TWI782704B - 光學鏡頭、取像裝置及電子裝置 - Google Patents
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Abstract
本揭示內容提供一種光學鏡頭，其由物側至像側包含至少五光學鏡片。所述至少五光學鏡片中至少一光學鏡片包含一抗反射鍍膜，包含抗反射鍍膜的光學鏡片由一塑膠材料所製成，抗反射鍍膜位於光學鏡片的物側表面或像側表面，抗反射鍍膜包含至少一膜層，位於抗反射鍍膜外側的膜層之材質為金屬氧化物，抗反射鍍膜包含複數個孔洞，且鄰近抗反射鍍膜外側的孔洞之尺寸大於鄰近抗反射鍍膜內側的孔洞之尺寸。藉此，可以使具有多個光學鏡片的光學鏡頭獲得最佳抗反射效果，能顯著提升光學鏡頭的成像品質。
Description
本揭示內容是有關於一種光學鏡頭及取像裝置，且特別是有關於一種可抗反射的光學鏡頭及取像裝置。
傳統抗反射鍍膜技術所製備的膜層於降低廣波域範圍之反射率的效果不足，且長波長區域的強光會導致影像品質下降，無法滿足高階行動裝置大幅提升的高品質鏡頭要求。此外，光學鏡頭的鏡片數量相應顯著增加，在光學系統設計難度加劇與鏡片數量提升的情況下，在高階多鏡片光學系統與變化劇烈的光學鏡片上研發對廣波域範圍具有優異抗反射效果的鍍膜技術已是趨勢所需。
本揭示內容提供多鏡片之光學系統，其應用多層鍍膜的設計方式，並以特定多重抗反射鍍膜因子進行設計，達到優異廣波域鍍膜配置方程式，再藉由抗反射鍍膜層表面的次波長微結構特性，使具多鏡片的高品質光學系統能夠獲得最佳廣波域範圍的抗反射效果，同時解決在劇烈面形變化的光學鏡片上難以克服的大角度強光嚴重反射問題，特別適合應用在彎曲變化的光學鏡片與較高折射率的材質上，使其均能達到全視場且廣波域範圍的均勻抗反射效果，當組合應用在多鏡片光學系統內時，有助於顯著提升高階光學鏡頭的成像品質效果。
依據本揭示內容提供的一種光學鏡頭，其由物側至像側包含至少五光學鏡片。所述至少五光學鏡片中至少一光學鏡片包含一抗反射鍍膜，包含抗反射鍍膜的光學鏡片由一塑膠材料所製成，抗反射鍍膜位於光學鏡片的物側表面或像側表面，抗反射鍍膜包含至少一膜層，位於抗反射鍍膜外側的膜層之材質為金屬氧化物，抗反射鍍膜包含複數個孔洞，且鄰近抗反射鍍膜外側的孔洞之尺寸大於鄰近抗反射鍍膜內側的孔洞之尺寸。光學鏡片材質的折射率為Ns，位於抗反射鍍膜最內側的膜層為一第一膜層，第一膜層材質的折射率為N1，第一膜層的厚度為TL1，光學鏡頭配置抗反射鍍膜時的超廣波域因子為Farw，其滿足下列條件：N1 ＜ Ns；50 nm ≤ TL1 ≤ 200 nm；以及Farw ≤ 0.60。
依據前述的光學鏡頭，光學鏡頭的抗反射鍍膜配置第一因子為Far1，其可以滿足下列條件：0.500 ≤ Far1。
依據前述的光學鏡頭，光學鏡頭的抗反射鍍膜配置第二因子為Far2，其可以滿足下列條件：0.100 ≤ Far2。
依據前述的光學鏡頭，光學鏡頭的抗反射鍍膜配置主因子為FAR，其可以滿足下列條件：-7.000 ≤ FAR。
依據前述的光學鏡頭，光學鏡片材質的折射率為Ns，其可以滿足下列條件：1.530 ≤ Ns ≤ 1.690。
依據前述的光學鏡頭，第一膜層材質的折射率為N1，其可以滿足下列條件：1.37 ≤ N1 ≤ 1.63。
依據前述的光學鏡頭，第一膜層的材質可以為SiO
2。
依據前述的光學鏡頭，抗反射鍍膜可以包含至少二種不同主要材質的膜層。
依據前述的光學鏡頭，光學鏡片具有最低反射率的谷點波長為Wtmin，其可以滿足下列條件：400 nm ≤ Wtmin ≤ 750 nm。
依據前述的光學鏡頭，光學鏡片具有最低反射率的谷點反射率為Rtmin，其可以滿足下列條件：0.01% ≤ Rtmin ≤ 0.50%。
依據前述的光學鏡頭，光學鏡片於波長400 nm – 1000 nm的平均反射率為R40100，其可以滿足下列條件：0.05% ≤ R40100 ≤ 1.5%。
依據前述的光學鏡頭，光學鏡片於波長700 nm的反射率為R70，其可以滿足下列條件：0.01% ≤ R70 ≤ 1.0%。
依據前述的光學鏡頭，包含抗反射鍍膜的光學鏡片的至少一表面可以包含至少一反曲點。
依據前述的光學鏡頭，抗反射鍍膜的總層數為tLs，其可以滿足下列條件：1 ≤ tLs ≤ 2。
依據前述的光學鏡頭，與第一膜層連接之膜層為一第二膜層，第二膜層的厚度為TL2，其可以滿足下列條件：100 nm ≤ TL2 ≤ 250 nm。
依據前述的光學鏡頭，抗反射鍍膜的總膜厚為tTk，其可以滿足下列條件：100 nm ≤ tTk ≤ 300 nm。
依據本揭示內容提供的一種取像裝置，其包含如前段所述之光學鏡頭以及一電子感光元件，且電子感光元件設置於光學鏡頭的一成像面。
依據本揭示內容提供的一種電子裝置，其為一行動裝置，且電子裝置包含如前段所述之取像裝置。
依據本揭示內容提供的另一種取像裝置，其包含如前段所述之光學鏡頭、一繞射元件以及一電子感光元件。繞射元件的至少一表面包含一抗反射鍍膜，繞射元件的抗反射鍍膜之材質為氧化鋁，且電子感光元件設置於光學鏡頭的一成像面。
當N1及Ns滿足上述條件時，藉由使用低折射率之材質，能有效強化漸變折射率的效果。
當TL1滿足上述條件時，藉由適當膜層材質厚度，有助於維持廣波域的低反射效果與獲得最佳漸變折射率效果。
當Farw滿足上述條件時，可以將抗反射鍍膜配置在光學系統中最適當的光學鏡片表面，有助於發揮最佳廣波域的抗反射效果。
本揭示內容提供一種光學鏡頭，其由物側至像側包含至少五光學鏡片。所述至少五光學鏡片中至少一光學鏡片包含一抗反射鍍膜，包含抗反射鍍膜的光學鏡片由一塑膠材料所製成，抗反射鍍膜位於光學鏡片的物側表面或像側表面，抗反射鍍膜包含至少一膜層，位於抗反射鍍膜外側的膜層之材質為金屬氧化物，抗反射鍍膜包含複數個孔洞，且鄰近抗反射鍍膜外側的孔洞之尺寸大於鄰近抗反射鍍膜內側的孔洞之尺寸。
光學鏡片材質的折射率為Ns，位於抗反射鍍膜最內側的膜層為一第一膜層，第一膜層材質的折射率為N1，其滿足下列條件：N1 ＜ Ns。
第一膜層的厚度為TL1，其滿足下列條件：50 nm ≤ TL1 ≤ 200 nm。再者，可以滿足下列條件：80 nm ≤ TL1 ≤ 150 nm。
光學鏡片材質的折射率為Ns，第一膜層材質的折射率為N1，光學鏡頭配置抗反射鍍膜時的超廣波域因子為Farw，Farw代表光學鏡片折射率與第一膜層折射率的差值因子，Farw = ((N1-Ns)/(N1+Ns))
2，其滿足下列條件：Farw ≤ 0.60。再者，可以滿足下列條件：Farw ≤ 0.50；Farw ≤ 0.45；Farw ≤ 0.40；Farw ≤ 0.30；或0 ≤ Farw ≤ 0.10。
本揭示內容提供多鏡片之光學系統，其應用多層鍍膜的設計方式，並以特定多重抗反射鍍膜因子進行設計，達到優異廣波域鍍膜配置方程式，再藉由抗反射鍍膜層表面的次波長微結構特性，使具多鏡片的高品質光學系統能夠獲得最佳廣波域範圍的抗反射效果，同時解決在劇烈面形變化的光學鏡片上難以克服的大角度強光嚴重反射問題，特別適合應用在彎曲變化的光學鏡片與較高折射率的材質上，使其均能達到全視場且廣波域範圍的均勻抗反射效果，當組合應用在多鏡片光學系統內時，有助於顯著提升高階光學鏡頭的成像品質效果。
光學鏡片於光軸上的厚度為CT，光學鏡片表面上與光軸交點間水平位移的最大值為SAGmax，光學鏡頭的抗反射鍍膜配置第一因子為Far1，Far1代表光學鏡片厚度與離軸水平位移的變化關係因子，Far1 = |SAGmax|/CT，其可以滿足下列條件：0.500 ≤ Far1，藉由控制光學系統中的光學鏡片厚度與離軸水平位移的變化關係因子，能有效獲得光學系統中的最佳廣波域鍍膜配置。再者，可以滿足下列條件：1.000 ≤ Far1；1.500 ≤ Far1 ≤ 5；1.700 ≤ Far1 ≤ 10；或2.000 ≤ Far1 ≤ 100。
光學鏡片表面於光學有效徑範圍內的切線斜率的平均值為SPavg，光學鏡片表面於光學有效徑範圍內的切線斜率的最小值為SPmin，光學鏡頭的抗反射鍍膜配置第二因子為Far2，Far2代表光學鏡片離軸表面的變化因子，Far2 = 1/(|SPavg|×|SPmin|)，其可以滿足下列條件：0.100 ≤ Far2，藉由控制光學系統中的光學鏡片離軸表面的變化因子，能有效獲得光學系統中的最佳廣波域鍍膜配置與高階鍍膜的應用價值。再者，可以滿足下列條件：0.200 ≤ Far2 ≤ 0.7；0.300 ≤ Far2 ≤ 0.8；0.400 ≤ Far2 ≤ 0.9；或0.500 ≤ Far2 ≤ 1。
