JP2010054905A - 液晶表示装置、電子機器 - Google Patents
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Abstract
【課題】一対の基板の間隔を保持するスペーサの配置に起因する配向ムラを低減した液晶表示装置、これを備えた電子機器を提供すること。
【解決手段】液晶表示装置は、第1の基板および第2の基板と、第1の基板と第2の基板とにより挟持された液晶層と、第1の基板と第2の基板との間隔を保持するスペーサ5と、第1の基板および第2の基板の液晶層に面する側に設けられ、ラビング方向が画素の境界線に対して交差するようにラビング処理が施された配向膜とを備え、スペーサ5は、ラビング方向から見て略等間隔L1となるように第1の基板または第2の基板に複数設けられている。
【選択図】図7
【解決手段】液晶表示装置は、第1の基板および第2の基板と、第1の基板と第2の基板とにより挟持された液晶層と、第1の基板と第2の基板との間隔を保持するスペーサ5と、第1の基板および第2の基板の液晶層に面する側に設けられ、ラビング方向が画素の境界線に対して交差するようにラビング処理が施された配向膜とを備え、スペーサ5は、ラビング方向から見て略等間隔L1となるように第1の基板または第2の基板に複数設けられている。
【選択図】図7
Description
本発明は、一対の基板の間隔を保持するためのスペーサを備えた液晶表示装置、これを備えた電子機器に関する。
上記スペーサを備えた液晶表示装置として、アレイ基板と対向基板との基板間隙に挟持された液晶層と、当該基板間隔を規制するスペーサとを備え、有効画素内で隣接するスペーサの並び方向とラビングする所定の方向とが、略並行とならないようにスペーサが対向基板上において形成された液晶表示装置が知られている(特許文献1)。
上記液晶表示装置によれば、対向基板のラビング時に、ラビング布(ラビング部材)の毛先とスペーサとが緩衝し、毛先が押し退けられることが少なくなるため、毛先が基板表面まで十分に到達し、スペーサによるラビングの配向ムラが低減できるとしている。
一方で、一対の基板のいずれか一方の画素間に対応する領域に、予め定めた配列密度でランダムに配置された柱状スペーサを備えた液晶表示装置が知られている(特許文献2)。
上記特許文献2の液晶表示装置によれば、柱状スペーサによるラビングの配向ムラは、柱状スペーサの近傍の極小さい領域で発生するため、画素間に設けられた遮光膜により容易に隠すことができ、上記配向ムラに起因する表示ムラが目立たなくなるとしている。
上記特許文献1や上記特許文献2の液晶表示装置では、配向処理面においてラビング方向から見たときにスペーサの配置が不均一あるいは不規則(ランダム)になっているため、ラビング時に毛先が押し広げられる部分の位置がスペーサの配置により影響され変化する。言い換えれば、ラビング時に毛先が押し広げられる部分の位置が安定しない。それゆえに、ラビングされた配向膜の配向状態が安定せずに配向ムラが視認されるおそれがあるという課題がある。
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
[適用例1]本適用例の液晶表示装置は、第1の基板および第2の基板と、前記第1の基板と前記第2の基板とにより挟持された液晶層と、前記第1の基板と前記第2の基板との間隔を保持するスペーサと、前記第1の基板および前記第2の基板の前記液晶層に面する側に設けられ、ラビング方向が画素の境界線に対して交差するようにラビング処理が施された配向膜とを備え、前記スペーサは、前記ラビング方向から見て略等間隔となるように前記第1の基板または前記第2の基板に複数設けられていることを特徴とする。
この構成によれば、ラビング部材をラビングローラに捲回して配向膜の表面を擦るラビング処理(回転ラビング)時にラビング部材の毛先は、ラビング方向から見て略等間隔に配置されたスペーサにより押し広げられる。スペーサにより押し広げられた毛先の部分は、ラビングローラの回転軸を中心にしてほぼ一定の位置を保って回転することになる。したがって、スペーサによりラビング部材の毛先が押し広げられる部分の位置が安定する。ゆえに、毛先が押し広げられる部分の位置が不安定なことに起因する配向ムラを減少させることができる。すなわち、安定した配向処理が施された配向膜を有する液晶表示装置を提供することができる。
[適用例2]上記適用例の液晶表示装置において、前記スペーサは、前記ラビング方向から見て前記ラビング方向に対して直交する方向に略等間隔となるように複数設けられていることが好ましい。
この構成によれば、スペーサは回転ラビングにおける回転軸の方向の直線上において略等間隔で配列することになる。したがって、回転ラビング時にスペーサにより毛先が押し広げられるタイミングが、回転軸の方向に隣接したスペーサ間で同期化される。よって、隣接したスペーサ間で毛先を押し広げる力がほぼ一定に作用する。ゆえに、スペーサによりラビング部材の毛先が押し広げられる方向がより安定する。すなわち、より安定した配向処理が施された配向膜を有する液晶表示装置を提供することができる。
この構成によれば、スペーサは回転ラビングにおける回転軸の方向の直線上において略等間隔で配列することになる。したがって、回転ラビング時にスペーサにより毛先が押し広げられるタイミングが、回転軸の方向に隣接したスペーサ間で同期化される。よって、隣接したスペーサ間で毛先を押し広げる力がほぼ一定に作用する。ゆえに、スペーサによりラビング部材の毛先が押し広げられる方向がより安定する。すなわち、より安定した配向処理が施された配向膜を有する液晶表示装置を提供することができる。
[適用例3]上記適用例の液晶表示装置において、前記スペーサは、前記ラビング方向に沿って略等間隔に複数設けられていることがさらに好ましい。
この構成によれば、回転ラビング時にスペーサにより毛先が押し広げられるタイミングが、ラビング方向に沿って配置されたスペーサ間において同期化される。ゆえに、スペーサにおいてラビング部材の毛先が押し広げられる方向がさらに安定する。すなわち、さらに安定した配向処理が施された配向膜を有する液晶表示装置を提供することができる。
