TWM243655U - Light guide plate and surface light source device - Google Patents

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TWM243655U TW091221273U TW91221273U TWM243655U TW M243655 U TWM243655 U TW M243655U TW 091221273 U TW091221273 U TW 091221273U TW 91221273 U TW91221273 U TW 91221273U TW M243655 U TWM243655 U TW M243655U
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Description

M243655 五、δ<| ί乍說明（ 【新型所 本創 置，尤其 光源裝置 【先前技 因液 為其提供 習知 板之入光 向，將線 面分佈複 反射條件 進而提昇 可有不同 括點光源 線光源二 Emitting 其具有不 請參 括一導光 惟，由於 使得導光 現，影響 請參
屬之技術領域】 作係關於一種導光板及採用該導光板之面光源裝 係關於一種具有良好均勻度及輝度之導光板及面 〇 術】 晶顯示器面板本身不具發光特性’需面光源裝置 均勻之平面光，以獲得良好之視覺效果。 面光源裝置包括光源與導光板，光源係相對導光 面設置，該導光板引導自光源發出光束之傳輸方 光源或點光源轉換成面光源出射。該導光板之底 數散射點，用以破壞光束於導光板内部傳輸之全 ，且使其散射以提高導光板出射光束之均勻性， 面光源裝置之整體性能。該網點之疏密、大小均 設計以適應不同之面光源裝置。其中光源主要包 與線光源，線光源通常採用冷陰極螢光燈，該種 端光輝度分佈較弱；點光源通常採用LED( Light Diode，發光二極體），且對於規格不同之LED， 同之發光角度。 閱第一圖所示，一種習知技術之面光源裝置1 0包 板1 2 0與設置於該導光板1 2 0 —側之線光源1 1 0。 線光源1 1 0之輝度分佈於二端較弱，中部較強， 板1 2 0鄰近線光源1 1 0之二端角處會有暗區1 3 0出 導光板120出射光之均勻度與輝度。 閱第二圖所示，又一種習知技術之面光源裝置2 0
第5頁 M243655 五、創作說明（2) 包括一導光板2 2 0、設置於導光板2 2 0 —側之LED光源2 10及 一設置於該導光板2 2 0底面之反射板(圖未示）。LED光源 2 1 0以一定之發光角度（最大之發光角為1 3 0度）發出的光 進入導光板2 2 0中。惟，光線進入導光板2 2 0之光能量分佈 亦不均勻，其中在鄰近光源2 1 0且位於發光角度之外之部 份區域形成暗區2 3 0，其輝度最低，影響導光板2 2 0出射光 之均句性及輝度。 一般提高導光板出光輝度消除暗區之方法為增加LED 數目，可減少LED間距使光能涵蓋整個顯示區域，但會增 加面光源裝置之成本。 另一種解決方法為將LED與導光板之顯示區域距離變 大，但會增加面光源裝置之體積。 有鑑於此，提供一種出光均勻且輝度較高之導光板與 面光源裝置實為必要。 【新型内容】 本創作之一目的在於提供一種出光均勾且輝度較高之 導光，板。 本創作之又一目的在於提供一種出光均勻且輝度較高 之面光源裝置。 本創作之導光板包括至少一用以接收光之入光面、一 與入光面相交之光出射面及一與該光出射面相對之底面， 其中，該底面設有溝槽陣列與複數散射點，該溝槽陣列鄰 近於該入光面排列。 本創作之面光源裝置包括一具有至少一用以接收光之
iBI
