TWM547113U - 分割曝光之有機層結構及其光罩結構 - Google Patents

Description

分割曝光之有機層結構及其光罩結構

本創作係有關於一種分割曝光製程之相關結構，尤指關於分割曝光製程之一種分割曝光之有機層結構及其光罩結構。

全反射面板與半穿透半反射面板皆是液晶顯示器的一種技術，全反射面板畫素依靠反射層顯示的結構設計，其適用於戶外或隨身便攜式的顯示器上。半穿透半反射面板畫素為一包含穿透與反射區的結構設計，在室外強光環境下可藉由反射區顯示畫面；在室內或環境光源不足時，可藉由背光光源與穿透區顯示畫面。

進一步來說，全反射面板與半穿透半反射面板之兩者共通點在於畫素結構皆具有反射層的設計。反射層係由金屬層覆蓋於有機層上，而有機層為具有複數個凸圖案(即Bump reflector)所組成，有機層之表面為不規則凹凸，如此能達成適當的反射效果。凸圖案是由一種特性對製程相當敏感的有機材料所做成，而且有機層之凹凸表面變化對於面板的反射光學表現來說尤為重要。凸圖案的設置位置與大小能不僅影響反射率與反射視角，也直接反映出面板外觀的底色。

有關於傳統的半反射半穿透彩色液晶顯示器可同時利用環境光源與背光光源達到較好的顯示效果，其可以改善反射型彩色液晶顯示器於環境光線不足的情況下，不利於顯示效果，色彩與亮度過於黯淡；其也可以改善穿透型彩色液晶顯示器於環境光線充足的照射下，其影像會淡化的缺點，同時也能降低背光光源的電源消耗量。再者，由於半穿半反液晶顯示技術在畫素結構內，必須同時具有穿透與反射的顯示功能，所以在結構上也需要分為穿透與反射兩區不同的設計，而且其反射色彩表現是由彩色光阻與有機層以一比例組成，達成色彩平衡。

請參閱第一A圖與第一B圖，如圖所示，其說明當面板的尺寸超過該機台光罩曝光大小時，則須以分割曝光的手法拆在不同光罩來製作。將有機層10C劃分至少兩塊曝光區域100C、200C進行曝光，但於兩次曝光區域100C、200C的相鄰邊界區域B會產生對位偏差與邊緣擴散曝光，使面板顯示上造成一定程度失真。如此對於有機層10C表面之該些個凸圖案20C的陡緩與均勻性造成明顯影響，使反射層的反射效果不一致，進而造成面板外觀不良，而於邊界區域B處產生明顯的線痕或紋路。

故，本創作針對於習知技術之缺點進行改良，而提供一種分割曝光之有機層結構及其光罩結構，其能夠使半穿透半反射液晶顯示面板的光學表現更佳。

本創作之一目的，在於提供一種分割曝光之有機層結構及其光罩結構，其能降低面板經複數次曝光後，該些個曝光區域間的對位偏差與邊緣擴散曝光影響造成的圖案失真問題，使面板外觀無明顯的線或紋路。

本創作之一目的，在於提供一種分割曝光之有機層結構及其光罩結構，其分割曝光的布局設計，能提高面板進行光學反射的完整性且畫面無失真。

本創作提供一種分割曝光之有機層結構，其用於一顯示面板內，該有機層包含：一第一曝光區域與一第二曝光區域。第一曝光區域具有複數個第一凸圖案。以及第二曝光區域設置於第一曝光區域之一側，第二曝光區域具有複數個第二凸圖案，並第一曝光區域與第二曝光區域之相鄰處為一曲折邊界，每一該第一凸圖案相同於每一該第二凸圖案。

本創作之一實施例，在於揭露該曲折邊界位於該些個第一凸圖案與該些個第二凸圖案之間。

本創作之一實施例，在於揭露該些個第一凸圖案或/及該些個第二凸圖案各別相互間距1μm到8μm之間。

本創作之一實施例，在於揭露每一該第一凸圖案101與每一該第二凸圖案102之直徑為4μm到30μm之間。

本創作提供一種分割曝光之光罩結構，其具有一光罩圖面，光罩圖面用於曝光一有機層，光罩包含：一主光罩與一副光罩。主光罩具有複數個第一凸圖面，並於其一側具有一第一側面。以及副光罩具有複數個第二凸圖面，並於其一側具有一第二側面，第一側面嵌合於第二側面，並第一側面與第二側面為曲折面。其中每一該第一凸圖面相同於每一該第二凸圖面。