この構成によれば、回転ラビング時にスペーサにより毛先が押し広げられるタイミングが、ラビング方向に沿って配置されたスペーサ間において同期化される。ゆえに、スペーサにおいてラビング部材の毛先が押し広げられる方向がさらに安定する。すなわち、さらに安定した配向処理が施された配向膜を有する液晶表示装置を提供することができる。
[適用例4]上記適用例の液晶表示装置において、前記第1の基板および前記第2の基板のうちいずれか一方の画素領域にカラーフィルタを有し、前記スペーサは、赤色、緑色、青色を含む少なくとも3色のうち特定の色の前記カラーフィルタを有する前記画素に対応する位置に配置されているとしてもよい。
この構成によれば、カラーフィルタにおける特定の色を基準としてスペーサにより第1の基板と第2の基板との間隔を規定して保持することができる。例えば、緑色を特定の色とすれば、可視光領域のほぼ中心波長を基準として当該間隔を規定することになるため、色バランスが適性化された表示が得られる。
この構成によれば、カラーフィルタにおける特定の色を基準としてスペーサにより第1の基板と第2の基板との間隔を規定して保持することができる。例えば、緑色を特定の色とすれば、可視光領域のほぼ中心波長を基準として当該間隔を規定することになるため、色バランスが適性化された表示が得られる。
[適用例5]上記適用例の液晶表示装置において、前記スペーサは、前記ラビング方向に沿って配置された前記スペーサを結ぶ仮想直線が主に前記特定の色の前記カラーフィルタを有する前記画素に掛かるように、前記第1の基板または前記第2の基板に複数設けられていることが好ましい。
ラビング方向におけるスペーサの背面側に位置する配向膜の部分は、毛先が押し広げられることにより配向処理が不十分になり易い。当該配向膜の部分をスペーサの影と呼ぶ。この構成によれば、配向膜におけるスペーサの影の部分が各色の画素に亘って発生することを避けることができる。
ラビング方向におけるスペーサの背面側に位置する配向膜の部分は、毛先が押し広げられることにより配向処理が不十分になり易い。当該配向膜の部分をスペーサの影と呼ぶ。この構成によれば、配向膜におけるスペーサの影の部分が各色の画素に亘って発生することを避けることができる。
[適用例6]上記適用例の液晶表示装置において、前記特定の色が青色であることが好ましい。
この構成によれば、もっとも視感度が低い青色の画素に配向膜におけるスペーサの影の部分が配置される。すなわち、スペーサの影による配向ムラが目立ち難い状態とすることができる。
この構成によれば、もっとも視感度が低い青色の画素に配向膜におけるスペーサの影の部分が配置される。すなわち、スペーサの影による配向ムラが目立ち難い状態とすることができる。
[適用例7]上記適用例の液晶表示装置において、前記画素の配置がデルタ方式であるとしてもよい。
この構成によれば、画素の境界線に対して交差するようにラビング方向が設定された場合、画素の配置がモザイク方式またはデルタ方式ならば特定の色の画素に対応してスペーサをラビング方向から見たときに比較的容易に略等間隔に配置することができる。
この構成によれば、画素の境界線に対して交差するようにラビング方向が設定された場合、画素の配置がモザイク方式またはデルタ方式ならば特定の色の画素に対応してスペーサをラビング方向から見たときに比較的容易に略等間隔に配置することができる。
[適用例8]上記適用例の液晶表示装置において、複数の前記画素からなる表示領域の行方向または列方向において、少なくとも1行または1列置きに前記スペーサが配置されているとしてもよい。
この構成によれば、画素ごとに1つのスペーサが配置された場合に比べて、画素の配列における少なくとも1行または1列置きにスペーサが配置されているので、配向膜面上における、平面的なスペーサの配置を均等とすると共に、必要以上にスペーサを配置せずに効率化することができる。
この構成によれば、画素ごとに1つのスペーサが配置された場合に比べて、画素の配列における少なくとも1行または1列置きにスペーサが配置されているので、配向膜面上における、平面的なスペーサの配置を均等とすると共に、必要以上にスペーサを配置せずに効率化することができる。
[適用例9]上記適用例の液晶表示装置において、前記第1の基板および前記第2の基板のうちいずれか一方に前記複数の前記画素を区画する遮光部を有し、前記スペーサは、前記遮光部が設けられた遮光領域内に配置されていることが好ましい。
この構成によれば、スペーサの影に相当する配向膜の部分を遮光部で覆うことができる。すなわち、スペーサの影に起因する配向ムラによる表示ムラをより目立ち難くすることができる。
この構成によれば、スペーサの影に相当する配向膜の部分を遮光部で覆うことができる。すなわち、スペーサの影に起因する配向ムラによる表示ムラをより目立ち難くすることができる。
[適用例10]本適用例の電子機器は、上記適用例の液晶表示装置を備えたことを特徴とする。
この構成によれば、安定した配向処理が施された液晶表示装置を備えているため、見映えのよい表示品質を有する電子機器を提供することができる。
この構成によれば、安定した配向処理が施された液晶表示装置を備えているため、見映えのよい表示品質を有する電子機器を提供することができる。
以下、本発明を具体化した実施形態について図面に従って説明する。なお、使用する図面は、説明する部分が認識可能な状態となるように、適宜拡大または縮小して表示している。
(実施形態1)
<液晶表示装置>
まず、本実施形態の液晶表示装置について図1〜図4を参照して説明する。図1は液晶表示装置の構成を示す概略図であり、同図(a)は正面図、同図(b)は同図(a)のH−H’線で切った断面図である。
<液晶表示装置>
まず、本実施形態の液晶表示装置について図1〜図4を参照して説明する。図1は液晶表示装置の構成を示す概略図であり、同図(a)は正面図、同図(b)は同図(a)のH−H’線で切った断面図である。
図1(a)および(b)に示すように、本実施形態の液晶表示装置100は、第1の基板としての素子基板10と、第2の基板としての対向基板20と、これらの基板によって挟持された液晶層50とを有する。
