TWM579244U - Light-emitting module and light-emitting device - Google Patents

Abstract

本新型創作的目的是提供一種發光模組及發光裝置，其發光模組包括發光組件、擴散片及反射部，擴散片及反射部設置於發光組件的相對側，其中發光組件上設置有發光單元，朝向反射部的發光單元，擴散片能夠接收由發光單元發出的第一光線，反射部能夠接收由發光單元發出的第二光線，並能夠將第二光線反射至擴散片，從而在擴散片上形成第三光線，使每一發光單元能於擴散片形成第一光線和第三光線。

Description

發光模組及發光裝置

本新型創作涉及發光組件領域，特別涉及一種具有擴散片的發光模組。

如第1圖所示，現有的發光模組通常包括蓋體6、底座7、底座1、發光組件2及擴散片3，發光組件2設置於底座1上，發光組件2上設置有電路板(圖未示)和發光單元4，發光單元4朝向擴散片3發光。通過設置不同數量、排列的發光單元4，從而經由擴散片3表面的光學結構射出不同樣式的光線。

由於每一個發光單元產生一條光線，因此，若要獲得多條光，則需要設置相應數量的發光單元。例如六個發光單元將產生六條光線。

然而，設置數量較多的發光單元將導致較高的熱量產生，且成本提高，且需要將擴散片3固定於發光組件2及框體10之間，製程較繁瑣且耗時，同時結構穩定性備受考驗。

因此，需要對現有的發光模組進行改進，既能夠產生豐富的線條效果，且使用較少的發光單元的數量、結構性穩固的發光模組，且降低成本。

基於上述問題，本新型創作提供了一種改進的發光模組及發光裝置，使其既能夠產生豐富的線條效果，且使用較少的發光單元的數量、降低成本。

為達成上述目的，本新型創作提供一種發光模組，包括：發光組件、擴散片及反射部，擴散片及反射部設置於發光組件的相對側，其中發光組件上設置有發光單元，發光單元朝向反射部，擴散片能夠接收由發光單元發出的第一光線，反射部能夠接收由發光單元發出的第二光線，並能夠將第二光線反射至擴散片，從而在擴散片上形成第三光線，使每一發光單元能於擴散片形成第一光線和第三光線。

根據一實施例，發光單元相對於擴散片和反射部傾斜設置。

根據一實施例，反射部的數量為多個，每一個發光單元發出的第二光線經由多個反射部的反射，能夠在擴散片上形成多個第三光線。

根據一實施例，發光組件還包括電路板，發光單元設置於電路板上，電路板為平面或曲面，擴散片為平面或曲面。

根據一實施例，發光模組還包括基板，電路板與基板組成本體，其中，電路板為軟性電路板，本體開設多個開孔和多個彎折部，彎折部的位置與開孔對應，發光單元分別設置於彎折部上，彎折部與本體的表面之間形成夾角θ，且0°<θ<180°。

本新型創作另一方面，提供一種發光裝置，包括：發光組件、反射部、蓋體及底座，蓋體與底座結合以形成容置空間，發光組件及反射部容納於容置空間內，其中發光組件位於蓋體及反射部之間，其中發光組件上設置有朝向反射部的發光單元，其特徵在於，發光裝置更包括一位於 蓋體上的光學結構，蓋體能夠接收由發光單元發出的第一光線，反射部能夠接收由發光單元發出的第二光線，並能夠將第二光線反射至擴散片，從而在蓋體上形成第三光線，使每一發光單元能於蓋體形成第一光線和第三光線。

根據一實施例，光學結構與蓋體一體成型。

根據一實施例，光學結構包括多條光柵，各個光柵具有波峰和波谷，波峰與波谷之間的高度差小於500微米，波峰與波谷之間的高度差為30-100微米，光柵為射出成型。

根據一實施例，光學結構包括多條突出的紋理，每一紋理包括多個延伸段，各延伸段的延伸方向不同。

根據一實施例，擴散片能夠相對於發光組件活動，以改變第一光線和第三光線的形狀。

根據一實施例，擴散片能夠相對於發光組件平移或旋轉。

本新型創作另一方面，提供一種發光裝置，包括：發光組件、反射部、蓋體及底座，蓋體與底座結合以形成容置空間，發光組件及反射部容納於容置空間內，其中發光組件位於蓋體及反射部之間，其中發光組件上設置有朝向反射部的發光單元，其特徵在於，發光裝置更包括一位於反射部上的光學結構，蓋體能夠接收由發光單元發出的第一光線，反射部能夠接收由發光單元發出的第二光線，並能夠將第二光線反射至擴散片，從而在蓋體上形成第三光線，使每一發光單元能於蓋體形成第一光線和第三光線。