本創作之一實施例，在於揭露該第一側面與該第二側面位於該些個第一凸圖面與該些個第二凸圖面之間。

本創作之一實施例，在於揭露該主光罩之該些個第一凸圖面對應於該有機層之複數個第一凸圖案，該副光罩之該些個第二凸圖面對應於該有機層之複數個第二凸圖案。

本創作之一實施例，在於揭露該主光罩與該副光罩之面積總和等於該有機層之一表面的面積。

本創作之一實施例，在於揭露每一該第一凸圖面或/及每一該第二凸圖面各別相互間距1μm到8μm之間。

本創作之一實施例，在於揭露每一該第一凸圖面210與每一該第二凸圖面220之直徑為4μm到30μm之間。

為使　貴審查委員對本新型之特徵及所達成之功效有更進一步之瞭解與認識，謹佐以較佳之實施例及配合詳細之說明，說明如後：

請參閱第二A圖與第二B圖，其為本創作之分割曝光之有機層結構及其光罩結構之示意圖與側視圖。如圖所示，本實施例為一種分割曝光之有機層結構，其用於一顯示面板內。顯示面板之尺寸對應於有機層結構之尺寸，當面板的尺寸超過曝光機台之光罩大小時，則有機層結構須劃分複數塊曝光區域，再利用光罩對於該些曝光區域各別進行曝光製程。如此完整曝光面板之有機層結構。

承上所述，面板之有機層結構可劃分成複數個曝光區域，而有機層結構之曝光區域數量可依據使用者之面板尺寸大小與對應之曝光機台之光罩大小進行劃分面板之曝光區域。於本實施例中，將有機層1劃分為一第一曝光區域11與一第二曝光區域13，以作為實施例進行說明。該第一曝光區域11具有複數個第一凸圖案101。該第二曝光區域13具有複數個第二凸圖案102。將有機層1劃分成該第一曝光區域11與該第二曝光區域13之分界線為一曲折線，即該第一曝光區域11與該第二曝光區域13之相鄰處為一曲折邊界200。

請一併參閱第三A圖與第三B圖，其為本創作之分割曝光之有機層結構之示意圖與第三A圖之A區域放大圖。如圖所示，面板之該有機層1的反射結構為該些個第一凸圖案101與該些個第二凸圖案102。該些個第一凸圖案101、該些個第二凸圖案102或該第一凸圖案101與該第二凸圖案102間的距離W介於1μm到8μm之間(圖示以該第一凸圖案101與該第二凸圖案102間的距離為例)。其中每一該第一凸圖案101與每一該第二凸圖案102之直徑D為4μm到30μm之間。該曲折邊界200位於該第一曝光區域11與該第二曝光區域13之間，換言之，該曲折邊界200位於該些個第一凸圖案101與該些個第二凸圖案102之間。

以下更進一步說明分割曝光之有機層結構之該曲折邊界200。該有機層1之該曲折邊界200為該有機層1進行第一次曝光後而該有機層1之表面已曝光區域(即第一次曝光區域)與未曝光區域之邊界線，而該有機層1進行第二次曝光於未曝光區域，則該曲折邊界200為第一次曝光區域與第二次曝光區域之分界線。其中該曲折邊界200為虛擬的分界線，並非實體結構。

再者，該曲折邊界200之虛擬線並無通過該第一凸圖案101或該第二凸圖案102上，即同一該第一凸圖案101與該第二凸圖案102並無經過二次以上的曝光製成，以確保每一該第一凸圖案101與每一該第二凸圖案102皆為經過一次完整曝光形成，如此能降低該些個第一凸圖案101與該些個第二凸圖案102以二次曝光的方式重組所造成的缺失。請復參閱第一B圖，以邊界區域B的凸圖案20C為例，若凸圖案20C的左側為第一次曝光形成的凸面，而凸圖案20C的右側為第二次曝光形成的凸面，而兩次曝光可能因機台光罩位置、有機層曝光位置或人為操作等等上的變動因素，而會造成此凸圖案20C的不完整性或是凸面的高低起伏差異大，導致邊界區域B的反射結構產生影響，進而影響光學反射的效率差，如光學反射率下降或光學反射顏色的差異性大等等缺點。

