TWI796380B - 導電性構件、觸控面板及顯示裝置 - Google Patents
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Abstract
本發明提供一種能夠減少疊紋之導電性構件、觸控面板及顯示裝
置。導電性構件4配置於複數個像素PE1以成為馬賽克排列或三角型排列之方式排列而成之顯示面板32上,具有透明絕緣基板5;及至少1個導電層6A,其具有配置於透明絕緣基板5上之複數個金屬細線MW1、MW2,從與透明絕緣基板5垂直之方向觀察之情況下,由複數個金屬細線MW1、MW2形成網格圖案MP3,網格圖案MP3由具有小於90度的2個銳角A1和大於90度的2個鈍角B1之複數個四邊形網格單元C3構成,銳角A1的角度為44度以上且54度以下。
Description
本發明涉及一種配置於複數個像素以成為馬賽克排列或三角型(delta)排列之方式排列而成之顯示面板上之導電性構件、具備該導電性構件之觸控面板及顯示裝置。
近年來,於以平板電腦及智能手機等可攜式咨詢設備為代表之各種電子設備中,可與液晶顯示裝置等顯示裝置組合使用,並藉由使手指、觸控筆接觸或靠近畫面來對電子設備進行輸入操作之觸控面板正在普及。
觸控面板通常具有形成有用於檢測由手指及觸控筆等進行之觸控操作之複數個檢測電極等之導電性構件。檢測電極通常由ITO(Indium Tin Oxide:氧化銦錫)等透明導電性氧化物形成,還由除了透明導電性氧化物以外的金屬形成。與透明導電性氧化物相比,金屬具有容易圖案化、彎曲性優異、電阻值更低等優點。具有使用金屬細線構成之導電性構件之觸控面板與使用透明導電性氧化物構成之習知之觸控面板相比,能夠降低電阻值及寄生容量的值,因此能夠提高對觸控操作的檢測靈敏度,從而備受矚目。
於將該種使用金屬細線構成之導電性構件配置於液晶顯示裝置等顯示面板上之情況下,通常在視覺上明顯地辨認由金屬細線與顯示面板的像素圖案之間的干涉產生之疊紋,因此,為了減少疊紋而進行了各種設
計。例如,於專利文獻1中,揭示了一種導電性構件,其於透明絕緣基板上形成由複數個金屬細線構成之菱形的網格圖案,並且該菱形的內角被設定為60度~120度。
[專利文獻1]日本特開2012-164648號公報
一直以來,於廣泛使用之液晶顯示裝置等顯示面板中,於排列之複數個像素的內部分別並列設置3個子像素,藉此以成為使相同的子像素以條紋狀排列、即以條紋排列之方式排列有複數個像素。專利文獻1中所揭示之導電性構件用於複數個像素以成為條紋排列之方式排列而成的顯示面板,從而減少疊紋。
然而,於近年來已經普及之有機EL(Electroluminescence,電致發光)顯示面板中,藉由於排列之複數個像素的內部配置成各3個子像素位於三角形的頂點,藉此以成為相同顏色的子像素沿傾斜方向排列、即以馬賽克排列或三角型排列之方式排列有複數個像素。對於該種顯示面板使用專利文獻1中所揭示之導電性構件時,存在明顯地可視覺辨認疊紋之問題。
本發明係為了解決該等習知之問題點而完成者,其目的在於,提供一種能夠對複數個像素以成為馬賽克排列及三角型排列之方式排列之顯示面板減少疊紋之導電性構件、觸控面板及顯示裝置。
本發明之導電性構件係配置於複數個像素以成為馬賽克排列或三角型排列之方式排列而成之顯示面板上之導電性構件,其特徵為,具有:
透明絕緣基板;及至少1個導電層,其配置於透明絕緣基板上且具有複數個金屬細線,從與透明絕緣基板垂直之方向觀察之情況下,由複數個金屬細線形成網格圖案,網格圖案由具有小於90度的2個銳角和大於90度的2個鈍角之複數個四邊形網格單元構成,銳角的角度為44度以上且54度以下。
此外、導電性構件中的銳角的角度係46度以上且50度以下為較佳。
又,導電性構件中的四邊形網格單元係菱形為較佳。
該菱形的1個邊的長度係168μm以上且248μm以下為較佳。
該菱形的1個邊的長度係168μm以上且192μm以下為進一步較佳。
又,導電性構件中的金屬細線的線寬係1μm以上且4μm以下為較佳。
能夠於透明絕緣基板上配置有2個導電層,2個導電層的複數個金屬細線彼此組合而形成網格圖案。
此外,2個導電層能夠分別以對置的方式配置於透明絕緣基板的兩個面上。
或者,2個導電層能夠配置成在透明絕緣基板的其中一個表面上彼此重疊。
此外,能夠於2個導電層之間具有層間透明絕緣層。
本發明之觸控面板係使用上述導電性構件之觸控面板。
又,本發明之顯示裝置的特徵為,具有:顯示面板,複數個像素以成為馬賽克排列或三角型排列之方式排列;及導電性構件,其具備透明絕緣基板、及配置於透明絕緣基板上且具有複數個金屬細線之至少1個導
電層,從與透明絕緣基板垂直之方向觀察時,由複數個金屬細線形成網格圖案,網格圖案由具有小於90度的2個銳角和大於90度的2個鈍角之複數個四邊形網格單元構成,銳角的角度為44度以上且54度以下。
此外,顯示裝置中的銳角的角度係46度以上且50度以下為較佳。
又,顯示裝置中的四邊形網格單元係菱形為較佳。
該菱形的1個邊的長度係168μm以上且248μm以下為較佳。
該菱形的1個邊的長度係168μm以上且192μm以下為進一步較佳。
又,顯示裝置中的金屬細線的線寬係1μm以上且4μm以下為較佳。
顯示裝置中的導電性構件能夠構成觸控面板。
顯示裝置中的複數個像素能夠由有機EL元件構成。
又,顯示裝置中的複數個像素的像素間距係40μm以上且110μm以下為較佳。
依本發明,當從與透明絕緣基板垂直之方向觀察時,由複數個金屬細線形成有網格圖案,網格圖案由具有小於90度的2個銳角和大於90度的2個鈍角之複數個四邊形網格單元構成,銳角的角度係44度以上且54度以下,藉此,能夠相對於複數個像素以成為馬賽克排列及三角型排列之方式排列之顯示面板減少疊紋。
