TWI828180B - 電路板交換載具的方法及系統 - Google Patents
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Abstract
一種電路板交換載具的方法及系統，系統包括第一循環系統、交換輸送機及第二循環系統，其方法步驟為：使用第一載具承載電路板於第一化學沉積槽以逐片移動方式於電路板表面沉積第一金屬層；將第一載具移出第一化學沉積槽進入第一水洗槽，去除所附著的化學藥劑；將第一載具移至交換輸送機，電路板自第一載具內取出，經輸送後再送入第二載具內；第二載具承載電路板於第二化學沉積槽內以逐片移動方式於電路板表面沉積第二金屬層；將第二載具移出第二化學沉積槽進入第二水洗槽，去除所附著的化藥劑；以及將電路板自第二載具內取出，藉此避免讓第一載具浸鍍二層金屬沉積層，節省後續去除作業及避免貴金屬的浪費。
Description
本發明為一種化學沉積製程的技術領域，尤其指一種使用不同載具進行不同化學沉積作業的方法及系統。
在習用化學鎳金製程中，是利用單一吊籃將複數片電路板為一組，將所述電路板依序上升、下降及移動至各化學溶液槽或各類槽室內進行相關作業，以在電路板表面沉積鎳及金二種金屬層。由此製程生產效率不佳，還存在化學藥劑用量大、易污染等諸多缺點，為此本發明人開發了運用載具採逐片連續生產的化學沉積方法及設備，以多組載具個別承載電板路，採用逐片連續移動方式於多個化學沉積槽進行浸鍍作業，雖然此種方式具有許多優點，但化學沉積鎳與化學沉積金是共用同一個載具，經過多次不斷運作後，共用載具會產生一些問題，例如載具經過化學沉積鎳槽後，因鎳離子容易析出成顆粒狀的鎳金屬並附著在載具表面，再進化學沉積金槽，會使得金容易沉積附著在載具表面，產生金的損耗，並且每隔一段時間就必須將載具取出清理，也產生了人力、時間及費用上的成本。另外採用吊籃承載數電路板的浸鍍方式，也存在此種問題，為此本發明思考改良之方法。
本發明之主要目的是提供一種電路板交換載具的方法及系統，是於電路板化學沉積製程中，使用至少二套循環系統的載具，以化學鎳金製程為例，化學沉積鎳與化學沉積金分為不同循環架構，各自使用專用的載具，不再共用或混用，避免製程中載具同時附著不同金屬(鎳、金)的問題；因為金不會主動析出(沉積)，只會沉積在鎳的表面，只要載具表面沒有附著鎳，金就不會沉積，也避免單價較高的金被浪費，及日後還要費時費力清除回收的問題，如此能節省生產成本且也能提昇生產品質。
為實現前述目的，本發明採用了如下技術方案：
本發明為一種電路板交換載具的方法，其步驟包括：使用第一載具承載電路板於第一化學沉積槽以逐片移動方式於電路板表面沉積第一金屬層；將第一載具移出第一化學沉積槽進入第一水洗槽，去除所附著的化學藥劑；將第一載具移至交換輸送機，電路板自第一載具內取出，經交換輸送機送入第二載具內；第二載具承載電路板於第二化學沉積槽內以逐片移動方式於電路板表面沉積第二金屬層；將第二載具移出第二化學沉積槽進入第二水洗槽，去除所附著的化學藥劑；以及將電路板自第二載具內取出。
一種電路板交換載具的系統，包括：第一循環系統、第二循環系統及交換輸送機，其中：第一循環系統是將第一載具承載一電路板移入第一化學沉積槽內，並於第一化學沉積槽內對電路板表面沉積第一金屬層；第二循環系統是將第二載具承載電路板移入第二化學沉積槽內，並於第二化學沉積槽內對電路板表面沉積第二金屬層；交換輸送機設置於第一循環系統及第二循環系統之間，交換輸送機負責將由第一循環系統送來的第一載具取出電路板，並將電路板送入第二循環系統的第二載具內。
作為較佳優選實施方案之一，第一載具是於第一純水槽內承載電路板，並在此等待移入第一化學沉積槽內；藉此能避免電路板在等待過程中，電路板表面的氧化（或鈍化）。
作為較佳優選實施方案之一，交換輸送機兩側各設有第二純水槽及第三純水槽，電路板是在第二純水槽內自第一載具移出，並在第三純水槽進入第二載具中。
