TWI788027B - 電子裝置 - Google Patents

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TWI788027B
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陳俊榮
張夙萱
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Abstract

一種電子裝置，其中第一導電層包括第一金屬網格，第一金屬網格包括第一金屬線段、第二金屬線段與第一補償金屬線段。第一金屬線段沿著第一方向延伸並具有第一端點，第二金屬線段沿著第一方向延伸並具有第二端點，其中第一金屬線段與第二金屬線段彼此分離，而第一斷點部存在於第一端點與第二端點之間。第一補償金屬線段分離並電性絕緣於第一金屬線段與第二金屬線段，第一補償金屬線段不完全重疊於第一斷點部，第一補償金屬線段的兩個第一線段端點與第一斷點部之間的最短距離小於或等於50微米。

Description

電子裝置
本發明係關於一種電子裝置，尤指一種具有低可視性的金屬網格的電子裝置。
隨著電子裝置的演進與發展，電子裝置在現今社會中已成為不可或缺的物品。為了使電子裝置具有感測功能(例如，觸碰感測功能)，電子裝置可包括具有多個電極的金屬網格，以透過電極進行感測。然而，由於金屬網格中會存在有多個斷點部(例如，斷點部用以區隔電極)，因此，具有斷點部的單位面積的開口率會不同於不具有斷點部的單位面積的開口率，使得金屬網格的可視性被提升，進而降低電子裝置的觀看品質(使用者易察覺到金屬網格的存在)。據此，現今業界致力於降低金屬網格的可視性。
因此，本發明的主要目的是提供一種具有金屬網格的電子裝置，其中金屬網格包含補償線段，以對斷點部進行補償，進而降低金屬網格的可視性。
本發明的一實施例提供一種電子裝置，包括基板以及第一導電層。第一導電層設置在基板上，第一導電層包括第一金屬網格，第一金屬網格包括第一金屬線段、第二金屬線段與第一補償金屬線段。第一金屬線段沿著第一方 向延伸，且第一金屬線段具有第一端點。第二金屬線段沿著第一方向延伸，第二金屬線段具有第二端點，其中第一金屬線段與第二金屬線段彼此分離，沿著第一方向延伸的第一假想線穿過第一端點與第二端點，且第一假想線在第一端點與第二端點之間的部分定義為第一斷點部。第一補償金屬線段分離並電性絕緣於第一金屬線段與第二金屬線段，第一補償金屬線段不完全重疊於第一斷點部，第一補償金屬線段具有兩個第一線段端點，各第一線段端點與第一斷點部之間的最短距離小於或等於50微米(μm)。
在本發明中，由於補償金屬線段鄰近且不完全重疊於斷點部，因此，可達到補償或降低斷點部所造成的不良視覺效果。並且，由於補償金屬線段與斷點部旁的金屬線段屬於同一層導電層，因此，可減少具有補償金屬線段的金屬網格的製造成本。
100,200,300,400:電子裝置
110:基板
120:第一導電層
122:第一金屬網格
122a,122b:金屬線
124:第一網格電極
126:第二網格電極
128a:第一補償金屬線段
128ae:第一線段端點
128b:第二補償金屬線段
128be:第二線段端點
130:第二導電層
132:第二金屬網格
140:絕緣層
AL1:第一假想線
AL2:第二假想線
CP1:第一斷點部
CP2:第二斷點部
D1:第一方向
D2:第二方向
DS1:第一距離
DS2:第二距離
E1:第一端點
E2:第二端點
E3:第三端點
E4:第四端點
MU,MU1,MU2:金屬網格單元
R:區域
S1:第一金屬線段
S2:第二金屬線段
S3:第三金屬線段
S4:第四金屬線段
X,Y,Z:方向
第1圖所示為本發明第一實施例的電子裝置的第一導電層的俯視示意圖。
第2圖所示為第1圖的區域R的放大示意圖。
第3圖所示為本發明第一實施例的電子裝置的剖面示意圖。
第4圖所示為本發明第二實施例的電子裝置的第一導電層的俯視示意圖。
第5圖所示為本發明第三實施例的電子裝置的第一導電層的俯視示意圖。
第6圖所示為本發明第四實施例的電子裝置的第一導電層的俯視示意圖。
為使本領域的通常知識者能更進一步瞭解本發明，下文將詳細說明 所列舉的本發明的實施例、關鍵元件的典型材料或參數範圍，並配合具有標記的附圖說明本發明的構成內容及所欲達成的功效。須注意的是，附圖均為簡化的示意圖，且基於目前技術說明了關鍵元件的材料和參數範圍，因此，僅顯示與本發明有關之元件與組合關係，以對本發明的基本架構、實施方法或操作提供更清楚的描述。實際的元件與佈局可能更為複雜，且所使用的材料或參數範圍可能會隨著未來技術的發展而變化。另外，為了方便說明，本發明的各附圖中所示之元件可非以實際數目、形狀、尺寸做等比例繪製，其詳細情況可依照設計的需求進行調整。
