TWI836780B - 低折射率光學樹脂 - Google Patents

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TWI836780B
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optical resin
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index optical
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TW111147472A
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岡崎哲也
楊雯欣
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明基材料股份有限公司
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Abstract

本發明提供一種低折射率光學樹脂，其包含一聚矽氧烷組成物及一有機溶劑組成物，其中該聚矽氧烷組成物包含一聚矽氧烷及一羥烷基矽烷單體，且該有機溶劑組成物包含一沸點高於180°C之高沸點溶劑及一沸點低於150°C之低沸點溶劑；其中該有機溶劑組成物的使用量為每10重量份聚矽氧烷組成物使用50至120 重量份。此低折射率光學樹脂可用於微發光二極體顯示器以達到提升出光效率之功效，且在足夠的厚度下可維持良好的光學特性。

Description

低折射率光學樹脂
本發明係有關於一種低折射率光學樹脂，且特別是關於一種用於微發光二極體顯示器(micro-LED display)的低折射率光學樹脂。
隨著可自發光的電激發光型顯示器逐漸取代非自發光的液晶顯示器，發光二極體(LED)的功用也由提供液晶顯示器背光源，轉變成可作為自發光的顯示像素。然而，發光二極體應用於顯示像素時，除了面臨尺寸需縮小至微米級，方可形成所謂微發光二極體顯示器(micro-LED display)外，其發光晶片一般為磊晶後採巨量轉移至基板的方式直接形成顯示像素，而無法針對每一顆發光晶片單獨設置可調控光型及增加出光效率之微透鏡，使得發光效率難以達至理論值。此外，雖然微發光二極體的內部量子效率可輕易達到90%以上，但以高折射率的無機材料所製造的發光晶片與外部空氣折射率差過大，在無法搭配特定曲率之微透鏡改變出光角度下，容易產生全反射而使得外部量子效率極低(僅約10%)。
因此，習知可藉由在微發光二極體顯示器表面填充並覆蓋一折射率低於發光晶片之低折射層，以降低發光晶片與空氣介面之全反射，達到提升出光效率之功效。然而，由於該些微米級發光晶片在整體顯示區域與像素中的面積占比相當少，每一像素中的發光晶片與基板皆存在高度段差。因此，所塗覆的低折射層還須具備優異的填補性，進一步以避免眾多微小的發光晶片因與周圍基板之折射率差異過大，而在外界環境光線下產生閃爍、視感不佳的問題。
在已知技術中已揭示多種實施低折射率光學樹脂層的方法，例如使用中空無機粒子與適當黏結劑組合進行塗覆以形成的低折射率光學樹脂層，但若要達理想之折射率，需要添加大量中空無機粒子，大量的無機粒子會增加低折射層的霧度而影響光學性質，且易於固化過程中產生龜裂；亦揭示採用含氟聚合物做為低折射率光學樹脂層的材料，然其低表面能使得低折射率光學樹脂層與微發光二極體顯示器表面密著性較低，且其硬度和耐久性皆不佳。另外，在光波導光學相關技術上，亦揭示使用矽氧烷組合物在光導元件表面上以高於150℃的高溫固化形成奈米級孔洞的多孔塗層以達到具介電及低折射率的塗層，但此矽氧烷組合物在用於光學顯示器的塗覆時，該孔洞結構並不易在維持低折射率及低黃化現象下，獲得充足塗覆厚度且無龜裂之固化塗層。
