TWI798432B - 圓偏光板及影像顯示裝置 - Google Patents

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TWI798432B
TWI798432B TW108116164A TW108116164A TWI798432B TW I798432 B TWI798432 B TW I798432B TW 108116164 A TW108116164 A TW 108116164A TW 108116164 A TW108116164 A TW 108116164A TW I798432 B TWI798432 B TW I798432B
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清水享
吉川貴博
済木雄二
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日商日東電工股份有限公司
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Abstract

本發明提供一種反射色相為中性之圓偏光板。本發明之圓偏光板包含偏光元件、相位差層、及黏著劑層,偏光元件之吸收軸與相位差層之遲相軸所成之角度為39°~51°,偏光元件、相位差層、及黏著劑層之至少任一者包含吸收光譜之最大吸收波長存在於650 nm以上之波長區域之色素化合物。

Description

圓偏光板及影像顯示裝置
本發明係關於一種圓偏光板及影像顯示裝置。
近年來,於普及薄型顯示器之同時,提出搭載有機EL(Electroluminescence,電致發光)面板之有機EL顯示裝置。有機EL面板具有反射性較高之金屬層,易產生外光反射或背景映入等問題。因此,已知藉由將圓偏光板設置於視認側而可防止該等問題。又,已知藉由於液晶顯示面板之視認側設置圓偏光板而改善視角。然而,先前之圓偏光板有於反射色相中可產生不期望之色差之問題。 先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1:日本專利第3325560號公報
[發明所欲解決之問題]
本發明係為解決上述先前之問題而完成者,其主要目的在於提供一種反射色相為中性之圓偏光板、及具備此種圓偏光板之影像顯示裝置。 [解決問題之技術手段]
本發明之圓偏光板包含偏光元件、相位差層、及黏著劑層,上述偏光元件之吸收軸與上述相位差層之遲相軸所成之角度為39°~51°,上述偏光元件、上述相位差層、及上述黏著劑層之至少任一者包含吸收光譜之最大吸收波長存在於650 nm以上之波長區域之色素化合物。 於一實施形態中,上述相位差層之面內相位差滿足Re(450)/Re(550)>1。 於一實施形態中,上述相位差層之面內相位差滿足1.1>Re(450)/Re(550)>1。 於一實施形態中,上述相位差層之面內相位差滿足115 nm≦Re(550)≦135 nm。 於一實施形態中,上述黏著劑層包含上述色素化合物。 於一實施形態中,上述相位差層包含具有脂環式結構之相位差膜。 根據本發明之另一態樣,提供一種影像顯示裝置。該影像顯示裝置具備上述圓偏光板。 [發明之效果]
根據本發明,於包含偏光元件、相位差層、及黏著劑層之圓偏光板中,偏光元件、相位差層、及黏著劑層之至少任一者包含吸收光譜之最大吸收波長存在於650 nm以上之波長區域之色素化合物,藉此可實現反射色相為中性之圓偏光板。
以下,對本發明之實施形態進行說明,但本發明並不限定於該等實施形態。
(用語及記號之定義) 本說明書中之用語及記號之定義如下。 (1)折射率(nx、ny、nz) 「nx」係面內之折射率成為最大之方向(即,遲相軸方向)之折射率,「ny」係面內與遲相軸正交之方向(即,進相軸方向)之折射率,「nz」係厚度方向之折射率。 (2)面內相位差(Re) 「Re(λ)」係由23℃時之波長λ nm之光測定所得之面內相位差。例如,「Re(550)」係由23℃時之波長550 nm之光測定所得之面內相位差。將層(膜)之厚度設為d(nm)時,Re(λ)可由式:Re=(nx-ny)×d而求出。
A.圓偏光板 圖1係本發明之一實施形態之圓偏光板之概略剖視圖。圓偏光板100包含偏光元件10、相位差層20、及黏著劑層30。偏光元件10之吸收軸與相位差層20之遲相軸所成之角度為39°~51°。偏光元件10、相位差層20、及黏著劑層30之至少任一者包含吸收光譜之最大吸收波長存在於650 nm以上之波長區域之色素化合物。藉此,可使圓偏光板之反射色相接近於中性。於圖1所示之例中,將偏光元件10、相位差層20及黏著劑層30依序積層,但圓偏光板100之構成並不限定於圖示例之構成。例如,圓偏光板100可具有偏光元件10之保護層、及/或除相位差層20以外之其他相位差層。進而,圓偏光板100可具有複數個黏著劑層,黏著劑層可配置於任意適當之位置。於一實施形態中,圓偏光板100具有之黏著劑層之中,至少任一黏著劑層包含色素化合物。相位差層20之面內相位差較佳為滿足115 nm≦Re(550)≦135 nm。於一實施形態中,相位差層20由具有脂環式結構之相位差膜構成。
相位差層之面內相位差較佳為滿足Re(450)/Re(550)>1之關係。即,相位差層顯示出測定光之波長越大則面內相位差值越小之正波長分散特性、或無關於測定光之波長而面內相位差值幾乎不變化之平坦的波長分散特性。相位差層之面內相位差更佳為滿足1.1>Re(450)/Re(550)>1之關係。即,相位差層顯示平坦的波長分散特性。顯示正波長分散特性或平坦的波長分散特性之相位差層與顯示逆波長分散特性之相位差層相比,可減薄用以獲得所需之面內相位差值之厚度。此處,圓偏光板之彎曲彈性與圓偏光板之厚度之三次方成反比例,故圓偏光板之厚度越薄,則具有越優異之耐可撓性。因此,使用有顯示正波長分散特性或平坦的波長分散特性之相位差層之圓偏光板之厚度較薄,具有優異之耐可撓性。此種圓偏光板可較佳地用於能夠撓曲之影像顯示裝置。又,一般而言,顯示正波長分散特性或平坦的波長分散特性之相位差層與顯示逆波長分散特性之相位差層相比,有反射色相中產生不期望之色差之情形,但如上所述,藉由於構成圓偏光板之任一層具有上述色素化合物而可使反射色相接近於中性。因此,本實施形態之圓偏光板具有優異之耐可撓性,且可實現中性之反射色相。
B.色素化合物 如上所述,色素化合物存在於吸收光譜之最大吸收波長為650 nm以上之波長區域。色素化合物之吸收光譜之最大吸收波長較佳存在於650 nm~750 nm之波長區域,更佳存在於670 nm~730 nm之波長區域。藉由使用此種色素化合物,可抑制圓偏光板之可見光透過率之降低,並且可使圓偏光板之反射色相接近於中性。藉由抑制圓偏光板之可見光透過率之降低,於用於影像顯示裝置之情形時可抑制白亮度之降低。
