TWI794828B - 用於光源之控制設備及用於控制光源之方法 - Google Patents

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凱文 麥可 歐布萊恩
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美商希瑪有限責任公司
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/09Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
    • H01S3/097Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/14Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
    • H01S3/22Gases
    • H01S3/223Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms
    • H01S3/225Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms comprising an excimer or exciplex

Abstract

一種設備控制一光源之一閒置模式,該光源在生產模式期間產生一生產光束以供一輸出裝置使用。該設備包括:一指令單元及與該指令單元通信之一閒置單元。該指令單元經組態以產生一閒置計劃,該閒置計劃包括共同界定在一閒置模式中之該光源之操作的經寫碼屬性之一集合,在該閒置模式中並未產生該生產光束以供該輸出裝置使用。該集合中之每一屬性可被指派一連續值範圍內的任何值。該閒置單元經組態以與該光源通信。該閒置單元經組態以:自該指令單元接收該閒置計劃;儲存該閒置計劃;及在接收到與該閒置模式相關的一命令後,將該閒置計劃提供至該光源。

Description

用於光源之控制設備及用於控制光源之方法
所揭示主題係關於一種經組態以控制或操作閒置模式中之光源之設備。
光微影為將半導體電路系統型樣化於諸如矽晶圓之基板上的程序。光源產生用以曝光晶圓上之光阻之深紫外線(DUV)光。DUV光為具有自例如約100奈米(nm)至約400nm之波長的光。經常,光源為雷射源(例如準分子雷射)且DUV光為脈衝式雷射光束。來自光源之DUV光與投影光學系統相互作用,該投影光學系統將光束通過遮罩投影至矽晶圓上之光阻上。以此方式,晶片設計之層經型樣化至光阻上。隨後蝕刻及清潔光阻及晶圓,且接著光微影程序重複。
在一些一般態樣中,一種設備經組態以控制一光源之一閒置模式,該光源在生產模式期間產生一生產光束以供一輸出裝置使用。該設備包括:一指令單元及一閒置單元,該閒置單元與該指令單元通信且經組態以與該光源通信。該指令單元經組態以產生一閒置計劃,該閒置計劃包括共同界定在一閒置模式中之該光源之操作的經寫碼屬性之一集合,在 該閒置模式中並未產生該生產光束以供該輸出裝置使用。該集合中之每一屬性可被指派一連續值範圍內的任何值。該閒置單元經組態以:自該指令單元接收該閒置計劃;儲存該閒置計劃;及在接收到與該閒置模式相關的一命令後,將該閒置計劃提供至該光源。
實施方案可包括以下特徵中之一或多者。舉例而言,在該閒置模式期間,該光源可產生一脈衝式閒置光束,且經寫碼屬性之該集合可包括複數個點火型樣之一序列,每一點火型樣界定該脈衝式閒置光束。每一點火型樣可包括以下各者中之一或多者:該閒置光束產生脈衝之一速率;該閒置光束之該等脈衝之一能量;該閒置光束之該等脈衝之叢發之一總數目;每一叢發內之脈衝之一數目;叢發之間的一間隔;及擴展叢發之間的該間隔之暫停。
經寫碼屬性之該集合可包括以下各者中之一或多者:一電壓、兩個或多於兩個腔室之間的一放電時序目標;該光源內之一或多個屬性或設定;及提供至該光源內之致動器之一或多個信號。
該閒置單元可經組態以自以下各者中之一或多者接收與該閒置模式相關之該命令:該輸出裝置及不同於該輸出裝置之一實體。該閒置單元可經組態以在生產模式期間、在閒置模式期間或在除該生產模式及該閒置模式之外的一時間期間,接收與該閒置模式相關之該命令。
該設備可包括經組態以感測該光源之一或多個條件之一度量衡單元。該指令單元可與該度量衡單元通信,該指令單元經組態以基於對來自該度量衡單元之該等所感測條件中之一或多者的一分析而產生該閒置計劃。
該指令單元可經組態以基於來自一使用者之輸入而產生該 閒置計劃。該指令單元可經組態以基於對該光源之一先前狀態之一分析而產生該閒置計劃。該指令單元可經組態以基於尋求最佳化或改良該光源及該輸出裝置中之一或多者之一效能的一分析而產生該閒置計劃。該指令單元可經組態以基於包括判定該光源對該等經寫碼屬性中之一或多者之該等值之改變的一敏感度之一分析而產生該閒置計劃。該等經寫碼屬性中之一或多者之該等值的該等改變可包括以下各者中之一或多者:擴展該閒置光束之脈衝叢發之間的一間隔的暫停之改變;該閒置光束產生脈衝之速率之改變;該閒置光束之該等脈衝之能量的改變;該閒置光束之該等脈衝之叢發之總數目的改變;及每一叢發內之脈衝之數目的改變。該光源對該等經寫碼屬性中之一或多者之該等值之該等改變的該敏感度可藉由分析在該光源在一先前閒置模式中、在一先前生產模式中或在一先前閒置模式及一先前生產模式兩者中之操作期間自一度量衡單元收集的資料來判定。
在該閒置模式期間,該光源可經組態以產生一閒置光束或不產生光束。在該閒置模式期間,該光源可產生不屬於該輸出裝置所需之生產屬性之一集合的一脈衝式閒置光束。
在其他通用態樣中,一種設備包括:一光源;一生產單元,其經組態以與該光源通信;及一閒置單元,其經組態以與該光源通信。該光源經組態以處於複數個操作模式中之一者中,該複數個操作模式包括:一生產模式,在該生產模式中產生一生產光束以供一輸出裝置使用;及一閒置模式,在該閒置模式中並未產生該生產光束以供該輸出裝置使用。該生產單元經組態以在該生產模式期間操作該光源。該閒置單元經組態以:在任何時刻,包括在該光源之任何操作模式期間,接收一閒置計劃,該閒置計劃包括共同界定在該閒置模式中之該光源之操作的經寫碼屬 性之一集合;及在接收到一命令後,將該閒置計劃提供至該光源以藉此在該閒置模式期間操作該光源。
實施方案可包括以下特徵中之一或多者。舉例而言,一光束可為一脈衝式光束且經寫碼屬性之該集合可包括複數個點火型樣之一序列,每一點火型樣界定閒置脈衝式光束。每一點火型樣可包括以下各者中之一或多者:該閒置光束產生脈衝之一速率;該閒置光束之該等脈衝之一能量;該閒置光束之該等脈衝之叢發之一總數目;每一叢發內之脈衝之一數目;叢發之間的一間隔;及擴展叢發之間的該間隔之暫停。
經寫碼屬性之該集合可包括以下各者中之一或多者:一電壓、兩個或多於兩個腔室之間的一放電時序目標;該光源內之一或多個屬性或設定;及提供至該光源內之致動器之一或多個信號。
該閒置單元可經組態以自以下各者中之一或多者接收與該閒置模式相關之該命令:該輸出裝置及不同於該輸出裝置之一實體。該閒置單元可經組態以在生產模式期間、在閒置模式期間或在除該生產模式或該閒置模式之外的一時間期間,接收與該閒置模式相關之該命令。
該設備可包括經組態以感測該光源之一或多個條件之一度量衡單元。該設備可包括與該閒置單元及該度量衡單元通信之一指令單元,該指令單元經組態以產生該閒置計劃。
該閒置計劃之經寫碼屬性之該集合中的每一屬性可被指派一連續值範圍內的任何值。
該光源可經組態以接受、處理及執行該所提供閒置計劃,包括在該所提供閒置計劃內執行相關聯點火型樣。
該生產單元可為該輸出裝置內之一組件。
在其他通用態樣中,一種設備包括:複數個光源,至少一個光源相對於一輸出裝置在使用中;一生產單元;及一閒置單元。每一使用中光源經組態以處於複數個操作模式中之一者中,該複數個操作模式包括:一生產模式,在該生產模式中產生一生產光束以供該輸出裝置使用;及一閒置模式,在該閒置模式中並未產生該生產光束以供該輸出裝置使用。該生產單元經組態以與該使用中光源通信且在該生產模式期間操作該使用中光源。該閒置單元經組態以:在任何時刻,接收一閒置計劃,該閒置計劃包括共同界定在該閒置模式中之一或多個使用中光源之操作的經寫碼屬性之一集合;及在接收到一命令後,將該閒置計劃提供至該光源以藉此在該閒置模式期間操作該使用中光源。
實施方案可包括以下特徵中之一或多者。舉例而言,該閒置計劃可包括共同界定在該閒置模式中之複數個使用中光源之操作的經寫碼屬性之一集合。該閒置單元可經組態以將該閒置計劃提供至該複數個使用中光源中的該等使用中光源中之每一者,以藉此在各別閒置模式期間操作該等使用中光源。該閒置單元可經組態以將該閒置計劃提供至該複數個使用中光源中的該等使用中光源中之每一者,以藉此在不同時刻或同時或在重疊時刻在各別閒置模式期間操作該等使用中光源。
在該閒置模式期間,該使用中光源可產生一脈衝式閒置光束,且經寫碼屬性之該集合可包括複數個點火型樣之一序列,每一點火型樣界定該脈衝式閒置光束。
該閒置單元可經組態以自以下各者中之一或多者接收與該閒置模式相關之該命令:該輸出裝置及不同於該輸出裝置之一實體。
該設備可包括經組態以基於可程式化指令之一集合產生該 閒置計劃之一指令單元。
在其他通用態樣中,執行一種用於控制一光源之一模式之方法。該方法包括使能夠在一生產模式或一閒置模式中操作該光源,在該生產模式中該光源正產生一生產光束以供一輸出裝置使用,在該閒置模式中並未產生該生產光束以供該輸出裝置使用。該方法包括在任何時刻,包括在該生產模式中或在該閒置模式中操作該光源時,接收一閒置計劃,該閒置計劃包括共同界定在一閒置模式中之該光源之操作的經寫碼屬性之一集合。該方法亦包括在接收到與該閒置模式相關之一命令後,將該閒置計劃提供至該光源。
實施方案可包括以下特徵中之一或多者。舉例而言,可藉由以下操作中之一或多者將該閒置計劃提供至該光源:在停止於生產模式中操作該光源之後基於該所提供閒置計劃開始在閒置模式中操作該光源;及基於該所提供閒置計劃繼續在閒置模式中操作該光源。