在下文說明書與申請專利範圍中，「包括」、「含有」、「具有」等詞為開放式詞語，因此其應被解釋為「含有但不限定為…」之意。因此，當本發明的描述中使用術語「包括」、「含有」及/或「具有」時，其指定了相應的特徵、區域、步驟、操作及/或構件的存在，但不排除一個或多個相應的特徵、區域、步驟、操作及/或構件的存在。
須知悉的是，在說明書與申請專利範圍中，術語「水平方向」係表示為平行於附圖中方向X與方向Y的方向，術語「鉛直方向」係表示為平行於附圖中方向Z的方向，術語「俯視上」係表示沿著鉛直方向的觀看結果。
須知悉的是，在說明書與申請專利範圍中，術語「重疊」係表示兩構件在方向Z上的重疊，且在未指明的情況下，術語「重疊」可為部分重疊或完全重疊。須知悉的是，術語「不完全重疊」可為部分重疊或完全不重疊，也就是說，當「C1構件不完全重疊D1構件」時，C1構件的至少一部分不重疊於D1構件。
須知悉的是，在說明書與申請專利範圍中，術語「平行」係表示是指兩構件之間的夾角可小於或等於特定角度，例如3度或1度。
說明書與申請專利範圍中所使用的序數例如「第一」、「第二」等之用詞用以修飾元件，其本身並不意含及代表該(或該些)元件有任何之前的序數，也不代表某一元件與另一元件的順序、或是製造方法上的順序，該些序數的使用僅用來使具有某命名的元件得以和另一具有相同命名的元件能作出清楚區分。申請專利範圍與說明書中可不使用相同用詞，據此，說明書中的第一構件在申請專利範圍中可能為第二構件。
須知悉的是，以下所舉實施例可以在不脫離本發明的精神下，可將數個不同實施例中的特徵進行替換、重組、混合以完成其他實施例。各實施例間特徵只要不違背發明精神或相衝突，均可任意混合搭配使用。
在本發明中，電子裝置的類型並沒有特別限制，並可具有任何適合的功能。舉例而言，電子裝置可依據需求而包括顯示功能及/或感測功能，但不以此為限。此外，電子裝置的形狀可為多邊形(如，矩形)、具有曲線邊緣的形狀(如圓形)或其他適合的形狀，但不以此為限。
舉例而言，電子裝置可為觸控顯示器，以進行畫面顯示以及觸控感測，其中觸控顯示器可為彩色顯示器或單色顯示器。觸控顯示器可包括多個像素(Pixel)，像素可包括至少一個子像素(Sub-pixel)，而像素所包括的子像素數量以及子像素所產生的光線顏色可依據需求而設計。
在本發明中，金屬線、金屬線段與補償金屬線段的線寬可依據需求而設計。在本發明的圖式中，為了使圖式清楚，補償金屬線段在圖式中的線寬大於金屬線的線寬與金屬線段的線寬，但本發明的線寬設計不以此為限。
請參考第1圖至第3圖，第1圖所示為本發明第一實施例的電子裝置的第一導電層的俯視示意圖，第2圖所示為第1圖的區域R的放大示意圖，第3圖所示為本發明第一實施例的電子裝置100的剖面示意圖。如第1圖至第3圖所示，電子裝置100可包括基板110，其中電子裝置100中的各式元件可設置在基板110上。基板110可包括玻璃、石英、藍寶石、聚醯亞胺(polyimide,PI)、聚對苯二甲酸乙二酯(polyethylene terephthalate,PET)、其他適合的材料或其組合，以作為可撓或硬質的基板，但不以此為限。
電子裝置100可包括至少一導電層，設置在基板110上，其中導電層的材料舉例可包括金屬、透明導電材料(例如氧化銦錫(ITO)、氧化銦鋅(IZO)等)、其他適合的導電材料或其組合。在本發明中，如第1圖至第3圖所示，電子裝置100中所含有的導電層可包括第一導電層120。
第一導電層120可包括含有多個金屬網格單元MU的第一金屬網格122，用以進行感測(例如，觸控感測)，其中第一金屬網格122可為任何適合類型的感測器(如，電容感測器)。在本發明中，金屬網格單元MU的形狀可依據需求而設計。舉例而言，在第1圖與第2圖中，第一金屬網格122可包括沿第一方向D1延伸的多條金屬線122a以及沿第二方向D2延伸的多條金屬線122b，以構成平行四邊形的金屬網格單元MU，但不以此為限。
須說明的是，第一方向D1與第二方向D2垂直於方向Z且彼此不平行，而第一方向D1、第二方向D2與方向X的角度關係可依據需求而設計。舉例而言，如第1圖所示，第一方向D1可不垂直於第二方向D2，第一方向D1與第二方向D2皆不平行且不垂直於方向X，但不以此為限。再舉例而言(圖未示)，第一方向D1可平行於方向X，但不以此為限。再舉例而言(圖未示)，第一方向D1可垂直於第二方向D2，但不以此為限。