色素化合物之吸收半值寬較佳為120 nm以下,更佳為5 nm~110 nm。色素化合物之吸收半值寬可使用紫外可見分光光度計(U-4100,股份有限公司Hitachi High-Tech Science Corporation製造),於以下之測定條件下根據色素化合物之溶液之透過吸光光譜而測定。具代表性的是,根據以最大吸收波長之吸光度成為1.0之方式調整濃度而測定之分光光譜,將成為峰值之50%之2點間之波長之間隔(半峰全幅值)設為該色素化合物之吸收半值寬。 (測定條件) 溶劑:甲苯或氯仿 槽:石英槽 光路長:10 mm
作為色素化合物,只要為吸收光譜之最大吸收波長存在於上述波長區域之化合物即可,其結構等並非特別限定。作為色素化合物,例如可列舉有機系色素化合物或無機系色素化合物,其等之中,就維持分散性與透明性之觀點而言,較佳為有機系色素化合物。色素化合物可單獨使用,又亦可將2種以上混合使用。
作為色素化合物,可列舉亞銨系、二硫醇鎳系、酞菁系、花青系、偶氮系、喹酞酮系、靛藍系、卟啉系等。
作為色素化合物,可較佳地使用市售者,具體而言,作為酞菁系化合物,可列舉FDR-003(山田化學工業股份有限公司製造)、FDR-004(山田化學工業股份有限公司製造)。色素化合物之詳情例如記載於日本專利特開2016-188357號公報中,該記載作為參考而引用於本說明書。
於黏著劑層包含上述色素化合物之情形時,黏著劑層中之色素化合物之含量相對於構成黏著劑層之黏著劑100重量份,較佳為0.01重量份~10重量份,更佳為0.05重量份~5重量份左右。藉由將色素化合物之添加量設為上述範圍內,可抑制圓偏光板之可見光透過率之降低,並且可使圓偏光板之反射色相接近於中性。
C.相位差層 如上所述,相位差層之面內相位差較佳為滿足Re(450)/Re(550)>1之關係,更佳為滿足1.1>Re(450)/Re(550)>1之關係。
相位差層之面內相位差較佳為滿足115 nm≦Re(550)≦135 nm。相位差層之Re(550)更佳為118 nm~132 nm,進而佳為120 nm~130 nm。
相位差層之厚度較佳為1 μm~50 μm,更佳為2 μm~40 μm,進而佳為3 μm~30 μm。
相位差層具代表性的是由滿足上述特性之相位差膜構成。相位差膜可藉由使任意適當之樹脂膜延伸而形成。於一實施形態中,形成上述相位差膜之樹脂具有脂環式結構。作為形成相位差膜之樹脂,例如可列舉聚碳酸酯系樹脂、環烯系樹脂、纖維素系樹脂、聚酯系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚醚系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、丙烯酸系樹脂、聚酯碳酸酯樹脂。其等之中,可較佳地使用聚碳酸酯系樹脂或環烯系樹脂。
作為聚碳酸酯系樹脂,只要可取得本發明之效果,則可使用任意適當之聚碳酸酯樹脂。較佳為,聚碳酸酯樹脂包含來自異山梨酯系二羥基化合物之結構單位、與來自選自由脂環式二醇、脂環式二甲醇、二、三或聚乙二醇、以及伸烷基二醇或螺二醇所組成之群中之至少1種二羥基化合物之結構單位。更佳為,聚碳酸酯樹脂包含來自異山梨酯系二羥基化合物之結構單位、與來自脂環式二甲醇之結構單位及/或來自二、三或聚乙二醇之結構單位。聚碳酸酯樹脂視需要亦可包含來自其他二羥基化合物之結構單位。再者,本發明中可較佳地使用之聚碳酸酯樹脂及相位差膜之製造方法之詳情例如記載於國際公開公報第2011/062239號中,該記載作為參考而引用於本說明書。
環烯系樹脂係以環烯為聚合單位而聚合之樹脂之總稱,可列舉例如記載於日本專利特開平1-240517號公報、日本專利特開平3-14882號公報、日本專利特開平3-122137號公報等中之樹脂。作為具體例,可列舉環烯之開環(共)聚合體、環烯之加成聚合物、環烯與乙烯、丙烯等α-烯烴之共聚物(具代表性的是無規共聚物)、及將其等以不飽和羧酸或其衍生物改性後之接枝改性體、以及其等之氫化物。作為環烯之具體例,可列舉降𦯉烯系單體。作為降𦯉烯系單體,可列舉記載於日本專利特開2015-210459號公報等中之單體。上述環烯系樹脂之各種製品正在市售。作為具體例,可列舉日本ZEON公司製造之商品名「ZEONEX」、「ZEONOR」、JSR公司製造之商品名「Arton」、TICONA公司製造之商品名「TOPAS」、及三井化學公司製造之商品名「APEL」。
作為相位差膜之製作方法,可採用包含樹脂膜之延伸步驟之任意適當之方法。作為延伸方法,例如可列舉橫單軸延伸(固定端雙軸延伸)、逐次雙軸延伸、傾斜延伸。延伸溫度較佳為125~160℃,進而佳為130~150℃。
於一實施形態中,相位差膜藉由將樹脂膜進行單軸延伸或進行固定端單軸延伸而製作。作為固定端單軸延伸之具體例,可列舉使樹脂膜一面於長度方向移行,一面於寬度方向(橫方向)延伸之方法。延伸倍率較佳為1.1倍~3.5倍。
於另一實施形態中,相位差膜藉由使長條狀之樹脂膜相對於長度方向朝角度θ之方向連續地傾斜延伸而製作。藉由採用傾斜延伸,可獲得相對於膜之長度方向具有角度θ之配向角(於角度θ之方向之遲相軸)之長條狀之延伸膜,例如,與偏光元件積層時能夠卷對卷,可簡化製造步驟。
作為用於傾斜延伸之延伸機,例如可列舉於橫及/或縱方向上可附加左右不同之速度之進給力或拉伸力或牽引力之拉幅式延伸機。拉幅式延伸機有橫單軸延伸機、同時雙軸延伸機等,但只要可將長條狀之樹脂膜連續地傾斜延伸,則可使用任意適當之延伸機。
傾斜延伸之相位差膜之製造方法可包含以下步驟:分別藉由縱方向之夾具間距變化之可變間距型之左右夾具而固持膜之左右端部(固持步驟);對該膜進行預熱(預熱步驟);一面擴大該左右夾具間之距離,一面使一側夾具之夾具間距增大,且使另一側夾具之夾具間距減少,使該膜傾斜延伸(第1傾斜延伸步驟);一面擴大該左右夾具間之距離,一面以左右夾具之夾具間距相等之方式維持或減少該一側夾具之夾具間距,且增大該另一側夾具之夾具間距,使該膜傾斜延伸(第2傾斜延伸步驟);及將固持該膜之夾具解除(解除步驟)。以下,對各步驟詳細地進行說明。
C-1.固持步驟 最初,參照圖2~圖4,對可用於包含本步驟之相位差膜之製造方法之延伸裝置進行說明。圖2係說明可用於相位差膜之製造方法之延伸裝置之一例之整體構成之概略俯視圖。圖3及圖4分別係用以說明圖2之延伸裝置中使夾具間距變化之連結機構之要部概略俯視圖,圖3表示夾具間距最小之狀態,圖4表示夾具間距最大之狀態。延伸裝置100於俯視下,於左右兩側,左右對稱地具有包含膜固持用之多個夾具20之環形迴路10L與環形迴路10R。再者,本說明書中,將自膜之入口側觀察時為左側之環形迴路稱為左側之環形迴路10L,將自膜之入口側觀察時為右側之環形迴路稱為右側之環形迴路10R。左右之環形迴路10L、10R之夾具20分別由基準軌道70引導而以環狀巡迴移動。左側之環形迴路10R沿逆時針方向巡迴移動,右側之環形迴路10R沿順時針方向巡迴移動。於延伸裝置中,自片材之入口側朝出口側依序設置有固持區域A、預熱區域B、第1傾斜延伸區域C、第2傾斜延伸區域D、及解除區域E。再者,該等各個區域係指將成為延伸對象之膜實質性固持、預熱、第1傾斜延伸、第2傾斜延伸及解除之區域,並非機械上、結構上獨立之區間。又,需注意,圖2之延伸裝置中之各個區域之長度之比率與實際長度之比率不同。