素子基板10は対向基板20よりも一回り大きく、両基板は、シール材52を介して接合され、その隙間に液晶が封入されて液晶層50を構成している。
素子基板10は対向基板20よりも一回り大きく、両基板は、シール材52を介して接合され、その隙間に液晶が封入されて液晶層50を構成している。
同図(a)に示すように、素子基板10の1辺部に沿ってデータ線駆動回路101が設けられ、これに電気的に接続された複数の端子部102が配列している。該1辺部と直交し互いに対向する他の2辺部には、該2辺部に沿って走査線駆動回路104が設けられている。対向基板20を挟んで該1辺部と対向する他の1辺部には、2つの走査線駆動回路104を繋ぐ複数の配線105が設けられている。
額縁状に配置されたシール材52の内側には、同じく額縁状に見切り部53が設けられている。見切り部53は、遮光性を有する金属材料あるいは樹脂材料からなり、見切り部53の内側が複数の画素を有する表示領域10aとなっている。
同図(b)に示すように、素子基板10の液晶層50側の表面には、画素ごとに設けられた画素電極15および後述するスイッチング素子としての薄膜トランジスタ(図示省略)と、信号配線(図示省略)と、これらを覆う配向膜18とが形成されている。
対向基板20の液晶層50側の表面には、見切り部53と、カラーフィルタ22と、これらを覆うように成膜された共通電極23と、共通電極23を覆う配向膜28とが形成されている。また、表示領域10aに設けられた画素ごとの領域(画素領域)を平面的に規定する遮光部53aが設けられている。遮光部53aは、見切り部53を形成する工程で平面的に格子状に形成されたものであって、前述したように遮光性を有する金属材料あるいは樹脂材料からなる。
本実施形態における液晶表示装置100は、ラビング部材を用いて配向膜18,28をそれぞれ所定の方向に擦ることにより、液晶分子の配向方向を規制する配向処理方法(ラビング法)が採用されている。詳しいラビングの方法については後述する。
対向基板20に設けられた共通電極23は、同図(a)に示すように対向基板20の四隅に設けられた上下導通部106により素子基板10側の配線に電気的に接続している。
液晶表示装置100は、素子基板10と対向基板20との間に挟持された液晶層50の厚みが所定の厚みとなるように、素子基板10と対向基板20との間隔を保持する柱状のスペーサ(図示省略)を有している。このスペーサに係る構成の詳細については、後述する実施例において説明する。
図2は、液晶表示装置の電気的な構成を示す等価回路図である。図2に示すように、液晶表示装置100は、少なくとも表示領域10aにおいて互いに絶縁されて直交する走査線3aとデータ線6aとを有する。また、走査線3aに対して一定の間隔を置いて平行するように配置された容量線3bを有する。
走査線3aとデータ線6aならびに容量線3bにより格子状に区画された領域に、画素電極15と、画素電極15をスイッチング制御するスイッチング素子としてのTFT(Thin Film Transistor:薄膜トランジスタ)30と、保持容量36とが設けられ、これらがサブ画素SGを構成している。すなわち、サブ画素SGは、マトリクス状に配置されている。
走査線3aはTFT30のゲートに電気的に接続され、データ線6aはTFT30のソースに電気的に接続されている。画素電極15はTFT30のドレインに電気的に接続されている。
データ線6aはデータ線駆動回路101(図1参照)に接続されており、データ線駆動回路101から供給される画像信号S1,S2,…,Snを各サブ画素SGに供給する。走査線3aは走査線駆動回路104(図1参照)に接続されており、走査線駆動回路104から供給される走査信号G1,G2,…,Gmを各サブ画素SGに供給する。データ線駆動回路101からデータ線6aに供給される画像信号S1〜Snは、この順に線順次で供給してもよく、互いに隣接する複数のデータ線6a同士に対してグループごとに供給してもよい。走査線駆動回路104は、走査線3aに対して、走査信号G1〜Gmを所定のタイミングでパルス的に線順次で供給する。
データ線6aはデータ線駆動回路101(図1参照)に接続されており、データ線駆動回路101から供給される画像信号S1,S2,…,Snを各サブ画素SGに供給する。走査線3aは走査線駆動回路104(図1参照)に接続されており、走査線駆動回路104から供給される走査信号G1,G2,…,Gmを各サブ画素SGに供給する。データ線駆動回路101からデータ線6aに供給される画像信号S1〜Snは、この順に線順次で供給してもよく、互いに隣接する複数のデータ線6a同士に対してグループごとに供給してもよい。走査線駆動回路104は、走査線3aに対して、走査信号G1〜Gmを所定のタイミングでパルス的に線順次で供給する。
液晶表示装置100は、スイッチング素子であるTFT30が走査信号G1〜Gmの入力により一定期間だけオン状態とされることで、データ線6aから供給される画像信号S1〜Snが所定のタイミングで画素電極15に書き込まれる構成となっている。そして、画素電極15を介して液晶層50に書き込まれた所定レベルの画像信号S1〜Snは、画素電極15と液晶層50を介して対向配置された共通電極23との間で一定期間保持される。
保持された画像信号S1〜Snがリークするのを防止するため、画素電極15と共通電極23との間に形成される液晶容量と並列に保持容量36が接続されている。保持容量36は、TFT30のドレインと容量線3bとの間に設けられている。
保持された画像信号S1〜Snがリークするのを防止するため、画素電極15と共通電極23との間に形成される液晶容量と並列に保持容量36が接続されている。保持容量36は、TFT30のドレインと容量線3bとの間に設けられている。
図3はサブ画素の構成を示す概略平面図、図4は図3のA−A’線で切ったサブ画素の構造を示す概略断面図である。
図3に示すように、各サブ画素SGには、略矩形状の画素電極15が形成されている。画素電極15の長辺(Y軸方向)に沿ってデータ線6aが延在し、画素電極15の短辺(X軸方向)に沿って走査線3aが延在している。走査線3aの画素電極15側に、走査線3aと平行に延びる容量線3bが形成されている。
