TWI785222B - 光學元件及顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明係有關一種設置於光源上的光學元件，其包括一第一介質、一第二介質及一光偏折結構。第二介質形成於第一介質上。光偏折結構形成於第一介質與第二介質之界面。光學元件與光源發出之光線的關係滿足下式(1)，其中，WA為光線以第一介質作為入光側穿透光學元件測得之影像擴展寬度，WB為光線以第二介質作為入光側穿透光學元件測得之影像擴展寬度，而Wref為光線未經過光學元件測得之影像寬度。
0<|WB-WA|/Wref<10......(1)

Description

光學元件及顯示裝置
本發明是有關於一種光學元件及應用其之顯示裝置，且特別是有關於一種調節光線(light-controlled)之光學元件及應用其之顯示裝置。
近年來，顯示器被大量應用於各項現代電子化產品，如個人電腦、筆記型電腦、數位相機、智慧型手機、平板電腦、液晶電視等。然為了改善顯示器設計本身可能產生的問題，光學膜片可謂顯示器中不可或缺的配角。光學膜片可單獨形成薄膜元件，或是以單一或多層塗層方式附著於其他元件之上，藉由薄膜或塗層材料之物理特性，達到改善畫質之效益。一般光學膜片常見的功能可包括降低液晶顯示器暗態時的漏光量，並且在一定視角內能大幅提高影像之對比、色度與克服部分灰階反轉問題。
本發明之一目的是提供一種光學薄膜以及應用此光學薄膜之顯示裝置，所述光學薄膜可改良顯示內容之可辨識性。
本發明另一目的是提供一種光學薄膜以及應用此光學薄膜之顯示裝置，所述光學薄膜可改善顯示模組視角狹窄、色偏或漏光等問題。
本發明又一目的是提供一種光學薄膜以及應用此光學薄膜之顯示裝置，所述光學薄膜可改善光學膜擴展入射光產生畫面模糊之問題。
根據本發明之一種實施態樣，光學元件係設置在可發出光線之光源上，其包括第一介質；第二介質，形成於第一介質上；以及光偏折結構，形成於第一介質及第二介質之界面；而光學元件與光線的關係滿足式(1)：0<|WB-WA|/Wref<10 (1)其中，WA為光線以第一介質作為入光側穿透光學元件測得之影像擴展寬度，WB為光線以第二介質作為入光側穿透光學元件測得之影像擴展寬度，而Wref為光線未經過光學元件測得之影像寬度。
根據本發明之一種實施態樣，光學元件係設置在光源上，其包括：第一介質，具有第一折射率；第二介質，形成於第一介質上且具有第二折射率；以及光偏折結構，形成於第一介質及第二介質之界面；其中光源所發出之光線，係依序穿透第一介質及第二介質，且第一折射率小於第二折射率。
根據本發明之一種實施態樣，顯示裝置包括：顯示器，用以顯示影像；以及光學元件，設置於顯示器上。光學元件包括：第一介質，具有第一折射率；第二介質，形成於第一介質上且具有第二折射率；以及第一介質及第二介質之界面包含光偏折結構；其中形成影像之光線，係依序穿透第一介質及第二介質，且第一折射率小於第二折射率。
根據本發明之一種實施態樣，顯示裝置包括：顯示器，用以顯示影像；以及光學元件，設置於顯示器上。光學元件包括：第一介質，具有第一折射率；第二介質，形成於第一介質上且具有第二折射率，其中第一折射 率小於第二折射率；第一介質及第二介質之界面包含光偏折結構；以及保護層，形成於第二介質上。
100:光學元件
110:第一介質
120:第二介質
111、121:膜層
110a、120a:不連續結構
130:保護層
140:光偏折結構
150:光源
151:光線
160:觀察者
300:顯示裝置
310、410、510:光學元件
320、420、520:顯示器
321、521:發光單元
330:相機
411:第一外層
412、512:第一層
413、513:第二層
414:第二外層
415:光偏折結構
522:光線
Wref:影像寬度
WA、WB:影像擴展寬度
第1A圖至第1D圖繪示本發明一些實施例之光學元件的剖面圖。
第2圖繪示光源之光強度-位置關係示意圖。
第3圖繪示本發明一實施例之光學元件及顯示器示意圖。
第4圖繪示本發明一實施例光學元件之示意圖。
第5A圖至第5B圖繪示本發明一實施例中影像能量分布所得之光強度-位置關係圖。