固持區域A及預熱區域B中,左右之環形迴路10R、10L構成為,以與成為延伸對象之膜之初始寬度對應之離開距離相互大致平行。第1傾斜延伸區域C及第2傾斜延伸區域D設為如下構成,即,隨著自預熱區域B之側朝向解除區域E,左右之環形迴路10R、10L之離開距離逐漸擴大至與上述膜延伸後之寬度對應。於解除區域E,左右之環形迴路10R、10L構成為,以與上述膜延伸後之寬度對應之離開距離相互大致平行。
左側之環形迴路10L之夾具(左側之夾具)20及右側之環形迴路10R之夾具(右側之夾具)20可分別獨立地巡迴移動。例如,左側之環形迴路10L之驅動用鏈輪11、12藉由電動馬達13、14而沿逆時針方向旋轉驅動,右側之環形迴路10R之驅動用鏈輪11、12藉由電動馬達13、14而沿順時針方向旋轉驅動。其結果,對卡合於該等驅動用鏈輪11、12之驅動滾輪(未圖示)之夾具擔載構件30賦予移行力。藉此,左側之環形迴路10L沿逆時針方向巡迴移動,右側之環形迴路10R沿順時針方向巡迴移動。藉由分別獨立地驅動左側之電動馬達及右側之電動馬達,可使左側之環形迴路10L及右側之環形迴路10R分別獨立地巡迴移動。
進而,左側之環形迴路10L之夾具(左側之夾具)20及右側之環形迴路10R之夾具(右側之夾具)20分別為可變間距型。即,左右之夾具20、20可分別獨立地隨著移動而使縱方向(MD)之夾具間距(夾具間距離)變化。可變間距型可藉由任意適當之構成而實現。以下,作為一例,對連結機構(縮放儀機構)進行說明。
如圖3及圖4所示,設置有分別擔載夾具20之於俯視橫方向上細長矩形狀之夾具擔載構件30。雖未圖示,但夾具擔載構件30藉由上樑、下樑、前壁(夾具側之壁)、及後壁(與夾具相反側之壁)而形成為封閉剖面牢固之框架結構。夾具擔載構件30設置成由其兩端之移行輪38而於移行路面81、82上滾動。再者,圖3及圖4中,未圖示前壁側之移行輪(於移行路面81上滾動之移行輪)。移行路面81、82遍及全域而與基準軌道70平行。於夾具擔載構件30之上樑與下樑之後側(與夾具相反側),沿著夾具擔載構件之長度方向形成有長孔31,滑塊32以能夠於長孔31之長度方向滑動之方式與其卡合。於夾具擔載構件30之夾具20側端部之附近,貫通上樑及下樑而垂直設置有一根第1軸構件33。另一方面,於夾具擔載構件30之滑塊32上垂直貫通地設置有一根第2軸構件34。於各夾具擔載構件30之第1軸構件33上樞動連結有主連結構件35之一端。將主連結構件35之另一端樞動連結於鄰接之夾具擔載構件30之第2軸構件34。於各夾具擔載構件30之第1軸構件33,除主連結構件35外,還樞動連結有副連結構件36之一端。將副連結構件36之另一端藉由樞軸37而樞動連結於主連結構件35之中間部。藉由基於主連結構件35、副連結構件36之連結機構,如圖3所示,滑塊32越向夾具擔載構件30之後側(夾具側之相反側)移動,則夾具擔載構件30彼此之縱方向之間距(以下,簡稱為夾具間距)越小,且如圖4所示,滑塊32越向夾具擔載構件30之前側(夾具側)移動,則夾具間距越大。滑塊32之定位係由間距設定軌道90進行。如圖3及圖4所示,夾具間距越大,則基準軌道70與間距設定軌道90之離開距離越小。再者,連結機構於業界已眾所周知,故省略更詳細之說明。
藉由使用如上所述之延伸裝置進行膜之傾斜延伸,可製作於傾斜方向(例如,相對於縱方向成45°之方向)具有遲相軸之相位差膜。首先,於固持區域A(延伸裝置100之膜取入之入口),藉由左右之環形迴路10R、10L之夾具20將成為延伸對象之膜之兩側緣以彼此相等之固定之夾具間距固持,並藉由左右之環形迴路10R、10L之移動(實質上,由基準軌道70引導之各夾具擔載構件30之移動),將該膜輸送至預熱區域B。
C-2.預熱步驟 於預熱區域(預熱步驟)B,左右之環形迴路10R、10L之構成為,如上所述以與成為延伸對象之膜之初始寬度對應之離開距離相互大致平行,故基本上既不進行橫延伸亦不進行縱延伸,將膜進行加熱。然而,由預熱而引起膜之撓曲,為避免與烘箱內之噴嘴接觸等不良,亦可稍微擴大左右夾具間之距離(寬度方向之距離)。
於預熱步驟,將膜加熱至溫度T1(℃)。溫度T1較佳為膜之玻璃轉移溫度(Tg)以上,更佳為Tg+2℃以上,進而佳為Tg+5℃以上。另一方面,加熱溫度T1較佳為Tg+40℃以下,更佳為Tg+30℃以下。雖根據所使用之膜而不同,但溫度T1例如為70℃~190℃,較佳為80℃~180℃。
升溫至上述溫度T1之升溫時間及溫度T1下之保持時間可根據膜之構成材料或製造條件(例如,膜之搬送速度)而適當設定。該等升溫時間及保持時間可藉由調整夾具20之移動速度、預熱區域之長度、預熱區域之溫度等而控制。
C-3.第1傾斜延伸步驟 於第1傾斜延伸區域(第1傾斜延伸步驟)C,一面使左右之夾具間之距離(更具體而言,左右之環形迴路10R、10L之離開距離)擴大,一面使一側夾具之夾具間距增大,且使另一側夾具之夾具間距減少,將膜傾斜延伸。藉由如此使夾具間距變化而使左右之夾具以不同速度移動,藉此,可一面使膜之一側之側緣部於長度方向伸長且另一側之側緣部於長度方向收縮,一面進行傾斜延伸。其結果,可於期望之方向(例如,相對於長度方向成45°之方向)以較高之單軸性及面內配向性呈現遲相軸。
以下,一面參照圖5及圖6,一面具體地說明第1傾斜延伸之一實施形態。首先,於預熱區域B,將左右之夾具間距均設為P1 。P1 係固持膜時之夾具間距。其次,於膜進入至第1傾斜延伸區域C之同時,開始增大一側(圖示例中右側)夾具之夾具間距,且開始減少另一側(圖示例中左側)夾具之夾具間距。於第1傾斜延伸區域C,使右側夾具之夾具間距增大至P2 ,使左側夾具之夾具間距減少至P3 。因此,於第1傾斜延伸區域C之終止部(第2傾斜延伸區域D之開始部),左側夾具以夾具間距P3 移動,右側夾具以夾具間距P2 移動。再者,夾具間距之比可大致對應於夾具移動速度之比。由此,左右夾具之夾具間距之比可大致對應於膜之右側側緣部與左側側緣部之MD方向之延伸倍率之比。
於圖5及圖6中,將右側夾具之夾具間距開始增大之位置及左側夾具之夾具間距開始減少之位置均設為第1傾斜延伸區域C之開始部,但亦可與圖示例不同,於右側夾具之夾具間距開始增大後左側夾具之夾具間距開始減少(例如圖7),且於左側夾具之夾具間距開始減少後右側夾具之夾具間距開始增大(未圖示)。於一較佳之實施形態中,於一側夾具之夾具間距開始增大後另一側夾具之夾具間距開始減少。根據此種實施形態,即便膜已於寬度方向上以一定程度(較佳為約1.2倍~2.0倍)延伸後使該另一側之夾具間距大幅減少,亦不易產生皺褶。由此,能夠進行更為銳角之傾斜延伸,可較佳地獲得單軸性及面內配向性較高之相位差膜。
同樣地,於圖5及圖6中,繼續使右側夾具之夾具間距增大及左側夾具之夾具間距減少,直至第1傾斜延伸區域C之終止部(第2傾斜延伸區域D之開始部)為止,但亦可與圖示例不同,於第1傾斜延伸區域C之終止部之前結束夾具間距之增大或減少之任一者,且夾具間距維持原樣直至第1傾斜延伸區域C之終止部為止。