データ線6aが交差する付近の走査線3a上に、スイッチング素子であるTFT30が形成されている。TFT30は、島状のアモルファスシリコン膜からなる半導体層31を有している。また、半導体層31の一方の端部(ソース側)において平面的に重なるように配置されたソース電極6bと、同じく半導体層31の他方の端部(ドレイン側)において平面的に重なるように配置されたドレイン電極32とを備えている。
ソース電極6bは、Y軸方向において画素電極15と反対側に一旦引き出された後にX軸方向に延出されデータ線6aと接続されている。
ドレイン電極32はY軸方向において画素電極15側に延出されて略矩形状の容量電極33と接続されている。
容量電極33は容量線3bの平面領域内に配置されており、容量電極33と容量線3bとを電極とする保持容量36(図4参照)を構成している。容量電極33の平面領域内に形成されたコンタクトホール34を介して画素電極15と容量電極33とが電気的に接続されている。それゆえに、TFT30のドレイン電極32と画素電極15とが導通することになる。
走査線3aは半導体層31と平面的に重なる位置に配置されており、TFT30のゲート電極として機能している。すなわち、TFT30はバックゲート方式の薄膜トランジスタである。
ソース電極6bは、Y軸方向において画素電極15と反対側に一旦引き出された後にX軸方向に延出されデータ線6aと接続されている。
ドレイン電極32はY軸方向において画素電極15側に延出されて略矩形状の容量電極33と接続されている。
容量電極33は容量線3bの平面領域内に配置されており、容量電極33と容量線3bとを電極とする保持容量36(図4参照)を構成している。容量電極33の平面領域内に形成されたコンタクトホール34を介して画素電極15と容量電極33とが電気的に接続されている。それゆえに、TFT30のドレイン電極32と画素電極15とが導通することになる。
走査線3aは半導体層31と平面的に重なる位置に配置されており、TFT30のゲート電極として機能している。すなわち、TFT30はバックゲート方式の薄膜トランジスタである。
図4に示すように、液晶表示装置100は、素子基板10と対向基板20とにより液晶層50を挟持している。
素子基板10は、透明なガラス等の基板からなり、その液晶層50側の表面には、まずアルミニウムやアルミニウム合金等を用いて走査線3a、容量線3bが形成され、これらを覆うように酸化シリコンや酸化窒化シリコン等からなる第1層間絶縁膜11が形成される。
次に、第1層間絶縁膜11上にアモルファスシリコンからなる半導体層31が形成される。半導体層31のソース側を覆ってソース電極6bが形成され、同じくドレイン側を覆ってドレイン電極32が形成される。ソース電極6bやドレイン電極32を形成する工程において、これらに電気的に接続するデータ線6aや容量電極33が形成される。これらの電極や配線の形成もアルミニウムやアルミニウム合金等の低抵抗な導電材料が用いられる。
そして、TFT30やこれに繋がる配線を覆うように誘電体層としての第2層間絶縁膜12が形成される。第2層間絶縁膜12は酸化シリコンや酸化窒化シリコン等からなる。
第2層間絶縁膜12上にITO(Indium Tin Oxide)などの透明導電膜を成膜し、これをフォトリソグラフィ法によりパターニングすることで画素電極15が形成される。なお、画素電極15は、第2層間絶縁膜12に設けられたコンタクトホール34を介して容量電極33と接続している。すなわち、画素電極15は容量電極33を介してドレイン電極32と電気的に接続している。
パターニングされた画素電極15と第2層間絶縁膜12とを覆うように配向膜18が設けられている。配向膜18は、例えばポリイミド樹脂などの配向膜材料からなる。
対向基板20は、素子基板10と同じく透明なガラス等の基板からなり、その液晶層50側の表面には、前述したようにサブ画素SGを実質的に区画する遮光部53aが形成されている(図1(b)参照)。
遮光部53aにより区画された画素領域にカラーフィルタ22が形成されている。カラーフィルタ22は、サブ画素SGごとに少なくとも赤(R)、緑(G)、青(B)の3色の中から選ばれる。
遮光部53aとカラーフィルタ22とを覆うようにITO(Indium Tin Oxide)などの透明導電膜を成膜して、これを共通電極23とする。さらに共通電極23を覆うように配向膜28が形成される。配向膜28も配向膜18と同じ材料であって、例えばポリイミド樹脂などの配向膜材料が用いられる。
なお、図4においては図示省略したが、液晶表示装置100の液晶層50に対して反対側の素子基板10の表面側および対向基板20の表面側には、液晶表示装置100に入射する光を偏向させる偏光板や位相差板など光学素子が設けられる。このような液晶表示装置100は透過型であって、例えば、LEDや冷陰極管などを光源とする照明装置を具備して用いられる。
図1(a)および(b)に示した液晶表示装置100において、対向基板20を上基板とし、素子基板10を下基板とする。対向基板20の表面に設けられる偏光板を上偏光板と呼び、素子基板10の表面に設けられる偏光板を下偏光板とする。
図5は、液晶表示装置の光学的な設計条件を示す概略図である。詳しくは、液晶表示装置100を正面から見たとき(すなわち図1(a)に相当)の上偏光板、液晶層、下偏光板の各構成を示している。
図5は、液晶表示装置の光学的な設計条件を示す概略図である。詳しくは、液晶表示装置100を正面から見たとき(すなわち図1(a)に相当)の上偏光板、液晶層、下偏光板の各構成を示している。
図5に示すように、上偏光板の透過軸をY軸(サブ画素SGの長辺方向)に対して右下がり45°とする。これに対して下偏光板の透過軸をY軸(サブ画素SGの長辺方向)に対して右上がり45°とする。したがって、上下偏光板の透過軸が直交するように一対の素子基板10と対向基板20に対して上下偏光板が配置される。
上基板は、例えば左上から右下へラビング処理され、ラビング角度は上偏光板と同じく右下がり45°となっている。下基板は、例えば左下から右上へラビング処理され、ラビング角度は下偏光板と同じく右上がり45°となっている。
