TWI760503B - 粉末化妝料 - Google Patents
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Abstract
本發明提供一種粉末化妝料,係修飾性及使用性優異、維持遮蓋力且更能穿透長波長區域的光的功能(選擇性穿透紅色光的功能)優異者。
本發明係關於一種二氧化鈦粉體以及調配有該粉體之粉末化妝料,前述二氧化鈦粉體為表觀平均粒徑為100nm以上、未達500nm,以X射線繞射法測定的平均微晶直徑為15至30nm,比表面積為10至30m2/g,且具有由突出成放射狀的針狀突起所凝聚而成的形狀的粒子,其形狀的短徑與長徑之比(長徑/短徑)為1.0至2.5。
Description
本案係主張於2017年6月26日申請的日本專利申請2017-124517號的優先權,並援用其內容於此。
本發明係關於二氧化鈦粉體及調配有該粉體之粉末化妝料,特別是關於修飾性及使用性優異、維持遮蓋力且更能穿透長波長區域的光的功能(選擇性穿透紅色光的功能)優異的粉末化妝料。
二氧化鈦由於折射率高、白色度、遮蓋力、著色力優異,而被廣泛地使用作為塗料、塑膠等的白色顏料。而且,二氧化鈦能夠藉由調控其粒徑或光活性度,作為遮蔽紫外線的物質,且亦能夠作為紫外線吸收劑、紫外線遮蔽劑而利用於化妝料、觸媒等用途,因此近年來正盛行該等的用途之研究開發。
由多個二氧化鈦形成之毬藻狀的特定平均一次粒徑的二氧化鈦的小球狀粒子所形成的表觀為特定平均粒徑的二氧化鈦粉體,已知若將該二氧化鈦粉體使用於化妝料,會成為可賦予傳統的二氧化鈦所沒有的良好的光滑性、優異的耐光性之功能性材料(專利文獻1)。
而且,已知含有平均粒徑為0.2至0.4μm、平均摩擦係數(MIU值)為0.4至0.6之金紅石(rutile)型氧化鈦凝聚粒子1至15質量%與半固態油成分1至40質量%的唇用化妝料,係具有光澤、抑制唇紋的顯眼度、持妝性優異(專利文獻2)。
而且,已知就能夠使用作為化妝料的賦色材料而言,藉由調配在可見光區域亦為長波長側的光(波長630至700nm)的吸收率小者,使皮膚內部的光穿透性接近於無妝皮膚,而可實現自然的修飾(專利文獻3)。
以如此方式,就光的長波長側的光的穿透率提高的二氧化鈦而言,已開發一種金紅石型氧化鈦,其為棒狀粒子配向凝聚成束狀的粒子形態,配向凝聚而成的粒子之表觀平均長軸長度為80至300nm,配向凝聚而成的粒子的表觀平均短軸長度為30至150nm,以表觀平均長軸長度/表觀平均短軸長度表示之表觀平均軸比為1.1至4,比表面積為120至180m2/g,且為短籤狀或稻草束狀的金紅石型氧化鈦,且已知其透明性及紫外線遮蔽能力皆高(專利文獻4)。
但是,該二氧化鈦為棒狀粒子的凝聚體,由於二次凝聚中的空隙多,表觀折射率低,在實際調配於化妝料時遮蓋力有所不足。而且,由於主要著眼於紫外線防護之目的,故二次凝聚體的表觀粒徑也未達100nm,係明顯較根據米 氏(Mie)理論之使氧化鈦的散射效果最大化的粒徑更小,此亦成為遮蓋力小的重要原因。
而且,以粉狀粉底(powder-foundation)為代表的固體粉末化妝料,係於粉末成分添加作為黏合劑的油性成分並進行混合後,於容器填充成型而成為化妝料。粉末成分主要是由無機顏料、有機顏料、樹脂粉末所構成,顏料又可分類為調整色調、光澤用的有色/珠光顏料與於此之外的體質顏料。體質顏料的代表為滑石、雲母、高嶺土等板狀粉末,佔粉末成分的大部分,對化妝料的成形性、附著性、使用性等的影響大。所以,藉由對該等基本的體質顏料追加氮化硼、合成氟金雲母、硫酸鋇等特徵體質顏料,會大致形成粉末化妝料的特徵。