該方法可包括儲存該閒置計劃。該方法可包括指示該光源在閒置模式中操作,包括指示該光源產生不屬於該輸出裝置所需之生產屬性之一集合的一閒置光束或不產生光束。該方法可包括基於以下各者中之一或多者產生該閒置計劃:對該光源之一或多個所感測到條件之一分析、來自一使用者之一輸入、對該光源之一先前狀態之一分析、尋求最佳化或改良該光源及該輸出裝置中之一或多者之一效能的一分析,及該光源對該等經寫碼屬性中之一或多者之值之改變的一敏感度。
可藉由將該閒置計劃提供至該光源直至不再接收到該命令為止來將該閒置計劃提供至該光源。
在其他通用態樣中,執行一種用於控制一光源之一模式之 方法。該方法包括使能夠在一生產模式中或在一閒置模式中操作該光源,在該生產模式中該光源正產生一生產光束以供一輸出裝置使用,在該閒置模式中並未產生該生產光束以供該輸出裝置使用。該方法包括接收一閒置計劃,該閒置計劃包括共同界定在一閒置模式中之該光源之操作的經寫碼屬性之一集合。該集合中之每一屬性可被指派一範圍內之任何值且不限於離散值之一集合。該方法包括在接收到與該閒置模式相關之一命令後,將該閒置計劃提供至該光源。
實施方案可包括以下特徵中之一或多者。舉例而言,可藉由以下操作將該閒置計劃提供至該光源:在停止於生產模式中操作該光源之後基於該所提供閒置計劃開始在閒置模式中操作該光源;及基於該所提供閒置計劃繼續在閒置模式中操作該光源。
該方法可包括儲存該閒置計劃。該方法可包括指示該光源在閒置模式中操作,包括指示該光源產生不屬於該輸出裝置所需之生產屬性之一集合的一閒置光束或不產生光束。該方法可包括基於以下各者中之一或多者產生該閒置計劃:對該光源之一或多個所感測到條件之一分析、來自一使用者之一輸入、對該光源之一先前狀態之一分析、尋求最佳化或改良該光源及該輸出裝置中之一或多者之一效能的一分析,及該光源對該等經寫碼屬性中之一或多者之值之改變的一敏感度。
100:設備
105:命令
110:指令單元
115:閒置計劃
120:閒置單元
140:光源
160:生產光束
162:閒置光束
165:輸出裝置
315:閒置計劃
316:序列
317i:點火型樣
400:實施
440:光源
441:激勵機構
442:增益介質
443:激勵信號
444:光學元件之集合
445:致動器信號
450:生產單元
451:度量衡單元
460:生產光束
525:單元
526:電子處理模組
527:電腦可讀記憶體模組
528:輸入/輸出模組
600:實施
640:光源
641A:伸長電極
641B:伸長電極
642A:增益介質
642B:增益介質
643A:主控振盪器(MO)/信號/電壓
643B:功率放大器(PA)/信號
645:種子光束
646A:放電腔室
646B:放電腔室
647A:光束轉向器/線窄化模組
647B:光束轉向光學元件
648A:輸出耦合器
648B:光束耦合光學系統
649:光束耦合光學系統
650:生產單元之實施/生產單元
651:度量衡單元
652:頻寬分析模組
653:光束製備系統
660:脈衝式生產光束/輸出光束
665:微影曝光設備
670:光微影系統
675:投影光學系統
676:晶圓
705A:命令
705C:命令
710:指令單元
715:閒置計劃
720A:閒置單元
720B:閒置單元
720C:閒置單元
740A:光源
740B:光源
740C:光源
750B:生產單元
760B:生產光束
762A:閒置光束
762C:閒置光束
765A:輸出裝置
765B:輸出裝置
765C:輸出裝置
778:設備
778A:光源系統
778B:光源系統
778C:光源系統
880:工序
881:步驟
882:步驟
883:步驟
890:工序
891:步驟
892:步驟
893:步驟
894:步驟
895:步驟
915t:測試閒置計劃
917T:測試點火型樣
962t:測試光束
圖1為包括指令單元及閒置單元之設備的方塊圖,該設備經組態以控制或操作處於閒置模式中之光源,該光源當在生產模式中操作時將生產光束提供至輸出裝置;圖2A為圖1之設備的方塊圖,其中光源在生產模式中操 作;圖2B為圖1之設備的方塊圖,其中光源在真閒置模式中操作;圖2C為圖1之設備的方塊圖,其中光源在暖閒置模式中操作;圖3為由設備產生並提供至光源的閒置計劃之實施的示意性說明,該閒置計劃提供關於在閒置模式中之操作的指令;圖4為光源之實施的方塊圖且亦包括生產單元及度量衡單元,該等單元中之一或多者可與設備通信;圖5為通用單元(其可對應於指令單元、閒置單元、生產單元或度量衡單元)之實施的方塊圖,該通用單元包括一或多個模組;圖6為光源及輸出裝置之實施的方塊圖,其中光源為雙載物台光源;圖7為包括圖1之指令單元以及複數個光源系統之設備之實施的方塊圖,其中每一光源系統包括相對於一各別輸出裝置配置之一各別光源;圖8為由圖1之設備、圖7之設備或圖7之光源系統中之任一者執行之工序結合藉由圖1、圖4、圖6及圖7之光源中之任一者執行之工序的流程圖;及圖9為在暖閒置模式中操作之圖1之設備之實施的方塊圖。
參看圖1,設備100經組態以控制或操作閒置模式中之光源140。如圖2A中所展示,在生產時間期間,光源140在生產模式中操作, 其中光源140產生一生產光束160以供輸出裝置165使用且視需要供輸出裝置165使用。相比之下,存在閒置時間,在此期間輸出裝置165並不需要生產光束160。在此等閒置時間期間,設備在閒置模式中操作光源140,在該閒置模式中並未產生生產光束160以供輸出裝置165使用。圖2B及圖2C展示用於閒置模式操作之兩種可能的組態。在圖2B中,在閒置模式中操作之光源140不產生任何光束,且此模式可被稱作真閒置模式。而在圖2C中,在閒置模式中操作之光源140產生閒置光束162,且此模式可被稱作暖閒置模式。閒置光束162具有可變化之屬性,且在各個時間此類屬性可能不對應於或可超出輸出裝置165所需之生產屬性集合的範疇。
在閒置模式期間,光源140處於待用狀態且準備好在接到指令後儘可能快速地切換回至生產模式。設備100經組態而以儘可能地減少光源140之磨損及劣化的方式在閒置模式中操作光源140。此外,設備100經組態而以將光源140保持處於實現自閒置模式之較快恢復之狀態的方式操作處於閒置模式中之光源140。亦即,設備100使得光源140能夠自閒置模式更快地轉變至生產模式,但仍減少光源140之劣化。設備100可防止光源140之不定期停工時間,且亦可改良可能在光源140之長期未使用或停工時間之後以其他方式降級的劑量穩定性。
設備100包括指令單元110,該指令單元經組態以產生閒置計劃115,該閒置計劃包括一同界定閒置模式中之光源140之操作的經寫碼屬性之集合。設備100包含與指令單元110通信之閒置單元120,該閒置單元120經組態以與光源140通信。閒置單元120經組態以自指令單元110接收閒置計劃115;且儲存閒置計劃115以供稍後使用。
在一些實施中,閒置單元120及指令單元110中之一或多者 不同於光源140及輸出裝置165。在其他實施中,閒置單元120及指令單元110中之一或多者整合於輸出裝置165內。
指令單元110可在任何適當時間將閒置計劃115提供至閒置單元120,只要在光源140需要執行閒置計劃115之前提供閒置計劃即可。如圖2B及圖2C中所展示,指令單元110已提供或正提供閒置計劃115至閒置單元120,且閒置單元120在接收到與閒置模式相關之命令105後將閒置計劃115提供至光源140。閒置單元120經組態以自以下各者中的一或多者接收與閒置模式相關的命令105:輸出裝置165及不同於輸出裝置165之實體。舉例而言,操作人員或另一電腦(諸如在輸出裝置165或指令單元110內)可將命令105提供至閒置單元120。此外,閒置單元120經組態以在生產模式期間、在閒置模式期間或在除生產模式及閒置模式之外的時間期間,接收與閒置模式相關的命令105。
光源140可為產生脈衝式生產光束160之脈衝式光源。在生產模式中操作光源140至少部分地歸因於對在高重複率及強脈衝功率下操作之要求而引起對光源140內之組件的磨損。因此,在生產模式中操作光源140亦使用光源140內之相當大的資源。因此,當輸出裝置165不再需要生產光束160時,減少光源140之使用率以防止光源140太快地磨損係有意義的。另一方面,此時完全關斷光源140可能並不實際,此係因為進行此操作使得在非作用中時段之後再起動光源140(用以返回至生產模式)花費更多的時間。自光源140之完全關斷執行再起動的此時間損失意謂操作輸出裝置165的時間損失,此造成輸出裝置165之操作中的效率損失。此外,光源140在自完全生產模式轉變至完全關斷或自非作用中時段轉變至完全生產模式時更可能遭受暫態效應(操作參數中之突波或尖峰)。由於此 情形,設備100以如下方式在閒置模式中操作光源140:減少所使用資源、減少暫態效應、擴展光源140之壽命且亦將光源140維持處於需要較少時間來再起動(亦即,返回至生產模式且準備好生產生產光束160)之狀態中。
暫態效應常常係高度可變的,在一個光源140與另一光源之間不同,隨時間推移而改變,且取決於彼特定光源140之使用的細節及歷史。暫態效應之表現亦可為可變的。亦參考以下之圖4及圖6,暫態效應包括例如激勵機構441之效率(諸如電壓效率)之改變、容納增益介質442的一或多個腔室中之能量叢發暫態之形狀及大小的變化、生產光束160之光譜頻寬之暫態、生產光束160之波長之變化、生產光束160之其他屬性(諸如指向、發散度及光束剖面)之變化、對生產光束160之脈衝重複率之改變的可變敏感度,及熱或溫度暫態。此等表現中之一些展現漸進行為,此係因為光源140恢復生產模式且達到穩定狀態操作。並且,每一表現之漸進行為可以不同於其他表現之漸近行為的速率收斂。
