TWI814302B - 玻璃基板製造裝置及玻璃基板之製造方法 - Google Patents

玻璃基板製造裝置及玻璃基板之製造方法 Download PDF

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TWI814302B
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Abstract

本發明之目的在於提供一種可藉由耐火物支持體支持管構件,且於管構件與支持體之間形成空隙較少之保護層之玻璃基板製造裝置。 玻璃基板製造裝置具備:管構件,其為由包含鉑族金屬之材料形成者,具有周狀之壁部,且於上述壁部之內側處理熔融玻璃;耐火物支持體,其配置為包圍上述壁部,並支持上述壁部;及耐火性保護層,其於上述壁部與上述耐火物支持體之間之間隙,形成為與上述壁部及上述耐火物支持體相接。上述壁部具有位於周上之一部分區域之第1壁部區域、與位於較上述第1壁部區域更下方之第2壁部區域。上述第2壁部區域與上述支持體之間之第2間隙S2較上述第1壁部區域與上述支持體之間之第1間隙S1更大。

Description

玻璃基板製造裝置及玻璃基板之製造方法
本發明係關於一種具備具有周狀之壁部,且處理熔融玻璃之管構件之玻璃基板製造裝置、及玻璃基板之製造方法。
用於液晶顯示器、有機EL(Electroluminescent:電致發光)顯示器等顯示器之玻璃基板經由對將玻璃原料熔解且製造之熔融玻璃,進行移送、澄清、均質化等處理後,成形為板狀之步驟而製造。
為處理熔融玻璃,使用管構件。管構件具有於軸向延伸之周狀之壁部,並於壁部之內側一面流動熔融玻璃一面進行處理。作為此種管構件,例如,有進行熔融玻璃之澄清之澄清管。澄清管為將熔融玻璃置於高溫下進行澄清,而由包含鉑族金屬之耐熱性較高之金屬材料構成。於澄清管之周圍,以包圍澄清管之周狀之壁部之方式,配置耐火磚,而支持澄清管。於澄清管與耐火磚之間之間隙中,為抑制作業中之澄清管變形,且抑制來自管之壁面之鉑族金屬成分揮發,而設置有由礬土水泥等可鑄耐火物形成之保護層(專利文獻1)。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2014-84253號公報
[發明所欲解決之問題]
根據牢固地支持澄清管且抑制澄清管之變形之觀點,較佳為縮小澄清管與支持體之間之間隙,將保護層之厚度薄化。但,若間隙較小,則有施工時,難以於澄清管與耐火磚之間填充可鑄耐火物,而易於保護層殘留氣泡等之空隙之問題。若保護層包含之間隙較多,則於作業中,無法充分獲得抑制澄清管變形或鉑族金屬成分揮發之效果。又,保護層中之空隙量易因填充作業之要領、或作業者之技能而產生偏差。若澄清管與耐火磚之間之間隙較小,則顯著地產生此種偏差。如此,難以兼顧支持澄清管、與形成空隙較少之保護層。
因此,本發明之目的在於提供一種可藉由耐火物支持體支持管構件,且於管構件與支持體之間形成空隙較少之保護層之玻璃基板製造裝置、及玻璃基板之製造方法。 [解決問題之技術手段]
本發明之一態樣為玻璃基板製造裝置。 玻璃基板製造裝置之特徵在於具備: 管構件,其為由包含鉑族金屬之材料形成者,具有周狀之壁部,且於上述壁部之內側處理熔融玻璃; 耐火物支持體,其配置為包圍上述壁部,並支持上述壁部;及 耐火性保護層,其於上述壁部與上述耐火物支持體之間之間隙中,形成為與上述壁部及上述耐火物支持體相接;且 上述壁部具有位於周上之一部分區域之第1壁部區域、與位於較上述第1壁部區域更下方之第2壁部區域; 上述第2壁部區域與上述支持體之間之第2間隙S2,較上述第1壁部區域與上述支持體之間之第1間隙S1更大。
較佳為,上述第2間隙S2之大小在上述第1間隙S1之大小之10倍以下。
