TWI820311B - 防眩薄玻璃加工設備及製造方法 - Google Patents

防眩薄玻璃加工設備及製造方法 Download PDF

Info

Publication number
TWI820311B
TWI820311B TW109108101A TW109108101A TWI820311B TW I820311 B TWI820311 B TW I820311B TW 109108101 A TW109108101 A TW 109108101A TW 109108101 A TW109108101 A TW 109108101A TW I820311 B TWI820311 B TW I820311B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
glass
treatment area
post
cleaning
agent
Prior art date
Application number
TW109108101A
Other languages
English (en)
Other versions
TW202134196A (zh
Inventor
陳欽典
葉容凱
黃文麟
張雲豪
Original Assignee
全鴻精研股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 全鴻精研股份有限公司 filed Critical 全鴻精研股份有限公司
Priority to TW109108101A priority Critical patent/TWI820311B/zh
Priority to CN202020625152.1U priority patent/CN212504594U/zh
Priority to CN202010327449.4A priority patent/CN113387587A/zh
Publication of TW202134196A publication Critical patent/TW202134196A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI820311B publication Critical patent/TWI820311B/zh

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C15/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)

Abstract

一種玻璃加工設備,包括一前處理區、一霧化處理區、一後處理區、多個扇狀噴嘴及一輸送通道。霧化處理區包括一瀑布式噴嘴。扇狀噴嘴分別設置於該前處理區與該後處理區。輸送通道是水平設置,依序穿過該前處理區、該霧化處理區與該後處理區。