作為較佳優選實施方案之一，第二載具是於第四純水槽將電路板取出。
作為較佳優選實施方案之一，第一載具另承載一拖缸板，拖缸板也經第一化學沉積槽及第一水洗槽，拖缸板於交換輸送機處被移出，不會進入第二化學沉積槽。
作為較佳優選實施方案之一，還包括第三循環系統及第二交換輸送機，第二交換輸送機設置於第二循環系統及第三循環系統之間，第二交換輸送機負責將由第二循環系統送來的第二載具中取出電路板，之後再將電路板送入第三循環系統的第三載具內，第三循環系統是由第三載具承載電路板移入第三化學沉積槽內，並於第三化學沉積槽內對電路板表面沉積第三金屬層。
與現有技術相比，本發明具有下列具體的功效：
1. 採用第一載具及第二載具於不同的化學沉積槽內運作，可避免單一載具出現附著兩個金屬層的問題，可節省後續再去除或表面整理費用，也能減少貴金屬的損耗。
2. 利用多個純水槽的設置，能減少電路板曝露在空氣中的時間，造成電路板表面的氧化（或鈍化）的機會增加，提昇後續製程的品質。
3. 在化學鎳金的製程中，為了維持化學鎳槽藥水的沉積活性，會在生產的電路板中參雜拖缸板，拖缸板目的是讓鎳快速且大面積的沉積，而達到引發並維持化學鎳槽藥水的沉積活性，本發明於交換輸送機中採自動偵測方式將拖缸板取出，能避免拖缸板進入化學沉積金槽中，導致金槽的金離子被大量消耗，所造成的重大損失。
4. 若電路板欲沉積三種金屬，例如應用於鎳、鈀、金製程，則是使用三組載具分別於不同化學沉積槽內進行，也能達到本發明節省生產成本且提昇生產品質的目的。
下面將結合具體實施例和附圖，對本發明的技術方案進行清楚、完整地描述。需要說明的是，當元件被稱為「安裝於或固定於」另一個元件，意指它可以直接在另一個元件上或者也可以存在居中的元件。當一個元件被認為是「連接」另一個元件，意指它可以是直接連接到另一個元件或者可能同時存在居中元件。在所示出的實施例中，方向表示上、下、左、右、前和後等是相對的，用於解釋本案中不同部件的結構和運動是相對的。當部件處於圖中所示的位置時，這些表示是恰當的。但是，如果元件位置的說明發生變化，那麼認為這些表示也將相應地發生變化。
除非另有定義，本文所使用的所有技術和科學術語與屬於本發明技術領域的技術人員通常理解的含義相同。本文中所使用的術語只是為了描述具體實施例的目的，不是旨在限制本發明。本文所使用的術語「和/或」包括一個或多個相關的所列項目的任意的和所有的組合。
如圖1及圖2所示，為本發明電路板交換載具的系統架構圖及結構側視圖。本發明電路板交換載具的系統，其包括：第一循環系統1、交換輸送機2及第二循環系統3，第一循環系統1是由第一載具4承載電路板6移入第一化學沉積槽11內，並於第一化學沉積槽11內對電路板6表面沉積第一金屬層。交換輸送機2設置於第一循環系統1及第二循環系統3之間，交換輸送機2負責將由第一循環系統1送來的第一載具4中移出電路板6，並將電路板6送入第二循環系統3的第二載具5內。第二循環系統3是由第二載具5承載電路板6移入第二化學沉積槽31內，並於第二化學沉積槽31內對電路板6表面沉積第二金屬層。
在本實施例中是應用於化學沉積鎳金製程，因此第一化學沉積槽11為化學沉積鎳槽，所沉積的第一金屬層為鎳層。第二化學沉積槽31為化學沉積金槽，所沉積的第二金屬層為金層。但並不以此為限，可依製程需要選用不同的金屬及相對應的化學沉積槽。另外由於本發明部份架構與先前運用的機構類似，如發明人申請案號106139548之運用載具採逐片連續生產的化學沉積設備，申請案號110112878之逐片連續生產的化學沉積設備，因此於圖1中類似架構僅以虛線或方塊示意相對位置，圖2中則提供系統的側視圖，相同結構的運作原理就不再詳加贅述。
接著就各構件運作方式作一詳細的說明：