其中,氮化硼由於具備潤滑性,且賦予化妝料適度的遮蓋力及舒適的附著力,故為高度要求高配比的成分。
就傳統的二氧化鈦而言,皮膚的斑點等的遮蓋力高,但相反地,在為了提高遮蓋力而大量調配二氧化鈦時,會使妝感變得不自然,皮膚上的凹凸較無妝皮膚更為顯眼。
有鑑於此,正期望開發粉末化妝料,其調配氮化硼及其他板狀層狀矽酸鹽,係使用性及妝感的均勻性優異,且塗布在皮膚時為妝感自者。
專利文獻1:日本特開2000-191325號公報
專利文獻2:日本特開2010-24189號公報
專利文獻3:日本特開2006-265134號公報
專利文獻4:日本特開2010-173863號公報
因此,本發明係有鑑於前述傳統技術而成者,所欲解決的課題為提供一種粉末化妝料,其係調配氮化硼及其他板狀層狀矽酸鹽,且使用性及妝感的均勻性優異,且塗佈在皮膚時為妝感自然者。
本發明人等為了解決前述課題而深入研究,結果發現燒製特定的二氧化鈦,作成特定的表觀粒徑、特定的微晶直徑及特定的比表面積之二氧化鈦係具有充分的化妝料所要求的遮蓋力,且選擇性地穿透紅色光的功能優異者。並且,得知於該二氧化鈦調配有氮化硼及板狀層狀矽酸鹽者,係使用性優異,且塗佈在皮膚時具有自然的妝感及不泛白。
亦即,本發明的二氧化鈦粉體為表觀平均粒徑為100nm以上、未達500nm,以X射線繞射法測定的平均微晶直徑為15至30nm,比表面積為10至30m2/g,且具有由突出成放射狀的針狀突起所凝聚而成的形狀的粒子,其形狀的短徑與長徑之比(長徑/短徑)為1.0以上、未達2.5。
於前述二氧化鈦粉體中,形狀的短徑與長徑之比(長徑/短徑)適合為1.0至2.0。
本發明的粉末化妝料係包含:二氧化鈦粉體1至30質量%,該二氧化鈦粉體為表觀平均粒徑為100nm以上、未達500nm,以X射線繞射法測定的平均微晶直徑為15至30nm,比表面積為10至30m2/g,且具有由突出成放射狀的針狀突起所凝聚而成的形狀的粒子;氮化硼1至20質量%;以及板狀層狀矽酸鹽10至50質量%。
本發明的粉末化妝料係包含:以X射線繞射法測定的平均微晶直徑為15至30nm,比表面積為10至30m2/g,且450nm的反射率的值為650nm的反射率的值之1.3倍以上,色差(△E)為22以下的金紅石型二氧化鈦粉體1至30質量%;氮化硼1至20質量%;以及板狀層狀矽酸鹽10至50質量%。
再者,色差(△E)係將二氧化鈦粉體以成為5%濃度之方式分散混合於硝化纖維素漆,將所得的分散物以0.101μm的膜厚於黑白的遮蓋率試驗紙JIS-K5400上進行塗佈、乾燥,得到試驗樣品。將所得的試驗樣品用分光測色機對白紙與黑紙上的塗膜表面分別進行測色。算出Hunter Lab色空間之色差(△E)。
關於本發明的粉末化妝料,係包含: 二氧化鈦粉體1至30質量%,該二氧化鈦粉體係將滿足下述(a)至(c)的針狀粒子以放射狀配向凝聚而成的於粒子表面具有針狀突起的金紅石型二氧化鈦進行燒製所得之金紅石型二氧化鈦粉體,其表觀平均粒徑為100nm以上、未達500nm,以X射線繞射法測定的平均微晶直徑為15至30nm,比表面積為10至30m2/g;氮化硼1至20質量%;以及板狀層狀矽酸鹽10至50質量%;(a)表觀平均粒徑為100nm以上、未達500nm,(b)以X射線繞射法測定的平均微晶直徑為1至25nm,(c)比表面積為40至200m2/g。
本發明的粉末化妝料係包含:二氧化鈦粉體1至30質量%,該二氧化鈦粉體係將滿足下述(a)至(c)的由針狀粒子以放射狀配向凝聚而成的於粒子表面具有針狀突起的金紅石型二氧化鈦燒製所得之金紅石型二氧化鈦粉體,係燒製後的金紅石型二氧化鈦粉體的比表面積為燒製前的8至50%;氮化硼1至20質量%;以及板狀層狀矽酸鹽10至50質量%;(a)表觀平均粒徑為100nm以上、未達500nm,(b)以X射線繞射法測定的平均微晶直徑為1至25nm,(c)比表面積為40至200m2/g。