如下文更詳細地論述,設備100至少部分藉由使用閒置計劃115而啟用高效閒置模式且更快返回至生產模式,在閒置計劃115中,經寫碼屬性集合中之每一屬性可被指派在連續值範圍內之任何值。經寫碼屬性集合可被視為在連續值範圍內係無限可程式化的,且每一屬性可隨著時間推移而調整或修改。換言之,每一屬性不限於相異值之集合,且每一屬性可採用可經程式化之任何值,其中唯一限制在於其為實務限制而非理論限制。經寫碼屬性集合可包括任何數目個點火型樣,該等屬性可按任何次序配置,點火型樣之次序可在任何時間改變,屬性或點火型樣可為可重複的。
參考圖3,展示閒置計劃115的實例315,閒置計劃315包括點火型樣317i之序列316,其中i為任何正整數。每一點火型樣317i包括共同界定脈衝式閒置光束162之經寫碼屬性集合。舉例而言,序列316開始於以下點火型樣:[FP1]:[FP2]:[FP1]:[FP3]:[FP3]:[FP1]。另外,閒置計劃115之序列可為可重入的,此意謂序列在被執行時可被中斷且接著其可在其被阻止之序列中之點處再起動。或者,閒置計劃115中之序列可再起動,此意謂每次進入閒置模式時都從頭開始。
每一點火型樣317i包括例如以下各者中之一或多者:閒置光束產生脈衝之速率;閒置光束之脈衝之能量;閒置光束之脈衝叢發之總數目;每一叢發內之脈衝之數目;叢發之間的間隔;及擴展叢發之間的間隔之暫停。在所展示之實例中,點火型樣FPi可由此等經寫碼屬性給出:[CP1、CP2、CP3、CP4、CP5、CP6],其中CP1對應於閒置光束162之脈衝之叢發的總數目,CP2對應於產生閒置光束162之脈衝之重複率,CP3對應於閒置光束162之每一叢發內之脈衝的總數目,CP4對應於叢發之間的間隔,CP5對應於閒置光束162之目標能量,且CP6對應於擴展超出叢發間間隔的時間上之暫停。
在一些實施中,經寫碼屬性之集合包括以下各者中之一或多者:施加至光源140之激勵機構(諸如,光源440之激勵機構441)的電壓、在光源140之兩個或多於兩個腔室之間的放電時序或差分時序目標(諸如,在圖6之光源640中);光源140內之一或多個屬性或設定;及提供至光源140內之致動器之一或多個信號(諸如提供至光源440之致動器信號445)。設備100可使得能夠在任何時間產生閒置計劃115,即使在光源140處於生產模式中時亦如此(圖2A)。將在下文在對光源140及輸出裝置165 之結構進行論述之後更詳細地論述設備100之額外特徵及特性。
參考圖4,展示當在生產模式中操作時的光源140之實施440。光源440包括激勵機構441及由激勵機構441操作性地控制之增益介質442。光源440經組態以在生產模式期間產生脈衝式生產光束460。激勵信號443經施加至光源440且在光源440處於生產模式中時激勵激勵機構441。另一方面,光源440在閒置模式中操作,在閒置模式中閒置單元120將閒置計劃115提供至光源440且並未產生生產光束460以供輸出裝置165使用,如上文關於圖2B及圖2C所論述。當光源440處於閒置模式中(或不處於生產模式中)時,激勵信號443未經施加至光源440且激勵機構441未經激勵(諸如圖2B中所展示之閒置模式)或激勵信號443在閒置計劃115之控制下經施加(諸如圖2C中所展示之閒置模式)。
因此,當處於閒置模式中時,激勵信號443由閒置單元120產生,且當處於生產模式中時,激勵信號443由生產單元450產生。激勵信號443為足以使光源440產生生產光束460(且當在閒置模式中操作時亦產生閒置光束162)之任何類型的信號。
激勵機構441回應於激勵信號443而激勵增益介質442。增益介質442為適合於在輸出裝置165處之應用所需之波長、能量及頻寬下產生生產光束160的任何介質。舉例而言,增益介質442可為流體,諸如氣體或液體、晶體、玻璃或半導體。
激勵機構441為能夠激勵增益介質442之任何機構。舉例而言,激勵機構441可為複數個電極,該複數個電極在由該等電極定界之體積中產生放電,此放電激勵增益介質442。激勵信號443可為例如電信號(諸如電壓信號)或使得額外元件(諸如電壓源或電流源)產生經提供至激勵 機構441之電信號的命令信號。激勵信號443可為時變直流(DC)電信號或交流(AC)電信號,諸如正弦波電壓信號或方波電壓信號。此外,閒置計劃115中之一或多個經寫碼屬性可對應於激勵信號443之屬性,此類屬性包括時變信號之最大振幅、時變信號之平均振幅、時變信號之頻率、時變信號之作用區間循環及/或與時變信號相關之任何其他屬性。在其中光源440為雙載物台源(諸如圖6中所展示)之一些實施中,可能存在與各別增益介質442相關聯之激勵機構441之兩個集合。在此等實施中,可存在兩個激勵信號443,每一激勵信號經提供至激勵機構441中之一者,且差分時序設備經組態以控制該兩個激勵信號443之間的相對時序。在此等實施中,閒置計劃115之一或多個經寫碼屬性可進一步對應於此兩個激勵信號443之間的相對時序。
光源440亦可包括光學元件之集合444,該集合444包括用於與由增益介質442產生之光束相互作用、形成並調整該光束的一或多個光學裝置。此等光學元件可包括(例如)光譜特徵選擇設備,該光譜特徵選擇設備經組態以調整光束460之至少一個光譜特徵(諸如,波長或頻寬)。在一些實施中,光譜特徵選擇設備包括諸如稜鏡、鏡面及繞射元件之光學組件。可將一或多個致動器信號445提供至與集合444內之光學元件相關聯的致動器,以藉此控制光學元件之操作(例如,運動、幾何配置或其他實體態樣)。在生產模式期間,生產單元450可將致動器信號445供應至致動器。此外,閒置計劃115中之一或多個經寫碼屬性可對應於致動器信號445之屬性。
設備100之實施400展示為進一步包括度量衡單元451。度量衡單元451經組態以感測光源440之一或多個條件。指令單元110與度量 衡單元451通信。指令單元110經組態以基於來自度量衡單元451之所感測條件中之一或多者的分析產生閒置計劃115,如下文進一步論述。另外,度量衡單元451亦可與生產單元450通信。
參看圖5,可對應於指令單元110、閒置單元120、生產單元450或度量衡單元451之每一單元525可包括以下模組中之任一者:電子處理模組526、電腦可讀記憶體模組527及輸入/輸出模組528。電子處理模組526包括適合於執行電腦程式之一或多個處理器,諸如通用或專用微處理器,及任何種類之數位電腦之任一或多個處理器。通常,電子處理器自唯讀記憶體、隨機存取記憶體(RAM)或此兩者接收指令及資料。電子處理模組526可包括任何類型之電子處理器,其執行指令且存取儲存於記憶體模組527中之資料。電子處理器亦能夠將資料寫入至記憶體模組427。
記憶體模組527可為諸如RAM之揮發性記憶體,或非揮發性記憶體。在一些實施中,記憶體模組527包含非揮發性及揮發性部分或組件。記憶體模組527可儲存用於單元525之操作中之資料及資訊。舉例而言,閒置單元120內之記憶體模組527可儲存自指令單元110接收之閒置計劃115。作為另一實例,生產單元450內之記憶體模組527可儲存自光源440及/或輸出裝置165接收之資訊。
輸入/輸出模組528為允許單元525與操作員、光源440、其他單元及/或在另一電子裝置上執行之自動化程序交換資料及信號的任何種類之介面。舉例而言,指令單元110可經由指令單元110之輸入/輸出模組528接收與閒置計劃115相關之資料。在另一實例中,指令單元110可自光源440及/或輸出裝置165接收資料。輸入/輸出模組528可包括視覺顯示器、鍵盤及諸如平行埠、通用串列匯流排(USB)連接之通信介面及/或諸如 (例如)乙太網路之任何類型之網路介面中的一或多者。輸入/輸出模組528亦可允許經由(例如)IEEE 802.11、藍牙或近場通信(NFC)連接進行無實體接觸的通信。
單元525經由各別資料連接耦合至其他單元、光源440及/或輸出裝置165。此等資料連接可為實體纜線或其他實體資料管道(諸如支援基於IEEE 802.3進行之資料之傳輸的纜線)、無線資料連接(諸如經由IEEE 802.11或藍牙提供資料之資料連接)或有線資料連接與無線資料連接之組合。
雖然每一單元525(閒置單元120、指令單元110、生產單元450、度量衡單元451)被展示為單獨的實體,但在一些實施中,單元525中之一或多者有可能被實施為其他組件(諸如,光源440或輸出裝置165)或其他單元525之一部分。舉例而言,在一些實施中,生產單元450為在輸出裝置165內的或與輸出裝置165相關聯的組件。
參考圖6,光源140之實施640及設備100之實施600被展示為光微影系統670之一部分。光源640產生脈衝式生產光束660,該脈衝式生產光束被提供至作為微影曝光設備665之輸出裝置165。舉例而言,光源640為輸出脈衝式生產光束660(其可為雷射光束)之準分子光源。當脈衝式生產光束660進入微影曝光設備665時,該脈衝式生產光束經引導通過投影光學系統675且投影至晶圓676上以在晶圓676上之光阻上形成一或多個微電子特徵。光微影系統670亦包括生產單元350之實施650。在圖6之實例中,生產單元650連接至光源640及微影曝光設備665之組件。在此實例中,生產單元650可自微影曝光設備665接收與脈衝式生產光束660相關之資料或其他資訊,及/或可將命令發送至微影曝光設備665。另外,生 產單元650可自度量衡單元651接收與光源640相關之資料。在其他實例中,生產單元650僅連接至光源640。
在圖6中所展示之實例中,光源640為雙載物台雷射系統,其包括將種子光束645提供至功率放大器(PA)643B之主控振盪器(MO)643A。MO 643A及PA 643B可被認為係光源640之子系統,或作為光源640之部分的系統。功率放大器643B自主控振盪器643A接收種子光束645且放大種子光束645以產生用於微影曝光設備665中之生產光束660。舉例而言,主控振盪器643A可發射脈衝式種子光束645,其具有每脈衝大致1毫焦(mJ)之種子脈衝能量,且此等種子脈衝可藉由功率放大器643B放大至約10mJ至15mJ。