上述增大之夾具間距之變化率(P2 /P1 )較佳為1.25~1.75,更佳為1.30~1.70,進而佳為1.35~1.65。又,減少之夾具間距之變化率(P3 /P1 )例如為0.50以上且未達1,較佳為0.50~0.95,更佳為0.55~0.90,進而佳為0.55~0.85。若夾具間距之變化率為此種範圍內,則可在相對於膜之長度方向成大致45度之方向上以較高之單軸性及面內配向性呈現遲相軸。
如上所述,夾具間距可藉由調整延伸裝置之間距設定軌道與基準軌道之離開距離並定位滑塊而調整。
第1傾斜延伸步驟中之膜之寬度方向之延伸倍率(W2 /W1 )較佳為1.1倍~3.0倍,更佳為1.2倍~2.5倍,進而佳為1.25倍~2.0倍。若該延伸倍率未達1.1倍,則有於收縮之側之側緣部產生鍍鋅鐵皮狀之皺褶之情形。又,若該延伸倍率超過3.0倍,則有如下情形,即,所獲得之相位差膜之雙軸性變高,且應用於圓偏光板等情形時視角特性降低。
於一實施形態中,第1傾斜延伸以如下方式進行,即,一側夾具之夾具間距之變化率與另一側夾具之夾具間距之變化率之積較佳為0.7~1.5,更佳為0.8~1.45,進而佳為0.85~1.40。若變化率之積為此種範圍內,則可獲得單軸性及面內配向性較高之相位差膜。
第1傾斜延伸具代表性的是可於溫度T2進行。溫度T2相對於樹脂膜之玻璃轉移溫度(Tg),較佳為Tg-20℃~Tg+30℃,進而佳為Tg-10℃~Tg+20℃,特佳為Tg左右。雖根據使用之樹脂膜而不同,但溫度T2例如為70℃~180℃,較佳為80℃~170℃。上述溫度T1與溫度T2之差(T1-T2)較佳為±2℃以上,更佳為±5℃以上。於一實施形態中,T1>T2,因此,於預熱步驟中加熱至溫度T1之膜可冷卻至溫度T2。
C-4.第2傾斜延伸步驟 於第2傾斜延伸區域(第2傾斜延伸步驟)D,一面使左右夾具間之距離(更具體而言,左右之環形迴路10R、10L之離開距離)擴大,一面以左右夾具之夾具間距相等之方式維持或減少一側夾具之夾具間距,且增大另一側夾具之夾具間距,而將膜傾斜延伸。藉由如此一面縮小左右之夾具間距之差,一面進行傾斜延伸,可緩和多餘之應力,並且可於傾斜方向充分地延伸。又,可於左右夾具之移動速度相等之狀態下將膜供於解除步驟,故於左右夾具解除時不易產生膜之搬送速度等之不均,可較佳地進行其後之膜之捲取。
以下,一面參照圖5及圖6,一面具體地說明第2傾斜延伸之一實施形態。首先,於膜進入至第2傾斜延伸區域D之同時,開始增大左側夾具之夾具間距。於第2傾斜延伸區域D,使左側夾具之夾具間距增大至P2 。另一方面,右側夾具之夾具間距於第2傾斜延伸區域D維持為P2 之狀態。因此,於第2傾斜延伸區域D之終止部(解除區域E之開始部),左側夾具及右側夾具一起以夾具間距P2 移動。
關於上述實施形態之增大之夾具間距之變化率(P2 /P3 ),只要可獲得具有所需之光學特性之相位差膜則並無限制。該變化率(P2 /P3 )例如為1.3~4.0,較佳為1.5~3.0。
其次,一面參照圖8及圖9,一面具體地說明第2傾斜延伸之另一實施形態。首先,於膜進入至第2傾斜延伸區域D之同時,開始減少右側夾具之夾具間距,且開始增大左側夾具之夾具間距。於第2傾斜延伸區域D中,使右側夾具之夾具間距減少至P4 ,且使左側夾具之夾具間距增大至P4 。因此,於第2傾斜延伸區域D之終止部(解除區域E之開始部),左側夾具及右側夾具一起以夾具間距P4 移動。再者,於圖示例中,為簡單起見,將右側夾具之夾具間距之減少開始位置及左側夾具之夾具間距之增大開始位置均設為第2傾斜延伸區域D之開始部,但該等位置亦可為不同之位置。同樣地,右側夾具之夾具間距之減少結束位置與左側夾具之夾具間距之增大結束位置亦可為不同之位置。
關於上述實施形態之減少之夾具間距之變化率(P4 /P2 )及增大之夾具間距之變化率(P4 /P3 ),只要不損及本發明之效果則並無限制。變化率(P4 /P2 )例如為0.4以上且未達1.0,較佳為0.6~0.95。又,變化率(P4 /P3 )例如超過1.0且為2.0以下,較佳為1.2~1.8。較佳為,P4 為P1 以上。若P4 <P1 ,則有產生如下問題之情形,即,於側緣部產生皺褶、雙軸性變高等。
第2傾斜延伸步驟之膜之寬度方向之延伸倍率(W3 /W2 )較佳為1.1倍~3.0倍,更佳為1.2倍~2.5倍,進而佳為1.25倍~2.0倍。若該延伸倍率未達1.1倍,則有於收縮之側之側緣部產生鍍鋅鐵皮狀之皺褶之情形。又,若該延伸倍率超過3.0倍,則有如下情形,即,所獲得之相位差膜之雙軸性變高,且應用於圓偏光板等之情形時視角特性降低。又,關於第1傾斜延伸步驟及第2傾斜延伸步驟之寬度方向之延伸倍率(W3 /W1 ),就與上述相同之觀點而言,較佳為1.2倍~4.0倍,更佳為1.4倍~3.0倍。
於一實施形態中,第1傾斜延伸及第2傾斜延伸以如下方式進行,即,根據下式(1)求出之傾斜延伸倍率較佳為2.0以上,更佳為2.0~4.0,進而佳為2.5~3.5。若該傾斜延伸倍率未達2.0,則有雙軸性變高之情形或面內配向性變低之情形。
[數1]
Figure 02_image015
(式中, W1 表示第1傾斜延伸前之膜寬度, W3 表示第2傾斜延伸後之膜寬度, v3 '表示關於第1傾斜延伸步驟中使夾具間距增大之側之夾具,該夾具之夾具間距於第2傾斜延伸步驟中變化為特定之夾具間距時之夾具移動速度, t3 表示自第1傾斜延伸步驟中使夾具間距減少之側之夾具進入至預熱區域起至第2傾斜延伸步驟結束之時間, t3 '表示自第1傾斜延伸步驟中使夾具間距增大之側之夾具進入至預熱區域起至第2傾斜延伸步驟結束之時間)。
關於上述v3 ',所謂特定之夾具間距係指於第1傾斜延伸步驟中增大完成之夾具間距於第2傾斜延伸步驟中維持或減少後之夾具間距,對應於上述C-3項之說明中之P2 或P4 。又,關於第1傾斜延伸步驟中使夾具間距增大之側之夾具,當將該夾具之夾具間距於第1傾斜延伸步驟中變化為特定之夾具間距(對應於上述C-3項之說明中之P2 )時之該夾具之移動速度設為v2 '時, 於v2 '=v3 '之情形時,上述t3 由下述式(2)表示,上述t'3 由下述式(3)表示, 於v2 '>v3 '之情形時,上述t3 由下述式(4)表示,上述t'3 由下述式(5)表示。
以下,對式(2)~(4)進行說明。關於式中各記號之說明,可參考圖10~12。再者,式(1)~(5)中之星號標記(*)為乘法記號。又,膜寬度之單位為m,速度之單位為m/sec,距離之單位為m,時間之單位為sec。
[數2]
Figure 02_image017