於前述粉末化妝料中,二氧化鈦的燒製溫度適合為500至800℃。
於前述粉末化妝料中,二氧化鈦的燒製溫度適合為550至750℃。
於前述粉末化妝料中,板狀層狀矽酸鹽的長寬比(aspect ratio)適合為30至80。
於前述粉末化妝料中,板狀層狀矽酸鹽的平均粒徑適合為2至20μm。
根據本發明,可提供修飾性及使用性優異、維持遮蓋力且更穿透長波長區域的光的功能(選擇性穿透紅色光的功能)優異的粉末化妝料。
第1圖係表觀平均粒徑的算出方法。
第2圖係表示金紅石型顏料級氧化鈦(*1)與氧化鈦B(未燒製)以及氧化鈦B經700、900℃燒製者的分光反射率之圖。
第3圖係表示藉由TEM觀察的各燒製溫度下之經燒製的二氧化鈦B的形狀變化之圖。
第4圖係表示旋轉窯(rotary kiln)中的燒製溫度變化所致之氧化鈦B的遮蓋力變化之圖。
第5圖係表示旋轉窯中的燒製溫度變化所致之氧化鈦B的燒製溫度變化造成的紅色穿透性變化之圖。
關於本發明的二氧化鈦粉體,係將由棒狀或針狀粒子以放射狀配向凝聚而成之粒子表面具有針狀突起的二氧化鈦以500至800℃,較佳為以550至750℃進行燒製而得之二氧化鈦粉體,其以X射線繞射法測定的平均微晶直徑為15至30nm,二氧化鈦的表觀平均粒徑為100nm以上、未達500nm,較佳為200至400nm,比表面積為10至30m2/g。
使用於母核的二氧化鈦的結晶型,就結晶構造的不同而言,有銳鈦礦型(anatase type)與金紅石型(rutile type)。此處,使用於本發明的二氧化鈦的結晶型需為光觸媒活性低、折射率高而遮蓋力高的金紅石型。
使用於母核的二氧化鈦,係使用具有紅色光穿透功能的二氧化鈦。若考慮到燒製後一般會發生收縮現象,從實現本發明所得之由二氧化鈦的散射造成之遮蓋力及良好的紅色光穿透功能的觀點來看,使用於母核的二氧化鈦的表觀平均粒徑理想係較佳為100nm以上、未達500nm,更佳為200至400nm。
使用於母核的金紅石型二氧化鈦的形狀,例如可列舉:繭狀、稻草束狀、短籤狀、球狀、針狀、棒狀等。於本發明,較佳為在由棒狀或針狀粒子以放射狀配向凝聚而成的粒子表面具有針狀突起。
使用於母核的二氧化鈦的比表面積,從因燒製而有效率地提高表觀折射率的觀點來看,理想為40至200m2/g。
使用於母核的金紅石型二氧化鈦,較佳係以X射線繞射法測定的平均微晶直徑為1至25nm。
使用於母核的二氧化鈦可為市售品。例如可舉出鈦工業股份公司製之ST700系列。其中可舉出ST710等。
使用於本發明的二氧化鈦粉體,係將使用於母核的二氧化鈦進行燒製而得者。
燒製溫度係依據進行燒製的裝置而定者,並以下述溫度條件為理想:於燒製前存在的從粒子表面以放射狀突出的針狀係存在於突起因為燒製而凝聚的粒子,因為燒製所致之凝結而使存在於針狀粒子間的空隙減少,且針狀粒子彼此燒結,而以X射線繞射法測定的平均微晶直徑不過度地變大的溫度條件。藉此,能夠兼具充分的遮蓋力與選擇性地穿透紅色光的功能。
使用於本發明的二氧化鈦粉體,係於燒製前存在的從粒子表面以放射狀突出的針狀突起因燒製而凝聚的粒子之形狀。而且,該粒子的短徑與長徑的比(長徑/短徑)為1.0以上、未達2.5。更佳為1.0至2.0。
適當的燒製溫度係因燒製裝置而異,惟於 以屬於一般燒製爐的蒙孚爐(muffle furnace)、旋轉窯進行燒製時,理想為在500至800℃,較佳為在550至750℃的範圍內進行燒製。低於500℃時,因不會充分地減少於燒製前存在的空隙,故遮蓋力不充分,超過800℃時,燒結過度進行,而失去選擇性穿透紅色光的功能。