較佳為,上述壁部之外周面於與上述管構件之軸向正交之剖面中為圓形狀; 與上述外周面對向之上述支持體之內周面中,與上述壁部區域對向之上述支持體之內周區域分別於上述剖面中為圓弧形狀;且 與上述第2壁部區域對向之上述支持體之第2內周區域於上述剖面中,具有較與上述第1壁部區域對向之上述支持體之第1內周區域更大之曲率半徑。
較佳為,上述第1壁部區域及上述第2壁部區域為於與上述管構件之軸向正交之剖面中,以上述管構件之中心軸為邊界之上側及下側之區域。
本發明之另一態樣為玻璃基板之製造方法。 玻璃基板之製造方法之特徵在於具備: 處理步驟,其於由包含鉑族金屬之材料組成,具有周狀之壁部之管構件,一面流動熔融玻璃一面進行處理;及 準備步驟,其於上述處理步驟之前進行;且 上述準備步驟包含: 施工步驟,其包含:配置步驟,其以包圍上述壁部之方式配置耐火物支持體;及填充步驟,其於上述壁部與上述耐火物支持體之間之間隙,以與上述壁部及上述耐火物支持體相接之方式填充不定形耐火物;及 升溫步驟,其於上述施工步驟之後,將上述管構件升溫;且 上述壁部具有位於周上之一部分區域之第1壁部區域、與位於較上述第1壁部區域更下方之第2壁部區域; 上述第2壁部區域與上述支持體之間之第2間隙S2較上述第1壁部區域與上述支持體之間之第1間隙S1更大。 [發明之效果]
根據上述態様之玻璃基板製造裝置及玻璃基板之製造方法,可藉由耐火物支持體支持管構件,另一方面於管構件與支持體之間形成空隙較少之保護層。
以下,對本實施形態之玻璃基板之製造方法及玻璃基板製造裝置進行說明。
(玻璃基板之製造方法之整體概要) 圖1係顯示本實施形態之玻璃基板之製造方法中之作業中之步驟之一例之圖。玻璃基板之製造方法主要具有準備步驟、熔解步驟(ST1)、澄清步驟(ST2)、均質化步驟(ST3)、成形步驟(ST4)、緩冷步驟(ST5)、及切斷步驟(ST6)。此外,亦可具有研削步驟、研磨步驟、洗淨步驟、檢查步驟、捆包步驟等。將製造之玻璃基板根據需要於捆包步驟中積層,搬送至交貨地之工作者。
準備步驟為於玻璃基板製造裝置之運轉(作業)前進行之步驟。於作業中,進行熔解步驟(ST1)~切斷步驟(ST6)之一連串之步驟。對準備步驟予以後述。 於熔解步驟(ST1)中,藉由將玻璃原料加熱而製作熔融玻璃。該熔融玻璃通常包含含有CO 2、SO 2、O 2、或N 2等之氣泡。 於澄清步驟(ST2)中,藉由將熔融玻璃升溫,而利用熔融玻璃中包含之澄清劑(氧化錫等)之還原反應產生氧氣等氣體。熔融玻璃中之氣泡吸收產生之氣體而成長,並浮出於熔融玻璃之液面而釋放。其後,於澄清步驟中,藉由使熔融玻璃之溫度降溫,而促進利用澄清劑之還原反應產生之還原物質之氧化反應。藉此,將殘存於熔融玻璃之氣泡中之氧氣等氣體於熔融玻璃中再吸收,而使氣泡消失。
於均質化步驟(ST3)中,藉由使用攪拌器攪拌熔融玻璃,而進行玻璃成分之均質化。藉此,可減少作為線痕等原因之玻璃之組成不均。均質化步驟於後述之攪拌槽中進行。將均質化後之熔融玻璃供給至成形裝置。
成形步驟(ST4)及緩冷步驟(ST5)由成形裝置進行。 於成形步驟(ST4)中,將熔融玻璃成形為特定厚度之帶狀玻璃即玻璃片,製作玻璃片流。於成形中,使用浮體法或熔化法(溢流下拉法)等。 於緩冷步驟(ST5)中,成形且流動之玻璃片成為特定厚度,並以不產生內部應變,進而不產生翹曲之方式冷卻。 於切斷步驟(ST6)中,藉由將緩冷後之玻璃片切斷為特定長度,而獲得板狀之玻璃基板。亦將玻璃片切斷為特定長度之素板之情況稱為采板。將藉由采板而得之玻璃基板進而切斷為特定尺寸,製作目標尺寸之玻璃基板。
