TWI809041B - 附黏著劑層之光學膜、內嵌型液晶面板及液晶顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種具有良好之導電性且黏著劑層之抓固性亦優異之附黏著劑層之光學膜。附黏著劑層之光學膜10具備：光學膜11、設置於光學膜11之至少一個表面之抗靜電層13、及配置於抗靜電層13上之黏著劑層12。該附黏著劑層之光學膜10中，黏著劑層12包含作為基礎聚合物之聚合物A、及離子性化合物。又，黏著劑層12中之離子性化合物之含量相對於基礎聚合物100重量份為5～20重量份。另一方面，抗靜電層13包含：導電性聚合物及聚合物B。又，聚合物A具有官能基a，聚合物B具有與官能基a相互作用之官能基b。並且，聚合物B之分子內之聚醚單元為10 mol%以下。

Description

附黏著劑層之光學膜、內嵌型液晶面板及液晶顯示裝置
本發明係關於一種附黏著劑層之光學膜、內嵌型液晶面板及液晶顯示裝置。 本申請案係基於2018年2月16日提出申請之日本專利申請案2018-025976號而主張優先權，該等申請案之全部內容作為參照組入本說明書中。
作為液晶顯示裝置之構成要素之偏光板、相位差膜等光學膜通常經由黏著劑接合於液晶單元等液晶面板零件。典型之一態樣中，上述光學膜係於液晶顯示裝置之製造步驟，以於其至少一個面具有黏著劑層之附黏著劑層之光學膜之形態操作。此種附黏著劑層之光學膜除去保護該黏著劑層之剝離襯墊，以將其露出之黏著面貼附於被接著體之程度可構成液晶面板，故而就操作性、生產性方面而言較為有利。另一方面，如上所述於除去剝離襯墊之情形等產生靜電。該靜電對液晶單元內之液晶之配向影響，例如成為液晶之顯示不均(以下亦稱為「靜電不均」)的原因。因此，研究具備黏著劑層之光學膜設置抗靜電層或於黏著劑層含有導電劑等對策。
關於如上述之靜電對策，僅提高導電性之方法，無法根據裝置構成而採用。例如，提高導電性於已實用化之觸控面板搭載型液晶顯示裝置中，可對觸控感測器感度造成不良影響。觸控面板搭載型液晶顯示裝置採用之靜電容量方式由於為檢測藉由手指接觸於觸控面板而產生之靜電容量之變化並驅動之輸入裝置，故而若應檢測之靜電容量之變化起因於抗靜電層之存在的電場之鬆散並不穩定化，則引起觸控面板感度之下降。就此種背景而言，於觸控面板搭載型中，設計具有可兼具防止產生靜電不均及觸控感測器感度之導電性。作為揭示此種先前技術之先前技術文獻，可列舉專利文獻1。專利文獻1具體而言，係關於一種於液晶單元之內部(即夾住液晶層之透明基板之內側)配置關於觸控感測器之電極之所謂內嵌型液晶面板者。專利文獻2揭示於光學膜與黏著劑層之間配置包含導電性聚合物之增黏塗層之附黏著劑層之光學膜。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]國際公開第2017/057097號 [專利文獻2]日本專利申請案公開2015-87539號公報
[發明所欲解決之問題]
例如，如上述之觸控面板搭載型液晶顯示裝置中，要求具有良好之觸控感測器感度且提高液晶面板之導電性更高度防止靜電不均之產生。尤其，內嵌型液晶面板中，與表嵌型不同，ITO層等導電性層未設置於面板之表面，故而於黏著劑層不僅包含導電劑，較佳為於光學膜與黏著劑層之間設置抗靜電性增黏塗層，提高面板整體之導電性之構成(專利文獻1)。此種構成中，只要增加黏著劑層中之導電劑(典型而言離子性化合物)，可保持良好之觸控感測器感度並且期待導電性之進一步提高。然而，若增加黏著劑層中之離子性化合物，則明確抗靜電性增黏塗層與黏著劑層之密著性(即抓固性)下降。
本發明係關於一種鑒於上述情況開發而成之附黏著劑層之光學膜的改良，其目的在於提供一種具有良好之導電性且黏著劑層之抓固性亦優異之附黏著劑層之光學膜。又，本發明之另一目的在於提供一種藉由具備上述附黏著劑層之光學膜，而具有良好之觸控感測器感度且改善抗靜電不均性之內嵌型液晶面板及液晶顯示裝置。 [解決問題之技術手段]
根據本說明書，提供一種具備光學膜、設置於該光學膜之至少一個表面之抗靜電層、及配置於該抗靜電層上之黏著劑層的附黏著劑層之光學膜。該附黏著劑層之光學膜中，上述黏著劑層包含作為基礎聚合物之聚合物A及離子性化合物。又，上述黏著劑層中之上述離子性化合物之含量相對於上述基礎聚合物100重量份為5～20重量份。另一方面，上述抗靜電層包含導電性聚合物、及聚合物B。又，上述聚合物A具有官能基a，上述聚合物B具有與該官能基a相互作用之官能基b。並且，上述聚合物B之分子內中之聚醚單元為10 mol%以下。
根據上述構成，抗靜電層包含導電性聚合物，黏著劑層包含離子性化合物，故而該積層膜之導電性以抗靜電層與黏著劑層之2層較高，獲得良好之導電性。例如，上述附黏著劑層之光學膜用於液晶面板之情形時，高度防止靜電不均之產生。又，該積層膜之導電性可以抗靜電層、黏著劑層此2層之組成而調節，故而例如用於觸控感測器搭載型液晶面板用途之情形時，可提高導電性並防止靜電不均之產生，並且保持良好之觸控感測器感度。進而，黏著劑層中之聚合物A及抗靜電層中之聚合物B分別具有相互作用之官能基a及官能基b，故而容易將抗靜電層與黏著劑層密著。此處2種官能基之相互作用係指共價鍵結、偶極-偶極相互作用、氫鍵、凡得瓦力等不同分子彼此鍵結之作用或互相吸引之作用。
又，上述構成中，就提高導電性之觀點而言，黏著劑層中相對於基礎聚合物100重量份包含5～20重量份離子性化合物，但此可成為抓固性下降之主要原因。具體而言，對於附黏著劑層之光學膜之積層體剖面的利用TOF-SIMS(飛行時間型二次離子質量分析法)之分析及研究的結果，本發明者等人發現獲得如下知識：抗靜電層中所含之聚合物B除官能基b以外，若具有特定量以上之聚醚單元，則黏著劑層所含之離子性化合物引入抗靜電層側，移動至與抗靜電層之界面，並且該現象與抓固性下降相關。因此，上述構成中，作為抗靜電層所含之聚合物B，使用聚醚單元為特定量以下者。藉此，防止聚合物B之聚醚單元成為原因之離子性化合物移動至抗靜電層側，可抑制抓固性下降。該抓固性下降抑制可不減少黏著劑層中之離子性化合物量而實現，故而可兼具提高導電性。 總之，根據上述構成，實現具有良好之導電性且黏著劑層之抓固性亦優異之附黏著劑層之光學膜。將該構成之附黏著劑層之光學膜用於例如液晶面板用途之情形時，可改善防靜電不均性。又，適用於觸控感測器搭載型之情形時，可發揮良好之觸控感測器感度。進而，黏著劑層之抓固性優異，亦改善應用上述附黏著劑層之光學膜的光學構造體(例如液晶面板、以及液晶顯示裝置)製造時之加工性、返工性，亦瞭解貼附該附黏著劑層之光學膜之構造具有優異之耐久性。
此處揭示之技術(包含附黏著劑層之光學膜、液晶面板、觸控感測器搭載型液晶面板、內嵌型液晶面板及液晶顯示裝置。以下相同)之較佳之一態樣中，上述官能基a及上述官能基b之一者係選自由羧基、酸酐基、羥基及硫醇基所組成之群中之至少1種，另一者係選自由㗁唑啉基及異氰酸酯基所組成之群中之至少1種。如官能基a及官能基b相互作用般，自上述官能基種之中，根據其一個官能基種，選定其另一官能基種。根據上述官能基之相互作用，容易獲得優異之抓固性。
此處揭示之技術之較佳之一態樣中，上述抗靜電層及上述黏著劑層之表面電阻值任一者均在1×108 ～1×1010 Ω/□之範圍內。藉由將抗靜電層及黏著劑層之表面電阻值設為1×1010 Ω/□以下，而例如於液晶面板用途，根據其導電性，高度防止靜電不均之產生。又，藉由將上述各層之表面電阻值設為1×108 Ω/□以上，而例如於觸控感測器搭載型液晶面板中，可較佳確保良好之觸控感測器感度。
此處揭示之技術之較佳之一態樣中，上述離子性化合物選自鹼金屬鹽及有機陽離子-陰離子鹽。其中，上述離子性化合物更佳為熔點為40℃以下之離子性液體(例如有機陽離子-陰離子鹽)。藉由使用上述種類之離子性化合物，可獲得黏著劑層之導電性且較佳地抑制黏著劑層之抓固性下降。
此處揭示之技術之較佳之一態樣中，上述導電性聚合物係噻吩系聚合物。藉由使用作為噻吩系聚合物作為導電性聚合物，抗靜電層可較佳獲得適於液晶面板(例如觸控面板搭載型液晶面板)用途之導電性。
此處揭示之技術之較佳之一態樣中，上述聚合物A係丙烯酸系聚合物。藉由使用丙烯酸系聚合物作為黏著劑層之基礎聚合物，可將配置於其背面之光學膜良好接著固定於液晶單元等被接著體。
此處揭示之技術之較佳之一態樣中，上述聚合物B為含㗁唑啉基之聚合物。藉由使用含㗁唑啉基之聚合物作為抗靜電層所含之聚合物B，而較佳提高與黏著劑層之密著性，又，較佳發揮聚合物B中之聚醚單元為10 mol%以下之效果。
又，根據本說明書，提供一種具備液晶單元、及此處揭示之任一附黏著劑層之光學膜的內嵌型液晶面板。該液晶面板中，上述液晶單元具備：包含液晶分子之液晶層；夾住上述液晶層而配置之第1透明基板及第2透明基板(此處該第1透明基板配置於上述液晶面板之視認側)；及配置於上述第1透明基板及上述第2透明基板之間之觸控感測電極部。又，上述附黏著劑層之光學膜係其黏著劑層貼附於上述第1透明基板表面。面板表面不具有導電層之內嵌型中，必須提高附黏著劑層之光學膜之導電性。藉由將此處揭示之附黏著劑層之光學膜用於內嵌型液晶面，而保持良好之觸控感測器感度且根據其較高之導電性，獲得抗靜電不均性。 再者，本說明書中，「觸控感測電極部」係包含與觸控感測相關之檢測電極、驅動電極之至少一個(較佳為兩者)之概念，亦包含檢測電極及驅動電極一體形成之一體型電極。
又，根據本說明書，提供一種具備此處揭示之任一內嵌型液晶面板之液晶顯示裝置。上述內嵌型液晶面板高度抑制靜電不均之產生，且具有良好之觸控感測器感度。進而，黏著劑層之抓固性優異，故而加工性、耐久性亦優異。因此，藉由使用此處揭示之內嵌型液晶面板，而提供一種高品質且難以產生不良之液晶顯示裝置。
以下，說明本發明之較佳之實施形態。再者，本說明書中未特別提及之事項以外且實施本發明必需之情況係基於本說明書記載之發明的實施之教示及申請時之技術常識而為業者理解。本發明可基於本說明書所揭示之內容及該區域之技術常識而實施。 再者，以下之圖式中，對實現相同作用之構件・部位附上相同符號而說明，省略或簡化重複說明。又，圖式記載之實施形態係為了明確說明本發明而模式化，並非準確表示實際提供之製品及零件之尺寸或比例尺。
＜構成＞ 此處揭示之附黏著劑層之光學膜的構成例模式性示於圖1。該附黏著劑層之光學膜10依序具有：光學膜11、抗靜電層13及黏著劑層12。具體而言，於光學膜11之一個面(第一面)11A設置有抗靜電層13，於抗靜電層13之一個面(與光學膜11側相反側之面)上配置黏著劑層12。又，附黏著劑層之光學膜10可於光學膜11之另一面(第二面，亦稱為背面)11B具有表面處理層14。附黏著劑層之光學膜10係將其黏著劑層12之黏著面12A貼附於被接著體(保護對象，例如液晶單元之視認側之透明基板等光學零件)之表面而使用。使用前(即，貼附於被接著體之前)的附黏著劑層之光學膜10，可為黏著劑層12之黏著面(貼附於被接著體之面)12A由至少黏著劑層12側成為剝離面之剝離襯墊(未圖示)保護之形態。再者，可於附黏著劑層之光學膜10之背面(表面處理層14之外表面，於不具有表面處理層14之情形時為光學膜11之背面)設置表面保護膜(未圖示)。
＜光學膜＞ 此處揭示之光學膜可為稱為於液晶顯示裝置等畫像顯示裝置中用作光學構件之偏光膜(亦稱為偏光板)、相位差膜(亦稱為相位差板，包含波長板)、光學補償膜、亮度提高膜、光擴散膜、反射膜、反透過膜等者。較佳之一態樣之光學膜為偏光膜、相位差膜。該等除可1種單獨構成光學膜外，亦將2種以上組合(典型而言積層)用作光學膜。此種光學膜例如可為將包含偏光膜之偏光層、及相位差層膜等其他光學層積層而成者。以下，對作為光學膜之較佳例之偏光膜進行說明，但並非意欲將此處揭示之技術限定於此。
此處揭示之用作光學膜之較佳例的偏光膜通常可為具備偏光元件、及配置於該偏光元件之至少一個面(較佳為兩面)之透明保護膜者。作為偏光元件，並無特別限定，例如使用於親水性高分子膜吸附碘或二色性染料之二色性物質進行單軸延伸者。作為親水性高分子膜，可列舉：聚乙烯醇(PVA)系膜、部分縮甲醛化PVA系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等。作為偏光元件，亦可使用PVA之脫水處理物或聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等多烯系配向膜等。其中，較佳為PVA系膜及包含碘等二色性物質之偏光元件。