另外，本實施例之該第一曝光區域11與該第二曝光區域13之分界線為該曲折邊界200，以該曲折邊界200作為複數個曝光區域的分界線相較於以直線作為複數個曝光區域(未圖示)的分界線較好。若該曲折邊界200產生光學反射瑕疵，其會因為該曲折邊界200之兩側之曝光區域的反射結構面並不相等(即並非對等設置)，而產生光學反射的互補現象，能夠降低面板於光學反射時，其面板表面產生明顯的線痕或紋路。若複數個曝光區域的分界線以直線為分界線，則會導致直線之兩側的曝光區域相同或接近相似對等設置的方式，而不會有所謂光學互補的現象。當面板於進行光學反射時，能夠明顯的看出兩側的曝光區域，進而曝光區域之分界間會產生明顯的直線痕跡或紋路。

本實施例針對於習知技術之缺點進行改良，習知技術中，由於面板尺寸相對於曝光機台之光罩大時，需要透過分割曝光的方式進行曝光製程。有關於習知技術的面板分割曝光後，其係由於經多次曝光區域後，於各個曝光區域之間的邊界處會因為曝光的先後而產生不一致的情況，進而產生對位偏差與邊緣擴散曝光，通常會於面板的外觀底色上產生明顯的線痕或紋路等。故，本實施例提供一種分割曝光之有機層結構，其優點在於，將該有機層1之表面以該曲折邊界200劃分為該第一曝光區域11之該些個第一凸圖案101與該第二曝光區域13之該些個第二凸圖案102，其中該曲折邊界200之邊界線並無經每一該第一凸圖案101與每一該第二凸圖案102之反射結構，所以每一該第一凸圖案101與每一該第二凸圖案102皆是一次完整形成。且該第一曝光區域11與該第二曝光區域13具有對該曲折邊界200處的反射進行光學互補的效果。如此降低該第一曝光區域11與該第二曝光區域13間之相鄰邊(即曲折邊界200)處所產生的明顯的線痕或紋路。

請復參閱第二A圖，本實施例更進一步說明於前一實施例中，對該有機層1進行分割曝光之光罩結構，而光罩結構也並非限定為兩個光罩，其依據使用者劃分該有機層1之曝光區域數量而定。於本實施例中，該光罩結構2具有一光罩圖面100，該光罩圖面100用於曝光該有機層1，該光罩結構2包含一主光罩21與一副光罩22。該主光罩21具有複數個第一凸圖面210，並於其一側具有一第一側面211。該副光罩22具有複數個第二凸圖面220，並於其一側具有一第二側面221，該第一側面211嵌合於該第二側面221，並該第一側面211與該第二側面221為曲折面。其中每一該第一凸圖面210相同於每一該第二凸圖面220。

於本實施例中，該主光罩21之該些個第一凸圖面210對應於該有機層1之該第一曝光區域11的該些個第一凸圖案101。該副光罩22之該些個第二凸圖面220對應於該有機層1之該第二曝光區域13的該些個第二凸圖案102。該第一側面211與該第二側面221兩者結合之曲折面對應於該第一曝光區域11與該第二曝光區域13間之該曲折邊界200。如此該主光罩21與該副光罩22之面積總和等於該有機層1之一表面10的面積。

承上所述，該些個第一凸圖面210分別對應於該些個第一凸圖案101。該些個第二凸圖面220分別對應於該些個第二凸圖案102。其中該些個第一凸圖面210、該些個第二凸圖面220或該第一凸圖面210與該第二凸圖面220間的距離介於1μm到8μm之間。每一該第一凸圖面210與每一該第二凸圖面220之直徑為4μm到30μm之間。

綜合上述，本創作為一種分割曝光之有機層結構及其光罩結構，其將該有機層之表面以曲折邊界劃分成複數個曝光區域，而曲折邊界之虛擬線並無通過該些個第一凸圖面或該些個第二凸圖面，及該些個第一凸圖面與該些個第二凸圖面皆經過一次性的完整曝光形成，如此降低於該些個第一凸圖面與該些個第二凸圖面上所形成的瑕疵與對光學反射的影響等等。本創作能降低面板經複數次曝光後，該些個曝光區域間的對位偏差與邊緣擴散曝光影響，使面板外觀無明顯的線痕或紋路。又，本創作之分割曝光的布局設計，其能提高面板於進行光學反射的完整性且面板色彩無失真。