根據一實施例，光學結構與反射部一體成型。

為達成上述目的，本新型創作提供一種發光模組，包括：相互光學性耦接的發光二極體、擴散片及反射部，擴散片能夠接收由發光二極體發出的第一光線而形成第一擴散發光區域，反射部能夠接收由發光二極體發出的第二光線，並能夠將第二光線反射至擴散片，從而在擴散片上形成第二擴散發光區域，使每一發光二極體能於擴散片形成第一擴散發光區域和第二擴散發光區域。

本新型創作另一方面，提供一種發光裝置，包括：發光二極體、反射部、蓋體及底座，蓋體與底座結合以形成容置空間，發光二極體及反射部容納於容置空間內，其中發光二極體位於蓋體及反射部之間，其特徵在於，發光裝置還包括一位於蓋體上的光學結構，蓋體能夠接收由發光二極體發出的第一光線而形成第一擴散發光區域，反射部能夠接收由發光二極體發出的第二光線，並能夠將第二光線反射至擴散片，從而在蓋體上形成第二擴散發光區域，使每一發光二極體能於蓋體形成第一擴散發光區域和第二擴散發光區域。

本新型創作另一方面，提供一種發光裝置，包括：發光二極體、反射部、蓋體及底座，蓋體與底座結合以形成容置空間，發光二極體及反射部容納於容置空間內，其中發光二極體位於蓋體及反射部之間，其特徵在於，發光裝置還包括一位於反射部上的光學結構，蓋體能夠接收由發光二極體發出的第一光線而形成第一擴散發光區域，反射部能夠接收由發光二極體發出的第二光線，並能夠將第二光線反射至擴散片，從而在蓋體上形成第二擴散發光區域，使每一發光二極體能於蓋體形成第一擴散發光區域和第二擴散發光區域。

本新型創作相較於現有技術的有益效果在於：本新型創作的發光模組通過設置反射部，能夠向擴散片反射光線，從而能夠增加擴散片的出光數量，與現有的一個發光單元僅能夠在擴散片上呈現一條光線的方案相比，本新型創作的發光模組既能夠產生豐富的線條效果，且使用較少的發光單元的數量、降低成本。並且，由於能夠大幅減少發光單元的數量，還能夠減少熱能的損耗，有利於環保節能。

10‧‧‧電路板

20‧‧‧擴散片

30‧‧‧反射部

40‧‧‧發光單元

50‧‧‧本體

51‧‧‧開孔

52‧‧‧彎折部

60‧‧‧蓋體

70‧‧‧底座

80‧‧‧光學結構

81‧‧‧波峰

82‧‧‧波谷

100‧‧‧發光組件

D‧‧‧高度差

L‧‧‧光線

L1‧‧‧第一光線

L2‧‧‧第二光線

L3‧‧‧第三光線

R‧‧‧曲率半徑

X、Y‧‧‧方向

第1圖為現有的發光模組的示意圖；第2圖為本新型創作一實施例的發光模組的示意圖；第3圖為本新型創作一實施例的發光模組的局部結構示意圖；第4圖為新型創作另一實施例的發光模組的分解示意圖；第5圖為新型創作另一實施例中發光模組的光學結構的一示例的示意圖；第6圖為新型創作另一實施例中發光模組的光學結構的另一示例的示意圖；第7圖為第6圖中光學結構的截面圖；第8a圖為新型創作又一實施例的發光模組的示意圖，其中，擴散片未相對於電路板活動；第8b圖為第8a圖中發光模組發出的光圖形的示意圖；第9a圖為新型創作又一實施例的發光模組的示意圖，其中，擴散片發生扭曲變形；以及 第9b圖為第9a圖中發光模組發出的光圖形的示意圖。

現在將參考附圖更全面地描述示例實施方式。然而，示例實施方式能夠以多種形式實施，且不應被理解為限於在此闡述的實施方式；相反，提供這些實施方式使得本新型創作更全面和完整，並將示例實施方式的構思全面地傳達給本領域的技術人員。在圖中，為了清晰，可能誇大了區域和層的厚度。在圖中相同的附圖標記表示相同或類似的結構，因而將省略它們的詳細描述。