偏光元件之厚度並無特別限制，一般而言大致為80 μm以下。又，就厚度較小化之觀點而言，亦可較佳使用厚度大致10 μm以下(較佳為大致1～7 μm)之厚度較小的偏光元件。厚度較小之偏光元件由於厚度不均較少，視認性優異，又，尺寸變化較少，故而耐久性亦優異。使用厚度較小之偏光元件亦有助於偏光膜之厚度較小化。
作為構成透明保護膜之材料，例如較佳使用透明性、機械強度、熱穩定性、水分遮斷性、各向同性等優異之熱塑性樹脂。作為此種熱塑性樹脂之具體例，可列舉：三乙醯纖維素(TAC)等纖維素樹脂、聚酯樹脂、聚醚碸樹脂、聚碸樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚烯烴樹脂、(甲基)丙烯酸樹脂、環烯烴系樹脂(典型而言降𦯉烯系樹脂)、聚丙烯酸酯樹脂、聚苯乙烯樹脂、PVA樹脂、及該等之2種以上之混合物等。較佳之態樣中，可採用於偏光元件之一個面配置例如包含TAC等熱塑性樹脂之透明保護膜，於另一個面配置包含環烯烴系樹脂(典型而言降𦯉烯系樹脂)或(甲基)丙烯酸樹脂之透明保護膜的構成。其他較佳之一態樣中，可使用於偏光元件之一個面配置例如包含TAC等熱塑性樹脂之透明保護膜，於另一個面使用(甲基)丙烯酸系、胺基甲酸酯系、丙烯酸胺基甲酸酯系、環氧系、聚矽氧系等熱硬化性樹脂或紫外線硬化型樹脂，作為透明保護膜。該等透明保護膜可經由PVA系等接著劑積層於偏光元件。透明保護膜可根據目的包含任意適當之添加劑1種以上。
貼合偏光元件與透明保護膜使用之接著劑只要為光學且透明，則無特別限制，可使用水系、溶劑系、熱熔系、自由基硬化型、陽離子硬化型各種形態者。其中，較佳為水系接著劑或自由基硬化型接著劑。
又，可於光學膜之背面(即與設置抗靜電層之側相反側的面)設置表面處理層。表面處理層除可設置於光學膜使用之上述透明保護膜以外，亦可另外作為與透明保護膜不同物體，設置於光學膜上。
作為表面處理層之較佳例，可列舉硬塗層。作為硬塗層之形成材料，例如可使用熱塑性樹脂、藉由熱或放射線而硬化之材料。作為使用之材料，可列舉：熱硬化型樹脂或紫外線硬化型樹脂、電子束硬化型樹脂等放射線硬化性樹脂。其中，較佳為紫外線硬化型樹脂。紫外線硬化型樹脂藉由因紫外線照射之硬化處理，可高效地形成硬化樹脂層，故而加工性優異。作為硬化型樹脂，可使用聚酯系、丙烯酸系、胺基甲酸酯系、醯胺系、聚矽氧系、環氧系、三聚氰胺系等之1種或2種以上，該等可為包含單體、低聚物、聚合物等之形態。由於無需熱(基材損傷可成為原因)，加工速度優異，故而尤其較佳為放射線硬化型樹脂(典型而言紫外線硬化型樹脂)。
作為表面處理層之其他例，可列舉目的在於提高視認性之防眩處理層或抗反射層。於上述硬塗層上可設置防眩處理層或抗反射層。防眩處理層之構成材料並無特別限定，例如可使用放射線硬化型樹脂、熱硬化型樹脂、熱塑性樹脂等。作為抗反射層，可使用氧化鈦、氧化鋯、氧化矽、氟化鎂等。抗反射層可為具有包含複數層之多層構造者。作為表面處理層之其他例，可列舉：抗黏層等。
此處揭示之技術以具備表面處理層之態樣實施之情形時，可於表面處理層含有抗靜電劑而賦予導電性。作為抗靜電劑，可無特別限制使用下述導電劑。
此處揭示之光學膜之厚度(包含複數層之情形時，該等之總厚)並無特別限定，例如適當為大致為1 μm以上，通常大致為10 μm以上，大致20 μm以上。例如於設置透明保護膜之情形時，就保護性等觀點而言，光學膜之厚度較佳為大致30 μm以上，更佳為大致50 μm以上，進而較佳為大致為70 μm以上。光學膜之上限並無特別限制，例如適當為大致1 mm以下，通常大致為500 μm以下，大致為300 μm以下。就光學特性或厚度較小化之觀點而言，上述厚度較佳為大致150 μm以下，更佳為大致120 μm以下，進而較佳為大致100 μm以下。
＜黏著劑層＞ 構成此處揭示之黏著劑層之黏著劑只要作為構成該黏著劑層之基礎聚合物的聚合物A具有官能基a，則無特別限定，例如可為包含選自丙烯酸系、橡膠系、胺基甲酸酯系、聚矽氧系、乙烯基烷基醚系、乙烯基吡咯啶酮系、丙烯醯胺系、纖維素系等各種黏著劑中之1種或2種以上而構成之黏著劑層。因此，作為構成黏著劑層之基礎聚合物之聚合物A可為丙烯酸系聚合物、橡膠系聚合物、胺基甲酸酯系聚合物、聚矽氧系聚合物、乙烯基烷基醚系聚合物、乙烯基吡咯啶酮系聚合物、丙烯醯胺系聚合物、纖維素系聚合物等。其中，就透明性、適度之濕潤性、凝聚性或接著性等黏著特性、耐候性、耐熱性等觀點而言，較佳為丙烯酸系黏著劑。以下，以上述黏著劑層為丙烯酸系黏著劑層之構成作為主要例，更詳細說明此處揭示之技術，並非意在限定於上述黏著劑層包含丙烯酸系黏著劑者。
(丙烯酸系黏著劑) 所謂較佳之一態樣中採用之丙烯酸系黏著劑係指以丙烯酸系聚合物為基礎聚合物(該黏著劑所含之聚合物成分之中之主成分即多於50重量%之成分)之黏著劑。又，所謂「丙烯酸系聚合物」係指1分子中具有至少一個(甲基)丙烯醯基之單體(以下，有時將其稱為「丙烯酸系單體」)作為主構成單體成分(單體之主成分，即構成丙烯酸系聚合物之單體的總量中占50重量%以上)之聚合物。所謂上述「(甲基)丙烯醯基」意指包含丙烯醯基及甲基丙烯醯基。同樣，所謂「(甲基)丙烯酸酯」意指包含丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯。
(丙烯酸系聚合物) 作為上述丙烯酸系黏著劑之基礎聚合物之丙烯酸系聚合物典型而言係以(甲基)丙烯酸烷基酯為主構成單體成分之聚合物。作為上述(甲基)丙烯酸烷基酯，例如可較佳使用下述式(1)所表示之化合物。 CH2 ＝C(R1 )COOR2 (1) 此處，上述式(1)中之R1 為氫原子或甲基。R2 係碳原子數1～20之烷基(意指包含鏈狀烷基及脂環式烷基)。就容易獲得黏著特性優異之黏著劑而言，較佳為R2 為碳原子數1～18(以下，有時將此種碳原子數之範圍設為C1-18 )之鏈狀烷基(意指包含直鏈狀烷基及分支狀烷基)的(甲基)丙烯酸烷基酯，更佳為具有C1-14 之鏈狀烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯。作為C1-14 之鏈狀烷基之具體例，可列舉：甲基、乙基、丙基、異丙基、正丁基、異丁基、第二丁基、第三丁基、正戊基、異戊基、新戊基、正己基、正庚基、正辛基、異辛基、2-乙基己基、正壬基、異壬基、正癸基、異癸基、正十一烷基、正十二烷基、正十三烷基、正十四烷基等。作為可選作R2 之脂環式烷基，可列舉：環己基、異𦯉基等。
於較佳之一態樣中，丙烯酸系聚合物之合成所使用之單體的總量(以下亦稱為「總原料單體」)中大致50重量%以上、更佳為大致60重量%以上、例如大致70重量%以上占選自上述式(1)中之R2 為(甲基)丙烯酸C1-18 之鏈狀烷基酯(更佳為C1-14 、進而較佳為(甲基)丙烯酸C4-10 之鏈狀烷基酯，例如丙烯酸正丁酯(BA)及丙烯酸2-乙基己基酯(2EHA)中之一者或兩者)中之1種或2種以上。根據由此種單體組成獲得之丙烯酸系聚合物，由於容易形成顯示適於此處揭示之用途之黏著特性的黏著劑，故而較佳。(甲基)丙烯酸C1-18 (例如C1-14 ，典型而言較佳為C4-10 )之鏈狀烷基酯占上述單體總量之比率，就導入官能基a或調整相位差、調整折射率等觀點而言，適當為大致95重量%以下，較佳為大致90重量%以下，更佳為85重量%以下(例如80重量%以下)。
又，就黏著特性、耐久性、調整相位差、調整折射率等方面，作為丙烯酸系聚合物之合成所使用之單體，較佳為使用具有芳香環構造之(甲基)丙烯酸酯。作為具有芳香環構造之(甲基)丙烯酸酯之芳香環構造，可列舉：苯環、萘環、噻吩環、吡啶環、吡咯環、呋喃環等。其中，較佳為具有苯環、萘環之(甲基)丙烯酸酯。作為具有芳香環構造之(甲基)丙烯酸酯，可使用各種(甲基)丙烯酸芳基酯、(甲基)丙烯酸芳基烷基酯、(甲基)丙烯酸芳氧基烷基酯等。
作為具有芳香環構造之(甲基)丙烯酸酯之具體例，例如可列舉：(甲基)丙烯酸苯酯、鄰苯基苯酚(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸苯氧酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙基酯、(甲基)丙烯酸苯氧基丙基酯、(甲基)丙烯酸苄酯、苯氧基乙二醇(甲基)丙烯酸酯、苯氧基二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改性壬基苯酚(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改性甲酚(甲基)丙烯酸酯、苯酚環氧乙烷改性(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸苯氧基-2-羥基丙基酯、(甲基)丙烯酸甲氧基苄基酯、(甲基)丙烯酸氯苄酯、(甲基)丙烯酸甲苯酯、(甲基)丙烯酸聚苯乙烯酯、羥基乙基化β-萘酚丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸2-萘氧基乙基酯、(甲基)丙烯酸2-(4-甲氧基-1-萘氧基)乙酯、(甲基)丙烯酸硫苯酯、(甲基)丙烯酸吡啶酯、(甲基)丙烯酸吡咯酯、(甲基)丙烯酸聚苯乙烯酯等。亦可使用(甲基)丙烯酸聯苯酯等具有聯苯環者。該等可單獨使用1種，或將2種以上組合使用。其中，更佳為(甲基)丙烯酸苯氧基乙基酯、(甲基)丙烯酸苄酯。
於使用具有芳香環構造之(甲基)丙烯酸酯之情形時，其含量根據黏著特性、光學特性等而適當設定。具有芳香環構造之(甲基)丙烯酸酯於丙烯酸系聚合物之合成所使用之單體的總量中，適當為大致5重量%以上，就良好地發揮具有芳香環構造之(甲基)丙烯酸酯的效果(耐久性提高或液晶顯示不均改善等)之觀點而言，較佳為大致10重量%以上、更佳為大致15重量%以上(例如大致20重量%以上)。具有芳香環構造之(甲基)丙烯酸酯之使用量之上限適當為大致30重量%以下，考慮黏著特性或黏著劑層之抓固性等，較佳為大致未達30重量%、更佳為大致未達25重量%(例如未達22重量%)。
作為基礎聚合物之聚合物A(典型而言丙烯酸系聚合物)具有之官能基a典型而言係藉由將具有官能基a之單體共聚而導入聚合物A之分子內。上述官能基a與下述抗靜電層所含之官能基b相互作用，提高抗靜電層與黏著劑層之密著性。不僅如此，成為黏著劑層內中交聯點，或可提高黏著劑之凝聚力或耐熱性。藉由使用適當量含官能基a之單體，亦可調整聚合物A之玻璃轉移溫度(Tg)，而調整黏著特性。再者，官能基a之導入形態並不限定於含官能基a之單體之共聚，亦可藉由以聚合物A之聚合後之適當的時機將包含官能基a之化合物利用適當之化學反應加成於聚合物A而導入。
作為官能基a，只要為與官能基b相互作用者，則無特別限制。官能基a例如可選自由羧基、酸酐基、羥基及硫醇基所組成之群、或㗁唑啉基及異氰酸酯所組成之群中之任一群。作為官能基a，可單獨採用1種，亦可使用2種以上。其中，官能基a較佳為選自由羧基、酸酐基、羥基及硫醇基所組成之群中之至少1種官能基。聚合物A(典型而言丙烯酸系聚合物)中共聚之含官能基a之單體的較佳例係含羧基之單體、含酸酐基之單體、含羥基之單體。硫醇基可藉由以聚合物A聚合後之適當之時機，將包含硫醇基之化合物利用適當之化學反應，加成於聚合物A而導入。
