TWI773174B - 帶電粒子槍，帶電粒子束系統，及鎖緊螺帽 - Google Patents

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Abstract

帶電粒子槍，具有：裝配有帶電粒子源之螺栓；及藉由螺合至螺栓而保持帶電粒子源之螺帽；及與螺帽接觸之螺帽座面。螺帽，包含可調整帶電粒子源相對於螺帽座面的傾斜角度之傾斜調整部、及抑制螺帽與螺栓的螺合狀態鬆脫之鎖緊部。螺帽的內側面，具有螺合部、及內徑比螺合部還大之非螺合部。傾斜調整部，具有：第1狹縫，形成為從螺帽的外側面的一部分貫通至非螺合部的一部分；及傾斜調整螺旋；及第1部分，位於第1狹縫與第2面之間；及第2部分，位於第1狹縫與第1面之間；及第1螺旋孔，供傾斜調整螺旋螺合，於第2部分，形成為從第1面貫通至第1狹縫。

Description

帶電粒子槍，帶電粒子束系統，及鎖緊螺帽
本發明有關帶電粒子束系統，有關適用於保持帶電粒子源的螺帽而特別有效之技術。
專利文獻1(日本特開2017-228488號公報)中，記載一種於電子束發射體裝置中，調整電子束的放出方向之方法。專利文獻2(日本特開2009-281426號公報)中，記載一種調整工作機械的旋轉的主軸的旋轉平衡之鎖緊螺帽(lock nut)。 先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本特開2017-228488號公報 專利文獻2：日本特開2009-281426號
發明所欲解決之問題
掃描電子顯微鏡(Scanning Electron Microscope：SEM)等的帶電粒子束系統，係檢測藉由對於試料之電子束等帶電粒子束的掃描而獲得的帶電粒子(二次電子等)，來形成圖像。因此，帶電粒子束的照射軸的相對於試料之傾斜角度，會對帶電粒子束系統的性能造成很大影響。
此外，藉由螺帽而保持帶電粒子源之構造的情形下，例如若由於裝置的振動等外力而在螺帽孔的螺合部發生鬆脫，則會導致帶電粒子源的相對於試料之傾斜角度變化。
本發明之目的，在於提供一種將帶電粒子束的照射軸的相對於試料之傾斜角度予以最佳化的技術。 解決問題之技術手段
本發明的一態樣之帶電粒子槍，具有：帶電粒子源；及螺栓，裝配有前述帶電粒子源；及螺帽，具有第1面及前述第1面的相反側的第2面，藉由螺合至裝配有前述帶電粒子源的前述螺栓而保持前述帶電粒子源；及螺帽座面，與前述螺帽的前述第2面接觸。前述螺帽，包含：前述第1面、前述第2面、外側面、及內側面；及螺合部，設於前述內側面的一部分，形成有與前述螺栓螺合的複數個螺紋；及傾斜調整部，可調整被保持於前述螺帽的狀態下的前述帶電粒子源的相對於前述螺帽座面之傾斜角度；及鎖緊部，抑制前述螺帽與前述螺栓之螺合狀態鬆脫。前述螺帽的前述內側面，具有前述螺合部、及內徑比前述螺合部還大之非螺合部。前述傾斜調整部，具有：第1狹縫，形成為從前述外側面的一部分貫通至前述非螺合部的一部分；及傾斜調整螺旋；及第1部分，位於前述第1狹縫與前述第2面之間；及第2部分，位於前述第1狹縫與前述第1面之間；及第1螺旋孔，供前述傾斜調整螺旋螺合，於前述第2部分，形成為從前述第1面貫通至前述第1狹縫。前述傾斜調整螺旋的先端部，透過前述第1部分推壓前述螺帽座面，藉此前述帶電粒子源相對於前述螺帽座面之傾斜角度會變化。
本發明的另一態樣之帶電粒子束系統，具有：帶電粒子槍；及光學處理部，將從前述帶電粒子槍照射的帶電粒子束做光學性處理；及試料保持部，保持照射前述帶電粒子束的試料；及電腦系統，控制前述光學處理部。前述帶電粒子槍，具有：帶電粒子源；及螺栓，裝配有前述帶電粒子源；及螺帽，具有第1面及前述第1面的相反側的第2面，藉由螺合至裝配有前述帶電粒子源的前述螺栓而保持前述帶電粒子源；及螺帽座面，與前述螺帽的前述第2面接觸。前述螺帽，包含：前述第1面、前述第2面、外側面、及內側面；及螺合部，設於前述內側面的一部分，形成有與前述螺栓螺合的複數個螺紋；及傾斜調整部，可調整被保持於前述螺帽的狀態下的前述帶電粒子源的相對於前述螺帽座面之傾斜角度；及鎖緊部，抑制前述螺帽與前述螺栓之螺合狀態鬆脫。前述螺帽的前述內側面，具有前述螺合部、及內徑比前述螺合部還大之非螺合部。前述傾斜調整部，具有：第1狹縫，形成為從前述外側面的一部分貫通至前述非螺合部的一部分；及傾斜調整螺旋；及第1部分，位於前述第1狹縫與前述第2面之間；及第2部分，位於前述第1狹縫與前述第1面之間；及第1螺旋孔，供前述傾斜調整螺旋螺合，於前述第2部分，形成為從前述第1面貫通至前述第1狹縫。前述傾斜調整螺旋的先端部，透過前述第1部分推壓前述螺帽座面，藉此前述帶電粒子源相對於前述螺帽座面之傾斜角度會變化。
本發明的另一態樣之鎖緊螺帽，包含：第1面；及前述第1面的相反側的第2面；及螺帽孔，從前述第1面及第2面當中的一方貫通至另一方；及前述螺帽孔的外緣亦即內側面；及前述內側面的相反側的外側面；及螺合部，設於前述內側面的一部分，形成有複數個螺紋；及傾斜調整部，可調整前述螺帽孔的相對於前述第2面所接觸的螺帽座面之傾斜角度；及鎖緊部，抑制被螺合至前述螺帽孔的螺栓的螺合狀態鬆脫。前述內側面，具有前述螺合部、及內徑比前述螺合部還大之非螺合部。前述傾斜調整部，具有：第1狹縫，形成為從前述外側面的一部分貫通至前述非螺合部的一部分；及傾斜調整螺旋；及第1部分，位於前述第1狹縫與前述第2面之間；及第2部分，位於前述第1狹縫與前述第1面之間；及第1螺旋孔，供前述傾斜調整螺旋螺合，於前述第2部分，形成為從前述第1面貫通至前述第1狹縫。前述傾斜調整螺旋的先端部，透過前述第1部分推壓前述螺帽座面，藉此螺帽軸相對於前述螺帽座面之傾斜角度會變化。 發明之功效