第6頁 M243655 五、創作說明（::3) 入光面之導光板與至少一設置於對應入光面一側之光源， 該導光板進一步包括一與入光面相交之光出射面及一與該 光出射面相對之底面，其中，該底面設有溝槽陣列與複數 散射點，該溝槽陣列鄰近於該入光面排列。 與習知技術相比，本創作之功效在於：該導光板之底 面鄰近入光面處設有溝槽陣列，其可將光源發出之光線擴 散至導光板之光能量弱區栢對應之底面，再藉由底面散射 點之散射作用，進而消除暗區，不但使導光板之出光較均 勻’且提南導光板之輝度’採用該導光板之面光源裝置亦 具有良好均勻度與輝度，同時因無需將LED與導光板之顯 示區域距離變大即可消除暗區，因此面光源裝置結構較為 緊湊。另外，在不增加L E D數目時使光束能涵蓋整個顯示 區域而消除暗區，因此可減少面光源裝置之成本。 【實施方式】 請參閱第三圖，本創作之導光板3 2包括用以接收光之 入光面321、引導光出射且與入光面321相交之光出射面 325及與光出射面325相對之底面323。該底面323設置溝槽 陣列.3 2 8與複數散射點3 2 9，其中該溝槽陣列3 2 8鄰近於入 光面3 2 1，且大致成等間距排列。該溝槽陣列3 2 8之每一溝 槽3 2 7為半圓柱形，亦可為部份橢圓柱形或部份圓錐形。 該溝槽3 2 7之半徑小於0 · 1 mm，其圓弧面具有特定之曲率， 以使經過溝槽3 2 7之光線依據光反射定律而產生擴散。該 複數散射點3 2 9之大小係沿遠離入光面3 2 1之方向遞增，其 可為橢圓球狀、圓柱狀、正方體、金字塔形或其他合適的
M243655 五、創作說明（4) 形狀。另外，該溝槽陣列3 2 8可藉由導光板射出成型一體 射出，亦可採用V - C U t法、腐蝕法、雷射加工法、銑刀力α 工法及電鑄法等方法設置；該複數散射點3 2 9可藉由導光 板射出成型一體射出，亦可用印刷法印製而成。 請一併參閱第四圖，本創作面光源裝置3包括一光源 31與第三圖所示之導光板32。該光源31係設置於導光板32 之入光面3 2 1 —側之線光源，如冷陰極螢光燈。因光源3 1 本身輝度分佈不均，中間部份輝度分佈較強且均勻，二端 輝度分佈較弱且輝度由二端向中間部份漸強，故入射至鄰 近光源31之導光板32之二對邊角落光能量較弱，致使自光 源3 1入射至導光板32之光能量之弱區出射光輝度較弱，形 成暗區。每一對邊角落（圖未示）係大致呈扇形，.且該扇 形區係入光面321、與入光面321相交之側面（未標示）及一 曲線所界定之區域，且該曲線係自入光面3 2 1 —側之預定 位置（未標示）處至與入光面3 2 1相交之側面一側之預定位 置（未標示）處。因在鄰近入光面321之底面323處設置與入 射光，方向相同排列之溝槽陣列3 2 8，其可使光束發生散 射，以使散射至對角邊落之光束增多，使入射光線之涵蓋 范圍增大，不但增強光輝度，進而改善光出射面3 2 5之出 射光均勻度。 請參閱第五圖，本創作第二實施方式之面光源裝置4 與第一實施方式不同之處在於該導光板42包括二相對之入 光面4 2 1與位於該入光面4 2 1二側之光源4 1。其中在鄰近入 光面4 2 1處分別設置溝槽陣列4 2 8，該導光板4 2之底面4 2 3
第8頁 M243655 五、創ί乍說明（5 ; 其ί也區域設置複數散射點4 2 9，該複數散射點4 2 9之大小係 分別4边離入光面4 2丨之方向遞增，因此在導光板4 2之中 β區域散射點4 2 9最大°因散射點4 2 9可破壞入射光束之全 反射條件，使光束發生散射；在鄰近二入光面4 2 1處分別 設置溝槽陣列4 2 8，可使光東發生散射，以使散射至暗區 之光束增多’使入射光線之涵盖范圍增大，不但增強光輝 度，進而改善導光板4 2出射光之均勻性。 請參閱第六圖所示，本發明第三實施方式之面光源裝 置5與第一實施方式不同之處在於其採用一楔形導光板 5 2 ’位於導光板5 2 —側之光源5 1為L E D光源，其可根據需 要設置一個或複數個。底面5 2 3設置溝槽陣列5 2 8與複數散 射點5 2 9，溝槽陣列5 2 8可使入射光線之涵蓋范圍增大，從 而消除導光板5 2之暗區，不但增強光輝度，進而改善光出 射面525之出射光均勻度。 另外’為使面光源裝置3、4及5之出射光更為均勺， 可在導光板32、42及52之光出射面設置複數ν型槽或錯杏 狀凹’槽’亦可在導光板32、42及52上面加一稜鏡板或擴^散 板。其中該V型槽或鋸齒狀凹槽可用V-Cut法、雷射加工月 法、銑刀加工法等方法設置。 / /1 A 个届'J I P作。何/合矛父寻才IJ要件，爰化、去 式，舉 請。惟，以上所述者僅為本創作之較佳實施方 ^ 熟悉本案技藝之人士’在援依本案創作I所 之等效修飾或變化，皆應包含於以下之申請衷女丨# I月号刊乾圍内