在第1圖中，第一金屬網格122可包括多個第一網格電極124與多個第二網格電極126，第一網格電極124與第二網格電極126彼此分離。舉例而言，第一金屬網格122與第二網格電極126在方向X上交替排列，且第一網格電極124與第二網格電極126的長方向平行於方向Y，但不以此為限。在一些實施例中，第一網格電極124與第二網格電極126可皆為感測電極而用以進行感測，但不以此為限。在一些實施例中，第一網格電極124可為感測電極而用以進行感測，第二網格電極126可為虛置(dummy)電極，但不以此為限。
在第1圖與第2圖中，第一金屬網格122可具有至少一斷點部，使得第一網格電極124與第二網格電極126可透過斷點部而彼此分離，其中第1圖所示的其中一些金屬網格單元MU具有斷點部(為了使下文說明更明確，不具有斷點部的金屬網格單元MU稱為「金屬網格單元MU1」，具有斷點部的金屬網格單元MU稱為「金屬網格單元MU2」)。詳細而言，金屬網格單元MU2可包括第一金屬線段S1與第二金屬線段S2，第一金屬線段S1被包括在第一網格電極124中，第二金屬線段S2被包括在第二網格電極126中，第一金屬線段S1與第二金屬線段S2彼此分離且皆沿著第一方向D1延伸(第一金屬線段S1與第二金屬線段S2可視為金屬 線122a的其中一部分)，其中第一金屬線段S1具有第一端點E1，第二金屬線段S2具有第二端點E2，而第一斷點部CP1存在於第一金屬線段S1的第一端點E1與第二金屬線段S2的第二端點E2之間。更精確而言，第2圖繪示沿著第一方向D1延伸的第一假想線AL1，第一假想線AL1穿過第一端點E1與第二端點E2，而第一假想線AL1在第一端點E1與第二端點E2之間的部分定義為第一斷點部CP1。
可選擇地，在第1圖與第2圖中，金屬網格單元MU2可包括第三金屬線段S3與第四金屬線段S4，第三金屬線段S3被包括在第一網格電極124中，第四金屬線段S4被包括在第二網格電極126中，第三金屬線段S3與第四金屬線段S4彼此分離且皆沿著第二方向D2延伸(第三金屬線段S3與第四金屬線段S4可視為金屬線122b的其中一部分)，其中第三金屬線段S3具有第三端點E3，第四金屬線段S4具有第四端點E4，而第二斷點部CP2存在於第三金屬線段S3的第三端點E3與第四金屬線段S4的第四端點E4之間。更精確而言，第2圖繪示沿著第二方向D2延伸的第二假想線AL2，第二假想線AL2穿過第三端點E3與第四端點E4，而第二假想線AL2在第三端點E3與第四端點E4之間的部分定義為第二斷點部CP2。
由於斷點部的存在會使得金屬網格單元MU2的視覺效果不同於金屬網格單元MU1的視覺效果，進而造成第一金屬網格122容易被使用者察覺而影響觀看品質，因此，在第1圖與第2圖中，第一金屬網格122包括至少一補償金屬線段，以補償或降低斷點部所造成的不良視覺效果。在一些實施例中，補償金屬線段舉例可為直線線段，但不以此為限。
詳細而言，第一金屬網格122可包括第一補償金屬線段128a，用以補償或降低第一斷點部CP1所造成的不良視覺效果。在本發明中，由於第一補償金 屬線段128a以及位於第一斷點部CP1兩側的第一金屬線段S1與第二金屬線段S2皆屬於第一導電層120的結構，因此，為了使第一補償金屬線段128a能有補償或降低第一斷點部CP1所造成的不良視覺效果，並同時使第一補償金屬線段128a電性絕緣於第一金屬線段S1與第二金屬線段S2，在第1圖與第2圖中，第一補償金屬線段128a不完全重疊(即，部分重疊或完全不重疊)於第一斷點部CP1，且第一補償金屬線段128a分離於第一金屬線段S1與第二金屬線段S2。
在本發明中，第一補償金屬線段128a需鄰近於第一斷點部CP1才有補償或降低第一斷點部CP1所造成的不良視覺效果。在一些實施例中，第一補償金屬線段128a可具有兩個第一線段端點128ae，各第一線段端點128ae與第一斷點部CP1之間的最短距離可小於或等於50微米(μm)或可小於或等於15微米，但不以此為限。在一些實施例中，第一補償金屬線段128a的任何部分與第一斷點部CP1之間的最短距離皆可小於或等於50微米或可小於或等於15微米，但不以此為限。在此距離的設計下，第一補償金屬線段128a可補償或降低第一斷點部CP1所造成的不良視覺效果，並可減少第一補償金屬線段128a被使用者察覺的可能性。須說明的是，若第一補償金屬線段128a與第一斷點部CP1之間的距離大於50微米，則第一補償金屬線段128a會喪失其補償功能，並使得第一補償金屬線段128a容易被使用者察覺而影響觀看品質。