Description

防眩薄玻璃加工設備及製造方法
一種加工設備與方法,特別是一種防眩薄玻璃加工設備及製造方法。
氫氟酸蝕刻技術在業界已使用多年,一般應用於玻璃薄化蝕刻、玻璃基板二次強化蝕刻、半導體微影成像蝕刻與藝術玻璃局部蝕刻的製程等。近年來對觸控面板與螢幕的需求增加,其中以蝕刻技術製成的防眩玻璃具有更多優點,逐漸取代傳統的噴塗式防眩玻璃。
目前玻璃蝕刻技術多為浸泡式蝕刻機台。是將玻璃垂直泡入蝕刻液體中,讓玻璃表面產生微結構。惟目前浸泡式蝕刻設備仍有多種問題如下:
1.液面下的流場較弱,且方向性難以控制。
2.玻璃邊緣加工不均勻,且容易產生流痕。
3.蝕刻液體要求量大,且不易調整配方。
4.可製作的玻璃厚度受限,無法製作較薄的玻璃。
而上述問題導致玻璃蝕刻技術難以製造較薄且品質較佳的蝕刻玻璃。因此如何解決上述問題,提高玻璃蝕刻技術的製造品質,便是本領域具通常知識者值得去思量的。
本發明提供一種玻璃加工設備與方法,以水平放置方式加工玻璃,可加工厚度較薄的玻璃,並且表面加工品質更佳。
本發明提供一種玻璃加工設備,包括一前處理區、一霧化處理區、一後處理區、多個扇狀噴嘴及一輸送通道。霧化處理區包括一瀑布式噴嘴。扇狀噴嘴分別設置於該前處理區與該後處理區。輸送通道,是水平設置,依序穿過該前處理區、該霧化處理區與該後處理區。其中,該玻璃在進入前處理區之前,是泡入一蝕刻液體中降低該玻璃的厚度。其中,該前處理區的該扇狀噴嘴適於噴灑一前處理藥劑,該前處理藥劑為活化劑。其中,該後處理區的該扇狀噴嘴適於噴灑一後處理藥劑,該後處理藥劑為除晶劑。
上述之玻璃加工設備,其中,還包括多個清洗區,分別設置於該前處理區之後、該霧化處理區之後與該後處理區之後。
上述之玻璃加工設備,其中,該扇狀噴嘴還設置於該清洗區中,該清洗區的該扇狀噴嘴適於噴灑清潔液體。
本發明還提供一種玻璃加工的方法,包括:S10:提供該玻璃;S11:清洗該玻璃;S12:降低該玻璃之厚度,是將該玻璃泡入一蝕刻液體中降低該玻璃的厚度;S13:清洗該玻璃;S20:對一玻璃噴灑一前處理藥劑;S21:清洗該玻璃;S30:對該玻璃澆淋一霧化藥劑,該霧化藥劑是以瀑布形式形成液牆澆淋該玻璃;及S31:清洗該玻璃;S40:對該玻璃噴灑一後處理藥劑; S41:清洗該玻璃其中,在步驟S20至步驟S40中,該玻璃均為水平放置。
上述之玻璃加工的方法,其中,在步驟S13與步驟S20之間,還包括:S14:在該玻璃的非加工面貼上一保護膜。
上述之玻璃加工的方法,其中,還包括:S50:將該玻璃泡入一蝕刻液體中;及S51:清洗該玻璃。
上述之玻璃加工的方法,其中,在步驟S11與步驟S12之間,還包括:S14:在該玻璃的非加工面貼上一保護膜。
S10~S51:流程圖步驟
10:玻璃
100、200、300:玻璃加工設備
110:貼膜裝置
120、210:輸送通道
202、204、206:清洗區
201:前處理區
203:霧化處理區
205:後處理區
220:扇狀噴嘴
230:瀑布式噴嘴
301:進出料區
302~305:液槽
312~315:藥液
320:輸送軌道
330:天車
340:治具
圖1A與圖1B所繪示為本發明之玻璃加工的方法。
圖2A所繪示為第一實施例之玻璃加工設備。
圖2B所繪示為第二實施例之玻璃加工設備。
圖2C所繪示為第三實施例之玻璃加工設備。
圖3所繪示為設備整合示意圖。
本發明提供一種玻璃加工的方法與設備,以水平式蝕刻來加工玻璃表面,使其表面形成微結構。水平式蝕刻可提供品質更高的表面加工效果,並且可用來加工更薄的玻璃。
請先參閱圖1A與圖1B,圖1A與圖1B所繪示為本發明之玻璃加工的方法。首先,提供一玻璃(步驟S10)。接下來,清洗玻璃(步驟S11),洗去玻璃上的汙物、附著物、灰塵或其他雜質,避免在加工中影響玻璃的表面。清洗完成後, 降低玻璃的厚度(步驟S12),在此步驟中是將玻璃的厚度調整為最終產品所需求的厚度。在某些實施例中,若在步驟S10中所提供的玻璃原始厚度便符合最終產品所需求的厚度,則不須再進行降低厚度的步驟S12。在較佳實施例中,是將玻璃進入蝕刻液體來降低玻璃的厚度,將玻璃厚度降低至0.5毫米以下。
之後,再一次清洗玻璃(步驟S13)。由於降低玻璃厚度是採用蝕刻方式,因此需要洗去玻璃表面上殘留的蝕刻液體或玻璃碎屑,確保後續不影響玻璃表面加工。
接下來,在玻璃的非加工面上貼上一保護膜(步驟S14),保護膜可保護玻璃的非加工面不受後續處理的影響。在本實施例中,玻璃加工的方法是作為製造防眩玻璃的方法,是在玻璃的其中一面形成微結構,因此需要保護另一面。
在另一實施例中,若玻璃的厚度僅需調整其中一面,則可先在玻璃的非加工面上貼上保護膜,再進行降低厚度的處理。即先保護玻璃的非加工面,再進行蝕刻降低玻璃厚度,藉此降低玻璃加工面的厚度。也就是說,非加工面上貼上一保護膜(步驟S14)與降低玻璃的厚度(步驟S12)可順序可以調換,以彈性的調整玻璃的厚度。
步驟S10至步驟S14為玻璃加工的前置處理,包括清洗、降低厚度與設置保護膜,將玻璃調整為所需要的厚度,並保護非加工面,以利後續形成微結構的加工程序順利進行。
前置處理完成之後,接著對玻璃噴灑一前處理藥劑(步驟S20)。在本實施例中,前處理藥劑是一種活化劑,活化劑可活化玻璃表面的氧化層,讓玻璃更加充分的反應後續施加的蝕刻液體或藥劑之效果。接著,清洗玻璃(步驟S21),洗去玻璃上殘留的前處理藥劑。
前處理完成後,對玻璃澆淋一霧化藥劑(步驟S30)。其中,霧化藥劑是以瀑布的形式形成一液牆來澆淋玻璃。在本實施例中,霧化藥劑是一種氟酸液體, 可透過侵蝕的方式在玻璃表面上形成多個微結構,這些微結構則對玻璃表面產生了霧化效果。接著,清洗玻璃(步驟S31),洗去玻璃上殘留的霧化藥劑。