作為含羧基之單體，可例示丙烯酸(AA)、甲基丙烯酸(MAA)、(甲基)丙烯酸羧基乙基酯、(甲基)丙烯酸羧基戊基酯等乙烯性不飽和單羧酸；伊康酸、順丁烯二酸、反丁烯二酸、丁烯酸、異丁烯酸、甲基順丁烯二酸等乙烯性不飽和二羧酸。 作為含酸酐基之單體，可列舉：順丁烯二酸酐、伊康酸酐、上述乙烯性不飽和二羧酸等酸酐。 作為含羥基之單體，可列舉：(甲基)丙烯酸2-羥基乙基酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙基酯、(甲基)丙烯酸3-羥基丙基酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丁基酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁基酯、(甲基)丙烯酸2-羥基己基酯、(甲基)丙烯酸6-羥基己基酯、(甲基)丙烯酸8-羥基辛基酯、(甲基)丙烯酸10-羥基癸基酯、(甲基)丙烯酸12-羥基月桂基酯、(甲基)丙烯酸(4-羥基甲基環己基)甲酯等(甲基)丙烯酸羥基烷基酯類；聚乙二醇單(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇單(甲基)丙烯酸酯等伸烷二醇(甲基)丙烯酸酯類；乙烯醇、烯丙醇、2-羥基乙基乙烯醚、4-羥基丁基乙烯醚、二乙二醇單乙烯醚等不飽和醇類；等。 該等含官能基之單體可單獨使用1種，亦可將2種以上組合使用。
此處揭示之技術中之丙烯酸系聚合物可將上述以外之含官能基之單體共聚。該單體例如可以調整丙烯酸系聚合物之Tg、調整黏著性能等目的使用。例如，作為可提高黏著劑之凝聚力或耐熱性之單體，可列舉含磺酸基之單體、含磷酸基之單體、含氰基之單體等。又，作為導入於丙烯酸系聚合物可成為交聯基點之官能基或可有助於提高與玻璃等被接著體之密著力的單體，可列舉含醯胺基之單體、含胺基之單體、含醯亞胺基之單體、含環氧基之單體、具有含氮原子之環的單體、含酮基之單體、含異氰酸酯基之單體、含胺烷氧基矽烷基之單體等。其中，較佳使用下述所例示之含醯胺基之單體、含胺基之單體、具有含氮原子之環的單體。
含醯胺基之單體：例如為，例如(甲基)丙烯酸醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯酸醯胺、正丁基(甲基)丙烯酸醯胺、N-羥甲基(甲基)丙烯酸醯胺、N-羥甲基丙烷(甲基)丙烯酸醯胺、N-甲氧基甲基(甲基)丙烯酸醯胺、N-丁氧基甲基(甲基)丙烯酸醯胺。 含胺基之單體：例如(甲基)丙烯酸胺基乙基酯、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基乙基酯、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基丙基酯、(甲基)丙烯酸第三丁基胺基乙基酯。 具有含氮原子之環之單體：例如N-乙烯基-2-吡咯啶酮、N-甲基乙烯基吡咯啶酮、N-乙烯基吡啶、N-乙烯基哌啶酮、N-乙烯基嘧啶、N-乙烯基哌𠯤、N-乙烯基吡𠯤、N-乙烯基吡咯、N-乙烯基咪唑、N-乙烯基㗁唑、N-乙烯基嗎啉、N-乙烯基己內醯胺、N-(甲基)丙烯醯基嗎啉、N-(甲基)丙烯醯基吡咯啶酮。
上述含官能基之單體之含量並無特別限定，通常基礎聚合物(典型而言丙烯酸系聚合物)之合成所使用之單體之總量中大致為40重量%以下，大致30重量%以下較為適當，就黏著特性等觀點而言，較佳為大致20重量%以下、更佳為大致15重量%以下、進而較佳為10重量%以下(例如5重量%以下)。含官能基之單體之含量占基礎聚合物之合成所使用之單體的總量之下限，通常大致為0.001重量%以上，大致0.01重量%以上較為適當，就較佳發揮含官能基之單體共聚之效果的觀點而言，較佳為大致0.1重量%以上、更佳為大致0.5重量%以上、進而較佳為大致1重量%以上。
又，含官能基a之單體之含量並無特別限定，就黏著特性等觀點而言，基礎聚合物(典型而言丙烯酸系聚合物)之合成所使用之單體之總量中大致20重量%以下較為適當，較佳為大致15重量%以下，更佳為大致10重量%以下(例如大致5重量%以下)。含官能基a之單體之含量占基礎聚合物之合成所使用之單體之總量的下限通常大致為0.001重量%以上，大致0.01重量%以上較為適當，就較佳發揮基於官能基a之抓固性提高效果之觀點而言，較佳為大致0.1重量%以上、更佳為大致0.5重量%以上、進而較佳為大致1重量%以上。
較佳之一態樣中，作為基礎聚合物(典型而言丙烯酸系聚合物)之單體成分，使用含羧基之單體及含羥基之單體中至少一個(較佳為兩者)。作為丙烯酸系聚合物之單體成分，使用含羧基之單體之情形時，含羧基之單體之量占基礎聚合物之合成所使用的單體之總量，就黏著劑之凝聚性、抓固性等觀點而言，通常大致為0.001重量%以上，大致0.01重量%以上較為適當，較佳為大致0.1重量%以上，更佳為大致0.2重量%以上，例如可為1重量%以上，亦可為3重量%以上。含羧基之單體之使用量的上限以獲得所需之黏著特性之方式適當設定，基礎聚合物之合成所使用之單體的總量中大致10重量%以下較為適當，較佳為大致8重量%以下，更佳為大致6重量%以下，例如可為大致3重量%以下，亦可為大致1重量%以下。
使用含羥基之單體作為基礎聚合物(典型而言丙烯酸系聚合物)之單體成分之情形時，含羥基之單體之量占基礎聚合物之合成所使用之單體的總量，就黏著劑之凝聚性、抓固性等觀點而言，通常大致為0.001重量%以上，大致0.01重量%以上較為適當，較佳為大致0.1重量%以上。含羥基之單體之使用量之上限以獲得所需之黏著特性之方式適當設定，基礎聚合物之合成所使用之單體之總量中大致5重量%以下較為適當，較佳為大致3重量%以下，更佳為大致1重量%以下(例如大致0.5重量%以下)。
作為可以上述含官能基之單體以外使用之其他共聚性單體，可列舉：乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯等乙烯酯系單體；苯乙烯、取代苯乙烯(α-甲基苯乙烯等)、乙烯基甲苯等芳香族乙烯酯化合物；(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸第三丁基環己酯、(甲基)丙烯酸環戊酯、(甲基)丙烯酸異𦯉基酯等含非芳香族性環之(甲基)丙烯酸酯；乙烯、丙烯、異戊二烯、丁二烯、異丁烯等烯烴系單體；氯乙烯、偏二氯丁烯等含氯單體；(甲基)丙烯酸甲氧基乙基酯、(甲基)丙烯酸乙氧基乙基酯等含烷氧基之單體；甲基乙烯醚、乙基乙烯醚、異丁基乙烯醚等乙烯醚系單體；等。該等可單獨使用1種，或將2種以上組合使用。於使用此種其他共聚性單體之情形時，其使用量並無特別限制，通常基礎聚合物(典型而言丙烯酸系聚合物)之合成所使用之單體的總量之大致30重量%以下(例如0～30重量%)較為適當，較佳為大致10重量%以下(例如大致3重量%以下)。此處揭示之技術亦可以基礎聚合物之合成所使用之單體成分實質上不含上述其他共聚性單體之態樣而實施。
作為可構成基礎聚合物(典型而言丙烯酸系聚合物)之共聚性單體之其他例，可列舉多官能單體。作為多官能單體之具體例，可列舉：1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二季戊二醇六(甲基)丙烯酸酯、亞甲基雙丙烯醯胺等之1分子中具有2個以上(甲基)丙烯醯基之化合物。多官能單體可單獨使用1種，或將2種以上組合使用。於使用此種多官能單體之情形時，其使用量並無特別限制，通常基礎聚合物之合成所使用之單體之總量的大致2重量%以下(更佳為大致1重量%以下)較為適當。
聚合所使用之起始劑可自公知或慣用之聚合起始劑中適當選擇。例如，可較佳使用2,2'-偶氮雙異丁腈等偶氮系聚合起始劑。作為聚合起始劑之其他例，可列舉：過氧化物系起始劑(過硫酸鉀等過硫酸鹽、過氧化苯甲醯、過氧化氫等)；苯基取代乙烷等之取代乙烷系起始劑；芳香族羰基化合物；等。作為聚合起始劑之進而其他例，可列舉過氧化物與還原劑之組合而成之氧化還原系起始劑。作為該氧化還原系起始劑之例，可列舉過氧化物與抗壞血酸之組合(過氧化氫水與抗壞血酸之組合等)、過氧化物與鐵(II)鹽之組合(過氧化氫水與鐵(II)鹽之組合等)、過硫酸鹽與亞硫酸氫鈉之組合等。
此種聚合起始劑可單獨使用1種或將2種以上組合使用。聚合起始劑之使用量只要為通常之使用量即可，例如可相對於總原料單體100重量份自0.005～1重量份(典型而言0.01～1重量份)左右之範圍選擇。
獲得具有該單體組成之基礎聚合物(典型而言丙烯酸系聚合物)之方法並無特別限定，可應用溶液聚合法、乳液聚合法、塊狀聚合法、懸浮聚合法等各種聚合方法。就透明性或黏著性能等觀點而言，可較佳使用溶液聚合法。作為進行聚合時之單體供給方法，可適當採用將總單體原料一次供給之一次添加方式、連續供給(滴加)方式、分割供給(滴加)方式等。聚合溫度可根據使用之單體及溶劑之種類、聚合起始劑的種類等而適當選擇，例如可設為20℃～170℃(典型而言40℃～140℃)左右。又，合成之基礎聚合物可為無規共聚物，亦可為嵌段共聚物、接枝共聚物等。就生產性等觀點而言，通常較佳為無規共聚物。
作為較佳之一態樣之溶液聚合所使用之溶劑(聚合溶劑)，例如可使用選自甲苯、二甲苯等芳香族化合物類(典型而言芳香族烴類)；乙酸乙酯等乙酸酯類；己烷等脂肪族或脂環式烴類；1,2-二氯乙烷等鹵化烷烴類；異丙醇等低級醇類(例如，碳原子數1～4之一元醇類)；第三丁基甲基醚等醚類；甲基乙基酮等酮類；等中之任1種之溶劑、或2種以上之混合溶劑。
此處揭示之技術中之基礎聚合物(丙烯酸系聚合物)為藉由GPC(凝膠滲透層析法)獲得之標準聚苯乙烯換算的重量平均分子量(Mw)大致為10×104 以上較為適當，就耐久性、耐熱性等觀點而言，較佳為大致50×104 以上、更佳為大致80×104 以上、進而較佳為大致120×104 以上。又，上述Mw大致為500×104 以下較為適當，黏著劑層形成時就塗敷性等觀點而言，較佳為大致300×104 以下、更佳為大致250×104 以下、進而較佳為大致200×104 以下。
上述Mw具體而言，可使用商品名「HLC-8120GPC」(東曹公司製造)作為GPC測定裝置，以下述條件而測定。 [GPC之測定條件] 樣品濃度：0.2重量%(四氫呋喃溶液) 樣品注入量：100 μL 溶離液：四氫呋喃(THF) 流量(流速)：0.8 mL/分鐘 管柱溫度(測定溫度)：40℃ 管柱：東曹公司製造，G7000HXL ＋GMHXL ＋GMHXL 管柱尺寸：各7.8 mm×30 cm計90 cm 檢測器：示差折射計(RI) 標準試樣：聚苯乙烯
(離子性化合物) 此處揭示之黏著劑層之特徵在於包含離子性化合物。離子性化合物提高作為導電成分之黏著劑層之導電性。例如，較佳使用選自鹼金屬鹽或有機陽離子-陰離子鹽等中之1種或2種以上。就抓固性之觀點而言，更佳為有機陽離子-陰離子鹽。
(鹼金屬鹽) 作為鹼金屬鹽，可使用鹼金屬之有機鹽及無機鹽。作為構成鹼金屬鹽之陽離子部之鹼金屬離子，可列舉：鋰、鈉、鉀各離子。該等鹼金屬離子之中，較佳為鋰離子。
鹼金屬鹽之陰離子部可包含有機物，亦可包含無機物。作為構成有機鹽之陰離子部，例如可列舉：CH3 COO- 、CF3 COO- 、CH3 SO3 - 、CF3 SO3 - 、(CF3 SO2 )3 C- 、C4 F9 SO3 - 、C3 F7 COO- 、(CF3 SO2 )(CF3 CO)N- 、(FSO2 )2 N- 、- O3 S(CF2 )3 SO3 - 、PF6 - 、CO3 2- 或下述通式(1)～(4)： (1)(Cn F2n+1 SO2 )2 N- (其中，n為1～10之整數)； (2)CF2 (Cm F2m SO2 )2 N- (其中，m為1～10之整數)； (3)- O3 S(CF2 )l SO3 - (其中，l為1～10之整數)； (4)(Cp F2p+1 SO2 )N- (Cq F2q+1 SO2 )(其中，p、q為1～10之整數)；所表示者等。陰離子部包含氟原子之離子性化合物由於離子解離性更佳，故而較佳使用。作為無機陰離子部，使用Cl- 、Br- 、I- 、AlCl4 - 、Al2 Cl7 - 、BF4 - 、PF6 - 、ClO4 - 、NO3 - 、AsF6 - 、SbF6 - 、NbF6 - 、TaF6 - 、(CN)2 N- 等。作為陰離子部，較佳為(CF3 SO2 )2 N- 、(C2 F5 SO2 )2 N- 等(全氟烷基磺醯基)醯亞胺，尤其較佳為由(CF3 SO2 )2 N- 表示之(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺。