主控振盪器643A包括具有兩個伸長電極641A(其構成激勵機構341)之放電腔室646A、作為氣體混合物之增益介質642A,及用於使氣體在電極641A之間循環之風扇。共振器形成於放電腔室646A之一側上的光束轉向器647A(其可構成線窄化模組)與放電腔室646A之第二側上的輸出耦合器648A之間。線窄化模組647A可包括繞射光學裝置,諸如微調放電腔室646A之光譜輸出之光柵。
光源640亦包括視需要修改輸出光束之大小或形狀以形成種子光束645的光束耦合光學系統649。
度量衡單元651可包括接收輸出光束(來自輸出耦合器648A之種子光束645)之線中心分析模組。線中心分析模組為可用以量測或監測光譜特徵(諸如種子光束645之波長)的量測系統。線中心分析模組可置放於光源640中之其他位置處,或其可置放於光源640之輸出端處。
功率放大器643B包括光束耦合光學系統648B,該光束耦 合光學系統自主控振盪器643A接收種子光束645且將種子光束引導通過放電腔室646B,且引導至光束轉向光學元件647B,該光束轉向光學元件修改或改變種子光束645之方向使得種子光束被發送回至放電腔室646B中。放電腔室646B包括一對伸長電極641B、作為氣體混合物之增益介質642B,及用於使氣體混合物在電極641B之間循環之風扇。
用於各別放電腔室646A、646B中之增益介質642A、642B的氣體混合物可為適合於在輸出裝置(微影曝光設備665)處之應用所需之波長及頻寬下產生光束的任何氣體。對於準分子源,除作為緩衝氣體之氦氣及/或氖氣之外,氣體混合物可含有諸如(例如)氬氣或氪氣之惰性氣體(稀有氣體)、諸如(例如)氟或氯之鹵素及痕量的氙。氣體混合物之特定實例包括在約193nm之波長下發射光的氟化氬(ArF)、在約248nm之波長下發射光的氟化氪(KrF),或在約351nm之波長下發射光的氯化氙(XeCl)。藉由將電壓643(激勵信號443)施加至各別伸長電極641A、641B,在高電壓放電中用短(例如,奈秒)電流脈衝泵浦準分子增益介質(氣體混合物)。
度量衡單元651亦可包括頻寬分析模組652,其中可量測光束660之各種參數(諸如頻寬及/或波長之光譜特徵)。輸出光束660亦可經引導通過光束製備系統653。光束製備系統653可包括例如脈衝拉伸器,其中輸出光束660之脈衝中之每一者在時間上例如在光延遲單元中被拉伸,以調整照射微影曝光設備665之光束的效能屬性。光束製備系統653亦可包括能夠作用於光束660之其他組件,諸如(例如)反射及/或折射光學元件(諸如(例如)透鏡及鏡面)、濾光器及光學孔徑(包括自動化遮光片)。
生產光束660係脈衝式光束,且可包括在時間上彼此分離的一或多個脈衝叢發。每一叢發可包括一或多個光脈衝。在一些實施中, 一叢發包括數百個脈衝,例如100至400個脈衝。
如上文所論述,當藉由將電壓643A施加至電極641A來泵浦增益介質642A(或642B)時,增益介質642A發射光。當將電壓643A以脈衝形式施加至電極641A時,自增益介質642A發射之光亦為脈衝式。因此,脈衝式生產光束660之重複率係藉由將電壓643A施加至電極641A之速率而判定,其中每次施加電壓643A都會產生光脈衝。光脈衝傳播通過增益介質642A且通過輸出耦合器648A射出腔室646A。因此,藉由將電壓643A週期性地重複施加至電極641A而產生脈衝串。脈衝之重複率可在約500Hz與6,000Hz之間的範圍內。在一些實施中,重複率大於6,000Hz,且可為例如12,000Hz或更大。
來自生產單元650之信號亦可用以控制能量分別在主控振盪器643A及功率放大器643B內施加至電極641A、641B,以用於控制主控振盪器643A及功率放大器643B之各別脈衝能量,且因此控制生產光束660之能量。提供至電極641A之信號643A與提供至電極641B之信號643B之間可存在延遲。延遲量可影響生產光束660之屬性,諸如生產光束660中之相干性量或生產光束660之頻寬。脈衝式生產光束660可具有在數十瓦特範圍內,例如約50W至約130W之平均輸出功率。輸出端處之光束660之輻照度(亦即,每單位面積平均功率)可在60W/cm2至80W/cm2之範圍內。
再次參看圖1,如上文所論述,指令單元110產生閒置計劃115,且將所產生之閒置計劃115提供至與光源140相關聯之閒置單元120。在接收到命令105後,閒置單元120將閒置計劃115提供至光源140以藉此在閒置模式中操作光源140,如圖2B及圖2C中所展示。可將所產生之 閒置計劃115應用於複數個相異的光源。此配置之實施展示於圖7中。在圖7中,設備778包括指令單元710及三個光源系統778A、778B、778C,其中每一光源系統778A、778B、778C包括一各別光源740A、740B、740C。雖然在設備778中展示三個光源系統778A、778B、778C,但閒置計劃115有可能待應用於僅一個或兩個或多於三個光源系統。
每一光源740A、740B、740C可相對於其各別輸出裝置765A、765B、756C在任何時間在使用中。類似於光源140,每一光源740A、740B、740C經組態以處於包括以下各者之複數個操作模式中的一者中:生產模式,其中產生生產光束以供輸出裝置765A、765B、765C使用;及閒置模式,其中並未產生生產光束以供輸出裝置765A、765B、765C使用。在圖7中所展示之時間點,光源740A、740C在閒置模式中操作且產生各別閒置光束762A、762C,而光源740B在生產單元750B之控制下在生產模式中操作且產生生產光束760B。
指令單元710將閒置計劃715供應至每一各別閒置單元720A、720B、720C(在閒置計劃715由光源實施之前)。此外,閒置單元720A、720C已接收各別命令705A、705C,以將閒置計劃715提供至各別光源740A、740C。可在任何時間將閒置計劃715提供至光源740A、740B、740C(在閒置計劃715已由各別閒置單元720A、720B、720C接收到之後)。舉例而言,可將閒置計劃同時提供至兩個或多於兩個光源,諸如圖7中所展示提供至光源740A、740C。或者,可在相異的時間提供閒置計劃,諸如圖7中所展示,其中閒置計劃715未被提供至光源740B,而是被提供至光源740A、740C。以此方式,閒置計劃715係模組化的。
光源740A、740B、740C可共用一些共同屬性,而一些屬 性可為相異的。作為一實例,指定高達6000Hz之點火脈衝重複率的閒置計劃715可僅應用於能夠進行6000Hz操作之光源而不應用於能夠進行不大於4000Hz之重複率的光源。可需要共用光源740A、740B、740C之間的一些其他屬性以便使閒置計劃715之模組性在全部三個光源740A、740B、740C之間起作用。
參考圖8,工序880係由設備100(或設備400)執行以用於控制光源140(或光源440、640、740A、740B、740C中之任一者)之操作模式。結合由光源140執行之工序890來執行該工序880。
工序880包括產生閒置計劃115(881),該閒置計劃115包括共同界定在閒置模式中之光源140之操作的經寫碼屬性之集合。工序880亦包括判定是否接收到命令105(882),且若已接收到命令105,則將閒置計劃115提供至光源14(883)。
工序890包括在生產模式中操作光源140,在該生產模式中光源140正產生生產光束160以供輸出裝置165使用(891)。工序890包含判定是否接收到閒置命令(892)。閒置命令為指示光源140在閒置模式中操作之命令,在該閒置模式中並未產生生產光束160以供輸出裝置165使用。此外,閒置命令(指示光源140在閒置模式中操作)係由諸如生產單元450之外部實體或手動使用者提供。為了使光源140能夠在接收到閒置命令(892)後進入閒置模式,提供閒置計劃115(883)需要在接收到閒置命令(892)之前發生。
光源140在接收到閒置命令(892)後執行所提供之閒置計劃115(893)。特定言之,光源140基於所提供之閒置計劃115在閒置模式中操作(893)。另外,工序890亦可包括在開始於閒置模式中操作之前停止在 生產模式中之光源140的操作。舉例而言,在於892處接收到閒置命令後,光源140可停止在生產模式中之操作。當在閒置模式中操作(893)時,光源140判定是否接收到結束在閒置模式中之操作的指令或命令(諸如來自生產單元450或使用者)(894),且若接收到此指令(894),則光源判定是否接收到進入生產操作模式之指令(895)。若接收到進入生產操作模式之指令(895),則光源在生產模式中操作(891)。否則,工序890結束。
接下來論述工序880及工序890之細節。特定言之,可在生產單元450之控制下使光源140能夠在生產模式中操作(891)。替代地,可在閒置單元120之控制下使光源140能夠在閒置模式中操作(893)。在藉由指令單元110產生閒置計劃115(881)之後,可將閒置計劃115發送至閒置單元120且由閒置單元120儲存該閒置計劃115直至在閒置單元120處接收到命令105(882)為止。閒置單元120可自以下各者中之一或多者接收命令105(882):輸出裝置165及不同於輸出裝置165之實體(諸如使用者或另一電腦或機器)。閒置單元120可自指令單元110接收命令105(882)。閒置單元120可在光源140在生產模式中操作時、在光源140在閒置模式中操作時或在除生產模式及閒置模式中之操作之外的時間期間或在工序890期間的任何時間接收命令105(882)。閒置單元120可將閒置計劃115提供至光源140(883)。
在光源140處接收到閒置計劃115可在任何時刻發生,包括在生產模式中操作光源140時,只要其發生在接收到閒置命令(892)之前即可。替代地或另外地,有可能在於閒置模式中操作(893)時接收到新的閒置計劃115。此外,(閒置計劃115之)經寫碼屬性之集合中的每一屬性可被指派一範圍內之任何值且該值不限於離散值之集合。