本發明的二氧化鈦以X射線繞射法測定的平均微晶直徑需為15至30nm。
上述微晶直徑未達15nm時,因無法得到充分的遮蓋力,故為不佳。而且,當超過30nm時,燒結係過於進行,就失去選擇性穿透紅色光功能之點而言,為不佳。
而且,本發明的二氧化鈦粉體,從有效地實現散射所致的遮蓋力與優異的紅色穿透功能的觀點來看,表觀平均粒徑需為100nm以上、未達500nm,較佳為200至400nm。
使用於本發明的二氧化鈦粉體的比表面積,係顯示所得之氧化鈦粒子的空隙率的降低與燒結的進行之指標,成為母核的二氧化鈦粉體之燒製後的比表面積與燒製前(100%)的比表面積相比,較佳係成為8至50%的。更佳為8至30%。
而且,本發明的二氧化鈦粉體的比表面積需為10至30m2/g。未達10m2/g時,燒結係過於進行,就失去選擇性穿透紅色光功能之點而言為不佳。而且,超過30m2/g時,係存在過多的空隙,就無法達成充分的遮蓋力之點而言為不佳。
本發明的二氧化鈦粉體,在燒製後可進行表面處理。藉由進行表面處理,可得到黏度、對油的分散性、伴隨撥水性的化妝維持性提高,且使用性優異的二氧化鈦。
就可使用作為表面處理劑的無機物而言,例如可舉出:鋁、矽、鋅、鈦、鋯、鐵、鈰及錫等金屬的水合氧化物或氧化物。能夠使用於此的前述金屬鹽並無特別限定。
就可使用作為表面處理劑的有機物而言,例如可舉出:氫氧化鋁和氧化鋁等金屬氧化物;在用金屬氫氧化物進行表面處理後,用以賦予親油性之硬脂酸、油酸、異硬脂酸、肉荳蔻酸、棕櫚酸、二十二酸(behenic acid)等脂肪酸、甲基氫聚矽氧烷、聚二甲基矽氧烷、烷基(C8至C18等)三烷氧基矽烷、胺基改性聚矽氧、羧基改性聚矽氧等聚矽氧化合物、全氟烷基烷基磷酸鹽等氟化合物、糊精肉荳蔻酸酯、糊精棕櫚酸酯、月桂醯基離胺酸、月桂醯基麩胺酸鹽等胺基酸衍生物等。
相對於二氧化鈦粉體,該等表面處理劑為1至10質量%時,因遮蔽力高而為較佳。
使用於本發明的二氧化鈦粉體,可廣泛地調配於化妝料、顏料、墨水、塗料等。
相對於粉末化妝料的總重量,使用於本發明的二氧化鈦的調配量為1至30質量%,較佳為5至15質量%。少於1質量%時,有無法得到調配本發明的二氧 化鈦所造成的效果之情形,超過30質量%時,有修飾變得不自然之情形。
使用於本發明的氮化硼只要是通常用於化妝料者,即無特別限制,可使用例如:Ronaflair Boroneige SF-12(默克公司製)、SHP-3、SHP-6(皆為水島合金鐵股份公司製)等市售品。再者,為了改善分散性、附著性,可使用經聚矽氧類、氟化合物類、金屬皂類、油劑類等表面處理過者。
相對於粉末化妝料的總重量,使用於本發明的氮化硼的調配量為1至20質量%,較佳為3至15質量%。少於1質量%時,有無法得到調配氮化硼所造成的效果之情形,超過20質量%時,有修飾性變差之情形。
於本發明適合使用合成氟金雲母鐵、雲母、合成氟金雲母、絹雲母等板狀層狀矽酸鹽。
就使用於本發明的合成氟金雲母鐵、合成氟金雲母而言,只要是通常用於化妝料者即無特別限制,較佳係平均粒徑為2至20μm,更佳為5至15μm。如此的合成氟金雲母鐵可列舉例如PDM-FE(Topy工業股份公司製)。合成氟金雲母可列舉例如:PDM-5L、10L(Topy工業股份公司製)。再者,為了改善分散性、附著性,可使用經聚矽氧類、氟化合物類、金屬皂類、油劑類等表面處理 過者。
相對於化妝料的總量,使用於本發明的板狀層狀矽酸鹽的調配量為10至50質量%,較佳為20至45質量%。少於10質量%時,有化妝料的修飾性降低之情形,而在超過50質量%時,有修飾的均勻性變差之情形。