(玻璃基板製造裝置之整體概要) 圖2係進行熔解步驟(ST1)~切斷步驟(ST6)之玻璃基板製造裝置之概略圖。玻璃基板製造裝置如圖2所示,主要具有熔解裝置100、成形裝置200、及切斷裝置300。熔解裝置100具有熔解槽101、澄清管102、攪拌槽103、移送管104、105、及玻璃供給管106。 於圖2所示之熔解槽101,設置有未圖示之燃燒器等加熱機構。於熔解槽101中投入添加有澄清劑之玻璃原料,進行熔解步驟(ST1)。將於熔解槽101中熔融之熔融玻璃經由移送管104供給至澄清管102。 於澄清管102中,一面流動熔融玻璃MG,一面調整熔融玻璃MG之溫度,並利用澄清劑之氧化還原反應進行熔融玻璃之澄清步驟(ST2)。以於熔融玻璃之液面之上方形成汽相空間之方式,對澄清管102供給熔融玻璃MG。具體而言,藉由將澄清管102內之熔融玻璃升溫,使熔融玻璃中包含之含有CO 2、SO 2、O 2、或N 2等之氣泡吸收利用澄清劑之還原反應產生之氧氣等氣體而成長,並浮出於熔融玻璃之液面而釋放至汽相空間。其後,藉由降低熔融玻璃之溫度,而利用澄清劑之還原反應產生之還原物質進行氧化反應。藉此,將殘存於熔融玻璃之氣泡中之氧氣等氣體於熔融玻璃中再吸收,氣泡消失。澄清後之熔融玻璃經由移送管105供給至攪拌槽103。 於攪拌槽103中,藉由攪拌器103a攪拌熔融玻璃而進行均質化步驟(ST3)。於攪拌槽103中均質化之熔融玻璃經由玻璃供給管106供給至成形裝置200。 於成形裝置200中,例如藉由溢流下拉法,使玻璃片SG自熔融玻璃成形(成形步驟ST4)、且緩冷(緩冷步驟ST5)。 於切斷裝置300中,形成自玻璃片SG切出之板狀之玻璃基板(切斷步驟ST6)。
於本實施形態中,玻璃基板製造裝置之上述構成要件中之澄清管102、移送管104、105、及玻璃供給管106相當於管構件。於以下說明中,代表性地以澄清管102為例說明管構件。
(澄清管、耐火物保護層、及耐火物支持體) 圖3係顯示澄清管102、耐火物保護層、及耐火物支持體之層構造之與澄清管102之軸向正交之方向之剖視圖。 玻璃基板製造裝置除澄清管102外,具有耐火物保護層113、及耐火物支持體114。澄清管102、耐火物保護層113、及耐火物支持體114如圖3所示,具有依序自內周側配置至外周側之積層構造。
澄清管102為由包含鉑族金屬之材料構成之管狀之構件。所謂鉑族金屬意指鉑(Pt)、鈀(Pd)、銠(Rn)、釕(Ru)、鋨(Os)、銥(Ir)之6元素。作為包含鉑族金屬之材料之例,可例舉包含鉑族金屬中之單一金屬或2種以上金屬之合金之材料,例如,使用鉑或鉑合金。
澄清管102具有於澄清管102之軸向延伸之周狀(筒狀)之周狀壁部112。熔融玻璃於周狀壁部112之內側中被澄清。圖3所示之例之澄清管102於與軸向正交之剖面(之後,亦簡稱為剖面)中具有圓形狀之外周。澄清管102之外周之剖面形狀不限制於圓形狀,亦可為橢圓形等扁平之形狀等。澄清管102之軸向與澄清管102之長邊方向一致。
於澄清管102,設置有以自周狀壁部112延伸至外周側之方式連接之一對凸緣(未圖示)、與通氣管(參考圖1)。凸緣與未圖示之電源裝置連接,藉由對凸緣之間施加電壓,而使電流流動於凸緣之間之周狀壁部112之部分,加熱澄清管102。藉由該通電加熱,將澄清管102例如加熱至1650℃~1700℃左右,並將熔融玻璃MG加熱至適於去泡之溫度,例如1600℃~1700℃左右。通氣管為將汽相空間與澄清管102之外部空間連通之管。通氣管具有將自熔融玻璃MG釋放至汽相空間之氧氣、CO 2、SO 2等氣體排出至外部空間之功能。
耐火物支持體114為配置為於與澄清管102之周狀壁部112之外周面之間空出間隙,自周圍包圍周狀壁部112,而支持周狀壁部112之構造體。耐火物支持體114除支持周狀壁部112外,發揮將澄清管102保溫,進而保護澄清管102免受可能自外部施加之物理性之力的作用。耐火物支持體110由耐火磚構成。於耐火磚中,例如,使用包含含有氧化鋁、AZS(Alumina-Zirconia-Silica:氧化鋁-氧化鋯-二氧化矽)、或氧化鋯之材料之電鑄磚。耐火物支持體114具有與周狀壁部112之外周面對向之內周面。