此外，所描述的特徵、結構或特性可以以任何合適的方式結合在一個或更多實施例中。在下面的描述中，提供許多具體細節從而給出對本新型創作的實施例的充分理解。然而，本領域技術人員將意識到，可以實踐本新型創作的技術方案而沒有所述特定細節中的一個或更多，或者可以採用其它的方法、組元、材料等。在其它情況下，不詳細示出或描述公知結構、材料或者操作以避免模糊本新型創作的主要技術創意。

本新型創作提供一種發光模組，如第2圖所示，其包括發光組件、擴散片20及反射部30，發光組件100包括電路板10及設置於電路板10上的發光單元40，擴散片20與反射部30設置於發光組件的相對側，其中發光單元40面對反射部30，使反射部30接收發光單元40發出發出的光線L1、L2，其中擴散片20能接收發光單元40發出的第一光線L1，亦能接收發光單元40發出的第二光線L2經反射部30反射後的第三光線L3，換言之，擴散片20能夠接收由發光單元40發出的第一光線L1，反射部30能夠接收由發光單元40發出的第二光線L2，並能夠將第二光線L2反射至擴散片20，從而在擴 散片20上形成第三光線L3。

也就是說，本新型創作的發光模組通過設置反射部30，能夠向擴散片20反射光線，從而能夠增加擴散片20的出光數量，即，一個發光單元40能夠在擴散片20上呈現至少兩條光線。

與現有的一個發光單元僅能夠在擴散片上呈現一條光線的方案相比，在發光單元數量相同的情況下，本新型創作的發光模組至少能夠使得光線數量增加一倍。在所需光線數量相同的情況下，本新型創作的發光模組至少能夠使得發光單元的數量減少一倍。因此，本新型創作的發光模組既能夠產生豐富的線條效果，且使用較少的發光單元的數量、降低成本。並且，由於能夠大幅減少發光單元的數量，還能夠減少熱能的損耗，有利於環保節能。

本實施例中，發光單元40設置於擴散片20與反射部30之間。發光單元40相對於擴散片20和反射部30傾斜設置。然而，發光模組的結構不限於此，其可根據反射部30、電路板10、擴散片20的形狀、發光單元40的數量、排列相應改變。

其中，反射部30的數量可為一個或多個，發光單元40的數量可為一個或多個。發光單元40可為發光二極體。

在一實施例中，反射部30的數量為多個，每一個發光單元40發出的第二光線L2經由多個反射部30的反射，能夠在擴散片20上形成多個第三光線L3。即，一個發光單元40能夠在擴散片20上呈現至少三條光線，如此，可進一步減少發光單元40的數量、降低成本。

在一實施例中，反射部30可為反射鏡，多個反射部30為一體 成型。在其他實施例中，多個反射部30也可為相互獨立的設置。多個發光單元40和反射部30的設置方向可不同，以呈現多種效果的光線。例如，發光單元40的數量為多個，其在電路板10上均勻或非均勻的排列。例如，多個發光單元40可線性排列。

在一實施例中，電路板10為平面或曲面，擴散片20為平面或曲面。

如第3圖所示，本實施例中，發光模組還包括基板，電路板與基板組成本體50，其中，電路板10可為軟性電路板。本體50開設多個開孔51和多個彎折部52，彎折部52的位置與開孔51對應，發光單元40分別設置於彎折部52上。彎折部52與本體50的表面之間形成夾角θ，且0°<θ<180°。由此可調整發光二極體40的姿態和角度，使得發光二極體40可根據需要以不同方向朝擴散片20和反射部30發光。

如第4圖所示，本實施例中，發光模組還包括蓋體60和底座70，發光組件包括電路板10和發光單元40，其中電路板10設置於底座70上，蓋體60與底座70結合以形成容置空間，發光組件、擴散片20及反射部30容納於容置空間內，發光模組還包括光學結構80，其位於蓋體60和/反射部30上。通過將光學結構80直接形成在蓋體60和/或反射部30上，可省去單獨設置一具有光學結構的擴散片，從而無需額外設置框體，以將擴散片固定於框體和發光組件之間，從而能夠簡化製程，提高結構穩定性，提高外形的適用性。

具體的，光學結構80可位於反射部30的內表面和/或外表面。光學結構80還可位於蓋體60的內表面和/或外表面。光學結構80可與蓋 體60和/或反射部30一體成型。

如第5圖所示，光學結構80可包括多條突出的紋理，每一紋理包括多個延伸段，各延伸段的延伸方向不同，例如，沿X或Y方向延伸。第5圖，顯示具有沿著X方向延伸的多個延伸段。即，每一紋理可包括多個不同方向的延伸段，因此，可呈現多個不同方向的光線。