第一循環系統1除第一化學沉積槽11外，還包括第一取放機構12、至少為一個的第一水洗槽13、第一吊架單元14。第一取放機構12是將承載電路板6的第一載具4由第一準備區(圖中左側位置)上升、旋轉、再移入第一化學沉積槽11內。第一化學沉積槽11能承載數個第一載具4且以逐片移動方式讓電路板6表面沉積第一金屬層。第一水洗槽13負責將移入此區的第一載具4水洗，以去除所附著的化學藥劑。第一吊架單元14，包括第一移位吊架組141及第一循環吊架組142，第一移位吊架組141負責將第一載具4於第一化學沉積槽11、第一水洗槽13及一第一送出區(圖面右側位置)之間上升、下降依序移動，第一循環吊架組142負責將作業完成後的第一載具4由第一送出區吊起移動送回第一準備區。其中第一循環吊架組142在移動過程中還須會旋轉，改變第一載具4的方向。
另外第一循環系統1一側還設有第一翻轉機71，第一翻轉機71並聯著第一純水槽72，第一翻轉機71負責將電路板6由水平狀翻轉為垂直狀進入第一純水槽72內，第一純水槽72為前述第一準備區，第一準備區是讓電路板6於此處等待第一取放機構12將其移入第一化學沉積槽11內。在本發明中，利用第一純水槽72暫時收納電路板6，避免電路板6在等待過程中曝露在空氣中，造成電路板表面的氧化（或鈍化）的機會增加，確保後續製程的品質。後續所述的純水槽皆有相同的目的。
交換輸送機2中間設有輸送輪20，兩側各設有第二純水槽21及第三純水槽22，電路板6是在第二純水槽21內自第一載具4移出，並經輸送輪20在第三純水槽22將電路板6送入第二載具5內。前述第一移出區在本實施例指第二純水槽21，第三純水槽22則為後續內容所描述的第二準備區，第二準備區供電路板6於此處等待其他機構將其移入第二化學沉積槽31內。
另外在化學沉積鎳金製程中，會使用拖缸板。拖缸板是於化學沉積鎳槽的藥液中維持反應活性（維持負載），方式是在數個電路板中參雜1個拖缸板。在本實施例中拖缸板是由第一載具4承載並進入第一化學沉積槽11內，及後續的第一水洗槽13。但此拖缸板不能進入第二化學沉積槽31內，因此本發明會於交換輸送機2處將拖缸板取出。如圖3所示，為交換輸送機2的俯視示意圖，交換輸送機2於中間位置設有感測器23、翻片機24及收集區25。感測器23負責偵測通過此處的是否為拖缸板9，若是拖缸板9，則驅動翻片機24將拖缸板9推至收集區25內收集。若不是拖缸板9，代表通過的是電路板6，則此機構並不會作動。
第二循環系統3除了第二化學沉積槽31外，還包括第二取放機構32、至少為一個之第二水洗槽33、以及第二吊架單元34。第二取放機構32負責將第二載具5由第二準備區(如第三純水槽22)上升、旋轉、再移入第二化學沉積槽31內。第二化學沉積槽31負責承載第二載具5以逐片移動方式對電路板6表面沉積第二金屬層。第二水洗槽33負責對第二載具5水洗，以去除所附著的化學藥劑。第二吊架單元34包括第二移位吊架組341及第二循環吊架組342，第二移位吊架組341負責將第二載具5於第二化學沉積槽31、第二水洗槽33及一第二送出區之間依序上升、移動、下降，第二循環吊架組342負責將第二載具5由第二送出區移回第二準備區。其中第二循環吊架組342在移動過程中還須會旋轉，改變第二載具5的方向。
另外第二循環系統3一側還設有第二翻轉機81，第二翻轉機81並聯著第四純水槽82，第四純水槽82為前述第二送出區。第二翻轉機81負責將電路板6於第四純水槽82內由垂直狀取出並翻轉為水平狀態送出，後續再進行烘乾、收集作業。
如圖4所示，運用上述系統架構，本發明提供一種電路板交換載具的方法，其步驟包括：
步驟401:使用第一載具4承載電路板6於第一化學沉積槽11以逐片移動方式於電路板6表面沉積第一金屬層；
步驟402:將第一載具4移出第一化學沉積槽11進入第一水洗槽13，去除所附著的化學藥劑；
步驟403:將第一載具4移至交換輸送機2，將電路板6自第一載具4內取出，經交換輸送機2送入第二載具5內；
步驟404:第二載具5承載電路板6於第二化學沉積槽31內以逐片移動方式於電路板6表面沉積第二金屬層；