與周狀壁部112之外周面對向之耐火磚之表面如圖3所示,於剖面中,具有沿與澄清管102之圓形狀為同心圓之圓弧之圓弧形狀。圓弧形狀較佳為具有與成為澄清管102之外周之圓為同心圓之圓弧之形狀。於本說明書中,根據慣例,將由耐火磚構成之支持體簡化為「耐火磚」,但耐火磚於多數情況係將複數個耐火磚(由耐火磚構成之磚個體)堆疊為特定形狀而構成,且多數情況為由其間塗佈並固定有耐火砂漿等耐火填充材料之複數個磚構成之支持體。於圖3所示之例之耐火磚中,堆疊之複數個磚中位於與周狀壁部112之壁面對向之部分之磚形成為具有上述圓弧形狀。
耐火物保護層113為於周狀壁部112與耐火物支持體114之間之間隙中,形成為與周狀壁部112及耐火物支持體114相接之層。耐火物保護層113發揮於周狀壁部112與耐火物支持體114之間,確實地支持周狀壁部112,而抑制澄清管102變形之作用。又,耐火物保護層113發揮作用,抑制構成周狀壁部112之鉑族金屬成為PtO 2等之金屬氧化物且揮發致使周狀壁部112薄壁化的情況。
根據一實施形態,1300~1700℃之溫度範圍中之耐火物保護層113之熱膨脹係數之平均值較佳為處於1300~1700℃之溫度範圍中之周狀壁部112之熱膨脹係數之平均值之0.1~10倍之範圍內,更佳為處於0.5~5倍之範圍內。藉由使耐火物保護層113與周狀壁部112之熱膨脹係數滿足上述關係,抑制因與澄清管102之升溫相伴之周狀壁部112之熱膨脹量、與耐火物保護層113之收縮量之差致使於耐火物保護層113產生龜裂的情況,確保減少耐火物保護層113內之空隙之效果。
於耐火物保護層113,使用不定形耐火物。不定形耐火物之種類未特別設置制約,但根據其使用條件,期望最高使用溫度1600℃以上、壓縮強度200 kgf/cm 2以上、緻密且氣體透過性較小者。例如,以調配有礬土水泥之可鑄耐火物為宜。
於本實施形態中,周狀壁部112具有位於周狀壁部112之周上之一部分區域之第1壁部區域112a、與位於較第1壁部區域112a更下方之第2壁部區域112b。且,第2壁部區域112b與耐火物支持體114之間之第2間隙S2較第1壁部區域112a與耐火物支持體114之間之第1間隙S1更大。根據本發明者之研究,可知於面向周狀壁部之區域中位於下方之區域,與位於上方之區域相比,耐火物保護層113內之空隙容易變多。且,確認藉由將間隙S2設得較間隙S1更大,而可減少上述位於下方之區域中之耐火物保護層113內之空隙。於本實施形態中,提高可介隔形成於間隙S1之較薄之耐火物保護層113,藉由耐火物支持體114確實地支持澄清管102,且藉由形成於間隙S2之較厚且空隙較少之耐火物保護層113,抑制作業中之澄清管102變形或鉑族金屬之成分揮發的效果。
另,若為了作業而將管構件升溫,則管構件熱膨脹且外徑變大,另一方面,作為耐火物保護層113之不定形耐火物收縮且厚度變薄。於本說明書中,間隙S1、S2之大小關係至少意指為了作業而將管構件升溫前之時點,例如管構件為25℃之時點中之關係,但間隙S1、S2之間之上述大小關係未因升溫而變化。
第2間隙S2之大小較佳為第1間隙S1之大小之10倍以下。若第2間隙S2之大小超過第1間隙S1之大小之10倍,則有第2間隙S2中之耐火物保護層113之厚度相對於第1間隙S1中之耐火物保護層113之厚度過大,而於與澄清管102之升溫相伴收縮時於兩者之間產生龜裂,損壞保護周狀壁部112且抑制鉑族金屬之成分揮發之效果之情形。又,有無法抑制與升溫相伴之澄清管102之擴徑般膨脹,致使澄清管102變形,且澄清管102之強度降低、或澄清管102破損之情形。另一方面,第2間隙S2之大小較佳為第1間隙S1之大小之1.1倍以上。若第2間隙S2之大小未達第1間隙S1之大小之1.1倍,則使耐火物保護層113內之空隙變小之效果減少。較佳為,第2間隙S2之大小為第1間隙S1之大小之1.5~5倍,更佳為1.8~2.4倍。