ラビング処理された上下基板により挟まれた液晶層における液晶分子は、上基板側から下基板側に向かって時計方向に90°ツイスト(回転)している。
図5において図示していないが、液晶分子は、上下基板に対して紙面に垂直な方向において、1〜5°程度の傾斜角度(プレチルト角度)を持って上下基板の配向膜上に配列している。
すなわち、液晶表示装置100は、TN(Twist Nematic)モードの液晶表示装置であり、液晶分子が上記のようにツイストしていることから、液晶表示装置100を正面から見たときにもっとも高いコントラストが得られる(良好な見映えとなる)。言い換えれば、正面コントラストを高くするには、上下の基板において画素の境界線に対し交差するように斜め方向からラビング処理する必要がある。
上基板は、例えば左上から右下へラビング処理され、ラビング角度は上偏光板と同じく右下がり45°となっている。下基板は、例えば左下から右上へラビング処理され、ラビング角度は下偏光板と同じく右上がり45°となっている。
ラビング処理された上下基板により挟まれた液晶層における液晶分子は、上基板側から下基板側に向かって時計方向に90°ツイスト(回転)している。
図5において図示していないが、液晶分子は、上下基板に対して紙面に垂直な方向において、1〜5°程度の傾斜角度(プレチルト角度)を持って上下基板の配向膜上に配列している。
すなわち、液晶表示装置100は、TN(Twist Nematic)モードの液晶表示装置であり、液晶分子が上記のようにツイストしていることから、液晶表示装置100を正面から見たときにもっとも高いコントラストが得られる(良好な見映えとなる)。言い換えれば、正面コントラストを高くするには、上下の基板において画素の境界線に対し交差するように斜め方向からラビング処理する必要がある。
図6(a)および(b)は配向処理方法を示す概略図である。本実施形態における配向処理方法は、図6(a)に示すように、ラビング部材が捲回された円柱状のラビングローラを回転させ、ラビング部材により基板表面を擦る回転ラビング法である。
ラビング部材は、基材に繊維が植毛され、毛の長さが例えば1〜3mm程度に切り揃えられたものである。繊維としては例えば、直径が数μm〜数十μmの腰のある再生セルロース、レーヨン、ナイロン、ポリエステルなどから選ばれる。ラビング時に発生する静電気を逃がすために、これらの繊維に導電性材料を練り込んだものもある。
ラビング方法としては、図6(b)に示すように、回転するラビングローラに対して、ラビング角度(45°)に合致するように基板を傾ける。そして、ラビング部材の毛先が0.1〜0.5mm程度の長さで基板表面に押し付けられるように、基板とラビングローラとを基板表面の法線方向において位置決めする。続いて、所定の方向にラビング処理が施されるように、基板と回転するラビングローラとを相対移動させる。図6(b)では基板に対してラビングローラをラビング方向に移動させているが、回転するラビングローラに対して基板をラビング方向に対して反対側に移動させてもよい。
ラビング部材には繊維が高密度に植毛されているので、織物のラビング部材を用いる場合に比べて、基板上に形成された配向膜をムラなく擦って液晶分子を配向させることができる。
このような回転ラビング法を用いて、液晶表示装置100を構成する素子基板10や対向基板20の配向処理を行う場合、素子基板10と対向基板20との間隔を保持するスペーサの影響を考慮して、スペーサを素子基板10または対向基板20のいずれか一方に配置する必要がある。以降、実施例を参照して説明する。
(実施例1)
図7は、実施例1のスペーサの配置を示す概略図である。詳しくは、同図(a)は平面図、同図(b)は同図(a)のC−C’線で切った断面図である。
図7は、実施例1のスペーサの配置を示す概略図である。詳しくは、同図(a)は平面図、同図(b)は同図(a)のC−C’線で切った断面図である。
図7(a)に示すように、液晶表示装置100の1画素は、R(赤)、G(緑)、B(青)のカラーフィルタ22が設けられた3つのサブ画素SGにより構成されている。各サブ画素SGは格子状に設けられた遮光部53aにより実質的に区画されている。実施例1は、同色のサブ画素SGがY軸方向に配列したストライプ方式の画素配列となっている。
実施例1のスペーサ5は、画素ごとに1つの割合で格子状の遮光部53aと重なるように配置されている。また、各スペーサ5は、ラビング方向に沿った仮想直線上に位置するように配置され、ラビング方向から見たときに隣接するスペーサ5の間隔が等間隔L1となるように配置されている。なお、ラビング角度は、前述したようにY軸に対して右下がり45°となっている。
具体的には、図面上の左端の画素列では、スペーサ5は、B(青)のサブ画素SGの列をX軸方向に区切る遮光部53aに重なるように設けられている。より具体的には、B(青)のサブ画素SGに対して左上に位置している。X軸方向の次の画素列では、G(緑)のサブ画素SGとB(青)のサブ画素SGとの間においてY軸方向に延在する遮光部53aに重なるように設けられている。このように、図7(a)に示した画素列の範囲では、画素列ごとにスペーサ5の配置が異なっている。
具体的には、図面上の左端の画素列では、スペーサ5は、B(青)のサブ画素SGの列をX軸方向に区切る遮光部53aに重なるように設けられている。より具体的には、B(青)のサブ画素SGに対して左上に位置している。X軸方向の次の画素列では、G(緑)のサブ画素SGとB(青)のサブ画素SGとの間においてY軸方向に延在する遮光部53aに重なるように設けられている。このように、図7(a)に示した画素列の範囲では、画素列ごとにスペーサ5の配置が異なっている。
図7(b)は図7(a)に示したスペーサ5の配置を実現するため、対向基板20側に柱状のスペーサ5を設けた場合のスペーサ5と遮光部53aとの相対的な位置を示す断面図である。