1、41、43:觸控面板
1A:表面
1B:背面
2:覆蓋面板
3、45:黏接層
4:導電性構件
5、42:透明絕緣基板
5A:第1面
5B:第2面
6A:第1導電層
6B:第2導電層
7A、7B:保護層
8:層間透明絕緣層
11:第1電極墊
12:第1邊緣配線
13:第1外部連接端子
21:第2電極墊
22:第2邊緣配線
23:第2外部連接端子
31:顯示裝置
32:顯示面板
44A:第1透明絕緣基板
44B:第2透明絕緣基板
A1、A2、A3:銳角
B:藍色像素
B1、B2、B3:鈍角
C1:第1網格單元
C2:第2網格單元
C3:第3網格單元
D1:第1方向
D2:第2方向
E:排列軸
G:綠色像素
L1:排列間隔
LB1、LG1、LR1:橫寬
LB2、LG2、LR2:縱寬
MP1:第1網格圖案
MP2:第2網格圖案
MP3:第3網格圖案
MW1、MW2:金屬細線
P1:第1方向像素間距
P2:第2方向像素間距
PE1、PE2:像素
R:紅色像素
R0:區域
S1:輸入區域
S2:外側區域
SE1:第1檢測電極
SE2:第2檢測電極
圖1係本發明的實施形態之觸控面板的部分剖面圖。
圖2係本發明的實施形態之觸控面板的俯視圖。
圖3係本發明的實施形態中的第1導電層的部分放大俯視圖。
圖4係本發明的實施形態中的第2導電層的部分擴大俯視圖。
圖5係本發明的實施形態之導電性構件的部分放大俯視圖。
圖6係示意性地表示本發明的實施形態之顯示裝置之部分剖面圖。
圖7係表示本發明的實施形態中的顯示面板的子像素的排列的例之圖。
圖8係表示本發明的實施形態中的顯示面板的像素的例之圖。
圖9係本發明的實施形態的變形例之觸控面板的部分剖面圖。
圖10係本發明的實施形態的其他變形例之觸控面板的部分剖面圖。
以下,基於圖式所示之較佳的實施形態,詳細說明本發明之導電性構件。
包括“正交”及“平行”等之角度若沒有特別記載,則視為包含於技術領域中一般所容許之誤差範圍。
“透明”係指透光率在波長400~800nm的可見光波長區域中為至少40%以上,較佳為75%以上,更佳為80%以上,進一步較佳為90%以上。透光率係使用JIS K 7375:2008中規定之“塑膠--總光線透射率及總光線反射率的求法”測定者。
實施形態
圖1中示出本發明的實施形態之觸控面板1的結構。
觸控面板1具有表面1A和背面1B,並於背面1B側配置後述之顯示面板,從而構成顯示裝置。觸控面板1的表面1A係檢測觸控操作之觸控面,觸控面板1的操作者成為藉由觸控面板1觀察顯示裝置所顯示之圖像之視覺辨認側。
觸控面板1具有配置於表面1A側之透明的絕緣性覆蓋面板2,於與表面1A相反的一側的覆蓋面板2的表面上,經由透明的黏接層3接合有導電性構件4。
導電性構件4具有透明絕緣基板5,透明絕緣基板5具有朝向觸控面板1的表面1A側之第1面5A及朝向與第1面5A相反的一側之第2面5B。該第1面5A上形成有第1導電層6A,透明絕緣基板5的第2面5B上形成有第2導電層6B。如圖1所示,亦可以形成覆蓋第1導電層6A之透明保護層7A及覆蓋第2導電層6B之透明保護層7B。
圖2中示出在俯視下從視覺辨認側觀察觸控面板1之俯視圖。圖1係圖2中的A-A線剖面圖。又,圖2中,為了說明省略了覆蓋面板2、黏接層3、保護層7A及保護層7B。如圖2所示,觸控面板1的導電性構件4中劃分有用於檢測由手指及觸控筆進行觸控操作之輸入區域S1,並且劃分有位於輸入區域S1的外側之外側區域S2。
透明絕緣基板5的第1面5A上所形成之第1導電層6A具有在第1方向D1上隔開間隔並列配置且沿與第1方向D1正交之第2方向D2延伸之複數個第1檢測電極SE1。
又,第1導電層6A還具有分別與複數個第1檢測電極SE1的一端連接
之複數個第1電極墊11、分別與複數個第1電極墊11連接之複數個第1邊緣配線12、分別與複數個第1邊緣配線12連接且排列形成於透明絕緣基板5的第1面5A的邊緣部之複數個第1外部連接端子13。作為第1電極墊11的形狀,例如能夠使用日本特開2013-127657號公報中揭示之電極端子的形狀。
其中,第1檢測電極SE1亦可以於第1邊緣配線12未經由第1電極墊11電連接之端部具備與第1電極墊11相同的電極墊。該電極墊還能夠用作連接第1邊緣配線12之端子,又,還能夠用作第1檢測電極SE1的導通檢查用端子。
透明絕緣基板5的第2面5B上所形成之第2導電層6B具有於第2方向D2上隔開間隔並列配置且沿第1方向D1延伸之複數個第2檢測電極SE2。
如圖2所示,複數個第2檢測電極SE2從視覺辨認側觀察時,於輸入區域S1配置成與複數個第1檢測電極SE1交叉且重疊。
又,第2導電層6B還具有分別與複數個第2檢測電極SE2的一端連接之複數個第2電極墊21、分別與複數個第2電極墊21連接之複數個第2邊緣配線22、及分別與複數個第2邊緣配線22連接且排列形成於透明絕緣基板5的第2面5B的邊緣部之複數個第2外部連接端子23。
其中,第2檢測電極SE2亦可以於第2邊緣配線22未經由第2電極墊21電連接之端部具備與第2電極墊21相同的電極墊。該電極墊還能夠用作連接第2邊緣配線22之端子,又,還能夠用作第2檢測電極SE2的導通檢查用端子。作為第2電極墊21的形狀,與第1電極墊11同樣地能夠使用
例如日本特開2013-127657號公報所揭示之電極端子的形狀。
圖3中示出於作為第1檢測電極SE1與第2檢測電極SE2重疊之部分之區域R0,在俯視下,從視覺辨認側僅觀察第1導電層6A之部分俯視圖。如圖3所示,第1檢測電極SE1由複數個金屬細線MW1構成,並由複數個金屬細線MW1形成第1網格圖案MP1。第1網格圖案MP1將具有2個銳角A1及2個鈍角B1之菱形的第1網格單元C1作為重複單元。