光學鏡頭的抗反射鍍膜配置第一因子為Far1，光學鏡頭的抗反射鍍膜配置第二因子為Far2，光學鏡頭配置抗反射鍍膜時的超廣波域因子為Farw，光學鏡頭的抗反射鍍膜配置主因子為FAR，FAR = LOG(Far1×Far2×Farw)，其可以滿足下列條件：-7.000 ≤ FAR，藉由將抗反射鍍膜配置在光學系統中最適當的光學鏡片表面，並調整光學鏡片材料與第一膜層材料之組合，使光線能由空氣端以漸變折射率的變化方式通過膜層後，再入射到光學鏡片內，有助於發揮最佳廣波域的抗反射效果。再者，可以滿足下列條件：-5.000 ≤ FAR；-4.000 ≤ FAR；-2.500 ≤ FAR；-2.000 ≤ FAR ＜ 0；或-2.000 ≤ FAR ≤ -1.000。
光學鏡片材質的折射率為Ns，其可以滿足下列條件：1.530 ≤ Ns ≤ 1.690，藉由組合具適當折射率之光學鏡片與中間處具低折射率之膜層，能有效加強膜層的抗反射效果，有助於強化壓低反射率的效果。再者，可以滿足下列條件：1.400 ≤ Ns ≤ 1.768；或1.500 ≤ Ns ≤ 1.700。
第一膜層材質的折射率為N1，其可以滿足下列條件：1.37 ≤ N1 ≤ 1.63，藉由使用低折射率之材質，能有效強化漸變折射率的效果。
第一膜層的材質可以為SiO
2，藉由選用低折射率材料製備接觸光學鏡片的膜層，有助於獲得最佳的漸變折射率效果。
抗反射鍍膜可以包含至少二種不同主要材質的膜層，藉由選用低折射率材料製備中間處的膜層，能有效達成漸變梯度的折射率變化，有效發揮廣波域範圍的降低反射率效果。
光學鏡片具有最低反射率的谷點波長為Wtmin，其可以滿足下列條件：400 nm ≤ Wtmin ≤ 750 nm，藉由控制最低谷點反射率落於特定之波長範圍，有助於維持短波長與長波長區域具有一致的低反射效果。再者，可以滿足下列條件：450 nm ≤ Wtmin ≤ 740 nm；500 nm ≤ Wtmin ≤ 730 nm；550 nm ≤ Wtmin ≤ 720 nm；或600 nm ≤ Wtmin ≤ 710 nm。
光學鏡片具有最低反射率的谷點反射率為Rtmin，其可以滿足下列條件：0.01% ≤ Rtmin ≤ 0.50%，藉由壓低光學鏡片的谷點反射率，有助於加強膜層於特定波長處的抗反射效果。
光學鏡片於波長400 nm – 1000 nm的平均反射率為R40100，其可以滿足下列條件：0.05% ≤ R40100 ≤ 1.5%，以有效控制超廣波域範圍的整體低反射率。
光學鏡片於波長700nm的反射率為R70，其可以滿足下列條件：0.01%
R70
1.0%，以有效控制特定波長處的低反射率。
包含抗反射鍍膜的光學鏡片的至少一表面可以包含至少一反曲點，藉由本揭示內容的光學鏡片表面的反曲點設計，有助於發揮使用原子層沉積法鍍膜的成本效益，可以在面形變化劇烈的光學鏡片表面達成均勻的鍍膜效果，避免反射率因膜厚差異而偏移，導致周邊反射光過強的缺陷。
抗反射鍍膜的總層數為tLs，其可以滿足下列條件：1
tLs
2，藉由控制膜層的數量配置，能有效提升製作效率與節省成本。
與第一膜層連接之膜層為一第二膜層，第二膜層的厚度為TL2，其可以滿足下列條件：100nm
TL2
250nm，藉由控制第二膜層的厚度，有助於發揮最佳的抗反射效果。
抗反射鍍膜的總膜厚為tTk，其可以滿足下列條件：100nm
tTk
300nm，藉由控制抗反射鍍膜的總厚度，能有效維持整體廣波域的低反射效果。再者，可以滿足下列條件：200nm
tTk
250nm。
本揭示內容之另一態樣之一實施方式提供一種取像裝置，其包含如前述之光學鏡頭及一電子感光元件，電子感光元件設置於光學鏡頭的一成像面。
本揭示內容之另一態樣之另一實施方式提供一種
取像裝置，其包含如前述之光學鏡頭、一繞射元件及一電子感光元件，繞射元件的至少一表面包含一抗反射鍍膜，繞射元件的抗反射鍍膜之材質為氧化鋁，電子感光元件設置於光學鏡頭的一成像面，其中，繞射元件可例如為菲涅耳透鏡(Fresnel Lens)。本揭示內容設計並將廣波域的抗反射膜層製作在繞射元件上，可解決繞射元件於面形轉折處的高反射問題。
本揭示內容之又一態樣提供一種電子裝置，其為一行動裝置且包含前述的取像裝置。
光學鏡頭的全視角為FOV，其可以滿足下列條件：60度
FOV
220度；或70度
FOV
100度。
光學鏡片於波長400nm-700nm的平均反射率為R4070，其可以滿足下列條件：0.05%
R4070
1.5%，藉此，能有效控制超廣波域可見光區域範圍的低反射率。
光學鏡片於波長400nm-600nm的平均反射率為R4060，其可以滿足下列條件：0.05%
R4060
1.5%，藉此，能有效控制廣波域藍光與綠光區域範圍的低反射率。
光學鏡片於波長500nm-600nm的平均反射率為R5060，其可以滿足下列條件：0.01%
R5060
1.0%，藉此，能有效控制廣波域綠光區域範圍的低反射率。
光學鏡片於波長600nm-700nm的平均反射
率為R6070，其可以滿足下列條件：0.01%
R6070
1.0%，藉此，能有效控制廣波域紅光區域範圍的低反射率。
光學鏡片於波長600nm-800nm的平均反射率為R6080，其可以滿足下列條件：0.01%
R6080
1.0%，藉此，能有效控制廣波域紅光區域範圍的低反射率。
光學鏡片於波長700nm-1000nm的平均反射率為R70100，其可以滿足下列條件：0.05%
R70100
2.0%，藉此，能有效控制廣波域長波長區域範圍的低反射率。
光學鏡片於波長800nm-1000nm的平均反射率為R80100，其可以滿足下列條件：0.05%
R80100
2.5%，藉此，能有效控制廣波域長波長區域範圍的低反射率。
光學鏡片於波長900nm-1000nm的平均反射率為R90100，其可以滿足下列條件：0.10%
R90100
5.0%，藉此，能有效控制廣波域長波長區域範圍的低反射率。
光學鏡片於波長400nm的反射率為R40，其可以滿足下列條件：0.10%
R40
35%，藉此，能有效控制廣波域中藍可見光波長的低反射率。
光學鏡片於波長500nm的反射率為R50，其可以滿足下列條件：0.01%
R50
1.0%，藉此，能有效控制廣波域中綠可見光波長的低反射率。
光學鏡片於波長600nm的反射率為R60，其可
以滿足下列條件：0.01%
R60
1.0%，藉此，能有效控制廣波域中紅可見光波長的低反射率。
光學鏡片於波長700nm的反射率為R70，其可以滿足下列條件：0.01%
R70
1.0%，藉此，能有效控制廣波域中長波長區域的低反射率。
光學鏡片於波長800nm的反射率為R80，其可以滿足下列條件：0.01%
R80
1.0%，藉此，能有效控制廣波域中長波長區域波長的低反射率。
光學鏡片於波長900nm的反射率為R90，其可以滿足下列條件：0.10%
R90
1.5%，藉此，能有效控制廣波域中長波長區域波長的低反射率。
光學鏡片於波長1000nm的反射率為R100，其可以滿足下列條件：0.10%
R100
10%，藉此，能有效控制廣波域中長波長區域波長的低反射率。
第二膜層材質的折射率為N2，抗反射鍍膜的高折射率材料的折射率為NH，抗反射鍍膜的低折射率材料的折射率為NL。
本揭示內容的優異品質光學鏡頭之組成必須藉由綜合評估抗反射鍍膜因子等參數，例如：超廣波域鍍膜因子、第一因子、第二因子與主因子，以作出最佳設計，並在特定塑膠光學鏡片的表面製作抗反射鍍膜，使抗反射鍍膜具有最佳抗反射效果與良好成像品質。
抗反射鍍膜程式設計(Coating design)可經適當變化，而再應用於其他實施例的光學系統之光學鏡片
上，並視需求變化膜層數量、光學鏡片材質、高折射率鍍膜材料或低折射率鍍膜材料，並在評估各種最佳配置因子後，應用在不同光學系統與最適合的光學鏡片中。
本揭示內容定義在波長400nm-1000nm範圍間具有至少一波谷(Trough)，所述至少一波谷係由短波長處至長波長處依序定義。
谷點(Trough)順序定義以中心處為準，由短波長到長波長範圍依序為T1、T2、T3…，依此遞增。
抗反射鍍膜製作最佳為兩面皆鍍膜，但亦可僅在適當的一表面製作，藉由在最適當的表面應用本揭示內容之技術，使利用原子層沉積法所製作的鍍膜具有最佳化價值，在成本與品質間取得平衡，且在具最適當折射率的光學鏡片材質上製作，可使抗反射效果達到最佳效果。
本揭示內容的反射率數據係對一光學鏡片的單表面進行量測，反射率以0度入射角的數據作為比較基準。
表面造孔製程能有效提升表面孔洞分布，使表面的孔洞間隙增加、呈現海綿孔洞狀結構或改變孔隙密度變化等，造孔效果亦可隨深度增加而改變，如接觸空氣的外側具較大的孔隙結構，而較深的內側具有相對較小的孔隙結構，所述孔隙是由不規則奈米纖維結構(nanofiber)間的空間所組成，具有讓空氣留存或連通在孔隙間的效果，所述抗反射膜層的外側與內側意指於斷面圖與示意圖中，外側為接觸空氣的一側，內側為較靠近基材的一側，外側分布的孔洞/缺口相對大於內側孔洞，亦可說明在同一平面
下，外側的不規則支狀結構分布密度較稀疏，內側的不規則支狀結構分布密度較緊密。表面造孔製程可使用電漿進行蝕刻、化學反應蝕刻、時間控制結晶顆粒大小技術或高溫溶液處理，例如浸潤在溫度50度以上的醇類或水中而達成。