步驟405:將第二載具5移出第二化學沉積槽31進入第二水洗槽33，去除所附著的化藥劑；
步驟406:將電路板6自第二載具5內取出。
在上述架構可知，本發明還設有數個純水槽，避免在等待過程中電路板6因曝露在空氣中，造成電路板表面的氧化（或鈍化）。因此在上述步驟301之前， 第一載具4是於第一純水槽72中承載電路板6，並在此等待著移入第一化學沉積槽11內。在步驟303中，交換輸送機2兩側各設有第二純水槽21及第三純水槽22，電路板6是在第二純水槽21移出第一載具4，並在第三純水槽22進入第二載具5。另外在步驟306中，第二載具5是於第四純水槽82將電路板6取出。
藉由上述的方法，以化學鎳金製程為例，本發明於第一化學沉積槽11(如化學沉積鎳)與第二化學沉積槽31(如化學沉積金)分為使用不同的載具，例如第一載具4及第二載具5，再適時取出電路板6進行交換，如此就能避免製程中載具同時附著不同金屬(鎳、金)的問題。
在上述實施例中，主要是於電路板表面上沉積二種金屬，例如鎳、金。但實際上並不限兩種，例如也能在電路板上沉積三種金屬，例如鎳、鈀、金等，而本發明電路板交換載具的系統也能應用於此種實施例中，如圖5所示，為本發明電路板交換載具的系統之另一種實施例圖。在本實施例中，電路板交換載具的系統除了包括原本的：第一循環系統1、交換輸送機2及第二循環系統3外，還增加了第二交換輸送機2A及第三循環系統B1，在第三循環系統B1中是使用第三載具C1承載電路板6，其中第二交換輸送機2A的運作方式與交換輸送機2相同，不同之處在於：第二交換輸送機2A設置於第二循環系統3及第三循環系統B1之間。第二交換輸送機2A負責將由第二循環系統3送來的第二載具5中移出電路板6，之後經輸送輪20輸送後，再將電路板6送入第三循環系統B1的第三載具C1中，第三循環系統B1是由第三載具C1承載電路板6移入第三化學沉積槽B11內，並於第三化學沉積槽B11內對電路板6表面沉積第三金屬層，第三循環系統B1的運作原理及結構皆與第一循環系統1與第二循環系統3相類似，故不再詳加贅述。本實施例不同之處是在電路板6上沉積三種金屬，例如第一金屬層為鎳、第二金屬層為鈀及第三金屬層為金，當然使用者也可依不同的製程需求使用不同的金屬。
另外上述實施例的電路板交換載具的方法，其步驟包括：
使用第一載具承載電路板於第一化學沉積槽以逐片移動方式於電路板6表面沉積第一金屬層；
將第一載具移出第一化學沉積槽進入第一水洗槽，去除所附著的化學藥劑；
將第一載具移至交換輸送機，將電路板自第一載具內取出，經交換輸送機送入第二載具內；
第二載具承載電路板於第二化學沉積槽內以逐片移動方式於電路板表面沉積第二金屬層；
將第二載具移出第二化學沉積槽進入第二水洗槽，去除所附著的化藥劑；
將第二載具移至第二交換輸送機，將電路板自第二載具內取出，經第二交換輸送機送入第三載具內；
第三載具承載電路板於第三化學沉積槽內以逐片移動方式於電路板表面沉積第三金屬層；
將第三載具移出第三化學沉積槽進入第三水洗槽，去除所附著的化藥劑；
將電路板自第三載具內取出。
運用上述的方法，可適用於電路板的以化學鎳鈀金製程。
以上所述者，僅為本發明之較佳實施例而已，並非用來限定本發明實施例之範圍。即凡依本發明申請專利範圍所作的均等變化及修飾，皆為本發明之專利範圍所涵蓋。
1:第一循環系統
11:第一化學沉積槽
12:第一取放機構
13:第一水洗槽
14:第一吊架單元
141:第一移位吊架組
142:第一循環吊架組
2:交換輸送機
20:輸送輪
21:第二純水槽
22:第三純水槽
23:感測器
24:翻片機
25:收集區
3:第二循環系統
31:第二化學沉積槽
32:第二取放機構
33:第二水洗槽
34:第二吊架單元
341:第二移位吊架組
342:第二循環吊架組
4:第一載具
5:第二載具
6:電路板
71:第一翻轉機
72: 第一純水槽