在本發明中，第一補償金屬線段128a與第一斷點部CP1之間的關係(即，第一補償金屬線段128a不完全重疊於第一斷點部CP1)可依據需求而設計。在一些實施例中(如第1圖與第2圖)，第一補償金屬線段128a完全不重疊於第一斷點部CP1。舉例而言，在第1圖與第2圖中，第一補償金屬線段128a可平行於第一方向D1，使得第一補償金屬線段128a可平行於第一金屬線段S1、第二金 屬線段S2與第一假想線AL1，但不以此為限。在第1圖與第2圖中，第一補償金屬線段128a與第一斷點部CP1之間可存在第一距離DS1，使得第一補償金屬線段128a完全不重疊於第一斷點部CP1。舉例而言，第一距離DS1可大於或等於3微米且小於或等於50微米、或可大於或等於3微米且小於或等於15微米，但不以此為限。須說明的是，若第一補償金屬線段128a與第一斷點部CP1之間的距離小於3微米，則第一補償金屬線段128a則可能因為製程缺陷或製程誤差(例如蝕刻製程的不完全)而導致第一補償金屬線段128a連接於第一金屬線段S1及/或第二金屬線段S2，導致第一斷點部CP1的設計失效。
在一些實施例中(如第1圖與第2圖)，第一補償金屬線段128a的中點與第一斷點部CP1的中點的連線以及第一方向D1之間的角度可大於或等於80度且小於或等於100度，但不以此為限。根據此設計，可減少第一補償金屬線段128a對於第一斷點部CP1沿第一方向D1上的偏移。
在本發明中，第一補償金屬線段128a的長度可依據需求設計，且第一補償金屬線段128a的長度與第一斷點部CP1的長度之間可具有相關性。在一些實施例中，第一補償金屬線段128a的長度對於第一斷點部CP1的長度的比值可大於或等於0.7且小於或等於1.3，但不以此為限。在一些實施例中，第一補償金屬線段128a的長度可大於或等於10微米且小於或等於60微米，但不以此為限。在一些實施例中，第一補償金屬線段128a的長度與第一斷點部CP1的長度的差可小於或等於4微米，但不以此為限。須說明的是，若第一補償金屬線段128a的長度與第一斷點部CP1的長度的差異過大(例如，第一補償金屬線段128a的長度對於第一斷點部CP1的長度的比值小於0.7或大於1.3，或者，第一補償金屬線段128a的長度與第一斷點部CP1的長度的差大於4微米)，則第一補償金屬線段128a容易 被使用者察覺而影響觀看品質，使得第一補償金屬線段128a喪失其補償功能。舉例而言，在第一斷點部CP1的長度為10微米的情況下，第一補償金屬線段128a的長度可為7微米至13微米，但不以此為限。
類似地，第一金屬網格122可包括第二補償金屬線段128b，用以補償或降低第二斷點部CP2所造成的不良視覺效果。在第1圖與第2圖中，第二補償金屬線段128b不完全重疊(即，部分重疊或完全不重疊)於第二斷點部CP2，且第二補償金屬線段128b分離並電性絕緣於第三金屬線段S3與第四金屬線段S4。
在本發明中，第二補償金屬線段128b需鄰近於第二斷點部CP2才有補償或降低第二斷點部CP2所造成的不良視覺效果。在一些實施例中，第二補償金屬線段128b可具有兩個第二線段端點128be，各第二線段端點128be與第二斷點部CP2之間的最短距離可小於或等於50微米或可小於或等於15微米，但不以此為限。在一些實施例中，第二補償金屬線段128b的任何部分與第二斷點部CP2之間的最短距離皆可小於或等於50微米或可小於或等於15微米，但不以此為限。
第二補償金屬線段128b的設置可類似於第一補償金屬線段128a。在一些實施例中(如第1圖與第2圖)，第二補償金屬線段128b完全不重疊於第二斷點部CP2。舉例而言，在第1圖與第2圖中，第二補償金屬線段128b可平行於第二方向D2，使得第二補償金屬線段128b可平行於第三金屬線段S3、第四金屬線段S4與第二假想線AL2，但不以此為限。在第1圖與第2圖中，第二補償金屬線段128b與第二斷點部CP2之間可存在第二距離DS2，而第二距離DS2可大於或等於3微米且小於或等於50微米、或可大於或等於3微米且小於或等於15微米，但不以此為限。
在一些實施例中(如第1圖與第2圖)，第二補償金屬線段128b的中點與第二斷點部CP2的中點的連線以及第二方向D2之間的角度可大於或等於80度且小於或等於100度，但不以此為限。根據此設計，可減少第二補償金屬線段128b對於第二斷點部CP2沿第二方向D2上的偏移。