本揭示內容的抗反射鍍膜高折射率材料的折射率大於2.0，低折射率材料的折射率小於1.8。抗反射膜層鍍膜材料(於波長587.6nm的折射率)可例如為：氟化鎂(MgF2，1.3777)、二氧化矽(SiO2，1.4585)、氟化釷(ThF4，1.5125)、一氧化矽(SiO，1.55)、氟化鈰(CeF3，1.63)、氧化鋁(Al2O3，1.7682)、三氧化二釔(Y2O3，1.79)、二氧化鉿(HfO2，1.8935)、氧化鋅(ZnO，1.9269)、氧化鈧(Sc2O3，1.9872)、氮化鋁(AlN，2.0294)、氮化矽(Si3N4，2.0381)、五氧化二鉭(Ta2O5，2.1306)、二氧化鋯(ZrO2，2.1588)、硫化鋅(ZnS，2.2719)、五氧化二鈮(Nb2O5，2.3403)、二氧化鈦(TiO2，2.6142)、氮化鈦(TiN，3.1307)。或可為氟化鎂-二氧化矽(MgF2-SiO2)的混合物，其中各成分的含量比率為[SiO2]>[MgF2]。
靠近塑膠光學鏡片材料表面的第一層鍍膜材料(N1)可配置為氟化鎂(MgF2，1.3777)、二氧化矽(SiO2，1.4585)、氟化釷(ThF4，1.5125)、一氧化矽(SiO，1.55)、氟化鈰(CeF3，1.63)等低折射率材料，或可為氟化鎂-二氧化矽(MgF2-SiO2)的混合
物，其中各成分的含量比率為[SiO2]>[MgF2]。第二層鍍膜材料(N2)可配置為氮化鋁(AlN)、氧化鋁(Al2O3)、氫氧化鋁(Al(OH)3)或含鋁混合物。
本揭示內容的抗反射鍍膜可在塑膠光學鏡片的表面製鍍單層薄膜或多層薄膜，且可採用物理氣相沉積法(PVD)，如蒸發沉積法或濺射沉積法等，或使用化學氣相沉積法(CVD)，如超高真空化學氣相沉積法、微波電漿輔助化學氣相沉積法、電漿增強化學氣相沉積法或原子層沉積法(ALD)等。
本揭示內容的全視場為中心視場(0 Field)至最大像高視場(1.0 Field)的範圍，全視場範圍涵蓋光學鏡片表面的光學有效區域。
光學鏡片表面的切線斜率係在光軸為水平方向下進行計算，切線斜率在近光軸位置為無限大(Infinity、INF、∞)。
光學鏡頭中另具有一繞射元件，其表面具有氧化鋁材質的抗反射鍍膜，且繞射元件可例如為菲涅耳透鏡(Fresnel Lens)。
塑膠光學鏡片會因厚度與高溫，導致面形變化誤差過大，當膜層數越多，則溫度影響面形精度之狀況越明顯。藉由鏡片補正技術，可以有效解決塑膠表面鍍膜時的溫度效應問題，有助於維持光學鏡片的鍍膜完整性與塑膠光學鏡片的高精度，為達成高品質成像鏡頭的關鍵技術。
鏡片補正技術可以應用模流(Moldflow)分析方
法、曲線擬合函數方法或波前誤差方法等，但不以此為限。模流分析方法是藉由模流分析，找出光學鏡片表面於Z軸收縮的立體輪廓節點，轉成非球面曲線後再與原始曲線比較差異，同時考慮材料收縮率與面形變形趨勢計算得到補正值。曲線擬合函數方法是藉由量測元件表面的輪廓誤差，以函數進行曲線擬合後，配合最佳化演算法將擬合曲線逼近量測點得到補正值，函數可以是指數(Exponential)或多項式(Polynomial)等，演算法可以是高斯牛頓法(Gauss Newton)、單形演算法(Simplex Algorithm)或最大陡降法(Steepest Descent Method)等。波前誤差方法是藉由干涉儀量測光學系統波前誤差(成像誤差)數據，再以原始設計值波前誤差綜合分析製造組裝所產生的波前誤差，並經光學軟體優化得到補正值。
根據上述說明，以下提出具體實施例予以詳細說明。
請參照第1圖，第1圖為本揭示內容之第一實施例的一種取像裝置的示意圖。由第1圖可知，第一實施例的取像裝置包含光學鏡頭(未另標號)以及電子感光元件152，光學鏡頭由物側至像側包含五光學鏡片(未繪示)以及成像面151，而電子感光元件152設置於光學鏡頭的成像面151。第一實施例的光學鏡頭的全視角為FOV，其滿足下列條件：FOV=74.74度。
所述五光學鏡片由物側至像側分別為光學鏡片L1、光學鏡片L2、光學鏡片L3、光學鏡片L4及光學鏡片L5。所述五光學鏡片中至少一光學鏡片包含一抗反射鍍膜，包含抗反射鍍膜的光學鏡片由一塑膠材料所製成，抗反射鍍膜位於光學鏡片的物側表面或像側表面，抗反射鍍膜包含至少一膜層，位於抗反射鍍膜外側的膜層之材質為金屬氧化物，抗反射鍍膜包含複數個孔洞，且鄰近抗反射鍍膜外側的孔洞之尺寸大於鄰近抗反射鍍膜內側的孔洞之尺寸。
光學鏡片L1配置抗反射鍍膜時的超廣波域因子為Farw，其滿足下列條件：Farw=0.071。光學鏡片L1的物側表面R1的抗反射鍍膜配置第一因子為Far1，光學鏡片L1的物側表面R1的抗反射鍍膜配置第二因子為Far2，光學鏡片L1的物側表面R1的抗反射鍍膜配置主因子為FAR，其滿足下列條件：Far1=0.535；Far2=0.295；以及FAR=-1.950。光學鏡片L1的像側表面R2的抗反射鍍膜配置第一因子為Far1，光學鏡片L1的像側表面R2的抗反射鍍膜配置第二因子為Far2，光學鏡片L1的像側表面R2的抗反射鍍膜配置主因子為FAR，其滿足下列條件：Far1=0.010；Far2=0.012；以及FAR=-5.050。
光學鏡片L1於光軸上的厚度為CT，其滿足下列條件：CT=0.63。位於抗反射鍍膜最內側的膜層為第一膜層，第一膜層材質的折射率為N1，光學鏡片L1材質的
折射率為Ns，其滿足下列條件：Ns=1.54。
光學鏡片L1的物側表面R1上與光軸交點間水平位移的最大值為SAGmax，其滿足下列條件：｜SAGmax｜=0.34。光學鏡片L1的物側表面R1於光學有效徑範圍內的切線斜率的平均值為SPavg，其滿足下列條件：｜SPavg｜=2.67。光學鏡片L1的物側表面R1於光學有效徑範圍內的切線斜率的最小值為SPmin，其滿足下列條件：｜SPmin｜=1.27。
光學鏡片L1的像側表面R2上與光軸交點間水平位移的最大值為SAGmax，其滿足下列條件：｜SAGmax｜=0.01。光學鏡片L1的像側表面R2於光學有效徑範圍內的切線斜率的平均值為SPavg，其滿足下列條件：｜SPavg｜=29.41。光學鏡片L1的像側表面R2於光學有效徑範圍內的切線斜率的最小值為SPmin，其滿足下列條件：｜SPmin｜=2.79。
光學鏡片L2配置抗反射鍍膜時的超廣波域因子為Farw，其滿足下列條件：Farw=0.334。光學鏡片L2的物側表面R1的抗反射鍍膜配置第一因子為Far1，光學鏡片L2的物側表面R1的抗反射鍍膜配置第二因子為Far2，光學鏡片L2的物側表面R1的抗反射鍍膜配置主因子為FAR，其滿足下列條件：Far1=0.058；Far2=0.003；以及FAR=-4.271。光學鏡片L2的像側表面R2的抗反射鍍膜配置第一因子為Far1，光學鏡片L2的像側表面R2的抗反射鍍膜配置第二因子為Far2，光學鏡
片L2的像側表面R2的抗反射鍍膜配置主因子為FAR，其滿足下列條件：Far1=0.730；Far2=0.156；以及FAR=-1.421。
光學鏡片L2於光軸上的厚度為CT，其滿足下列條件：CT=0.25。位於抗反射鍍膜最內側的膜層為第一膜層，第一膜層材質的折射率為N1，光學鏡片L2材質的折射率為Ns，其滿足下列條件：Ns=1.64。
光學鏡片L2的物側表面R1上與光軸交點間水平位移的最大值為SAGmax，其滿足下列條件：｜SAGmax｜=0.01。光學鏡片L2的物側表面R1於光學有效徑範圍內的切線斜率的平均值為SPavg，其滿足下列條件：｜SPavg｜=43.48。光學鏡片L2的物側表面R1於光學有效徑範圍內的切線斜率的最小值為SPmin，其滿足下列條件：｜SPmin｜=8.33。
光學鏡片L2的像側表面R2上與光軸交點間水平位移的最大值為SAGmax，其滿足下列條件：｜SAGmax｜=0.18。光學鏡片L2的像側表面R2於光學有效徑範圍內的切線斜率的平均值為SPavg，其滿足下列條件：｜SPavg｜=4.61。光學鏡片L2的像側表面R2於光學有效徑範圍內的切線斜率的最小值為SPmin，其滿足下列條件：｜SPmin｜=1.39。
光學鏡片L3配置抗反射鍍膜時的超廣波域因子為Farw，其滿足下列條件：Farw=0.334。光學鏡片L3的物側表面R1的抗反射鍍膜配置第一因子為Far1，
光學鏡片L3的物側表面R1的抗反射鍍膜配置第二因子為Far2，光學鏡片L3的物側表面R1的抗反射鍍膜配置主因子為FAR，其滿足下列條件：Far1=0.370；Far2=0.031；以及FAR=-2.411。光學鏡片L3的像側表面R2的抗反射鍍膜配置第一因子為Far1，光學鏡片L3的像側表面R2的抗反射鍍膜配置第二因子為Far2，光學鏡片L3的像側表面R2的抗反射鍍膜配置主因子為FAR，其滿足下列條件：Far1=0.327；Far2=0.018；以及FAR=-2.695。