於澄清管102之管徑(周狀壁部112之剖面中之直徑)例如為200~400 mm之情形時,第1間隙S1例如為3~10 mm,第2間隙S2例如為6~20 mm。確認於滿足此種尺寸例之情形時,可減少耐火物保護層113內之空隙之上述效果變大。
與第2壁部區域112b對向之耐火物支持體114之第2內周區域114b較佳為於剖面中,如圖3所示之例,具有較與第1壁部區域112a對向之耐火物支持體114之第1內周區域114a之曲率半徑R1更大之曲率半徑R2。關於曲率半徑R1、R2,藉由滿足上述關係,而容易獲得間隙S1、S2之上述關係。較佳為R2為R1之101~130%之大小。
如圖3所示之例,第1壁部區域112a及第2壁部區域112b於剖面中,較佳為以澄清管102之中心軸為邊界之上側及下側之區域。澄清管102之中心軸為通過周狀壁部112之外周圓之中心之線。藉由如此劃定壁部區域112a、112b,作為耐火物支持體114,可採用施工容易之形態者。於圖3所示之例中,耐火物支持體114具備配置於以澄清管102之中心軸為邊界之上側之上部支持體114A、與配置於下側之下部支持體114B。上部支持體114A及下部支持體114B分別包含堆疊之複數個磚,並以與周狀壁部112對向之表面成為圓弧形狀之方式製作。
(準備步驟) 接著,說明玻璃基板之製造方法之準備步驟。 準備步驟具有施工步驟、與升溫步驟。
圖4係說明施工步驟之圖。圖4(a)係說明向間隙S2之不定形耐火物之填充之圖,圖4(b)係顯示填充於間隙S1之不定形耐火物之圖。
施工步驟包含配置步驟、與填充步驟。 於配置步驟中,以包圍周狀壁部112之方式配置作為耐火物支持體114之耐火磚。 於填充步驟中,於周狀壁部112與耐火磚之間之間隙,以與周狀壁部112及耐火物支持體114相接之方式填充不定形耐火物。 配置步驟與填充步驟並行進行。
於配置步驟中,具體而言,如圖4(a)所示,以相對於下部支持體114B之內周區域114b,空出間隙S2定位周狀壁部112之方式配置澄清管102。間隙S2可藉由保持澄清管102而確保。澄清管102之保持例如可使用安裝於周狀壁部112之軸向之複數個部位之治具進行。又,不限制於此種方法,亦可對澄清管102之保持,使用水泥等其他機構。
接著,於填充步驟中,如圖4(a)所示,以填埋周狀壁部112與內周壁部114b之間之間隙S2之方式,填充不定形耐火物113´。不定形耐火物113´較佳例如使用鏟子等按特定量逐次流入間隙S2,且為了去除存在於流入之不定形耐火物113´內、或不定形耐火物113´之間之氣泡,而使用金屬絲等構件於間隙S2內攪拌。於不定形耐火物113´中,於間隙S2容易形成空隙較少之耐火物保護層113之點上,使用25℃下之黏度為300 dPa•s以下,較佳為250 dPa•s以下,更佳為30~250 dPa•s,進而較佳為50~250 dPa•s,再佳為50~200 dPa•s者。
不定形耐火物113´包含耐火性氧化物之粉末及水。作為耐火性氧化物之例,可例舉礬土水泥。不定形耐火物113´之耐火性氧化物之粉末c與水w之質量比w/c(%)較佳為30%以下,更佳為10~30%,進而較佳為16~24%,尤其較佳為18~22%。