作為鹼金屬之有機鹽，具體而言，可列舉：乙酸鈉、海藻酸鈉、木質素磺酸鈉、甲苯磺酸鈉、LiCF3 SO3 、Li(CF3 SO2 )2 N、Li(CF3 SO2 )2 N、Li(C2 F5 SO2 )2 N、Li(C4 F9 SO2 )2 N、Li(CF3 SO2 )3 C、KO3 S(CF2 )3 SO3 K、LiO3 S(CF2 )3 SO3 K等。其中，較佳為LiCF3 SO3 、Li(CF3 SO2 )2 N、Li(C2 F5 SO2 )2 N、Li(C4 F9 SO2 )2 N、Li(CF3 SO2 )3 C等，更佳為Li(CF3 SO2 )2 N、Li(C2 F5 SO2 )2 N、Li(C4 F9 SO2 )2 N等含氟之鋰醯亞胺鹽，尤其較佳為(全氟烷基磺醯基)醯亞胺鋰鹽。 作為鹼金屬之無機鹽，可列舉：過氯酸鋰、碘化鋰。 上述鹼金屬鹽可單獨使用1種，亦可將2種以上組合使用。
(有機陽離子-陰離子鹽) 所謂此處揭示之技術中使用之「有機陽離子-陰離子鹽」，可為有機鹽，表示其陽離子成分包含有機物者，陰離子成分可為有機物，亦可為無機物。
作為構成有機陽離子-陰離子鹽之陽離子成分，具體而言，可列舉：吡啶鎓陽離子、哌啶鎓陽離子、吡咯烷鎓陽離子、具有吡咯啉骨架之陽離子、具有吡咯骨架之陽離子、咪唑鎓陽離子、四氫嘧啶鎓陽離子、二氫嘧啶鎓陽離子、吡唑鎓陽離子、吡唑啉鎓陽離子、四烷基銨陽離子、三烷基鋶陽離子、四烷基鏻陽離子等。
作為有機陽離子-陰離子鹽之陰離子成分，例如可列舉：Cl- 、Br- 、I- 、AlCl4 - 、Al2 Cl7 - 、BF4 - 、PF6 - 、ClO4 - 、NO3 - 、CH3 COO- 、CF3 COO- 、CH3 SO3 - 、CF3 SO3 - 、(CF3 SO2 )3 C- 、AsF6 - 、SbF6 - 、NbF6 - 、TaF6 - 、(CN)2 N- 、C4 F9 SO3 - 、C3 F7 COO- 、(CF3 SO2 )(CF3 CO)N- 、(FSO2 )2 N- 、- O3 S(CF2 )3 SO3 - 或下述通式(1)～(4)： (1) (Cn F2n+1 SO2 )2 N- (其中，n為1～10之整數)； (2) CF2 (Cm F2m SO2 )2 N- (其中，m為1～10之整數)； (3)- O3 S(CF2 )l SO3 - (其中，l為1～10之整數)； (4) (Cp F2p+1 SO2 )N- (Cq F2q+1 SO2 )(其中，p、q為1～10之整數)；所表示者等。陰離子成分包含氟原子之離子性化合物由於離子解離性較佳，故而較佳使用。上述陰離子成分具有之總氟烷基之碳原子數較佳為1～3、更佳為1或2。該等之離子性化合物可單獨使用1種，亦可將2種以上組合使用。
(其他離子性化合物) 又，作為離子性化合物，除上述鹼金屬鹽、有機陽離子-陰離子鹽以外，亦可使用氯化銨、氯化鋁、氯化銅、氯化亞鐵、氯化鐵、硫酸銨等無機鹽。又，此處揭示之離子性化合物一般而言包含稱為離子性界面活性劑者。作為離子性界面活性劑，可列舉：4級銨鹽、鏻鹽、鋶鹽、吡啶鎓鹽、胺基等具有陽離子性官能基之陽離子性界面活性劑；羧酸、磺酸酯、硫酸酯、磷酸酯、亞磷酸酯等具有陰離子性官能基之陰離子性界面活性劑；磺基甜菜鹼及其衍生物、烷基甜菜鹼及其衍生物、咪唑啉及其衍生物、烷基咪唑鎓甜菜鹼及其衍生物等兩性離子性界面活性劑；等。有機陽離子-陰離子鹽可單獨使用1種，亦可組合2種以上使用。
作為離子性化合物，可列舉離子性固體及離子性液體，較佳使用離子性液體。離子性液體由於容易於黏著劑層內移動，於層內容易均勻分散，相反藉由化學作用等而偏集存在，有對黏著劑之要求特性(典型而言抓固性)有影響。於使用離子性液體作為離子性化合物之情形時，有較佳發揮此處揭示之技術之效果的傾向。聚合物A為丙烯酸系聚合物之情形時，尤其較佳為使用離子性液體作為離子性化合物。
再者，所謂「離子性液體」係指於40℃以下呈液狀之溶融鹽。離子性液體於呈現液狀之溫度區域，與固體之鹽相比，可容易進行於黏著劑之添加及分散或溶解。進而離子性液體具有如下特徵：無蒸氣壓(不揮發性)，因此經時亦不消失，可繼續獲得抗靜電性。此處揭示之技術中使用之離子性液體較佳為於室溫(25℃)以下液狀之溶融鹽。上述離子性化合物之中，較佳為於40℃以下呈現液狀之有機陽離子-陰離子鹽(有機陽離子-陰離子鹽之離子性液體)，更佳為於室溫(25℃)以下呈現液狀之有機陽離子-陰離子鹽(有機陽離子-陰離子鹽之離子性液體)。
黏著劑層中之離子性化合物之含量相對於基礎聚合物(聚合物A，例如丙烯酸系聚合物)100重量份為5～20重量份。藉由將離子性化合物之含量設為5重量份以上，而提高黏著劑層之導電性。又，藉由將離子性化合物之含量設為20重量份以下，可抑制加熱耐久性之下降。考慮導電性之平衡等，上述離子性化合物之含量可相對於基礎聚合物100重量份，例如設為大致5重量份以上。上述離子性化合物之含量之上限相對於基礎聚合物100重量份，較佳為大致17重量份以下，例如可大致為15重量份以下，就加熱耐久性之觀點而言，大致可為10重量份以下。
(黏著劑組合物) 此處揭示之技術中，黏著劑層之形成所使用之黏著劑組合物之形態並無特別限定。例如，可為有機溶劑中包含黏著成分之形態之黏著劑組合物(溶劑型黏著劑組合物)、黏著成分分散於水性溶劑之形態的黏著劑組合物(水分散型黏著劑組合物，典型而言水性乳液型黏著劑組合物)、無溶劑型黏著劑組合物(例如藉由紫外線或電子束等般之活性能量線之照射而硬化之類型的黏著劑組合物、熱熔型黏著劑組合物)等。此處揭示之技術可於具備由溶劑型黏著劑組合物形成之黏著劑層之態樣較佳實施。上述溶劑型黏著劑組合物所含之有機溶劑例如可為包含甲苯、二甲苯、乙酸乙酯、己烷、環己烷、甲基環己烷、庚烷及異丙醇之任一者之單獨溶劑，亦可為以該等之任一者為主成分之混合溶劑。
此處揭示之技術中，作為黏著劑層之形成所使用之黏著劑組合物(較佳為溶劑型黏著劑組合物)，可較佳使用可適當將該組合物所含之基礎聚合物之聚合物A(典型而言丙烯酸系聚合物)適當交聯而構成者。作為具體之交聯手段，可較佳採用藉由將具有適當之官能基(羥基、羧基等)之單體共聚而於基礎聚合物導入交聯基點，可將與其官能基反應形成交聯構造之化合物(交聯劑)添加於基礎聚合物進行反應之方法。
作為交聯劑，例如可列舉：異氰酸酯系交聯劑、環氧系交聯劑、㗁唑啉系交聯劑、氮丙啶系交聯劑、三聚氰胺系交聯劑、碳二醯亞胺系交聯劑、肼系交聯劑、胺系交聯劑、亞胺系交聯劑、過氧化物系交聯劑(例如過氧化苯甲醯)、金屬螯合物系交聯劑(典型而言多官能性金屬螯合物)、金屬烷氧化物系交聯劑、金屬鹽系交聯劑等。交聯劑可單獨使用1種，或將2種以上組合使用。其中，較佳為異氰酸酯系交聯劑、環氧系交聯劑、過氧化物系交聯劑、金屬螯合物系交聯劑。例如，使用丙烯酸系聚合物作為基礎聚合物之情形時，較佳為異氰酸酯系交聯劑、過氧化物系交聯劑，更佳為併用異氰酸酯系交聯劑及過氧化物系交聯劑。
交聯劑之使用量可根據基礎聚合物(例如丙烯酸系聚合物)之組成及構造(分子量等)或附黏著劑層之光學膜之用途等而適當選擇。通常為相對於基礎聚合物100重量份之交聯劑之使用量大致0.01重量份以上較為適當，就提高黏著劑之凝聚力之觀點而言，較佳為大致0.02重量份以上、更佳為大致0.03重量份以上(例如0.1重量份以上)。交聯劑之使用量之上限通常相對於基礎聚合物100重量份大致為10重量份以下較為適當，就於被接著體之濕潤性等觀點而言，較佳為大致5重量份以下、更佳為大致3重量份以下、進而較佳為大致1重量份以下。
上述黏著劑組合物進而可視需要調配各種添加劑。作為該添加劑之例，可列舉：表面潤滑劑、調平劑、塑化劑、軟化劑、填充劑、抗氧化劑、防腐劑、光穩定劑、紫外線吸收劑、聚合禁止劑、交聯促進劑、矽烷偶合劑等。又，黏著劑層除離子性化合物外，可任意包含或不包含離子性化合物以外之導電成分。又，於以丙烯酸系聚合物為基礎聚合物之黏著劑組合物中，亦可調配公知或慣用之黏著賦予樹脂或剝離調節劑。進而，此處揭示之黏著劑層，可以再剝離性或吸濕性之調節為目的，含有或不含有聚丙二醇等之環氧烷化合物。進而，於藉由乳液聚合法合成黏著性聚合物之情形時，較佳使用乳化劑或鏈移動劑(亦稱為分子量調節劑或聚合度調節劑)。作為該等任意成分之添加劑之含量可根據使用目的而適當決定。上述任意添加劑之使用量相對於基礎聚合物100重量份，通常為大致5重量份以下，大致為3重量份以下(例如大致1重量份以下)較為適當。
(黏著劑層之形成方法) 此處揭示之技術中之黏著劑層為例如可藉由將如上述般之黏著劑組合物直接賦予於設置於光學膜之抗靜電層上，使其乾燥或硬化之方法(直接法)而形成。或者，可藉由將上述黏著劑組合物賦予至剝離襯墊之表面(剝離面)，使其乾燥或硬化，而於該表面上形成黏著劑層，將該黏著劑層貼合於設置於光學膜之抗靜電層表面並轉印該黏著劑層之方法(轉印法)而形成。黏著劑組合物之賦予(典型而言塗佈)時，可適當採用輥塗佈法、凹版塗佈法等各種方法。黏著劑組合物之乾燥可視需要於加熱下進行。作為使黏著劑組合物硬化之手段，可適當採用紫外線、雷射線、α射線、β射線、γ射線、X射線、電子束等。
(黏著劑層之表面電阻值) 黏著劑層之表面電阻值，就抗靜電等觀點而言，大致1×1012 Ω/□以下較為適當。若將表面電阻值限制為特定值以下之黏著劑層應用於液晶面板(例如內嵌型液晶面板)用途，則根據其導電性較佳防止靜電不均之產生。又，就觸控感測器感度或耐久性之觀點而言，上述表面電阻值之下限較佳為大致1×108 Ω/□以上較為適當。就上述觀點而言，例如應用於下述表嵌型液晶單元之情形時，上述表面電阻值較佳為大致1×1010 Ω/□～1×1012 Ω/□。又，應用於下述半內嵌型液晶單元之情形時，上述表面電阻值較佳為大致1×109 Ω/□～1×1012 Ω/□。進而，應用於下述內嵌型液晶單元之情形時，上述表面電阻值較佳為大致1×108 Ω/□～1×1010 Ω/□，就耐久性之觀點而言，更佳為大致1×109 Ω/□～1×1010 Ω/□。
黏著劑層之表面電阻值對於形成於剝離襯墊上之黏著劑層之表面，於溫度23℃、50%RH之氛圍下，依據JIS K 6911，以施加電壓250 V、施加時間10秒之條件測定。作為電阻率計，可使用市售之電阻率計(例如三菱化學ANALYTECH公司製造之商品名「Hiresta UP MCP-HT450型」)。下述實施例中亦採用同樣之方法。
(黏著劑層之厚度) 雖無特別限定，黏著劑層之厚度可為例如大致1 μm以上，通常為大致3 μm以上較為適當。就確保抗靜電性或耐久性、側面設置導通路徑之情形時之該導通路徑之接觸面積之觀點而言，黏著劑層之厚度較佳為大致5 μm以上、更佳為大致7 μm以上、進而較佳為大致10 μm以上。上述厚度例如可大致為100 μm以下，通常較佳為大致50 μm以下(例如大致35 μm以下)。
＜抗靜電層＞ 此處揭示之抗靜電層包含導電性聚合物及聚合物B。聚合物B典型而言可為抗靜電層中作為黏合劑功能者。抗靜電層配置於光學膜與黏著劑層之間，不僅作為提高黏著劑層與光學膜之密著之增黏塗層而起作用，藉由具有特定導電性，擔負提高附黏著劑層之光學膜之導電性之任務。
(導電性聚合物) 此處揭示之技術中，使用導電性聚合物，作為抗靜電層所含之抗靜電劑。藉由使用導電性聚合物，可較佳獲得光學特性、外觀、抗靜電效果、加熱時或加濕時之抗靜電效果之穩定性優異的抗靜電層。作為導電性聚合物，可列舉：聚苯胺、聚噻吩、聚吡咯、聚喹㗁啉、聚乙烯亞胺、聚烯丙基胺等聚合物。此種導電性聚合物可單獨使用1種，亦可將2種以上組合使用。其中，較佳為聚苯胺(苯胺系聚合物)、聚噻吩(噻吩系聚合物)。
作為此處揭示之技術中可較佳採用之導電性聚合物，可例示聚噻吩及聚苯胺。再者，本說明書中，所謂聚噻吩係指未經取代或經取代之噻吩的聚合物。作為此處揭示之技術中之取代噻吩聚合物的一較佳例，可列舉：聚(3,4-乙烯二氧基噻吩)。
作為上述導電性聚合物，只要無特別限制，可使用有機溶劑可溶性或水溶性、水分散性者。較佳之一態樣中，導電性聚合物以水溶液或水分散液之形態用於抗靜電層形成。藉此，可將包含抗靜電層形成用組合物之塗佈液作為水溶液或水分散液之形態，故而可避免因有機溶劑之光學膜變質之風險。聚苯胺、聚噻吩等導電性聚合物容易成為水溶液或水分散液之形態，故而較佳使用。其中，更佳為聚噻吩。再者，水溶液或水分散液可為除水外可包含水系溶劑。例如可將甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇、異丁醇、第二丁醇、第三丁醇、正戊醇、異戊醇、第二戊醇、第三戊醇、1-乙基-1-丙醇、2-甲基-1-丁醇、正己醇、環己醇等醇類之1種或2種以上，以與水之混合溶劑(水系溶劑)之形態使用。