光學鏡片L3於光軸上的厚度為CT，其滿足下列條件：CT=0.26。位於抗反射鍍膜最內側的膜層為第一膜層，第一膜層材質的折射率為N1，光學鏡片L3材質的折射率為Ns，其滿足下列條件：Ns=1.64。
光學鏡片L3的物側表面R1上與光軸交點間水平位移的最大值為SAGmax，其滿足下列條件：｜SAGmax｜=0.10。光學鏡片L3的物側表面R1於光學有效徑範圍內的切線斜率的平均值為SPavg，其滿足下列條件：｜SPavg｜=9.09。光學鏡片L3的物側表面R1於光學有效徑範圍內的切線斜率的最小值為SPmin，其滿足下列條件：｜SPmin｜=3.50。
光學鏡片L3的像側表面R2上與光軸交點間水平位移的最大值為SAGmax，其滿足下列條件：｜SAGmax｜=0.09。光學鏡片L3的像側表面R2於光學有效徑範圍內的切線斜率的平均值為SPavg，其滿足下列條件：
｜SPavg｜=11.90。光學鏡片L3的像側表面R2於光學有效徑範圍內的切線斜率的最小值為SPmin，其滿足下列條件：｜SPmin｜=4.55。
光學鏡片L4配置抗反射鍍膜時的超廣波域因子為Farw，其滿足下列條件：Farw=0.078。光學鏡片L4的物側表面R1的抗反射鍍膜配置第一因子為Far1，光學鏡片L4的物側表面R1的抗反射鍍膜配置第二因子為Far2，光學鏡片L4的物側表面R1的抗反射鍍膜配置主因子為FAR，其滿足下列條件：Far1=0.228；Far2=0.021；以及FAR=-3.415。光學鏡片L4的像側表面R2的抗反射鍍膜配置第一因子為Far1，光學鏡片L4的像側表面R2的抗反射鍍膜配置第二因子為Far2，光學鏡片L4的像側表面R2的抗反射鍍膜配置主因子為FAR，其滿足下列條件：Far1=0.765；Far2=0.159；以及FAR=-2.020。
光學鏡片L4於光軸上的厚度為CT，其滿足下列條件：CT=0.64。位於抗反射鍍膜最內側的膜層為第一膜層，第一膜層材質的折射率為N1，光學鏡片L4材質的折射率為Ns，其滿足下列條件：Ns=1.54。
光學鏡片L4的物側表面R1上與光軸交點間水平位移的最大值為SAGmax，其滿足下列條件：｜SAGmax｜=0.15。光學鏡片L4的物側表面R1於光學有效徑範圍內的切線斜率的平均值為SPavg，其滿足下列條件：｜SPavg｜=9.26。光學鏡片L4的物側表面R1於光學有
效徑範圍內的切線斜率的最小值為SPmin，其滿足下列條件：｜SPmin｜=5.03。
光學鏡片L4的像側表面R2上與光軸交點間水平位移的最大值為SAGmax，其滿足下列條件：｜SAGmax｜=0.49。光學鏡片L4的像側表面R2於光學有效徑範圍內的切線斜率的平均值為SPavg，其滿足下列條件：｜SPavg｜=3.17。光學鏡片L4的像側表面R2於光學有效徑範圍內的切線斜率的最小值為SPmin，其滿足下列條件：｜SPmin｜=1.98。
光學鏡片L5配置抗反射鍍膜時的超廣波域因子為Farw，其滿足下列條件：Farw=0.078。光學鏡片L5的物側表面R1的抗反射鍍膜配置第一因子為Far1，光學鏡片L5的物側表面R1的抗反射鍍膜配置第二因子為Far2，光學鏡片L5的物側表面R1的抗反射鍍膜配置主因子為FAR，其滿足下列條件：Far1=1.911；Far2=0.172；以及FAR=-1.588。光學鏡片L5的像側表面R2的抗反射鍍膜配置第一因子為Far1，光學鏡片L5的像側表面R2的抗反射鍍膜配置第二因子為Far2，光學鏡片L5的像側表面R2的抗反射鍍膜配置主因子為FAR，其滿足下列條件：Far1=1.272；Far2=0.262；以及FAR=-1.582。
光學鏡片L5於光軸上的厚度為CT，其滿足下列條件：CT=0.32。位於抗反射鍍膜最內側的膜層為第一膜層，第一膜層材質的折射率為N1，光學鏡片L5材質的
折射率為Ns，其滿足下列條件：Ns=1.54。
光學鏡片L5的物側表面R1上與光軸交點間水平位移的最大值為SAGmax，其滿足下列條件：｜SAGmax｜=0.62。光學鏡片L5的物側表面R1於光學有效徑範圍內的切線斜率的平均值為SPavg，其滿足下列條件：｜SPavg｜=3.32。光學鏡片L5的物側表面R1於光學有效徑範圍內的切線斜率的最小值為SPmin，其滿足下列條件：｜SPmin｜=1.75。
光學鏡片L5的像側表面R2上與光軸交點間水平位移的最大值為SAGmax，其滿足下列條件：｜SAGmax｜=0.41。光學鏡片L5的像側表面R2於光學有效徑範圍內的切線斜率的平均值為SPavg，其滿足下列條件：｜SPavg｜=3.45。光學鏡片L5的像側表面R2於光學有效徑範圍內的切線斜率的最小值為SPmin，其滿足下列條件：｜SPmin｜=1.11。
請一併參照第2圖及第3圖，第2圖為第1圖的取像裝置的繞射元件140的示意圖，第3圖為第1圖的取像裝置的抗反射鍍膜的局部放大示意圖。第一實施例的取像裝置更可以包含鏡筒元件110、遮光元件120、間隔元件130以及繞射元件140，其中，在鏡筒元件110的外表面111、鏡筒元件110的內表面112、遮光元件120的表面121、間隔元件130的表面131、繞射元件140的表面141、光學鏡頭內光學鏡片的物側有效徑區域A1、光學鏡頭內光學鏡片的像側有效徑區域A2以及光學鏡頭內
光學鏡片的非有效徑區域A3均可以配置抗反射鍍膜，而抗反射鍍膜具有如第3圖所示之結構。
第一實施例的光學鏡頭所包含的各光學鏡片的詳細參數大小已列於下表一。
第二實施例的取像裝置包含光學鏡頭以及電子感光元件，光學鏡頭由物側至像側包含六光學鏡片以及成像面，而電子感光元件設置於光學鏡頭的成像面。第二實施例的光學鏡頭的全視角為FOV，其滿足下列條件：FOV=85.45度。
所述六光學鏡片由物側至像側分別為光學鏡片L1、光學鏡片L2、光學鏡片L3、光學鏡片L4、光學鏡片L5及光學鏡片L6。所述六光學鏡片中至少一光學鏡片
包含一抗反射鍍膜，包含抗反射鍍膜的光學鏡片由一塑膠材料所製成，抗反射鍍膜位於光學鏡片的物側表面或像側表面，抗反射鍍膜包含至少一膜層，位於抗反射鍍膜外側的膜層之材質為金屬氧化物，抗反射鍍膜包含複數個孔洞，且鄰近抗反射鍍膜外側的孔洞之尺寸大於鄰近抗反射鍍膜內側的孔洞之尺寸。各光學鏡片分別具有物側表面R1及像側表面R2。
第二實施例的光學鏡頭所包含的各光學鏡片的詳細參數大小已列於下表二，且表二的參數定義皆與第一實施例相同，於此不再贅述。
＜第三實施例＞
第三實施例的取像裝置包含光學鏡頭以及電子感光元件，光學鏡頭由物側至像側包含七光學鏡片以及成像面，而電子感光元件設置於光學鏡頭的成像面。第三實施例的光學鏡頭的全視角為FOV，其滿足下列條件：FOV = 78.95度。
所述七光學鏡片由物側至像側分別為光學鏡片L1、光學鏡片L2、光學鏡片L3、光學鏡片L4、光學鏡片L5、光學鏡片L6及光學鏡片L7。所述七光學鏡片中至少一光學鏡片包含一抗反射鍍膜，包含抗反射鍍膜的光學鏡片由一塑膠材料所製成，抗反射鍍膜位於光學鏡片的物側表面或像側表面，抗反射鍍膜包含至少一膜層，位於抗反射鍍膜外側的膜層之材質為金屬氧化物，抗反射鍍膜包含複數個孔洞，且鄰近抗反射鍍膜外側的孔洞之尺寸大於鄰近抗反射鍍膜內側的孔洞之尺寸。各光學鏡片分別具有物側表面R1及像側表面R2。
第三實施例的光學鏡頭所包含的各光學鏡片的詳細參數大小已列於下表三，且表三的參數定義皆與第一實施例相同，於此不再贅述。
| 表三、第三實施例各光學鏡片的鍍膜評價 | ||||||
| FOV (度) | 78.95 | |||||
| L1 | L2 | L3 | L4 | L5 | ||
| CT (mm) | 0.90 | 0.36 | 0.58 | 0.41 | 1.16 | |
| Ns (587.6 nm) | 1.54 | 1.66 | 1.54 | 1.66 | 1.54 | |
| Farw= ((N1-Ns)/(N1+Ns)) 2 | 0.071 | 0.411 | 0.078 | 0.411 | 0.078 | |
| R1 | |SAGmax| (mm) | 0.50 | 0.17 | 0.14 | 0.14 | 0.13 |
| Far1= |SAGmax|/CT | 0.556 | 0.475 | 0.244 | 0.345 | 0.115 | |
| |SPmin| | 2.08 | 3.91 | 1.78 | 2.92 | 9.17 | |
| |SPavg| | 3.77 | 10.31 | 11.36 | 9.17 | 15.87 | |
| Far2= 1/(|SPavg|×|SPmin|) | 0.127 | 0.025 | 0.049 | 0.037 | 0.007 | |
| FAR= LOG(Far1×Far2×Farw) | -2.298 | -2.314 | -3.029 | -2.276 | -4.212 | |
