TWI794311B - 發光模組及整合式發光模組 - Google Patents

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Abstract

本發明之課題係提供一種抑制亮度不均之發光模組。 本發明之發光模組具備：基體10，其具有導體配線；發光元件21，其以電性連接於導體配線之方式配置於基體；光反射膜22，其設置於發光元件之上表面；及半反射鏡51，其與發光元件隔開，位於發光元件之光提取面側；且關於半反射鏡51之垂直入射時之分光反射率，於較發光元件21所出射之光之峰值波長更長之長波長側較大。

Description

發光模組及整合式發光模組
本發明係關於一種發光模組及整合式發光模組。
近年來，提出將使用半導體發光元件之正下型之面發光模組作為用於液晶顯示裝置等顯示裝置之背光單元。從功能性、設計性等觀點出發，有時要求顯示裝置為薄型，且亦要求背光單元為更薄型。又，對於一般照明用發光模組，從功能性、設計性等觀點出發亦有時要求其為薄型。
若使此種用途之發光模組薄型化，則一般而言容易產生發光面之亮度不均。尤其於將複數個發光元件一維或二維地排列之情形時，發光元件之正上方之亮度與其周圍相比變高。因此，例如，專利文獻1揭示有如下技術，於將發光元件密封並作為透鏡發揮功能之樹脂體之表面、且為發光元件之正上方區域附近，部分地配置擴散構件，從而提高從光源出射之光之均一性。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]國際公開第2012/099145號
[發明所欲解決之問題]
本發明提供一種抑制亮度不均之發光模組。 [解決問題之技術手段]
本發明之發光模組具備：基體，其具有導體配線；發光元件，其以電性連接於上述導體配線之方式配置於上述基體；光反射膜，其設置於上述發光元件之上表面；及半反射鏡，其與上述發光元件隔開，位於上述發光元件之光提取面側；且關於半反射鏡之垂直入射時之分光反射率，於較發光元件所出射之光之峰值波長更長之長波長側較大。 [發明之效果]
根據本發明，提供一種抑制發光元件之上方之區域與其周圍之區域之亮度不均的發光模組。
以下，一面參照圖式一面對本發明之發光模組及整合式發光模組之實施形態進行說明。以下所說明之發光模組及整合式發光模組僅為實施形態之一例，關於實施形態所說明之形態能進行各種改變。於以下之說明中，有時使用表示特定之方向或位置之用語(例如，「上」、「下」、「右」、「左」及包含其等用語之其他用語)。使用該等用語僅僅為了使所參照之圖式中之相對方向或位置容易理解。若所參照之圖式中之「上」、「下」等用語所表示之相對方向或位置之關係相同，則對於本發明以外之圖式、及實際之製品等，亦可並非與所參照之圖式相同之配置。又，為了使圖式所表示之構成要素之大小及位置關係等容易理解，故有時被誇張表示，有時不會嚴格地反映實際之發光模組中之大小、或實際之發光模組中之構成要素間之大小關係。再者，為了避免圖式變得過於複雜，會於示意性的剖視圖等中省略一部分要素之圖式。
(第1實施形態) 圖1A係表示本實施形態之發光模組101之剖面構造之一部分之模式圖。圖1B係放大表示發光模組101之一部分剖面構造之模式圖。發光模組101具備基體10、發光元件21、光反射膜22、及半反射鏡51。以下，對各構成要素進行詳細說明。
[基體10] 基體10具有上表面，並支持發光元件21。又，基體10向發光元件21供給電力。基體10例如包含基材11與導體配線12。基體10亦可進一步包含絕緣層13。
基材11例如由酚樹脂、環氧樹脂、聚醯亞胺樹脂、BT樹脂、聚鄰苯二甲醯胺(PPA,polyphthalamide)、及聚對苯二甲酸乙二酯(PET,polyethylene terephthalate)等樹脂、以及陶瓷等構成。其中，就低成本與成型容易性之觀點出發，較佳為選擇具有絕緣性之樹脂。或者，為了實現耐熱性及耐光性優異之發光模組，亦可選擇陶瓷作為基材11之材料。作為陶瓷，例如，可列舉氧化鋁、莫來石、矽酸鎂石、玻璃陶瓷、氮化物系(例如，AlN)、及碳化物系(例如，SiC)等。其中，較佳為包含氧化鋁或以氧化鋁為主成分之陶瓷。
又，當構成基材11之材料使用樹脂之情形時，將玻璃纖維、SiO2 、TiO2 、Al2 O3 等無機填料混合至樹脂，從而亦可實現機械性強度之提高、熱膨脹率之低減、及光反射率之提高等。又，基材11亦可為於金屬板形成有絕緣層之複合板。