(式中, a1=(v2-v3)/(L2-L3), b1=v3-a1*L3, a=(v1-v2)/(L1-L2), b=v2-a*L2, v1係第1傾斜延伸步驟中使夾具間距減少之側之夾具通過預熱區域時之夾具移動速度, v2係關於第1傾斜延伸步驟中使夾具間距減少之側之夾具,使該夾具之夾具間距於第1傾斜延伸步驟中減少至特定之夾具間距(對應於上述C-3項之說明中之P3 )時之夾具移動速度, v3係關於第1傾斜延伸步驟中使夾具間距減少之側之夾具,該夾具之夾具間距於第2傾斜延伸步驟增大至特定之夾具間距(對應於上述C-3項之說明中之P2 或P4 )時之夾具移動速度, L1係自預熱區域入口至第1傾斜延伸步驟中使夾具間距減少之側之夾具開始減少夾具間距之距離(於一實施形態中,自預熱區域入口至預熱區域出口之距離), L2係自預熱區域入口至第1傾斜延伸步驟中使夾具間距減少之側之夾具開始增大夾具間距之部位之距離(於一實施形態中,自預熱區域入口至第1傾斜延伸區域出口之距離), L3係自預熱區域入口至第1傾斜延伸步驟中使夾具間距減少之側之夾具終止增大夾具間距之部位之距離(於一實施形態中,自預熱區域入口至第2傾斜延伸區域出口之距離))。
[數3]
Figure 02_image019
(式中, a'=(v1'-v2')/(L1'-L2'), b'=v3'-a'*L2', v1'係於第1傾斜延伸步驟中使夾具間距增大之側之夾具通過預熱區域時之夾具移動速度, v2'係關於第1傾斜延伸步驟中使夾具間距增大之側之夾具,該夾具之夾具間距於第1傾斜延伸步驟中增大至特定之夾具間距(對應於上述C-3項之說明中之P2 )時之夾具移動速度, v3'係關於第1傾斜延伸步驟中使夾具間距增大之側之夾具,該夾具通過第2傾斜延伸區域時之夾具移動速度, L1'係自預熱區域入口至第1傾斜延伸步驟中使夾具間距增大之側之夾具開始增大夾具間距為止之距離(於一實施形態中,自預熱區域入口至預熱區域出口之距離), L2'係自預熱區域入口至第1傾斜延伸步驟中使夾具間距增大之側之夾具終止增大夾具間距之部位之距離(於一實施形態中,自預熱區域入口至第1傾斜延伸區域出口之距離), L3'係自預熱區域入口至第2傾斜延伸區域出口之距離)。
[數4]
Figure 02_image021
(式中,a1、b1、a、b、v1、v2、v3、L1、L2及L3如式(2)中所定義)。
[數5]
Figure 02_image023
(式中, a'=(v1'-v2')/(L1'-L2'), b'=v2'-a'*L2', a''=(v2'-v3')/(L2'-L3'), b''=v3'-a''*L3', v1'係第1傾斜延伸步驟中使夾具間距增大之側之夾具通過預熱區域時之夾具移動速度, v2'係關於第1傾斜延伸步驟中使夾具間距增大之側之夾具,該夾具之夾具間距於第1傾斜延伸步驟中增大至特定之夾具間距(對應於上述C-3項之說明中之P2 )時之夾具移動速度, v3'係關於第1傾斜延伸步驟中使夾具間距增大之側之夾具,該夾具之夾具間距於第2傾斜延伸步驟減少至特定之夾具間距(對應於上述C-3項之說明中之P4 )時之夾具移動速度, L1'係自預熱區域入口至第1傾斜延伸步驟中使夾具間距增大之側之夾具開始增大夾具間距之部位之距離(於一實施形態中,自預熱區域入口至預熱區域出口之距離), L2'係自預熱區域入口至第1傾斜延伸步驟中使夾具間距增大之側之夾具終止增大夾具間距之部位之距離(於一實施形態中,自預熱區域入口至第1傾斜延伸區域出口之距離), L3'係自預熱區域入口至第1傾斜延伸步驟中使夾具間距增大之側之夾具於第2傾斜延伸步驟中終止將夾具間距減少至特定之夾具間距(對應於上述C-3項之說明中之P4 )之部位之距離(於一實施形態中,自預熱區域入口至第2傾斜延伸區域出口之距離))。
第2傾斜延伸具代表性的是可於溫度T3進行。溫度T3可與溫度T2同等。
C-5.解除步驟 最後,將固持膜之夾具解除,獲得相位差膜。視需要,對膜進行熱處理並將延伸狀態固定,冷卻後解除夾具。
熱處理具代表性的是可於溫度T4進行。溫度T4根據延伸之膜而不同,可有T3≧T4之情形,亦可有T3<T4之情形。一般而言,亦有如下情形,即,藉由於膜為非晶性材料之情形時使T3≧T4、且於膜為結晶性材料之情形時使T3<T4而進行結晶化處理。於T3≧T4之情形時,溫度T3與T4之差(T3-T4)較佳為0℃~50℃。熱處理時間具代表性的是10秒~10分鐘。
經熱固定之膜通常被冷卻至Tg以下,解除夾具後,除去膜兩端之夾具固持部分後捲取。
D.黏著劑層 黏著劑層係由任意適當之黏著劑形成。作為此種黏著劑,可列舉橡膠系黏著劑、丙烯酸系黏著劑、矽酮系黏著劑、胺基甲酸酯系黏著劑、乙烯基烷基醚系黏著劑、聚乙烯醇系黏著劑、聚乙烯吡咯啶酮系黏著劑、聚丙烯醯胺系黏著劑、纖維素系黏著劑等。其等之中,可較佳地使用包含(甲基)丙烯酸系聚合物之丙烯酸系黏著劑作為基礎聚合物。於一實施形態中,如上所述,黏著劑層包含色素化合物。
(甲基)丙烯酸系聚合物中,作為單體單位,含有(甲基)丙烯酸烷基酯作為主成分。作為(甲基)丙烯酸烷基酯,可列舉於酯末端具有直鏈狀或支鏈狀之碳數1~24之烷基者。(甲基)丙烯酸烷基酯可單獨使用1種或將2種以上組合使用。再者,「(甲基)丙烯酸烷基酯」係指丙烯酸烷基酯及/或甲基丙烯酸烷基酯。
於酯末端具有碳數為1~24之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯較佳為相對於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單官能性單體成分之總量為40重量%以上,更佳為50重量%以上,進而佳為60重量%以上。
上述單體成分中,作為單官能性單體成分,可含有除(甲基)丙烯酸烷基酯以外之共聚合單體。共聚合單體可用作單體成分中之(甲基)丙烯酸烷基酯之其餘部分。作為共聚合單體,例如可含有含環狀氮之單體。作為上述含環狀氮之單體,可不特別限制地使用具有含(甲基)丙烯醯基或乙烯基等不飽和雙鍵之聚合性之官能基、且具有環狀氮結構者。環狀氮結構較佳為於環狀結構內具有氮原子者。含環狀氮之單體之含量相對於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單官能性單體成分之總量,較佳為0.5~50重量%,更佳為0.5~40重量%,進而更佳為0.5~30重量%。
於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單體成分中,視需要,可含有其他含官能基之單體。作為此種單體,例如可列舉含羧基之單體、含環狀醚基之單體、含羥基之單體。
(甲基)丙烯酸系聚合物通常可使用重量平均分子量為50萬~300萬之範圍者。若考慮耐久性,尤其是耐熱性,則較佳為使用重量平均分子量為70萬~270萬者。進而佳為80萬~250萬。若重量平均分子量小於50萬,則耐熱性方面不佳。又,若重量平均分子量大於300萬,則為調整成適宜塗佈之黏度而需要大量之稀釋溶劑,從而成本提高,故不佳。再者,重量平均分子量係由GPC(Gel Permeation Chromatography,凝膠滲透層析法)測定且由聚苯乙烯換算而算出之值。
作為(甲基)丙烯酸系聚合物之製造方法,可採用溶液聚合、紫外線(UV)聚合等放射線聚合、塊狀聚合、乳化聚合等各種自由基聚合等任意適當之方法。又,所獲得之(甲基)丙烯酸系聚合物亦可為無規共聚物、嵌段共聚物、接枝共聚物等之任一者。