在本發明中，第二補償金屬線段128b的長度可依據需求設計，且第二補償金屬線段128b的長度與第二斷點部CP2的長度之間可具有相關性。在一些實施例中，第二補償金屬線段128b的長度對於第二斷點部CP2的長度的比值可大於或等於0.7且小於或等於1.3，但不以此為限。在一些實施例中，第二補償金屬線段128b的長度可大於或等於10微米且小於或等於60微米，但不以此為限。在一些實施例中，第二補償金屬線段128b的長度與第二斷點部CP2的長度的差可小於或等於4微米，但不以此為限。
在本發明中，第一補償金屬線段128a與第二補償金屬線段128b可依據需求而設計成相同或不同。
在本發明中，第一金屬線段S1、第二金屬線段S2、第三金屬線段S3、第四金屬線段S4、第一補償金屬線段128a與第二補償金屬線段128b都被包括在第一導電層120中。因此，相對於將補償金屬線段設置在不同層的技術，本發明可降低具有補償金屬線段的第一金屬網格122的製造成本，並可減少補償金屬線段與感測用的金屬線段之間的電容值(例如，可避免不同導電層之間的重疊所造成的電容)。此外，在一些實施例中(例如，第一導電層120設置在平坦表面上的情況下)，第一金屬線段S1的頂表面、第二金屬線段S2的頂表面、第一補償 金屬線段128a的頂表面與第二補償金屬線段128b的頂表面彼此共平面(如第3圖所示)，但不以此為限。
在本發明中，電子裝置100還可包括任何所需的元件或結構。在一些實施例中(如第3圖)，電子裝置100中所含有的導電層還可包括第二導電層130，而第一導電層120的至少一部分與第二導電層130的至少一部分彼此分離。舉例而言，在一些實施例中(如第3圖)，電子裝置100還可包括設置在第一導電層120與第二導電層130之間的絕緣層140，其中絕緣層140的材料舉例可包括氧化矽(SiOx)、氮化矽(SiNy)、氮氧化矽(SiOxNy)、有機絕緣材料、其他適合的絕緣材料或其組合，但不以此為限。舉例而言，在一些實施例中(圖未示)，基板110可設置在第一導電層120與第二導電層130之間(即，第一導電層120與第二導電層130分別設置在基板110的兩相對表面上)，但不以此為限。
在一些實施例中，第二導電層130可包括第二金屬網格132，而第二金屬網格132的設計可類似於第一金屬網格122，故在此不重複贅述。須說明的是，第一金屬網格122與第二金屬網格132的相對關係可依據需求而設計。舉例而言，在俯視上，第一金屬網格122與第二金屬網格132可彼此錯位。在一些實施例中，第一金屬網格122中的兩金屬線122a、122b的交點不重疊於第二金屬網格132的兩金屬線的交點(例如，第一金屬網格122中的兩金屬線122a、122b的交點位於第二金屬網格132的金屬網格單元的中心)，但不以此為限。須說明的是，第二金屬網格132中的多個網格電極的排列方向可不同於方向X(第一金屬網格122中的第一網格電極124與第二網格電極126的排列方向)，且第二金屬網格132中的網格電極的長方向可不平行於方向Y(第一金屬網格122中的第一網格電極124與第二網格電極126的長方向)。舉例而言，第二金屬網格132中的網格 電極可在方向Y上交替排列，且網格電極的長方向可平行於方向X，但不以此為限。
由於存在有第二金屬網格132，第一金屬網格122與第二金屬網格132可同時進行感測。舉例而言，第一金屬網格122與第二金屬網格132可作為自容式(self capacitance)感測器或互容式(mutual capacitance)感測器，但不以此為限。
本發明的電子裝置不以上述實施例為限，下文將繼續揭示其它實施例，然為了簡化說明並突顯各實施例與上述實施例之間的差異，下文中使用相同標號標注相同元件，並不再對重複部分作贅述。
請參考第4圖，第4圖所示為本發明第二實施例的電子裝置的第一導電層的俯視示意圖。如第4圖所示，本實施例與第一實施例的差異在於電子裝置200的補償金屬線段的設計。在第4圖中，第一補償金屬線段128a可完全不重疊於第一斷點部CP1，且第一補償金屬線段128a可不平行於第一方向D1與第二方向D2。可選擇地，第二補償金屬線段128b可完全不重疊於第二斷點部CP2，且第二補償金屬線段128b可不平行於第一方向D1與第二方向D2。須說明的是，第一補償金屬線段128a與第一方向D1之間的角度可相同或不同於第二補償金屬線段128b與第二方向D2之間的角度。
在一些實施例中(圖未示)，第二補償金屬線段128b的設置可不同於第一補償金屬線段128a的設置。舉例而言，第一補償金屬線段128a可不平行於第一方向D1與第二方向D2，而第二補償金屬線段128b可平行於第二方向D2，但不以此為限。