| R2 | |SAGmax| (mm) | 0.05 | 0.27 | 0.37 | 0.08 | 0.70 |
| Far1= |SAGmax|/CT | 0.058 | 0.755 | 0.635 | 0.187 | 0.607 | |
| |SPmin| | 5.21 | 2.19 | 1.04 | 4.35 | 1.78 | |
| |SPavg| | 35.71 | 5.92 | 4.65 | 15.38 | 3.50 | |
| Far2= 1/(|SPavg|×|SPmin|) | 0.005 | 0.077 | 0.206 | 0.015 | 0.161 | |
| FAR= LOG(Far1×Far2×Farw) | -4.652 | -1.621 | -1.993 | -2.939 | -2.120 | |
| L6 | L7 | |||||
| CT (mm) | 0.51 | 0.54 | ||||
| Ns (587.6 nm) | 1.54 | 1.54 | ||||
| Farw= ((N1-Ns)/(N1+Ns)) 2 | 0.078 | 0.078 | ||||
| R1 | |SAGmax| (mm) | 0.51 | 0.83 | |||
| Far1= |SAGmax|/CT | 1.005 | 1.528 | ||||
| |SPmin| | 0.79 | 1.79 | ||||
| |SPavg| | 2.59 | 3.70 | ||||
| Far2= 1/(|SPavg|×|SPmin|) | 0.488 | 0.151 | ||||
| FAR= LOG(Far1×Far2×Farw) | -1.420 | -1.746 | ||||
| R2 | |SAGmax| (mm) | 0.42 | 0.60 | |||
| Far1= |SAGmax|/CT | 0.814 | 1.107 | ||||
| |SPmin| | 0.81 | 1.47 | ||||
| |SPavg| | 2.67 | 3.41 | ||||
| Far2= 1/(|SPavg|×|SPmin|) | 0.463 | 0.199 | ||||
| FAR= LOG(Far1×Far2×Farw) | -1.534 | -1.767 |
＜第四實施例＞
第四實施例的取像裝置包含光學鏡頭以及電子感光元件，光學鏡頭由物側至像側包含七光學鏡片以及成像面，而電子感光元件設置於光學鏡頭的成像面。第四實施例的光學鏡頭的全視角為FOV，其滿足下列條件：FOV = 84.98度。
所述七光學鏡片由物側至像側分別為光學鏡片L1、光學鏡片L2、光學鏡片L3、光學鏡片L4、光學鏡片L5、光學鏡片L6及光學鏡片L7。所述七光學鏡片中至少一光學鏡片包含一抗反射鍍膜，包含抗反射鍍膜的光學鏡片由一塑膠材料所製成，抗反射鍍膜位於光學鏡片的物側表面或像側表面，抗反射鍍膜包含至少一膜層，位於抗反射鍍膜外側的膜層之材質為金屬氧化物，抗反射鍍膜包含複數個孔洞，且鄰近抗反射鍍膜外側的孔洞之尺寸大於鄰近抗反射鍍膜內側的孔洞之尺寸。各光學鏡片分別具有物側表面R1及像側表面R2。
第四實施例的光學鏡頭所包含的各光學鏡片的詳細參數大小已列於下表四，且表四的參數定義皆與第一實施例相同，於此不再贅述。
| 表四、第四實施例各光學鏡片的鍍膜評價 | ||||||
| FOV (度) | 84.98 | |||||
| L1 | L2 | L3 | L4 | L5 | ||
| CT (mm) | 0.83 | 0.25 | 0.28 | 0.60 | 0.38 | |
| Ns (587.6 nm) | 1.54 | 1.69 | 1.67 | 1.54 | 1.57 | |
| Farw= ((N1-Ns)/(N1+Ns)) 2 | 0.071 | 0.516 | 0.446 | 0.078 | 0.123 | |
| R1 | |SAGmax| (mm) | 0.64 | 0.17 | 0.10 | 0.05 | 0.59 |
| Far1= |SAGmax|/CT | 0.777 | 0.698 | 0.370 | 0.091 | 1.544 | |
| |SPmin| | 1.15 | 2.16 | 2.49 | 3.52 | 0.75 | |
| |SPavg| | 2.43 | 7.75 | 11.11 | 18.87 | 3.41 | |
| Far2= 1/(|SPavg|×|SPmin|) | 0.357 | 0.060 | 0.036 | 0.015 | 0.390 | |
| FAR= LOG(Far1×Far2×Farw) | -1.705 | -1.668 | -2.224 | -3.968 | -1.131 | |
| R2 | |SAGmax| (mm) | 0.09 | 0.25 | 0.08 | 0.35 | 0.45 |
| Far1= |SAGmax|/CT | 0.113 | 1.007 | 0.274 | 0.587 | 1.190 | |
| |SPmin| | 9.35 | 1.44 | 4.50 | 1.82 | 2.08 | |
| |SPavg| | 16.13 | 4.72 | 14.08 | 5.13 | 5.65 | |
| Far2= 1/(|SPavg|×|SPmin|) | 0.007 | 0.147 | 0.016 | 0.107 | 0.085 | |
| FAR= LOG(Far1×Far2×Farw) | -4.275 | -1.116 | -2.715 | -2.309 | -1.906 | |
| L6 | L7 | |||||
| CT (mm) | 0.54 | 0.50 | ||||
| Ns (587.6 nm) | 1.54 | 1.53 | ||||
| Farw= ((N1-Ns)/(N1+Ns)) 2 | 0.078 | 0.062 | ||||
| R1 | |SAGmax| (mm) | 0.51 | 1.10 | |||
| Far1= |SAGmax|/CT | 0.949 | 2.205 | ||||
| |SPmin| | 1.20 | 1.43 | ||||
| |SPavg| | 3.34 | 3.45 | ||||
| Far2= 1/(|SPavg|×|SPmin|) | 0.250 | 0.203 | ||||
| FAR= LOG(Far1×Far2×Farw) | -1.731 | -1.560 | ||||
| R2 | |SAGmax| (mm) | 0.70 | 1.14 | |||
| Far1= |SAGmax|/CT | 1.309 | 2.280 | ||||
| |SPmin| | 1.45 | 1.33 | ||||
| |SPavg| | 3.38 | 3.05 | ||||
| Far2= 1/(|SPavg|×|SPmin|) | 0.205 | 0.246 | ||||
| FAR= LOG(Far1×Far2×Farw) | -1.678 | -1.462 |
＜第五實施例＞
第五實施例的取像裝置包含光學鏡頭以及電子感光元件，光學鏡頭由物側至像側包含八光學鏡片以及成像面，而電子感光元件設置於光學鏡頭的成像面。第五實施例的光學鏡頭的全視角為FOV，其滿足下列條件：FOV = 85.11度。
所述八光學鏡片由物側至像側分別為光學鏡片L1、光學鏡片L2、光學鏡片L3、光學鏡片L4、光學鏡片L5、光學鏡片L6、光學鏡片L7及光學鏡片L8。所述八光學鏡片中至少一光學鏡片包含一抗反射鍍膜，包含抗反射鍍膜的光學鏡片由一塑膠材料所製成，抗反射鍍膜位於光學鏡片的物側表面或像側表面，抗反射鍍膜包含至少一膜層，位於抗反射鍍膜外側的膜層之材質為金屬氧化物，抗反射鍍膜包含複數個孔洞，且鄰近抗反射鍍膜外側的孔洞之尺寸大於鄰近抗反射鍍膜內側的孔洞之尺寸。各光學鏡片分別具有物側表面R1及像側表面R2。
第五實施例的光學鏡頭所包含的各光學鏡片的詳細參數大小已列於下表五，且表五的參數定義皆與第一實施例相同，於此不再贅述。
| 表五、第五實施例各光學鏡片的鍍膜評價 | ||||||
| FOV (度) | 85.11 | |||||
| L1 | L2 | L3 | L4 | L5 | ||
| CT (mm) | 1.15 | 0.33 | 0.34 | 0.61 | 0.39 | |
| Ns (587.6 nm) | 1.54 | 1.69 | 1.69 | 1.54 | 1.67 | |
| Farw= ((N1-Ns)/(N1+Ns)) 2 | 0.071 | 0.516 | 0.516 | 0.078 | 0.446 | |
| R1 | |SAGmax| (mm) | 0.97 | 0.24 | 0.09 | 0.14 | 0.36 |