E.偏光元件 作為偏光元件,可採用任意適當之偏光元件。例如,形成偏光元件之樹脂膜可為單層之樹脂膜,亦可為二層以上之積層體。
作為包含單層樹脂膜之偏光元件之具體例,可列舉對聚乙烯醇(PVA)系膜、部分縮甲醛化PVA系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等親水性高分子膜實施碘或二色性染料等二色性物質之染色處理及延伸處理而成者、PVA之脫水處理物或聚氯乙烯之脫氯化氫處理物等多烯系配向膜等。較佳為,由於光學特性優異,故可使用由碘將PVA系膜染色並單軸延伸而獲得之偏光元件。
上述利用碘進行之染色例如藉由將PVA系膜浸漬於碘水溶液而進行。上述單軸延伸之延伸倍率較佳為3~7倍。延伸可於染色處理後進行,亦可一面染色一面進行。又,亦可於延伸後染色。視需要,可對PVA系膜實施膨潤處理、交聯處理、洗淨處理、乾燥處理等。例如,藉由於染色之前將PVA系膜浸漬於水中進行水洗,不僅可洗淨PVA系膜表面之污垢或抗結塊劑,而且可使PVA系膜膨潤而防止染色不均等。
作為使用積層體獲得之偏光元件之具體例,可列舉使用樹脂基材與積層於該樹脂基材之PVA系樹脂層(PVA系樹脂膜)之積層體、或樹脂基材與塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層之積層體而獲得之偏光元件。使用樹脂基材與塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層之積層體而獲得之偏光元件例如可藉由以下步驟製作:將PVA系樹脂溶液塗佈於樹脂基材,使其乾燥,於樹脂基材上形成PVA系樹脂層,獲得樹脂基材與PVA系樹脂層之積層體;將該積層體延伸及染色,將PVA系樹脂層製成偏光元件。本實施形態中,延伸具代表性的是包含使積層體浸漬於硼酸水溶液中而延伸。進而,視需要,延伸可進而包含於硼酸水溶液中延伸之前將積層體於高溫(例如,95℃以上)進行空中延伸。所獲得之樹脂基材/偏光元件之積層體可直接使用(即,可將樹脂基材作為偏光元件之保護層),亦可自樹脂基材/偏光元件之積層體將樹脂基材剝離,且於該剝離面積層符合目標之任意適當之保護層而使用。此種偏光元件之製造方法之詳情例如記載於日本專利特開2012-73580號公報中。將該公報之整體之記載作為參照而引用於本說明書。
偏光元件之厚度例如為1 μm~80 μm。於一實施形態中,偏光元件之厚度較佳為1 μm~25 μm,進而佳為3 μm~10 μm,特佳為3 μm~8 μm。若偏光元件之厚度為此種範圍,則可良好地抑制加熱時之捲縮、及可獲得良好之加熱時之外觀耐久性。
偏光元件較佳為,於波長380 nm~780 nm之任一波長下顯示吸收二色性。偏光元件之單體透過率為35.0%~46.0%,較佳為37.0%~46.0%。偏光元件之偏光度較佳為97.0%以上,更佳為99.0%以上,進而佳為99.9%以上。
F.保護層 保護層由可用作保護偏光元件之膜之任意適當之保護膜而形成。作為成為該保護膜之主成分之材料之具體例,可列舉三乙醯纖維素(TAC)等纖維素系樹脂、或聚酯系、聚乙烯醇系、聚碳酸酯系、聚醯胺系、聚醯亞胺系、聚醚碸系、聚碸系、聚苯乙烯系、聚降𦯉烯系、聚烯烴系、(甲基)丙烯酸系、乙酸系等透明樹脂等。又,亦可列舉(甲基)丙烯酸系、胺基甲酸酯系、(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯系、環氧系、矽酮系等熱硬化型樹脂或紫外線硬化型樹脂等。除此之外,例如還可列舉矽氧烷系聚合物等玻璃質系聚合物。又,亦可使用日本專利特開2001-343529號公報(WO01/37007)中所記載之聚合物膜。作為該膜之材料,例如可使用含有於側鏈具有取代或非取代之亞胺基之熱塑性樹脂、及於側鏈具有取代或非取代之苯基及腈基之熱塑性樹脂之樹脂組合物,例如可列舉具有包含異丁烯與N-甲基順丁烯二醯亞胺之交替共聚物、及丙烯腈-苯乙烯共聚物之樹脂組合物。該聚合物膜例如可為上述樹脂組合物之擠出成形物。
保護膜之厚度較佳為10 μm~100 μm。保護膜可介隔接著層(具體而言,接著劑層、黏著劑層)而積層於偏光元件,亦可密接(不介隔接著層)積層於偏光元件。視需要,在配置於圓偏光板之最表面之保護膜上,可形成硬塗層、防眩層及抗反射層等表面處理層。
G.影像顯示裝置 上述A至F項中記載之圓偏光板可用於影像顯示裝置。因此,本發明亦包含使用有此種光學積層體之影像顯示裝置。作為影像顯示裝置之代表例,可列舉液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置。本發明之實施形態之影像顯示裝置具備上述A項至F項所記載之圓偏光板。 實施例
以下,由實施例具體地說明本發明,但本發明並非由該等實施例限定。再者,各特性之測定方法及評價方法如下。 (1)厚度 使用數位計(股份有限公司尾崎製作所製造,製品名「DG-205 type pds-2」)測定。 (2)面內相位差 對實施例及比較例中使用之相位差膜,使用Axoscan(Axometrics公司製造)測定面內相位差。測定溫度設為23℃,測定波長設為450 nm及550 nm。 (3)反射率及反射色相 使實施例及比較例中所獲得之有機EL面板顯示黑影像,使用柯尼卡美能達公司製造之分光測色計CM-2600d測定正面反射率及反射色相。 又,對經測定獲得之反射色相u'v',算出色度圖上距中性點((u',v')=(0.210,0.471))之距離,並將所得之值設為Δu'v'。 (4)亮度 使實施例及比較例中所獲得之有機EL面板上顯示白影像,使用TOPCON公司製造之分光放射計(商品名「SR-UL1R」)測定正面亮度。 (5)耐可撓性 將實施例及比較例中所獲得之圓偏光板切下長度150 mm×寬度20 mm之尺寸並作為評價用樣品。 於水平配置之直徑12 mm之心軸上,將上述評價用樣品以保護膜成外側之方式以於評價用樣品與心軸之間夾有直徑1 mm之金屬球之狀態懸掛,以於評價用樣品之兩端施加有共計300 g負載之狀態保持10秒鐘。其後,按以下基準評價圓偏光板之耐可撓性。 ○∙∙∙未發現圓偏光板異常。 ×∙∙∙保護膜產生破裂。