81:第二翻轉機
82: 第二純水槽
9:拖缸板
401~406:步驟
A2:第二交換輸送機
B1:第三循環系統
B11:第三化學沉積槽
C1:第三載具
圖1為本發明電路板交換載具的系統之架構圖。
圖2為本發明電路板交換載具的系統的側視圖。
圖3為本發明交換輸送機的俯視示意圖。
圖4為本發明電路板交換載具的方法之流程圖。
圖5為本發明電路板交換載具的系統的另一種實施例的架構圖。
401~406:步驟
Claims (15)
- 一種電路板交換載具的方法，其步驟包括：使用第一載具承載電路板於第一化學沉積槽以逐片移動方式於該電路板表面沉積第一金屬層，該第一金屬層為鎳層；將該第一載具移出該第一化學沉積槽進入第一水洗槽，去除所附著的化學藥劑；將該第一載具移至交換輸送機，該電路板自該第一載具內取出，經該交換輸送機送入第二載具內；將該第二載具承載該電路板於第二化學沉積槽內以逐片移動方式於該電路板表面沉積第二金屬層，該第二金屬層為金層；將該第二載具移出該第二化學沉積槽進入第二水洗槽，去除所附著的化學藥劑；將該電路板自該第二載具內取出。
- 如請求項1所述之電路板交換載具的方法，該第一載具是於一第一純水槽內承載該電路板，並在此等待移入該第一化學沉積槽內。
- 如請求項1所述之電路板交換載具的方法，該交換輸送機兩側各設有第二純水槽及第三純水槽，該電路板是在該第二純水槽內該第一載具移出，並在該第三純水槽進入該第二載具。
- 如請求項1所述之電路板交換載具的方法，該第二循環系統還包括一第四純水槽，該第四純水槽緊鄰該第二水洗槽，該第二載具由該第二水洗槽移出後接著移入該第四純水槽，於該第四純水槽內將該電路板由該第二載具中取出。
- 如請求項1所述之電路板交換載具的方法，該第一載具另承載一拖缸板，該拖缸板也經該第一化學沉積槽及該第一水洗槽，該拖缸板於該交換輸送機被移出，不會進入該第二化學沉積槽。
- 一種電路板交換載具的系統，包括：第一循環系統、第二循環系統及交換輸送機，其中：該第一循環系統是將第一載具承載一電路板移入第一化學沉積槽內，並於該第一化學沉積槽內對該電路板表面沉積第一金屬層，該第一金屬層為鎳層；該第二循環系統是將第二載具承載該電路板移入第二化學沉積槽內，並於該第二化學沉積槽內對該電路板表面沉積第二金屬層，該第二金屬層為金層；該交換輸送機設置於該第一循環系統及該第二循環系統之間，該交換輸送機負責將由該第一循環系統送來的該第一載具取出該電路板，並將該電路板送入該第二循環系統的該第二載具內。
- 如請求項6所述之電路板交換載具的系統，該第一循環系統包括：一第一取放機構，將承載該電路板的該第一載具由一第一準備區移入該第一化學沉積槽內；該第一化學沉積槽承載數個該第一載具以逐片移動方式於該電路板表面沉積第一金屬層；至少一個第一水洗槽，負責對該第一載具水洗，去除所附著的化學藥劑；一第一吊架單元，包括第一移位吊架組及第一循環吊架組，該第一移位吊架組負責將該第一載具於該第一化學沉積槽、該第一水洗槽及一第一送出區依序 移動，該第一循環吊架組負責將作業完成該第一載具由該第一送出區移動送回該第一準備區。
- 如請求項7所述之電路板交換載具的系統，該第一循環系統一側還設有一第一翻轉機，該第一翻轉機並聯著第一純水槽，該第一翻轉機負責將電路板由水平狀翻轉為垂直狀進入該第一純水槽內，該第一純水槽為該第一載具的該第一準備區。
- 如請求項7所述之電路板交換載具的系統，該交換輸送機中間設有輸送輪，兩側各設有第二純水槽及第三純水槽，該電路板是在該第二純水槽內自該第一載具移出，該第二純水槽為該第一送出區。
- 如請求項6所述之電路板交換載具的系統，該第二循環系統，包括：一第二取放機構，負責將該第二載具由第二準備區移入該第二化學沉積槽內；該第二化學沉積槽負責承載該第二載具以逐片移動方式對該電路板表面沉積第二金屬層；至少一個第二水洗槽，負責對該第二載具進行水洗；一第二吊架單元，包括第二移位吊架組及第二循環吊架組，該第二移位吊架組負責將該第二載具於該第二化學沉積槽、該第二水洗槽及一第二送出區依序移動，該第二循環吊架組負責將該第二載具由該第二送出區移動送至該第二準備區。