接著,於填充步驟中,如圖4(b)所示,以被覆周狀壁部112之第1壁部區域112a之表面之方式,塗佈不定形耐火物113´,進而於配置步驟中,以自第1壁部區域112a空出間隙S1而配置上部支持體114A之內周壁面114a之方式,配置上部支持體114A。間隙S1例如可藉由安裝於周狀壁部112之軸向之複數個部位之治具而確保。治具於不定形耐火物113´硬化後,於升溫步驟前,自澄清管102卸除。另,間隙S1之確保不限制於使用治具之上述方法,亦可使用利用黏性更高之不定形耐火物保持等之其他方法進行。
於升溫步驟中,於施工步驟之後,於周狀壁部112流動電流並加熱,將澄清管102升溫至用於去泡之上述溫度範圍為止。
根據本實施形態之玻璃基板之製造方法,由於間隙S2較間隙S1更大,故於施工步驟中,容易將不定形耐火物113´流入於間隙S2內,其結果,易獲得空隙較少之耐火物保護層3。因此,於將澄清管102升溫後,於作業中,如上所述,可藉由耐火物支持體114確實地支持澄清管102。另一方面,可於澄清管102與耐火物支持體114之間形成空隙較少之耐火物保護層113。
以上,對本發明之玻璃基板製造裝置及玻璃基板之製造方法進行詳細說明,但本發明不限定於上述實施形態,當然可於不脫離本發明主旨之範圍內,進行各種改良或變更。
100:熔解裝置 101:熔解槽 102:澄清管 102a:壁部 103:攪拌槽 103a:攪拌器 104,105:移送管 106:玻璃供給管 112:壁部 112a:第1壁部區域 112b:第2壁部區域 113:耐火物保護層 113´:不定形耐火物 114:耐火物支持體 114a:第1內周壁面 114A:上部支持體 114b:第2內周壁面 114B:下部支持體 200:成形裝置 300:切斷裝置 MG:熔融玻璃 R1:曲率半徑 R2:曲率半徑 S1:空隙 S2:空隙 SG:玻璃片 ST1~ST6:步驟
圖1係顯示玻璃基板製造裝置之概略構成之圖。 圖2係顯示玻璃基板之製造方法之概略構成之圖。 圖3係顯示澄清管、耐火物保護層、及耐火物支持體之層構造之一例之剖視圖。 圖4(a)及(b)係說明施工步驟之圖。
102:澄清管
112:壁部
112a:第1壁部區域
112b:第2壁部區域
113:耐火物保護層
114:耐火物支持體
114a:第1內周壁面
114A:上部支持體
114b:第2內周壁面
114B:下部支持體
R1:曲率半徑
R2:曲率半徑
S1:空隙
S2:空隙

Claims (6)

  1. 一種玻璃基板製造裝置,其特徵在於具備:管構件,其為由包含鉑族金屬之材料形成者,具有周狀之壁部,且於上述壁部之內側處理熔融玻璃;耐火物支持體,其配置為包圍上述壁部,並支持上述壁部;及耐火性保護層,其於上述壁部與上述耐火物支持體之間之間隙,形成為與上述壁部及上述耐火物支持體相接;且上述壁部具有位於周上之一部分區域之第1壁部區域、與位於較上述第1壁部區域更下方之第2壁部區域;上述第2壁部區域與上述支持體之間之第2間隙S2之大小為上述第1壁部區域與上述支持體之間之第1間隙S1之大小之1.1倍以上。
  2. 如請求項1之玻璃基板製造裝置,其中上述第2間隙S2之大小為上述第1間隙S1之大小之10倍以下。
  3. 如請求項1或2之玻璃基板製造裝置,其中上述壁部之外周面於與上述管構件之軸向正交之剖面中為圓形狀;與上述外周面對向之上述支持體之內周面中,與上述壁部區域對向之上述支持體之內周區域分別於上述剖面中為圓弧形狀;且與上述第2壁部區域對向之上述支持體之第2內周區域,於上述剖面中,具有較與上述第1壁部區域對向之上述支持體之第1內周區域更大之曲率半徑。
  4. 如請求項1或2之玻璃基板製造裝置,其中上述第1壁部區域及上述第2壁部區域為,於與上述管構件之軸向正交之剖面中,以上述管構件之中心軸為邊界之上側及下側之區域。