同図(b)に示すように、対向基板20の(液晶層50に面する側の)表面に、まず、格子状の遮光部53aが形成される。続いて、遮光部53aを覆うと共に、サブ画素SGに対応して設けられるR(赤)、G(緑)、B(青)の3色のカラーフィルタ22が形成される。3色のカラーフィルタ22の形成方法としては、例えば異なる色材を有する感光性樹脂材料を基板表面に塗布し、露光・現像することにより形成するフォトリソグラフィ法が挙げられる。次に、カラーフィルタ22を覆うようにITOなどの透明導電膜を成膜して共通電極23が形成される。
同図(b)に示すように、対向基板20の(液晶層50に面する側の)表面に、まず、格子状の遮光部53aが形成される。続いて、遮光部53aを覆うと共に、サブ画素SGに対応して設けられるR(赤)、G(緑)、B(青)の3色のカラーフィルタ22が形成される。3色のカラーフィルタ22の形成方法としては、例えば異なる色材を有する感光性樹脂材料を基板表面に塗布し、露光・現像することにより形成するフォトリソグラフィ法が挙げられる。次に、カラーフィルタ22を覆うようにITOなどの透明導電膜を成膜して共通電極23が形成される。
柱状のスペーサ5を形成する方法としては、例えば共通電極23を覆うようにして所定の厚みで成膜された感光性樹脂材料を露光・現像することにより、共通電極23上において柱状に成形する方法が挙げられる。同図(b)ではB(青)のサブ画素SGの列を区画する遮光部53aの上側にスペーサ5が設けられる。上記感光性材料の所定の厚みは、スペーサ5の共通電極23上における高さとなる。スペーサ5の高さは、液晶層50の厚みを規定することになり、液晶材料の選択により光学設計上設定される。一般的にはおよそ2〜5μm程度の範囲の中で高さが設定される。柱状のスペーサ5の直径は、素子基板10と対向基板20との間隔を保持するための物理的な強度を考慮して、およそ5〜15μm程度の範囲の中で設定される。
配向膜28は、スペーサ5が形成された対向基板20の表面を覆うように形成される。配向膜28の形成方法としては、配向膜材料を転写する印刷法やスピンコート法、配向膜材料を液滴として吐出描画する液滴吐出法などが挙げられる。非接触型で使用する材料の無駄を省ける点で液滴吐出法が好ましい。
図7(b)において、配向膜28はスペーサ5の表面をすべて覆うように図示していないが、実際には当該表面にわずかに付着している程度で済む。なお、共通電極23を覆うように配向膜28を形成してから、配向膜28上にスペーサ5を形成してもよい。
図8は、ラビング処理状態を示す概略図である。なお、図8はラビング状態を説明可能な程度に適宜拡大して図示している。図8に示すように、回転するラビング部材の毛先は、基板上に設けられたスペーサ5によって押し広げられる。実施例1のスペーサ5の配置によれば、ラビング方向から見て隣接するスペーサ5は等間隔L1で配置されている。したがって、スペーサ5により毛先が押し広げられる部分の位置は、ラビングローラの回転軸方向において一定となる。
図9(a)は比較例のスペーサの配置を示す概略平面図、図9(b)は比較例のラビング状態を示す概略図である。
図9(a)に示すように比較例のスペーサ5は、画素ごとに1つ配置されると共に、B(青)のサブ画素SGに対して左上の位置で遮光部53aと重なるように配置されている。比較例によれば、ラビング方向から見て隣接するスペーサ5の間隔は一定ではなく不均一な状態となっている。したがって、図9(b)に示すように、回転するラビング部材の毛先が押し広げられる部分の位置がラビング方向への基板またはラビングローラの移動に伴って変化することになる。よって、回転する毛先に加わる応力が基板表面に設けられたスペーサ5の配置によって変動し、毛先のたわみ方が変化する。これによって基板表面に設けられた配向膜の配向処理が不安定となるおそれがあった。
もちろん、比較例におけるラビング方向も右下がり45°である。仮に比較例のスペーサ5の配置において、ラビング方向が画素の境界線に対して平行、すなわち、X軸方向またはY軸方向と平行ならば、スペーサ5の配置によって毛先が押し広げられる部分の位置がラビング処理に伴って変化することはない。それゆえに、比較例のスペーサ5の配置では、ラビング方向が画素の境界線に対して交差する場合に配向ムラが発生するおそれがある。
比較例のスペーサ5の配置に対して、実施例1では、ラビング方向から見て隣接するスペーサ5が等間隔L1で配置されており、スペーサ5により毛先が押し広げられる部分の位置がラビングローラの回転軸方向において一定となる。よって、回転する毛先に加わる応力が基板表面に設けられたスペーサ5の配置によって変動し難い。ゆえに、ラビング方向が画素の境界線に対して交差する場合でも安定した配向処理状態が得られる。
(実施例2)
図10は実施例2のスペーサの配置を示す概略平面図である。図10に示すように、実施例2のサブ画素SGの配置は、同色のサブ画素SGがX軸およびY軸に対して交差するように配置された所謂モザイク方式の画素配列となっている。
図10は実施例2のスペーサの配置を示す概略平面図である。図10に示すように、実施例2のサブ画素SGの配置は、同色のサブ画素SGがX軸およびY軸に対して交差するように配置された所謂モザイク方式の画素配列となっている。
実施例2の各スペーサ5は、実施例1と同様にラビング方向に沿った仮想直線上に位置するように配置され、ラビング方向から見たときに隣接するスペーサ5の間隔が等間隔L1となるように配置されている。また、B(青)のサブ画素SGに対して左上の遮光部53aに重なるように配置されている。さらには、ラビング方向に沿った仮想直線上において等間隔L2となるように配置されている。そして、このような配置を実現するため、モザイク方式の画素配列において1行置きにスペーサ5が配置されている。なお、ラビング角度は、Y軸に対して右下がり45°となっている。
実施例2によれば、ラビング方向に沿った仮想直線上において等間隔L2でスペーサ5が配置されている。したがって、回転ラビングにおいてスペーサ5によりラビング部材の毛先が押し広げられるタイミングがラビング方向に配列したスペーサ5間において一定の時間間隔となる。よって、実施例1の効果に加えて、スペーサ5により押し広げられる毛先に対して規則的な時間間隔で応力が加わるので、不規則に応力が加わる場合に比べて、配向ムラを低減可能である。