導體配線12具有特定之配線圖案。導體配線12與發光元件21之電極電性連接，並將來自外部之電力供給至發光元件21。配線圖案包含與發光元件21之正極連接之正極配線、及與發光元件21之負極連接之負極配線。導體配線12形成於作為發光元件21之載置面之基體10之至少上表面。導體配線12之材料可根據基材11之材料、及基材11之製造方法等從導電性材料中適當選擇。例如，當使用陶瓷作為基材11之材料之情形時，導體配線12之材料較佳為具有亦能承受陶瓷片材之煅燒溫度之高熔點之材料，例如較佳為使用鎢、及鉬之類的高熔點金屬。於含有上述高熔點金屬之配線圖案上，亦可藉由鍍覆、濺鍍、及蒸鍍等，進一步具有鎳、金、及銀等其他金屬材料之層。
當使用樹脂作為基材11之材料之情形時，導體配線12之材料較佳為易加工之材料。又，當使用射出成形之樹脂之情形時，導體配線12之材料較佳為容易進行沖切加工、蝕刻加工、及彎曲加工等加工且具有相對較大之機械性強度之材料。具體而言，較佳為藉由銅、鋁、金、銀、鎢、鐵、及鎳等金屬、或是鐵-鎳合金、磷青銅、含鐵銅、鉬等金屬層或引線框架等而形成導體配線12。又，導體配線12亦可於由該等金屬形成之配線圖案的表面上進一步具備其他金屬材料之層。該層之材料沒有特別限定，例如可使用僅含有銀之層、或含有銀與銅、金、鋁、及銠等之合金之層、或是該等使用銀、各合金之多層。由其他金屬材料形成之層可藉由鍍覆、濺鍍、及蒸鍍等來形成。
[絕緣層13] 基體10亦可包含絕緣層13。於基體10中，絕緣層13覆蓋導體配線12中之發光元件21等所連接之部分，並設置於基材11上。即，絕緣層13具有電性絕緣性，且覆蓋導體配線12之至少一部分。較佳為絕緣層13具有光反射性。因絕緣層13具有光反射性，故能使從發光元件21向基體10側出射之光反射，從而提高光之提取效率。又，因絕緣層13具有光反射性，故能使從光源出射並照到例如含有擴散板或波長轉換構件等之透光積層體之光之中的、反射後返回至基體10側之光反射，從而可提高光之提取效率。藉由使由該等基體反射之光亦透過透光積層體，從而可更加抑制亮度不均。
絕緣層13之材料只要為對從發光元件21出射之光之吸收較少且具有絕緣性之材料，則無特別限定。例如，可使用環氧、矽酮、改性矽酮、聚胺酯樹脂、氧雜環丁烷樹脂、丙烯酸樹脂、聚碳酸酯、及聚醯亞胺等樹脂材料。當賦予絕緣層13光反射性之情形時，可使絕緣層13之上述樹脂材料含有添加於後述之底部填充材料之白色系填料。以下，對白色系填料進行詳細說明。
[發光元件21] 發光模組101具備配置於基體10之1個或複數個發光元件21。當發光模組101具備複數個發光元件21之情形時，發光元件21於基體10上一維或二維地排列。配置於基體10之發光元件21可使用各種形態之發光元件。於本實施形態中發光元件21為發光二極體。發光元件21所出射之光之波長可任意地選擇。例如，作為藍色、綠色之發光元件，可使用利用氮化物系半導體(Inx Aly Gal-x-y N、0≦X、0≦Y、X+Y≦1)、ZnSe及GaP等半導體之發光元件。又，作為紅色之發光元件，可使用利用GaAlAs、AlInGaP等半導體之發光元件。又，亦可使用含有該等之外之材料之半導體發光元件。所使用之發光元件之組成、發光色、大小、個數等可根據目的適當選擇。
當對於來自發光元件21之光使用波長轉換構件進行波長轉換之情形時，發光元件21較佳為使用氮化物半導體(Inx Aly Ga1-x-y N、0≦X、0≦Y、X+Y≦1)，該氮化物半導體出射可高效地激發波長轉換構件所包含之波長轉換材料的短波長之光。可根據半導體層之材料及混晶度選擇各種發光波長。發光元件21可於相同面側具有正極及負極，亦可於不同面具有正極及負極。
發光元件21例如具有生長用基板、及積層於生長用基板之上之半導體層。半導體層包含n型半導體層、p型半導體層及被其等夾住之活性層。負極及正極分別電性連接於n型半導體層及p型半導體層。生長用基板可使用例如透光性之藍寶石基板等。
發光元件21之n側電極及p側電極經由連接構件23覆晶安裝於基體10。具體而言，發光元件21之p側電極及n側電極藉由連接構件23而與基體10之導體配線12所包含之正極配線及負極配線電性連接。發光元件21之與形成有n側電極及p側電極之面相反側之面、即作為透光性之藍寶石基板之主面之上表面21a成為光提取面。於本實施形態中，為了降低發光元件21之正上方亮度，於上表面21a配置光反射膜22。因此，發光元件21之側面21c成為實質性的光提取面。