| Far1= |SAGmax|/CT | 0.840 | 0.741 | 0.271 | 0.230 | 0.906 | |
| |SPmin| | 1.01 | 2.06 | 6.02 | 4.29 | 2.34 | |
| |SPavg| | 2.24 | 8.20 | 19.23 | 12.82 | 6.17 | |
| Far2= 1/(|SPavg|×|SPmin|) | 0.445 | 0.059 | 0.009 | 0.018 | 0.069 | |
| FAR= LOG(Far1×Far2×Farw) | -1.576 | -1.644 | -2.918 | -3.485 | -1.552 | |
| R2 | |SAGmax| (mm) | 0.20 | 0.34 | 0.09 | 0.40 | 0.33 |
| Far1= |SAGmax|/CT | 0.172 | 1.037 | 0.277 | 0.655 | 0.843 | |
| |SPmin| | 5.29 | 1.54 | 3.77 | 1.29 | 2.61 | |
| |SPavg| | 10.31 | 5.26 | 17.86 | 5.15 | 7.30 | |
| Far2= 1/(|SPavg|×|SPmin|) | 0.018 | 0.124 | 0.015 | 0.150 | 0.052 | |
| FAR= LOG(Far1×Far2×Farw) | -3.650 | -1.179 | -2.672 | -2.113 | -1.705 | |
| L6 | L7 | L8 | ||||
| CT (mm) | 0.43 | 0.69 | 0.86 | |||
| Ns (587.6 nm) | 1.59 | 1.57 | 1.53 | |||
| Farw= ((N1-Ns)/(N1+Ns)) 2 | 0.174 | 0.123 | 0.062 | |||
| R1 | |SAGmax| (mm) | 0.85 | 1.32 | 1.87 | ||
| Far1= |SAGmax|/CT | 2.002 | 1.910 | 2.164 | |||
| |SPmin| | 0.65 | 0.92 | 1.50 | |||
| |SPavg| | 2.92 | 2.60 | 3.10 | |||
| Far2= 1/(|SPavg|×|SPmin|) | 0.530 | 0.417 | 0.216 | |||
| FAR= LOG(Far1×Far2×Farw) | -0.733 | -1.010 | -1.542 | |||
| R2 | |SAGmax| (mm) | 0.87 | 1.47 | 2.03 | ||
| Far1= |SAGmax|/CT | 2.034 | 2.124 | 2.351 | |||
| |SPmin| | 1.32 | 1.32 | 1.17 | |||
| |SPavg| | 3.60 | 2.82 | 3.00 | |||
| Far2= 1/(|SPavg|×|SPmin|) | 0.210 | 0.267 | 0.284 | |||
| FAR= LOG(Far1×Far2×Farw) | -1.128 | -1.157 | -1.387 |
＜第六實施例＞
第六實施例的取像裝置包含光學鏡頭以及電子感光元件，光學鏡頭由物側至像側包含九光學鏡片以及成像面，而電子感光元件設置於光學鏡頭的成像面。第六實施例的光學鏡頭的全視角為FOV，其滿足下列條件：FOV = 86.76度。
所述九光學鏡片由物側至像側分別為光學鏡片L1、光學鏡片L2、光學鏡片L3、光學鏡片L4、光學鏡片L5、光學鏡片L6、光學鏡片L7、光學鏡片L8及光學鏡片L9。所述九光學鏡片中至少一光學鏡片包含一抗反射鍍膜，包含抗反射鍍膜的光學鏡片由一塑膠材料所製成，抗反射鍍膜位於光學鏡片的物側表面或像側表面，抗反射鍍膜包含至少一膜層，位於抗反射鍍膜最外側的膜層之材質為金屬氧化物，抗反射鍍膜包含複數個孔洞，且鄰近抗反射鍍膜最外側的孔洞之尺寸大於鄰近抗反射鍍膜最內側的孔洞之尺寸。各光學鏡片分別具有物側表面R1及像側表面R2。
第六實施例的光學鏡頭所包含的各光學鏡片的詳細參數大小已列於下表六，且表六的參數定義皆與第一實施例相同，於此不再贅述。
| 表六、第六實施例各光學鏡片的鍍膜評價 | ||||||
| FOV (度) | 86.76 | |||||
| L1 | L2 | L3 | L4 | L5 | ||
| CT (mm) | 1.14 | 0.31 | 0.32 | 0.50 | 0.36 | |
| Ns (587.6 nm) | 1.54 | 1.69 | 1.69 | 1.54 | 1.66 | |
| Farw= ((N1-Ns)/(N1+Ns)) 2 | 0.071 | 0.516 | 0.516 | 0.078 | 0.411 | |
| R1 | |SAGmax| (mm) | 0.96 | 0.24 | 0.11 | 0.12 | 0.28 |
| Far1= |SAGmax|/CT | 0.837 | 0.780 | 0.336 | 0.247 | 0.788 | |
| |SPmin| | 1.06 | 1.72 | 5.52 | 5.29 | 2.98 | |
| |SPavg| | 2.26 | 7.69 | 15.38 | 13.70 | 7.04 | |
| Far2= 1/(|SPavg|×|SPmin|) | 0.417 | 0.076 | 0.012 | 0.014 | 0.048 | |
| FAR= LOG(Far1×Far2×Farw) | -1.605 | -1.516 | -2.690 | -3.574 | -1.812 | |
| R2 | |SAGmax| (mm) | 0.18 | 0.33 | 0.13 | 0.35 | 0.32 |
| Far1= |SAGmax|/CT | 0.160 | 1.075 | 0.415 | 0.702 | 0.897 | |
| |SPmin| | 6.02 | 1.32 | 2.17 | 1.09 | 2.82 | |
| |SPavg| | 11.36 | 5.00 | 10.75 | 5.88 | 7.04 | |
| Far2= 1/(|SPavg|×|SPmin|) | 0.015 | 0.152 | 0.043 | 0.156 | 0.050 | |
| FAR= LOG(Far1×Far2×Farw) | -3.778 | -1.074 | -2.036 | -2.066 | -1.732 | |
| L6 | L7 | L8 | L9 | |||
| CT (mm) | 0.43 | 0.52 | 0.64 | 0.71 | ||
| Ns (587.6 nm) | 1.64 | 1.59 | 1.54 | 1.53 | ||
| Farw= ((N1-Ns)/(N1+Ns)) 2 | 0.332 | 0.174 | 0.078 | 0.062 | ||
| R1 | |SAGmax| (mm) | 0.94 | 1.56 | 1.02 | 1.51 | |
| Far1= |SAGmax|/CT | 2.170 | 2.992 | 1.594 | 2.120 | ||
| |SPmin| | 0.43 | 0.88 | 2.00 | 2.19 | ||
| |SPavg| | 2.53 | 2.29 | 4.50 | 3.97 | ||
| Far2= 1/(|SPavg|×|SPmin|) | 0.914 | 0.498 | 0.111 | 0.115 | ||
| FAR= LOG(Far1×Far2×Farw) | -0.181 | -0.586 | -1.858 | -1.823 | ||
| R2 | |SAGmax| (mm) | 0.91 | 1.75 | 1.23 | 1.63 | |
| Far1= |SAGmax|/CT | 2.088 | 3.350 | 1.924 | 2.291 | ||
| |SPmin| | 1.23 | 0.71 | 1.72 | 1.72 | ||
| |SPavg| | 3.34 | 2.20 | 4.18 | 3.75 | ||
| Far2= 1/(|SPavg|×|SPmin|) | 0.242 | 0.638 | 0.139 | 0.156 | ||
| FAR= LOG(Far1×Far2×Farw) | -0.774 | -0.429 | -1.679 | -1.658 |
＜不同波長之反射率量測結果＞
首先，在下表七中，列出比較例、第一實施例至第九實施例的抗反射鍍膜配置方式。
| 表七、比較例、第一實施例至第九實施例的 抗反射鍍膜配置方式 | |||||||