請參考第5圖，第5圖所示為本發明第三實施例的電子裝置的第一導電層的俯視示意圖。如第5圖所示，本實施例與第一實施例的差異在於電子裝置300的補償金屬線段的設計。在第5圖中，第一補償金屬線段128a與第一假想線AL1可有至少一交點(即，第一補償金屬線段128a部分重疊於第一斷點部CP1)。由於第一補償金屬線段128a不完全重疊於第一斷點部CP1，因此，第一補償金屬線段128a不平行於第一方向D1。舉例而言，在一些實施例中(如第5圖)，第一補償金屬線段128a可不平行於第一方向D1與第二方向D2，但不以此為限。舉例而言，在一些實施例中(圖未示)，第一補償金屬線段128a可垂直於第一方向D1或平行於第二方向D2，但不以此為限。
第一補償金屬線段128a與第一假想線AL1的交點的位置可依據需求而設計。在一些實施例中(如第5圖)，第一補償金屬線段128a與第一假想線AL1的交點可位於第一端點E1與第二端點E2的中點，但不以此為限。在一些實施例中(如第5圖)，第一補償金屬線段128a與第一假想線AL1的交點可位於第一補償金屬線段128a的中點，但不以此為限。
在第5圖中，第二補償金屬線段128b與第二假想線AL2可有至少一交點(即，第二補償金屬線段128b部分重疊於第二斷點部CP2)，且第二補償金屬線段128b不平行於第二方向D2。舉例而言，在一些實施例中(如第5圖)，第二補償金屬線段128b可不平行於第一方向D1與第二方向D2，但不以此為限。舉例而言，在一些實施例中(圖未示)，第二補償金屬線段128b可垂直於第二方向D2或平行於第一方向D1，但不以此為限。須說明的是，第一補償金屬線段128a與第一方向D1之間的角度可相同或不同於第二補償金屬線段128b與第二方向D2 之間的角度。
第二補償金屬線段128b與第二假想線AL2的交點的位置可依據需求而設計。在一些實施例中(如第5圖)，第二補償金屬線段128b與第二假想線AL2的交點可位於第三端點E3與第四端點E4的中點，但不以此為限。在一些實施例中(如第5圖)，第二補償金屬線段128b與第二假想線AL2的交點可位於第二補償金屬線段128b的中點，但不以此為限。
在一些實施例中(圖未示)，第二補償金屬線段128b的設置可不同於第一補償金屬線段128a的設置。舉例而言，第一補償金屬線段128a與第一假想線AL1可有至少一交點，而第二補償金屬線段128b可完全不重疊於第二斷點部CP2，但不以此為限。
請參考第6圖，第6圖所示為本發明第四實施例的電子裝置的第一導電層的俯視示意圖。如第6圖所示，本實施例與第一實施例的差異在於電子裝置400的金屬網格的斷點部的設計。在第6圖中，第一金屬網格122的至少一斷點部可設置在第一網格電極124中，以調整第一網格電極124的電性。舉例而言，本發明可透過斷點部的數量來調整第一網格電極124的電阻值，但不以此為限。
詳細而言，金屬網格單元MU2可包括第一金屬線段S1與第二金屬線段S2，第一金屬線段S1與第二金屬線段S2彼此分離且皆沿著第一方向D1延伸，而第一斷點部CP1存在於第一金屬線段S1的第一端點E1與第二金屬線段S2的第二端點E2之間，其中第一金屬線段S1與第二金屬線段S2皆被包括在第一網格電極124中，使得第一金屬線段S1電連接於第二金屬線段S2。在一些實施例中(如 第6圖所示)，第一金屬線段S1與第二金屬線段S2可透過包含此第一金屬線段S1與此第二金屬線段S2的金屬網格單元MU2的其他部分而彼此電連接，但不以此為限。在一些實施例中(圖未示)，第一金屬線段S1與第二金屬線段S2可透過其他的金屬網格單元MU而彼此電連接，但不以此為限。
第一補償金屬線段128a的設計可為上述實施例的其中一種。舉例而言，在第6圖中，第一補償金屬線段128a可完全不重疊於第一斷點部CP1，且第一補償金屬線段128a可平行於第一方向D1，但不以此為限。
可選擇地，在一些實施例中(圖未示)，金屬網格單元MU2還可包括第三金屬線段S3與第四金屬線段S4，第三金屬線段S3與第四金屬線段S4彼此分離且皆沿著第二方向D2延伸，而第二斷點部CP2存在於第三金屬線段S3的第三端點E3與第四金屬線段S4的第四端點E4之間，其中第三金屬線段S3與第四金屬線段S4皆被包括在第一網格電極124中，使得第三金屬線段S3電連接於第四金屬線段S4。在一些實施例中(圖未示)，在第一斷點部CP1與第二斷點部CP2都存在於同一個金屬網格單元MU2的情況下，第一金屬線段S1、第二金屬線段S2、第三金屬線段S3與第四金屬線段S4可透過其他的金屬網格單元MU2而彼此電連接，但不以此為限。須說明的是，第二補償金屬線段128b的設計可為上述實施例的其中一種。
