TWI820311B - 防眩薄玻璃加工設備及製造方法 - Google Patents
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Abstract
一種玻璃加工設備，包括一前處理區、一霧化處理區、一後處理區、多個扇狀噴嘴及一輸送通道。霧化處理區包括一瀑布式噴嘴。扇狀噴嘴分別設置於該前處理區與該後處理區。輸送通道是水平設置，依序穿過該前處理區、該霧化處理區與該後處理區。
Description
一種加工設備與方法，特別是一種防眩薄玻璃加工設備及製造方法。
氫氟酸蝕刻技術在業界已使用多年，一般應用於玻璃薄化蝕刻、玻璃基板二次強化蝕刻、半導體微影成像蝕刻與藝術玻璃局部蝕刻的製程等。近年來對觸控面板與螢幕的需求增加，其中以蝕刻技術製成的防眩玻璃具有更多優點，逐漸取代傳統的噴塗式防眩玻璃。
目前玻璃蝕刻技術多為浸泡式蝕刻機台。是將玻璃垂直泡入蝕刻液體中，讓玻璃表面產生微結構。惟目前浸泡式蝕刻設備仍有多種問題如下：
1.液面下的流場較弱，且方向性難以控制。
2.玻璃邊緣加工不均勻，且容易產生流痕。
3.蝕刻液體要求量大，且不易調整配方。
4.可製作的玻璃厚度受限，無法製作較薄的玻璃。
而上述問題導致玻璃蝕刻技術難以製造較薄且品質較佳的蝕刻玻璃。因此如何解決上述問題，提高玻璃蝕刻技術的製造品質，便是本領域具通常知識者值得去思量的。
本發明提供一種玻璃加工設備與方法，以水平放置方式加工玻璃，可加工厚度較薄的玻璃，並且表面加工品質更佳。
本發明提供一種玻璃加工設備，包括一前處理區、一霧化處理區、一後處理區、多個扇狀噴嘴及一輸送通道。霧化處理區包括一瀑布式噴嘴。扇狀噴嘴分別設置於該前處理區與該後處理區。輸送通道，是水平設置，依序穿過該前處理區、該霧化處理區與該後處理區。其中，該玻璃在進入前處理區之前，是泡入一蝕刻液體中降低該玻璃的厚度。其中，該前處理區的該扇狀噴嘴適於噴灑一前處理藥劑，該前處理藥劑為活化劑。其中，該後處理區的該扇狀噴嘴適於噴灑一後處理藥劑，該後處理藥劑為除晶劑。
上述之玻璃加工設備，其中，還包括多個清洗區，分別設置於該前處理區之後、該霧化處理區之後與該後處理區之後。
上述之玻璃加工設備，其中，該扇狀噴嘴還設置於該清洗區中，該清洗區的該扇狀噴嘴適於噴灑清潔液體。
本發明還提供一種玻璃加工的方法，包括：S10：提供該玻璃；S11：清洗該玻璃；S12：降低該玻璃之厚度，是將該玻璃泡入一蝕刻液體中降低該玻璃的厚度；S13：清洗該玻璃；S20：對一玻璃噴灑一前處理藥劑；S21：清洗該玻璃；S30：對該玻璃澆淋一霧化藥劑，該霧化藥劑是以瀑布形式形成液牆澆淋該玻璃；及S31：清洗該玻璃；S40：對該玻璃噴灑一後處理藥劑；
S41：清洗該玻璃其中，在步驟S20至步驟S40中，該玻璃均為水平放置。
上述之玻璃加工的方法，其中，在步驟S13與步驟S20之間，還包括：S14：在該玻璃的非加工面貼上一保護膜。
上述之玻璃加工的方法，其中，還包括：S50：將該玻璃泡入一蝕刻液體中；及S51：清洗該玻璃。
上述之玻璃加工的方法，其中，在步驟S11與步驟S12之間，還包括：S14：在該玻璃的非加工面貼上一保護膜。
S10~S51:流程圖步驟
10:玻璃
100、200、300:玻璃加工設備
110:貼膜裝置
120、210:輸送通道
202、204、206:清洗區
201:前處理區
203:霧化處理區
205:後處理區
220:扇狀噴嘴
230:瀑布式噴嘴
301:進出料區
302~305:液槽
312~315:藥液
320:輸送軌道
330:天車
340:治具
圖1A與圖1B所繪示為本發明之玻璃加工的方法。
圖2A所繪示為第一實施例之玻璃加工設備。
圖2B所繪示為第二實施例之玻璃加工設備。
圖2C所繪示為第三實施例之玻璃加工設備。
圖3所繪示為設備整合示意圖。
本發明提供一種玻璃加工的方法與設備，以水平式蝕刻來加工玻璃表面，使其表面形成微結構。水平式蝕刻可提供品質更高的表面加工效果，並且可用來加工更薄的玻璃。
請先參閱圖1A與圖1B，圖1A與圖1B所繪示為本發明之玻璃加工的方法。首先，提供一玻璃(步驟S10)。接下來，清洗玻璃(步驟S11)，洗去玻璃上的汙物、附著物、灰塵或其他雜質，避免在加工中影響玻璃的表面。清洗完成後，