[連接構件23] 如上所述，連接構件23將p側電極及n側電極、與導體配線之正極配線及負極配線連接。連接構件23包含導電性材料。例如，連接構件23之材料為含Au合金、含Ag合金、含Pd合金、含In合金、含Pb-Pd合金、含Au-Ga合金、含Au-Sn合金、含Sn合金、含Sn-Cu合金、含Sn-Cu-Ag合金、含Au-Ge合金、含Au-Si合金、含Al合金、含Cu-In合金、及金屬與助焊劑之混合物等。
作為連接構件23，可使用液狀、糊狀、及固體狀(片材狀、嵌段狀、粉末狀、導線狀)之連接構件，並可根據組成或支持體之形狀等適當選擇。又，該等連接構件23可由單一構件形成，或是亦可將多種構件組合使用。
[底部填充構件24] 發光元件21與基體10之間亦可配置底部填充構件24。以使來自發光元件21之光高效地反射、以及使熱膨脹率接近發光元件21等為目的，底部填充構件24較佳為含有填料。於本實施形態中，發光元件21之側面21c亦為光提取面，故底部填充構件24較佳為如圖1所示不覆蓋側面21c。
底部填充構件24包含作為母材之對來自發光元件之光之吸收較少的材料。例如，可使用環氧、矽酮、改性矽酮、聚胺酯樹脂、氧雜環丁烷樹脂、丙烯酸樹脂、聚碳酸酯、聚醯亞胺等。
作為底部填充構件24之填料，若為白色系填料，光更易被反射，且可實現光之提取效率之提高。又，作為填料，較佳為使用無機化合物。此處之白色亦包含即便填料本身為透明、但當其與填料之周圍之材料之折射率有差異時因散射顯示為白色之情形。
填料之反射率，對於發光元件21之發光波長之光，較佳為50%以上，更佳為70%以上。藉此，可提高發光模組101之光之提取效率。又，填料之粒徑較佳為1 nm以上10 μm以下。藉由將填料之粒徑設為該範圍，從而使作為底部填充材料之樹脂流動性變好，即便於較窄之間隙亦可良好地填充作為底部填充構件24之材料。再者，填料之粒徑較佳為100 nm以上5 μm以下，進而較佳為200 nm以上2 μm以下。又，填料之形狀可為球形，亦可為鱗片形狀。
作為填料材料，具體而言，可列舉SiO2 、Al2 O3 、Al(OH)3 、MgCO3 、TiO2 、ZrO2 、ZnO、Nb2 O5 、MgO、Mg(OH)2 、SrO、In2 O3 、TaO2 、HfO、SeO、及Y2 O3 等氧化物、SiN、AlN、及AlON等氮化物、以及MgF2 之類的氟化物等。該等材料可單獨使用，亦可混合使用。
[光反射膜22] 光反射膜22使入射之光之一部分反射，並使一部分透過。光反射膜22設置於發光元件21之上表面21a。根據此構成，從發光元件21之上表面21a出射之光之一部分於光反射膜22反射，返回至發光元件21，並從發光元件21之側面21c出射。結果，可降低從發光元件21之上表面21a出射之光之量，降低發光元件21之上方之亮度，並抑制使用發光模組101構成背光單元等情形時之亮度不均。
光反射膜22之反射率，對於發光元件21之峰值波長，較佳為20%以上80%以下。當反射率未達20%之情形時，從上表面21a出射之光之量之降低不充分，故亮度不均之抑制不充分。又，當反射率大於80%之情形時，從上表面21a出射之光之量之降低變得過大，即便使用後述之半反射鏡51，因上表面21a上方區域之亮度低於其周圍之區域，導致難以抑制亮度不均。
藉由光反射膜22，發光元件21所出射之光之全光量之30%以上較佳為相對於基體10之上表面以未達20゜之仰角出射。根據此種配光特性，能以從發光元件21出射光之方式調整光反射膜22之反射率。
光反射膜22可由金屬膜、介電體多層膜等構成。較佳為使用難以吸收從發光元件21出射之光之材料。
[密封構件30] 發光模組101亦可具備密封構件30。密封構件30保護發光元件21不受外部環境影響，並於光學上控制從發光元件21輸出之光之配光特性。即，主要藉由密封構件30之外表面之光之折射而調節光之出射方向。密封構件30被覆發光元件21並配置於基體10上。
密封構件30之表面具有凸狀之曲面。俯視時，密封構件30較佳為具有圓或橢圓之外形。關於密封構件30，光軸L方向之高度H及俯視時之寬度W之比H/W較佳為小於0.5。H/W更佳為0.3以下。密封構件30之高度H被界定為從基體10之安裝面到密封構件30之最高部分為止之光軸L方向之間距。寬度W係根據密封構件30之底面之形狀而定。當底面為圓形之情形時，寬度W為圓之直徑，當底面為其他形狀之情形時，寬度W被界定為底面之最短寬度。例如，俯視時之外形為楕圓形之情形時，底面之寬度存在長徑及短徑，短徑為寬度W。由於密封構件30具有此種形狀，故使從發光元件21出射之光於密封構件30與空氣之界面折射，並能使其進一步廣配光化。