為使本發明之目的、特徵和優點能更清楚易懂，下文特舉出較佳實施例並配合所附圖式，對本發明之應用方式作詳細說明。本發明之實施例提供許多合適的發明概念而可廣泛地實施於各種特定背景。本說明書中所舉例討論之特定實施例僅用於說明製造與使用本發明之特定方式，而非用以侷限本發明的範圍。
應瞭解的是，本說明書以下的揭露內容提供許多不同的實施例或範例，以實施本發明的不同特徵。而本說明書以下的揭露內容是敘述各個構件及其排列方式的特定範例，以求簡化發明的說明。然而，這些特定的範例並非用以限定本發明。舉例而言，若本說明書以下的揭露內容述及將第一特徵形成於第二特徵之上或上方時，即表示其包含了第一特徵與第二特徵是直接接觸的 實施例；然其亦包括具有額外的特徵形成於第一特徵與第二特徵之間，而使第一特徵與第二特徵並未直接接觸之實施例。
此外，根據常規的作法，圖式中各種特徵並未依比例繪示。相反地，為簡化或是方便標示，各種特徵之尺寸可能任意擴張或縮小。再者，本說明書可能在不同範例中使用重複的參考符號及/或用字，這些重複符號或用字係為了簡化與清晰的目的，並非用以限定各個實施例及/或所述外觀結構之間的關係。
顯示內容之可辨識性一直是顯示器中重要的品質標準，透過光學膜來提高顯示裝置之影像品質是業內常見的作法，例如：可使用具有繞射結構之光學膜改善顯示模組視角狹窄、色偏或漏光等問題。然而，此類光學膜在某些情況下卻可能產生畫面模糊的問題。
本案發明人經過精心研究後發現，光線穿透光學膜後產生的擴展程度是影響影像顯示品質的因素之一，而透過控制光學膜在顯示器上所展現的擴展程度可以改善上述畫面模糊的問題。更具體而言，控制光學膜正反兩面(正向與反向)對顯示影像的擴展比例有助於解決畫面模糊的問題。以下，本說明提供具有繞射結構之光學元件及應用其之顯示裝置，並揭露此光學元件正貼與反貼在顯示器上展現的光線擴展程度之關係。一般研究多探討光由單一方向穿透光學元件後產生之光展開程度對調節影像品質之關係，然在本例中，更進一步探討控制光由相反的兩個方向穿透光學元件產生之光展開程度及其對應關係，以維持顯示器之適宜感知解析度。
第1A圖至第1D圖繪示本發明一些實施例之光學元件100的剖面圖。根據此些實施例，光學元件100係設置於光源150上，其包括：第一介質110、 第二介質120及保護層130，其中第一介質110及第二介質120之界面包含光偏折結構140。光偏折結構140可用以調節入射光之相位或振幅，光源150所發出之光線151穿透光學元件100時，會因光偏折結構140產生擴展接著被觀察者160所看見。
光學元件100可為光學膜材或光學片材。其中，光學元件100具有光偏折結構140可使光源150所發出之光線151分裂(split)及/或偏折形成朝向不同方向的數道光束，以達調整光線分布之效果。在一些實施例中，光學元件100可為二層以上之膜層構成之堆疊。在一些實施例中，光偏折結構140可為繞射結構，且可根據繞射原理依所需之光學補償功能設計此繞射結構。舉例而言，光偏折結構140可為具有溝槽(ridges)或刻痕(rulings)等表面微結構之繞射光柵；或者，光偏折結構140可為交錯分布之亮暗帶。
在一些實施例中，光偏折結構140係位於第一介質110及第二介質120之界面。舉例而言，第一介質110及第二介質120分別具有相互對應之表面三維形狀，從而在第一介質110及第二介質120之交界面形成光偏折結構140。在一些實施例中，第一介質110及第二介質120在交界面之表面形貌(morphology)係為互補，從而在第一介質110及第二介質120之交界面形成光偏折結構140。
在一些實施例中，光偏折結構140可為具有固定間距(spacing)之光柵結構，其間距範圍以0.2微米至10微米為佳。在另一些實施例中，光偏折結構140可為不具有固定間距之光柵結構，例如：具有多重間距之光柵結構或具有漸變間距之光柵結構，其間距範圍可介於0.3微米與50微米之間。其中，在不具有固定間距之光柵結構之實施例中，光柵間距變化範圍可介於0.4微米與10微米之 間；或者，光柵間距變化範圍至少為最大光柵間距的1%或小於最大光柵間距的90%。