又,金屬細線MW1的線寬為0.5μm以上且10μm以下,1μm以上且4μm以下為較佳。藉由將金屬細線MW1的線寬設定在該等範圍,當從視覺辨認側觀察導電性構件4時,能夠防止金屬細線MW1被明顯地視覺辨認。
圖4中於區域R0示出在俯視下從視覺辨認側僅觀察第2導電層6B之部分俯視圖。如圖4所示,第2檢測電極SE2由複數個金屬細線MW2構成,並由複數個金屬細線MW2形成第2網格圖案MP2。第2網格圖案MP2將具有2個銳角A2及2個鈍角B2之菱形的第2網格單元C2作為重複單元。其中,第2網格單元C2的2個銳角A2的角度與第1網格單元C1的2個銳角A1的角度相同,第2網格單元C2的2個鈍角B2與第1網格單元C1的2個鈍角B1相同。此外,金屬細線MW2的線寬與金屬細線MW1的線寬同樣地為0.5μm以上且10μm以下,1μm以上且4μm以下為較佳。
又,為了說明,圖4中,構成第2檢測電極SE2之金屬細線MW2以虛線來描繪,但實際上為連續之金屬細線。
於圖5中示出將實施形態的導電性構件4於區域R0中以俯視從
視覺辨認側進行了觀察、亦即從與透明絕緣基板5垂直之方向觀察之部分俯視圖。如圖5所示,於導電性構件4中,第1檢測電極SE1與第2檢測電極SE2彼此組合、亦即第1網格圖案MP1與第2網格圖案MP2彼此組合而形成有第3網格圖案MP3。第3網格圖案MP3由具有2個銳角A3及2個鈍角B3之菱形的第3網格單元C3構成。
其中,圖5中,第1網格圖案MP1和第2網格圖案MP2在第1方向D1上彼此錯開配置,以使菱形的第1網格單元C1的頂點與菱形的第2網格單元C2的重心一致、亦即以使第1網格單元C1的邊的中點與第2網格單元C2的中點一致。因此,第3網格單元C3中,1個邊具有第1網格單元C1的1個邊及第2網格單元C2的1個邊的一半的長度,並具有與第1網格單元C1及第2網格單元C2彼此類似的形狀。
因此,圖5所示之實施形態中的第3網格單元C3的2個銳角A3的角度與第1網格單元C1的銳角A1的角度相同,第3網格單元C3的2個鈍角B3的角度與第1網格單元C1的鈍角B1的角度彼此相同。
於本發明中,藉由將第3網格單元C3的銳角A3的角度設為44度以上且54度以下、更佳為設為46度以上且50度以下,能夠相對於複數個像素以成為馬賽克排列或三角型排列之方式排列而成之顯示面板減少疊紋。本發明人等進行了表示該種結果之實驗,但關於其實驗結果於後面進行詳述。
又,於本發明中,馬賽克排列或三角型排列係指,於排列之複數個像素的內部配置成使3個子像素分別位於三角形的頂點,藉此相同顏色的子像素沿傾斜方向並列之排列。關於該馬賽克排列或三角型排列於後面
進行詳述。
又,第3網格單元C3的1個邊的長度係168μm以上且248μm以下為較佳,168μm以上且192μm以下為更佳。藉由將第3網格單元C3的1個邊的長度設定在該等範圍,如後述之實驗結果所示,能夠相對於複數個像素以成為馬賽克排列或三角型排列之方式排列之顯示面板減少疊紋。
接著,一邊參閱圖6~圖8所示之例子一邊對配置有實施形態的觸控面板1及導電性構件4之顯示面板進行說明。如圖6中示意性地表示,本發明的實施形態的顯示裝置31藉由於顯示面板32上配置觸控面板1而構成。此時,觸控面板1配置於顯示面板32上,以使觸控面板1的背面1B與顯示面板32相對。如圖7所示,配置有本發明的實施形態的觸控面板1之顯示面板32作為子像素具有複數個紅色像素R、綠色像素G及藍色像素B。
複數個紅色像素R、綠色像素G及藍色像素B沿第2方向D2以紅色像素R、綠色像素G、藍色像素B的順序重複排列,如此排列之子像素的列在第1方向D1上按每一排列間隔L1配置。此外,複數個紅色像素R、綠色像素G及藍色像素B在第1方向D1上彼此相鄰之列中,配置於沿第2方向D2彼此偏移的位置。藉此,相同顏色的複數個子像素亦即複數個紅色像素R、複數個綠色像素G、複數個藍色像素B分別沿著與相對於第1方向D1及第2方向D2傾斜之排列軸E平行的方向排列。本發明中,將該種複數個子像素的排列稱為馬賽克排列或三角型排列。複數個像素由有機EL元件構成之、所謂有機EL顯示面板中,以成為馬賽克排列或三角型排列之方式排列有複數個像素。
又,該種馬賽克排列或三角型排列中,如圖8所示,構成有2種像素PE1及PE2。像素PE1和像素PE2具有彼此相同的尺寸和形狀且具有彼此旋轉180度之朝向。又,第1方向D1上,相同的像素PE1或PE2並排配置以便彼此相鄰,第2方向D2上,像素PE1及像素PE2交替並排配置。
如圖8所示,該等像素PE1及PE2具有紅色像素R、綠色像素G及藍色像素B這3個子像素。具體而言,像素PE1及像素PE2分別具有於第2方向D2上彼此相鄰之紅色像素R及綠色像素G、及與其紅色像素R及綠色像素G於第1方向D1上彼此相鄰之藍色像素B。
其中,作為像素PE1及像素PE2的像素間距,確定沿第1方向D1之第1方向像素間距P1及沿第2方向D2之第2方向像素間距P2。於圖8所示之例子中,第1方向像素間距P1為第1方向D1上的相同的子像素的排列間距,第2方向像素間距P2為第2方向D2上的相同子像素的排列間距。第1方向像素間距P1係彼此相鄰之子像素的排列間隔L1的2倍。
又,第1方向像素間距P1及第2方向像素間距P2係40μm以上且110μm以下為較佳。若第1方向像素間距P1及第2方向像素間距P2設定為該範圍內的值,則能夠進一步減少由於本發明的觸控面板1及導電性構件4中所形成之第3網格圖案MP3與顯示面板32所包含之像素的圖案的干涉產生之疊紋。
又,於圖8所示的例子中,紅色像素R於第1方向D1上具有橫寬LR1,於第2方向D2上具有縱寬LR2,綠色像素G於第1方向D1上具有橫寬LG1,於第2方向D2上具有縱寬LG2,藍色像素B於第1方向D1