按照本發明之態樣，能夠將帶電粒子束的照射軸的相對於試料之傾斜角度予以最佳化。
以下一面參照圖面，一面說明本發明之各實施形態。另，揭示僅為一例，針對所屬技術領域者易於思及之在維持發明的主旨下的適宜變更，當然包含於本發明的範圍。此外，圖面為使說明更為明確，相較於實際的態樣，針對各部的寬度、厚度、形狀等有模型化表現之情形，惟僅為一例，並非限縮本發明之解釋。此外，本說明書及各圖中，關於既出的圖對於和前述者同樣的要素，標註同一或關連的符號，有時適宜省略詳細的說明。
此外，以下的實施形態的說明中，作為帶電粒子束系統，示意將本揭示適用於使用了電子束的掃描電子顯微鏡(SEM)的例子。但，此實施形態不應被限定性地解釋，例如對於使用離子束等的帶電粒子束的系統或一般性的觀察系統，本揭示亦可被適用。
此外，以下說明的實施形態中，作為掃描型電子顯微鏡的一例，係舉出計測試料(半導體晶圓)上的圖樣之圖樣計測裝置為例來說明，但所謂「掃描型電子顯微鏡」係訂為廣泛包含使用電子束而拍攝試料的圖像的裝置。作為掃描型電子顯微鏡的其他例子，可舉出使用了掃描型電子顯微鏡的檢查裝置、複檢(review)裝置、泛用的掃描型電子顯微鏡、具備掃描型電子顯微鏡的試料加工裝置或試料分析裝置等，本揭示在該些裝置中亦可適用。此外，以下說明的實施形態中所謂掃描型電子顯微鏡，訂為還包含上述掃描型電子顯微鏡藉由網路而被連接而成之系統、或將上述掃描型電子顯微鏡組合複數個而成之複合裝置。
此外，以下說明的實施形態中所謂「試料」，是以形成有圖樣的半導體晶圓為一例來說明，但不限於此，亦可為顯示元件或磁性元件用的基板、金屬、陶瓷、生物試料等。
(實施形態1) ＜帶電粒子束系統的構成＞ 首先，使用圖1說明帶電粒子束系統的構成例。以下，作為帶電粒子束系統的代表例，舉出掃描型電子顯微鏡來說明。圖1為本實施形態之帶電粒子束系統的一例亦即掃描電子顯微鏡的構成例示意說明圖。
圖1所示掃描電子顯微鏡100，具有照射帶電粒子束之帶電粒子槍110、及將從帶電粒子槍110照射的帶電粒子束101做光學性處理之光學處理部120、及保持照射帶電粒子束的試料131之試料保持部130、及控制光學處理部120所做的光學處理之電腦系統140。
掃描電子顯微鏡100，檢測藉由對於被保持於試料保持部130的試料131(半導體晶圓)掃描帶電粒子束101而獲得的帶電粒子(例如二次電子102或背向散射電子)。此外，掃描電子顯微鏡100，例如基於帶電粒子的檢測結果而在電腦系統140的圖像處理部142生成圖像訊號，輸出至顯示裝置143。
如圖1所示，帶電粒子槍110，具有帶電粒子源111、保持帶電粒子源111之螺帽112、及支撐螺帽112之螺帽座113。此外，光學處理部120，包含聚光透鏡121、偏向器122、對物透鏡123、及二次電子檢測器(檢測部)124。
電腦系統140，包含控制帶電粒子槍110的動作、光學處理部120的動作、及檢測出的訊號的處理之電腦141。此外，電腦系統140，包含將在二次電子檢測器124檢測出的訊號做圖像處理，而輸出作為圖像訊號之圖像處理部142。此外，電腦系統140，包含將在圖像處理部生成的圖像訊號顯示作為圖像之顯示裝置143。此外，電腦系統140，包含對於電腦141輸入指令訊號或資料訊號之鍵盤或滑鼠等的輸入部144。
運用掃描電子顯微鏡100之試料131的觀察方法如下。首先，在試料保持部130上配置試料131。試料保持部130，為可朝水平方向移動的移動式平台，在將試料131保持於平台上的狀態下使其水平移動，藉此便能觀察試料131的任意位置。
例如，當觀察、檢查形成於半導體元件的積體電路的圖樣作為試料131的情形下，預先作成記憶了帶電粒子槍110、光學處理部120、及電腦系統140的動作條件等之稱為配方(recipe)的程式。此配方，透過輸入部144被輸入至電腦141。
一旦試料131的觀察處理開始，基於從電腦系統140的電腦141輸出的驅動訊號而於帶電粒子槍110的帶電粒子源111形成帶電粒子束101，朝向試料131照射。此外，光學處理部120為氣密的空間，與排氣泵浦150連接。從試料131的觀察處理開始之前排氣泵浦150便運轉，將光學處理部120的內部的空間維持在減壓狀態。因此，在帶電粒子源111形成的帶電粒子束101到達試料131的表面為止之期間，能夠抑制帶電粒子束101與其他粒子衝撞。
從帶電粒子源111照射的帶電粒子束101，藉由聚光透鏡121被聚焦。接下來，帶電粒子束101，藉由偏向器122被掃描、偏向。接下來帶電粒子束101，藉由對物透鏡123被聚焦至試料131的表面。從試料131會放出二次電子102或未圖示的背向散射線，該些帶電粒子藉由檢測部而被檢測。圖1中，作為檢測從試料131放出的帶電粒子之檢測部的一例，圖示了檢測二次電子102之二次電子檢測器124。惟，藉由檢測部而被檢測的帶電粒子，有種種的變形例。例如，當檢測背向散射電子作為帶電粒子的情形下，亦可能包含未圖示的背向散射電子檢測器作為檢測部。
掃描電子顯微鏡100，於試料131的表面上，二維地掃描帶電粒子束101聚焦的位置。利用試料保持部130的水平移動、及偏向器122所致之偏向，來實現二維地掃描試料131的任意位置。若反覆複數次實施這樣的二維掃描，則可將檢測出的二次電子102等帶電粒子的資料變換成圖像資料。圖像處理部142，基於二次電子102等帶電粒子的資料、及二維掃描的資料而生成圖像資料。在圖像處理部142生成的圖像資料透過電腦141被輸出至顯示裝置143。作業者，就被顯示於顯示裝置143的圖像，能夠觀察試料131的狀態。