作為密封構件30之材料，可使用環氧樹脂、矽酮樹脂或是其等混合而成之樹脂等透光性樹脂、以及玻璃等。其中，就耐光性及成形之容易度之觀點出發，較佳為選擇矽酮樹脂。
密封構件30亦可包含波長轉換材料、及用於使來自發光元件21之光擴散之擴散劑。又，亦可與發光元件之發光色對應地包含著色劑。該等波長轉換材料、擴散材料、及著色劑等較佳為根據密封構件30之外形，以可控制配光之程度之量包含於密封構件30。又，為了抑制對配光特性所造成的影響，較佳為所含有的材料之粒徑為0.2 μm以下。再者，本說明書中，所謂粒徑係指平均粒徑(中值粒徑)，平均粒徑之值可由雷射繞射法來測定。
[半反射鏡51] 半反射鏡51具有使入射之光之一部分反射並使一部分透過之反射特性，並位於發光元件21之上表面21a側。為了使從發光元件21以較小仰角出射之光亦可入射至半反射鏡51，半反射鏡51相對於發光元件21較佳為足夠大。當複數個發光元件21配置於基體10之情形時，其具有可覆蓋複數個發光元件21之上表面21a上方之充分的大小。半反射鏡51例如由保持發光模組101之殼體等支持。
當發光模組101進一步具備後述之波長轉換構件52、及透光體層53等之情形時，半反射鏡51、波長轉換構件52、及透光體層53等積層而構成透光積層體50，透光積層體50亦可由保持發光模組101之殼體等支持。於該情形時，於透光積層體50中，半反射鏡51較佳為位於最靠近發光元件21側。
為了抑制發光元件21之上方之區域與其周圍之區域之亮度不均，半反射鏡51具有於反射波長頻帶包含分光反射率不同之至少2個區域之分光反射率特性。於圖2A表示有半反射鏡51對於垂直入射光之分光反射率特性之示意性的一例。其係與從發光元件21出射之光之發光光譜之示意性的一例一併表示。如圖2A所示，半反射鏡51具備如下反射特性：關於垂直入射時之分光反射率，於較從發光元件21出射之光之峰值波長更長之長波長側BL較大。
半反射鏡51較佳為具有如下分光反射率特性：較之發光元件21之發光峰值波長區域RE 中之分光反射率，較發光元件21之發光峰值波長區域更長50 nm之長波長側之區域RL 中之上述分光反射率大10%以上。於此，分光反射率係對於垂直入射光之值。又，所謂發光峰值波長區域RE 係指以發光元件21之峰值波長λp 為中心之特定之寬度之波長區域。例如，λE1 以上λE2 以下(λE1 ＜λE2 )之波長區域。發光峰值波長區域RE 之頻帶係根據發光元件21所出射之光之特性而決定。例如，當發光元件21為出射藍光之LED之情形時，發光峰值波長區域RE 之頻帶亦可為λp ±20 nm。
又，區域RL 包含以較發光峰值波長區域RE 之上限及下限分別更長50 nm之長波長側之波長作為上限及下限之區域。具體而言，區域RL 為(λE1 +50) nm以上(λE2 +50) nm以下之波長區域。又，所謂較之發光峰值波長區域RE 中之分光反射率，區域RL 中之上述分光反射率大10%以上，係指較之發光峰值波長區域RE 中之最大分光反射率，區域RL 內之任意之波長之分光反射率大10%以上。又，發光峰值波長區域RE 中之分光反射率為30%以上65%以下。因此，區域RL 中之分光反射率為40%以上75%以下。發光峰值波長區域RE 與區域RL 未相互重疊。例如於包含區域RL 之長波長側之區域及包含發光峰值波長區域RE 之短波長側之區域，半反射鏡51之分光反射率分別為固定的。
垂直入射時之反射波長頻帶B定義如下：包含上述之發光峰值波長區域RE 及區域RL ，為波長為400 nm以上800nm 以下之範圍，且分光反射率為40%以上之區域。半反射鏡51之反射波長頻帶B包含發光元件之發光峰值波長，較發光峰值波長更長之長波長側BL 範圍大於短波長側BS 。
半反射鏡51具有透光性，並具備積層有折射率不同之複數個介電體層之介電體多層膜構造。作為介電體層之具體材料，較佳為從發光元件21出射之波長區域之光吸收較少之材料，例如金屬氧化膜、金屬氮化膜、金屬氟化膜及有機材料等。又，亦可使用矽酮樹脂及氟樹脂等之有機層作為介電體層。
關於半反射鏡51之分光反射率特性，具體而言為發光峰值波長區域RE 及區域RL 之位置、分光反射率等，能藉由調整介電體層之厚度、折射率、及積層數等來進行任意地設定。又，發光峰值波長區域RE 及區域RL 之分光反射率等可分別設計。