上具有橫寬LB1,於第2方向D2上具有縱寬LB2。
如以上,藉由實施形態的觸控面板1及導電性構件4,能夠相對於複數個像素以成為馬賽克排列或三角型排列之方式排列之顯示面板減少疊紋。尤其,如圖5和圖7所示,為了使第3網格單元C3的銳角A3的朝向(沿銳角A3的二等分線之方向;圖5中的第2方向D2)與顯示面板32上複數個子像素以紅色像素R、綠色像素G、藍色像素B的順序排列之方向(圖7中的第2方向D2)一致,將導電性構件4配置於顯示面板32上能夠進一步有效地減少疊紋,故較佳。
另外,於本發明的實施形態中,第1導電層6A與第2導電層6B彼此重疊而形成之第3網格圖案MP3由複數個菱形的第3網格單元C3構成,第3網格單元C3若為具有小於90度的2個銳角A3和大於90度的2個鈍角B3且2個銳角A3的角度為44度以上且54度以下的四邊形,則並不限定於菱形。即使第3網格單元C3為該種四邊形時,能夠相對於複數個像素以成為馬賽克排列或三角型排列之方式排列而成的顯示面板減少疊紋。但是,第3網格單元C3為菱形的情況能夠有效地減少疊紋,故較佳。尤其,第3網格單元C3為菱形,如圖5和圖7所示,為了使第3網格單元C3的銳角A3的朝向(圖5中的第2方向D2)與顯示面板32上複數個子像素以紅色像素R、綠色像素G、藍色像素B的順序重複的方式排列之方向(圖7中的第2方向D2)一致,將導電性構件4配置於顯示面板32上能夠最大限度減少疊紋,故為更佳。
又,本發明的實施形態中,構成第1網格圖案MP1之第1網格單元C1的2個銳角A1的角度和構成第2網格圖案MP2之第2網格單元C
2的2個銳角A2的角度彼此相同,若構成第3網格圖案MP3之第3網格單元C3的2個銳角A3的角度成為44度以上且54度以下,則第1網格單元C1的2個銳角A1的角度與第2網格單元C2的2個銳角A2的角度可以彼此不同。
又,第3網格單元C3具有小於90度的2個銳角和大於90度的2個鈍角且2個銳角的角度為44度以上且54度以下的四邊形,則於第1檢測電極SE1中由金屬細線MW1形成之圖案及於第2檢測電極SE2中由金屬細線MW2形成之圖案並不限定於菱形的網格圖案。於該種情況下,例如,雖未圖示,於第1檢測電極SE1中由金屬細線MW1形成之圖案及於第2檢測電極SE2中由金屬細線MW2形成之圖案能夠設計成為由除了複數個菱形以外的四邊形的網格單元構成之網格圖案。
又,雖未圖示,此時,於第1網格單元C1及第2網格單元C2的內部分別設置由金屬細線構成之電極內虛設圖案部,還能夠由第1網格單元C1、第2網格單元C2及分別設置於第1網格單元C1和第2網格單元C2的內部之電極內虛設圖案部構成第3網格單元C3。
例如,雖未圖示,設置於第1網格單元C1的內部之第1電極內虛設圖案部能夠由金屬細線構成,該金屬細線藉由相對於構成第1網格單元C1之金屬細線MW1隔開間隔配置而與金屬細線MW1絕緣且配置成與第1網格單元C1的邊平行。又,例如,雖未圖示,設置於第2網格單元C2的內部之第2電極內虛設圖案部能夠由金屬細線構成,該金屬細線藉由相對於構成第2網格單元C2之金屬細線MW2隔開間隔配置而與金屬細線MW2絕緣且配置成與第2網格單元C2的邊平行。藉此,藉由第1網格單元
C1、第1電極內虛設圖案部、第2網格單元C2、第2電極內虛設圖案部,以形成具有小於90度的2個銳角和大於90度的2個鈍角且2個銳角的角度為44度以上且54度以下的四邊形的第3網格單元C3之方式構成第1電極內虛設圖案部及第2電極內虛設圖案部。
又,若第3網格單元C3具有小於90度的2個銳角和大於90度的2個鈍角且成為2個銳角的角度為44度以上且54度以下的四邊形,則於第1檢測電極SE1及第2檢測電極SE2中,可分別未形成網格圖案。於該種情況下,例如,金屬細線MW1及金屬細線MW2分別均能夠設計成為沿第1方向D1及第2方向D2延伸之複數個波浪線狀的圖案或複數個彎曲線狀的圖案。該種圖案的例子揭示於日本特開2016-126731號公報中。
又,雖未圖示,還能夠於第1方向D1上並列配置之複數個第1檢測電極SE1之間及第2方向D2上並列配置之複數個第2檢測電極SE2之間分別配置與複數個第1檢測電極SE1及複數個第2檢測電極SE2絕緣之虛擬電極。
該情況下,配置於第1導電層6A之虛擬電極與第1檢測電極SE1隔著間隔而配置,藉此與第1檢測電極SE1絕緣。又,配置於第1導電層6A之虛擬電極以與第1檢測電極SE1相同的方式藉由金屬細線MW1構成且在第1檢測電極SE1中形成有與藉由金屬細線MW1形成之圖案相同的圖案為較佳。又,配置於第2導電層6B之虛擬電極與第2檢測電極SE2隔著間隔而配置,藉此與第2檢測電極SE2絕緣。又,配置於第2導電層6B之虛擬電極以與第2檢測電極SE2相同的方式藉由金屬細線MW2構成且在第2檢測電極SE2中形成有與藉由金屬細線MW2形成之圖案相同的
圖案為較佳。藉此,將導電性構件4配置於顯示面板32上時,能夠防止複數個第1檢測電極SE1之間的間隙及複數個第2檢測電極SE2之間的間隙明顯而被視覺辨認。另外,亦可以配置於虛擬電極內之金屬細線設置有斷線部。虛擬電極與第1檢測電極SE1之間的間隔、虛擬電極與第2檢測電極SE2之間的間隔、設置於虛擬電極之斷線部的長度分別係5μm以上且20μm以下為較佳。
又,在實施形態中,導電性構件4具有第1導電層6A及第2導電層6B,第1導電層6A及第2導電層6B彼此重疊,藉此形成有第3網格圖案MP3,但是從視覺辨認側觀察透明絕緣基板5之情況下,只要形成有將具有小於90度的2個銳角及大於90度的2個鈍角且2個銳角的角度係44度以上且54度以下的四邊形作為網格單元而構成之網格圖案,則導電性構件4並不限定於具有2個導電層。例如,第1導電層6A中的第1網格圖案MP1藉由具有小於90度的2個銳角及大於90度的2個鈍角且2個銳角的角度係44度以上且54度以下的四邊形網格單元構成之情況下,導電性構件4能夠僅具有第1導電層6A而作為導電層。作為僅由第1導電層6A構成之觸控面板,例如在日本特開2015-106240號公報中被揭示。