降低玻璃的厚度(步驟S12)，在此步驟中是將玻璃的厚度調整為最終產品所需求的厚度。在某些實施例中，若在步驟S10中所提供的玻璃原始厚度便符合最終產品所需求的厚度，則不須再進行降低厚度的步驟S12。在較佳實施例中，是將玻璃進入蝕刻液體來降低玻璃的厚度，將玻璃厚度降低至0.5毫米以下。
之後，再一次清洗玻璃(步驟S13)。由於降低玻璃厚度是採用蝕刻方式，因此需要洗去玻璃表面上殘留的蝕刻液體或玻璃碎屑，確保後續不影響玻璃表面加工。
接下來，在玻璃的非加工面上貼上一保護膜(步驟S14)，保護膜可保護玻璃的非加工面不受後續處理的影響。在本實施例中，玻璃加工的方法是作為製造防眩玻璃的方法，是在玻璃的其中一面形成微結構，因此需要保護另一面。
在另一實施例中，若玻璃的厚度僅需調整其中一面，則可先在玻璃的非加工面上貼上保護膜，再進行降低厚度的處理。即先保護玻璃的非加工面，再進行蝕刻降低玻璃厚度，藉此降低玻璃加工面的厚度。也就是說，非加工面上貼上一保護膜(步驟S14)與降低玻璃的厚度(步驟S12)可順序可以調換，以彈性的調整玻璃的厚度。
步驟S10至步驟S14為玻璃加工的前置處理，包括清洗、降低厚度與設置保護膜，將玻璃調整為所需要的厚度，並保護非加工面，以利後續形成微結構的加工程序順利進行。
前置處理完成之後，接著對玻璃噴灑一前處理藥劑(步驟S20)。在本實施例中，前處理藥劑是一種活化劑，活化劑可活化玻璃表面的氧化層，讓玻璃更加充分的反應後續施加的蝕刻液體或藥劑之效果。接著，清洗玻璃(步驟S21)，洗去玻璃上殘留的前處理藥劑。
前處理完成後，對玻璃澆淋一霧化藥劑(步驟S30)。其中，霧化藥劑是以瀑布的形式形成一液牆來澆淋玻璃。在本實施例中，霧化藥劑是一種氟酸液體，
可透過侵蝕的方式在玻璃表面上形成多個微結構，這些微結構則對玻璃表面產生了霧化效果。接著，清洗玻璃(步驟S31)，洗去玻璃上殘留的霧化藥劑。
完成霧化後，接著對玻璃噴灑一後處理藥劑(步驟S40)。在本實施例中，後處理藥劑是一種除晶劑。玻璃在經過霧化劑處理後，表面形成微結構，但微結構間會殘留矽晶沙，因此透過噴灑除晶劑來去除這些矽晶沙。後處理藥劑噴灑完成後，清洗玻璃(步驟S41)，洗去玻璃上殘留的後處理藥劑。至此完成玻璃加工的主要程序，在玻璃上形成主要的微結構。此外，在本實施例中，步驟S20至步驟S40均是水平放置接受液體噴灑或澆淋。
接下來，將玻璃浸入一蝕刻液體中(步驟S50)。在本實施例中，步驟S50所使用的蝕刻液體是一種光化劑。光化劑可進一步修飾玻璃上的微結構，使玻璃達到防眩的功能。之後，清洗玻璃(步驟S51)，洗去玻璃上殘留的蝕刻液體。然後移除保護層，即完成玻璃的加工，即可進行後續的檢驗、包裝與出貨等程序。
本發明所述之玻璃加工方法如上。以下說明對應玻璃加工方法所使用的玻璃加工設備。請參閱圖2A，圖2A所繪示為第一實施例之玻璃加工設備。玻璃加工設備300是一種浸泡式玻璃加工設備，可應用於玻璃厚度調整、清洗與光化，即步驟S11至步驟S13與步驟S50、51所使用的設備。玻璃加工設備300包括一進出料區301、多個液槽302~305、一輸送軌道320、一天車330與一治具340。其中，天車330設置於輸送軌道320上，並且天車330可在輸送軌道320上移動，而治具340設置於天車330上，並且天車330可上下移動治具340。治具340則適於承載多個玻璃10。進出料區301是乘載與卸載玻璃10的區域。多個液槽302~305則分別裝載有不同的藥液312~315。在本實施例中藥液312、313為清潔藥劑，藥液314、315則為蝕刻液體。
玻璃加工設備300透過垂直與水平移動玻璃10，讓玻璃10分別進入液槽302~305，完成清潔與蝕刻程序。在本實施例中，是依序讓玻璃10進入液槽302(清潔藥劑)、液槽303(清潔藥劑)、液槽304(蝕刻藥劑)、液槽305(蝕刻藥劑)、液槽304(蝕刻藥劑)、液槽303(清潔藥劑)與液槽302(清潔藥劑)。對應液槽302~305內的藥液312~315，即完成清潔-蝕刻-清潔的步驟。其中，可替換302~305內的藥液312~315，讓玻璃加工設備300應用於調整玻璃厚度(步驟S11至步驟S13)或光化(步驟S50、51)。