  5. 如請求項3之玻璃基板製造裝置,其中上述第1壁部區域及上述第2壁部區域為,於與上述管構件之軸向正交之剖面中,以上述管構件之中心軸為邊界之上側及下側之區域。
  6. 一種玻璃基板之製造方法,其特徵在於其係製造玻璃基板之方法,且具備:處理步驟,其於由包含鉑族金屬之材料組成,具有周狀之壁部之管構件,一面流動熔融玻璃一面進行處理;及準備步驟,其於上述處理步驟之前進行;且上述準備步驟包含:施工步驟,其包含:配置步驟,其以包圍上述壁部之方式配置耐火物支持體;及填充步驟,其於上述壁部與上述耐火物支持體之間之間隙,以與上述壁部及上述耐火物支持體相接之方式填充不定形耐火物;及升溫步驟,其於上述施工步驟之後,將上述管構件升溫;且上述壁部具有位於周上之一部分區域之第1壁部區域、與位於較上述第1壁部區域更下方之第2壁部區域;上述第2壁部區域與上述支持體之間之第2間隙S2之大小為上述第1壁部區域與上述支持體之間之第1間隙S1之大小之1.1倍以上。
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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013010672A (ja) * 2011-06-29 2013-01-17 Avanstrate Inc ガラス板製造装置、およびこの装置を用いたガラス板の製造方法
TW201811688A (zh) * 2016-09-13 2018-04-01 美商康寧公司 用於處理玻璃基板之設備及方法
TW201920013A (zh) * 2017-09-29 2019-06-01 日商安瀚視特控股股份有限公司 玻璃基板之製造方法、及玻璃基板製造裝置
WO2020049944A1 (ja) * 2018-09-03 2020-03-12 日本電気硝子株式会社 ガラス物品の製造方法及び製造装置
CN111065606A (zh) * 2017-09-04 2020-04-24 日本电气硝子株式会社 玻璃物品的制造方法及制造装置

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201210967A (en) * 2010-06-29 2012-03-16 Avanstrate Inc Production device of glass panel and production method using the same
JP6986958B2 (ja) * 2017-12-27 2021-12-22 AvanStrate株式会社 ガラス基板製造装置、及びガラス基板の製造方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013010672A (ja) * 2011-06-29 2013-01-17 Avanstrate Inc ガラス板製造装置、およびこの装置を用いたガラス板の製造方法
TW201811688A (zh) * 2016-09-13 2018-04-01 美商康寧公司 用於處理玻璃基板之設備及方法
CN111065606A (zh) * 2017-09-04 2020-04-24 日本电气硝子株式会社 玻璃物品的制造方法及制造装置
TW201920013A (zh) * 2017-09-29 2019-06-01 日商安瀚視特控股股份有限公司 玻璃基板之製造方法、及玻璃基板製造裝置
WO2020049944A1 (ja) * 2018-09-03 2020-03-12 日本電気硝子株式会社 ガラス物品の製造方法及び製造装置

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