由上述可知，本新型確實已經達於突破性之結構，而具有改良之新型內容，同時又能夠達到產業上利用性與進步性，當符合專利法之規定，爰依法提出新型專利申請，懇請　鈞局審查委員授予合法專利權，至為感禱。

10C‧‧‧有機層

20C‧‧‧凸圖案

100C、200C‧‧‧曝光區域

B‧‧‧邊界區域

1‧‧‧有機層

10‧‧‧表面

100‧‧‧光罩圖面

101‧‧‧第一凸圖案

102‧‧‧第二凸圖案

11‧‧‧第一曝光區域

13‧‧‧第二曝光區域

2‧‧‧光罩結構

21‧‧‧主光罩

22‧‧‧副光罩

200‧‧‧曲折邊界

210‧‧‧第一凸圖面

211‧‧‧第一側面

220‧‧‧第二凸圖面

221‧‧‧第二側面

W‧‧‧距離

D‧‧‧直徑

第一A圖：其為習知技術之示意圖一； 第一B圖：其為習知技術之示意圖二； 第二A圖：其為本創作之分割曝光之有機層結構及其光罩結構之示意圖； 第二B圖：其為本創作之分割曝光之有機層結構及其光罩結構之側視圖； 第三A圖：其為本創作之分割曝光之有機層結構之示意圖；以及 第三B圖：其為第三A圖之A區域放大圖。

1‧‧‧有機層

10‧‧‧表面

100‧‧‧光罩圖面

101‧‧‧第一凸圖案

102‧‧‧第二凸圖案

11‧‧‧第一曝光區域

13‧‧‧第二曝光區域

2‧‧‧光罩結構

21‧‧‧主光罩

22‧‧‧副光罩

200‧‧‧曲折邊界

210‧‧‧第一凸圖面

211‧‧‧第一側面

220‧‧‧第二凸圖面

221‧‧‧第二側面

Claims (10)

1. 一種分割曝光之有機層結構，其用於一顯示面板內，該有機層包含：一第一曝光區域，其具有複數個第一凸圖案；以及一第二曝光區域，其設置於該第一曝光區域之一側，該第二曝光區域具有複數個第二凸圖案，並該第一曝光區域與該第二曝光區域之相鄰處為一曲折邊界，每一該第一凸圖案相同於每一該第二凸圖案。
2. 如申請專利範圍第1項所述之分割曝光之有機層結構，其中該曲折邊界位於該些個第一凸圖案與該些個第二凸圖案之間。
3. 如申請專利範圍第1項所述之分割曝光之有機層結構，其中該些個第一凸圖案或/及該些個第二凸圖案各別相互間距1μm到8μm之間。
4. 如申請專利範圍第1項所述之分割曝光之有機層結構，其中每一該第一凸圖案與每一該第二凸圖案之直徑為4μm到30μm之間。
5. 一種用於分割曝光之光罩結構，其具有一光罩圖面，該光罩圖面用於曝光一有機層，該光罩結構包含：一主光罩，其具有複數個第一凸圖面，並於其一側具有一第一側面；以及一副光罩，其具有複數個第二凸圖面，並於其一側具有一第二側面，該第一側面嵌合於該第二側面，並該第一側面與該第二側面為曲折面；其中每一該第一凸圖面相同於每一該第二凸圖面。
6. 如申請專利範圍第5項所述之用於分割曝光之光罩結構，其中該第一側面與該第二側面位於該些個第一凸圖面與該些個第二凸圖面之間。
7. 如申請專利範圍第5項所述之用於分割曝光之光罩結構，其中該主光罩之該些個第一凸圖面對應於該有機層之複數個第一凸圖案，該副光罩之該些個第二凸圖面對應於該有機層之複數個第二凸圖案。
8. 如申請專利範圍第5項所述之用於分割曝光之光罩結構，其中該主光罩與該副光罩之面積總和等於該有機層之一表面的面積。
9. 如申請專利範圍第5項所述之用於分割曝光之光罩結構，其中每一該第一凸圖面或/及每一該第二凸圖面各別相互間距1μm到8μm之間。
10. 如申請專利範圍第5項所述之用於分割曝光之光罩結構，其中每一該第一凸圖面與每一該第二凸圖面之直徑為4μm到30μm之間。