又,在本發明的實施形態中,第1導電層6A形成於透明絕緣基板5的第1面5A上、第2導電層6B形成於透明絕緣基板5的第2面5B之上亦即2個導電層6A及6B分別彼此對向而配置於透明絕緣基板5的兩個面上,但是只要第1導電層6A及第2導電層6B彼此絕緣,則並不限定於該態樣。
圖9中示出本發明的實施形態的變形例之觸控面板41的部分剖
面圖。圖9所示之例中,在由強化玻璃構成之透明絕緣基板42上形成有第1導電層6A,並以覆蓋第1導電層6A的方式形成有層間透明絕緣層8。進而,在層間透明絕緣層8上形成有第2導電層6B,以如覆蓋第2導電層6B的方式形成有保護層7B。亦即,以2個導電層6A及6B彼此在透明絕緣基板42中的其中一個面上重疊的方式配置。該情況下,覆蓋第1導電層6A之層間透明絕緣層8介於第1導電層6A與第2導電層6B之間,第1導電層6A與第2導電層6B因層間透明絕緣層8的存在而彼此被絕緣。又,圖9所示之變形例中,透明絕緣基板42能夠用作示於圖1之覆蓋面板2。又,雖未圖示,但是在透明絕緣基板42與第1導電層6A之間亦可以具有透明絕緣層。
又,圖10中示出本發明的實施形態的另一變形例之觸控面板43的部分剖面圖。圖10所示之變形例中,在第1透明絕緣基板44A上形成有第1導電層6A,並以覆蓋第1導電層6A的方式形成有保護層7A。又,在第2透明絕緣基板44B上形成有第2導電層6B,並以覆蓋第2導電層6B的方式形成有保護層7B。進而,形成於第1透明絕緣基板44A上之保護層7A與第2透明絕緣基板44B經由透明的黏接層45彼此黏接。該情況下,覆蓋第1導電層6A之保護層7A、黏接層45及第2透明絕緣基板44B介於第1導電層6A與第2導電層6B之間,第1導電層6A與第2導電層6B因保護層7A、黏接層45及第2透明絕緣基板44B的存在而彼此被絕緣。又,圖10所示之變形例中,第1透明絕緣基板44A能夠用作示於圖1之覆蓋面板2。
另外,本發明的導電性構件並不限定於圖9及圖10所示之態樣,為第
1導電層6A與第2導電層6B彼此被絕緣之結構即可。
又,第3網格圖案MP3藉由包括定型的常規圖案之網格構成,但是並不限定於此,亦可以藉由包括不規則的圖案之網格構成。該情況下,構成第3網格圖案MP3之第3網格單元C3相對於第3網格單元C3的一邊的長度的平均值,能夠設為具有-10%~+10%的不規則的一邊的長度之四邊形網格單元。如上所述,將第3網格單元C3設為隨機的形狀,藉此將觸控面板1或導電性構件4配置於顯示面板32上時,能夠減少疊紋,進而減少色噪。
又,該等情況下,算出複數個第3網格單元C3的邊的長度的平均值時,能夠相對於配置於具有預設之面積之區域內之第3網格單元C3計算出一邊的長度的平均值。例如,能夠相對於配置於10mm×10mm的區域內之複數個網格單元計算出一邊的長度的平均值。
除了上述以外,作為不規則的圖案的例,能夠使用日本特開2013-214545號公報、日本特開2015-143978號公報中所揭示之網格圖案。
以下,對構成實施形態的導電性構件4之各構件進行說明。
<透明絕緣基板>
透明絕緣基板5透明且具有電絕緣性,只要能夠支撐第1導電層6A及第2導電層6B,則並無特別限定,但是作為構成透明絕緣基板5之材料,例如能夠使用玻璃、強化玻璃、無鹼玻璃、聚對酞酸乙二酯(PET:polyethylene terephthalate)、聚萘二甲酸乙二酯(PEN:polyethylene naphthalate)、環烯烴聚合物(COP:cyclo-olefin polymer)、環狀烯烴/共聚物(COC:cyclic olefin copolymer)、聚碳酸酯(PC:polycarbonate)、丙烯酸樹脂、聚
乙烯(PE:polyethylene)、聚丙烯(PP:polypropylene)、聚苯乙烯(PS:polystylene)、聚氯乙烯(PVC:polyvinyl chloride)、聚偏二氯乙烯(PVDC:polyvinylidene chloride)、三乙醯纖維素(TAC:cellulose triacetate)等。透明絕緣基板5的厚度例如係20μm~1000μm,尤其係30μm~100μm為較佳。透明絕緣基板5的總光線透射率係40%~100%為較佳。關於總透光率,例如使用JIS K 7375:2008中所規定之“塑膠一總光線透射率及總光線反射率的求出方法”來測定。
<金屬細線>
形成第1檢測電極SE1之金屬細線MW1及形成第2檢測電極SE2之金屬細線MW2係線寬0.5μm以上且10μm以下的金屬細線。該等金屬細線的進一步較佳的線寬係1μm以上且4μm以下。作為金屬細線的較佳的材料具有銀、銅、鋁、金、鉬、鉻等,能夠使用該些合金、氧化物或該些積層體。尤其從電阻值的觀點考慮,銀或銅為較佳,例如能夠使用鉬/鋁/鉬、鉬/銅/鉬、氧化銅/銅/氧化銅等積層構成的金屬細線。
金屬細線MW1及金屬細線MW2的膜厚係0.05μm以上且10μm以下,較佳為0.1μm以上且1μm以下。以改善金屬細線的可見性為目的,在金屬細線上或者金屬細線、透明絕緣基板5與金屬細線之間亦可以設置黑化層。作為黑化層,能夠使用氧化銅、氧化鉬等。
<保護層>
作為分別覆蓋金屬細線MW1及MW2之透明的保護層7A及7B,能夠使用明膠、丙烯酸樹脂、聚胺酯樹脂等有機膜及二氧化矽等無機膜,膜厚係0.01μm以上且10μm以下為較佳。