圖1所示包含掃描電子顯微鏡100之帶電粒子束系統中，要求高放大倍率、及高計測重現性。近年來，伴隨試料131的檢查對象物的微細化、高度積體化進展，對於帶電粒子束系統，要求可涵蓋更廣範圍而計測，且於各計測點能夠做更高精度的計測之性能。
像這樣，當使帶電粒子束系統所做的計測精度提升的情形下，從帶電粒子源111照射的帶電粒子束101的照射軸的相對於試料131之傾斜角度，會對帶電粒子束系統的計測精度造成很大影響。例如，當在帶電粒子槍110內裝配帶電粒子源111時，依帶電粒子源111的裝配角度不同，即使以同一配方令掃描電子顯微鏡100動作，計測性能也可能降低。此外，若被保持於帶電粒子槍110內的帶電粒子源111由於振動或衝撃等外力而移動，則會對計測帶來阻礙。
鑑此，圖1所示包含掃描電子顯微鏡100之帶電粒子束系統，較佳是具備調整從帶電粒子源111照射的帶電粒子束101的照射軸的相對於試料131之傾斜角度的機能。此外，包含掃描電子顯微鏡100之帶電粒子束系統，較佳是具備於傾斜角度被調整後抑制此傾斜角度變化之機能。以下，詳細說明掃描電子顯微鏡100所具備的帶電粒子槍110所具備的機能。
<帶電粒子槍>
圖2為被收容於圖1所示帶電粒子槍的調整環形台內之螺帽及帶電粒子源的位置關係示意平面圖。圖2為平面圖，但為了示意調整環形台114、與螺帽112、與帶電粒子源111之位置關係，針對調整環形台114係示意沿著水平方向切斷而成之截面，帶電粒子源111則以虛線示意。圖3為沿著圖2的A-A線之螺帽的截面圖。惟，圖3中，螺栓116、帶電粒子源111、傾斜調整螺旋22、及鎖緊螺旋34的各者，示意作為側面圖。圖4為將圖3所示傾斜螺旋、鎖緊螺旋、螺栓、及帶電粒子源卸除後的狀態示意截面圖。
如圖2所示，本實施形態之帶電粒子槍110，具有帶電粒子源111、及裝配有帶電粒子源111之螺栓116、及螺帽112、及螺帽座面113t(參照圖3)。螺帽112，具有上面112t及上面112t的相反側的下面112b(參照圖3)。螺帽112，與裝配有帶電粒子源111之螺栓116螺合，藉此保持帶電粒子源111。如圖3所示，螺帽座113具有和螺帽112的下面112b相向之螺帽座面113t。
此外，螺帽112，包含上面112t、下面112b、外側面112s1、及內側面112s2、及設於內側面112s2的一部分而形成有與螺栓116螺合的複數個螺紋51(參照圖4)之螺合部50(參照圖4)。此外，螺帽112，如圖 3所示，包含可調整被保持於螺帽112的狀態的帶電粒子源111相對於螺帽座面113t的傾斜角度之傾斜調整部20、及抑制螺帽112與螺栓116的螺合狀態鬆脫之鎖緊部30。
如圖4所示，螺帽112的內側面112s2，具有螺合部50、及內。徑比螺合部50還大之非螺合部40(參照圖4)。如圖3所示，傾斜調整部20，具有形成為從外側面112s1的一部分貫通至非螺合部40(參照圖4)的一部分之狹縫21、及傾斜調整螺旋22、及位於狹縫21與下面112b之間的部分23、及位於狹縫21與上面112t之間的部分24、及供傾斜調整螺旋22螺合而於部分24形成為從上面112t貫通至狹縫21之螺旋孔25。
圖4所示例子中，在非螺合部40未形成有複數個螺紋51。此外，螺合部50及非螺合部40的各者，構成螺帽112的螺帽孔112H。以下說明中，將螺帽孔112H的中心線(假想線)訂為螺帽軸112c而說明。螺帽孔112H當中，螺合部50的螺帽軸112c和圖1所示帶電粒子束101的照射軸一致。因此，藉由使圖4所示螺合部50的螺帽軸112c的傾斜角度變化，便能使圖1所示帶電粒子束101的照射軸的傾斜角度變化。
如後述圖6所示，本實施形態之螺帽112的情形下，傾斜調整螺旋22的先端部透過部分23而推壓螺帽座面113t，藉此相對於螺帽座面113t之帶電粒子源111的傾斜角度會變化。像這樣，藉由具備具有鎖緊部30，且可調整相對於螺帽座面113t之帶電粒子源111的傾斜角度之傾斜 調整部，便可將圖1所示帶電粒子束101的照射軸的相對於試料131之傾斜角度予以最佳化。也就是說，如圖1所示，當為具備帶電粒子槍110的掃描電子顯微鏡100的情形下，螺帽112具備傾斜調整部20(參照圖3)，故能夠調整帶電粒子束101的照射軸的相對於試料131之傾斜角度。此外，螺帽112具備鎖緊部30，故藉由鎖緊部30能夠抑制螺帽112與螺栓116(參照圖3)之螺合狀態鬆脫。像這樣在螺栓116被鎖緊於螺帽112的狀態下，藉由調整相對於圖3所示螺帽座面113t之帶電粒子源111的傾斜角度，便能使傾斜角度的調整精度提升。此外，在螺栓116被鎖緊於螺帽112的狀態下，藉由調整相對於圖3所示螺帽座面113t之帶電粒子源111的傾斜角度，便能抑制調整後傾斜角度變化。
此外，鎖緊部30，只要能夠抑制螺帽112與螺栓116(參照圖3)之螺合狀態鬆脫則能夠適用種種的態樣。圖3所示例子中，鎖緊部30，具有形成為從外側面112s1的一部分貫通至螺合部50(參照圖4)的一部分之狹縫31、及位於狹縫31與上面112t之間的部分32、及位於狹縫31與下面112b之間的部分33。此外，鎖緊部30，具有鎖緊螺旋34、及供鎖緊螺旋34插入而於部分32形成為從上面112t側貫通至狹縫31之貫通孔35、及供鎖緊螺旋34螺合而於部分33從狹縫31側朝向下面112b形成之螺旋孔36。如後述圖5所示，本實施形態之螺帽112的情形下，將鎖緊螺旋34鎖入，將狹縫31的間隔縮窄，藉此部分32及部分33的各自的螺紋51的傾斜面會推壓螺栓116的螺紋52的傾斜面。
<鎖緊部的動作>
接下來，說明圖3所示鎖緊部30的動作。圖5為將圖3所示鎖緊螺旋鎖入之狀態示意截面圖。