因此，需要一種低折射率光學樹脂，其可用於微發光二極體顯示器以達到提升出光效率之功效，且在足夠的塗覆厚度下維持良好的光學特性。
本發明之目的係提供一種低折射率光學樹脂，其可用於微發光二極體顯示器以達到提升出光效率之功效。本發明之低折射率光學樹脂在固化後幾乎無黃化現象，使用於顯示器上時不影響其色調及彩度，且可達足夠的塗覆厚度而無龜裂現象。
本發明之低折射率光學樹脂包含一聚矽氧烷組成物及一有機溶劑組成物，其中該聚矽氧烷組成物包含一聚矽氧烷及一羥烷基矽烷單體，且該有機溶劑組成物包含一沸點高於180°C之高沸點溶劑及一沸點低於150°C之低沸點溶劑；其中該有機溶劑組成物的使用量為每10重量份聚矽氧烷組成物使用50至120重量份。
在本發明之低折射率光學樹脂中，該有機溶劑組成物包含97到80重量百分比之高沸點溶劑及3到20重量百分比之低沸點溶劑，且較佳包含95到85重量百分比之高沸點溶劑化合物及5到15重量百分比之低沸點。
本發明之低折射率光學樹脂可於50°C至170°C間進行固化，較佳在60°C至160°C間固化。固化後的低折射率光學樹脂層的黃度指數不大於1.5，較佳為不大於1，且折射率係介於1.1至1.35間，較佳為介於1.2至1.3間。
本發明之低折射率光學樹脂於固化後形成的低折射率光學樹脂層之表面粗糙度Sa介於5 μm至50 μm間。
本發明之低折射率光學樹脂於25°C下的黏度係介於2至20 mPa.s，且表面張力係介於20至40 dyne/cm間。
在本發明之低折射率光學樹脂中，該有機溶劑組成物中的該高沸點溶劑之表面張力係介於30 dyne/cm至38 dyne/cm間，且該低沸點溶劑之表面張力係介於23 dyne/cm至30 dyne/cm間。
在本發明低折射率光學樹脂之一實施態樣中，該有機溶劑組成物的高沸點溶劑可部份包含一沸點介於150°C及180°C間且表面張力介於20 dyne/cm至30 dyne/cm間的中沸點有機溶劑，其中該高沸點溶劑中的該中沸點溶劑的含量為25至45重量百分比。
在本發明之低折射率光學樹脂中，其中該聚矽氧烷組成物中每10重量份聚矽氧烷使用10至70重量份之羥烷基矽烷單體。
在本發明之低折射率光學樹脂中，該聚矽氧烷組成物中的聚矽氧烷由矽烷單體水解及縮合或共縮合而製得，且重均分子量(Mw)為介於5,000至100,000 g/mol間。
在本發明之低折射率光學樹脂中，該羥烷基矽烷單體之結構如式(I)所示: 其中，R1、R2、R3、R4和R5各自係獨立為任選自C1-C10烷基和C5-C20芳基，且可任選地被C1-C10烷基或C3-C10脂環基單取代、二取代或三取代； R6為C6至C30的烷基鏈，且其上任意含有1至3個雙鍵或三鍵，並包含至少一個羥基； n為0至10間的整數，且該羥烷基矽烷單體之沸點係介於80至180°C間。
上述發明內容旨在提供本揭示內容的簡化摘要，以使閱讀者對本揭示內容具備基本的理解。此處的發明內容並非本揭示內容的完整概述，且其用意並非在指出本發明實施例的重要/關鍵元件或界定本發明的範圍。在參閱下文實施方式後，本發明所屬技術領域中具有通常知識者當可輕易瞭解本發明之基本精神及本發明所採用之技術手段與實施態樣。
為了使本發明揭示內容更加詳盡與完備，下文針對了本發明的實施態樣與具體實施例提出了說明性的描述；但這並非實施或運用本發明具體實施例的唯一形式。以下所揭露的各實施例，在有益的情形下可相互組合或取代，也可在一實施例中附加其他的實施例，而無須進一步的記載或說明。
本發明之優點、特徵以及達到之技術方法將參照例示性實施例進行更詳盡地描述而更容易理解，且本發明或可以不同形式來實現，故不應被理解僅限於此處所陳述的實施例，相反地，對所屬技術領域具有通常知識者而言，所提供的實施例將使本發明更加透徹與全面且完整地傳達本發明的範疇，且本發明將僅為所附加的申請專利範圍所定義。