在一些實施例中，光偏折結構140可為連續式分布。具體而言，光偏折結構140可連續式佈滿於光學元件100上，亦即，光偏折結構140可佔光學元件100面積之100%。或者，在一些實施例中，具有光偏折結構140之光偏折區域可為不連續式分布。具體而言，具有光偏折結構140之光偏折區域可分佈於一般區域(不具光偏折結構之非光偏折區域)之間，亦即，複數個光偏折區域係被一般區域(非光偏折區域)分開；在此些實施例中，光偏折區域可佔光學元件100面積之30-95%。
可透過適宜之製程形成光學元件100。舉例而言，可在基底層(未繪示)上形成第一介質110，接著在第一介質110上形成第二介質120，以及在第二介質120上形成保護層130，最後移除基底層而製備出光學元件100。在另一些實施例中，可使用保護層130做為基底層，在保護層130上形成第二介質120，接著在第二介質120上形成第一介質110，從而製備出光學元件100。其中，光偏折結構140可在形成第一介質110或第二介質120時同時形成；或者，可透過例如曝光顯影、刻印、壓印、轉印或印刷所等工法形成光偏折結構140。
應理解的是，第一介質110及/或第二介質120可為單一膜層，舉例而言，如第1A圖所示，第一介質110第二介質120為遍布(spread over)於基底層或保護層表面之材料，在此實施例中，第一介質110形成之膜層111及第二介質120形成之膜層121可具有互補之表面形貌。或者，第一介質110及/或第二介質120可為多個相互分離之分散結構，舉例而言，第1C圖之第一介質110及第二介質120 分別包括多個不連續結構110a/120a，在此實施例中，第一介質110及第二介質120之結構係交錯排列。
第一介質110及第二介質120可為單一材料或複合材料。在一實施例中，第一介質110及第二介質120個別可為黏彈性或彈性黏著劑，例如：壓敏黏著劑(PSA)、橡膠基黏著劑及聚矽氧基黏著劑。舉例而言，適當的黏彈性或彈性黏著劑包括：彈性聚氨基甲酸乙酯或聚矽氧黏著劑、基於苯乙烯嵌段共聚物、(甲基)丙烯酸嵌段共聚物、聚乙烯醚、聚烯烴、及聚甲基丙烯酸酯。
在另一實施例中，第一介質110及第二介質120個別可為交聯樹脂層或可溶樹脂層。舉例而言，適當的交聯樹脂層材料例如是包括：(甲基)丙烯酸系、胺基甲酸酯系、(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯系、環氧系、聚矽氧系等熱硬化型樹脂或紫外線硬化型樹脂等。在特定實施例中，第一介質110及第二介質120均為交聯樹脂層。
在一實施例中，第一介質110可為黏著劑，以將光學元件100貼附至顯示器。在第一介質110不為黏著劑之實施例中，光學元件100可包括黏著層(未繪示)以將光學元件100貼附至顯示器出光側。
在一些實施例中，第一介質110之第一折射率係不同於第二介質120之第二折射率。在一些實施例中，第一介質110之第一折射率小於第二介質120之第二折射率。舉例而言，第一折射率介於1.2與1.8之間，而第二折射率介於1.4與2之間。
在一實施例中，第一介質110及第二介質120中可個別含有無機奈米粒子或光漫射粒子等填料，以調整該層的折射率值。在此情況下，折射率值為複合材料之平均折射率。合適的奈米材料可包括無機奈米粒子或有機奈米粒 子，例如是：金屬氧化物奈米顆粒、氧化鋯、二氧化鈦、氧化鋁、氧化錫、二氧化矽及聚甲基丙烯酸甲酯(Polymethyl Methacrylate,PMMA)奈米顆粒。
在一實施例中，第一介質110及第二介質120個別之光穿透度為80%以上，在較佳實施例中，第一介質110及第二介質120個別之光穿透度為90%以上。在另一實施例中，第一介質110及第二介質120個別之光穿透度為70%以下，在較佳實施例中，第一介質110及第二介質120個別之光穿透度為50%以下，以阻擋部分不欲之光線。在實際應用上，可採用光穿透度大於90%及光穿透度小於50%之材料搭配使用。
根據光偏折結構140之設計、第一介質110及第二介質120之材料及/或光偏折結構140面積占比等因素，光學元件100可對入射光產生預定之偏折效果。在一實施例中，在光穿透(入射後出射)光學元件100之情況下，出射光中，零階偏折光(出射光方向相同於入射光方向)光強度與非零階偏折光(出射光方向不同於入射光方向)之總和光強度的比值小於100。在一實施例中，在入射光垂直入射光學元件100之情況下，出射光中，零階偏折光光強度與偏折角大於15度之偏折光(出射光方向與入射光方向夾角大於±15度)總和光強度的光強度比值小於100。「一般區域(或非光偏折區域)」幾乎不讓光線穿過，亦即為非透光的區域，也可以有相同的效果。