上述導電性聚合物之水溶液或水分散液例如可藉由將具有親水性官能基之導電性聚合物(可藉由使分子內具有親水性官能基之單體共聚等方法而合成)溶解或分散於水中而調製。作為上述親水性官能基，可例示磺基、胺基、醯胺基、亞胺基、羥基、巰基、肼基、羧基、四級銨基、硫酸酯基(-O-SO3 H)、磷酸酯基(例如-O-PO(OH)2 )等。該親水性官能基可形成鹽。作為聚噻吩水溶液之市售品，可例示長瀨化成公司製造之商品名「Denatron」系列。又，作為聚苯胺磺酸水溶液之市售品，可例示三菱麗陽公司製造之商品名「aqua-PASS」。
此處揭示之技術之較佳之一態樣中，抗靜電層形成用組合物之調製使用聚噻吩水溶液。較佳使用包含聚苯乙烯磺酸酯(PSS)之聚噻吩水溶液(可為聚噻吩中添加PSS作為摻雜劑之形態)。該水溶液可為以1：1～1：10之重量比含有聚噻吩：PSS者。上述水溶液中之聚噻吩與PSS之合計含量例如可為1～5重量%左右。
使用聚噻吩等含導電性聚合物液(典型而言水溶液)而調製之抗靜電層形成用組合物中，導電性聚合物之含量，就抗靜電之觀點而言，於抗靜電層中，大致為0.005重量%以上較為適當，較佳為大致0.01重量%以上。抗靜電層形成用組合物中之導電性聚合物之含量之上限例如大致為5重量%以下較為適當，較佳為大致3重量%以下、更佳為大致1重量%以下、進而較佳為大致0.7重量%以下。使用上述抗靜電層形成用組合物獲得之抗靜電層中，導電性聚合物之含量，就抗靜電之觀點而言，大致1重量%以上較為適當，較佳為大致3重量%以上、更佳為大致5重量%以上、進而較佳為大致7重量%以上、尤其較佳為大致10重量%以上。抗靜電層中之導電性聚合物之含量之上限較佳為大致90重量%以下。
(聚合物B) 又，此處揭示之抗靜電層之特徵在於包含聚合物B。聚合物B可作為與導電性聚合物不同之聚合物而定義。抗靜電層可藉由與上述導電性聚合物一同包含聚合物B，而實現皮膜形成性、於光學膜之密著性等。又，抗靜電層所含之聚合物B具有與於黏著劑層作為基礎聚合物所含之聚合物A具有之官能基a相互作用的官能基b。藉此，提高抗靜電層與黏著劑層之密著性。
又，聚合物B之特徵在於，其分子內之聚醚單元為10 mol%以下。藉此，抑制黏著劑層之於抗靜電層中之抓固性下降。根據TOF-SIMS分析，確認抗靜電層中之聚合物B具有特定量以上之聚醚單元，黏著劑層所含之離子性化合物於與抗靜電層之界面移動；抗靜電層中之聚合物B之聚醚單元為特定值以下中，上述黏著劑層中之離子性化合物之移動不產生，認為聚合物B之聚醚單元亦造成抓固性下降。認為藉由將具有官能基b之聚合物B中之聚醚單元限制為特定量以下，有效抑制抓固性之下降。其效果為，可不減少黏著劑層中之離子性化合物量而實現，故而可兼具提高抗靜電性。關於該方面，並無特別限定解釋，例如可如下考察。即，抗靜電層中之聚合物B之聚醚單元以分子內藉由共聚等組入之狀態存在，於層中不游離。認為聚合物B於抗靜電層內與黏著劑層之界面或其附近，藉由官能基b之存在提高與黏著劑層之密著性，另一方面，具有聚醚單元藉此引起黏著劑層中之離子性化合物，導致抓固性下降。此處，上述聚醚單元與具有官能基b之聚合物B分離之情形時，不阻礙利用官能基b之密著性提高(下述實施例6～7)。此種形態中，認為具有聚醚單元之化合物超過上述界面於黏著劑層移行或黏著劑層中之離子性化合物超過上述界面，可於含有具有聚醚單元之化合物的抗靜電層內移動，該等化合物不偏集存在於黏著劑層與抗靜電層之界面附近。
聚合物B分子內之聚醚單元，就抑制抓固性下降之觀點而言，較佳為大致5 mol%以下、更佳為大致3 mol%以下、進而較佳為大致1 mol%以下(例如0.1 mol%以下)。此處揭示之技術可較佳以聚合物B於分子內實質不含聚醚單元之態樣而實施。此處，所謂「聚合物B於分子內實質不含聚醚單元」係指聚合物B分子內之聚醚單元為0.1 mol%以下。上述聚醚單元例如藉由將具有聚醚單元之單體を聚合或共聚合而導入聚合物B中。因此，聚合物B之合成中，藉由限制具有聚醚單元之單體之使用量，可獲得分子內之聚醚單元量得以限制之聚合物B。
再者，上述聚合物B中之聚醚單元之mol%為將構成聚合物B之重複單元視為一分子時之聚合物B的聚醚單元之莫耳比率[mol%]。換言之，上述聚醚單元之mol%為構成聚合物B之重複單元之總數中所占之作為重複單元的聚醚單元之數之比率。
又，抗靜電層所含之聚合物B具有與黏著劑層所含之聚合物A之官能基a相互作用之官能基b。作為官能基b，只要為與上述官能基a相互作用者，則無特別限制。官能基b可選自例如由羧基、酸酐基、羥基及硫醇基所組成之群或選自由㗁唑啉基及異氰酸酯基所組成之群之任一群。作為官能基b，可單獨採用1種，亦可使用2種以上。其中，官能基b較佳為選自由㗁唑啉基及異氰酸酯基所組成之群中之至少1種官能基。就膜形成性等觀點而言，尤其較佳為㗁唑啉基。又，作為官能基b之㗁唑啉基於相對低溫下與黏著劑層中之聚合物A之官能基a反應，容易提高抓固性。再者，上述官能基b典型而言，藉由將含官能基b之單體聚合或共聚而導入聚合物B中。
聚合物B(例如含㗁唑啉基之聚合物)中之官能基b(例如㗁唑啉基)係藉由將含官能基b之單體(例如含㗁唑啉基之單體)聚合或共聚而導入聚合物B中之情形時，含官能基b之單體占聚合物B之合成所使用之單體總量中之比率(可為共聚合比率)[mol%]並無特別限定，例如大致10 mol%以上，通常為大致30 mol%以上較為適當。較佳之一態樣中，就提高黏著劑層之抓固性之觀點而言，含官能基b之單體之占聚合物B之合成所使用之單體總量的比率[mol%]大致為50 mol%以上，更佳為大致70 mol%以上，進而較佳為大致80 mol%以上，例如可為大致90 mol%以上。聚合物B可為實質上含官能基b之單體之均聚合物。重視聚合物B之其他特性(例如作為黏合劑之特性)，可將含官能基b之單體之比率(共聚合比率)[mol%]設為大致未達95 mol%，亦可為未達大致90 mol%。其他一態樣中，含官能基b之單體之比率[mol%]可為未達70 mol%，亦可為未達大致50 mol%(例如未達40 mol%)。
作為抗靜電層中使用之聚合物B，只要上述聚醚單元為10 mol%以下，且具有上述官能基b者，則無特別限制，可使用各種聚合物。作為聚合物B之具體例，可列舉：含㗁唑啉基之聚合物、胺基甲酸酯系聚合物、丙烯酸系聚合物、聚酯系聚合物、醯胺系聚合物、纖維素系聚合物、乙烯醇系聚合物、含環氧基之聚合物、乙烯基吡咯啶酮系聚合物、苯乙烯系聚合物等。可單獨使用該等1種，亦可將2種以上組合使用。其中，較佳為含㗁唑啉基之聚合物、胺基甲酸酯系聚合物、丙烯酸系聚合物、聚酯系聚合物，尤其較佳為含㗁唑啉基之聚合物。
較佳之一態樣中，使用含㗁唑啉之聚合物作為聚合物B。含㗁唑啉之聚合物可為將1種單獨使用或將2種以上組合使用。較佳為可溶解或分散於水中之含㗁唑啉基之聚合物。㗁唑啉基可為2-㗁唑啉基、3-㗁唑啉基、4-㗁唑啉基之任一者，亦可較佳使用例如具有2-㗁唑啉基者。
作為含㗁唑啉基之聚合物，例如可列舉主鏈包含(甲基)丙烯酸骨架或苯乙烯骨架且於其主鏈之側鏈具有㗁唑啉基者。較佳之一態樣之含㗁唑啉基之聚合物可為包含含有(甲基)丙烯酸骨架之主鏈且於其主鏈之側鏈具有㗁唑啉基之含㗁唑啉基之(甲基)丙烯酸系聚合物。該含㗁唑啉基之聚合物於聚醚單元限制於10 mol%以下之範圍，除㗁唑啉基以外可具有聚氧基伸烷基或其他官能基。
含㗁唑啉基之聚合物之分子量可根據目的或要求特性等而適當設定。含㗁唑啉基之聚合物之分子量之上限，就塗敷性等觀點而言，大致100×104 以下較為適當，較佳為大致50×104 以下，更佳為大致10×104 以下，進而較佳為大致5×104 以下。上述Mn係基於GPC之標準聚苯乙烯換算之值。
抗靜電層中之聚合物B(較佳為含㗁唑啉基之聚合物)之含量大致為3重量%以上較為適當。就抓固性等觀點而言，上述聚合物B之含量較佳為大致5重量%以上、更佳為大致8重量%以上、進而較佳為大致10重量%以上。上述聚合物B之含量之上限考慮導電性聚合物等其他成分之作用，通常為大致99重量%以下，大致90重量%以下較為適當，較佳為大致80重量%以下、更佳為大致70重量%以下、進而較佳為大致60重量%以下。
此處揭示之技術中之抗靜電層可包含導電性聚合物以外之導電成分。作為此種導電成分，可列舉上述黏著劑層所含之離子性化合物或黏著劑層可包含之作為其他導電成分且相當於導電性聚合物者。該等可將1種單獨使用或將2種以上組合使用。此處揭示之技術中，抗靜電層中之導電性聚合物以外之導電成分之含量可於無損發明之效果之範圍設定。其含量為，抗靜電層中通常為大致5重量%以下，大致3重量%以下(例如大致1重量%以下，典型而言0.3重量%以下)較為適當。此處揭示之技術可較佳以抗靜電層實質上不含導電性聚合物以外之導電成分之態樣而實施。
又，抗靜電層可任意包含與導電性聚合物、聚合物B不同之聚合物C。聚合物C例如係作為抗靜電層內黏合劑起作用之成分，不具有上述官能基b，或者，聚合物C不具有官能基b，可為含㗁唑啉之聚合物、胺基甲酸酯系聚合物、丙烯酸系聚合物、聚酯系聚合物、聚醚系聚合物、纖維素系聚合物、乙烯醇系聚合物、含環氧基之聚合物、乙烯基吡咯啶酮系聚合物、苯乙烯系聚合物、聚乙二醇、季戊二醇等之1種或2種以上。作為聚合物C之較佳例，可列舉胺基甲酸酯系聚合物(典型而言聚胺基甲酸酯)。抗靜電層中之聚合物C之含量可於無損發明之效果之範圍而設定。
抗靜電層中可視需要調配添加劑。作為添加劑，可列舉：調平劑、消泡劑、增黏劑、抗氧化劑等。該等添加劑之比率通常於抗靜電層中大致為50重量%以下，大致30重量%以下(例如大致10重量%以下)較為適當。
(抗靜電層之形成方法) 上述抗靜電層可藉由包括將上述樹脂成分及視需要使用之添加劑分散或溶解於適當之溶劑之液狀組合物(抗靜電層形成用之塗佈材)賦予至膜基材(光學膜)的方法而較佳形成。例如，可較佳採用將上述塗佈材塗佈於膜基材之第一面使其乾燥，視需要進行硬化處理(熱處理、紫外線處理等)之方法。上述塗佈材之固形物成分濃度(NV)例如可設為5重量%以下(典型而言0.05～5重量%)，通常設為1重量%以下(典型而言0.10～1重量%)較為適當。於形成厚度較小之抗靜電層之情形時，較佳為上述塗佈材之NV設為例如0.05～0.50重量%(例如0.10～0.30重量%)。藉由如此使用低NV之塗佈材，可形成更均勻之抗靜電層。
(抗靜電層之表面電阻值) 抗靜電層之表面電阻值，就抗靜電等觀點而言，大致1×1012 Ω/□以下較為適當。若將表面電阻值限制為特定值以下之抗靜電層應用於液晶面板(例如內嵌型液晶面板)用途，則除黏著劑層外，根據抗靜電層之導電性防止靜電不均之產生。又，就觸控感測器感度之觀點而言，上述表面電阻值之下限較佳為大致1×108 Ω/□以上。就上述觀點而言，例如應用於下述表嵌型液晶單元之情形時，上述表面電阻值較佳為大致1×1010 Ω/□～1×1012 Ω/□。又，應用於下述半內嵌型液晶單元之情形時，上述表面電阻值較佳為大致1×109 Ω/□～1×1012 Ω/□。進而，應用於下述內嵌型液晶單元之情形時，上述表面電阻值較佳為大致1×108 Ω/□～1×1010 Ω/□，就抗靜電之觀點而言，更佳為大致1×108 Ω/□～1×109 Ω/□。
抗靜電層之表面電阻值對於黏著劑層形成前之抗靜電層附光學膜表面，於溫度23℃、50%RH之氛圍下，依據JIS K 6911，以施加電壓10 V、施加時間10秒之條件測定。關於所使用之電阻率計，與黏著劑層之表面電阻值測定同樣。下述實施例中亦採用同樣之方法。
(抗靜電層之厚度) 此處揭示之技術中抗靜電層之厚度可根據抗靜電性、抓固性等要求特性而適當設定。抗靜電層之厚度通常為大致10 nm以上，超過10 nm較為適當。就提高抗靜電性或獲得均勻之厚度之觀點而言，抗靜電層之厚度較佳為12 nm以上、更佳為14 nm以上、進而較佳為15 nm以上、尤其較佳為20 nm以上(典型而言25 nm以上、例如30 nm以上)。又，抗靜電層之厚度為大致500 nm以下較為適當。藉由將抗靜電層之厚度抑制為大致500 nm以下，容易獲得良好之光學特性(總光線透過率等)。就此種觀點而言，抗靜電層之厚度較佳為大致100 nm 以下、更佳為大致50 nm以下。