而除非另外定義，所有使用於後文的術語(包含科技及科學術語)與專有名詞，於實質上係與本發明所屬該領域的技術人士一般所理解之意思相同，而例如一般所使用的字典所定義的那些術語應被理解為具有與相關領域的內容一致的意思，且除非明顯地定義於後文，將不以過度理想化或過度正式的意思理解。
本發明之目的係提供一種低折射率光學樹脂，其包含一聚矽氧烷組成物及一溶劑組成物。本發明之低折射率光學樹脂固化後所形成的低折射率光學樹脂層有1.1至1.35間的折射率以達到提升出光效率之功效，且具有適用於微發光二極體顯示元件填充的厚度並維持良好的抗龜裂性，且幾乎無黃化現象，不影響顯示器的色調及彩度。
本發明之低折射率光學樹脂，其包含一聚矽氧烷組成物及一有機溶劑組成物，其中該聚矽氧烷組成物包含一聚矽氧烷及一羥烷基矽烷單體，且該有機溶劑組成物包含一沸點高於180°C之高沸點溶劑及一沸點低於150°C之低沸點溶劑；其中該有機溶劑組成物的使用量為10重量份聚矽氧烷組成物使用50至120重量份。
本發明之低折射率光學樹脂在50°C至170°C加熱固化時，在樹脂中的聚矽氧烷組合物中的聚矽氧烷固化開始時，因具有沸點梯度之有機溶劑組成物造成特定方向性之揮發主導，進而均化羥烷基矽烷之氣化，以形成均勻多孔狀的聚矽氧烷層，使得其即使在足夠的塗覆厚度下，塗層可保持其低折射率，亦無龜裂或黃化現象。在本發明之低折射率光學樹脂之一實施例中，該有機溶劑組成物包含97到80重量百分比之高沸點溶劑及3到20重量百分比之低沸點溶劑。在一較佳實施例中，該有機溶劑組成物包含95到85重量百分比之高沸點溶劑及5到15重量百分比之低沸點溶劑。
本發明之低折射率光學樹脂可採用輥式塗佈法、刮刀式塗佈法、浸塗法、滾輪塗佈法、旋轉塗佈法、噴墨塗佈法等此技術領域泛用的塗佈方法進行塗佈，並於50°C至170°C間固化，較佳在60°C至160°C間，以形成具有黃度指數不大於1.5，較佳為不大於1且折射率係介於1.1至1.35間，較佳為介於1.2至1.3間的低折射率光學樹脂層。本發明之低折射率光學樹脂於塗佈後固化的厚度可達1 µm 以上，且為更佳實現上述羥烷基矽烷之氣化，在本發明之低折射率光學樹脂之一較佳實施例中，可依需要進行多層塗佈達到所需厚度。本發明之低折射率光學樹脂於加熱固化過程中，聚矽氧烷分子鏈依附溶劑組成物之特定擴散與揮發條件，進而產生排列方向性，故該低折射率光學樹脂即使通過多層塗佈亦為巨觀上之連續塗膜，其折射率或黃度指數等光學特性幾乎不受層間介面影響。
本發明之低折射率光學樹脂於固化後形成之低折射率光學樹脂層的表面粗糙度Sa介於5 μm至50 μm間。若表面粗糙度Sa過低，則膜面之表面能不足，不利於後續的封裝或其他功能層之塗貼制程；若表面粗糙度Sa過高，則將使得形成之低折射率光學樹脂層霧度過高。
當使用本發明之低折射率光學樹脂於微發光二極體顯示元件之表面時，較佳為採用噴墨塗佈法有利於具有段差面的塗佈方式。在此一實施態樣中，本發明之低折射率光學樹脂於25°C的黏度較佳為介於2至20 mPa.s，若於25°C的黏度低於2 mPa.s，則不利於噴墨塗佈時產生穩定連續且支撐性佳的液珠；若黏度高於20 mPa.s，則於噴墨塗佈時的流動性低落。
再者，本發明之低折射率光學樹脂在微發光二極體顯示元件上可形成具足夠厚度的低折射率光學樹脂層，並可維持良好的抗龜裂性。本發明之低折射率光學樹脂之表面張力係介於20至40 dyne/cm。若低折射率光學樹脂之表面張力低於20 dyne/cm，則不利於噴墨塗佈時於塗佈口保持穩定液珠，且不易進行表面之再次塗覆；若表面張力高於40 dyne/cm，則低折射率光學樹脂之流動性不佳，且易於使低折射率光學樹脂於固化後產生結晶，進而影響低折射率光學樹脂層之透明度與密著性。
在本發明之低折射率光學樹脂之一較佳實施例中，該低折射率光學樹脂於固化後形成之低折射率光學樹脂層，其光穿透率係不小於91%，且黃度指數不大於1.5，較佳為不大於1，因此不影響顯示元件的色調及彩度。