如圖5所示，當調整帶電粒子源111的傾斜角度的情形下，首先，較佳是藉由鎖緊部30而來使螺帽112與螺栓116之螺合強度提升。若使鎖緊螺旋34朝鎖固之方向旋轉，則鎖緊螺旋34會朝箭頭34D所示方向被插入。此時，在鎖緊部30的部分33形成有螺旋孔36，但在部分32未形成有螺旋孔。因此，鎖緊螺旋34的頭部與螺帽112的部分32接觸後，若進一步將鎖緊螺旋34鎖入，則狹縫31的間隔會變窄。像這樣，狹縫31的間隔藉由鎖緊螺旋34而被縮窄，藉此，部分32的螺紋52的傾斜面會接近螺栓116的螺紋51的傾斜面。最終如標註箭頭所示般，推壓力53會起作用，亦即部分32及部分33的各自的螺紋52的傾斜面會推壓螺栓116的螺紋51的傾斜面。藉此，螺栓116會被鎖緊於螺帽112。在此情形下，就算在帶電粒子槍110被施加了振動或衝擊等的外力的情形下，也能抑制由於此外力而螺栓116與螺帽112之螺合狀態鬆脫。
此外，以圖5所示方法將螺栓116與螺帽112鎖緊的情形下，鎖緊螺旋34是朝螺帽112的厚度方向，換言之從螺帽112的上面112t朝向下面112b之方向被插入。本實施形態之鎖緊部30的構造以下記要點為佳。
如圖2所示，在調整環形台114插入有4根的 螺帽位置調整螺旋117。俯視下的螺帽112的位置，藉由螺帽位置調整螺旋117而被調整。此外，調整環形台114與螺帽112之間的空間的體積小。在此情形下，難以從螺帽112的外側面112s1側插入鎖緊螺旋34或工具。另一方面，如圖3所示，螺帽112的情形下，是從螺帽112的上面112t側插入鎖緊螺旋34，故能夠容易地調整鎖緊部30所致之螺栓116與螺帽112的鎖緊的程度。
<傾斜調整部的動作>
接下來，說明圖5所示傾斜調整部20的動作。圖6為圖5所示傾斜調整螺旋與狹縫的下方的部分接觸之狀態示意截面圖。圖7為將圖6所示傾斜調整螺旋進一步鎖入，透過狹縫的下方的部分而推壓螺帽座面之狀態示意截面圖。
如圖6所示，傾斜調整螺旋22，為沒有頭部的所謂的螺桿。因此，若使傾斜調整螺旋22朝緊固的方向旋轉，則如箭頭22D所示般，傾斜調整螺旋22會朝向部分24的下方前進，先端部從部分24的下面突出，而與部分23的上面接觸。在此狀態下進一步使傾斜調整螺旋22朝鎖固的方向旋轉，則如圖7所示，傾斜調整螺旋22當中，從部分24突出的部分的長度會變長。在部分23，未形成有螺旋孔25。因此，傾斜調整螺旋22，將部分23朝下方推壓。此外，部分23的下面(也就是說，螺帽112的下面112b)，被支撐於螺帽座113的螺帽座面113t。因此，當受到傾斜調整螺旋22推壓而部分23彈性變形時，部分23的位置難於變 化，反之對於部分24，會有圖7標註箭頭所示之力26作用。藉由此力26的作用，部分24朝上方被頂起。其結果，如圖7所示螺合部50(參照圖4)的螺帽軸112c相對於螺帽座113的螺帽座面113t會以非正交之角度傾斜。
此外，此時，鎖緊部30的鎖緊螺旋34處於被鎖入螺旋孔36的狀態。因此，圖7所示的推壓力53會持續地作用，當傾斜角度變化時能夠抑制螺栓116與螺帽112之螺合狀態鬆脫。像這樣，螺帽112的情形下，藉由調整螺帽軸112c的相對於螺帽座面113t之傾斜角度，便能調整圖1所示帶電粒子束101的照射軸的相對於試料131之傾斜角度。
另一方面，有關傾斜調整部20的構造，本案發明者針對圖8所示螺帽112N的構造進行了檢討。圖8為對於圖7所示螺帽之檢討例示意截面圖。圖8所示螺帽112N，不具有圖7所示狹縫21及部分23，這點和圖7所示螺帽112相異。
螺帽112N的情形下，不具有圖7所示狹縫21及部分23，故如圖8所示，傾斜調整螺旋22的先端會直接地推壓螺帽座面113t。即使在此情形下，將螺帽112的傾斜調整部20頂起的力26仍會作用。惟，係局部性地推壓和螺帽112形成為不同個體的螺帽座113的一部分，因此於使螺帽112在螺帽座113上滑動而調整帶電粒子源111的水平位置的過程中，螺帽座面113t的一部會被磨削，表面會受損。此外，傾斜調整螺旋22的先端面位於同一平面上僅限於未傾斜時，當使其傾斜的情形下會依每一傾斜調整螺旋22而構成獨立的面。在此情形下，與螺帽座面113t接的面不會均一，受到的荷重亦變得不均一。但，依座面的受損或傾斜調整螺旋22先端的接觸狀態不同而調整力(座面的摩擦力)變化並不佳。
另一方面，圖7所示螺帽112的情形下，傾斜調整螺旋22的先端所推壓的是和部分24一體形成之螺帽112的部分23。因此，即使力26作用而部分23因彈性變形而拉寬狹縫21的間隔時，與螺帽座113之接觸狀態仍不易變化。此外，螺帽112的情形下，會因狹縫21的鄰近彈性變形而螺帽軸112c傾斜，故只要使傾斜調整螺旋22朝鬆脫的方向旋轉，便能簡單地恢復圖6所示原本的形狀。此外，螺帽座113的螺帽座面113t，透過部分23而受到傾斜調整螺旋22推壓，但對於螺帽座面113t係螺帽112的下面112b接觸，而非傾斜調整螺旋22接觸。因此，透過傾斜調整螺旋22而被傳遞的應力會廣範圍地分散。
＜螺帽的詳細構造＞ 接下來，說明圖1～圖7所示螺帽112的較佳構造。圖9為圖2所示螺帽中，圖3所示鎖緊部的狹縫及傾斜調整部的狹縫被配置的範圍示意平面圖。圖9為平面圖，但為了明示狹縫21及31的範圍，在狹縫21及31標註陰影線。此外，圖9中，針對圖3所示鎖緊部30及傾斜調整部20以外的狹縫21及31係省略圖示。
因藉由將圖7所示傾斜調整螺旋22鎖入而產生的力26，使得螺帽112在彈性變形範圍內增大變形量，由此觀點而言，較佳是如圖9所示，於俯視下狹縫21形成為廣範圍，若要使其有效地變形則在其中央附近形成螺旋孔25。同樣地，藉由將圖5所示鎖緊螺旋34鎖入而使得螺帽112的部分32容易彈性變形，由此觀點而言，如圖9所示，較佳是於俯視下狹縫31形成為廣範圍，在其中央附近形成貫通孔35。在此情形下，依狹縫21及31的大小而定，於俯視下狹縫21與狹縫31亦可能重疊。