[實施例1] 1.偏光板之製作 一面藉由輥延伸機將厚度60 μm之聚乙烯醇膜(可樂麗製造,製品名「PE6000」)之長條輥以於長條方向成為5.9倍之方式於長條方向進行單軸延伸,一面同時實施膨潤、染色、交聯、洗淨處理,最後實施乾燥處理,藉此製作厚度22 μm之偏光元件。 具體而言,膨潤處理係於20℃之純水中一面進行處理,一面延伸至2.2倍。繼而,染色處理係於以所要製作之偏光膜之透過率成為43.0%之方式將碘濃度調整後之碘與碘化鉀之重量比為1:7之30℃水溶液中一面進行處理一面延伸至1.4倍。進而,交聯處理係採用2階段之交聯處理,第1階段之交聯處理於40℃之溶解有硼酸與碘化鉀之水溶液中一面進行處理一面延伸至1.2倍。第1階段之交聯處理之水溶液之硼酸含量設為5.0重量%,碘化鉀含量設為3.0重量%。第2階段之交聯處理於65℃之溶解有硼酸與碘化鉀之水溶液中一面進行處理一面延伸至1.6倍。第2階段之交聯處理之水溶液之硼酸含量設為4.3重量%,碘化鉀含量設為5.0重量%。又,洗淨處理於20℃之碘化鉀水溶液中進行處理。洗淨處理之水溶液之碘化鉀含量設為2.6重量%。最後,乾燥處理於70℃乾燥5分鐘而獲得偏光元件。 將於TAC膜之單面具有由低反射硬塗處理形成之硬塗(HC)層之低反射TAC膜(厚度:72 μm,大日本印刷股份有限公司製造,製品名「DSG-03HL」)經由聚乙烯醇系接著劑而貼合於所獲得之偏光元件之單面,獲得具有保護膜/偏光元件之構成之長條狀之偏光板。 2.黏著劑之製備 將丙烯酸丁酯94.9份、丙烯酸5份、丙烯酸2-羥乙基酯0.1份、及相對於單體(固形物成分)100份為0.3份之過氧化二苯甲醯與乙酸乙酯一起添加至具備冷卻管、氮氣導入管、溫度計及攪拌裝置之反應容器中,於氮氣氣流下,於60℃反應7小時後,向該反應液中添加乙酸乙酯,獲得重量平均分子量為220萬之含有丙烯酸系聚合物之溶液(固形物成分濃度為30重量%)。針對上述丙烯酸系聚合物溶液之固形物成分每100份調配0.6份之三羥甲基丙烷甲苯二異氰酸酯(日本聚氨酯股份有限公司製造,製品名「Coronate L」)、0.075份之γ-縮水甘油氧基丙基甲氧基矽烷(信越化學工業股份有限公司製造,製品名「KBM-403」)、及作為色素化合物之1重量份之FDR-003(山田化學工業股份有限公司製造,吸收光譜之最大吸收波長:702 nm,吸收半值寬:100 nm)並攪拌,藉此獲得含色素化合物之黏著劑。 將上述含色素化合物之黏著劑塗佈於由以矽酮系剝離劑進行表面處理後之聚酯膜構成之隔離膜上,於155℃加熱處理3分鐘而獲得厚度20 μm之黏著劑層。 3.相位差膜之製作 相對於異山梨酯81.98質量份,將三環癸烷二甲醇47.19質量份、碳酸二苯酯175.1質量份、及作為觸媒之碳酸銫0.2質量%、水溶液0.979質量份投入至反應容器,於氮氣氛圍下,作為反應之第1段之步驟,將加熱槽溫度加熱至150℃,且視需要一面攪拌,一面使原料溶解(約15分鐘)。 繼而,使壓力自常壓變為13.3 kPa,使加熱槽溫度以1小時上升至190℃,並且將所產生之酚萃取至反應容器外。將反應容器整體於190℃保持15分鐘之後,作為第2段之步驟,將反應容器內之壓力設為6.67 kPa,使加熱槽溫度以15分鐘上升至230℃,將所產生之酚萃取至反應容器外。由於攪拌機之攪拌力矩上升,故於8分鐘升溫至250℃,為去除進而產生之酚,使反應容器內之壓力達到0.200 kPa以下。達到特定之攪拌力矩之後,結束反應,將所生成之反應物擠出至水中,獲得聚碳酸酯共聚物之顆粒。 使用具備單軸擠出機(東芝機械機股份有限公司製造,螺桿直徑25 mm,汽缸設定溫度:220℃)、T型模頭(寬度300 mm,設定溫度:220℃)、冷卻輥(設定溫度:120~130℃)及捲繞機之film製膜裝置,將該聚碳酸酯樹脂進行製膜,獲得厚度60 μm之聚碳酸酯樹脂膜。 使用圖2所示之延伸裝置將上述聚碳酸酯樹脂膜進行傾斜延伸,藉此獲得相位差膜。預熱溫度、及延伸溫度設為140.5℃,式(1)中所示之傾斜延伸倍率設為3.0倍。延伸方向相對於膜之長度方向設為45°。繼而,於解除區域,於125℃將膜保持60秒鐘而進行熱固定。將經熱固定之膜冷卻至100℃之後,解除左右之夾具。所獲得之相位差膜之厚度為20 μm,Re(550)為125 nm,Re(450)/Re(550)為1.02。 4.圓偏光板及有機EL面板之製作 於相位差膜之一面,塗佈使用改性聚烯烴樹脂與PVA系樹脂調整後之易接著劑組合物並乾燥,藉此於相位差膜之表面形成易接著層(厚度:500 nm)。 將偏光板之偏光元件側之面經由以PVA系樹脂為主成分之水溶性接著劑貼合於相位差膜之易接著層形成面,藉此獲得圓偏光板。再者,偏光板與相位差膜係以偏光元件之吸收軸與相位差膜之遲相軸所成之角度成45°之方式而貼合。 將上述黏著劑層貼合於上述圓偏光板之相位差膜側之面。繼而,經由上述黏著劑層將上述圓偏光板貼合於有機EL顯示裝置(LG Display製造,製品名「55C7P」)之有機EL面板之視認側,藉此獲得實施例1之有機EL面板。 將所獲得之圓偏光板供上述(5)之評價。又,將所獲得之有機EL面板供上述(3)及(4)之評價。將結果示於表1。
[實施例2] 使用LABSTRETCHER(Bruckner公司製造,KARO IV)於延伸溫度137℃,將降𦯉烯系樹脂膜(日本ZEON股份有限公司製造,製品名「ZF-14」)以延伸倍率2.0倍進行自由端縱單軸延伸,獲得相位差膜。 所獲得之相位差膜之厚度為20 μm,面內相位差Re(550)為125 nm,Re(450)/Re(550)為1.01。 除使用該相位差膜外,以與實施例1相同之方式,製作圓偏光板及有機EL面板。將所獲得之圓偏光板及有機EL面板供與實施例1相同之評價。將結果示於表1。
[實施例3] 將厚度60 μm之聚碳酸酯樹脂膜於將預熱溫度及延伸溫度設定為140℃進行延伸,除此之外,以與實施例1相同之方式獲得相位差膜。所獲得之相位差膜之厚度為20 μm,Re(550)為130 nm,Re(450)/Re(550)為1.02。 又,調配0.5重量份之FDR-004(山田化學工業股份有限公司製造,吸收光譜之最大吸收波長:712 nm,吸收半值寬:36 nm)作為色素化合物,除此之外,以與實施例1相同之方式獲得黏著劑層。 除使用所獲得之相位差膜及黏著劑層外,以與實施例1相同之方式製作圓偏光板及有機EL面板。將所獲得之圓偏光板及有機EL面板供與實施例1相同之評價。將結果示於表1。
[實施例4] 將厚度75 μm之聚碳酸酯樹脂膜於將預熱溫度及延伸溫度設定為144.5℃進行延伸,除此之外,以與實施例1相同之方式獲得相位差膜。所獲得之相位差膜之厚度為25 μm,Re(550)為125 nm,Re(450)/Re(550)為1.02。 除使用所獲得之相位差膜外,以與實施例1相同之方式製作圓偏光板及有機EL面板。將所獲得之圓偏光板及有機EL面板供與實施例1相同之評價。將結果示於表1。
[實施例5] 將厚度60 μm之聚碳酸酯樹脂膜於將預熱溫度及延伸溫度設定為141.2℃進行延伸,除此之外,以與實施例1相同之方式獲得相位差膜。所獲得之相位差膜之厚度為20 μm,Re(550)為120 nm,Re(450)/Re(550)為1.02。 除使用所獲得之相位差膜外,以與實施例1相同之方式製作圓偏光板及有機EL面板。將所獲得之圓偏光板及有機EL面板供與實施例1相同之評價。將結果示於表1。