又,依據需要,在保護層上可以形成透明塗層。作為透明塗層,可使用丙烯酸樹脂、聚胺酯樹脂等有機膜,膜厚係1μm以上且100μm以下為較佳。
又,依據需要能夠在實施形態的導電性構件4追加設置以下的層。
<邊緣配線絕緣膜>
以防止邊緣配線之間的短路及邊緣配線的腐蝕為目的,在圖2所示之第1邊緣配線12、第2邊緣配線22上亦可以形成邊緣配線絕緣膜。作為邊緣配線絕緣膜,可使用丙烯酸樹脂、聚胺酯樹脂等有機膜,膜厚係1μm以上且30μm以下為較佳。邊緣配線絕緣膜亦可以僅形成於第1邊緣配線12、第2邊緣配線22中的任一處。
<底塗層>
為了強化密接性,在透明絕緣基板5與第1導電層6A或透明絕緣基板5與第2導電層6B之間亦可以設置底塗層。作為底塗層,能夠使用明膠、丙烯酸樹脂、聚胺酯樹脂、聚酯樹脂等有機膜及二氧化矽等無機膜,膜厚係0.01μm以上且10μm以下為較佳。
<平坦化層>
為了使透明絕緣基板5的表面平坦化,在透明絕緣基板5與第1導電層6A或透明絕緣基板5與第2導電層6B之間亦可以設置平坦化層。作為平坦化層,能夠使用丙烯酸樹脂、聚胺酯樹脂、聚酯樹脂等有機膜,膜厚係0.01μm以上且10μm以下為較佳。尤其,在透明絕緣基板5設置未圖示的加飾層之情況下,設置平坦化層為較佳。
<圓偏振片或偏振片>
又,圖1所示之觸控面板1的構成中,在覆蓋面板2與導電性構件4之間亦可以設置圓偏振片或偏振片。
另外,本發明的導電性構件4係導電性片形狀為較佳。該片形狀可以為薄膜形狀。又,本發明的導電性構件4用於觸控感測器為較佳,觸控感測器用於觸控面板為較佳。
以下依據實施例進而對本發明進行詳細說明。以下的實施例所示之材料、使用量、比例、處理內容、處理順序等在不脫離本發明的趣旨的情況下,能夠適當變更,不應藉由以下的實施例來限定地解釋本發明的範圍。
首先,對製作本發明的導電性構件4之方法進行具體說明。
(鹵化銀乳劑的製備)
向溫度38℃、pH(potential of hydrogen)4.5中保持之下述1液,攪拌的同時經20分鐘加入下述2液及3液的分別相當於90%之量,形成了0.16μm的核粒子。接著,經8分鐘加入下述4液及5液,進而經2分鐘加入下述2液及3液的剩餘的10%的量,使其成長到0.21μm。進而,加入碘化鉀0.15g,熟成5分鐘結束了粒子形成。
之後,依據常規方法,藉由絮凝法進行了水洗。具體而言,將溫度降低到35℃,加入3升的蒸餾水,使用硫酸降低pH直至鹵化銀沉降(pH係3.6±0.2的範圍)。接著,去除了約3升的上清液(第一水洗)。進而,加入3升蒸餾水之後,加入硫酸直至鹵化銀沉降。繼續去除了3升的上清液(第二水洗)。與第二水洗相同地,還反覆1次操作(第三水洗),結束了水洗/脫鹽步驟。將水洗/脫鹽之後的乳劑調整為pH6.4、pAg7.5,加入明膠3.9g、苯硫代磺酸鈉10mg、苯硫代亞磺酸鈉3mg、硫代硫酸鈉15mg及氯化金酸10mg,在55℃下施加化學增感以得到最佳靈敏度,作為穩定劑加入了1,3,3a,7-四氮茚100mg,作為防腐劑加入了PROXEL(產品名、ICI Co.,Ltd.製)100mg。最終得到之乳劑係包含0.08莫耳%的碘化銀、將氯溴化銀的比率設為氯化銀70莫耳%、溴化銀30莫耳%之平均粒徑0.22μm、變動係數9%的碘氯溴化銀立方體粒子乳劑。
(感光性層形成用組成物的製備)
向上述乳劑添加1,3,3a,7-四氮茚1.2×10-4莫耳/莫耳Ag、氫醌1.2×10-2莫耳/莫耳Ag、檸檬酸3.0×10-4莫耳/莫耳Ag、2,4-二氯-6-羥基-1,3,5-三鈉鹽0.90g/莫耳Ag、微量硬膜劑,使用檸檬酸將塗佈液的pH調整為5.6。
相對於含有之明膠,以由(P-1)表示之聚合物與含有包括二烷基苯基PEO硫酸酯之分散劑之聚合物膠乳(分散劑/聚合物的質量比係2.0/100=0.02)成為聚合物/明膠(質量比)=0.5/1的方式,向上述塗佈液進行了添加。
另外,作為交聯劑,添加了EPOXY RESIN DY 022(產品名:Nagase Chemtex Corporation製)。另外,以後面敘述之感光性層中的交聯劑的量成為0.09g/m2的方式,調整了交聯劑的添加量。
如上所述,製備了感光性層形成用組成物。
另外,參考日本專利第3305459號及日本專利第3754745號來合成了由上述(P-1)表示之聚合物。
(感光性層形成步驟)
在透明絕緣基板的兩個面塗佈上述聚合物膠乳,設置有厚度0.05μm的底塗層。在透明絕緣基板使用了38μm的聚對酞酸乙二酯薄膜(FUJIFILM Co.,Ltd.製)。
接著,在底塗層上設置有包括上述聚合物膠乳及明膠及光學濃度係約1.0且藉由顯影液的鹼進行脫色之染料的混合物之防光暈層。另外,聚合物與明膠的混合質量比(聚合物/明膠)係2/1,聚合物的含量係0.65g/m2。
在上述防光暈層上塗佈上述感光性層形成用組成物,進而以明膠量成為0.08g/m2的方式塗佈以固體成分質量比(聚合物/明膠/EPOCROS K-2020E/SNOWTEX C(註冊商標))1/1/0.3/2計混合有上述聚合物膠乳、明膠、EPOCROS K-2020E(產品名:NIPPON SHOKUBAI CO.,LTD.製、噁唑啉系交聯反應性聚合物膠乳(交聯性基:噁唑啉基))、SNOWTEX C(註冊商標、產品名:Nissan Chemical Industries,LTD.製、膠體二氧化矽)之組成
物,從而得到了在兩個面形成有感光性層之支撐體。將在兩個面形成有感光性層之支撐體設為薄膜A。所形成之感光性層的銀量係6.2g/m2、明膠量係1.0g/m2。
(曝光顯影步驟)
分別準備了例如具有如圖3所示之圖案之第1檢測電極形成用第1光罩及具有如圖4所示之圖案之第2檢測電極形成用第2光罩,在上述薄膜A的兩個面分別配置第1光罩及第2光罩,使用將高壓水銀燈作為光源之平行光進行了兩個面同時曝光。