光源150可為點光源或面光源，而以具有可明確定義特徵尺寸之光源為佳。其中特徵尺寸可包括但不限於：一維特徵尺寸或二維特徵尺寸。舉例而言，一維特徵尺寸可為長度、寬度、直徑或對角線；二維特徵尺寸可為面積。舉例而言，光源150可為顯示器、顯示器之畫素(或次畫素)、背光模組或燈箱。其中，顯示器種類包括但不限於：液晶顯示器(LCD)、電漿顯示器(PDP)、 有機發光二極體顯示器(OLED display)、小間距顯示器(MiniLED display)、微發光二極體顯示器(MicroLED display)、電子紙顯示器或其他用來顯示影像之顯示器。此外，前述顯示器也可以與其他元件做結合，例如：設置觸控元件而形成觸控面板。光學元件100可整合至顯示器內或設置於顯示器之出光側上。光學元件100亦可與其他元件(例如：抗反射膜或觸控面板)整合或搭配設置在顯示器的出光側上。
本文中所述光之「擴展」(broaden)或「展開」(expand)係指來自光源的光經過光學元件100後，在繞射、折射或散射作用下產生光展開並遍及更大區域之現象。根據一實施例，光之「擴展程度」或「展開程度」係以光源之光線原始分布範圍為基準，探討光線穿透光學元件100後分布範圍之變化情形。在另一實施例中，光之「擴展程度」或「展開程度」係探討光線沿第一方向穿透光學元件100後分布範圍及光線沿第二方向穿透光學元件100後分布範圍之關係，且在特定實施方式下，第一方向及第二方向係為相反方向。
根據一實施方式，「擴展程度」或「展開程度」係以光源原始特徵尺寸與光線穿透光學元件100後之特徵尺寸做為量化基礎。在一實施例中，「擴展程度」或「展開程度」係探討光源在沒有光學元件100下所呈現之特徵尺寸與光源經過穿透光學元件100所呈現之特徵尺寸之關係。在另一實施例中，「擴展程度」或「展開程度」係探討光線沿第一方向穿透光學元件100所得之特徵尺寸與光線沿第二方向穿透光學元件100所呈現之特徵尺寸之關係，且在特定實施例中，第一方向及第二方向係垂直於光學元件100膜面之二個相反的方向。
舉例而言，在一實施例中，係根據光源在不具光學元件100下呈現之原始寬度與光線穿透光學元件100後呈現之擴展寬度得出寬度變化比例以 做為「擴展程度」或「展開程度」之評價基準。在另一實施例中，係根據光線沿垂直於膜面之方向穿透光學元件100後呈現之擴展寬度與光線沿相反方向穿透光學元件100後呈現之擴展寬度得出寬度變化比例以做為「擴展程度」或「展開程度」之評價基準。
以下搭配附圖舉例說明「擴展程度」或「展開程度」之量化方式。請參照第2圖，其繪示光強度-位置之關係示意圖，可採用預定強度範圍區間對應之位置區間(距離)-特徵寬度Wc，做為「擴展程度」或「展開程度」之評價基準。在一實施例中，可使用光源在不具光學元件下所測得之光強度極值作為換算百分比之標準(視為光強度100%)，並以特定光強度百分比範圍作為預定之光強度範圍區間。其中，一般以人眼感知極限作為預定光強度範圍區間之下限。舉例而言：預定之光強度範圍區間可介於光強度百分比5%-100%；或者，預定之光強度範圍區間可介於光強度百分比10%-100%。
第3圖繪示本發明一實施例之光學元件及顯示器示意圖。在此套用球座標系統的概念，在平行於顯示器300之顯示面的平面上，選定二條互相垂直的線為座標軸，一般以指向右方之水平線稱為X軸，指向上方的垂直線稱為Y軸，並將垂直於顯示器300之顯示面的軸線定義為Z軸，藉此可將觀看顯示器300的觀測角以球座標系統中的天頂角θ與方位角ψ來表示。其中，ψ為方位角，此方位角ψ為X軸在X軸與Y軸所構成之平面上逆時針方向轉動至觀察方向在X軸與Y軸所構成之平面上之投影的轉動角度，方位角ψ可由0度至360度。而天頂角θ為觀察方向與Z軸所夾的角度，天頂角θ可由0度至90度。在一實施例中，可定義平行於水平線之軸線為X軸，平行於鉛垂線之軸線為Y軸，而垂直於X軸及Y軸之所在平面的第三維座標定義為Z軸。