[波長轉換構件52] 當密封構件30不包含波長轉換材料之情形時，發光模組101亦可進一步具備波長轉換構件52。波長轉換構件52與發光元件21隔開，並位於發光元件之光提取面側。波長轉換構件52較佳為亦與密封構件30隔開。波長轉換構件52吸收從發光模組101出射之光之一部分，並發出與從發光模組101出射之光之波長不同之波長的光。因波長轉換構件52與發光模組101之發光元件21隔開，故亦能使用於發光元件21之附近難以使用之對熱及光強度之耐受性差之光轉換物質。藉此，能提高作為發光模組101之背光單元之性能。波長轉換構件52具有片材形狀或層形狀，且包含波長轉換物質。
波長轉換物質例如包含由鈰活化後之釔、鋁、石榴石(YAG)系螢光體；由鈰活化之鎦、鋁、石榴石(LAG)；由銪及/或鉻活化之含氮之鋁矽酸鈣(CaO-Al2 O3 -SiO2 )系螢光體；由銪活化之矽酸鹽((Sr,Ba)2 SiO4 )系螢光體；β賽隆螢光體；CASN系或SCASN系螢光體等之氮化物系螢光體；KSF系螢光體(K2 SiF6 ：Mn)；及硫化物系螢光體等。亦可使用該等螢光體之外之具有相同性能、作用及效果之螢光體。
又，波長轉換構件52例如亦可包含所謂被稱為奈米結晶、及量子點之發光物質。作為該等材料，可使用半導體材料，例如II-VI族、III-V族、及IV-VI族半導體，具體而言，可列舉CdSe、核殼型之CdSx Se1-x /ZnS、GaP等奈米尺寸之高分散粒子。
[透光體層53] 發光模組101亦可進一步具備1個或複數個透光體層53。透光體層53為擴散板、稜鏡片材、及反射型偏光片材等。擴散板使入射之光擴散並透過。擴散板由對可見光之光吸收較少之材料構成，例如聚碳酸酯樹脂、聚苯乙烯樹脂、丙烯酸系樹脂、及聚乙烯樹脂等。使光擴散之構造係藉由在擴散板之表面設置凹凸，或使折射率不同之材料分散於擴散板中等而設置於擴散板。擴散板亦可利用以光擴散片材、及擴散膜等名稱市售之材料。
稜鏡片材藉由使從透光積層體50出射之光之垂直成分增多，從而提高從正面觀察發光模組101之發光面時之亮度。
反射型偏光片材亦被稱為亮度提昇膜。反射型偏光片材係使從發光元件21出射之光之中之例如P波透過，使S波向發光元件21側反射。藉由反射型偏光片材反射後之S波於半反射鏡51、波長轉換構件52及基體10之上表面反射，並被轉換成P波。被轉換後之P波透過反射型偏光片材，向外部出射。如此一來，可提高從發光模組101出射之光中之P波之成分之比率。
[發光模組101之發光及效果] 於發光模組101中，光反射膜22設置於發光元件21之上表面21a。藉由此構成，從發光元件21之上表面21a出射之光之一部分於光反射膜22反射，返回至發光元件21，並從發光元件21之側面21c出射。結果，從發光元件21之上表面出射之光之量降低，從而使發光元件21之上方之亮度降低，且抑制使用發光模組101構成背光單元等之情形時之亮度不均。
然而，根據本申請發明人之研究，可知當於發光元件之上表面設置介電體多層膜，於發光模組之出射側配置擴散板等，並形成背光單元之情形時，若擴散板與發光元件之間距變短，則於發光元件之上方附近之亮度較其周圍之亮度有所降低。圖3A係表示於發光元件21之上表面設置光反射膜22，於上表面21a之上方配置擴散板61之示例性的發光模組100之示意性的剖視圖；圖3B係表示試製發光模組100並從上表面側觀察發光模組100之發光之一例。
由於擴散板61與發光元件21之間距D變短，故於擴散板61中之發光元件之上方之區域61a，主要入射有從發光元件21之上表面21a垂直出射並透過光反射膜22之光。另一方面，於區域61a之周圍之區域61b，從發光元件之上表面21a傾斜出射並透過光反射膜22之光、以及藉由於光反射膜22反射並於發光元件21內部反射而從發光元件21之上表面21a及側面21c出射並向區域61b入射。結果，如圖3B所示，較發光元件21之上方之區域而言，其周圍之區域之亮度變高，從而產生亮度不均。
於本發明之發光模組101中，為了抑制上述之亮度不均而利用半反射鏡51之分光反射特性之入射角度相依性。一般來說，當半反射鏡由介電體多層膜構成之情形時，光垂直入射至半反射鏡51時之分光反射特性與傾斜入射至半反射鏡51時之分光反射特性不同。相較於光垂直入射之情形，由於傾斜入射時之半反射鏡中之光程長度變長，導致反射波長頻帶向短波長側移動。此特徵亦被稱為藍移。圖2B係表示具有圖2A所示之分光反射率特性之半反射鏡51對於自相對於垂直方向傾斜45°之方向入射之光的分光反射率特性。