綜上所述，由於補償金屬線段鄰近且不完全重疊於斷點部，因此，可達到補償或降低斷點部所造成的不良視覺效果。並且，由於補償金屬線段與斷點部旁的金屬線段屬於同一層導電層，因此，可減少具有補償金屬線段的金屬網格的製造成本。
以上所述僅為本發明之較佳實施例，凡依本發明申請專利範圍所做之均等變化與修飾，皆應屬本發明之涵蓋範圍。
100:電子裝置
120:第一導電層
122:第一金屬網格
122a,122b:金屬線
124:第一網格電極
126:第二網格電極
128a:第一補償金屬線段
128ae:第一線段端點
128b:第二補償金屬線段
128be:第二線段端點
AL1:第一假想線
AL2:第二假想線
CP1:第一斷點部
CP2:第二斷點部
D1:第一方向
D2:第二方向
DS1:第一距離
DS2:第二距離
E1:第一端點
E2:第二端點
E3:第三端點
E4:第四端點
MU,MU2:金屬網格單元
S1:第一金屬線段
S2:第二金屬線段
S3:第三金屬線段
S4:第四金屬線段
X,Y,Z:方向

Claims (15)

  1. 一種電子裝置，包括：一基板；以及一第一導電層，設置在所述基板上，其中所述第一導電層包括一第一金屬網格，所述第一金屬網格包括：一第一金屬線段，沿著一第一方向延伸，且所述第一金屬線段具有一第一端點；一第二金屬線段，沿著所述第一方向延伸，所述第二金屬線段具有一第二端點，其中所述第一金屬線段與所述第二金屬線段彼此分離，沿著所述第一方向延伸的一第一假想線穿過所述第一端點與所述第二端點，且所述第一假想線在所述第一端點與所述第二端點之間的部分定義為一第一斷點部；以及一第一補償金屬線段，分離並電性絕緣於所述第一金屬線段與所述第二金屬線段，所述第一補償金屬線段完全不重疊或部分重疊於所述第一斷點部，所述第一補償金屬線段具有兩個第一線段端點，各所述第一線段端點與所述第一斷點部之間的最短距離大於或等於3微米(μm)且小於或等於50微米。
  2. 如請求項1所述的電子裝置，其中所述第一金屬網格包括：一第一網格電極，包括所述第一金屬線段；以及一第二網格電極，包括所述第二金屬線段，其中所述第一網格電極與所述第二網格電極彼此分離。
  3. 如請求項1所述的電子裝置，其中所述第一金屬網格包括： 一第一網格電極，包括所述第一金屬線段與所述第二金屬線段，其中所述第一金屬線段電連接於所述第二金屬線段。
  4. 如請求項1所述的電子裝置，其中所述第一補償金屬線段的任何部分與所述第一斷點部之間的最短距離小於或等於50微米。
  5. 如請求項1所述的電子裝置，其中所述第一補償金屬線段與所述第一假想線有至少一交點。
  6. 如請求項1所述的電子裝置，其中所述第一補償金屬線段完全不重疊於所述第一斷點部。
  7. 如請求項6所述的電子裝置，其中所述第一補償金屬線段與所述第一方向之間的夾角小於或等於3度，且所述第一補償金屬線段與所述第一斷點部之間存在一第一距離。
  8. 如請求項7所述的電子裝置，其中所述第一距離大於或等於3微米且小於或等於50微米。
  9. 如請求項7所述的電子裝置，其中所述第一補償金屬線段的中點與所述第一斷點部的中點的連線以及所述第一方向之間的角度大於或等於80度且小於或等於100度。
  10. 如請求項1所述的電子裝置，其中所述第一補償金屬線段的長度 對於所述第一斷點部的長度的比值大於或等於0.7且小於或等於1.3。
  11. 如請求項1所述的電子裝置，其中所述第一補償金屬線段的長度大於或等於10微米且小於或等於60微米。
  12. 如請求項1所述的電子裝置，其中所述第一補償金屬線段的長度與所述第一斷點部的長度的差小於或等於4微米。
  13. 如請求項1所述的電子裝置，其中所述第一金屬網格包括：一第三金屬線段，沿著不平行於所述第一方向的一第二方向延伸，且所述第三金屬線段具有一第三端點；一第四金屬線段，沿著所述第二方向延伸，所述第四金屬線段具有一第四端點，其中所述第三金屬線段與所述第四金屬線段彼此分離，沿著所述第二方向延伸的一第二假想線穿過所述第三端點與所述第四端點，且所述第二假想線在所述第三端點與所述第四端點之間的部分定義為一第二斷點部；以及一第二補償金屬線段，分離並電性絕緣於所述第三金屬線段與所述第四金屬線段，所述第二補償金屬線段完全不重疊或部分重疊於所述第二斷點部，所述第二補償金屬線段具有兩個第二線段端點，各所述第二線段端點與所述第二斷點部之間的最短距離大於或等於3微米且小於或等於50微米。