曝光後,藉由下述顯影液進行顯影,還使用固定液(產品名:CN16X用N3X-R、FUJIFILM Co.,Ltd.製)進行了顯影處理。另外,藉由純水進行沖洗並使其乾燥,藉此得到了在兩個面形成有由Ag(銀)構成之金屬細線及明膠層之支撐體。明膠層形成於金屬細線間。將所得到之薄膜設為薄膜B。
(顯影液的組成)
在顯影液1升(L)中包含以下化合物。
(明膠分解處理)
對薄膜B,進行了與蛋白質分解酵素(Nagase Chemtex Corporation製Bioplase AL-15FG)的水溶液(蛋白質分解酵素的濃度:0.5質量%、液溫:40℃)的浸漬120秒鐘。從水溶液取出薄膜B,在溫水(液溫:50℃)浸漬120秒鐘,並進行了清洗。將明膠分解處理後的薄膜設為薄膜C。
<低電阻化處理>
對上述薄膜C,使用由金屬製輥構成之砑光裝置,以30kN的壓力進行了砑光處理。此時,以該等粗面與上述薄膜C的表面及背面對準的方式一同輸送藉由線粗糙度Ra=0.2μm、Sm=1.9μm(KEYENCE CORPORATION製形狀解析雷射顯微鏡VK-X110測量(JIS-B-0601-1994))的具有粗面形狀之聚對酞酸乙二酯薄膜2片,在上述薄膜C的表面及背面轉印形成有粗面形狀。
上述砑光處理後,經120秒鐘通過溫度150℃的過熱蒸氣槽,進行了加熱處理。將加熱處理後的薄膜設為薄膜D。該薄膜D係導電性構件。
<觸控面板的製作>
藉由以上方法,製作了包含具有與圖3所示之實施形態中的第1檢測電極SE1相同的形狀之第1檢測電極及具有與圖4所示之實施形態中的第2檢測電極SE2相同的形狀之第2檢測電極之導電性構件。此時,第1檢測電極及第2檢測電極具有藉由金屬細線形成之菱形網格形狀,金屬細線的線寬設為4.0μm。另外,在第1檢測電極間及第2檢測電極間配置了具有與藉由線寬4.0μm的金屬細線形成之檢測電極相同形狀的菱形網格形狀之虛擬電極。又,為了評價,使彼此組合第1檢測電極及第2檢測電極而形成之網格圖案中的菱形網格單元的銳角的角度與菱形網格單元的1個邊的
長度發生變化,從而製作了複數個導電性構件。
另外,使用由3M公司製8146-4(製品編號)構成之厚度75μm的光學透明黏著片材,分別將所製作之複數個導電性構件與由厚度1.1mm的強化玻璃構成之覆蓋面板接合,藉此製作了複數個觸控面板。
接著,對實施例1~實施例6及比較例1~比較例5進行了說明。實施例1~實施例6及比較例1~比較例5中,係具有與圖1~圖5所示之本發明的實施形態的觸控面板1相同的構成之觸控面板,各自的菱形第3網格單元C3的銳角A3的角度不同。又,實施例1~實施例6及比較例1~比較例5中,分別包含使第3網格單元C3的1個邊的長度發生變化而作成之複數個樣品,將各自的樣品中的第3網格單元C3的1個邊的長度設為160μm、168μm、176μm、184μm、192μm、200μm、208μm、216μm、220μm、228μm、232μm、240μm、248μm及252μm。
(實施例1)
實施例1中,係具有與圖1~圖5所示之本發明的實施形態的觸控面板1相同的構成之觸控面板,將菱形第3網格單元C3的銳角A3的角度設為44度。
(實施例2)
實施例2中,將菱形第3網格單元C3的銳角A3的角度設為46度,除此以外與實施例1相同。
(實施例3)
實施例3中,將菱形第3網格單元C3的銳角A3的角度設為48度,除此以外與實施例1相同。
(實施例4)
實施例4中,將菱形第3網格單元C3的銳角A3的角度設為50度,除此以外與實施例1相同。
(實施例5)
實施例5中,將菱形第3網格單元C3的銳角A3的角度設為52度,除此以外與實施例1相同。
(實施例6)
實施例6中,將菱形第3網格單元C3的銳角A3的角度設為54度,除此以外與實施例1相同。
(比較例1)
比較例1中,將菱形第3網格單元C3的銳角A3的角度設為40度,除此以外與實施例1相同。
(比較例2)
比較例2中,將菱形第3網格單元C3的銳角A3的角度設為42度,除此以外與實施例1相同。
(比較例3)
比較例3中,將菱形第3網格單元C3的銳角A3的角度設為56度,除此以外與實施例1相同。
(比較例4)
比較例4中,將菱形第3網格單元C3的銳角A3的角度設為58度,除此以外與實施例1相同。
(比較例5)
比較例5中,將菱形第3網格單元C3的銳角A3的角度設為60度,除此以外與實施例1相同。
<疊紋評價>
以成為圖7及圖8所示之馬賽克排列或三角型排列的方式,將實施例1~實施例6及比較例1~比較例5的觸控面板配置於排列有複數個像素之有機EL顯示面板上,在從觸控面板的表面遠離5cm之位置,藉由10位觀察人員的肉眼觀察,評價了疊紋是否被視覺辨認。另外,以第3網格單元C3的銳角A3的朝向(沿著銳角A3的二等分線之方向;圖5中的第2方向D2)與有機EL顯示面板中的複數個子像素以重複紅色像素R、綠色像素G、藍色像素B的順序的方式排列之方向(圖7中的第2方向D2)一致的方式,將觸控面板配置於有機EL顯示面板上,進行了疊紋的評價。
此時所使用之有機EL顯示面板中,紅色像素R的橫寬LR1、綠色像素G的橫寬LG1、藍色像素B的橫寬LB1及藍色像素B的縱寬LB2均為18μm,紅色像素R的縱寬LR2及綠色像素G的縱寬LG2均為8μm。又,由紅色像素R、綠色像素G及藍色像素B構成之像素PE1及PE2的第1方向像素間距P1係96μm,第2方向像素間距P2係62μm。
關於疊紋評價,如下述規定A~E的評價基準,將基於10位觀察人員之評價結果中的最多的評價結果設為最終評價結果。其中,下述評價基準中,疊紋的強度係指疊紋明顯而被視覺辨認之程度。例如,疊紋的強度較弱係指疊紋本身被視覺辨認,但是未明確地被視覺辨認,疊紋的強度較強係指疊紋明確地被視覺辨認。