実際にスペーサ5をラビング方向に沿った仮想直線上において等間隔L2で配置し、且つB(青)のサブ画素SGに対して左上の遮光部53aに重なるように配置するには、当然ながらサブ画素SGの大きさや配置ピッチなどが影響する。そのため、画素ごとに少なくとも1つスペーサ5を配置することが困難になることが考えられる。その場合には、実施例2のように1行置きにスペーサ5を配置してもよい。当然ながら1行置きに限定されず、少なくとも1行または1列置きに配置すればよい。結果的に必要以上にスペーサ5が配置されることを抑制することができる。
(実施例3)
図11は実施例3のスペーサの配置を示す概略平面図である。図11に示すように、実施例3のサブ画素SGの配置は、異なる色のサブ画素SGが三角形の頂点の位置に配置された所謂デルタ方式の画素配列となっている。
図11は実施例3のスペーサの配置を示す概略平面図である。図11に示すように、実施例3のサブ画素SGの配置は、異なる色のサブ画素SGが三角形の頂点の位置に配置された所謂デルタ方式の画素配列となっている。
実施例3のスペーサ5は、画素ごとに1つ配置されると共に、B(青)のサブ画素SGに対して左上の遮光部53aに重なるように配置されている。また、ラビング方向に沿った仮想直線上に位置するように配置され、ラビング方向から見たときに隣接するスペーサ5の間隔が等間隔L1となるように配置されている。さらに、ラビング方向に沿った仮想直線上において等間隔L2となるように配置されている。なお、ラビング角度は、Y軸に対して右下がり45°となっている。
実施例3において、ラビング方向に配置されたスペーサ5を結ぶ仮想直線は、画素配列がデルタ方式となっているため、B(青)とR(赤)のサブ画素SGを通過している。主にはB(青)のサブ画素SGを通過している。言い換えれば、視感度が低い特定の色のサブ画素SGを通過している。
したがって、実施例3のサブ画素SGに対するスペーサ5の配置によれば、実施例1および実施例2の効果に加えて、仮にスペーサ5を起点としてラビング方向に配向ムラが生じても目立ち難いという効果を有する。
実施例3のようなサブ画素SGに対するスペーサ5の配置は、ラビング方向がX軸、Y軸と交差する場合、同色のサブ画素SGが同じくX軸、Y軸と交差する実施例2のモザイク方式の画素配列においても、サブ画素SGの大きさや配置ピッチにもよるが可能である。すなわち、同色のサブ画素SGがY軸方向に配列する実施例1のストライプ方式に比べて、実施例2のモザイク方式や実施例3のデルタ方式の画素配列の方が実施例3のようなスペーサ5の配置を実現し易い。
(実施例4)
図12は実施例4のスペーサの配置を示す概略平面図である。図12に示すように、実施例4のサブ画素SGの配置は、実施例3と同じデルタ方式の画素配列である。
図12は実施例4のスペーサの配置を示す概略平面図である。図12に示すように、実施例4のサブ画素SGの配置は、実施例3と同じデルタ方式の画素配列である。
実施例4のスペーサ5は、ラビング方向に沿った仮想直線上に位置するように配置され、ラビング方向から見たときに隣接するスペーサ5の間隔が等間隔L1となるように配置されている。また、ラビング方向に沿った仮想直線上において等間隔L2となるように配置されている。詳しくは、デルタ方式の画素配列において1行置きに、B(青)のサブ画素SGに対して左上の遮光部53aに重なるように配置されている。なお、ラビング角度は、Y軸に対して右下がり45°となっている。
デルタ方式の画素配列において実施例3のように画素ごとに1つのスペーサ5を配置することは、やはりサブ画素SGの大きさや配置ピッチに依存する。したがって、画素ごとに1つのスペーサ5を配置できない場合には、実施例4に示すように1行置きにスペーサ5を配置してもよい。当然ながら1行置きに限定されず、少なくとも1行または1列置きに配置すればよい。実施例4によれば、実施例3の効果に加えて、必要以上にスペーサ5が配置されることを抑制可能であるという効果を有する。
(実施例5)
図13は実施例5のスペーサの配置を示す概略平面図である。実施例5のサブ画素SGの配置は、ストライプ方式の画素配列である。
図13は実施例5のスペーサの配置を示す概略平面図である。実施例5のサブ画素SGの配置は、ストライプ方式の画素配列である。
実施例5のスペーサ5は、画素ごとに1つ配置されると共に、B(青)のサブ画素SGに対して左上の遮光部53aに重なるように配置されている。そして、ラビング方向に沿った仮想直線上に位置するように配置され、ラビング方向から見たときに隣接するスペーサ5の間隔が等間隔L1となるように配置されている。また、ラビング方向に沿った仮想直線上において等間隔L2となるように配置されている。さらには、ラビング方向に対して直交する方向に沿った仮想直線上に等間隔L3で配置されている。なお、ラビング角度は、Y軸に対して右下がり45°となっている。
実施例5によれば、ラビング方向に対して直交する方向、すなわちラビングローラの回転軸方向においてスペーサ5が等間隔L3で配置されている。したがって、回転ラビングにおいて回転軸方向に配列するスペーサ5間でラビング部材の毛先がスペーサ5により押し広げられるタイミングを同期化することができる。よって、実施例1および実施例2の効果に加えて、毛先に加わる応力の発生タイミングを同期化できるので、不規則に応力が発生する場合に比べて、配向ムラをより低減することができる。
このようなサブ画素SGに対するスペーサ5の配置は、サブ画素SGの大きさや配置ピッチにもよるが、モザイク方式やデルタ方式の画素配列においても可能なことは言うまでもない。
なお、実施例1〜実施例5では、スペーサ5を対向基板20側に配置された場合を想定して説明したが、ラビング方向から見て隣接するスペーサ5が等間隔L1で配置されていれば、素子基板10側にスペーサ5を設けるようにしてもよい。その場合においても平面的に遮光部53aと重なる位置にスペーサ5を配置することが好ましい。ラビング方向においてスペーサ5の背後にあたる配向膜は、毛先が押し広げられることにより配向処理が不十分となりやすい。スペーサ5を平面的に遮光部53aが設けられた遮光領域内に配置して、このような配向処理が不十分な部分を隠すことにより配向ムラを目立ち難くすることができる。