如第6圖、7所示，光學結構80可包括多條光柵。光柵可為射出成型於與蓋體60的內表面和/或外表面和/或反射部30的內表面和/或外表面，從而便於加工、降低製程成本。

如第7圖所示，光柵為凹凸形式，各個光柵具有波峰81和波谷82，相鄰光柵彼此緊鄰設置。波峰81與波谷82之間的高度差D小於500微米，優選為，100微米，更優選的，為30微米。高度差D越小，光學結構80對於光線的干涉效果越好。於一實施例中，各個光柵波谷的距離為40~130微米，波峰81的曲率半徑R為10~30微米，更優選的，各個光柵波谷的距離為40微米，波峰81的曲率半徑R為10微米。

第8a圖為新型創作又一實施例的發光模組的示意圖，於透過擴散片20的光學結構80來形成光線的實施例中，藉由改變未相對於發光組件、擴散片20間空間關係(如：距離)，可改變從殼體發光的光線樣式。第8b圖為第8a圖中發光模組發出的光圖形的示意圖，其中擴散片20為板型，平行設置於發光單元的排列方向，且與每一發光單元間隔相同距離D。

本實施例中，擴散片20能夠相對於電路板10活動，以改變第一光線L1和第三光線L3的形狀。

如第8a圖所示，擴散片20未相對於電路板10活動，擴散片20 例如與電路板10平行，產生三條形狀相同的光線L。

擴散片20能夠相對於電路板10平移或旋轉，如第9a圖所示，擴散片20相對於電路板10旋轉一定角度，由於發光單元40與擴散片20之間的距離發生改變，使得光線的形式相應改變，如第9b圖所示。

應當理解，第8a圖至第9b圖中所示的發光模組和光線的形狀僅為示意性，並不以此限定保護範圍。

綜上所述，本新型創作的發光模組通過設置反射部，能夠向擴散片反射光線，從而能夠增加擴散片的出光數量，與現有的一個發光單元僅能夠在擴散片上呈現一條光線的方案相比，本新型創作的發光模組既能夠產生豐富的線條效果，且使用較少的發光單元的數量、降低成本。並且，由於能夠大幅減少發光單元的數量，還能夠減少熱能的損耗，有利於環保節能。再者，透過通過將光學結構直接形成在蓋體和/或反射部上，可省去單獨設置一具有光學結構的擴散片，從而無需額外設置框體，以將擴散片固定於框體和發光組件之間，從而能夠簡化製程，提高結構穩定性，提高外形的適用性。

雖然已參照幾個典型實施例描述了本新型創作，但應當理解，所用的術語是說明和示例性、而非限制性的術語。由於本新型創作能夠以多種形式具體實施而不脫離新型創作的精神或實質，所以應當理解，上述實施例不限於任何前述的細節，而應在隨附權利要求所限定的精神和範圍內廣泛地解釋，因此落入申請專利範圍或其均等範圍內的全部變化和改型都應為隨附申請專利範圍所涵蓋。

Claims (20)