  14. 如請求項1所述的電子裝置，另包括一第二導電層，其中一絕緣層或所述基板設置在所述第一導電層與所述第二導電層之間，且所述第二導 電層包括一第二金屬網格。
  15. 如請求項1所述的電子裝置，其中所述第一金屬線段的頂表面、所述第二金屬線段的頂表面與所述第一補償金屬線段的頂表面彼此共平面。
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Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015107977A1 (ja) * 2014-01-16 2015-07-23 三菱製紙株式会社 光透過性導電材料
WO2016048320A1 (en) * 2014-09-25 2016-03-31 Uni-Pixel Displays, Inc. Method of designing a conductive pattern with reduced channel break visibility
WO2016153531A1 (en) * 2015-03-24 2016-09-29 Uni-Pixel Displays, Inc. Metal mesh touch sensor with randomized channel displacement
CN106020528A (zh) * 2016-05-05 2016-10-12 业成光电（深圳）有限公司 降低断点短路之金属网格结构及制造方法
TWI621135B (zh) * 2017-01-18 2018-04-11 降低可視性之金屬網格結構及其製造方法
TWI659347B (zh) * 2018-06-04 2019-05-11 大陸商業成科技（成都）有限公司 具有輔助線的觸控電極

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20140023046A (ko) * 2012-08-16 2014-02-26 삼성전기주식회사 터치패널
US9639221B2 (en) * 2014-09-25 2017-05-02 Eastman Kodak Company Method of designing a conductive pattern with reduced channel break visibility
US9791971B2 (en) * 2015-01-29 2017-10-17 Konica Minolta Laboratory U.S.A., Inc. Registration of electronic displays
US10114491B1 (en) * 2017-08-17 2018-10-30 Leading Ui Co., Ltd. Touch-display panel

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015107977A1 (ja) * 2014-01-16 2015-07-23 三菱製紙株式会社 光透過性導電材料
WO2016048320A1 (en) * 2014-09-25 2016-03-31 Uni-Pixel Displays, Inc. Method of designing a conductive pattern with reduced channel break visibility
WO2016153531A1 (en) * 2015-03-24 2016-09-29 Uni-Pixel Displays, Inc. Metal mesh touch sensor with randomized channel displacement
CN106020528A (zh) * 2016-05-05 2016-10-12 业成光电（深圳）有限公司 降低断点短路之金属网格结构及制造方法
TWI621135B (zh) * 2017-01-18 2018-04-11 降低可視性之金屬網格結構及其製造方法
TWI659347B (zh) * 2018-06-04 2019-05-11 大陸商業成科技（成都）有限公司 具有輔助線的觸控電極

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