使用於本發明的板狀層狀矽酸鹽的長寬比(aspect ratio)係以在30至80的範圍內者更為適合。
本發明的粉末化妝料,在無損於本發明的效果的範圍,可依需要而適當地調配其他成分,例如:酯、陰離子界面活性劑、陽離子界面活性劑、兩性界面活性劑、非離子界面活性劑、保濕劑、水溶性高分子、增黏劑、皮膜劑、紫外線吸收劑、金屬離子螫合劑、低級醇、多元醇、糖、胺基酸、有機胺、高分子乳劑、pH調整劑、皮膚營養劑、維生素、抗氧化劑、抗氧化助劑、香料、水等,依據目標的劑型,可藉由一般方法製造。
以下列舉具體的可調配的成分,可將上述為必要的調配成分與下述成分的任意1種或2種以上進行調配,而調製粉末化妝料。
作為陰離子界面活性劑,可列舉例如:脂肪酸皂(例如月桂酸鈉、棕櫚酸鈉等);高級烷基硫酸酯鹽(例如月桂基硫酸鈉、月桂基硫酸鉀等);烷基醚硫酸酯鹽(例如POE-月桂基硫酸三乙醇胺、POE-月桂基硫酸鈉等); N-乙醯基肌胺酸(例如月桂醯基肌胺酸鈉等);高級脂肪酸醯胺磺酸鹽(例如N-肉荳蔻醯基-N-甲基牛磺酸鈉、椰子油脂肪酸甲基牛磺酸鈉、月桂基甲基牛磺酸鈉等);磷酸酯鹽(POE-油醚磷酸鈉、POE-硬脂醚磷酸等);磺基琥珀酸鹽(例如二-2-乙基己基磺基琥珀酸鈉、單月桂醯基單乙醇醯胺聚氧乙烯磺基琥珀酸鈉、月桂基聚丙二醇磺基琥珀酸鈉等);烷基苯磺酸鹽(例如線性十二基苯磺酸鈉、線性十二基苯磺酸三乙醇胺、線性十二基苯磺酸等);高級脂肪酸酯硫酸酯鹽(例如硬化椰子油脂肪酸甘油硫酸鈉等);N-醯基麩胺酸鹽(例如N-月桂醯基麩胺酸單鈉、N-硬脂醯基麩胺酸二鈉、N-肉荳蔻醯基-L-麩胺酸單鈉等);硫酸化油(例如土耳其紅油等);POE-烷基醚羧酸;POE-烷基烯丙基醚羧酸鹽;α-烯烴磺酸鹽;高級脂肪酸酯磺酸鹽;二級醇硫酸酯鹽;高級脂肪酸烷醇醯胺硫酸酯鹽;月桂醯基單乙醇醯胺琥珀酸鈉;N-棕櫚醯基天冬胺酸二(三乙醇胺);酪蛋白鈉等。
陽離子界面活性劑可列舉例如:烷基三甲基銨鹽(例如氯化硬脂基三甲基銨、氯化月桂基三甲基銨等);烷基吡啶鎓鹽(例如氯化鯨蠟基吡啶鎓等);氯化二硬脂基二甲基銨二烷基二甲基銨鹽;氯化聚(N,N’-二甲基-3,5-亞甲基哌啶鎓鹽);烷基四級銨鹽;烷基二甲基苯甲基銨鹽;烷基異喹啉鎓鹽;二烷基嗎啉鎓鹽;POE-烷基胺;烷基胺鹽;多胺脂肪酸衍生物;戊醇脂肪酸衍生物;氯化苯甲基烷銨(benzalkonium chloride);氯化苯乙氧銨(Benzethonium chloride)等。
兩性界面活性劑可列舉例如:咪唑啉系兩性界面活性劑(例如2-十一基-N,N,N-(羥基乙基羧基甲基)-2-咪唑啉鈉、2-椰油醯基-2-氫氧化咪唑啉-1-羧乙氧基二鈉鹽等);甜菜鹼系界面活性劑(例如2-十七基-N-羧基甲基-N-羥基乙基咪唑啉鎓甜菜鹼、月桂基二甲基胺基乙酸甜菜鹼、烷基甜菜鹼、醯胺甜菜鹼、磺基甜菜鹼等)等。
親油性非離子界面活性劑可列舉例如:山梨醇酐脂肪酸酯類(例如山梨醇酐單油酸酯、山梨醇酐單異硬脂酸酯、山梨醇酐單月桂酸酯、山梨醇酐單棕櫚酸酯、山梨醇酐單硬脂酸酯、山梨醇酐倍半油酸酯、山梨醇酐三油酸酯、五-2-乙基己酸二甘油山梨醇酐、四-2-乙基己酸二甘油山梨醇酐等);甘油聚甘油脂肪酸類(例如單棉籽油脂肪酸甘油、單芥酸甘油、倍半油酸甘油、單硬脂酸甘油、α,α’-油酸焦麩胺酸甘油、單硬脂酸甘油蘋果酸等);丙二醇脂肪酸酯類(例如單硬脂酸丙二醇等);硬化蓖麻油衍生物;甘油烷基醚等。