| 比較例 | 第一實施例至第九實施例 | ||||||
| 層數 | 材質 | 折射率 | 物理厚度(nm) | 層數 | 材質 | 折射率 | 物理厚度(nm) |
| 基材 | 塑膠 | 1.55 | - | 基材 | 塑膠 | 1.53～ 1.69 | - |
| 1 | TiO 2(PVD) | 2.34867 (NH) | 14 | 1 | SiO 2(PVD) | 1.46 (N1) | 100 |
| 2 | SiO 2(PVD) | 1.4618 (NL) | 33 | 2 | Al 2O 3(CVD) | 1.21 (N2) | 115 |
| 3 | TiO 2(PVD) | 2.34867 (NH) | 56 | ||||
| 4 | SiO 2(PVD) | 1.4618 (NL) | 9 | ||||
| 5 | TiO 2(PVD) | 2.34867 (NH) | 42 | ||||
| 6 | SiO 2(PVD) | 1.4618 (NL) | 92 | ||||
| 總膜厚(tTK) | 246 | 總膜厚(tTK) | 215 |
由表七可以得知，比較例的抗反射鍍膜共具有六層膜層，且總膜厚為246 nm，相較之下，第一實施例至第九實施例的抗反射鍍膜只具有兩層膜層，且總膜厚僅為215 nm，說明本揭示內容的抗反射鍍膜配置方式可以有效提升製作效率與節省成本。
以下將針對比較例、前述第三實施例、第四實施例、第七實施例、第八實施例及第九實施例進行測量，以得知其各別的谷點波長、谷點反射率以及不同波長下的反射率，並將結果列於下表八至表十。
| 表八、比較例及第三實施例的反射率量測結果 | |||||
| 實施例 | 比較例 | 三 | |||
| 光學鏡片總數 | 7 | 7 | |||
| 具有抗反射鍍膜之光學鏡片 | L6 | L6 | |||
| 表面 | 物側 | 像側 | 物側 | 像側 | |
| 波長 (nm) | Wtmin | 849 | 790 | 699 | 700 |
| 反 射 率 (%) | Rtmin | 0.0852 | 0.4688 | 0.0056 | 0.0038 |
| R4070 | 1.1210 | 0.6895 | 0.0587 | 0.0522 | |
| R4060 | 1.5122 | 0.7461 | 0.0796 | 0.0716 | |
| R40100 | 1.4206 | 0.8732 | 0.0967 | 0.0926 | |
| R5060 | 0.4296 | 0.6612 | 0.0418 | 0.0357 | |
| R6070 | 0.3358 | 0.5759 | 0.0169 | 0.0133 | |
| R6080 | 0.3391 | 0.5461 | 0.0190 | 0.0172 | |
| R70100 | 1.7161 | 1.0560 | 0.1344 | 0.1326 | |
| R80100 | 2.4002 | 1.3241 | 0.1909 | 0.1884 | |
| R90100 | 4.5184 | 1.9704 | 0.2769 | 0.2711 | |
| R40 | 30.7348 | 2.3259 | 0.2484 | 0.1996 | |
| R50 | 0.4305 | 0.6055 | 0.0565 | 0.0520 | |
| R60 | 0.4546 | 0.5988 | 0.0272 | 0.0229 | |
| R70 | 0.2203 | 0.5748 | 0.0073 | 0.0038 | |
| R80 | 0.3420 | 0.4737 | 0.0464 | 0.0464 | |
| R90 | 0.8884 | 1.0840 | 0.1774 | 0.1745 | |
| R100 | 9.7150 | 3.0532 | 0.3827 | 0.3632 |
| 表九、第四實施例及第七實施例的反射率量測結果 | |||||
| 實施例 | 四 | 七 | |||
| 光學鏡片總數 | 7 | 7 | |||
| 具有抗反射鍍膜之光學鏡片 | L7 | L6 | |||
| 表面 | 物側 | 像側 | 物側 | 像側 | |
| 波長 (nm) | Wtmin | 662 | 697 | 449 | 470 |
| 反 射 率 (%) | Rtmin | 0.0270 | 0.0210 | 0.0333 | 0.0105 |
| R4070 | 0.0906 | 0.0700 | 0.1459 | 0.0405 | |
| R4060 | 0.1186 | 0.0889 | 0.0945 | 0.0392 | |
| R40100 | 0.1469 | 0.1178 | 0.4169 | 0.1473 | |
| R5060 | 0.0707 | 0.0648 | 0.1286 | 0.0324 | |
| R6070 | 0.0346 | 0.0323 | 0.2487 | 0.0431 | |
| R6080 | 0.0478 | 0.0358 | 0.3362 | 0.0667 | |
| R70100 | 0.2028 | 0.1654 | 0.6875 | 0.2538 | |
| R80100 | 0.2736 | 0.2283 | 0.8193 | 0.3355 | |
| R90100 | 0.3704 | 0.3196 | 0.9666 | 0.4440 | |
| R40 | 0.2930 | 0.1990 | 0.1222 | 0.1450 | |
| R50 | 0.1020 | 0.0810 | 0.0741 | 0.0225 | |
| R60 | 0.0440 | 0.0500 | 0.1809 | 0.0415 | |
| R70 | 0.0340 | 0.0230 | 0.3236 | 0.0542 | |
| R80 | 0.1040 | 0.0730 | 0.5341 | 0.1417 | |
| R90 | 0.2600 | 0.2180 | 0.8108 | 0.3220 | |
| R100 | 0.4830 | 0.4270 | 1.1117 | 0.5595 |
| 表十、第八實施例及第九實施例的反射率量測結果 | |||||
| 實施例 | 八 | 九 | |||
| 光學鏡片總數 | 7 | 6 | |||
| 具有抗反射鍍膜之光學鏡片 | L6 | L6 | |||
| 表面 | 物側 | 像側 | 物側 | 像側 | |
| 波長 (nm) | Wtmin | 465 | 479 | 491 | 494 |
| 反 射 率 (%) | Rtmin | 0.0161 | 0.0108 | 0.0331 | 0.0045 |
| R4070 | 0.0833 | 0.0496 | 0.0652 | 0.0541 | |
| R4060 | 0.0572 | 0.0316 | 0.0599 | 0.0399 | |
| R40100 | 0.2880 | 0.2264 | 0.2191 | 0.2364 | |
| R5060 | 0.0591 | 0.0240 | 0.0467 | 0.0260 | |
| R6070 | 0.1354 | 0.0855 | 0.0758 | 0.0823 | |
| R6080 | 0.2016 | 0.1414 | 0.1220 | 0.1409 | |
| R70100 | 0.4923 | 0.4029 | 0.3726 | 0.4183 | |
| R80100 | 0.6045 | 0.5057 | 0.4748 | 0.5277 | |
| R90100 | 0.7338 | 0.6270 | 0.5985 | 0.6557 | |
| R40 | 0.1939 | 0.1703 | 0.1905 | 0.2367 | |
| R50 | 0.0292 | 0.0023 | 0.0356 | 0.0101 | |
| R60 | 0.0934 | 0.0498 | 0.0574 | 0.0491 | |
| R70 | 0.1904 | 0.1295 | 0.1089 | 0.1267 | |
| R80 | 0.3597 | 0.2773 | 0.2484 | 0.2872 | |
| R90 | 0.5947 | 0.4958 | 0.4671 | 0.5223 | |
| R100 | 0.8660 | 0.7502 | 0.7392 | 0.7944 |