完成霧化後,接著對玻璃噴灑一後處理藥劑(步驟S40)。在本實施例中,後處理藥劑是一種除晶劑。玻璃在經過霧化劑處理後,表面形成微結構,但微結構間會殘留矽晶沙,因此透過噴灑除晶劑來去除這些矽晶沙。後處理藥劑噴灑完成後,清洗玻璃(步驟S41),洗去玻璃上殘留的後處理藥劑。至此完成玻璃加工的主要程序,在玻璃上形成主要的微結構。此外,在本實施例中,步驟S20至步驟S40均是水平放置接受液體噴灑或澆淋。
接下來,將玻璃浸入一蝕刻液體中(步驟S50)。在本實施例中,步驟S50所使用的蝕刻液體是一種光化劑。光化劑可進一步修飾玻璃上的微結構,使玻璃達到防眩的功能。之後,清洗玻璃(步驟S51),洗去玻璃上殘留的蝕刻液體。然後移除保護層,即完成玻璃的加工,即可進行後續的檢驗、包裝與出貨等程序。
本發明所述之玻璃加工方法如上。以下說明對應玻璃加工方法所使用的玻璃加工設備。請參閱圖2A,圖2A所繪示為第一實施例之玻璃加工設備。玻璃加工設備300是一種浸泡式玻璃加工設備,可應用於玻璃厚度調整、清洗與光化,即步驟S11至步驟S13與步驟S50、51所使用的設備。玻璃加工設備300包括一進出料區301、多個液槽302~305、一輸送軌道320、一天車330與一治具340。其中,天車330設置於輸送軌道320上,並且天車330可在輸送軌道320上移動,而治具340設置於天車330上,並且天車330可上下移動治具340。治具340則適於承載多個玻璃10。進出料區301是乘載與卸載玻璃10的區域。多個液槽302~305則分別裝載有不同的藥液312~315。在本實施例中藥液312、313為清潔藥劑,藥液314、315則為蝕刻液體。
玻璃加工設備300透過垂直與水平移動玻璃10,讓玻璃10分別進入液槽302~305,完成清潔與蝕刻程序。在本實施例中,是依序讓玻璃10進入液槽302(清潔藥劑)、液槽303(清潔藥劑)、液槽304(蝕刻藥劑)、液槽305(蝕刻藥劑)、液槽304(蝕刻藥劑)、液槽303(清潔藥劑)與液槽302(清潔藥劑)。對應液槽302~305內的藥液312~315,即完成清潔-蝕刻-清潔的步驟。其中,可替換302~305內的藥液312~315,讓玻璃加工設備300應用於調整玻璃厚度(步驟S11至步驟S13)或光化(步驟S50、51)。
請參閱圖2B,圖2B所繪示為第二實施例之玻璃加工設備。此實施例的玻璃加工設備100是一種玻璃貼膜設備,可應用於前述步驟S14,為玻璃10貼上保護膜。玻璃加工設備100包括一貼膜裝置110與一輸送通道120。貼膜裝置110設置於輸送通道120下方,且輸送通道120例如為輸送帶,並適於輸送玻璃10。而當玻璃10經由輸送通道120經過貼膜裝置110上方時,貼膜裝置110便會為玻璃10貼上保護膜。因此,玻璃10是以非加工面朝下擺放,讓貼膜裝置110將保護膜貼附於非加工面。
接著,請參閱圖2C,圖2C所繪示為第三實施例之玻璃加工設備。本實施例之玻璃加工設備200是一種水平玻璃加工設備。玻璃加工設備200包括一輸送通道210、一前處理區201、多個清洗區202、204、206、一霧化處理區203、一後處理區205、多個扇狀噴嘴220與一瀑布式噴嘴230。其中,輸送通道210例如是一種輸送帶,是依序通過前處理區201、清洗區202、霧化處理區203、清洗區204、後處理區205與清洗區206,並且輸送通道210適於運送玻璃10,讓玻璃依序穿過前處理區201、清洗區202、霧化處理區203、清洗區204、後處理區205與清洗區206。其中,玻璃10是水平放置於輸送通道210上,並且保持水平狀態依序穿過前處理區201、清洗區202、霧化處理區203、清洗區204、後處理區205與清洗區206。
扇狀噴嘴220則是設置於前處理區201、清洗區202、清洗區204、後處理區205與清洗區206。扇狀噴嘴220則根據設置的位置不同所噴灑的藥液也有所不同。例如位於的清洗區202、204與206的扇狀噴嘴220適於噴灑清潔液體,設置於前處理區201的扇狀噴嘴220適於噴灑前處理藥劑,設置於後處理區205的扇狀噴嘴220適於噴灑後處理藥劑等。
而瀑布式噴嘴230則設置於霧化處理區203,瀑布式噴嘴230適於噴灑霧化藥劑。在本實施例中,瀑布式噴嘴230具有特殊的噴嘴設計,使霧化藥劑噴出時會形成瀑布般的液牆,藉此澆淋通過霧化處理區203的玻璃10。
請參閱圖3,圖3所繪示為設備整合示意圖。上述圖2A至圖2C實施例中的玻璃加工設備100、200與300,可依據加工流程單獨運作或是整合運作。在圖3的實施例中,便是對應本發明之玻璃加工的方法(步驟S10~S51)整合玻璃加工設備100、200與300。設置玻璃加工設備300做為調整厚度的工作站,設置玻璃加工設備100作為貼膜的工作站,設置玻璃加工設備200做為霧化的工作站,設置玻璃加工設備300作為光化的工作。並以玻璃運送的裝置(如輸送帶或機械手臂)整合玻璃加工設備100、200與300,使其成為可一次執行本發明之玻璃加工的方法(步驟S10~S51)的生產設備。
本發明的玻璃加工設備與方法,以水平方式加工玻璃,可對厚度範圍更大的玻璃進行加工,例如厚度0.5釐米以下的玻璃。並且設置特殊的瀑布式噴嘴,以澆淋藥劑的方式對玻璃加工,使其表面加工更加均勻,提高玻璃的加工的整體良率。透過本發明的玻璃加工設備與方法,並使用適當的藥液與參數,可有效地將玻璃加工良率提高至80%以上,並且光澤度的製程能力指標(Cpk)可達到1.67以上。
本發明說明如上,然其並非用以限定本創作所主張之專利權利範圍。其專利保護範圍當視後附之申請專利範圍及其等同領域而定。凡本領域具有通常知 識者,在不脫離本專利精神或範圍內,所作之更動或潤飾,均屬於本創作所揭示精神下所完成之等效改變或設計,且應包含在下述之申請專利範圍內。
200:玻璃加工設備
210:輸送通道
202、204、206:清洗區
201:前處理區
203:霧化處理區
205:後處理區
220:扇狀噴嘴
230:瀑布式噴嘴