請參閱圖2B，圖2B所繪示為第二實施例之玻璃加工設備。此實施例的玻璃加工設備100是一種玻璃貼膜設備，可應用於前述步驟S14，為玻璃10貼上保護膜。玻璃加工設備100包括一貼膜裝置110與一輸送通道120。貼膜裝置110設置於輸送通道120下方，且輸送通道120例如為輸送帶，並適於輸送玻璃10。而當玻璃10經由輸送通道120經過貼膜裝置110上方時，貼膜裝置110便會為玻璃10貼上保護膜。因此，玻璃10是以非加工面朝下擺放，讓貼膜裝置110將保護膜貼附於非加工面。
接著，請參閱圖2C，圖2C所繪示為第三實施例之玻璃加工設備。本實施例之玻璃加工設備200是一種水平玻璃加工設備。玻璃加工設備200包括一輸送通道210、一前處理區201、多個清洗區202、204、206、一霧化處理區203、一後處理區205、多個扇狀噴嘴220與一瀑布式噴嘴230。其中，輸送通道210例如是一種輸送帶，是依序通過前處理區201、清洗區202、霧化處理區203、清洗區204、後處理區205與清洗區206，並且輸送通道210適於運送玻璃10，讓玻璃依序穿過前處理區201、清洗區202、霧化處理區203、清洗區204、後處理區205與清洗區206。其中，玻璃10是水平放置於輸送通道210上，並且保持水平狀態依序穿過前處理區201、清洗區202、霧化處理區203、清洗區204、後處理區205與清洗區206。
扇狀噴嘴220則是設置於前處理區201、清洗區202、清洗區204、後處理區205與清洗區206。扇狀噴嘴220則根據設置的位置不同所噴灑的藥液也有所不同。例如位於的清洗區202、204與206的扇狀噴嘴220適於噴灑清潔液體，設置於前處理區201的扇狀噴嘴220適於噴灑前處理藥劑，設置於後處理區205的扇狀噴嘴220適於噴灑後處理藥劑等。
而瀑布式噴嘴230則設置於霧化處理區203，瀑布式噴嘴230適於噴灑霧化藥劑。在本實施例中，瀑布式噴嘴230具有特殊的噴嘴設計，使霧化藥劑噴出時會形成瀑布般的液牆，藉此澆淋通過霧化處理區203的玻璃10。
請參閱圖3，圖3所繪示為設備整合示意圖。上述圖2A至圖2C實施例中的玻璃加工設備100、200與300，可依據加工流程單獨運作或是整合運作。在圖3的實施例中，便是對應本發明之玻璃加工的方法(步驟S10~S51)整合玻璃加工設備100、200與300。設置玻璃加工設備300做為調整厚度的工作站，設置玻璃加工設備100作為貼膜的工作站，設置玻璃加工設備200做為霧化的工作站，設置玻璃加工設備300作為光化的工作。並以玻璃運送的裝置(如輸送帶或機械手臂)整合玻璃加工設備100、200與300，使其成為可一次執行本發明之玻璃加工的方法(步驟S10~S51)的生產設備。
本發明的玻璃加工設備與方法，以水平方式加工玻璃，可對厚度範圍更大的玻璃進行加工，例如厚度0.5釐米以下的玻璃。並且設置特殊的瀑布式噴嘴，以澆淋藥劑的方式對玻璃加工，使其表面加工更加均勻，提高玻璃的加工的整體良率。透過本發明的玻璃加工設備與方法，並使用適當的藥液與參數，可有效地將玻璃加工良率提高至80%以上，並且光澤度的製程能力指標(Cpk)可達到1.67以上。
本發明說明如上，然其並非用以限定本創作所主張之專利權利範圍。其專利保護範圍當視後附之申請專利範圍及其等同領域而定。凡本領域具有通常知
識者，在不脫離本專利精神或範圍內，所作之更動或潤飾，均屬於本創作所揭示精神下所完成之等效改變或設計，且應包含在下述之申請專利範圍內。
200:玻璃加工設備
210:輸送通道
202、204、206:清洗區
201:前處理區
203:霧化處理區
205:後處理區
220:扇狀噴嘴
230:瀑布式噴嘴
Claims (7)
- 一種防眩薄玻璃加工設備，包括：一前處理區；一霧化處理區，設置於該前處理區之後，該霧化處理區包括一瀑布式噴嘴，該瀑布式噴嘴適於將一霧化藥劑以瀑布形式形成液牆流出；一後處理區，設置於該霧化處理區之後；多個扇狀噴嘴，分別設置於該前處理區與該後處理區；及一輸送通道，適於輸送一玻璃，該玻璃是水平設置，依序穿過該前處理區、該霧化處理區與該後處理區；其中，該玻璃在進入前處理區之前，是泡入一蝕刻液體中降低該玻璃的厚度；其中，該前處理區的該扇狀噴嘴適於噴灑一前處理藥劑，該前處理藥劑為活化劑；其中，該後處理區的該扇狀噴嘴適於噴灑一後處理藥劑，該後處理藥劑為除晶劑。