在本發明之低折射率光學樹脂中，該有機溶劑組成物中的高沸點溶劑之表面張力係介於30 dyne/cm至38 dyne/cm間，且該低沸點溶劑之表面張力係介於23 dyne/cm至30 dyne/cm間。
在本發明之低折射率光學樹脂中，該有機溶劑組成物之高沸點溶劑可為例如但不限於酯類溶劑的丁二酸二甲酯、戊二酸二甲酯、γ-丁內酯或乙二醇丁醚醋酸酯； 醚類溶劑的乙二醇單丁醚、三乙二醇丁醚、二乙二醇單乙醚或四乙二醇二甲醚； 吡咯類溶劑的1-苯基吡咯啉、2-吡咯烷酮或N-甲基吡咯烷酮其中之一或其組合，但不限於此。在本發明之低折射率光學樹脂之一較佳實施例中，該高沸點溶劑可為γ-丁內酯、二乙二醇單乙醚或N-甲基吡咯烷酮之一或其組合。
在本發明之低折射率光學樹脂中，該低沸點溶劑可為例如但不限於醇類溶劑或醇醚類溶劑。醇類溶劑可為例如但不限於正戊醇、異戊醇2-乙基丁醇、2-甲基-2-丁醇或2,2-二甲基丙醇之其中之一或其組合。醇醚類溶劑可例如但不限於乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇二甲醚、丙二單醇甲醚或丙二醇甲醚醋酸酯之其中之一或其組合。在本發明之低折射率光學樹脂之一較佳實施例中，該低沸點溶劑為2-乙基丁醇、2-甲基-2-丁醇、乙二醇單乙醚、乙二醇二甲醚或丙二醇單甲醚之一或其組合。
在本發明之低折射率光學樹脂中，該有機溶劑組成物的高沸點溶劑可部份包含一沸點介於150°C及180°C間且表面張力介於20 dyne/cm至30 dyne/cm間的中沸點有機溶劑，其中該高沸點溶劑中的該中沸點溶劑的含量為25至45重量百分比。
在本發明之低折射率光學樹脂中，適用的中沸點溶劑可為例如但不限於醇類溶劑或醇醚類溶劑。醇類溶劑可為例如但不限於3-甲氧基丁醇、4-甲基-1-戊醇或二丙酮醇其中之一或其組合。醇醚類溶劑可為例如但不限於為丙二醇正丙醚、乙二醇單叔丁基醚或乙二醇單丁醚其中之一或其組合。在本發明之低折射率光學樹脂之一較佳實施例中，該中沸點溶劑為3-甲氧基丁醇，4-甲基-1-戊醇之一或其組合。在本發明之低折射率光學樹脂中，該聚矽氧烷組成物之聚矽氧烷及該羥烷基矽烷單體的使用量為每10重量份聚矽氧烷使用10至70重量份之羥烷基矽烷單體。
在本發明之低折射率光學樹脂中，該聚矽氧烷組成物之聚矽氧烷可由矽烷單體水解及縮合或共縮合而製得，合適的矽烷單體可為例如但不限於四甲氧基矽烷、四乙氧基矽烷、二甲基二甲氧基矽烷、二甲基二乙氧基矽烷、甲基三甲氧基矽烷、甲基三乙氧基矽烷、三甲基甲氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷或苯基三甲氧基矽烷之一或其組合。該聚矽氧烷之重均分子量(Mw)為介於5,000 g/mol至100,000 g/mol 間，且較佳為介於20,000 g/mol至50,000 g/mol 間。
在本發明之低折射率光學樹脂中，該聚矽氧烷組成物之羥烷基矽烷單體可為具如式(I)所示結構的單體： 其中，R1、R2、R3、R4和R5各自係獨立為任選自C1至C10烷基和C5-C20芳基，且可任選地被C1-C10烷基或C3-C10脂環基單取代、二取代或三取代； R6為C6-C30的烷基鏈，且其上任意含有一至三個雙鍵或三鍵，並包含至少一個羥基； n為0至10間的整數。在本發明之低折射率光學樹脂之一較佳實施例中，該羥烷基矽烷單體如式(I)所示之結構中，R6為C10-C20的烷基鏈，且該羥烷基矽烷單體之沸點較佳為介於80至180°C間
在本發明之低折射率光學樹脂中，該聚矽氧烷組成物亦可包含一短鏈聚矽氧烷，如1至20個矽原子的雙(羥基)-低聚(二烷基矽氧烷)可強化低折射率光學樹脂於固化中的機械性質。
