二增壓通道323設有數個(三~六個)第二噴流口324,且將複數個噴嘴325結合(緊配合)於各該第二增壓器32之第二外環體322底部;並將複數支(六~九支)第二供液支管331連接各該噴液管311,各該第二供液支管331連接至一第二供液主管33,該第二供液主管33頭端位於濕製程設備之加工液儲槽內,該第二供液主管33尾端為封閉狀,該第二供液主管33設有第二供液泵332;再者,該噴灑盤31可成對相向設置而同時對基板雙面噴灑加工液,該噴灑盤31亦可連續設置而滿足較長的加工時程。
又,請再參閱〔圖8〕所示,除了各該噴液管311之間平行且相對該框架312為傾斜狀之外,同時令各該噴嘴325相對被加工基板輸送軸向(圖示之X軸向)之橫向(圖示之Y軸向)間距d皆相等且橫向座標皆不同,致使各該噴嘴325相對被加工基板之橫向等距均佈,將可讓加工液均勻地噴灑於被加工基板的每一處,具有加工液噴灑均勻之功效。
基於如是之構成,本新型之加工液增壓吸引裝置20令吸引筒23具有六~二十六對而與吸液管21構成一吸引面,而藉第一供液泵252自加工液儲槽內抽吸加工液,加工液經由第一供液主管25、第一供液支管251與注液管22來到吸引筒23之縱向通道231,加工液接著通過第一增壓器24之第一內管體242,而由第一噴流口244噴向第一增壓通道243,加工液在噴出第一增壓通道243時會在吸液口233形成極大的負壓,致使吸液管21透過底面的複數個吸嘴快速吸引噴附在基板頂面的加工液,吸引過來的加工液與第一增壓通道243噴出的加工液利用排液管235回到加工液儲槽內;是以,本新型於吸引筒23內設置的第一增壓器24可使噴出的加工液產生約三倍大的噴射壓力,遂可在吸液口233形成極大的負壓快速吸引噴附在基板頂面的加工液,而具有提升加工液吸引效果之功效:另外,可視吸引力的使用需求而選用較小馬力的第一供液泵252,進而達到節能之功效。
此外,本新型之加工液增壓噴灑裝置30藉第二供液泵332自加工液儲槽內抽吸加工液,加工液經由第二供液主管33、第二供液支管331來到噴液管311內,加工液接著通過第二增壓器32之第二內管體321,而由第二噴流口324噴向第二增壓通道323,加工液在噴出第二增壓通道323時會在第二外環體322底部形成極大的負壓,致使噴嘴325大量吸引外部的空氣而與加工液混合;是以,第二增壓器30可使噴出的加工液產生約三倍大的噴射壓力,遂可在噴嘴325之入口處形成極大的中空負壓,進而大量吸引外部空氣而與加工液自然混合成粒徑微小化的加工液,而具有無需耗費壓縮空氣即可使加工液粒徑更加微小化之功效:另者,框架312與搖擺單元313結合,可持續改變各噴嘴325的噴灑角度,具有避免加工液噴灑死角之功效:另外,可視加工液粒徑微小化的使用需求而選用較小馬力的第二供液泵332,進而達到節能之功效。
綜上所述,本新型所揭示之技術手段,確具「新穎性」、「進步性」及「可供產業利用」等新型專利要件,祈請 鈞局惠賜專利,以勵新型,無任德感。
惟,上述所揭露之圖式、說明,僅為本新型之較佳實施例,大凡熟悉此項技藝人士,依本案精神範疇所作之修飾或等效變化,仍應包括在本案申請專利範圍內。
10‧‧‧基板輸送裝置 20‧‧‧加工液增壓吸引裝置 21‧‧‧吸液管 22‧‧‧注液管 23‧‧‧吸引筒 231‧‧‧縱向通道 232‧‧‧注液口 233‧‧‧吸液口 234‧‧‧封塞 235‧‧‧排液管 24‧‧‧第一增壓器 241‧‧‧第一外環體 242‧‧‧第一內管體 243‧‧‧第一增壓通道 244‧‧‧第一噴流口 25‧‧‧第一供液主管 251‧‧‧第一供液支管 252‧‧‧第一供液泵 30‧‧‧加工液增壓噴灑裝置 31‧‧‧噴灑盤 311‧‧‧噴液管 312‧‧‧框架 313‧‧‧搖擺單元 32‧‧‧第二增壓器 321‧‧‧第二內管體 322‧‧‧第二外環體 323‧‧‧第二增壓通道 324‧‧‧第二噴流口 325‧‧‧噴嘴 33‧‧‧第二供液主管 331‧‧‧第二供液支管 332‧‧‧第二供液泵 40‧‧‧機架
[圖1〕係本新型之整體結構立體圖。 [圖2〕係本新型之加工液增壓吸引裝置整體結構立體圖。 [圖3〕係本新型之加工液增壓吸引裝置部分結構立體圖。 [圖4〕係本新型之加工液增壓吸引裝置增壓結構剖示圖。 [圖5〕係本新型之加工液增壓噴灑裝置整體結構立體圖。 [圖6〕係本新型之加工液增壓噴灑裝置部分結構立體圖。 [圖7〕係本新型之加工液增壓噴灑裝置增壓結構剖示圖。 [圖8〕係本新型之加工液增壓噴灑裝置噴嘴等間距設置之示意圖。