＜剝離襯墊＞ 此處揭示之附黏著劑層之光學膜可視需要以保護黏著面(黏著劑層中貼附於被接著體之側之面)為目的，以於該黏著面貼合剝離襯墊之形態(剝離襯墊及附黏著劑層之光學膜之形態)而提供。作為構成剝離襯墊之基材，可使用紙、合成樹脂膜等。就表面平滑性較佳之方面，較佳使用合成樹脂膜。例如，作為剝離襯墊之基材，可較佳使用各種樹脂膜(例如聚酯膜)。剝離襯墊之厚度可設為例如大致5～200 μm，通常較佳為大致10～100 μm左右。剝離襯墊中貼合於黏著劑層之面，可使用先前公知之脫模劑(例如，聚矽氧系、氟系、長鏈烷基系、脂肪醯胺系等)或二氧化矽粉等，實施脫模或防污垢處理。
＜其他層等＞ 此處揭示之附黏著劑層之光學膜除上述各層(光學膜、黏著劑層、抗靜電層、任意表面處理層)以外，可於光學膜與抗靜電層之間設置易接著層，或實施電暈處理、電漿處理等各種易接著處理。
＜用途＞ 此處揭示之附黏著劑層之光學膜用作液晶面板材料之情形時，可基於含有特定量離子性化合物之黏著劑層與抗靜電層之導電性，高度防止液晶面板中之靜電不均之產生。因此，較佳用作液晶單元用、液晶面板用、進而液晶顯示裝置用之附黏著劑層之光學膜。例如，於下述稱為內嵌型液晶單元或半內嵌型液晶單元、表嵌型液晶單元之液晶單元、以及於具備該液晶單元之液晶面板中，較佳使用此處揭示之附黏著劑層之光學膜。又，上述附黏著劑層之光學膜用於觸控面板型顯示裝置之情形時，可保持良好之觸控感測器感度。因此，亦較佳作為觸控面板用之附黏著劑層之光學膜。並且，利用如上述之防止靜電不均產生及觸控感測器感度，此處揭示之附黏著劑層之光學膜尤其較佳用於觸控感測器搭載型液晶面板(亦稱為附觸控感測功能之液晶面板)、進而觸控面板型液晶顯示裝置(亦稱為附觸控感測功能之液晶顯示裝置)。藉由將此處揭示之技術應用於上述用途，基於改善之黏著劑層之抓固性，獲得優異之加工性、耐久性。
作為如上述之觸控感測器搭載型液晶面板，可採用具有各種構造之液晶面板。例如於稱為內嵌型液晶面板、表嵌型液晶面板之液晶面板較佳使用此處揭示之附黏著劑層之光學膜。內嵌型液晶面板簡言之，具有具備液晶層、及夾住該液晶層之2片透明基板的液晶單元中於該液晶單元內(即，上述2片透明基板之內側)關於觸控感測功能之觸控感測電極部的構成。將關於觸控感測功能之檢測電極及驅動電極之兩者配置於液晶單元內者稱為完全內嵌型液晶面板。將僅上述檢測電極及驅動電極中之一者配置於液晶單元內，將上述電極之另一者配置於液晶單元外(典型而言透明基板外表面上)者稱為半內嵌型液晶面板。又，表嵌型液晶面板稱為將於上述液晶單元之透明基板之外面配置觸控感測器功能者。此處揭示之附黏著劑層之光學膜的導電性提高效果於面板表面不具有ITO層等導電層之內嵌型中可較佳發揮。又，此處揭示之技術之效果(兼具防止靜電不均及良好之觸控感測器感度)可於內嵌型液晶面板中較佳發揮。因此，此處揭示之附黏著劑層之光學膜較佳用於內嵌型液晶面板。再者，此處揭示之附黏著劑層之光學膜可用於在該光學膜之外側配置觸控面板之構成(例如，IPS方式等液晶面板之外部具有觸控面板之構成)或具備該構成之液晶顯示裝置。
＜液晶面板之構造＞ 作為此處揭示之附黏著劑層之光學膜之較佳應用對象，可列舉例如圖2～6所示之內嵌型液晶面板。圖2～6為模式表示內嵌型液晶面板之構成例的剖視圖。如圖2所示之內嵌型液晶面板100具備：液晶單元(內嵌型液晶單元)120、及配置於液晶單元120之視認側之附黏著劑層之光學膜110。作為附黏著劑層之光學膜110，使用此處揭示之附黏著劑層之光學膜。
液晶單元120具備：包含液晶分子之液晶層125、以夾住液晶層125之方式配置之第1透明基板141及第2透明基板142。又，液晶單元120於第1透明基板141與第2透明基板142之間具備觸控感測電極部130。觸控感測電極部130具有檢測電極131及驅動電極132。此處所謂檢測電極係觸控檢測(收信)電極，作為靜電容量感測器起作用。檢測電極亦稱為觸控感測器電極。
觸控感測電極部130中，將液晶單元120作為平面觀察之情形時，於該平面之X軸方向、Y軸方向，檢測電極131、驅動電極132以條紋狀分別獨立形成，形成兩者互相直角交叉之圖案。觸控感測器電極130可形成之圖案並不限定於此，檢測電極131與驅動電極132可以具有如下述之各種圖案而形成。
內嵌型液晶面板100中，配置於液晶單元120之視認側之附黏著劑層之光學膜110係其黏著劑層112貼附於液晶單元120之第1透明基板141之外表面上。換言之，附黏著劑層之光學膜110於第1透明基板141之外表面上可不經由導電層而配置、固定。以下，有時以區別配置於與液晶面板中視認側為相反側之附黏著劑層之光學膜、其光學膜及黏著劑層為目的，將附黏著劑層之光學膜110、光學膜111及黏著劑層112分別設為第1附黏著劑層之光學膜、第1光學膜及第1黏著劑層。附黏著劑層之光學膜110中之光學膜111典型而言為偏光膜，於液晶層125之視認側，以其偏光元件之透過軸(或吸收軸)正交之方式配置。該附黏著劑層之光學膜110係於背面側形成表面處理層114。
另一方面，內嵌型液晶面板100中，於與配置有附黏著劑層之光學膜110之面相反側配置有附黏著劑層之光學膜150。構成附黏著劑層之光學膜150之光學膜151經由黏著劑層152貼附於液晶單元120之第2透明基板142之外表面。光學膜151典型而言為偏光膜，於液晶層125之背面側，以其偏光元件之透過軸(或吸收軸)正交之方式而配置。以下，有時以該附黏著劑層之光學膜150、光學膜151及黏著劑層152與配置於液晶面板之視認側者相區別為目的，分別稱為第2附黏著劑層之光學膜、第2光學膜及第2黏著劑層。
又，內嵌型液晶面板100中，附黏著劑層之光學膜110之抗靜電層113及黏著劑層112之側面設置有由導電性材料形成之導通構造170。藉此，可自抗靜電層113及黏著劑層112之側面，於另一部位漏掉電位，可降低或防止因靜電之帶電。導通構造170可設置於抗靜電層113及黏著劑層112之側面(端面)整體，亦可設置於該側面之一部分。將導通構造170設置於一部分之情形時，為確保側面下之導通，可以抗靜電層113及黏著劑層112之側面之總面積之大致1%以上、較佳為大致3%以上、更佳為大致10%以上、進而較佳為大致50%以上之面積比率設置導通構造170。再者，圖2所示之構成例中，亦於光學膜111、表面處理層114之側面設置導通構造171。
圖3所示之內嵌型液晶面板200為如圖2所示之構成之變形例，觸控感測電極部230就於液晶層225與第2透明基板242之間配置方面與圖2所示之構成不同。即，具有檢測電極231及驅動電極232之觸控感測電極部230較液晶層225配置於背光側(背面側)。圖4所示之內嵌型液晶面板300亦為圖2所示之構成之變形例，使用檢測電極及驅動電極一體形成之觸控感測電極部330方面與圖2所示之構成不同。圖5所示之內嵌型液晶面板400係將圖3及圖4之構成組合者，就使用檢測電極與驅動電極一體形成之觸控感測電極部430方面，及觸控感測電極部430較液晶層425配置於背光側(背面側)方面與圖2所示之構成不同。
又，圖6所示之內嵌型液晶面板500就觸控感測電極部530之檢測電極531與驅動電極532於液晶層525之兩側分離配置方面，與圖2所示之構成不同。具體而言，內嵌型液晶面板500中，檢測電極531配置於液晶層525與第1透明基板541之間，驅動電極532配置於液晶層525與第2透明基板542之間。關於圖3～6所示之變形例之其他構成與圖2所示之內嵌型液晶面板基本相同，故而省略重複說明。
如上所述，內嵌型液晶面板不僅為液晶單元之外部，於液晶單元內亦具有觸控感測電極部。此種構成中，於液晶單元之第1透明基板之外表面不設置電極等導電層。此處，所謂導電層係指表面電阻值為1×1013 Ω/□以下之層。較具有此種構成之內嵌型液晶面板之液晶單元之第1透明基板於視認側配置此處揭示之附黏著劑層之光學膜，藉此可高度防止靜電不均之產生。
又，此處揭示之附黏著劑層之光學膜亦較佳用於半內嵌型液晶面板。圖7為模式表示半內嵌型液晶面板之構成例的剖視圖。圖7所示之半內嵌型液晶面板600就觸控感測電極部630之一部分配置於液晶單元620內，觸控感測電極部630之其他一部分配置於液晶單元620外(具體而言，液晶單元620之視認側之外部)方面，與圖2～6所示之內嵌型不同。具體而言，構成觸控感測電極部630之檢測電極631設置於第1透明基板641之外表面上，構成觸控感測電極部630之驅動電極632配置於液晶單元620內。該構成例中，驅動電極632係配置於液晶層625與第2透明基板642之間。該半內嵌型液晶面板600具有自視認側依序配置有光學膜611、抗靜電層613、黏著劑層612、檢測電極631、第1透明基板641、液晶層625、驅動電極632、第2透明基板642的積層構造。又，於光學膜611之進而視認側具有表面處理層614。進而，於第2透明基板642之外側依序配置有黏著劑層652、光學膜651。該液晶面板600中，觸控感測電極部630之檢測電極631配置於第1透明基板641之外側而接觸於黏著劑層612。
又，此處揭示之附黏著劑層之光學膜亦可較佳用於表嵌型液晶面板。圖8為模式表示表嵌型液晶面板之構成例的剖視圖。圖8所示之表嵌型液晶面板700就關於觸控感測電極部730之檢測電極731及驅動電極732之任一者作為電極圖案配置於液晶單元720外方面，與圖2～6所示之內嵌型不同。該構成中，於液晶單元720外(具體而言，第1透明基板741及第2透明基板742之外側)具有觸控感測器功能。更具體而言，於液晶單元720之第1透明基板741之外表面上配置驅動電極732，於該驅動電極732之上配置檢測電極731。該表嵌型液晶面板700具有自視認側依序配置有光學膜711、抗靜電層713、黏著劑層712、檢測電極731、驅動電極732、第1透明基板741、液晶層725、驅動電極734、第2透明基板742之積層構造。又，於光學膜711之進而視認側具有表面處理層714。進而，於第2透明基板742之外側依序配置有黏著劑層752、光學膜751。該液晶面板700中，觸控感測電極部730之檢測電極731配置於第1透明基板741之外側而與黏著劑層612接觸。又，於液晶單元720內配置有驅動電極734。該驅動電極734係配置於液晶層725與第2透明基板742之間。
再者，上述構成例中，作為配置於背面側之第2附黏著劑層之光學膜，使用實質上包含黏著劑層及光學膜之附黏著劑層之光學膜，此處揭示之技術並不限定於此，液晶面板之背面側亦可使用此處揭示之附黏著劑層之光學膜。於該情形時，於液晶單元之兩側可配置此處揭示之附黏著劑層之光學膜。藉此，此處揭示之技術的效果可於液晶面板之兩面中展現。或者，此處揭示之附黏著劑層之光學膜可不為液晶面板之視認側，而僅配置於背面側。此種構成中，亦可發揮此處揭示之技術之效果。
又，圖2、圖3、圖6所示之內嵌型液晶面板中，檢測電極較驅動電極配置於第1透明基板側(視認側)，但此處揭示之內嵌型液晶面板之構成並不限定於此，可將驅動電極較檢測電極配置於第1透明基板側(視認側)。
又，圖7所示之半內嵌型液晶面板中，檢測電極配置於液晶單元外(具體而言，第1透明基板之外側)，驅動電極配置於液晶單元內(具體而言，第1透明基板與第2透明基板之間)，但並不限定於此，此處揭示之技術可應用於檢測電極配置於液晶單元內，驅動電極配置於液晶單元外之構成之半內嵌型液晶面板。
使用具備上述說明之構成之內嵌型液晶面板，製造附觸控感測功能之液晶顯示裝置。該液晶顯示裝置之製造中可將於照明系統使用背光、或反射板等液晶顯示裝置可使用之各種構件利用公知或慣用之方法而使用。
＜液晶面板之構成材料＞ 作為構成液晶單元之液晶層，使用包含液晶分子之液晶層。較佳之一態樣的液晶層為以不存在電場之狀態包含水平配向的液晶分子之液晶層。作為液晶層，例如較佳使用IPS方式之液晶層。作為此處揭示之技術中可使用之液晶層之其他例，可列舉：TN型或STN型、π型、VA型等液晶層。液晶層之厚度例如為1.5 μm～4 μm左右。