本發明之低折射率光學樹脂中使用的聚矽氧烷組成物較佳可採用市售商品，例如日本NAGASE & CO., LTD.製造的“IOC-572-JO1”、“IOC-573-J2”、“IOC-573-J6”或“IOC-573-J4”等。
在本發明之低折射率光學樹脂之其它實施例中，亦可視需求添加固化催化劑、抗靜電劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、表面改質劑、流平劑和消泡劑等之添加劑，以提供不同的功能性質。
下述實施例係用來進一步說明本發明，但本發明之內容並不受其限制。
實施例
實施例1
將10克聚矽氧烷組成物(IOC-573-J2，購自NAGASE & CO., LTD.，日本) 、5克丙二醇單甲醚(PGME)及85克N-甲基吡咯烷酮(NMP)充分混合後，獲得表面張力為37 dyne/cm且於25°C下的黏度為7.6mPa・s之低折射率光學樹脂。
將該低折射率光學樹脂噴墨塗佈至玻璃基板表面上，再經固化溫度為150°C固化後，形成厚度為1.75微米且折射率為1.25之低折射率光學樹脂層，其外觀無龜裂。前述形成的低射率光學樹脂層依後述之光學檢驗方法測定該低折射率光學樹脂層的光學性質，測量結果列於下表1。
於得到的低射率光學樹脂層上，重複進行前述噴墨塗佈及固化二次，以形成厚度為3.82微米且折射率為1.22之低折射率光學樹脂層，其外觀無龜裂。前述形成的低射率光學樹脂層依後述之光學檢驗方法測定該低折射率光學樹脂層的光學性質，測量結果列於下表1。
實施例2
將15克聚矽氧烷組成物(IOC-573-J4，購自NAGASE & CO., LTD.，日本) 、7克丙二醇單甲醚(PGME)及80克二乙二醇二乙醚(DEMEE)充分混合後，獲得表面張力為24 dyne/cm且於25°C下的黏度為12.5 mPa・s之低折射率光學樹脂。
將該低折射率光學樹脂噴墨塗佈至玻璃基板表面上，再經固化溫度為80°C固化後，形成厚度為3.18微米且折射率為1.26之低折射率光學樹脂層，其外觀無龜裂。前述形成的低射率光學樹脂層依後述之光學檢驗方法測定該低折射率光學樹脂層的光學性質，測量結果列於下表1。
於得到的低射率光學樹脂層上，進行前述噴墨塗佈及固化一次，以形厚度為3.28微米且折射率為1.26之低折射率光學樹脂層，其外觀無龜裂。前述形成的低射率層依後述之光學檢驗方法測定該低折射率光學樹脂層的光學性質，測量結果列於下表1。
實施例3
實施例2的低折射率光學樹脂噴墨塗佈至玻璃基板表面上，再經固化溫度為150°C固化後，形成低射厚度為2.82微米且折射率為1.24之低折射率光學樹脂層，其外觀無龜裂。前述形成的低射率光學樹脂層依後述之光學檢驗方法測定該低折射率光學樹脂層的光學性質，測量結果列於下表1。
於得到的低射率光學樹脂層上，重複進行前述噴墨塗佈及固化重複五次，以形厚度為8.02微米且折射率為1.23之低折射率光學樹脂層，其外觀無龜裂。前述形成的低射率層依後述之光學檢驗方法測定該低折射率光學樹脂層的光學性質，測量結果列於下表1。
實施例4
將10克聚矽氧烷組成物(IOC-573-J6，購自NAGASE & CO., LTD.，日本) 、7克丙二醇單甲醚(PGME) 、54克二乙二醇二乙醚(DEMEE)及29克丙二醇正丙醚(PnP)充分混合後，獲得表面張力為24 dyne/cm且於25°C下的黏度為8.1 mPa・s之低折射率光學樹脂。
將該低折射率光學樹脂噴墨塗佈至玻璃基板表面上，再經固化溫度為80°C固化後，形成厚度為3.26微米且折射率為1.26之低折射率光學樹脂層，其外觀無龜裂。前述形成的低射率光學樹脂層依後述之光學檢驗方法測定該低折射率光學樹脂層的光學性質，測量結果列於下表1。
於得到的低射率光學樹脂層上，重覆進行前述噴墨塗佈及固化五次，以形厚度為7.47微米且折射率為1.26之低折射率光學樹脂層，其外觀無龜裂。前述形成的低射率層依後述之光學檢驗方法測定該低折射率光學樹脂層的光學性質，測量結果列於下表1。