請參照第4圖至第9圖，第4圖、第5圖、第6圖、第7圖、第8圖及第9圖分別為比較例、第三實施例、第四實施例、第七實施例、第八實施例及第九實施例的光學鏡頭的反射率與波長的關係圖。由上述測量結果可以得知，比較例之光學鏡頭的抗反射效果會隨著波長變化而有所起伏，且在短波長區域及長波長區域的抗反射效果不佳，相較之下，第三實施例、第四實施例、第七實施例、第八實施例及第九實施例的光學鏡頭在不同的波長下，皆能達到均勻的抗反射效果，證明本揭示內容的光學鏡頭具備最佳廣波域範圍的抗反射效果，有助於提升成像品質。
再請參照第10A圖及第10B圖，第10A圖及第10B圖分別為比較例及第四實施例的光學鏡頭於40度入射強光下的鏡頭影像品質測試圖。在第10A圖中，可以看出影像右上角產生非預期的光線，而在第10B圖中，右上角的雜散光線明顯減少，說明本揭示內容的光學鏡頭具有優秀的消除角落雜散光線之效果。
請參照第11圖，第11圖為第四實施例的包含抗反射鍍膜的光學鏡片的斷面圖，由第11圖明顯可見，抗反射鍍膜的外側孔洞相對大於內側孔洞，可以說明在同一平面中，抗反射鍍膜外側的不規則奈米纖維結構分布較稀疏，而內側的不規則奈米纖維結構分布較緊密。
本揭示內容提供多鏡片之光學系統，其應用多層鍍膜的設計方式，並以特定多重抗反射鍍膜因子進行設計，達到優異廣波域鍍膜配置方程式，再藉由抗反射鍍膜層表面的次波長微結構特性，使具多鏡片的高品質光學系統能夠獲得最佳廣波域範圍的抗反射效果，同時解決在劇烈面形變化的光學鏡片上難以克服的大角度強光嚴重反射問題，特別適合應用在彎曲變化的光學鏡片與較高折射率的材質上，使其均能達到全視場且廣波域範圍的均勻抗反射效果，當組合應用在多鏡片光學系統內時，有助於顯著提升高階光學鏡頭的成像品質效果。
雖然本揭示內容已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本揭示內容，任何熟習此技藝者，在不脫離本揭示內容之精神和範圍內，當可作各種之更動與潤飾，因此本揭示內容之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
110:鏡筒元件
111:外表面
112:內表面
120:遮光元件
121,131,141:表面
130:間隔元件
140:繞射元件
151:成像面
152:電子感光元件
NH:高折射率材料的折射率
NL:低折射率材料的折射率
Ns:光學鏡片材質的折射率
N1:第一膜層材質的折射率
N2:第二膜層材質的折射率
TL1:第一膜層的厚度
TL2:第二膜層的厚度
tLs:抗反射鍍膜的總層數
tTk:抗反射鍍膜的總膜厚
Far1:抗反射鍍膜配置第一因子
Far2:抗反射鍍膜配置第二因子
Farw:超廣波域因子
FAR:抗反射鍍膜配置主因子
CT:光學鏡片於光軸上的厚度
SAGmax:水平位移的最大值
SPavg:切線斜率的平均值
SPmin:切線斜率的最小值
Wtmin:最低反射率的谷點波長
Rtmin:最低反射率的谷點反射率
R4060:於波長400 nm – 600 nm的平均反射率
R4070:於波長400 nm – 700 nm的平均反射率
R40100:於波長400 nm – 1000 nm的平均反射率
R5060:於波長500 nm – 600 nm的平均反射率
R6070:於波長600 nm – 700 nm的平均反射率
R6080:於波長600 nm – 800 nm的平均反射率
R70100:於波長700 nm – 1000 nm的平均反射率
R80100:於波長800 nm – 1000 nm的平均反射率
R90100:於波長900 nm – 1000 nm的平均反射率
R40:於波長400 nm的反射率
R50:於波長500 nm的反射率
R60:於波長600 nm的反射率
R70:於波長700 nm的反射率
R80:於波長800 nm的反射率
R90:於波長900 nm的反射率
R100:於波長1000 nm的反射率
FOV:全視角
T1,T2,T3,T4,T5:谷點
L1,L2,L3,L4,L5,L6,L7,L8,L9:光學鏡片
R1:物側表面
R2:像側表面
A1:物側有效徑區域
A2:像側有效徑區域
A3:非有效徑區域
為讓本揭示內容之上述和其他目的、特徵、優點與實施例能更明顯易懂，所附圖式之說明如下：
第1圖為本揭示內容之第一實施例的一種取像裝置的示意圖；
第2圖為第1圖的取像裝置的一繞射元件的示意圖；
第3圖為第1圖的取像裝置的一抗反射鍍膜的局部放大示意圖；
第4圖為比較例的一光學鏡頭的反射率與波長的關係圖；
第5圖為第三實施例的一光學鏡頭的反射率與波長的關係圖；
第6圖為第四實施例的一光學鏡頭的反射率與波長的關係圖；
第7圖為第七實施例的一光學鏡頭的反射率與波長的關係圖；
第8圖為第八實施例的一光學鏡頭的反射率與波長的關係圖；
第9圖為第九實施例的一光學鏡頭的反射率與波長的關係圖；
第10A圖為比較例的光學鏡頭於40度入射強光下的鏡頭影像品質測試圖；
第10B圖為第四實施例的光學鏡頭於40度入射強光下的鏡頭影像品質測試圖；以及
第11圖為第四實施例的包含抗反射鍍膜的一光學鏡片的斷面圖。
110:鏡筒元件
111:外表面
112:內表面
120:遮光元件
121,131:表面
130:間隔元件
151:成像面
152:電子感光元件
A1:物側有效徑區域
A2:像側有效徑區域
A3:非有效徑區域
Claims (19)
- 一種光學鏡頭，其由物側至像側包含： 至少五光學鏡片； 其中，至少一該光學鏡片包含一抗反射鍍膜，包含該抗反射鍍膜的該光學鏡片由一塑膠材料所製成，該抗反射鍍膜位於該光學鏡片的物側表面或像側表面，該抗反射鍍膜包含至少一膜層，位於該抗反射鍍膜外側的該膜層之材質為金屬氧化物，該抗反射鍍膜包含複數個孔洞，且鄰近該抗反射鍍膜外側的該些孔洞之尺寸大於鄰近該抗反射鍍膜內側的該些孔洞之尺寸； 其中，該光學鏡片材質的折射率為Ns，位於該抗反射鍍膜最內側的該膜層為一第一膜層，該第一膜層材質的折射率為N1，該第一膜層的厚度為TL1，該光學鏡頭配置該抗反射鍍膜時的超廣波域因子為Farw，其滿足下列條件： N1 ＜ Ns； 50 nm ≤ TL1 ≤ 200 nm；以及 Farw ≤ 0.60。
- 如請求項1所述之光學鏡頭，其中該光學鏡頭的抗反射鍍膜配置第一因子為Far1，其滿足下列條件： 0.500 ≤ Far1。
- 如請求項2所述之光學鏡頭，其中該光學鏡頭的抗反射鍍膜配置第二因子為Far2，其滿足下列條件： 0.100 ≤ Far2。
- 如請求項1所述之光學鏡頭，其中該光學鏡頭的抗反射鍍膜配置主因子為FAR，其滿足下列條件： -7.000 ≤ FAR。
- 如請求項4所述之光學鏡頭，其中該光學鏡片材質的折射率為Ns，其滿足下列條件： 1.530 ≤ Ns ≤ 1.690。
- 如請求項5所述之光學鏡頭，其中該第一膜層材質的折射率為N1，其滿足下列條件： 1.37 ≤ N1 ≤ 1.63。
- 如請求項6所述之光學鏡頭，其中該第一膜層的材質為SiO 2。
- 如請求項7所述之光學鏡頭，其中該抗反射鍍膜包含至少二種不同主要材質的膜層。
- 如請求項1所述之光學鏡頭，其中該光學鏡片具有最低反射率的谷點波長為Wtmin，其滿足下列條件： 400 nm ≤ Wtmin ≤ 750 nm。
- 如請求項9所述之光學鏡頭，其中該光學鏡片具有最低反射率的谷點反射率為Rtmin，其滿足下列條件： 0.01% ≤ Rtmin ≤ 0.50%。
- 如請求項10所述之光學鏡頭，其中該光學鏡片於波長400 nm – 1000 nm的平均反射率為R40100，其滿足下列條件： 0.05% ≤ R40100 ≤ 1.5%。
- 如請求項11所述之光學鏡頭，其中該光學鏡片於波長700 nm的反射率為R70，其滿足下列條件： 0.01% ≤ R70 ≤ 1.0%。
- 如請求項12所述之光學鏡頭，其中包含該抗反射鍍膜的該光學鏡片的至少一表面包含至少一反曲點。
- 如請求項1所述之光學鏡頭，其中該抗反射鍍膜的總層數為tLs，其滿足下列條件： 1 ≤ tLs ≤ 2。
- 如請求項14所述之光學鏡頭，其中與該第一膜層連接之該膜層為一第二膜層，該第二膜層的厚度為TL2，其滿足下列條件： 100 nm ≤ TL2 ≤ 250 nm。
- 如請求項15所述之光學鏡頭，其中該抗反射鍍膜的總膜厚為tTk，其滿足下列條件： 100 nm ≤ tTk ≤ 300 nm。
- 一種取像裝置，包含： 如請求項1所述之光學鏡頭；以及 一電子感光元件，其設置於該光學鏡頭的一成像面。
- 一種電子裝置，係為一行動裝置，該電子裝置包含： 如請求項17所述之取像裝置。
- 一種取像裝置，包含： 如請求項1所述之光學鏡頭； 一繞射元件，其至少一表面包含一抗反射鍍膜，該繞射元件的該抗反射鍍膜之材質為氧化鋁；以及 一電子感光元件，其設置於該光學鏡頭的一成像面。
Priority Applications (5)
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