在此實施例中，光學元件310係應用於顯示裝置300上。如第3圖所示，顯示裝置300包括：光學元件310及顯示器320，其中光學元件310係設置於顯示器320之出光側上，亦即，光學元件310係平行於X-Y平面貼附在顯示器320出光側之表面。在此實施例中，以顯示器320上之發光單元321作為光源，透過相機330分別拍攝發光單元321在(i)-(iii)之條件下在顯示器320所呈現之影像，其中(i)未貼附光學元件、(ii)光學元件正向貼附及(iii)光學元件反向貼附，接著分析所擷取影像之能量分布及繪示光強度-位置關係圖，並根據光強度百分比10%-100%求得對應之位置區間，以此距離作為特徵寬度表示人眼所感知發光單元之寬度或擴展寬度。
在進行量測時，需確定各量測樣品之光偏折結構與光源大致具有相同距離。在一實施例中，請參照第4圖，其繪示本發明一實施例光學元件410之示意圖。為方便量測，將光學元件410形成膜層堆疊，其由下而上依序包括第一外層411、由第一介質所構成的第一層412、由第二介質所構成的第二層413、第二外層414，而第一層412及第二層413之界面包含光偏折結構415。在一實施例中，因第一層412及第二層413厚度較小可忽略不計，應使第一外層411及第二外層414具有相同厚度。其中，第一外層411及第二外層414以外可更包括黏著層(未繪示)以將光學元件410貼附至顯示器420。
如第5A圖所示，以顯示器520上之單一次畫素作為發光單元521，發光單元521發出之光線522形成影像，根據影像之能量分布可得光強度-位置之關係，其中，影像的寬度即光線521未經過光學元件(未繪示)所測得之影像寬度Wref。
依相同的概念，請參照第5B圖，光源發出之光線經過光學元件510時，會因光偏折結構展開，其可產生擴展影像，根據擴展影像之能量分布亦可得光強度-位置之關係。其中，以光學元件510的第一層512面向發光單元521貼附於顯示器520上為正向貼附時，光線522是以第一層512作為入光側穿透光學元件510，此時所測得之擴展影像的影像擴展寬度為WA；而以光學元件510的第二層513面向發光單元521貼附於顯示器520上為反向貼附時，光線522是以第二層513作為入光側穿透光學元件510，此時所測得之擴展影像的影像擴展寬度為WB，而光學元件510與光線522的關係滿足：0<|WB-WA|/Wref<10......(1)。
發明人為驗證本發明的功效，在符合上述式(1)的前提條件下進行6次的實驗，其結果如下表一所示。其中，Ex1、Ex3、Ex5及Ex7是以相機在天頂角為0度時所測得的結果；而Ex2、Ex4、Ex6及Ex8是以相機在天頂角為45度且方位角為0度時所測得的結果；T為光偏折結構的間距，Wref為光線未經過光學元件所測得之影像寬度；WA為光線以第一層作為入光側穿透光學元件時所測得之擴展影像的影像擴展寬度；WB為光線以第二層作為入光側穿透光學元件時所測得之擴展影像的影像擴展寬度。
由表一可知，在符合上述式(1)的前提條件下，光線以第一層作為入光側穿透光學元件時所測得之擴展影像的影像擴展寬度WA小於光線以第二層作為入光側穿透光學元件時所測得之擴展影像的影像擴展寬度WB，可以有效抑制擴展影像過度擴展的問題。
Figure 108110478-A0305-02-0014-1
Figure 108110478-A0305-02-0015-2
100:光學元件
110:第一介質
120:第二介質
130:保護層
140:光偏折結構
150:光源
151:光線
160:觀察者

Claims (16)

  1. 一種光學元件，設置在用以發出一光線之一光源上，其包括：一第一介質；一第二介質，形成於該第一介質上；以及一光偏折結構，形成於該第一介質及該第二介質之界面；而該光學元件與該光線的關係滿足式(1)1.10<|WB-WA|/Wref<2.64 (1)其中，WB>WA，WA為該光線以該第一介質作為入光側穿透光學元件測得之影像擴展寬度，WB為該光線以該第二介質作為入光側穿透光學元件測得之影像擴展寬度，而Wref為該光線未經過光學元件測得之影像寬度。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之光學元件，其中1≦WA/Wref≦10。