本實施形態之螺帽112的情形下，如圖9所示，於俯視下鎖緊部30與傾斜調整部20互不重疊。鎖緊部30的鎖緊螺旋34與傾斜調整部20的傾斜調整螺旋22以互不重疊之方式配置，藉此能夠抑制鎖緊部30的動作及傾斜調整部20的動作互相干涉。
此外，如圖6所示，傾斜調整部20的部分24的厚度(從上面112t至狹縫21的距離)，比部分23的厚度(從狹縫21至下面112b的距離)還厚。換言之，於螺帽112的厚度方向，狹縫21配置得比中央還靠下面112b側。部分24的撓曲強度，會和部分24的厚度呈比例而變大。由於圖7所示的力26，部分24會在非意圖之處變形，而損及螺紋51的螺旋機能，就防止此事的觀點而言，部分24的厚度以較厚為佳。此外，若將部分23的厚度增厚，則圖4所示非螺合部40的厚度會變厚。因此，若將螺帽112的厚度訂為一定，非螺合部40的厚度變厚則螺合部50的厚度變薄。為了使圖6所示螺栓116與螺帽112之螺合強度提升，較佳是將螺合部50的厚度增厚。惟，雖圖示省略，作為對於本實施形態之變形例，傾斜調整部20的部分24的厚度，也可能比部分23的厚度還薄。
此外，鎖緊部30的部分32的厚度(從上面112t至狹縫31的距離)，比部分33的厚度(從狹縫31至下面112b的距離)還薄。換言之，於螺帽112的厚度方向，狹縫31配置得比中央還靠上面112t側。螺合至鎖緊螺旋34的螺旋孔36，僅形成於部分33，未形成於部分32。是故，為了將螺旋孔36的長度增長，部分33的厚度比部分32的厚度還厚較為有利。鎖緊部30，藉由鎖緊螺旋34的鎖入情況來調整推壓力53的程度。在此情形下，藉由將螺旋孔36的長度增長，能夠保有較大的推壓力53的調整餘裕。惟，雖圖示省略，作為對於本實施形態之變形例，鎖緊部30的部分33的厚度，也可能比部分32的厚度還薄。
此外，圖6所示狹縫21與狹縫31之位置關係，能夠以如下方式表現。也就是說，於螺帽112的厚度方向，狹縫31配置得比狹縫21還靠上面112t側。惟，雖圖示省略，作為對於本實施形態之變形例，於螺帽112的厚度方向，狹縫21也可能配置得比狹縫31還靠上面112t側。
此外，如圖6所示，在部分23未形成有螺旋孔等的窪陷。換言之，部分23的上面，比部分24的上面還平坦。作為對於圖6之變形例，亦可在部分23當中供傾斜調整螺旋22接觸的區域，形成有未圖示之螺旋孔等的窪陷。即使在部分23形成有螺旋孔等的窪陷，只要窪陷不於厚度方向貫通部分23，便能防止傾斜調整螺旋22與螺帽座面113t之接觸。惟，若部分23受到傾斜調整螺旋22推壓的部分的厚度變薄，則應力容易集中在該薄的部分。是故，就抑制部分23的應力集中所造成之損傷的觀點而言，較佳是如圖6所示般在部分23未形成有包含螺旋孔之窪陷。
圖10為圖4所示螺帽的立體圖。如圖10所示，螺帽112具有互相相隔距離的複數個傾斜調整部20。圖10所示例子，為3重軸對稱的例子，複數個傾斜調整部20包含傾斜調整部20A、20B及20C。傾斜調整部20A、20B及20C的各者，具有運用圖2～圖7及圖9所說明之狹縫21、傾斜調整螺旋22、部分23、24、及螺旋孔25。當一個螺帽112具有複數個傾斜調整部20的情形下，比起傾斜調整部20僅有1個的情形，能夠使傾斜方向的調整精度提升。此外，當具有如圖10所示3個傾斜調整部20的情形下，於俯視下平衡地配置3個傾斜調整部20，藉此便能微調整傾斜角度。惟，雖圖示省略，作為對於本實施形態之變形例，一個螺帽112具備的傾斜調整部20的數量也可能是1個或2個、或是4個以上。
此外，螺帽112，包含互相相隔距離的複數個鎖緊部30。圖10所示例子，為3重軸對稱的例子，複數個鎖緊部30包含鎖緊部30A、30B、及30C。鎖緊部30A、30B、及30C的各者，具有運用圖2～圖7及圖9所說明之狹縫31、部分32、33、鎖緊螺旋34、貫通孔35、及螺旋孔36。當一個螺帽112具有複數個鎖緊部30的情形下，比起鎖緊部30僅有1個的情形，能夠使螺帽112與螺栓116(參照圖6)之螺合強度提升。
此外，當具有如圖10所示3個鎖緊部30的情形下，於俯視下平衡地配置3個鎖緊部30，藉此便能平衡地賦予圖6所示之推壓力53。惟，雖圖示省略，作為對於本實施形態之變形例，一個螺帽112具備的鎖緊部30的數量也可能是1個或2個、或是4個以上。此外，如圖10所示般傾斜調整部20的數量與鎖緊部30的數量為同數。若要配置傾斜調整螺旋22而不干涉鎖緊部，較佳是傾斜調整部20的數量與鎖緊部30的數量為同數。惟，作為變形例，傾斜調整部20的數量與鎖緊部30的數量也可能相異。
如圖10所示，鎖緊部30A的狹縫31、與複數個傾斜調整部20當中的一部分(傾斜調整部20B及20C)的狹縫21，於螺帽112的厚度方向係部分地重疊。此外，鎖緊部30B的狹縫31、與複數個傾斜調整部20當中的一部分(傾斜調整部20A及20C)的狹縫21，於螺帽112的厚度方向係部分地重疊。此外，鎖緊部30C的狹縫31、與複數個傾斜調整部20當中的一部分(傾斜調整部20A及20B)的狹縫21，於螺帽112的厚度方向係部分地重疊。
如運用圖6、圖7、及圖9說明般，若要使傾斜調整部20的部分24(參照圖7)於彈性變形範圍內增大變形量亦即傾斜角，則狹縫21被配置的範圍以較廣為佳。當如圖10所示螺帽112般包含複數個傾斜調整部20的情形下，較佳是鎖緊部30A的狹縫31成為與傾斜調整部20B及20C的狹縫21重疊之程度的大小。