如上文所提及,工序880亦可包括在產生閒置計劃115(881)之後儲存該閒置計劃115(例如儲存於閒置單元120處)。特定言之,若在閒置單元120在產生閒置計劃115(881)之後接收到該閒置計劃115與閒置單元120接收到命令(882)之間存在延遲,則儲存閒置計劃115可為有幫助的。舉例而言,可將閒置計劃115儲存於閒置單元120之記憶體模組527內。
提供至光源140(在883處)之閒置計劃115可伴隨著開始在閒置模式中操作的指令(892)。至光源140的開始在閒置模式中操作之此指令可包括產生閒置光束162之一或多個指令,此閒置光束162為不屬於輸出裝置140所需之生產屬性之集合的光束,諸如圖2C中所展示。至光源140的開始在閒置模式中操作之此指令(892)可包括根本不產生光束之一或多個指令,諸如圖2B中所展示。
如上文所論述,光源140可產生脈衝式光束作為生產光束160及作為閒置光束162。閒置計劃115之經寫碼屬性之集合可包括點火型樣之序列,其中每一點火型樣界定脈衝式閒置光束162,諸如圖3中所展示。點火型樣FPi包括一或多個經寫碼屬性。可能的經寫碼屬性之實例包括:閒置光束162產生脈衝之速率;閒置光束162之脈衝之能量;閒置光束162之脈衝之叢發的總數目;每一叢發內之脈衝之數目;叢發之間的時間間隔;及擴展閒置光束162之脈衝叢發之間的時間間隔之時間暫停。
在上文參看圖4所論述之實施中,經寫碼屬性之集合可包括提供至激勵機構441之激勵信號443之值。因此,在上文所論述之實例中,此激勵信號443可為提供至電極之電壓,且因此經寫碼屬性可包括與此電壓相關聯之值或值集合。在上文參看圖6所論述之實施中,經寫碼屬 性之集合可包括兩個或多於兩個腔室646A、646B之間的放電時序之目標值。此放電時序可對應於由主控振盪器643A產生之脈衝的出現與由功率放大器643B產生之脈衝的出現之間的時序差。
經寫碼屬性之集合可包括光源140內之一或多個屬性或設定。經寫碼屬性之集合可包括提供至光源140內之致動器之一或多個信號。舉例而言,經寫碼屬性之集合可包括提供至控制線窄化模組647A內之光學元件之致動器的一或多個信號。與線窄化模組647A相關聯之致動器中之一者可調整一或多個稜鏡相對於光柵之位置或角度,以藉此調整種子光束645(及因此,在閒置模式期間自種子光束645產生之閒置光束)之光譜屬性。
如上文參看圖8所論述,指令單元110產生閒置計劃115(881)。指令單元110可基於對光源140之一或多個所感測到條件之分析而產生閒置計劃115(881)。舉例而言,可將光源140之所感測到條件自度量衡單元451提供至指令單元110。指令單元110可基於來自使用者之輸入例如經由指令單元110內之輸入/輸出模組528而產生閒置計劃115(881)。指令單元110可基於對光源140之先前狀態之分析而產生閒置計劃115(881)。指令單元110可基於尋求最佳化或改良光源140及輸出裝置165中之一或多者之效能的分析而產生閒置計劃115(881)。
指令單元110可基於包括判定光源140對經寫碼屬性中之一或多者之值之改變的敏感度之分析而產生閒置計劃115(881)。舉例而言,指令單元110可藉由修改經寫碼屬性之值且接著分析光源140之所感測條件如何改變(藉助於度量衡單元451)來探測光源140。指令單元110可判定光源140對擴展閒置光束162之脈衝叢發之間的間隔之暫停之改變的 敏感度。指令單元110可判定光源140對閒置光束162產生脈衝之速率之改變的敏感度。指令單元110可判定光源140對閒置光束162之脈衝之能量之改變的敏感度。指令單元110可判定光源140對閒置光束162之脈衝叢發之總數目之改變的敏感度。指令單元110可判定光源140對閒置光束162之每一叢發內之脈衝數目之改變的敏感度。指令單元110可藉由分析光源140在先前閒置模式中、在先前生產模式中或在先前閒置模式及先前生產模式兩者中之操作期間自度量衡單元451收集的資料,來判定光源140對經寫碼屬性中之一或多者之值之改變的敏感度。
藉由判定此敏感度,指令單元110可判定如何最佳地產生閒置計劃115(881)。
在一些實施中,工序890亦可包括一或多個查詢(其可在閒置模式操作期間在任何時間發生),每一查詢判定是否已接收到指令來結束閒置模式操作(894)並進入生產模式操作(895)。工序890可在接收到此指令後自光源140在閒置模式中之操作切換至生產模式。並且,工序890有可能進一步包括在閒置操作模式期間監測一或多個信號(893),且若一或多個信號超出臨限值,則自閒置模式自動切換至生產模式(在步驟894處是,且在步驟895處是)。
在圖8中所展示之實施中,在閒置模式中之操作期間藉由光源140無限地重複閒置計劃115(893)。因此,在此實施中,為了停止在閒置模式中操作,光源140將需要接收停止或阻止之命令(894)。在其他實施中,重複閒置計劃115有限次數,之後光源140自動地停止在閒置模式中操作(且進入真閒置模式,其中光源140停止產生任何光束直至以其他方式命令光源140為止(例如,若光源140被指示進入生產模式(895)或進入另 一閒置模式(892)))。在此情形下,閒置計劃115具有有限數目個點火型樣([FPi],其中i為有限的),且在所有點火型樣耗盡之後,光源140自動地停止點火且等待下一指令來進入生產模式(891)或等待接收待載入及執行之新閒置計劃115(893)。
接下來論述可能的閒置模式及閒置計劃115之一些實例,包括如何產生閒置計劃115。閒置模式及閒置計劃115中之任一者可在任何時間操作,且彼此並不相互排斥。因此,有可能由指令單元110針對光源140以特定方式產生閒置計劃之第一集合,而由指令單元針對同一光源140以不同方式產生閒置計劃之第二集合。閒置計劃之第一集合及閒置計劃之第二集合可在不同時間使用,且基於光源140之操作或輸出裝置165之狀態的周圍的情形來選擇使用。
在一項實例中,閒置計劃115包括啟用/停用旗標,該啟用/停用旗標指示光源140在真閒置模式或暖閒置模式中操作,在該真閒置模式中光源140並不產生光束之任何脈衝,如圖2B中所展示,在該暖閒置模式中光源140產生閒置光束162,如圖2C中所展示。舉例而言,若旗標經設定為「啟用」,則此為在接收到閒置計劃115後至光源140的在暖閒置模式中操作的指令。替代地,啟用/停用旗標有可能包括於提供至閒置單元120之命令105中;使得閒置單元120在提供停用旗標的情況下指示光源140進入真閒置模式,而不必將整個閒置計劃115提供至光源140。另外,命令105亦可用以指示閒置單元120停止或退出處於暖閒置模式中之光源140的操作。在其他實施中,即使光源140已接收要遵循之閒置計劃115且正在暖閒置模式中操作,亦可謹慎或必要使光源140實際上根本不產生閒置光束162,即使光源140被命令在閒置模式中操作亦如此。舉例而言, 輸出裝置165之操作員可將光束162之節省脈衝放在首位,且願意接受在退出閒置模式且進入生產模式之後的一些效能降級。或者,可需要對指示光源140在暖閒置模式中操作之閒置計劃115之容易且快速的覆寫。
在一些實施中,命令105為諸如由使用者或由輸出裝置165提供的外部手動命令。可在任何時間發送命令105。在其他實施中,在發生自動事件後發送命令105。舉例而言,若度量衡單元451感測到需要停止生產光束160(或閒置光束162)的錯誤,則可將命令105發送至閒置單元120以指示光源140進入真閒置模式。在此實例中,度量衡單元451將命令105傳達至閒置單元120。
在一些實施中,產生閒置計劃115且以手動組態提供閒置計劃115。圖3中所展示之序列316(包含閒置計劃115中用於在暖閒置模式中操作的點火型樣317i)可在檔案、其他媒體中列出,或可在執行於指令單元110上的軟體內經硬寫碼(且作為閒置計劃115經提供至閒置單元120)。以此方式,序列316經預程式化。光源140執行閒置計劃115中所含有之序列316。可將閒置計劃115儲存於可在光源140本端的閒置單元120中,或一些緊密耦合硬體中,諸如(例如)與光源140通信之通用電腦。此類通用電腦可自光源140接收資料,將命令發送至光源140,儲存資料,且將資料發送至其他使用者,諸如輸出裝置165之操作員、客戶或現場服務人員。通用電腦可執行程式(運用其自光源140接收之資料),作出決策,且決定將哪些控制命令發送至光源140或將哪些資料發送至使用者。此類通用電腦可用以實施閒置單元120。
在其他實施中,產生閒置計劃115且以動態組態將閒置計劃115提供至光源140。在動態組態中,指令單元110判定閒置計劃115, 包括點火型樣317i之序列316,且提供閒置計劃115至閒置單元120,該閒置單元120將閒置計劃115提供至光源140。光源140接受閒置計劃115且在暖閒置模式中操作。
閒置計劃115自閒置單元120至光源140之傳輸可藉由將新檔案上傳至光源140內之控制器而發生,且光源140中之控制器讀取並執行該檔案。在其他實施中,閒置單元120諸如當經實施於上文所論述之通用電腦內時直接控制光源140。在另其他實施中,閒置單元120可控制光源140之一些態樣(諸如(例如)致動器設定)且光源140中之機載控制器可控制其他態樣(諸如脈衝速率及叢發型樣)。
在一些實施中,閒置計劃115自閒置單元120至光源140之傳輸可藉由藉助於一或多個命令、資料、現存組態項目(諸如可組態項、參數及/或機器常數)之串流直接傳輸至由光源140內之控制器操作的軟體而發生。
在其他實施中,指令單元110可使用動態自適應組態產生點火型樣317i之序列316。指令單元110可使用在光源140之先前或當前操作期間由光源140或度量衡單元451收集之資料以產生閒置計劃115。指令單元110可執行用以最佳化光源140遍及某一參數空間之效能之程序,且接著指令單元110可連續地或週期性地更新該程序。