また、サブ画素SGにおける開口率を確保するために遮光部53aの幅は、可能な限り狭い方がよい。したがって、遮光部53aの幅よりもスペーサ5の直径が大きい場合には、遮光部53aより多少はみだすようにスペーサ5が配置される場合もある。その際には、スペーサ5を起点としたラビング方向の配向ムラが目立ち難くなるように、遮光部53aに対するスペーサ5の相対的な位置を考慮する必要がある。
また、サブ画素SGにおける開口率を確保するために遮光部53aの幅は、可能な限り狭い方がよい。したがって、遮光部53aの幅よりもスペーサ5の直径が大きい場合には、遮光部53aより多少はみだすようにスペーサ5が配置される場合もある。その際には、スペーサ5を起点としたラビング方向の配向ムラが目立ち難くなるように、遮光部53aに対するスペーサ5の相対的な位置を考慮する必要がある。
(実施形態2)
<電子機器>
次に、上記実施形態1の液晶表示装置100を備えた電子機器について図14を参照して説明する。図14は電子機器としての携帯型電話機を示す概略斜視図である。
<電子機器>
次に、上記実施形態1の液晶表示装置100を備えた電子機器について図14を参照して説明する。図14は電子機器としての携帯型電話機を示す概略斜視図である。
図14に示すように、本実施形態の電子機器としての携帯型電話機300は、入力用のボタンスイッチや表示部302などを備えた本体301を有している。表示部302には、上記実施形態1の液晶表示装置100とこれを照明する照明装置とが少なくとも搭載されている。したがって、スペーサ5の配置に起因する配向ムラが視認され難いので、安定した表示品質を有する携帯型電話機300を提供することができる。
上記実施形態以外にも様々な変形例が考えられる。以下、変形例を挙げて説明する。
(変形例1)上記実施形態1の液晶表示装置100において、光学設計条件は、これに限定されない。例えば、対向基板20のラビング方向は、Y軸に対して右下がり45°に限定されず、右下がり50°や右下がり60°に設定することも可能である。さらには、右上がり45°として素子基板10側のラビング方向と入れ替えることも可能である。各基板のラビング方向に対応して上下偏光板の透過軸の方向を設定することは言うまでもない。
(変形例2)上記実施形態1の液晶表示装置100は、TNモードに限定されない。例えば、画素の境界線に対して交差する方向にラビング処理が施されるものであれば、対向基板20に共通電極23を設けずに、素子基板10側に一対の電極を設け、液晶分子を一定方向に水平配向させるIPS(In Place Switching)方式やFFS(Fringe Field Switching)方式の液晶表示装置に対しても適用可能である。また、透過型に限定されず、反射型や半透過反射型の液晶表示装置に対しても適用可能である。
(変形例3)上記実施形態2において、上記実施形態1の液晶表示装置100が搭載される電子機器は、携帯型電話機300に限定されない。例えば、DVDプレーヤーやビューワー、ナビゲータなどの各種表示装置に好適に用いることができる。
5…スペーサ、10…第1の基板としての素子基板、18,28…配向膜、20…第2の基板としての対向基板、22…カラーフィルタ、50…液晶層、53a…遮光部、100…液晶表示装置、300…電子機器としての携帯型電話機。
Claims (10)
- 第1の基板および第2の基板と、
前記第1の基板と前記第2の基板とにより挟持された液晶層と、
前記第1の基板と前記第2の基板との間隔を保持するスペーサと、
前記第1の基板および前記第2の基板の前記液晶層に面する側に設けられ、ラビング方向が画素の境界線に対して交差するようにラビング処理が施された配向膜とを備え、
前記スペーサは、前記ラビング方向から見て略等間隔となるように前記第1の基板または前記第2の基板に複数設けられていることを特徴とする液晶表示装置。 - 前記スペーサは、前記ラビング方向から見て前記ラビング方向に対して直交する方向に略等間隔となるように複数設けられていることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
- 前記スペーサは、前記ラビング方向に沿って略等間隔に複数設けられていることを特徴とする請求項1または2に記載の液晶表示装置。
- 前記第1の基板および前記第2の基板のうちいずれか一方の画素領域にカラーフィルタを有し、
前記スペーサは、赤色、緑色、青色を含む少なくとも3色のうち特定の色の前記カラーフィルタを有する前記画素に対応する位置に配置されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の液晶表示装置。 - 前記スペーサは、前記ラビング方向に沿って配置された前記スペーサを結ぶ仮想直線が主に前記特定の色の前記カラーフィルタを有する前記画素に掛かるように、前記第1の基板または前記第2の基板に複数設けられていることを特徴とする請求項4に記載の液晶表示装置。
- 前記特定の色が青色であることを特徴とする請求項5に記載の液晶表示装置。
- 前記画素の配置がモザイク方式またはデルタ方式であることを特徴とする請求項5または6に記載の液晶表示装置。
- 複数の前記画素からなる表示領域の行方向または列方向において、少なくとも1行または1列置きに前記スペーサが配置されていることを特徴とする請求項7に記載の液晶表示装置。
- 前記第1の基板および前記第2の基板のうちいずれか一方に前記複数の前記画素を区画する遮光部を有し、
前記スペーサは、前記遮光部が設けられた遮光領域内に配置されていることを特徴とする請求項1乃至8のいずれか一項に記載の液晶表示装置。 - 請求項1乃至9のいずれか一項に記載の液晶表示装置を備えたことを特徴とする電子機器。
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-
2008
- 2008-08-29 JP JP2008221039A patent/JP2010054905A/ja active Pending
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