此外，圖10所示例子中，鎖緊部30A的螺旋孔36(參照圖6)、與複數個傾斜調整部20的各者的狹縫21，於螺帽112的厚度方向不重疊。圖10中，圖6所示螺旋孔36位於無法目視辨認的位置，但如圖6所示，螺旋孔36位於貫通孔35的正下方，故於螺帽112的厚度方向，鎖緊部30A的螺旋孔36與複數個傾斜調整部20的各者的狹縫21不重疊係為自明。同樣地，圖10所示鎖緊部30B的螺旋孔36(參照圖6)、與複數個傾斜調整部20的各者的狹縫21，於螺帽112的厚度方向不重疊。此外，鎖緊部30C的螺旋孔36(參照圖6)、與複數個傾斜調整部20的各者的狹縫21，於螺帽112的厚度方向不重疊。就減低鎖緊部30與傾斜調整部20之相互影響的觀點而言，較佳是鎖緊部30A、30B、及30C的螺旋孔36與狹縫21不重疊。惟，雖圖示省略，作為對於本實施形態之變形例，鎖緊部30A、30B、或是30C的螺旋孔36也可能與狹縫21重疊。
此外，如圖10所示，於俯視下，傾斜調整部20A與鎖緊部30A，係配置於隔著將螺栓116(參照圖6)螺合的螺帽孔112H而互相相向的位置。同樣地，傾斜調整部20B與鎖緊部30B，係配置於隔著將螺栓116螺合的螺帽孔112H而互相相向的位置。傾斜調整部20C與鎖緊部30C，係配置於隔著將螺栓116螺合的螺帽孔112H而互相相向的位置。藉由像這樣配置，能夠平衡地配置複數個傾斜調整部20及複數個鎖緊部30，故能夠抑制複數個傾斜調整部20及複數個鎖緊部30的相互干涉。其具有能夠將鎖緊機能與傾斜機能最佳化同時避免互相的機能干涉之優點。
此外，傾斜調整部20A的狹縫21，與複數個鎖緊部30當中的鎖緊部30B及30C的狹縫31，於螺帽112的厚度方向係部分地重疊。傾斜調整部20B的狹縫21，與複數個鎖緊部30當中的鎖緊部30A及30C的狹縫31，於螺帽112的厚度方向係部分地重疊。傾斜調整部20C的狹縫21，與複數個鎖緊部30當中的鎖緊部30A及30B的狹縫31，於螺帽112的厚度方向係部分地重疊。
如運用圖6、圖7、及圖9說明般，若要使傾斜調整部20的部分24(參照圖7)於容易彈性變形，則狹縫21被配置的範圍以較廣為佳。此外，鎖緊部30，係藉由將鎖緊螺旋34鎖入，而主要使部分33彈性變形，縮小部分32與部分33之相隔距離(亦即狹縫31的間隔)，藉此使螺帽112與螺栓116之螺合強度提升。是故，為了使部分32及33容易彈性變形，狹縫31被配置的範圍以較廣為佳。當如圖10所示螺帽112般包含複數個鎖緊部30及複數個傾斜調整部20的情形下，複數個傾斜調整部20的各者的狹縫21，較佳是成為與複數個鎖緊部30當中的一部分的狹縫31於螺帽112的厚度方向部分地重疊之程度的大小。
此外，圖10所示螺帽112的情形下，複數個傾斜調整部20的各者的螺旋孔25，與複數個鎖緊部30的各者的狹縫31，於螺帽112的厚度方向不重疊。作為螺帽112的變形例，雖也可能螺旋孔25與狹縫31重疊，但在此情形下，依照傾斜調整螺旋22(參照圖6)的長度而定，也可能傾斜調整螺旋22橫跨狹縫31而將部分32(參照圖6)與部分33(參照圖6)連結。詳言之，當傾斜調整螺旋22的長度長的情形下，有將部分32與部分33連結的可能性。在部分32與33被連結的狀態下，當將圖6所示鎖緊螺旋34鎖入的情形下，藉由傾斜調整螺旋22而被連結的部分的周邊，會成為難以彈性變形的狀態。圖10所示螺帽112的情形下，複數個傾斜調整部20的各者的螺旋孔25，與複數個鎖緊部30的各者的狹縫31，於螺帽112的厚度方向不重疊，藉由此構成，能夠防止鎖緊部30的機能被傾斜調整螺旋22阻礙。
此外，圖6所示鎖緊部30及傾斜調整部20的各者，是藉由將螺旋鎖入螺旋孔而發揮其機能，但用途相異，故根據用途而被要求之零件尺寸會相異。例如，鎖緊部30的情形下，只要藉由將鎖緊螺旋34鎖入而鎖緊螺旋34的周邊的狹縫21的間隔變窄即可，故螺旋孔36的直徑(螺旋孔36的螺紋的頂點間的距離)可以小。另一方面，傾斜調整部20的情形下，是以傾斜調整螺旋22的先端面推壓部分23，故傾斜調整螺旋22的粗度以較粗為佳。因此，供傾斜調整螺旋22螺合的螺旋孔25的直徑(螺旋孔25的螺紋的頂點間的距離)以較大為佳。考量這些，如圖6所示，螺旋孔25的直徑較佳是比螺旋孔36的直徑還大。
此外，圖4所示例子中，在鎖緊部30的部分32的上面(螺帽112的上面112t)，形成有直徑比貫通孔35還大的魚眼座部37。藉由像這樣設置魚眼座部37，如圖6所示，能夠將鎖緊螺旋34的頭部(直徑變大的部分)收容於魚眼座部37內。圖6所示例子的情形下，構成為鎖緊螺旋34的頭部不從螺帽112的上面112t突出。圖6所示構造的情形下，例如當以螺帽112的上面112t的高度為基準面而計測的情形下，能夠防止鎖緊螺旋34的頭部阻礙高度計測。
另，運用圖1~圖7、圖9、及圖10而說明之螺帽112，亦能夠利用作為特別優選適用於保持帶電粒子束系統中使用的帶電粒子源之用途的鎖緊螺帽。在此情形下，針對作為鎖緊螺帽之螺帽112的構成，運用圖6如下述般簡單說明。