在動態自適應組態之一些實施中,指令單元110在光源140操作以產生用於輸出裝置165之生產光束160時使用自光源140所感測到及儲存之資料。舉例而言,參看圖6,指令單元110可在微影曝光設備665處理若干晶圓676的同時使用自處於生產模式中之光源640獲得的資料。指令單元110可判定光源640對於分解成範圍之點火暫停之每一長度的敏感 性程度;舉例而言,暫停可在自叢發間間隔(其可花費50至100毫秒(ms))至晶圓線改變(其可花費100至200ms)、至晶圓交換(其可花費15至60秒)、至批次交換(其可花費至少300秒)、至較長暫停之範圍內。指令單元110可判定光源140對哪些暫停範圍最敏感,且接著指令單元可根據彼等暫停範圍設置點火型樣317i以指示光源140產生閒置光束162之脈衝。
作為另一實例,指令單元110可調整閒置計劃115以確保光源140以一種方式操作,該方式確保氣體控制器以維持氣體混合物(諸如氣體混合物642)之可接受狀態的方式作出回應。舉例而言,閒置計劃115可經調整以確保氣體混合物642之特定成分維持高於氣體混合物642內之某一濃度。
作為另一實例,指令單元110可在預設時間將進入暖閒置模式的命令105發送至閒置單元120,而無需等待被指示。
在動態自適應組態之其他實施中,指令單元110可在先前暖閒置模式中之操作期間獲得自光源140收集之資料(例如,經由度量衡單元451)以判定光源140對特定屬性或屬性改變之敏感程度,諸如在光源140之點火(其在閒置光束162之脈衝之間產生暫停)時之暫停、產生閒置光束162之脈衝之重複率、閒置光束162之脈衝之能量目標及作用區間循環。參看圖9,指令單元110及/或閒置單元120甚至可將測試閒置計劃915t發送至光源140以根據測試點火型樣917T之集合操作光源140且產生測試光束962t。指令單元110可以產生處於最敏感條件(或屬性)之脈衝的方式對閒置計劃115(包括序列316及點火型樣317i)作出調整,因此允許光源140在此等最敏感條件下訓練其之其他自適應或學習演算法。實現此情形之一種方式係使閒置單元120在一個方向上調整點火型樣917T且接著指令 單元110可判定敏感度是否藉由此調整而增加(例如,藉由分析來自度量衡單元451之一或多個輸出)。若指令單元110判定敏感度增加,則閒置單元120可繼續調整點火型樣917T,直至指令單元110判定敏感度停止以增加(或減小或達到邊界)為止。若敏感度並未藉由此調整增加,則閒置單元120可在不同(例如,正交或相反)方向上進行調整。
在動態自適應組態之其他實施中,指令單元110在更長的時段內(例如,對於生產光束160之數百萬或數千萬個脈衝)自度量衡單元451獲得資料。指令單元110可基於此資料判定是否需要較高作用區間循環。舉例而言,提供至指令單元110之資料可指示產生閒置光束162之脈衝的效率降低,且效率降低並未藉由氣體注入(諸如氟氣注入)至容納增益介質442之一或多個腔室中而充分補償,此係因為此類氣體注入係藉由開環控制方法在當前閒置計劃115下被控管。閒置光束162之作用區間循環之增加可導致氟控制方法轉變至閉環控制,藉此增加氟氣體注入之濃度且改良效率。最終,一旦效率已恢復至可接受的位準,閒置光束162之作用區間循環就減小,以減少在閒置模式期間點火之脈衝的總數目,且因此節省光源140之磨損及總成本。此動態自適應操作係可能的,此係因為指令單元110(其產生閒置計劃115)充滿了光源140之其他部分如何起作用之知識(諸如氣體控制及操作效率),且指令單元110能夠基於此知識及光源140之效能之量測值來決定如何調整閒置計劃115以達成所希望的結果。
在動態自適應組態之其他實施中,指令單元110可使用關於光源140如何點火(亦即,產生光束(其可為生產光束160或閒置光束162)之脈衝)之先前資料,以判定此光源140之冷起動的嚴重性。冷起動為自閒置模式(亦即,不產生閒置光束162)至生產模式之轉變。「嚴重」的冷起動 需要更多轉變時間。對於遭受更嚴重冷起動之彼等光源140,指令單元110可建立更積極之閒置計劃115。舉例而言,更積極之閒置計劃115可包括以較高作用區間循環產生脈衝以防止光源140內之模組變得過「冷」。若模組需要過多時間自閒置模式轉變至生產模式,則模組係過冷的。另一方面,若光源140之冷起動不太嚴重,則指令單元110可產生具有較低作用區間循環或較長暫停或甚至無脈衝產生之不太積極的閒置計劃115(圖2B)。
在其他實施中,不論何時設備100偵測到機會可獲得,設備100就可經組態以起動暖閒置模式。舉例而言,指令單元110可判定光源140已處於真閒置模式中歷時相當長的時間且變得過冷,且接近冷起動將需要大量時間之狀態。在此狀況下,指令單元110可將命令105發送至閒置單元120以自動進入暖閒置模式(使用閒置計劃115)以保持光源140足夠暖以高效地再起動。
可使用以下條項進一步描述實施例:
1.一種用於控制一光源之一閒置模式之設備,該光源在生產模式期間產生供一輸出裝置使用之一生產光束,該設備包含:一指令單元,其經組態以產生一閒置計劃,該閒置計劃包括共同界定在一閒置模式中之該光源之操作的經寫碼屬性之一集合,在該閒置模式中,並未產生該生產光束以供該輸出裝置使用,其中該集合中之每一屬性可被指派一連續值範圍內之任何值;及一閒置單元,其與該指令單元通信且經組態以與該光源通信,該閒置單元經組態以:自該指令單元接收該閒置計劃; 儲存該閒置計劃;及在接收到與該閒置模式相關之一命令後,將該閒置計劃提供至該光源。
2.如條項1之設備,其中在該閒置模式期間,該光源產生一脈衝式閒置光束,且經寫碼屬性之該集合包含複數個點火型樣之一序列,每一點火型樣界定該脈衝式閒置光束。
3.如條項2之設備,其中每一點火型樣包括以下各者中之一或多者:該閒置光束產生脈衝之一速率;該閒置光束之該等脈衝之一能量;該閒置光束之該等脈衝之叢發之一總數目;每一叢發內之脈衝之一數目;叢發之間的一間隔;及擴展叢發之間的該間隔之暫停。
4.如條項1之設備,其中經寫碼屬性之該集合包含以下各者中之一或多者:一電壓、兩個或多於兩個腔室之間的一放電時序目標;該光源內之一或多個屬性或設定;及提供至該光源內之致動器之一或多個信號。
5.如條項1之設備,其中該閒置單元經組態以自以下各者中之一或多者接收與該閒置模式相關之該命令:該輸出裝置及不同於該輸出裝置之一實體。
6.如條項1之設備,其中該閒置單元經組態以在生產模式期間、在閒置模式期間或在除該生產模式及該閒置模式之外的一時間期間,接收與該閒置模式相關之該命令。
7.如條項1之設備,其進一步包含經組態以感測該光源之一或多個條件之一度量衡單元。
8.如條項7之設備,其中該指令單元與該度量衡單元通信,該指令單元經組態以基於對來自該度量衡單元之該等所感測條件中之一或多者的一 分析而產生該閒置計劃。
9.如條項1之設備,其中該指令單元經組態以基於來自一使用者之輸入產生該閒置計劃。
10.如條項1之設備,其中該指令單元經組態以基於對該光源之一先前狀態之一分析而產生該閒置計劃。
11.如條項1之設備,其中該指令單元經組態以基於尋求最佳化或改良該光源及該輸出裝置中之一或多者之一效能的一分析而產生該閒置計劃。
12.如條項1之設備,其中該指令單元經組態以基於包括判定該光源對該等經寫碼屬性中之一或多者之該等值之改變的一敏感度之一分析來產生該閒置計劃。
13.如條項12之設備,其中該等經寫碼屬性中之一或多者之該等值的該等改變包括以下各者中之一或多者:擴展該閒置光束之脈衝叢發之間的一間隔的暫停之改變;該閒置光束產生脈衝之速率之改變;該閒置光束之該等脈衝之能量的改變;該閒置光束之該等脈衝之叢發之總數目的改變;及每一叢發內之脈衝之數目的改變。
14.如條項12之設備,其中判定該光源對該等經寫碼屬性中之一或多者之該等值之該等改變的該敏感度包括分析在該光源在一先前閒置模式中、在一先前生產模式中或在一先前閒置模式及一先前生產模式兩者中之操作期間自一度量衡單元收集的資料。
15.如條項1之設備,其中在該閒置模式期間,該光源經組態以產生一閒置光束或不產生光束。
16.如條項1之設備,其中,在該閒置模式期間,該光源產生不屬於 該輸出裝置所需之生產屬性之一集合的一脈衝式閒置光束。
17.一種設備,其包含:一光源,其經組態以處於複數個操作模式中之一者中,該複數個操作模式包括:一生產模式,在該生產模式中產生一生產光束以供一輸出裝置使用;及一閒置模式,在該閒置模式中並未產生該生產光束以供該輸出裝置使用;一生產單元,其經組態以與該光源通信且在該生產模式期間操作該光源;以及一閒置單元,其經組態以與該光源通信且經組態以:在任何時刻,包括在該光源之任何操作模式期間,接收一閒置計劃,該閒置計劃包括共同界定在該閒置模式中之該光源之操作的經寫碼屬性之一集合;及在接收到一命令後,將該閒置計劃提供至該光源以藉此在該閒置模式期間操作該光源。
18.如條項17之設備,其中在該閒置模式期間,該光源產生一脈衝式光束,且經寫碼屬性之該集合包含複數個點火型樣之一序列,每一點火型樣界定該閒置脈衝式光束。
19.如條項18之設備,其中每一點火型樣包括以下各者中之一或多者:該閒置光束產生脈衝之一速率;該閒置光束之該等脈衝的一能量;該閒置光束之該等脈衝之叢發之一總數目;每一叢發內之脈衝之一數目;叢發之間的一間隔;及擴展叢發之間的該間隔之暫停。
20.如條項17之設備,其中經寫碼屬性之該集合包含以下各者中之一或多者:一電壓、兩個或多於兩個腔室之間的一放電時序目標;該光源內之一或多個屬性或設定;及提供至該光源內之致動器之一或多個信號。
21.如條項17之設備,其中該閒置單元經組態以自以下各者中之一或多者接收與該閒置模式相關之該命令:該輸出裝置及不同於該輸出裝置之一實體。
22.如條項17之設備,其中該閒置單元經組態以在生產模式期間、在閒置模式期間或在除該生產模式或該閒置模式之外的一時間期間,接收與該閒置模式相關之該命令。
23.如條項17之設備,其進一步包含經組態以感測該光源之一或多個條件之一度量衡單元。
24.如條項23之設備,其進一步包含與該閒置單元及該度量衡單元通信之一指令單元,該指令單元經組態以產生該閒置計劃。