Claims (10)

  1. 一種濕製程設備,係於機架設置包括有: 一基板輸送裝置: 一加工液增壓吸引裝置,將複數支吸液管與複數支注液管跨設於該基板輸送裝置上方,致使該吸液管貼近該基板輸送裝置所輸送之被加工基板,該吸液管底面設有複數個吸嘴,而該注液管跨設於該吸液管上方:並將複數對吸引筒設置於各該吸液管與各該注液管兩端,各該吸引筒具有一縱向通道、一注液口與一吸液口,該縱向通道頂端為封閉狀,該注液口橫向接通該縱向通道且與該注液管結合,該吸液口橫向接通該縱向通道且與該吸液管結合,並將複數對第一增壓器設置於各對吸引筒內部,各該第一增壓器將一第一外環體設置於該縱向通道內,該第一外環體之頂緣低於該注液口之底緣,該第一外環體之底緣高於吸液口之底緣,該第一外環體之底部設為縮口狀,該第一外環體之內部設置一第一內管體,該第一內管體之底部相對該第一外環體之底部設為封閉倒錐狀,而於該第一外環體之下半部內周緣與該第一內管體之下半部外周緣之間留設有第一增壓通道,該第一內管體之底部相對該第一增壓通道設有數個第一噴流口;並將複數支第一供液支管連接各該注液管,各該第一供液支管連接至一第一供液主管,該第一供液主管頭端位於濕製程設備之加工液儲槽內,該第一供液主管尾端為封閉狀,該第一供液主管設有第一供液泵:以及 一加工液增壓噴灑裝置,將至少一噴灑盤設置於該加工液增壓吸引裝置上方,該噴灑盤將複數支噴液管安裝於一框架內,各該噴液管各安裝有複數個第二增壓器;各該第二增壓器將一第二內管體頭部結合於該噴液管,該第二內管體之底部為封閉倒錐狀,該第二內管體外周緣結合一第二外環體,該第二外環體之內部相對該第二內管體之底部設為頸縮狀,而於該第二外環體包含頸縮處之中段部內周緣與該第二內管體之下半部外周緣之間留設有第二增壓通道,該第二內管體之底部相對該第二增壓通道設有數個第二噴流口,且將複數個噴嘴結合於各該第二增壓器之第二外環體底部;並將複數支第二供液支管連接各該噴液管,各該第二供液支管連接至一第二供液主管,該第二供液主管頭端位於濕製程設備之加工液儲槽內,該第二供液主管尾端為封閉狀,該第二供液主管設有第二供液泵。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之濕製程設備,其中,該第一增壓通道之寬度為0.6~2.0mm,該第二增壓通道之寬度為0.6~2.0mm。
  3. 如申請專利範圍第1或2項所述之濕製程設備,其中,各該噴液管之間平行但相對該框架為傾斜狀。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之濕製程設備,其中,各該噴嘴相對被加工基板輸送軸向之橫向間距相等且橫向座標皆不同。
  5. 如申請專利範圍第4項所述之濕製程設備,其中,該框架進一步與一搖擺單元結合。
  6. 如申請專利範圍第5項所述之濕製程設備,其中,該噴灑盤成對相向或/及連續設置。
  7. 如申請專利範圍第6項所述之濕製程設備,其中,該縱向通道頂端設置一封塞成為封閉狀,該縱向通道底端進一步設置一排液管,該第一內管體之底部相對該第一增壓通道設有三~六個第一噴流口,該吸引筒具有六~二十六對而與該吸液管構成一吸引面。
  8. 如申請專利範圍第6項所述之濕製程設備,其中,該噴灑盤安裝六~九支噴液管,該第二供液主管連接六~九支第二供液支管,該第二內管體之底部相對該第二增壓通道設有三~六個第二噴流口。
  9. 如申請專利範圍第6項所述之濕製程設備,其中,第二內管體頭部螺合於該噴液管,該第二外環體緊配合於該第二內管體外周緣,該噴嘴緊配合於該第二外環體之底部。
  10. 如申請專利範圍第6項所述之濕製程設備,其中,該基板輸送裝置由設置於同一水平面的複數個滾輪所組成。
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TWI703629B (zh) * 2019-05-10 2020-09-01 登泰電路機械股份有限公司 濕製程設備

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TWI703629B (zh) * 2019-05-10 2020-09-01 登泰電路機械股份有限公司 濕製程設備

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