發光元件21之發光峰值波長約為450 nm，發光峰值波長區域RE 為430 nm～470 nm。又，區域RL 為480 nm～520 nm。又，發光峰值波長區域RE 中之分光反射率約為42%，區域RL 中之分光反射率約為60%。即，垂直入射至半反射鏡51之光以約42%之分光反射率被反射，而傾斜入射至半反射鏡51之光以最大約60%之分光反射率被反射。
經過詳細討論，可知例如發藍色光之發光元件21之情況，若將偏移量設定為50 nm，則可提高發光元件21之上方之區域之亮度，且藉由降低其周邊之區域之亮度，可有效地降低亮度不均。
圖4係示意性地表示發光模組101中之從發光元件21出射之光之行進。當從發光元件21之上表面21a到半反射鏡51之距離D較短之情形時，如參照圖3A及圖3B所述，於半反射鏡51中，相較發光元件21之上方之區域51a，更多的光入射至其周邊之區域51b。
入射至半反射鏡51之區域51a之光包含較多垂直成分。因此，以約42%之反射率使入射光反射。換言之，使入射之光以約58%之比率透過半反射鏡51。相對於此，入射至區域51b之光包含較多的相對於半反射鏡51傾斜之成分。因此，以最大60%之反射率使入射光反射，並使入射光以約40%之比率透過。因此，可相對地提高半反射鏡51中之區域51b之亮度，並降低區域51a之亮度，從而可降低發光模組101之發光面之亮度不均。
如此根據本發明之發光模組101，藉由於發光元件21之上表面21a設置光反射膜22，從而使從發光元件21出射之光廣配光化。藉由廣配光化可使發光元件21周圍之亮度高於正上方之區域，故經由具有上述之特性之半反射鏡51，使來自發光元件21之光出射。藉此，即便使發光模組101中之距離(D)變短亦能抑制亮度不均，並能實現薄型之背光單元。
又，藉由使密封構件30之外形由凸型之曲面構成，且高度相對於寬度之比H/W設為小於0.5，從而可使從發光元件21出射之光進一步廣配光化。例如，若將密封構件30之高度H相對於寬度W之比H/W設定為0.3以下，則能將發光模組101所出射之光之全光量之40%以上相對於基體10之上表面以未達20゜之仰角出射。藉由光反射膜22及密封構件30之外形，能於不使用二次透鏡之情況下獲得預期之配光特性。即，藉由具備光反射膜22，從而可使發光元件21之上方之亮度減低，故密封構件30只要具備主要使來自發光元件21之光廣配光化之功能即可。因此，可實現具有透鏡功能之密封構件30之大幅度的小型化。藉此，使用發光模組101能實現亮度不均得到改善之薄型之背光單元模組(發光模組)。
(第2實施形態) 圖5A係表示本實施形態之整合式發光模組102之剖面構造之模式圖。整合式發光模組102包含透光積層體50與整合式發光裝置103。圖5B係整合式發光裝置103之俯視圖。
整合式發光裝置103包含基體10、配置於基體10之複數個發光元件21、及設置於各發光元件21之上表面之光反射膜22。基體10、發光元件21及光反射膜22之構造及該等構成要素之關係如第1實施形態所述。
複數個發光元件21於基體10之上表面一維或二維地排列。於本實施形態中，複數個發光元件21沿著正交之2方向，即x方向及y方向二維地排列，且x方向之排列間距px與y方向之排列間距py相等。然而，排列方向不僅限於此。x方向與y方向之間距亦可不同，排列之2方向亦可不正交。又，排列間距亦不僅限於等間距，亦可為非等間距。例如，發光元件21亦可以間距從基體10之中央朝向周邊變寬之方式排列。
整合式發光裝置103具備位於發光元件21間之複數個光反射構件15。光反射構件15包含壁部15ax、15ay及底部15b。如圖5B所示，在x方向上相鄰之2個發光元件21之間配置有在y方向上延伸之壁部15ay，在y方向上相鄰之2個發光元件21之間配置有在x方向上延伸之壁部15ax。因此，各發光元件21由在x方向上延伸之2個壁部15ax與在y方向上延伸之2個壁部15ay所包圍。底部15b位於被2個壁部15ax及2個壁部15ay所包圍之區域15r。於本實施形態中，因發光元件21之x方向及y方向之排列間距相等，故底部15b之外形為正方形。
於底部15b之中央設置有貫通孔15e，以發光元件21位於貫通孔15e內之方式，底部15b位於絕緣層13上。貫通孔15e之形狀及大小無特別限定，只要為能使發光元件21位於其內部之形狀及大小即可。為了讓來自發光元件21之光亦能於底部15b反射，較佳為，貫通孔15e之外緣位於發光元件21之附近，即，俯視時貫通孔15e與發光元件21之間所產生之間隙較窄。