- 如申請專利範圍第1項所述之防眩薄玻璃加工設備，其中，還包括多個清洗區，分別設置於該前處理區之後、該霧化處理區之後與該後處理區之後。
- 如申請專利範圍第2項所述之防眩薄玻璃加工設備，其中，該扇狀噴嘴還設置於該清洗區中，該清洗區的該扇狀噴嘴適於噴灑清潔液體。
- 一種防眩薄玻璃加工的方法，包括：S10：提供該玻璃；S11：清洗該玻璃；S12：降低該玻璃之厚度，是將該玻璃泡入一蝕刻液體中降低該玻璃的厚度；S13：清洗該玻璃； S20：對一玻璃噴灑一前處理藥劑，該前處理藥劑為活化劑；S21：清洗該玻璃；S30：對該玻璃澆淋一霧化藥劑，該霧化藥劑是以瀑布形式形成液牆澆淋該玻璃；及S31：清洗該玻璃；S40：對該玻璃噴灑一後處理藥劑，該後處理藥劑為除晶劑；S41：清洗該玻璃；其中，在步驟S20至步驟S40中，該玻璃均為水平放置。
- 如申請專利範圍第4項所述之防眩薄玻璃加工的方法其中，在步驟S13與步驟S20之間，還包括：S14：在該玻璃的非加工面貼上一保護膜。
- 如申請專利範圍第4項所述之防眩薄玻璃加工的方法，其中，還包括：S50：將該玻璃泡入一蝕刻液體中；及S51：清洗該玻璃。
- 如申請專利範圍第4項所述之防眩薄玻璃加工的方法，其中，在步驟S11與步驟S12之間，還包括：S14：在該玻璃的非加工面貼上一保護膜。
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| TWI820311B (zh) * | 2020-03-12 | 2023-11-01 | 全鴻精研股份有限公司 | 防眩薄玻璃加工設備及製造方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TW201742845A (zh) * | 2016-06-07 | 2017-12-16 | 全鴻精研股份有限公司 | 水平式玻璃蝕刻的方法 |
Family Cites Families (6)
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|---|---|---|---|---|
| CN201381280Y (zh) * | 2009-03-16 | 2010-01-13 | 亚智科技股份有限公司 | 蚀刻设备 |
| WO2012111602A1 (ja) * | 2011-02-17 | 2012-08-23 | シャープ株式会社 | ウエットエッチング装置およびウエットエッチング方法 |
| CN102617042A (zh) * | 2012-03-29 | 2012-08-01 | 广州普耀光学科技有限公司 | 一种玻璃蚀刻方法及设备 |
| CN103466958A (zh) * | 2013-09-22 | 2013-12-25 | 四川世创达电子科技有限公司 | 一种光学玻璃湿法防眩方法 |
| CN208747934U (zh) * | 2018-08-28 | 2019-04-16 | 福建省飞阳光电股份有限公司 | 一种自清洁式玻璃ag喷涂装置 |
| TWI820311B (zh) * | 2020-03-12 | 2023-11-01 | 全鴻精研股份有限公司 | 防眩薄玻璃加工設備及製造方法 |
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2020
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Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TW201742845A (zh) * | 2016-06-07 | 2017-12-16 | 全鴻精研股份有限公司 | 水平式玻璃蝕刻的方法 |
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