構成觸控感測電極部之檢測電極、驅動電極(包含將兩者一體化者)典型而言為透明之導電層(透明電極)。該等電極之材料並無特別限定，例如可使用金、銀、銅、鉑、鈀、鋁、鎳、鉻、鈦、鐵、鈷、錫、鎂、鎢等金屬或該等金屬之合金等之1種或2種以上。又，作為電極材料，可使用銦、錫、鋅、鎵、銻、鋯、鎘之金屬氧化物之1種或2種以上。作為具體例，可列舉包含氧化銦、氧化錫、氧化鈦、氧化鎘及該等之混合物等之金屬氧化物。可使用包含碘化銅等之其他金屬化合物等。上述金屬氧化物可視需要進而包含上述例示之金屬原子之氧化物。例如，較佳使用含有氧化錫之氧化銦(ITO)、含有銻之氧化錫等，尤其較佳使用ITO。作為ITO，較佳使用含有大致80～99重量%之氧化銦及大致1～20重量%之氧化錫者。
內嵌型液晶面板中，作為觸控感測電極部之檢測電極、驅動電極、將兩者一體形成之電極通常於第1透明基板及第2透明基板之至少一個(典型而言僅一個)之內側(液晶單元內之液晶層側)作為透明電極圖案而形成。半內嵌型液晶面板中，檢測電極及驅動電極中之一者形成於第1透明基板及第2透明基板中之內側(液晶單元內之液晶層側)，檢測電極及驅動電極中之另一者形成於第1透明基板及第2透明基板中之外側。表嵌型液晶面板中，檢測電極、驅動電極、將兩者一體形成之電極形成於第1透明基板及第2透明基板之外側(液晶單元外)。上述電極圖案藉由常法而形成。 再者，觸控感測電極部中之檢測電極、驅動電極、將兩者一體形成之電極可為兼具作為控制液晶層之共通電極功能者。
上述電極圖案通常電性連接於透明基板之端部形成之牽引線(未圖示)。上述牽引線與控制器IC(未圖示)連接。電極圖案之形狀並不限定於如上述構成例般之條紋狀配線正交者，例如除條紋狀以外，可根據用途、目的等選擇梳形狀或菱形狀等任意形狀。因此，所謂檢測電極、驅動電極可具有直角以外之交叉圖案或其他各種圖案。上述電極圖案之高度例如大致10 nm～100 nm，寬度可大致為0.1 mm～5 mm。
作為形成透明基板(包含第1、第2透明基板)之材料，例如可列舉：玻璃或聚合物膜。因此，透明基板可為玻璃基板或聚合物基板。作為透明基板所使用之玻璃，可無特別限制而使用各種玻璃材料。作為聚合物膜，例如可列舉：聚對苯乙二酯(PET)、聚環烯烴、聚碳酸酯等。透明基板主體形成玻璃板之情形時，其厚度例如為0.1 mm～1 mm左右。透明基板主體形成聚合物膜之情形時，其厚度例如為10 μm～200 μm左右。透明基板可於其表面具有易接著層或硬塗層。
附黏著劑層之光學膜中，作為形成連接於黏著劑層及抗靜電層之側面之導通構造的材料，可無特別限制而使用各種導電材料。例如較佳使用包含銀、金及其他金屬之1種或2種以上之金屬漿料等導電性漿料。作為上述材料之其他例，可列舉導電性接著劑。導通構造可為具有自抗靜電層或黏著劑層之側面延伸之線形狀者。關於可設置於光學膜等側面之導電構造之材料亦與上述同樣，可設為與上述同樣之形狀。
液晶面板中，作為配置於與視認側相反側之第2附黏著劑層之光學膜之光學膜，可根據用途或目的使用此處揭示之光學膜或公知或慣用之光學膜。作為第2光學膜，可使用與配置於視認側之第1光學膜相同者，亦可使用不同者。同樣，作為構成上述第2附黏著劑層之光學膜之第2黏著劑層，可根據用途或目的使用此處揭示之黏著劑層或公知或慣用之黏著劑層。作為第2黏著劑層，可使用與配置於視認側之第1黏著劑層相同者，亦可使用不同者。由公知或慣用之黏著劑形成第2黏著劑層之情形時，第2黏著劑層之厚度並無特別限制，例如1～100 μm左右較為適當，較佳為大致2～50 μm、更佳為大致2～40 μm、進而較佳為大致5～35 μm。
此外，作為配置於液晶層之視認側之第1光學膜、配置於該視認側之相反側之第2光學膜，可根據各自配置部位之適應性，使用偏光膜或單獨使用偏光膜以外之光學膜，或將2種以上組合使用，除偏光膜外積層其他光學膜之1種或2種以上而使用。關於此處揭示之光學膜或可用作構成該光學膜之各光學層的材料，如上所述，省略詳細之說明。
再者，上述液晶面板或具備該液晶面板之液晶顯示裝置除上述以外，亦根據用途或目的，於無損此處揭示之技術之效果的範圍，可變更各構成構件之配置或構成或者適當追加其他構成。作為一例，可變更於液晶單元上(例如圖2中之第1透明基板141)設置彩色濾光片基板之設計。
以下，說明與本發明關聯之幾個實施例，並非意欲將本發明限定於該具體例所示者。再者，以下之說明中之「份」及「%」只要無特別說明，為重量基準。
[光學膜之製作] (調製例A1) 一面將厚度30 μm之聚乙烯醇(PVA)系樹脂膜(可樂麗公司製造，製品名「PE3000」)之長尺輥利用輥延伸機於長度方向進行單軸延伸成為5.9倍，一面實施膨潤、染色、交聯、洗浄處理，最後實施乾燥處理，藉此獲得厚度12 μm之偏光元件。具體而言，膨潤處理中，一面利用20℃之純水進行處理，一面將膜延伸至2.2倍。染色處理中，利用以獲得之偏光元件之單體透過率成為45.0%調整碘濃度之水溶液中，一面將膜於30℃之條件進行處理一面延伸成1.4倍。上述水溶液中，碘與碘化鉀之重量比為1：7。作為交聯處理，採用2階段之交聯處理，於第1段之交聯處理中，一面於40℃之硼/碘化鉀水溶液中進行處理，一面將膜延伸至1.2倍。該水溶液之硼含量為5.0%、碘化鉀含量為3.0%。第2段之交聯處理中，一面於65℃之硼/碘化鉀水溶液中進行處理一面將膜延伸成1.6倍。該水溶液之硼含量為4.3%、碘化鉀含量為5.0%。洗浄處理中，使用20℃之碘化鉀水溶液。洗浄處理用水溶液之碘化鉀含量為2.6%。乾燥處理為於70℃以5分鐘之條件實施。
於上述偏光元件之一個面，將於三乙醯纖維素(TAC)膜之單面具有硬塗(HC)層之厚度32 μm之TAC-HC膜使用PVA系接著劑而貼合。又，於上述偏光元件之另一面，將厚度13 μm之無延伸環烯烴聚合物(COP)膜使用PVA系接著劑而貼合，製作具有TAC保護層/PVA偏光元件/COP保護層之構成之偏光膜作為光學膜A1。於該光學膜A1之TAC保護層側表面設置作為表面處理層之硬塗層。
(調製例A2) 除於上述偏光元件之另一面代替COP膜使用PVA系接著劑貼合厚度25 μm之丙烯酸系(CAT)膜以外，以與上述調製例A1同樣之方式，製作本調製例之偏光膜作為光學膜A2。該光學膜A2具有TAC保護層/PVA偏光元件/CAT保護層之構成，於光學膜A2之TAC保護層側表面設置作為表面處理層之硬塗層。
[抗靜電層形成用組合物之調製] (調製例B1) 混合包含噻吩系聚合物1～10%之溶液(長瀨化成公司製造，商品名「Denatron P-580W」)6.7份、作為聚合物B之包含含㗁唑啉基之聚合物的溶液(日本觸媒公司製造，商品名「Epocros WS-300」、Mn4萬、Mw12萬、聚醚單元之共聚合比率0 mol%)1份、及水85.3份，調製固形物成分濃度為1.0%之抗靜電層形成用組合物B1。獲得之組合物含有噻吩系聚合物0.15%、含㗁唑啉基之聚合物0.8%。再者，「Denatron P-580W」包含作為黏合劑之聚胺基甲酸酯。
(調製例B2) 混合包含噻吩系聚合物1～10%之溶液(長瀨化成公司製造，商品名「Denatron P-618W」)6.7份、作為聚合物B含㗁唑啉基之聚合物的溶液(日本觸媒公司製造，商品名「Epocros WS-300」、Mn4萬、Mw12萬、聚醚單元之共聚合比率0 mol%)1份、及水系溶劑(水74.1份及異丙醇8.2份)，調製固形物成分濃度為0.6%之抗靜電層形成用組合物B2。獲得之組合物含有噻吩系聚合物0.45%、含㗁唑啉基之聚合物0.1%。
(調製例B3) 混合包含噻吩系聚合物1～10%之溶液(長瀨化成公司製造，商品名「Denatron P-580W」)6.7份、作為聚合物B包含含㗁唑啉基之聚合物的溶液(日本觸媒公司製造，商品名「Epocros WS-300」、Mn4萬、Mw12萬、聚醚單元之共聚合比率0 mol%)8.5份、聚乙二醇(PEG)200(平均分子量約200)0.06份、及水84.7份，調製固形物成分濃度為1.0%之抗靜電層形成用組合物B3。獲得之組合物含有噻吩系聚合物0.15%、含㗁唑啉基之聚合物0.85%。又，由PEG之含有比率(固形物成分基準)求出之抗靜電層內PE比率為5.6%。
(調製例B4) 混合包含噻吩系聚合物1～10%之溶液(長瀨化成公司製造，商品名「Denatron P-580W」)6.7份、作為聚合物B包含含㗁唑啉基之聚合物的溶液(日本觸媒公司製造，商品名「Epocros WS-300」、Mn4萬、Mw12萬、聚醚單元之共聚合比率0 mol%)8份、PEG200 0.21份、及水84.6份，調製固形物成分濃度為1.2%之抗靜電層形成用組合物B4。獲得之組合物含有噻吩系聚合物0.15%、含㗁唑啉基之聚合物0.8%。又，由PEG之含有比率(固形物成分基準)求出之抗靜電層內PE比率為17.2%。
(調製例B5) 混合包含噻吩系聚合物1～10%之溶液(長瀨化成公司製造，商品名「Denatron P-521AC」)15份、作為聚合物B包含含㗁唑啉基之聚合物之溶液(日本觸媒公司製造，商品名「Epocros WS-700」、Mn2萬、Mw4萬、聚醚單元之共聚合比率45 mol%)1份、及混合溶劑(水19.5份及異丙醇64.9份)，調製固形物成分濃度為1.0%之抗靜電層形成用組合物B5。獲得之組合物含有噻吩系聚合物0.55%、含㗁唑啉基之聚合物。又，由聚醚單元占含㗁唑啉基之聚合物之重量比率與含㗁唑啉基之聚合物之含有比率(固形物成分基準)求出的抗靜電層內PE比率為4.6%。
(調製例B6) 混合包含噻吩系聚合物1～10%之溶液(長瀨化成公司製造，商品名「Denatron P-521AC」)12.5份、作為聚合物B包含含㗁唑啉基之聚合物的溶液(日本觸媒公司製造，商品名「Epocros WS-700」、Mn2萬、Mw4萬、聚醚單元之共聚合比率45 mol%)1.25份、及混合溶劑(水19.8份及異丙醇66.5份)，調製固形物成分濃度為1.0%之抗靜電層形成用組合物B6。獲得之組合物含有噻吩系聚合物0.45%、含㗁唑啉基之聚合物0.5%。又，由聚醚單元占含㗁唑啉基之聚合物之重量比率與含㗁唑啉基之聚合物之含有比率(固形物成分基準)求出的抗靜電層內PE比率為5.5%。
[黏著劑組合物之調製] (調製例C1) 於具備攪拌葉片、溫度計、氮氣導入管、冷卻器之四口燒瓶加入含有丙烯酸丁酯(BA)75.8份、丙烯酸苯氧基乙基酯(PEA)23份、正乙烯基-2-吡咯啶酮(NVP)0.5份、丙烯酸(AA)0.3份、丙烯酸4-羥基丁基酯(4HBA)0.4份之單體混合物。對於上述單體混合物(固形物成分)100份將作為聚合起始劑之2,2'-偶氮雙異丁腈0.1份與乙酸乙酯100份一併添加，一面緩慢攪拌一面導入氮氣進行氮取代後，將燒瓶內之液溫保持於55℃附近，進行8小時聚合反應，調製Mw160萬、Mw/Mn＝3.7之丙烯酸系聚合物P1溶液。
對於上述獲得之丙烯酸系聚合物P1溶液之固形物成分100份，調配離子性化合物6份，進而調配異氰酸酯系交聯劑(三井化學公司製造，商品名「Takenate D160N」、三羥甲基丙烷六亞甲基二異氰酸酯)0.1份、過氧化苯甲醯(日本油脂公司製造，商品名「Nyper BMT」)0.3份及γ-縮水甘油氧基丙基甲氧基矽烷(信越化學工業公司製造，商品名「KBM-403」)0.2份，調製丙烯酸系黏著劑組合物C1之溶液。作為離子性化合物，使用1-乙基-3-甲基咪唑鎓雙(氟磺醯基)醯亞胺(EMI-FSI)。
(調製例C2～C4、C6及C7) 除對於丙烯酸系聚合物P1溶液之固形物成分100份，調配表1所示之種類及量之離子性化合物以外，以與上述調製例C1同樣之方式，分別調製丙烯酸系黏著劑組合物C2～C4、C6及C7之溶液。作為離子性化合物，於丙烯酸系黏著劑組合物C2中使用甲基丙基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺(MPP-TFSI)，於丙烯酸系黏著劑組合物C3、C6及C7中使用雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺鋰(Li-TFSI)，於丙烯酸系黏著劑組合物C4中使用三丁基甲基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺(TBMA-TFSI)。