- 如請求項10所述之電路板交換載具的系統，該交換輸送機中間設有輸送輪，兩側各設有第二純水槽及第三純水槽，該電路板經該輸送輪在該第三純水槽將該電路板送入該第二載具內，該第三純水槽為該第二準備區。
- 如請求項10所述之電路板交換載具的系統，該第二循環系統一側還設有一第二翻轉機，該第二翻轉機並聯著第四純水槽，該第四純水槽為該第二送出區，該第二翻轉機負責將該電路板於該第四純水槽內由垂直狀取出並翻轉為水平狀態送出。
- 如請求項6所述之電路板交換載具的系統，數個該第一載具中會由至少一個該第一載具承載著一個拖缸板，該交換輸送機也會負責將由該第一循環系統送來的該第一載具中取出該拖缸板，該交換輸送機中間位置還設有感測器、翻片機及收集區，該感測器負責偵測通過此處是否為該拖缸板，若是該拖缸板，則驅動該翻片機以將該拖缸板推至該收集區內收集，若不是該拖缸板，則此機構並不會作動。
- 一種電路板交換載具的系統，包括：第一循環系統、第二循環系統、交換輸送機、第三循環系統及第二交換輸送機，其中：該第一循環系統是將第一載具承載一電路板移入第一化學沉積槽內，並於該第一化學沉積槽內對該電路板表面沉積第一金屬層，該第一金屬層為鎳層；該第二循環系統是將第二載具承載該電路板移入第二化學沉積槽內，並於該第二化學沉積槽內對該電路板表面沉積第二金屬層，該第二金屬層為鈀層；該第三循環系統是由該第三載具承載之該電路板移入第三化學沉積槽內，並於該第三化學沉積槽內對該電路板表面沉積第三金屬層，該第三金屬層為金層；該交換輸送機設置於該第一循環系統及該第二循環系統之間，該交換輸送機負責將由該第一循環系統送來的該第一載具取出該電路板，並將該電路板送入該第二循環系統的該第二載具內； 該第二交換輸送機設置於該第二循環系統及該第三循環系統之間，該第二交換輸送機負責將由該第二循環系統送來的該第二載具中取出該電路板，之後再將該電路板送入該第三循環系統的第三載具內。
- 一種電路板交換載具的方法，其步驟包括：使用第一載具承載電路板於第一化學沉積槽以逐片移動方式於該電路板表面沉積第一金屬層，該第一金屬層為鎳層；將該第一載具移出該第一化學沉積槽進入第一水洗槽，去除所附著的化學藥劑；將該第一載具移至交換輸送機，該電路板自該第一載具內取出，經該交換輸送機送入第二載具內；將該第二載具承載該電路板於第二化學沉積槽內以逐片移動方式於該電路板表面沉積第二金屬層，該第二金屬層為鈀層；將該第二載具移出該第二化學沉積槽進入第二水洗槽，去除所附著的化學藥劑；將該第二載具移至第二交換輸送機，該電路板自該第二載具內取出，經該第二交換輸送機送入第三載具內；將該第三載具承載該電路板於第三化學沉積槽內以逐片移動方式於該電路板表面沉積第三金屬層，該第三金屬層為金層；將該第三載具移出該第三化學沉積槽進入第三水洗槽，去除所附著的化學藥劑；將該電路板自該第三載具內取出。
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| US20100200410A1 (en) * | 2007-06-06 | 2010-08-12 | Reinhard Schneider | Vertical system for the plating treatment of a work piece and method for conveying the work piece |
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Patent Citations (1)
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