如圖5A所示，於yz剖面中，壁部15ax包含在x方向上延伸之一對傾斜面15s。一對傾斜面15s分別以在x方向上延伸之2條邊中之一邊相互連接，從而構成頂部15c。一對傾斜面15s之上述2條邊中之另一邊分別與位於相鄰之2個區域15r之底部15b連接。同樣地，在y方向上延伸之壁部15ay包含在y方向上延伸之一對傾斜面15t。一對傾斜面15t分別以在y方向上延伸之2個邊中之一邊相互連接，從而構成頂部15c。一對傾斜面15t之上述2條邊中之另一邊分別與位於相鄰之2個區域15r之底部15b連接。
藉由底部15b、2個壁部15ax及2個壁部15ay形成具有開口之發光空間17。圖5B中表示有排列成3行3列之發光空間17。一對傾斜面15s及一對傾斜面15t面向發光空間17之開口。
光反射構件15具有光反射性，其將從發光元件21出射之光藉由壁部15ax、15ay之傾斜面15s、15t朝發光空間17之開口反射。又，亦將入射至底部15b之光向發光空間17之開口側反射。藉此，可將從發光元件21出射之光高效地入射至透光積層體50。
藉由光反射構件15劃分之發光空間17係分別獨立驅動複數個發光元件21之情形時之發光空間的最小單位。又，其係當對於作為面發光源之發光模組101從透光積層體50之上表面觀察之情形時之區域調光之最小單位區域。當獨立驅動複數個發光元件21之情形時，實現了能以最小發光空間單位利用區域調光進行驅動之發光模組。若以同時驅動相鄰之複數個發光元件21，並使ON/OFF之時機同步之方式來驅動，則能以更大單位利用區域調光進行驅動。
光反射構件15可使用含有反射材之樹脂成形，該反射材例如含有氧化鈦、氧化鋁、及氧化矽等金屬氧化物粒子，且光反射構件15亦可使用不含有反射材之樹脂成形後於表面設置反射材。光反射構件15對於來自發光元件21之出射光之反射率較佳為例如70%以上。
光反射構件15可藉由使用模具之成形及光造形而形成。作為使用模具之成形方法，可使用射出成形、擠出成形、壓縮成形、真空成形、壓空成形、及加壓成形等成形方法。例如，藉由使用由PET等所形成之反射片材進行真空成形，可獲得底部15b與壁部15ax、15ay一體形成之光反射構件15。反射片材之厚度例如為100 μm～500 μm。
光反射構件15之底部15b之下表面與絕緣層13之上表面係由接著構件等固定。從貫通孔15e露出之絕緣層13較佳為具有光反射性。較佳為，以使來自發光元件21之出射光不入射至絕緣層13與光反射構件15之間之方式，於貫通孔15e之周圍配置接著構件。例如，較佳為沿著貫通孔15e之外緣呈環狀地配置接著構件。接著構件可為雙面膠帶，亦可為熱熔型接著片材，還可為熱硬化樹脂或熱塑化樹脂之接著液。該等接著構件較佳為具有較高難燃性。又，亦可不由接著構件固定，而是由螺絲、及接腳等其他結合構件固定。
由複數個光反射構件15所包圍之各區域Ru可看作為具有發光元件21之1個發光模組101。即，整合式發光裝置103具備在x方向及y方向上以間距Px 及間距Py 排列之複數個發光模組101。
光反射構件15之高度HR 較佳為發光模組101之排列間距之0.3倍以下，更佳為0.2倍以下。當發光模組101二維地排列之情形時，該高度HR 為2個方向上之間距中之較短的間距。於本實施形態中，因x方向之排列間距px與y方向之排列間距py相等，故高度HR 為Px 及Py 之0.3倍以下，即HR ≦0.3Px 或HR ≦0.3Py 。藉由使光反射構件15之高度HR 滿足此條件，能縮短透光積層體50與整合式發光裝置103之距離，從而能實現薄型之發光模組。
透光積層體50至少包含半反射鏡51。透光積層體50之構造如第1實施形態所述。
根據整合式發光模組102，與第1實施形態相同地，即便為薄型之構造亦能抑制亮度不均。 [產業上之可利用性]
本發明之發光模組及整合式發光模組可利用於液晶顯示器之背光單元、及照明器具等各種光源。