1. 一種發光模組，包括：發光組件、擴散片及反射部，擴散片及反射部設置於發光組件的相對側，其中發光組件上設置有發光單元，發光單元朝向反射部，擴散片能夠接收由發光單元發出的第一光線，反射部能夠接收由發光單元發出的第二光線，並能夠將第二光線反射至擴散片，從而在擴散片上形成第三光線，使每一發光單元能於擴散片形成第一光線和第三光線。
2. 如請求項1所述的發光模組，其中，發光單元相對於擴散片和反射部傾斜設置。
3. 如請求項1所述的發光模組，其中，反射部的數量為多個，每一個發光單元發出的第二光線經由多個反射部的反射，能夠在擴散片上形成多個第三光線。
4. 如請求項1所述的發光模組，其中，發光組件還包括電路板，發光單元設置於電路板上，電路板為平面或曲面，擴散片為平面或曲面。
5. 如請求項4所述的發光模組，其中，發光模組還包括基板，電路板與基板組成本體，其中，電路板為軟性電路板，本體開設多個開孔和多個彎折部，彎折部的位置與開孔對應，發光單元分別設置於彎折部上，彎折部與本體的表面之間形成夾角θ，且0°<θ<180°。
6. 一種發光裝置，包括：發光組件、反射部、蓋體及底座，蓋體與底座結合以形成容置空間，發光組件及反射部容納於容置空間內，其中發光組件位於蓋體及反射部之間，其中發光組件上設置有朝向反射部的發光單元，其中，發光裝置更包括一位於蓋體上的光學結構，蓋體能夠接收由發光單元發出的第一光線，反射部能夠接收由發光單元發出的第二光線，並能夠將第二光線 反射至擴散片，從而在蓋體上形成第三光線，使每一發光單元能於蓋體形成第一光線和第三光線。
7. 如請求項6所述的發光裝置，其中，光學結構與蓋體一體成型。
8. 如請求項6所述的發光裝置，其中，光學結構包括多條光柵，各個光柵具有波峰和波谷，波峰與波谷之間的高度差小於500微米，波峰與波谷之間的高度差為30-100微米，光柵為射出成型。
9. 如請求項6所述的發光裝置，其中，光學結構包括多條突出的紋理，每一紋理包括多個延伸段，各延伸段的延伸方向不同。
10. 如請求項6所述的發光裝置，其中，擴散片能夠相對於發光組件活動，以改變第一光線和第三光線的形狀。
11. 如請求項10所述的發光裝置，其中，擴散片能夠相對於發光組件平移或旋轉。
12. 如請求項6所述的發光裝置，其中，反射部的數量為多個，每一個發光單元發出的第二光線經由多個反射部的反射，能夠在擴散片上形成多個第三光線。
13. 一種發光裝置，包括：發光組件、反射部、蓋體及底座，蓋體與底座結合以形成容置空間，發光組件及反射部容納於容置空間內，其中發光組件位於蓋體及反射部之間，其中發光組件上設置有朝向反射部的發光單元，其中，發光裝置更包括一位於反射部上的光學結構，蓋體能夠接收由發光單元發出的第一光線，反射部能夠接收由發光單元發出的第二光線，並能夠將第二光線反射至擴散片，從而在蓋體上形成第三光線，使每一發光單元能於蓋體形成第一光線和第三光線。
14. 如請求項13所述的發光裝置，其中，光學結構與反射部一體成。
15. 如請求項13所述的發光裝置，其中，光學結構包括多條光柵，各個光柵具有波峰和波谷，波峰與波谷之間的高度差小於500微米，波峰與波谷之間的高度差為30-100微米，光柵為射出成型。
16. 如請求項13所述的發光裝置，其中，光學結構包括多條突出的紋理，每一紋理包括多個延伸段，各延伸段的延伸方向不同。
17. 如請求項13所述的發光裝置，其中，反射部的數量為多個，每一個發光單元發出的第二光線經由多個反射部的反射，能夠在擴散片上形成多個第三光線。
18. 一種發光模組，包括：相互光學性耦接的發光二極體、擴散片及反射部，相互光學性耦接，擴散片能夠接收由發光二極體發出的第一光線而形成第一擴散發光區域，反射部能夠接收由發光二極體發出的第二光線，並能夠將第二光線反射至擴散片，從而在擴散片上形成第二擴散發光區域，使每一發光二極體能於擴散片形成第一擴散發光區域和第二擴散發光區域。
19. 一種發光裝置，包括：發光二極體、反射部、蓋體及底座，蓋體與底座結合以形成容置空間，發光二極體及反射部容納於容置空間內，其中，發光二極體位於蓋體及反射部之間，其中，發光裝置還包括一位於蓋體上的光學結構，蓋體能夠接收由發光二極體發出的第一光線而形成第一擴散發光區域，反射部能夠接收由發光二極體發出的第二光線，並能夠將第二光線反射至擴散片，從而在蓋體上形成第二擴散發光區域，使每一發光二極體能於蓋體形成第一擴散發光區域和第二擴散發光區域。
20. 一種發光裝置，包括： 發光二極體、反射部、蓋體及底座，蓋體與底座結合以形成容置空間，發光二極體及反射部容納於容置空間內，其中發光二極體位於蓋體及反射部之間，其中，發光裝置還包括一位於反射部上的光學結構，蓋體能夠接收由發光二極體發出的第一光線而形成第一擴散發光區域，反射部能夠接收由發光二極體發出的第二光線，並能夠將第二光線反射至擴散片，從而在蓋體上形成第二擴散發光區域，使每一發光二極體能於蓋體形成第一擴散發光區域和第二擴散發光區域。