親水性非離子界面活性劑可列舉例如:POE-山梨醇酐脂肪酸酯類(例如POE-山梨醇酐單油酸酯、POE-山梨醇酐單硬脂酸酯、POE-山梨醇酐單油酸酯、POE-山梨醇酐四油酸酯等);POE-山梨醇脂肪酸酯類(例如POE-山梨醇單月桂酸酯、POE-山梨醇單油酸酯、POE-山梨醇五油酸酯、POE-山梨醇單硬脂酸酯等);POE-甘油脂肪酸酯類(例如POE-甘油單硬脂酸酯、POE-甘油單異硬脂酸酯、POE-甘油三異硬脂酸酯等POE-單油酸酯等);POE-脂肪酸 酯類(例如POE-二硬脂酸酯、POE-單二油酸酯(POE-monodioleate)、二硬脂酸乙二醇等);POE-烷基醚類(例如POE-月桂基醚、POE-油基醚、POE-硬脂基醚、POE-二十二基醚、POE-2-辛基十二基醚、POE-膽甾烷醇醚(POE-cholestanol ether)等);三嵌段聚合物(pluronic)型(例如三嵌段聚合物等);POE/POP-烷基醚類(例如POE/POP-鯨蠟基醚、POE/POP-2-癸基十四基醚、POE/POP-單丁基醚、POE/POP-氫化羊毛脂、POE/POP-甘油醚等);四POE/四POP-伸乙基二胺縮合物類(例如Tetronic等);POE-蓖麻油硬化蓖麻油衍生物(例如POE-蓖麻油、POE-硬化蓖麻油、POE-硬化蓖麻油單異硬脂酸酯、POE-硬化蓖麻油三異硬脂酸酯、POE-硬化蓖麻油單焦麩胺酸單異硬脂酸二酯、POE-硬化蓖麻油馬來酸等);POE-蜂蠟/羊毛脂衍生物(例如POE-山梨醇蜂蠟等);烷醇醯胺(例如椰子油醯胺二乙醇醯胺、月桂酸單乙醇醯胺、脂肪酸異丙醇醯胺等);POE-丙二醇脂肪酸酯;POE-烷基胺;POE-脂肪酸醯胺;蔗糖脂肪酸酯;烷基乙氧基二甲基胺氧化物;三油基磷酸等。
保濕劑可列舉例如:聚乙二醇、丙二醇、甘油、1,3-丁二醇、木糖醇、山梨醇、麥芽糖醇、硫酸軟骨素、玻尿酸、黏多醣硫酸、卡洛寧酸(charonic acid)、去端肽膠原蛋白(atelocollagen)、膽固醇-12-羥基硬脂酸酯、乳酸鈉、膽汁酸鹽、dl-吡咯啶酮羧酸鹽、環氧烷衍生物、短鏈可溶性膠原蛋白、二甘油(EO)PO加成物、繅絲花萃取物、西洋鋸葉草萃取物、草木樨(melilot)萃取物等。
天然的水溶性高分子可列舉例如:植物系高分子[例如阿拉伯膠、黃蓍膠、半乳聚醣、瓜爾膠、刺槐豆膠、刺梧桐膠、角叉菜膠、果膠、瓊脂、榅桲籽(榅桲)、藻膠(褐藻萃取物)、澱粉(米、玉米、馬鈴薯、小麥)、甘草酸等];微生物系高分子(例如三仙膠、葡聚醣、琥珀醯聚糖、聚三葡萄糖(pullulan)等);動物系高分子(例如膠原蛋白、酪蛋白、白蛋白、明膠等)等。
半合成的水溶性高分子可列舉例如:澱粉系高分子(例如羧基甲基澱粉、甲基羥基丙基澱粉等);纖維素系高分子(甲基纖維素、乙基纖維素、甲基羥基丙基纖維素、羥基乙基纖維素、纖維素硫酸鈉、羥基丙基纖維素、羧基甲基纖維素、羧基甲基纖維素鈉、結晶纖維素、纖維素粉末等);藻酸系高分子(例如藻酸鈉、丙二醇藻酸酯等)等。
合成的水溶性高分子可列舉例如:乙烯系高分子(例如聚乙烯醇、聚乙烯甲基醚、聚乙烯吡咯啶酮、羧基乙烯基聚合物等);聚氧乙烯系高分子(例如聚乙二醇20,000、40,000、60,0000的聚氧乙烯聚氧丙烯共聚物等);丙烯酸系高分子(例如聚丙烯酸鈉、聚丙烯酸乙酯、聚丙烯醯胺等);聚伸乙基亞胺;陽離子聚合物等。
增黏劑可列舉例如:阿拉伯膠、角叉菜膠、刺梧桐膠、黃蓍膠、刺槐豆膠、榅桲籽(榅桲)、酪蛋白、糊精、明膠、果膠酸鈉、藻酸鈉、甲基纖維素、乙基纖維素、CMC、羥基乙基纖維素、羥基丙基纖維素、PVA、PVM、 PVP、聚丙烯酸鈉、羧基乙烯基聚合物、刺槐豆膠、瓜爾膠、大瑪琳膠(tamarind gum)、二烷基二甲基銨硫酸纖維素、三仙膠、矽酸鋁鎂、膨土、水輝石、矽酸鋁鎂(veegum)、合成鋰皂石(laponite)、無水矽酸等。