25.如條項17之設備,其中該閒置計劃之經寫碼屬性之該集合中的每一屬性可被指派一連續值範圍內的任何值。
26.如條項17之設備,其中該光源經組態以接受、處理及執行該所提供閒置計劃,包括在該所提供閒置計劃內執行相關聯點火型樣。
27.如條項17之設備,其中該生產單元為該輸出裝置內之一組件。
28.一種設備,其包含:複數個光源,至少一個光源相對於一輸出裝置在使用中,且每一使用中光源經組態以處於複數個操作模式中之一者中,該複數個操作模式包括:一生產模式,在該生產模式中產生一生產光束以供該輸出裝置使 用;及一閒置模式,在該閒置模式中並未產生該生產光束以供該輸出裝置使用;一生產單元,其經組態以與該使用中光源通信且在該生產模式期間操作該使用中光源;以及一閒置單元,其經組態以:在任何時刻接收一閒置計劃,該閒置計劃包括共同界定在該閒置模式中之一或多個使用中光源之操作的經寫碼屬性之一集合;及在接收到一命令後,將該閒置計劃提供至該使用中光源以藉此在該閒置模式期間操作該使用中光源。
29.如條項28之設備,其中該閒置計劃包括共同界定複數個使用中光源在該閒置模式中之操作的經寫碼屬性之一集合。
30.如條項29之設備,其中該閒置單元經組態以將該閒置計劃提供至該複數個使用中光源中的該等使用中光源中之每一者,以藉此在各別閒置模式期間操作該等使用中光源。
31.如條項30之設備,其中該閒置單元經組態以將該閒置計劃提供至該複數個使用中光源中的該等使用中光源中之每一者,以藉此在不同時刻或同時或在重疊時刻在各別閒置模式期間操作該等使用中光源。
32.如條項28之設備,其中在該閒置模式期間,該使用中光源產生一脈衝式閒置光束,且經寫碼屬性之該集合包含複數個點火型樣之一序列,每一點火型樣界定該脈衝式閒置光束。
33.如條項28之設備,其中該閒置單元經組態以自以下各者中之一或多者接收與該閒置模式相關之該命令:該輸出裝置及不同於該輸出裝置之 一實體。
34.如條項28之設備,其進一步包含經組態以基於可程式化指令之一集合產生該閒置計劃之一指令單元。
35.一種用於控制一光源之一模式之方法,該方法包含:使能夠在一生產模式或一閒置模式中操作該光源,在該生產模式中該光源正產生一生產光束以供一輸出裝置使用,在該閒置模式中並未產生該生產光束以供該輸出裝置使用;在任何時刻,包括在該生產模式中或在該閒置模式中操作該光源時,接收一閒置計劃,該閒置計劃包括共同界定在一閒置模式中之該光源之操作的經寫碼屬性之一集合;及在接收到與該閒置模式相關之一命令後,將該閒置計劃提供至該光源。
36.如條項35之方法,其中將該閒置計劃提供至該光源包含以下各操作中之一或多者:在停止於生產模式中操作該光源之後基於該所提供閒置計劃開始在閒置模式中操作該光源;及基於該所提供閒置計劃繼續在閒置模式中操作該光源。
37.如條項35之方法,其進一步包含儲存該閒置計劃。
38.如條項35之方法,其進一步包含指示該光源在閒置模式中操作,包括指示該光源產生不屬於該輸出裝置所需之生產屬性之一集合的一閒置光束或不產生光束。
39.如條項35之方法,其進一步包含基於以下各者中之一或多者產生該閒置計劃:對該光源之一或多個所感測到條件之一分析、來自一使用者 之一輸入、對該光源之一先前狀態之一分析、尋求最佳化或改良該光源及該輸出裝置中之一或多者之一效能的一分析,及該光源對該等經寫碼屬性中之一或多者之值之改變的一敏感度。
40.如條項35之方法,其中將該閒置計劃提供至該光源包含將該閒置計劃提供至該光源,直至不再接收到該命令為止。
41.一種用於控制一光源之一模式之方法,該方法包含:使能夠在一生產模式中或在一閒置模式中操作該光源,在該生產模式中該光源正產生一生產光束以供一輸出裝置使用,在該閒置模式中並未產生該生產光束以供該輸出裝置使用;接收一閒置計劃,該閒置計劃包括共同界定在一閒置模式中之該光源之操作的經寫碼屬性之一集合,其中該集合中之每一屬性可被指派一範圍內之任何值且不限於離散值之一集合;及在接收到與該閒置模式相關之一命令後,將該閒置計劃提供至該光源。
42.如條項41之方法,其中將該閒置計劃提供至該光源包含以下各操作中之一或多者:在停止於生產模式中操作該光源之後基於該所提供閒置計劃開始在閒置模式中操作該光源;及基於該所提供閒置計劃繼續在閒置模式中操作該光源。
43.如條項41之方法,其進一步包含儲存該閒置計劃。
44.如條項41之方法,其進一步包含指示該光源在閒置模式中操作,包括指示該光源產生不屬於該輸出裝置所需之生產屬性之一集合的一閒置光束或不產生光束。
45.如條項41之方法,其進一步包含基於以下各者中之一或多者產生該閒置計劃:對該光源之一或多個所感測到條件之一分析、來自一使用者之一輸入、對該光源之一先前狀態之一分析、尋求最佳化或改良該光源及該輸出裝置中之一或多者之一效能的一分析,及該光源對該等經寫碼屬性中之一或多者之值之改變的一敏感度。
其他實施方案係在申請專利範圍之範疇內。
115:閒置計劃
880:工序
881:步驟
882:步驟
883:步驟
890:工序
891:步驟
892:步驟
893:步驟
894:步驟
895:步驟

Claims (30)

  1. 一種用於控制一光源之一閒置模式(idle mode)之設備,該光源在生產模式(production mode)期間產生供一輸出裝置使用之一生產光束,該設備包含:一指令單元,其經組態以產生一閒置計劃,該閒置計劃包括共同界定在一閒置模式中之該光源之操作的經寫碼屬性(coded properties)之一集合,在該閒置模式中,並未產生該生產光束以供該輸出裝置使用,其中該集合中之每一屬性可被指派一連續值範圍內之任何值;及一閒置單元,其與該指令單元通信且經組態以與該光源通信,該閒置單元經組態以:自該指令單元接收該閒置計劃;儲存該閒置計劃;及在接收到與該閒置模式相關之一命令後,將該閒置計劃提供至該光源。
  2. 如請求項1之設備,其中在該閒置模式期間,該光源產生一脈衝式閒置光束,且經寫碼屬性之該集合包含複數個點火型樣之一序列,每一點火型樣界定該脈衝式閒置光束。
  3. 如請求項2之設備,其中每一點火型樣包括以下各者中之一或多者:該閒置光束產生脈衝之一速率;該閒置光束之該等脈衝之一能量;該閒置光束之該等脈衝之叢發之一總數目;每一叢發內之脈衝之一數目;叢發之 間的一間隔;及擴展叢發之間的該間隔之暫停。
  4. 如請求項1之設備,其中經寫碼屬性之該集合包含以下各者中之一或多者:一電壓、兩個或多於兩個腔室之間的一放電時序目標;該光源內之一或多個屬性或設定;及提供至該光源內之致動器之一或多個信號。
  5. 如請求項1之設備,其中該閒置單元經組態以自以下各者中之一或多者接收與該閒置模式相關之該命令:該輸出裝置;及不同於該輸出裝置之一實體。
  6. 如請求項1之設備,其中該閒置單元經組態以在生產模式期間、在閒置模式期間或在除該生產模式及該閒置模式之外的一時間期間,接收與該閒置模式相關之該命令。
  7. 如請求項1之設備,其進一步包含經組態以感測該光源之一或多個條件之一度量衡單元。
  8. 如請求項7之設備,其中該指令單元與該度量衡單元通信,該指令單元經組態以基於對來自該度量衡單元之該等所感測條件中之一或多者的一分析而產生該閒置計劃。
  9. 如請求項1之設備,其中該指令單元經組態以基於以下各者中之一或多者而產生該閒置計劃: 來自一使用者之輸入;對該光源之一先前狀態之一分析;尋求最佳化或改良該光源及該輸出裝置中之一或多者之一效能的一分析;及包括判定該光源對該等經寫碼屬性中之一或多者之值之改變的一敏感度的一分析。
  10. 如請求項9之設備,其中該等經寫碼屬性中之一或多者之該等值的該等改變包括以下各者中之一或多者:擴展該閒置光束之脈衝叢發之間的一間隔的暫停之改變;該閒置光束產生脈衝之速率之改變;該閒置光束之該等脈衝之能量的改變;該閒置光束之該等脈衝之叢發之總數目的改變;及每一叢發內之脈衝之數目的改變。
  11. 如請求項9之設備,其中判定該光源對該等經寫碼屬性中之一或多者之該等值之該等改變的該敏感度包括:分析在該光源在一先前閒置模式中、在一先前生產模式中或在一先前閒置模式及一先前生產模式兩者中之操作期間自一度量衡單元收集的資料。
  12. 如請求項1之設備,其中在該閒置模式期間:該光源經組態以產生一閒置光束或不產生光束;或該光源產生不屬於該輸出裝置所需之生產屬性之一集合的一脈衝式閒置光束。
  13. 一種用於控制一光源之一閒置模式之設備,其包含:該光源,其經組態以處於複數個操作模式中之一者中,該複數個操作模式包括:一生產模式,在該生產模式中產生一生產光束以供一輸出裝置使用;及一閒置模式,在該閒置模式中並未產生該生產光束以供該輸出裝置使用;一生產單元,其經組態以與該光源通信且在該生產模式期間操作該光源;以及一閒置單元,其經組態以與該光源通信且經組態以:在任何時刻,包括在該光源之任何操作模式期間,接收一閒置計劃,該閒置計劃包括共同界定在該閒置模式中之該光源之操作的經寫碼屬性之一集合;及在接收到一命令後,將該閒置計劃提供至該光源以藉此在該閒置模式期間操作該光源。
  14. 如請求項13之設備,其進一步包含與該閒置單元通信之一指令單元,該指令單元經組態以產生該閒置計劃。
  15. 如請求項13之設備,其中該閒置計劃之經寫碼屬性之該集合中的每一屬性可被指派一連續值範圍內的任何值。
  16. 如請求項13之設備,其中該光源經組態以接受、處理及執行該所提 供閒置計劃,包括在該所提供閒置計劃內執行相關聯點火型樣。
  17. 如請求項13之設備,其中該生產單元為該輸出裝置內之一組件。
  18. 一種用於控制一光源之一閒置模式之設備,其包含:複數個光源,至少一個光源相對於一輸出裝置在使用中,且每一使用中光源經組態以處於複數個操作模式中之一者中,該複數個操作模式包括:一生產模式,在該生產模式中產生一生產光束以供該輸出裝置使用;及一閒置模式,在該閒置模式中並未產生該生產光束以供該輸出裝置使用;一生產單元,其經組態以與該使用中光源通信且在該生產模式期間操作該使用中光源;以及一閒置單元,其經組態以:在任何時刻接收一閒置計劃,該閒置計劃包括共同界定在該閒置模式中之一或多個使用中光源之操作的經寫碼屬性之一集合;及在接收到一命令後,將該閒置計劃提供至該使用中光源以藉此在該閒置模式期間操作該使用中光源。