螺帽112，上面112t；及上面112t的相反側的下面112b；及螺帽孔112H，從上面112t及下面112b當中的一方貫通至另一方(參照圖4)；及螺帽孔112H的外緣亦即內側面112s2；及內側面112s2的相反側的外側面112s1；及螺合部50，設於述內側面112s2的一部分，形成有複數個螺紋51(參照圖4)；及傾斜調整部20，可調整螺帽孔112H(參照圖4)的相對於下面112b所相向的螺帽座面113t之傾斜角度；及鎖緊部30，抑制被螺合至螺帽孔112H(圖4參照)的螺栓的螺合狀態鬆脫。包含：內側面112s2，具有螺合部50、及內徑比螺合部50還大之非螺合部40(參照圖4)。傾斜調整部20，具有形成為從外側面112s1的一部分貫通至非螺合部40的一部分之狹縫21、及傾斜調整螺旋22、及位於狹縫21與下面112b之間的部分23、及位於狹縫 21與上面112t之間的部分24、及供傾斜調整螺旋22螺合而於部分24形成為從上面112t貫通至狹縫21之螺旋孔25。作為鎖緊螺帽之螺帽112，傾斜調整螺旋22的先端部透過部分23而推壓螺帽座面113t，藉此相對於螺帽座面113t之帶電粒子源111的傾斜角度會變化。
此外，圖2~圖7、圖9、及圖10所示之螺帽112，具備傾斜調整部20及鎖緊部30雙方。惟，作為變形例，有具備傾斜調整部20及鎖緊部30的其中一方之螺帽。例如，當為不具有傾斜調整部20而僅具有鎖緊部30的螺帽的情形下，在貼附於圖6所示螺帽座113的狀態下，無法調整傾斜角度。惟，藉由具備鎖緊部30，即使當帶電粒子槍110被施加振動或衝擊的情形下，仍能夠抑制螺栓116與螺帽之螺合部的鬆脫。
以上，雖已說明了本實施形態之代表性的變形例，但本發明不限定於上述的實施例或代表性的變形例，於不脫離發明要旨的範圍內，能夠適用種種的變形例。
產業利用性
本發明可利用於帶電粒子槍、帶電粒子束系統、及鎖緊螺帽。
20,20A,20B,20C:傾斜調整部 21:狹縫(傾斜狹縫) 22:傾斜調整螺旋 22D,34D:箭頭 23,24,32,33:部分 25:螺旋孔(傾斜螺旋孔) 26:力(傾斜力) 30,30A,30B,30C:鎖緊部 31:狹縫(鎖緊狹縫) 34:鎖緊螺旋 35:貫通孔 36:螺旋孔(鎖緊螺旋孔) 37:魚眼座部 40:非螺合部 50:螺合部 51:螺紋(公螺紋) 52:螺紋(母螺紋) 53:推壓力(鎖緊力) 100:掃描電子顯微鏡(帶電粒子束系統) 101:帶電粒子束 102:二次電子 110:帶電粒子槍 111:帶電粒子源 112,112N:螺帽 112b:下面(螺帽下面) 112c:螺帽軸 112H:螺帽孔 112s1:外側面(螺帽外側面) 112s2:內側面(螺帽外側面) 112t:上面(螺帽外側面) 113:螺帽座 113t:螺帽座面 114:調整環形台 116:螺栓 117:螺帽位置調整螺旋 120:光學處理部 121:聚光透鏡 122:偏向器 123:對物透鏡 124:二次電子檢測器(檢測部) 130:試料保持部 131:試料 140:電腦系統 141:電腦 142:圖像處理部 143:顯示裝置 144:輸入部 150:排氣泵浦
[圖1]一實施形態之帶電粒子束系統的一例亦即掃描電子顯微鏡的構成例示意說明圖。 [圖2]被收容於圖1所示帶電粒子槍的調整環形台內之螺帽及帶電粒子源的位置關係示意平面圖。 [圖3]沿著圖2的A-A線之螺帽的截面圖。 [圖4]將圖3所示傾斜螺旋、鎖緊螺旋、螺栓、及帶電粒子源卸除後的狀態示意截面圖。 [圖5]將圖3所示鎖緊螺旋鎖入之狀態示意截面圖。 [圖6]圖5所示傾斜調整螺旋與狹縫的下方的部分接觸之狀態示意截面圖。 [圖7]將圖6所示傾斜調整螺旋進一步鎖入，透過狹縫的下方的部分而推壓螺帽座面之狀態示意截面圖。 [圖8]對於圖7所示螺帽之檢討例示意截面圖。 [圖9]圖2所示螺帽中，圖3所示鎖緊部的狹縫及傾斜調整部的狹縫被配置的範圍示意平面圖。 [圖10]圖4所示螺帽的立體圖。
20:傾斜調整部
21:狹縫(傾斜狹縫)
22:傾斜調整螺旋
23,24,32,33:部分
25:螺旋孔(傾斜螺旋孔)
30:鎖緊部
31:狹縫(鎖緊狹縫)
34:鎖緊螺旋
35:貫通孔
36:螺旋孔(鎖緊螺旋孔)
110:帶電粒子槍
111:帶電粒子源
112:螺帽
112b:下面(螺帽下面)
112s1:外側面(螺帽外側面)
112s2:內側面(螺帽外側面)
112t:上面(螺帽外側面)
113:螺帽座
113t:螺帽座面
116:螺栓

Claims (17)

  1. 一種帶電粒子槍，具有：帶電粒子源；及螺栓，裝配有前述帶電粒子源；及螺帽，具有第1面及前述第1面的相反側的第2面，藉由螺合至裝配有前述帶電粒子源的前述螺栓而保持前述帶電粒子源；及螺帽座面，與前述螺帽的前述第2面接觸；前述螺帽，包含：前述第1面、前述第2面、外側面、及內側面；及螺合部，設於前述內側面的一部分，形成有與前述螺栓螺合的複數個螺紋；及傾斜調整部，可調整被保持於前述螺帽的狀態下的前述帶電粒子源的相對於前述螺帽座面之傾斜角度；及鎖緊部，抑制前述螺帽與前述螺栓之螺合狀態鬆脫；前述螺帽的前述內側面，具有：前述螺合部；及非螺合部，內徑比前述螺合部還大；前述傾斜調整部，具有：第1狹縫，形成為從前述外側面的一部分貫通至前述非螺合部的一部分；及傾斜調整螺旋；及第1部分，位於前述第1狹縫與前述第2面之間；及第2部分，位於前述第1狹縫與前述第1面之間；及 第1螺旋孔，供前述傾斜調整螺旋螺合，於前述第2部分，形成為從前述第1面貫通至前述第1狹縫；前述傾斜調整螺旋的先端部，將前述第1狹縫撐寬，而透過前述第1部分推壓前述螺帽座面，藉此前述帶電粒子源相對於前述螺帽座面之前述傾斜角度會變化。
  2. 如請求項1所述之帶電粒子槍，其中，前述鎖緊部，具有：第2狹縫，形成為從前述外側面的一部分貫通至前述螺合部的一部分；及第3部分，位於前述第2狹縫與前述第1面之間；及第4部分，位於前述第2狹縫與前述第2面之間；及鎖緊螺旋；及第1貫通孔，供前述鎖緊螺旋插入，於前述第3部分，形成為從前述第1面側貫通至前述第2狹縫；及第2螺旋孔，供前述鎖緊螺旋螺合，於前述第4部分，從前述第2狹縫側朝向前述第2面而形成；將前述鎖緊螺旋鎖入，而縮小前述第2狹縫的間隔，藉此前述第3部分及前述第4部分的各者的母螺紋的傾斜面會推壓前述螺栓的公螺紋的傾斜面。