(調製例C5) 除使單體混合物之組成為BA 76.9份、苄基丙烯酸酯18份、AA 5份、4HBA 0.1份以外，以與上述丙烯酸系聚合物P1溶液之調製同樣之方式，調製丙烯酸系聚合物P2溶液。 除對於上述獲得之丙烯酸系聚合物P2溶液之固形物成分100份，調配Li-TFSI 8份作為離子性化合物以外，以與上述調製例C1同樣之方式，調製丙烯酸系黏著劑組合物C5之溶液。
＜實施例1～7及比較例1～4＞ 將包含上述抗靜電層形成用組合物B1～B6之任一者之塗佈液塗佈於上述光學膜A1或A2之單面(未設置硬塗層之側)，以使乾燥後之厚度為40 nm，於80℃下乾燥2分鐘，形成抗靜電層。 將上述丙烯酸系黏著劑組合物C1～C7之任一溶液塗佈於利用聚矽氧系剝離劑處理之聚對苯乙二酯(PET)膜(剝離襯墊，三菱化學聚酯膜公司製造，編號「MRF38」)之單面，使乾燥後之黏著劑層之厚度為23 μm，於155℃下乾燥1分鐘，於剝離襯墊之表面形成黏著劑層。並且，將形成於該剝離襯墊上之黏著劑層轉印於附抗靜電層之光學膜之抗靜電層側表面。如此方式製作各例之附黏著劑層之光學膜。該等附黏著劑層之光學膜具有光學膜/抗靜電層/黏著劑層之構成，於光學膜側背面設置硬塗層，黏著劑層之黏著面由剝離襯墊保護。各例中使用之光學膜、抗靜電層形成用組合物及丙烯酸系黏著劑組合物之組合示於表1。
[抓固力] 自各例之附黏著劑層之光學膜除去剝離襯墊，於露出之黏著面貼合ITO膜(尾池工業公司製造，商品名「125 Tetolight OES」)，切斷為寬度25 mm，獲得測定用樣品。將測定用樣品設置於拉伸試驗機，於180度方向以300 mm/分鐘之速度將附黏著劑層之光學膜自ITO膜剝離，記錄此時之剝離力[N/25 mm]作為抓固力。
[ESD(electrostatic discharge)試驗] 準備內嵌型液晶單元，自各例之附黏著劑層之光學膜剝離剝離襯墊，將其露出之黏著面如圖2所示貼合於上述內嵌型液晶單元之視認側。繼而，於貼合於內嵌型液晶單元之附黏著劑層之光學膜之側面部塗佈5 mm寬之銀漿料以覆蓋硬塗層、光學膜、抗靜電層、黏著劑層之整個側面，與來自外部之接地電極連接，藉此獲得液晶顯示面板。於23℃、55%RH之條件下，將該液晶顯示面板設置於背光裝置上，於視認側之光學膜面施加電壓10 kV發射靜電放電槍(Electrto-static Discharge Gun)，測定藉由電氣空心部分消失之時間(初期評價)。又，將同樣之ESD試驗於60℃、95%RH之加濕環境下投入250小時，進而於40℃下乾燥1小時後亦實施(加濕後評價)。以下述基準評價獲得之測定結果。 (評價基準) ○：初期、加濕後均於未達1秒白不均消失 △：初期、加濕後任一者於未達3秒白不均消失 ×：白不均消失時間有偏差，初期、加濕後之任一者需要3秒以上。
[觸控感測器感度] 準備內嵌型液晶單元，自各例之附黏著劑層之光學膜剝離剝離襯墊，將其露出之黏著面如圖2所示，貼合於上述內嵌型液晶單元之視認側。將上述內嵌型液晶單元內部之透明電極圖案周邊部之牽引配線(未圖示)與控制器IC(未圖示)連接，製作觸控感測功能內置液晶顯示裝置。於使用該觸控感測功能內置液晶顯示裝置之輸入顯示裝置之狀態進行目視觀察，確認誤動作之有無。 (評價基準) 〇：無誤動作 ×：有誤動作
[加熱耐久性試驗] 將各例之附黏著劑層之光學膜切斷為15英吋尺寸，除去剝離襯墊之後，將其露出之黏著面使用貼合機貼合於厚度0.7 mm之無鹼玻璃(康寧公司製造，編號「EG-XG」)，獲得測定用樣品。將獲得之測定用樣品於50℃、0.5 MPa下進行15分鐘高壓釜處理，將黏著劑層密著於無鹼玻璃。將高壓釜處理後之測定用樣品於85℃之氛圍下實施500小時處理後，於下述基準以目視評價附黏著劑層之光學膜與無鹼玻璃之間的外觀。 (評價基準) ○：未發現發泡、剝離等外觀上之變化。 △：雖然有一點於端部發現發泡、剝離，但為實用上無問題之水準。 ×：於端部發現明顯剝離。
[加濕白濁評價試驗] 將各例之附黏著劑層之光學膜切斷為50 mm×50 mm之尺寸，貼合於玻璃。進而，將厚度25 μm之PET膜(三菱樹脂公司製造，編號「DIAFOIL T100-25B」)切斷為50 mm×50 mm之尺寸，貼合於光學膜之上面，設為測定用樣品。將測定用樣品於60℃、95%RH之環境投入250小時後，於室溫下取出，測定10分鐘後之霧度值，以下述基準進行評價。霧度值係使用村上色彩技術研究所公司製造之霧度計HM150進行測定。 (評價基準) ○：霧度值5以下 △：霧度值超過5且未達10，實用上無問題之水準 ×：霧度值為10以上，實用上有問題
將各例之附黏著劑層之光學膜之概略構成、各層之表面電阻值[Ω/□]、抓固力[N/25 mm]、ESD試驗、觸控感測器感度、加熱耐久性試驗、加濕白濁評價試驗之結果示於表1。 又，作為抗靜電層中所含之聚合物B，關於使用聚醚單元超過10 mol%超者之構成及使用聚醚單元為10 mol%以下者之構成，將附黏著劑之光學膜於厚度方向傾斜切斷，對於其切剖面實施TOF-SIMS分析之結果示於圖9及10。
[表1]
如表1所示般抗靜電層與黏著劑層之兩者包含導電成分，黏著劑層之離子性化合物之含量相對於基礎聚合物100重量份為5～20重量份之實施例1～7中，黏著劑層之表面電阻值為1×1010 Ω/□以下，與離子性化合物之含量未達5重量份之比較例4相比，ESD試驗之結果優異。又，實施例1～7中，黏著劑層之表面電阻值為1×108 Ω/□以上，具有良好之觸控感測器感度。根據實施例1～7之附黏著劑層之光學膜，認為不依據與設於該膜之側面之導通路徑之接觸性，顯示穩定之特性。
又，抗靜電層所含之含官能基之聚合物B(具體而言含㗁唑啉基之聚合物)分子內的聚醚單元為10 mol%以下之實施例1～7中，較聚合物B分子內之聚醚單元超過10 mol%之比較例1～3顯示更高之抓固力。關於該方面，根據圖9及10所示之TOF-SIMS分析結果，作為抗靜電層中所含之聚合物B，使用聚醚單元超過10 mol%者之構成中(圖9)，黏著劑層中之離子性化合物偏集存在於抗靜電層側，相對於此，使用聚醚單元為10 mol%以下者之構成中(圖10)，確認黏著劑層中之離子性化合物均勻分散於黏著劑層厚度方向中。上述之結果，藉由抗靜電層中之聚合物B之化學構造變化黏著劑層中之離子性化合物之行為，支持其變化與抓固力之變化相關。
進而，實施例1～7之附黏著劑層之光學膜顯示加熱耐久性試驗及加濕白濁評價試驗中無實用上問題之水準之性能。該等之例中，藉由限制離子性化合物量，發現提高加熱耐久性。又，使用有機陽離子-陰離子鹽作為離子性化合物之例中，顯示較難加濕白濁之傾向，為耐加濕可靠性優異者。
根據上述結果，可知實現一種附黏著劑層之光學膜，其係具備光學膜、抗靜電層、及配置於該抗靜電層上之黏著劑層者，且黏著劑層中之離子性化合物之含量相對於基礎聚合物100重量份，為5～20重量份，根據抗靜電層所含之含官能基b之聚合物B分子內之聚醚單元為10 mol%以下構成，具有良好之導電性，且實現黏著劑層之抓固性亦優異之附黏著劑層之光學膜。又，可知上述導電性為觸控感測器搭載型液晶面板用途中可兼具良好之觸控感測器感度及防止靜電不均者。
10、110、210、310、410、510、610、710‧‧‧(第1)附黏著劑層之光學膜 11、111、211、311、411、511、611、711‧‧‧(第1)光學膜 11A‧‧‧光學膜之第一面 11B‧‧‧光學膜第二面 12、112、212、312、412、512、612、712‧‧‧(第1)黏著劑層 13、113、213、313、413、513、613、713‧‧‧抗靜電層 14、114、214、314、414、514、614、714‧‧‧表面處理層 100、200、300、400、500 ‧‧‧內嵌型液晶面板 600‧‧‧半內嵌型液晶面板 700‧‧‧表嵌型液晶面板 120、220、320、420、520、620、720‧‧‧液晶單元 125、225、325、425、525、625、725‧‧‧液晶層 130、230、330、430、530、630、730‧‧‧觸控感測電極部 131、231、331、431、531、631、731‧‧‧檢測電極 132、232、332、432、532、632、732‧‧‧驅動電極 141、241、341、441、541、641、741‧‧‧第1透明基板 142、242、342、442、542、642、742‧‧‧第2透明基板 150、250、350、450、550、650、750‧‧‧第2附黏著劑層之光學膜 151、251、351、451、551、651、751‧‧‧第2光學膜 152、252、352、452、552、652、752‧‧‧第2黏著劑層 170、270、370、470、570、670、770‧‧‧導通構造 171、271、371、471、571、671、771‧‧‧導通構造
圖1係模式表示一實施態樣之附黏著劑層之光學膜的剖視圖。 圖2係模式表示一實施態樣之內嵌型液晶面板的剖視圖。 圖3係模式表示一實施態樣之內嵌型液晶面板的剖視圖。 圖4係模式表示一實施態樣之內嵌型液晶面板的剖視圖。 圖5係模式表示一實施態樣之內嵌型液晶面板的剖視圖。 圖6係模式表示一實施態樣之內嵌型液晶面板的剖視圖。 圖7模式表示一實施態樣之半內嵌型液晶面板的剖視圖。 圖8係模式表示一實施態樣之表嵌型液晶面板的剖視圖。 圖9係模式表示針對使用聚醚單元超過10 mol%之聚合物B的構成之TOF-SIMS分析結果的圖表。 圖10係模式表示針對使用聚醚單元為10 mol%以下之聚合物B之構成的TOF-SIMS分析結果的圖表。
10‧‧‧附黏著劑層之光學膜
11‧‧‧光學膜
11A‧‧‧光學膜之第一面
11B‧‧‧光學膜之第二面
12‧‧‧黏著劑層
13‧‧‧抗靜電層
14‧‧‧表面處理層

Claims (7)

  1. 一種附黏著劑層之光學膜，其係用於內嵌型液晶單元者，上述內嵌型液晶單元具備：包含液晶分子之液晶層；夾住上述液晶層之第1透明基板及第2透明基板，此處該第1透明基板配置於視認側；及配置於上述第1透明基板及上述第2透明基板之間之觸控感測電極部；上述附黏著劑層之光學膜具備：光學膜；設置於上述光學膜之至少一個表面之抗靜電層；及配置於上述抗靜電層上之黏著劑層；且上述抗靜電層及上述黏著劑層之表面電阻值均為1×108~1×1010Ω/□之範圍內，上述黏著劑層包含作為基礎聚合物之聚合物A、及離子性化合物，上述黏著劑層中之上述離子性化合物之含量相對於上述基礎聚合物100重量份為5~20重量份，上述抗靜電層包含導電性聚合物、及聚合物B，上述聚合物A具有官能基a，上述聚合物B具有與該官能基a相互作用之官能基b，上述官能基a及上述官能基b之一者為選自由羧基、酸酐基、羥基及硫醇基所組成之群中之至少1種，其另一者為選自由
    Figure 108104754-A0305-02-0061-1
    唑啉基及異氰酸酯 基所組成之群中之至少1種，上述離子性化合物係選自鹼金屬鹽及有機陽離子-陰離子鹽，上述聚合物B之分子內之聚醚單元為10mol%以下。
  2. 如請求項1之附黏著劑層之光學膜，其中上述離子性化合物為熔點為40℃以下之離子性液體。
  3. 如請求項1或2之附黏著劑層之光學膜，其中上述導電性聚合物為噻吩系聚合物。
  4. 如請求項1或2之附黏著劑層之光學膜，其中上述聚合物A為丙烯酸系聚合物。
  5. 如請求項1或2之附黏著劑層之光學膜，其中上述聚合物B為含
    Figure 108104754-A0305-02-0062-2
    唑啉基之聚合物。
  6. 一種內嵌型液晶面板，其具備：液晶單元、如請求項1至5中任一項之附黏著劑層之光學膜，上述液晶單元係具備下述之內嵌型液晶單元：包含液晶分子之液晶層；夾住上述液晶層之第1透明基板及第2透明基板，此處該第1透明基板配置於視認側；及配置於上述第1透明基板及上述第2透明基板之間之觸控感測電極 部；上述附黏著劑層之光學膜為其黏著劑層貼附於上述第1透明基板表面。
  7. 一種液晶顯示裝置，其具備如請求項6之內嵌型液晶面板。
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