  19. 如請求項18之設備,其中該閒置計劃包括共同界定在該閒置模式中之複數個使用中光源之操作的經寫碼屬性之一集合。
  20. 如請求項19之設備,其中該閒置單元經組態以:將該閒置計劃提供至該複數個使用中光源中的該等使用中光源中之每一者,以藉此在各別閒置模式期間操作該等使用中光源;或將該閒置計劃提供至該複數個使用中光源中的該等使用中光源中之每一者,以藉此在不同時刻或同時或在重疊時刻在各別閒置模式期間操作該等使用中光源。
  21. 如請求項18之設備,其中在該閒置模式期間,該使用中光源產生一脈衝式閒置光束,且經寫碼屬性之該集合包含複數個點火型樣之一序列,每一點火型樣界定該脈衝式閒置光束。
  22. 如請求項18之設備,其進一步包含經組態以基於可程式化指令之一集合產生該閒置計劃之一指令單元。
  23. 一種用於控制一光源之一模式之方法,該方法包含:使能夠在一生產模式或一閒置模式中操作該光源,在該生產模式中該光源正產生一生產光束以供一輸出裝置使用,在該閒置模式中並未產生該生產光束以供該輸出裝置使用;在任何時刻,包括在該生產模式中或在該閒置模式中操作該光源時,接收一閒置計劃,該閒置計劃包括共同界定在一閒置模式中之該光源之操作的經寫碼屬性之一集合;及在接收到與該閒置模式相關之一命令後,將該閒置計劃提供至該光源。
  24. 如請求項23之方法,其中將該閒置計劃提供至該光源包含以下各操作中之一或多者:在停止於生產模式中操作該光源之後基於該所提供閒置計劃開始在閒置模式中操作該光源;及基於該所提供閒置計劃繼續在閒置模式中操作該光源。
  25. 如請求項23之方法,其進一步包含儲存該閒置計劃。
  26. 如請求項23之方法,其進一步包含指示該光源在閒置模式中操作,包括指示該光源產生不屬於該輸出裝置所需之生產屬性之一集合的一閒置光束或不產生光束。
  27. 如請求項23之方法,其進一步包含基於以下各者中之一或多者產生該閒置計劃:對該光源之一或多個所感測到條件之一分析、來自一使用者之一輸入、對該光源之一先前狀態之一分析、尋求最佳化或改良該光源及該輸出裝置中之一或多者之一效能的一分析,及該光源對該等經寫碼屬性中之一或多者之值之改變的一敏感度。
  28. 如請求項23之方法,其中將該閒置計劃提供至該光源包含:將該閒置計劃提供至該光源,直至不再接收到該命令為止。
  29. 一種用於控制一光源之一模式之方法,該方法包含: 使能夠在一生產模式中或在一閒置模式中操作該光源,在該生產模式中該光源正產生一生產光束以供一輸出裝置使用,在該閒置模式中並未產生該生產光束以供該輸出裝置使用;接收一閒置計劃,該閒置計劃包括共同界定在一閒置模式中之該光源之操作的經寫碼屬性之一集合,其中該集合中之每一屬性可被指派一範圍內之任何值且不限於離散值之一集合;及在接收到與該閒置模式相關之一命令後,將該閒置計劃提供至該光源。
  30. 如請求項29之方法,其中將該閒置計劃提供至該光源包含以下各操作中之一或多者:在停止於生產模式中操作該光源之後基於該所提供閒置計劃開始在閒置模式中操作該光源;及基於該所提供閒置計劃繼續在閒置模式中操作該光源。
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Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201247024A (en) * 2011-05-12 2012-11-16 Jetwell Technology Co Ltd Light control timer
CN203233569U (zh) * 2013-03-06 2013-10-09 北京同步科技有限公司 智能灯光断电后再通电的节能设备
US20140207211A1 (en) * 2010-09-03 2014-07-24 Geragem Medisys Inc. Apparatus for Irradiating Skin Using Light
JP5877372B2 (ja) * 2012-03-02 2016-03-08 パナソニックIpマネジメント株式会社 照明制御装置及び照明システム
US9380664B2 (en) * 2014-10-21 2016-06-28 General Electric Company Microcontroller burst mode to maintain voltage supply during standby mode of a lighting system
CN106793240A (zh) * 2015-11-23 2017-05-31 财团法人工业技术研究院 发光装置的驱动方法与发光装置
US9867261B2 (en) * 2016-04-08 2018-01-09 Generalplus Technology Inc. Light emitting device with dimming visible light communication function and interaction device applying for visible light
CN207854235U (zh) * 2018-01-17 2018-09-11 伍谊兵 多参数可查询智能光源装置

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7848835B2 (en) * 2006-06-02 2010-12-07 Cymer, Inc. High power laser flat panel workpiece treatment system controller
JP5114767B2 (ja) * 2006-10-10 2013-01-09 株式会社小松製作所 狭帯域化レーザのスペクトル幅調整装置
US8391329B2 (en) * 2009-01-26 2013-03-05 Coherent, Inc. Gas laser discharge pre-ionization using a simmer-discharge
US8160113B2 (en) * 2009-07-21 2012-04-17 Mobius Photonics, Inc. Tailored pulse burst
EP2759316A2 (en) * 2011-09-02 2014-07-30 Ceragem Medisys Inc. Apparatus for irradiating skin using light
GB2497108B (en) * 2011-11-30 2014-10-01 Thales Holdings Uk Plc Laser system and associated method of operation
US10226837B2 (en) * 2013-03-15 2019-03-12 Nlight, Inc. Thermal processing with line beams
US9762023B2 (en) * 2015-12-21 2017-09-12 Cymer, Llc Online calibration for repetition rate dependent performance variables

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20140207211A1 (en) * 2010-09-03 2014-07-24 Geragem Medisys Inc. Apparatus for Irradiating Skin Using Light
TW201247024A (en) * 2011-05-12 2012-11-16 Jetwell Technology Co Ltd Light control timer
JP5877372B2 (ja) * 2012-03-02 2016-03-08 パナソニックIpマネジメント株式会社 照明制御装置及び照明システム
CN203233569U (zh) * 2013-03-06 2013-10-09 北京同步科技有限公司 智能灯光断电后再通电的节能设备
US9380664B2 (en) * 2014-10-21 2016-06-28 General Electric Company Microcontroller burst mode to maintain voltage supply during standby mode of a lighting system
CN106793240A (zh) * 2015-11-23 2017-05-31 财团法人工业技术研究院 发光装置的驱动方法与发光装置
US9867261B2 (en) * 2016-04-08 2018-01-09 Generalplus Technology Inc. Light emitting device with dimming visible light communication function and interaction device applying for visible light
TWI616071B (zh) * 2016-04-08 2018-02-21 凌通科技股份有限公司 應用於可見光的可調光與光通訊之發光裝置與互動裝置
CN207854235U (zh) * 2018-01-17 2018-09-11 伍谊兵 多参数可查询智能光源装置

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