A:所有紅色像素R、綠色像素G及藍色像素B中疊紋未被視覺辨認,
非常優異之水準。
B:紅色像素R及藍色像素B中的任一個及綠色像素G中疊紋未被視覺辨認,優異之水準。
C:綠色像素G中疊紋未被視覺辨認,使用上無問題之水準。
D:綠色像素G中疊紋被視覺辨認,但是疊紋的強度較弱,使用上無問題之水準。
E:綠色像素G中疊紋被視覺辨認,疊紋的強度較強,使用上存在問題之水準。
將相對於實施例1~實施例6及比較例1~比較例5之疊紋評價的結果示於下表中。
如表1所示,實施例1~實施例6中,疊紋評價均為“D”以上,能夠減少疊紋。尤其,實施例2~實施例4中,疊紋評價均為“C”以上。
另一方面,比較例1~比較例5中,疊紋評價均為“E”。
疊紋評價均為“D”以上之實施例1~實施例6中,第3網格單元C3的銳角A3的角度設定在44度以上且54度以下的範圍內。因此,可知藉
由將第3網格單元C3的銳角A3的角度設定在該範圍的角度,從而減少疊紋。另外,可知第3網格單元C3的1個邊的長度設定在168μm以上且248μm以下的範圍內之情況下,疊紋評價均為“C”以上。尤其,將第3網格單元C3的1個邊的長度設為168μm以上且192μm以下,藉此能夠將疊紋評價均設為“B”以上,能夠得到優異之觸控面板。
又,實施例1~實施例6中,尤其,疊紋評價均為“C”以上之實施例2~實施例4中,第3網格單元C3的銳角A3的角度設定在46度以上且50度以下的範圍內。因此,可知藉由將第3網格單元C3的銳角A3的角度設定在該範圍的角度,從而減少疊紋。另外,可知第3網格單元C3的1個邊的長度設定在168μm以上且248μm以下的範圍之情況下,疊紋評價均為“B”以上。尤其,藉由將第3網格單元C3的1個邊的長度設為168μm以上且192μm以下,能夠將疊紋評價均設為“A”以上,能夠得到非常優異之觸控面板。
疊紋評價均為“E”之比較例1~比較例5中,第3網格單元C3的銳角A3的角度均在44度以上且54度以下的範圍的外側。因此,可知若第3網格單元C3的銳角A3的角度被設定在該範圍的外側的角度,則疊紋顯著地被視覺辨認,得到使用上有問題之觸控面板。
A3:銳角
B3:鈍角
C3:第3網格單元
D1:第1方向
D2:第2方向
MP1:第1網格圖案
MP2:第2網格圖案
MP3:第3網格圖案
MW1、MW2:金屬細線
R0:區域
SE1:第1檢測電極
SE2:第2檢測電極
Claims (18)
- 一種導電性構件,其配置於複數個像素以成為馬賽克排列或三角型排列之方式排列而成之顯示面板上,其特徵為,具有:透明絕緣基板;及至少1個導電層,其配置於該透明絕緣基板上且具有複數個金屬細線,從與該透明絕緣基板垂直之方向觀察之情況下,由該複數個金屬細線形成網格圖案,該網格圖案由具有小於90度的2個銳角和大於90度的2個鈍角之複數個四邊形網格單元構成,該銳角的角度為44度以上且54度以下,且該複數個金屬細線的線寬為1μm以上且4μm以下。
- 如申請專利範圍第1項所述之導電性構件,其中該銳角的角度為46度以上且50度以下。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述之導電性構件,其中該複數個四邊形網格單元為菱形。
- 如申請專利範圍第3項所述之導電性構件,其中該菱形的1個邊的長度為168μm以上且248μm以下。
- 如申請專利範圍第4項所述之導電性構件,其中該菱形的1個邊的長度為168μm以上且192μm以下。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述之導電性構件,其中於該透明絕緣基板上配置有2個該導電層,該2個導電層的該複數個金屬細線彼此組合而形成該網格圖案。
- 如申請專利範圍第6項所述之導電性構件,其中該2個導電層分別配置於該透明絕緣基板的兩個面上。
- 如申請專利範圍第6項所述之導電性構件,其中該2個導電層配置成於該透明絕緣基板的其中一個表面上彼此重疊。
- 如申請專利範圍第8項所述之導電性構件,其中於該2個導電層之間具有層間透明絕緣層。
- 一種觸控面板,其使用了申請專利範圍第1項至第9項中任一項所述之導電性構件。
- 一種顯示裝置,其特徵為,具有:顯示面板,複數個像素以成為馬賽克排列或三角型排列之方式排列;及導電性構件,其具備透明絕緣基板、及配置於該透明絕緣基板上且具有複數個金屬細線之至少1個導電層,從與該透明絕緣基板垂直之方向觀察時,由該複數個金屬細線形成網格圖案,該網格圖案由具有小於90度的2個銳角和大於90度的2個鈍角之複數個四邊形網格單元構成,該銳角的角度為44度以上且54度以下,且該複數個金屬細線的線寬為1μm以上且4μm以下。
- 如申請專利範圍第11項所述之顯示裝置,其中該銳角的角度為46度以上且50度以下。
- 如申請專利範圍第11項或第12項所述之顯示裝置,其中 該複數個四邊形網格單元為菱形。
- 如申請專利範圍第13項所述之顯示裝置,其中該菱形的1個邊的長度為168μm以上且248μm以下。
- 如申請專利範圍第14項所述之顯示裝置,其中該菱形的1個邊的長度為168μm以上且192μm以下。
- 如申請專利範圍第11項或第12項所述之顯示裝置,其中該導電性構件構成觸控面板。
- 如申請專利範圍第11項或第12項所述之顯示裝置,其中該複數個像素由有機EL元件構成。
- 如申請專利範圍第11項或第12項所述之顯示裝置,其中該複數個像素的像素間距為40μm以上且110μm以下。
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