[比較例1] 使用包含具備攪拌翼及被控制為100℃之回流冷卻器之2個縱型反應器之批次式聚合裝置進行聚合。加入雙[9-(2-苯氧羰基乙基)茀-9-基]甲烷(化合物3)29.60質量份(0.046 mol)、ISB 29.21質量份(0.200 mol)、SPG 42.28質量份(0.139 mol)、DPC 63.77質量份(0.298 mol)及作為觸媒之乙酸鈣一水合物1.19×10-2 質量份(6.78×10-5 mol)。將反應器內以減壓氮氣取代之後,以熱媒進行加溫,於內溫成為100℃之時間點開始攪拌。於升溫開始40分鐘後使內溫達到220℃,於以保持該溫度之方式進行控制之同時開始減壓,於達到220℃後90分鐘成為13.3 kPa。將與聚合反應一起副產生之酚蒸氣引導至100℃之回流冷卻器,將酚蒸氣中包含若干量之單體成分返回至反應器,未冷凝之酚蒸氣被引導至45℃之冷凝器並回收。將氮氣導入至第1反應器且暫時複壓至大氣壓後,將第1反應器內之低聚物化之反應液轉移至第2反應器。繼而,開始第2反應器內之升溫及減壓,於50分鐘內溫為240℃,壓力為0.2 kPa。其後,進行聚合直至成為特定之攪拌動力。於達到特定動力之時間點將氮氣導入至反應器並複壓,將所生成之聚酯碳酸酯擠出至水中,切下線料而獲得顆粒。 將所獲得之聚碳酸酯樹脂於80℃真空乾燥5小時後,使用具備單軸擠出機(東芝機械公司製造,汽缸設定溫度:250℃)、T型模頭(寬度300 mm,設定溫度:250℃)、冷卻輥(設定溫度:120~130℃)及捲繞機之film製膜裝置,製作厚度135 μm之樹脂膜。 使用圖2所示之延伸裝置將上述聚碳酸酯樹脂膜進行傾斜延伸,藉此獲得相位差膜。將預熱溫度設為145℃、及將延伸溫度設為138℃,將式(1)所示之傾斜延伸倍率設為2.94倍。延伸方向相對於膜之長度方向設為45°。繼而,於解除區域,於125℃將膜保持60秒鐘而進行熱固定。將經熱固定之膜冷卻至100℃後,解除左右之夾具。所獲得之相位差膜之厚度為58 μm,Re(550)為144 nm,Re(450)/Re(550)為0.855。 又,除不將色素化合物調配至黏著劑組合物中之外,以與實施例1相同之方式獲得黏著劑層。 除使用所獲得之相位差膜及黏著劑層外,以與實施例1相同之方式製作圓偏光板及有機EL面板。將所獲得之圓偏光板及有機EL面板供與實施例1相同之評價。將結果示於表1。
[比較例2] 除不將色素化合物調配至黏著劑組合物中之外,以與實施例1相同之方式獲得黏著劑層。 除使用所獲得之黏著劑層外,以與實施例1相同之方式製作圓偏光板及有機EL面板。將所獲得之圓偏光板及有機EL面板供與實施例1相同之評價。將結果示於表1。
[比較例3] 調配0.3重量份之FDG-007(山田化學工業股份有限公司製造,吸收光譜之最大吸收波長:592 nm,吸收半值寬:29 nm)作為色素化合物,除此之外,以與實施例1相同之方式獲得黏著劑層。 除使用所獲得之黏著劑層外,以與實施例1相同之方式製作圓偏光板及有機EL面板。將所獲得之圓偏光板及有機EL面板供與實施例1相同之評價。將結果示於表1。
[表1]
Figure 108116164-A0304-0001
比較例之圓偏光板之耐可撓性較低,或反射色相中產生有不期望之色差。相對於此,實施例之圓偏光板之耐可撓性優異,且反射色相接近於中性。又,根據實施例之圓偏光板,與不含色素化合物之比較例1及2之圓偏光板相比,無需使有機EL面板之白亮度大幅降低而可實現上述優異之特性。 [產業上之可利用性]
本發明之圓偏光板可較佳地用於有機EL顯示裝置等影像顯示裝置。
10:偏光板 10L:左環形迴路 10R:右環形迴路 11:驅動用鏈輪 12:驅動用鏈輪 13:電動馬達 14:電動馬達 20:相位差層 30:黏著劑層 31:長孔 32:滑塊 33:第1軸構件 34:第2軸構件 35:主連結構件 36:副連結構件 37:樞軸 38:移行輪 70:基準軌道 81:移行路面 82:移行路面 90:間距設定軌道 100:圓偏光板 A:固持區域 B:預熱區域 C:第1傾斜延伸區域 D:第2傾斜延伸區域 E:解除區域 L1:距離 L1':距離 L2:距離 L2':距離 L3:距離 L3':距離 MD:縱方向 P1:夾具間距 P2:夾具間距 P3:夾具間距 v1:夾具移動速度 v1':夾具移動速度 v2:夾具移動速度 v2':夾具移動速度 v3:夾具移動速度 v3':夾具移動速度 W1:膜寬度 W2:膜寬度 W3:膜寬度 θ:角度
圖1係本發明之一實施形態之圓偏光板之概略剖視圖。 圖2係說明可用於相位差膜之製造之延伸裝置之一例之整體構成之概略俯視圖。 圖3係用以說明圖2之延伸裝置中使夾具間距變化之連結機構之要部概略俯視圖,表示夾具間距最小之狀態。 圖4係用以說明圖2之延伸裝置中使夾具間距變化之連結機構之要部概略俯視圖,表示夾具間距最大之狀態。 圖5係說明相位差膜之製造中之傾斜延伸之一實施形態之模式圖。 圖6係表示圖5所示之傾斜延伸時之延伸裝置之各區域與夾具間距之關係之曲線圖。 圖7係表示另一實施形態之傾斜延伸時之延伸裝置之各區域與夾具間距之關係之曲線圖。 圖8係說明相位差膜之製造中之傾斜延伸之另一實施形態之模式圖。 圖9係表示圖8所示之傾斜延伸時之延伸裝置之各區域與夾具間距之關係之曲線圖。 圖10係說明相位差膜之製造中之傾斜延伸與式(1)之關係之概略圖。 圖11係說明相位差膜之製造中之傾斜延伸之一實施形態之左右各自之夾具移動速度及式(1)之概略圖。 圖12係說明相位差膜之製造中之傾斜延伸之另一實施形態之左右各自之夾具移動速度及式(1)之概略圖。
10:偏光板
20:相位差層
30:黏著劑層
100:圓偏光板

Claims (10)

  1. 一種圓偏光板,其包含偏光元件、相位差層、及黏著劑層,上述偏光元件之吸收軸與上述相位差層之遲相軸所成之角度為39°~51°,上述偏光元件、上述相位差層、及上述黏著劑層之至少任一者包含吸收光譜之最大吸收波長存在於650nm以上之波長區域之色素化合物,上述相位差層之面內相位差滿足Re(450)/Re(550)>1,此處,Re(450)及Re(550)分別表示由23℃時之波長450nm及550nm之光測定所得之面內相位差。
  2. 如請求項1之圓偏光板,其中上述相位差層之面內相位差滿足1.1>Re(450)/Re(550)>1。
  3. 如請求項1或2之圓偏光板,其中上述相位差層之面內相位差滿足115nm≦Re(550)≦135nm,此處,Re(550)表示由23℃時之波長550nm之光測定所得之面內相位差。
  4. 如請求項1或2之圓偏光板,其中上述黏著劑層包含上述色素化合物。
  5. 如請求項3之圓偏光板,其中上述黏著劑層包含上述色素化合物。
  6. 如請求項1或2之圓偏光板,其中上述相位差層包含具有脂環式結構之相位差膜。
  7. 如請求項3之圓偏光板,其中上述相位差層包含具有脂環式結構之相位差膜。
  8. 如請求項4之圓偏光板,其中上述相位差層包含具有脂環式結構之相位差膜。
  9. 如請求項5之圓偏光板,其中上述相位差層包含具有脂環式結構之相位差膜。
  10. 一種影像顯示裝置,其具備如請求項1至9中至少任一項之圓偏光板。
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