比較例1
將10克聚矽氧烷組成物(IOC-572-J1，購自NAGASE & CO., LTD.，日本) 、30克丙二醇單甲醚(PGME)及60克乙二醇(EG)充分混合後，獲得一低折射率光學樹脂。
將該光學樹脂噴墨塗佈至玻璃基板表面上，再經固化溫度為100°C固化後，形成厚度為2.8微米且折射率為1.25之低折射率光學樹脂層。前述形成的光學樹脂依後述之光學檢驗方法測定該低折射率光學樹脂層的光學性質，測量結果列於下表1。
光學檢驗方法
光穿透率測定：使用NDH-2000霧度計(日本電色工業公司製造)，依JIS K7361的量測方法測定。
霧度的量測：使用NDH-2000霧度計(日本電色工業公司製造)，根據JIS K7136的量測方法測定。
折射率的量測：使用CM-26d分光光度計(日本Konica Minolta Inc.製造) ，依JIS K0062：1992「化學製品之折射率測量方法」的量測方法測定。
L*、a*、 b*及黃度指數(YI)的量測 ：使用 CDM-08色差計(台灣坤菱科技有限公司製造)依CIE-Lab定義測量L*、a*及b*; 且根據ASTM E313的量測方法測定黃度指數。 表 1 : 實施例1至3及比較例1的低折射率光學樹脂層的光學性質量測結果
性質 實施例1 實施例2 實施例3 實施例4 比較例1
塗佈次數 1 3 1 2 1 6 1 6 1
厚度 (微米) 1.75 3.82 3.18 3.28 2.82 8.02 3.26 7.47 2.8
光穿透率(%) 93.1 93.0 93.1 93.1 92.4 92.8 92.9 93.0 90.8
霧度 (%) 0.11 0.70 0.20 0.24 2.15 4.42 0.39 0.40 5.64
折射率 1.25 1.22 1.26 1.26 1.24 1.23 1.26 1.26 1.25
L* 97.6 97.7 97.5 97.5 97.6 97.3 97.6 97.3 95.7
a* -0.1 -0.2 -0.2 -0.2 -0.2 -0.2 -0.2 -0.2 0.0
b* 0.3 0.4 0.3 0.3 0.3 0.5 0.2 0.4 1.0
黃度指數 0.4 0.6 0.5 0.5 0.5 0.8 0.4 0.7 2.2
本發明實施例1至4製得之低折射率光學樹脂在玻璃基板上固化後形成厚度分別介於1.75至8.02微米、黃度指數分別介於0.4至0.8、折射率係分別介於1.22至1.26且無龜裂之低折射率光學樹脂層。 且，可藉由多次塗佈與固化達成所需厚度之低折射率光學樹脂層，而折射率或黃度指數等光學特性幾乎不受層間介面影響。作為比較例，使用較多低沸點溶劑丙二醇單甲醚之比較例1，其低折射率光學樹脂層雖具有1.25之折射率，但黃度指數高達2.2，並不適用於微發光二極體顯示器之塗覆。因此，實施例1至實施例4之低折射率光學樹脂使用於微發光二極體顯示器的塗覆時，可達足夠的塗覆厚度且無龜裂，進一步提升出光效率，且在固化後幾乎無黃化現象，不影響顯示器的色調及彩度。
雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何熟習此技藝者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可做各種之更動與潤飾，因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
無

Claims (14)

  1. 一種低折射率光學樹脂，其包含：一聚矽氧烷組成物，其包含一聚矽氧烷及一羥烷基矽烷單體；及一有機溶劑組成物，其包含一沸點高於180℃之高沸點溶劑及一沸點低於150℃之低沸點溶劑，其中該高沸點溶劑之含量為97到80重量百分比，該低沸點溶劑之含量為3到20重量百分比；其中，該有機溶劑組成物的使用量為每10重量份聚矽氧烷組成物使用50至120重量份；其中，該低折射率光學樹脂於固化後的折射率係介於1.1至1.35間。