10‧‧‧基體 11‧‧‧基材 11a‧‧‧上表面 12‧‧‧導體配線 13‧‧‧絕緣層 14‧‧‧絕緣構件 15‧‧‧光反射構件 15ax、15ay‧‧‧壁部 15b‧‧‧底部 15c‧‧‧頂部 15e‧‧‧貫通孔 15r‧‧‧區域 15s‧‧‧傾斜面 15t‧‧‧傾斜面 17‧‧‧發光空間 21‧‧‧發光元件 21a‧‧‧上表面 21c‧‧‧側面 22‧‧‧光反射膜 23‧‧‧連接構件 24‧‧‧底部填充構件 30‧‧‧密封構件 50‧‧‧透光積層體 51‧‧‧半反射鏡 51a‧‧‧區域 51b‧‧‧區域 52‧‧‧波長轉換構件 53‧‧‧透光體層 61‧‧‧擴散板 61a‧‧‧區域 61b‧‧‧區域 100‧‧‧發光模組 101‧‧‧發光模組 102‧‧‧整合式發光模組 103‧‧‧整合式發光裝置 B‧‧‧反射波長頻帶 BS‧‧‧短波長側 BL‧‧‧長波長側 L‧‧‧光軸方向 H‧‧‧高度 HR‧‧‧高度 W‧‧‧寬度 D‧‧‧間距 λp‧‧‧峰值波長 RE‧‧‧發光峰值波長區域 RL‧‧‧區域 Ru‧‧‧區域 PX‧‧‧間距 PY‧‧‧間距
圖1A係表示第1實施形態之發光模組之一例之剖視圖。 圖1B係放大表示圖1A所示之發光模組之一部分之剖視圖。 圖2A係表示圖1所示之發光模組之半反射鏡對於垂直入射之光的分光反射特性之一例之圖。 圖2B係表示具有圖2A所示之分光反射特性之半反射鏡對於以45°傾斜入射之光的分光反射特性之圖。 圖3A係表示於發光元件之上表面設置光反射膜22、並在上表面之上方配置擴散板之示例性的發光模組中之光之行進之模式圖。 圖3B係表示圖3A所示之發光模組之發光之情況之圖。 圖4係表示圖1所示之發光模組中之從發光元件出射之光之情況之模式圖。 圖5A係表示第2實施形態之發光模組之一例之剖視圖。 圖5B係表示圖5A所示之發光模組中之整合式發光裝置之俯視圖。
10‧‧‧基體
11‧‧‧基材
12‧‧‧導體配線
13‧‧‧絕緣層
21‧‧‧發光元件
22‧‧‧光反射膜
30‧‧‧密封構件
50‧‧‧透光積層體
51‧‧‧半反射鏡
52‧‧‧波長轉換構件
53‧‧‧透光體層
101‧‧‧發光模組

Claims (13)

  1. 一種發光模組，其具備：基體，其具有導體配線；發光元件，其以電性連接於上述導體配線之方式配置於上述基體；光反射膜，其設置於上述發光元件之上表面；及半反射鏡，其與上述發光元件隔開，位於上述發光元件之光提取面側；且關於上述半反射鏡之垂直入射時之分光反射率，於較上述發光元件所出射之光之峰值波長更長之長波長側較大，較上述發光元件之發光峰值波長區域更長50nm之長波長側之區域中之上述分光反射率，比上述發光元件之發光峰值波長區域中之上述分光反射率大10%以上，於上述發光元件之發光峰值波長區域中之上述分光反射率為30%以上65%以下。
  2. 如請求項1之發光模組，其進一步具備被覆上述發光元件及上述光反射膜之密封構件，且上述密封構件之高度H相對於寬度W之比H/W小於0.5。
  3. 如請求項2之發光模組，其中上述比H/W為0.3以下。
  4. 如請求項1之發光模組，其中上述半反射鏡之垂直入射時之反射波長 頻帶包含上述發光元件之發光峰值波長，較上述發光峰值波長更長之長波長側寬於短波長側。
  5. 如請求項1之發光模組，其中上述發光元件所出射之光之全光量之30%以上相對於上述基體之上表面以未達20°之仰角出射。
  6. 如請求項1之發光模組，其中上述發光元件所出射之光之全光量之40%以上相對於上述基體之上表面以未達20°之仰角出射。
  7. 如請求項1之發光模組，其中上述發光元件覆晶安裝於上述基體。
  8. 如請求項1至7中任一項之發光模組，其進一步具備波長轉換構件，該波長轉換構件位於上述發光元件之光提取面側，吸收上述發光元件之光之一部分，且出射與上述發光元件之發光波長不同之波長之光。
  9. 一種整合式發光模組，其具備：複數個如請求項1至7中任一項之發光模組；及分別配置於上述複數個發光模組間之複數個包含壁部之光反射構件。
  10. 如請求項9之整合式發光模組，其中上述光反射構件之上述壁部之高度為上述發光模組間之距離之0.3倍以下。
  11. 如請求項9之整合式發光模組，其中上述光反射構件之上述壁部之高度為上述發光模組間之距離之0.2倍以下。
  12. 一種整合式發光模組，其具備：複數個如請求項1至7中任一項之發光模組；波長轉換構件，其位於上述發光元件之光提取面側，吸收上述發光元件之光之一部分，且出射與上述發光元件之發光波長不同之波長之光；及分別配置於上述複數個發光模組間之複數個包含壁部之光反射構件。
  13. 如請求項1至7中任一項之發光模組，其中分別於較上述發光峰值波長區域更短之短波長側之區域、及較上述發光峰值波長區域更長50nm之長波長側之上述區域之上述半反射鏡之上述分光反射率約為定值。
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