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之光學元件，其中1≦WB/Wref≦10。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之光學元件，更包括：一保護層，形成於該第二介質上。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之光學元件，其中該光偏折結構具有至少一間距，該間距介於0.3微米與50微米之間。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之光學元件，其中1<WB/WA<10。
  7. 一種顯示裝置，包括：一顯示器，用以顯示一影像；以及一光學元件，設置於該顯示器上，其包括：一第一介質；一第二介質，形成於該第一介質上；以及 該第一介質及該第二介質之界面包含一光偏折結構；而該光學元件與該影像的關係滿足式(1)1.10<|WB-WA|/Wref<2.64 (1)其中，WB>WA，WA為該影像以該第一介質作為入光側穿透光學元件測得之影像擴展寬度，WB為該影像以該第二介質作為入光側穿透光學元件測得之影像擴展寬度，而Wref為該影像未經過光學元件測得之影像寬度。
  8. 一種光學元件，設置在一光源上，其包括：一第一介質，具有第一折射率；一第二介質，形成於該第一介質上且具有第二折射率；以及一光偏折結構，形成於該第一介質及該第二介質之界面；其中該光源所發出之一光線，係依序穿透該第一介質及該第二介質，且該第一折射率小於該第二折射率；其中，該光學元件與該光線的關係滿足式(1)1.10<|WB-WA|/Wref<2.64 (1)；其中，WB>WA，WA為該影像以該第一介質作為入光側穿透光學元件測得之影像擴展寬度，WB為該影像以該第二介質作為入光側穿透光學元件測得之影像擴展寬度，而Wref為該影像未經過光學元件測得之影像寬度。
  9. 如申請專利範圍第8項所述之光學元件，其中該光偏折結構具有至少一間距，該間距介於0.3微米與50微米之間。
  10. 如申請專利範圍第8項所述之光學元件，其中該第一折射率介於1.2與1.8之間。
  11. 如申請專利範圍第8項所述之光學元件，其中該第二折射率介於1.4與2之間。
  12. 如申請專利範圍第8項所述之光學元件，其中1≦WA/Wref≦10。
  13. 如申請專利範圍第8項所述之光學元件，其中1≦WB/Wref≦10。
  14. 如申請專利範圍第8項所述之光學元件，其中1<WB/WA<10。
  15. 一種顯示裝置，包括：一顯示器，用以顯示一影像；以及一光學元件，設置於該顯示器上，其包括：一第一介質，具有第一折射率；一第二介質，形成於該第一介質上且具有第二折射率；以及該第一介質及該第二介質之界面包含一光偏折結構；其中形成該影像之一光線，係依序穿透該第一介質及該第二介質，且該第一折射率小於該第二折射率；其中，該光學元件與該影像的關係滿足式(1)1.10<|WB-WA|/Wref<2.64 (1)；其中，WB>WA，WA為該影像以該第一介質作為入光側穿透光學元件測得之影像擴展寬度，WB為該影像以該第二介質作為入光側穿透光學元件測得之影像擴展寬度，而Wref為該影像未經過光學元件測得之影像寬度。
  16. 一種顯示裝置，包括：一顯示器，用以顯示一影像；以及一光學元件，設置於該顯示器上，其包括： 一第一介質，具有第一折射率；一第二介質，形成於該第一介質上且具有第二折射率，且該第一折射率小於該第二折射率；該第一介質及該第二介質之界面包含一光偏折結構；以及一保護層，形成於該第二介質上；其中，該光學元件與該影像的關係滿足式(1)1.10<|WB-WA|/Wref<2.64 (1)；其中，WB>WA，WA為該影像以該第一介質作為入光側穿透光學元件測得之影像擴展寬度，WB為該影像以該第二介質作為入光側穿透光學元件測得之影像擴展寬度，而Wref為該影像未經過光學元件測得之影像寬度。
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