紫外線吸收劑可列舉例如:安息香酸系紫外線吸收劑(例如對胺基安息香酸(以下簡稱為PABA)、PABA單甘油酯、N,N-二丙氧基PABA乙酯、N,N-二乙氧基PABA乙酯、N,N-二甲基PABA乙酯、N,N-二甲基PABA丁酯、N,N-二甲基PABA乙酯等);鄰胺苯甲酸系紫外線吸收劑(例如N-乙醯基鄰胺苯甲酸升酯(homomenthyl-N-acetyl anthranilate)等);水楊酸系紫外線吸收劑(例如水楊酸戊酯、水楊酸蓋酯、水楊酸升蓋酯、水楊酸辛酯、水楊酸苯酯、水楊酸苯甲酯、對異丙醇水楊酸苯酯等);桂皮酸系紫外線吸收劑(例如甲氧基桂皮酸辛酯、乙基-4-異丙基桂皮酸酯、桂皮酸甲基-2,5-二異丙酯、桂皮酸乙基-2,4-二異丙酯、桂皮酸甲基-2,4-二異丙酯、對甲氧基桂皮酸丙酯、對甲氧基桂皮酸異丙酯、對甲氧基桂皮酸異戊酯、對甲氧基桂皮酸辛酯(對甲氧基桂皮酸2-乙基己酯)、對甲氧基桂皮酸2-乙氧基乙酯、對甲氧基桂皮酸環己酯、α-氰基-β-苯基桂皮酸乙酯、α-氰基-β-苯基桂皮酸2-乙基己酯、單-2-乙基己醯基-二對甲氧基桂皮酸甘油酯等);二苯甲酮系紫外線吸收劑(例如2,4-二羥基二苯甲酮、2,2’-二羥基-4-甲氧基二苯甲酮、2,2’-二羥基-4,4’-二甲氧基二苯甲酮、2,2’,4,4’-四羥基二苯甲酮、2-羥基-4-甲氧基二苯 甲酮、2-羥基-4-甲氧基-4’-甲基二苯甲酮、2-羥基-4-甲氧基二苯甲酮-5-磺酸鹽、4-苯基二苯甲酮、2-乙基己基-4’-苯基二苯甲酮-2-羧酸酯、2-羥基-4-正辛氧基二苯甲酮、4-羥基-3-羧基二苯甲酮等);3-(4’-甲基亞苯甲基)-d,l-樟腦、3-亞苯甲基-d,l-樟腦;2-苯基-5-甲基苯並唑;2,2’-羥基-5-甲基苯基苯並三唑;2-(2’-羥基-5’-第3辛基苯基)苯並三唑;2-(2’-羥基-5’-甲基苯基)苯並三唑;二苯甲醛肼(dibenzalazine);聯大茴香甲醯甲烷(dianisoyl methane);4-甲氧基-4’-第3丁基二苯甲醯基甲烷;5-(3,3-二甲基-2-亞降冰片基)-3-戊烷-2-酮、二嗎啉基嗒;丙烯酸2-乙基己基-2-氰基-3,3-二苯酯;2,4-雙{[4-(2-乙基己氧基)-2-羥基]-苯基}-6-(4-甲氧基苯基)-(1,3,5)-三等。
金屬離子螫合劑可列舉例如:1-羥基乙烷-1,1-二膦酸、1-羥基乙烷-1,1-二膦酸四鈉鹽、乙二胺四乙酸二鈉、乙二胺四乙酸三鈉、乙二胺四乙酸四鈉、檸檬酸鈉、聚磷酸鈉、偏磷酸鈉、葡萄糖酸、磷酸、檸檬酸、抗壞血酸、琥珀酸、乙二胺四乙酸、伸乙基二胺羥基乙基三乙酸三鈉等。
低級醇可列舉例如:乙醇、丙醇、異丙醇、異丁醇、第3丁醇等。
多元醇可列舉例如:2元醇(例如乙二醇、丙二醇、1,3-丙二醇(trimethylene glycol)、1,2-丁二醇、1,3-丁二醇、1,4-丁二醇、2,3-丁二醇、1,5-戊二醇、2-丁烯-1,4-二醇、己二醇、辛二醇等);3元醇(例如甘油、三羥甲基丙 烷等);4元醇(例如1,2,6-己烷三醇等新戊四醇等);5元醇(例如木糖醇等);6元醇(例如山梨醇、甘露醇等);多元醇聚合物(例如二乙二醇、二丙二醇、三乙二醇、聚丙二醇、四乙二醇、二甘油、聚乙二醇、三甘油、四甘油、聚甘油等);2元醇烷基醚類(例如乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇單丁醚、乙二醇單苯醚、乙二醇單己醚、乙二醇單2-甲基己醚、乙二醇異戊醚、乙二醇苯甲醚、乙二醇異丙醚、乙二醇二甲醚、乙二醇二乙醚、乙二醇二丁醚等);2元醇烷基醚類(例如二