  3. 如請求項2所述之帶電粒子槍，其中，於俯視下，前述鎖緊部與前述傾斜調整部互不重疊。
  4. 如請求項3所述之帶電粒子槍，其中，前述傾斜調整部的前述第2部分的厚度，比前述第1部分的厚度還厚。
  5. 如請求項4所述之帶電粒子槍，其中，前述鎖緊部的前述第4部分的厚度，比前述第3部分的厚度還厚。
  6. 如請求項3所述之帶電粒子槍，其中，前述第2狹縫，配置於比前述第1狹縫還靠前述第1面側。
  7. 如請求項1所述之帶電粒子槍，其中，在前述傾斜調整部的前述第1部分，未形成有螺旋孔。
  8. 如請求項2所述之帶電粒子槍，其中，前述螺帽，具有互相相隔距離的複數個前述傾斜調整部，前述鎖緊部的前述第2狹縫與複數個前述傾斜調整部當中的一部分的前述第1狹縫，於前述螺帽的厚度方向部分地重疊。
  9. 如請求項8所述之帶電粒子槍，其中，前述鎖緊部的前述第2螺旋孔與複數個前述傾斜調整部的各者的前述第1狹縫，於前述螺帽的厚度方向不重疊。
  10. 如請求項2所述之帶電粒子槍，其中，前述螺帽，具有：互相相隔距離的複數個前述傾斜調整部；及互相相隔距離的複數個前述鎖緊部。
  11. 如請求項10所述之帶電粒子槍，其中， 於俯視下，前述傾斜調整部與前述鎖緊部，配置於隔著將前述螺栓螺合的螺帽孔而互相相向的位置。
  12. 如請求項10所述之帶電粒子槍，其中，複數個前述傾斜調整部的各者的前述第1狹縫與複數個前述鎖緊部當中的一部分的前述第2狹縫，於前述螺帽的厚度方向部分地重疊。
  13. 如請求項12所述之帶電粒子槍，其中，複數個前述傾斜調整部的各者的前述第1螺旋孔與複數個前述鎖緊部的各者的前述第2狹縫，於前述螺帽的厚度方向不重疊。
  14. 一種帶電粒子束系統，具有：帶電粒子槍；及光學處理部，將從前述帶電粒子槍照射的帶電粒子束做光學性處理；及試料保持部，保持照射前述帶電粒子束的試料；及電腦系統，控制前述光學處理部；前述帶電粒子槍，具有：帶電粒子源；及螺栓，裝配有前述帶電粒子源；及螺帽，具有第1面及前述第1面的相反側的第2面，藉由螺合至裝配有前述帶電粒子源的前述螺栓而保持前述帶電粒子源；及螺帽座面，與前述螺帽的前述第2面接觸；前述螺帽，包含： 前述第1面、前述第2面、外側面、及內側面；及螺合部，設於前述內側面的一部分，形成有與前述螺栓螺合的複數個螺紋；及傾斜調整部，可調整被保持於前述螺帽的狀態下的前述帶電粒子源的相對於前述螺帽座面之傾斜角度；及鎖緊部，抑制前述螺帽與前述螺栓之螺合狀態鬆脫；前述螺帽的前述內側面，具有：前述螺合部；及非螺合部，內徑比前述螺合部還大；前述傾斜調整部，具有：第1狹縫，形成為從前述外側面的一部分貫通至前述非螺合部的一部分；及傾斜調整螺旋；及第1部分，位於前述第1狹縫與前述第2面之間；及第2部分，位於前述第1狹縫與前述第1面之間；及第1螺旋孔，供前述傾斜調整螺旋螺合，於前述第2部分，形成為從前述第1面貫通至前述第1狹縫；前述傾斜調整螺旋的先端部，將前述第1狹縫撐寬，而透過前述第1部分推壓前述螺帽座面，藉此前述帶電粒子源相對於前述螺帽座面之前述傾斜角度變化。
  15. 如請求項14所述之帶電粒子束系統，其中，前述鎖緊部，具有：第2狹縫，形成為從前述外側面的一部分貫通至前述 螺合部的一部分；及第3部分，位於前述第2狹縫與前述第1面之間；及第4部分，位於前述第2狹縫與前述第2面之間；及鎖緊螺旋；及第1貫通孔，供前述鎖緊螺旋插入，於前述第3部分，形成為從前述第1面側貫通至前述第2狹縫；及第2螺旋孔，供前述鎖緊螺旋螺合，於前述第4部分，從前述第2狹縫側朝向前述第2面而形成；將前述鎖緊螺旋鎖入，而縮小前述第2狹縫的間隔，藉此前述第3部分及前述第4部分的各者的母螺紋的傾斜面會推壓前述螺栓的公螺紋的傾斜面。
  16. 一種鎖緊螺帽，包含：第1面；及前述第1面的相反側的第2面；及螺帽孔，從前述第1面及第2面當中的一方貫通至另一方；及前述螺帽孔的外緣亦即內側面；及前述內側面的相反側的外側面；及螺合部，設於前述內側面的一部分，形成有複數個螺紋；及傾斜調整部，可調整前述螺帽孔的相對於前述第2面所相向的螺帽座面之傾斜角度；及鎖緊部，抑制被螺合至前述螺帽孔的螺栓的螺合狀態鬆脫； 前述內側面，具有：前述螺合部；及非螺合部，內徑比前述螺合部還大；前述傾斜調整部，具有：第1狹縫，形成為從前述外側面的一部分貫通至前述非螺合部的一部分；及傾斜調整螺旋；及第1部分，位於前述第1狹縫與前述第2面之間；及第2部分，位於前述第1狹縫與前述第1面之間；及第1螺旋孔，供前述傾斜調整螺旋螺合，於前述第2部分，形成為從前述第1面貫通至前述第1狹縫；前述傾斜調整螺旋的先端部，透過前述第1部分推壓前述螺帽座面，藉此螺帽軸相對於前述螺帽座面之前述傾斜角度會變化。
  17. 如請求項16所述之鎖緊螺帽，其中，前述鎖緊部，具有：第2狹縫，形成為從前述外側面的一部分貫通至前述螺合部的一部分；及第3部分，位於前述第2狹縫與前述第1面之間；及第4部分，位於前述第2狹縫與前述第2面之間；及鎖緊螺旋；及第1貫通孔，供前述鎖緊螺旋插入，於前述第3部分，形成為從前述第1面側貫通至前述第2狹縫；及第2螺旋孔，供前述鎖緊螺旋螺合，於前述第4部分， 從前述第2狹縫側朝向前述第2面而形成；將前述鎖緊螺旋鎖入，而縮窄前述第2狹縫的間隔，藉此前述第3部分及前述第4部分的各者的母螺紋的傾斜面會推壓前述螺栓的公螺紋的傾斜面。
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