Claims (7)

  1. 一種防眩薄玻璃加工設備,包括:一前處理區;一霧化處理區,設置於該前處理區之後,該霧化處理區包括一瀑布式噴嘴,該瀑布式噴嘴適於將一霧化藥劑以瀑布形式形成液牆流出;一後處理區,設置於該霧化處理區之後;多個扇狀噴嘴,分別設置於該前處理區與該後處理區;及一輸送通道,適於輸送一玻璃,該玻璃是水平設置,依序穿過該前處理區、該霧化處理區與該後處理區;其中,該玻璃在進入前處理區之前,是泡入一蝕刻液體中降低該玻璃的厚度;其中,該前處理區的該扇狀噴嘴適於噴灑一前處理藥劑,該前處理藥劑為活化劑;其中,該後處理區的該扇狀噴嘴適於噴灑一後處理藥劑,該後處理藥劑為除晶劑。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之防眩薄玻璃加工設備,其中,還包括多個清洗區,分別設置於該前處理區之後、該霧化處理區之後與該後處理區之後。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之防眩薄玻璃加工設備,其中,該扇狀噴嘴還設置於該清洗區中,該清洗區的該扇狀噴嘴適於噴灑清潔液體。
  4. 一種防眩薄玻璃加工的方法,包括:S10:提供該玻璃;S11:清洗該玻璃;S12:降低該玻璃之厚度,是將該玻璃泡入一蝕刻液體中降低該玻璃的厚度;S13:清洗該玻璃; S20:對一玻璃噴灑一前處理藥劑,該前處理藥劑為活化劑;S21:清洗該玻璃;S30:對該玻璃澆淋一霧化藥劑,該霧化藥劑是以瀑布形式形成液牆澆淋該玻璃;及S31:清洗該玻璃;S40:對該玻璃噴灑一後處理藥劑,該後處理藥劑為除晶劑;S41:清洗該玻璃;其中,在步驟S20至步驟S40中,該玻璃均為水平放置。
  5. 如申請專利範圍第4項所述之防眩薄玻璃加工的方法其中,在步驟S13與步驟S20之間,還包括:S14:在該玻璃的非加工面貼上一保護膜。
  6. 如申請專利範圍第4項所述之防眩薄玻璃加工的方法,其中,還包括:S50:將該玻璃泡入一蝕刻液體中;及S51:清洗該玻璃。
  7. 如申請專利範圍第4項所述之防眩薄玻璃加工的方法,其中,在步驟S11與步驟S12之間,還包括:S14:在該玻璃的非加工面貼上一保護膜。
TW109108101A 2020-03-12 2020-03-12 防眩薄玻璃加工設備及製造方法 TWI820311B (zh)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW109108101A TWI820311B (zh) 2020-03-12 2020-03-12 防眩薄玻璃加工設備及製造方法
CN202020625152.1U CN212504594U (zh) 2020-03-12 2020-04-23 玻璃加工设备
CN202010327449.4A CN113387587A (zh) 2020-03-12 2020-04-23 玻璃加工设备与方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW109108101A TWI820311B (zh) 2020-03-12 2020-03-12 防眩薄玻璃加工設備及製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW202134196A TW202134196A (zh) 2021-09-16
TWI820311B true TWI820311B (zh) 2023-11-01