  2. 如請求項1所述之低折射率光學樹脂，其中該有機溶劑組成物中的高沸點溶劑之含量為95到85重量百分比，該低沸點溶劑之含量為5到15重量百分比。
  3. 如請求項1所述之低折射率光學樹脂，其中該低折射率光學樹脂之固化溫度係介於50℃至170℃間。
  4. 如請求項1所述之低折射率光學樹脂，其中該低折射率光學樹脂於固化後的黃度指數不大於1.5。
  5. 如請求項1所述之低折射率光學樹脂，其中該低折射率光學樹脂於固化後之表面粗糙度Sa介於5μm至50μm間。
  6. 如請求項1所述之低折射率光學樹脂，其中該低折射率光學樹脂於25℃下的黏度係介於2至20mPa.s，且表面張力係介於20至40dyne/cm間。
  7. 如請求項1所述之低折射率光學樹脂，其中該高沸點溶劑之表面張力係介於30dyne/cm至38dyne/cm間，且該低沸點溶劑之表面張力係介於23dyne/cm至30dyne/cm間。
  8. 如請求項1所述之低折射率光學樹脂，其中該高沸點溶劑為γ-丁內酯、二乙二醇單乙醚、N-甲基吡咯烷酮或其組合。
  9. 如請求項1所述之低折射率光學樹脂，其中該低沸點溶劑為2-乙基丁醇、2-甲基-2-丁醇、乙二醇單乙醚、乙二醇二甲醚、丙二醇單甲醚或其組合。
  10. 如請求項1所述之低折射率光學樹脂，其中該有機溶劑組合物的該高沸點溶劑部份包含一沸點介於150℃及180℃間且表面張力介於20dyne/cm至30dyne/cm間的中沸點有機溶劑。
  11. 如請求項10所述之低折射率光學樹脂，其中該高沸點溶劑中的該中沸點溶劑的含量為25至45重量百分比。
  12. 如請求項1所述之低折射率光學樹脂，其中該聚矽氧烷組成物中每10重量份聚矽氧烷使用10至70重量份之羥烷基矽烷單體，且該羥烷基矽烷單體之沸點係介於80至180℃間。
  13. 如請求項1所述之低折射率光學樹脂，其中該聚矽氧烷是由矽烷單體水解及縮合或共縮合而製得，該矽烷單體選自下列組成之群組：四甲氧基矽烷、甲基三甲氧基矽烷、甲基三乙氧基矽烷、二甲基二甲氧基矽烷、二甲基二乙氧基矽烷、三甲基甲氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、苯基三甲氧基矽烷、甲基丙烯醯氧丙基三甲氧基矽烷及其等之組合，且重均分子量(Mw)為介於5,000至100,000g/mol間。
  14. 如請求項1所述之低折射率光學樹脂，其中該羥烷基矽烷單體之結構如式(I)所示：
    Figure 111147472-A0305-02-0018-1
     其中，R1、R2、R3、R4和R5各自係獨立為任選自C1至C10烷基和C5-C20芳基，且可任選地被C1-C10烷基或C3-C10脂環基單取代、二取代或三取代；R6為C6-C30的烷基鏈，且其上任意含有一至三個雙鍵或三鍵，並包含至少一個羥基；n為0至10間的整數。
TW111147472A 2022-12-09 低折射率光學樹脂 TWI836780B (zh)

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TW202033622A (zh) 2018-10-30 2020-09-16 日商中央硝子股份有限公司 樹脂組合物、感光性樹脂組合物、硬化膜、硬化膜之製造方法、圖案硬化膜及圖案硬化膜之製作方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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