M243655 圖式簡單說明 第 一 圖 係 習 知技術面 光源 裝 置 之 平 面 示 意圖 〇 第 二 圖 係 又 一習知技 術面 光 源 裝 置 之 平 面示 意圖。 第 二 圖 係 本 創作導光 板之 立 體 圖 〇 第 四 圖 係 採 用第三圖 所示 導 光 板 之 面 光 源裝 置之平 面示 圖 〇 第 五 圖 係 本 創作第二 實施 方 式 面 光 源 裝 置之 平面示 意圖 第 /、 圖 係 本 創作第三 實施 方 式 面 光 源 裝 置之 立體圖 〇 [ 元 件 符 號 說明】 面 光 源 裝 置 3 ，4, 5 光 源. 31，41，51 導 光 板 3 2, 42, 5 2 入 光 面 321， 421， 521 光 出 射 面 3 2 5, 525 底 面 3 2 3, 423， 523 溝 槽 陣 列 328,428 ，528 溝 槽 3 2 7, 427 散 射 點 3 2 9, 42 9 ，529
第ίο頁

Claims (1)

  1. M243655 申請專利範圍 1. 一種導 至少一 一與入 一與該 其中， 列鄰 2. 如申請 列為半 3. 如申請 列之半 4. 如申請 列之圓 散經過 5. 如申請 射點可 6. 如申請 :射點之 7. 如申請 面設置 8. 如申請 9. 為平板 一種面 一導光 入光 光板，其包括： 用以接收光之入光面； 光面相交之光出射面； 光出射面相對之底面； 該底面設有溝槽陣列與複數散射點，該溝槽陣 近於該入光面排列。 專利範圍第1項所述之導光板，其中該溝槽陣 圓柱形、部份橢圓柱形或部份圓錐形。 專利範圍第1項所述之導光板，其中該溝槽陣 徑小於0 . 1 mm。 專利範圍第2項所述之導光板，其中該溝槽陣 弧面具有特定之曲率，其根據光反射定律以擴 每一溝槽之入射光線使其均勻分佈。 專利範圍第1項所述之導光板，其中該複數散 為橢圓球狀、圓柱狀、正方體或金字塔形。 專利範圍第5項所述之導光板，其中該複數散 大小係沿遠離入光面之方向遞增。 專利範圍第1項所述之導光板，其中該光出射 複數V型槽或鋸齒狀凹槽。 專利範圍第1項所述之導光板，其中該導光板 形或楔形。 光源裝置，其包括： 板，其包括至少一用以接收光之入光面、一與 面相交之光出射面及一與該光出射面相對之底
    第11頁 M243655 申請專利範圍 面：及 至少一設置於對應入光面一側之光源； 該溝槽陣 其中，該底面設有溝槽陣列與複數散射I 列鄰近於該入光面排列。 10 11 如申請專利範圍第9項所述之面光源裝置，其中該溝 槽陣列可為半圓柱形、部份橢圓柱形或部份圓錐形。 如申請專利範圍第9項所述之面光源裝置，其中該光 源為L E D或冷陰極螢光燈。 其中該導 其中該溝 其中該溝 1 2.如申請專利範圍第9項所述之面光源裝置 光板為平板形或楔形。 1 3.如申請專利範圍第9項所述之面光源裝置 槽陣列之半徑小於0 . 1 mm。 1 4.如申請專利範圍第1 0項所述之面光源裝置 槽陣列之圓弧面具有特定之曲率，其根據光反射定律 以擴散經過每一溝槽之入射光線使其均勻分佈。 1 5.如申請專利範圍第9項所述之面光源裝置，其中該複 ，數散射點可為橢圓球狀、圓柱狀、正方體或金字塔 形。 1 6.如申請專利範圍第1 5項所述之面光源裝置，其中該複 數散射點之大小係沿遠離入光面之方向遞增。 1 7.如申請專利範圍第9項所述之面光源裝置，其中該光 出射面設置複數V型槽或鋸齒狀凹槽。 1 8.如申請專利範圍第9項所述之面光源裝置，其中該面 光源裝置進一步包擴一稜鏡板，其位於導光板光出射
    第12頁 M243655
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