Family

ID=74435780

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW109108101A TWI820311B (zh) 2020-03-12 2020-03-12 防眩薄玻璃加工設備及製造方法

Country Status (2)

Country Link
CN (2) CN212504594U (zh)
TW (1) TWI820311B (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI820311B (zh) * 2020-03-12 2023-11-01 全鴻精研股份有限公司 防眩薄玻璃加工設備及製造方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201742845A (zh) * 2016-06-07 2017-12-16 全鴻精研股份有限公司 水平式玻璃蝕刻的方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN201381280Y (zh) * 2009-03-16 2010-01-13 亚智科技股份有限公司 蚀刻设备
WO2012111602A1 (ja) * 2011-02-17 2012-08-23 シャープ株式会社 ウエットエッチング装置およびウエットエッチング方法
CN102617042A (zh) * 2012-03-29 2012-08-01 广州普耀光学科技有限公司 一种玻璃蚀刻方法及设备
CN103466958A (zh) * 2013-09-22 2013-12-25 四川世创达电子科技有限公司 一种光学玻璃湿法防眩方法
CN208747934U (zh) * 2018-08-28 2019-04-16 福建省飞阳光电股份有限公司 一种自清洁式玻璃ag喷涂装置
TWI820311B (zh) * 2020-03-12 2023-11-01 全鴻精研股份有限公司 防眩薄玻璃加工設備及製造方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201742845A (zh) * 2016-06-07 2017-12-16 全鴻精研股份有限公司 水平式玻璃蝕刻的方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN113387587A (zh) 2021-09-14
TW202134196A (zh) 2021-09-16
CN212504594U (zh) 2021-02-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI725112B (zh) 用於薄化玻璃的方法
TWI820311B (zh) 防眩薄玻璃加工設備及製造方法
CN108604536A (zh) 基板处理装置及基板处理方法
JPH11305184A (ja) 液晶表示パネルの製造方法およびこれに用いられる洗浄装置
TWI692827B (zh) 膜處理單元、基板處理裝置及基板處理方法
JP4621053B2 (ja) 基板処理装置、基板処理システム、および基板処理方法
CN208673043U (zh) 一种光刻胶涂布设备
CN103357540A (zh) 涂覆基板的设备以及涂覆基板的方法
TWM601248U (zh) 玻璃加工設備
JP2003010767A (ja) スリットノズルの洗浄方法及び洗浄機構
CN110076069A (zh) 一种指纹模组芯片的喷涂方法
CN106835000A (zh) 一种适用于细长零件的超音速火焰喷涂方法
JP2022043568A (ja) 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体
WO2011004769A1 (ja) エッチング装置および基板処理方法
US8826926B2 (en) Methods of profiling edges and removing edge beads
JP2007073649A (ja) レジスト剥離洗浄装置、レジスト剥離洗浄方法および基板製造方法
TWI649285B (zh) 水平式玻璃蝕刻的方法
CN107179655A (zh) 一种显影方法及显影装置
CN101770185A (zh) 一种可减少缺陷的显影方法
JP3749060B2 (ja) ガラス基板の処理方法及びそのガラス基板を用いた表示装置
KR20080062920A (ko) 기판 세정장치 및 이를 이용한 기판 세정방법
JP6969904B2 (ja) フォトマスクのウェットエッチング方法及びウェットエッチング装置
CN101834130A (zh) 一种硅片的湿法处理方法
TWI566311B (zh) 半導體機台與其操作方法
JP4431180B2 (ja) 基板処理方法