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇單丁醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇二乙醚、二乙二醇丁醚、二乙二醇甲基乙基醚、三乙二醇單甲醚、三乙二醇單乙醚、丙二醇單甲醚、丙二醇單乙醚、丙二醇異丁醚、丙二醇異丙醚、二丙二醇甲醚、二丙二醇乙醚、二丙二醇丁醚等);2元醇醚酯(例如乙二醇單甲醚乙酸酯、乙二醇單乙醚乙酸酯、乙二醇單丁醚乙酸酯、乙二醇單苯醚乙酸酯、乙二醇二己二酸酯、乙二醇二琥珀酸酯、二乙二醇單乙醚乙酸酯、二乙二醇單丁醚乙酸酯、丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單乙醚乙酸酯、丙二醇單丙醚乙酸酯、丙二醇單苯醚乙酸酯等);甘油單烷醚(例如鮫肝醇(chimyl alcohol)、鯊油醇(selachyl alcohol)、鯊肝醇(batyl alcohol)等);糖醇(例如山梨醇、麥芽糖醇、麥芽三糖、甘露醇、蔗糖、赤藻糖醇、葡萄糖、果糖、澱粉降解糖、麥芽糖、木糖醇、澱粉降解糖還原醇等);多元縮醇(glysolid);四氫糠醇;POE-四氫糠醇;POP-丁醚;POP/POE-丁醚;三 聚氧丙烯甘油醚;POP-甘油醚;POP-甘油醚磷酸;POP/POE-新戊四醇醚、聚甘油等。
單糖可列舉例如:三碳糖(例如D-甘油醛、二羥基丙酮等);四碳糖(例如D-赤藻糖、D-赤藻酮糖、D-異赤藻糖(D-threose)、赤藻糖醇等);五碳糖(例如L-阿拉伯糖、D-木糖、L-來蘇糖、D-阿拉伯糖、D-核糖、D-核酮糖、D-木酮糖、L-木酮糖等);六碳糖(例如D-葡萄糖、D-太洛糖、D-阿洛酮糖(D-psicose)、D-半乳糖、D-果糖、L-半乳糖、L-甘露糖、D-塔格糖(D-tagatose));七碳糖(例如醛庚醣、庚醣等);八碳糖(例如辛酮糖等);去氧糖(例如2-去氧-D-核糖、6-去氧-L-半乳糖、6-去氧-L-甘露糖等);胺基糖(例如D-葡萄糖胺、D-半乳糖胺、涎酸、胺基糖醛酸、胞壁酸等);糖醛酸(例如D-葡萄糖醛酸、D-甘露糖醛酸、L-古洛糖醛酸、D-半乳糖醛酸、L-艾杜糖醛酸等)等。
寡糖可列舉例如:蔗糖、龍膽三糖、傘形糖(umbelliferose)、乳糖、車前糖(planteose)、異剪秋羅糖(isolychnose)類、α,α-海藻糖(α,α-trehalose)、棉子糖(raffinose)、剪秋羅糖(lychnose)類、石耳素(umbilicin)、水蘇糖(stachyose)、毛蕊花糖(verbascose)類等。
多糖可列舉例如:纖維素、榅桲籽、硫酸軟骨素、澱粉、半乳聚醣、硫酸皮膚素(dermatan sulfate)、肝醣(glycogen)、阿拉伯膠、硫酸乙醯肝素(heparan sulfate)、玻尿酸、黃蓍膠、硫酸角質素、軟骨素、三仙膠、黏液素硫酸(mucoitin sulfate)、瓜爾膠、葡聚醣、角質硫酸鹽 (keratosulfate)、刺槐豆膠、琥珀醯聚糖、卡洛寧酸等。
胺基酸可列舉例如:中性胺基酸(例如蘇胺酸、半胱胺酸);鹼性胺基酸(例如羥基離胺酸)等。而且,胺基酸衍生物可列舉例如:醯基肌胺酸鈉(月桂醯基肌胺酸鈉)、醯基麩胺酸鹽、醯基β-丙胺酸鈉、麩胱甘肽、吡咯啶酮羧酸等。
有機胺可列舉例如:單乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、嗎啉、三異丙醇胺、2-胺基-2-甲基-1,3-丙二醇、2-胺基-2-甲基-1-丙醇等。
高分子乳劑可列舉例如:丙烯酸樹脂乳劑、聚丙烯酸乙酯乳劑、丙烯酸樹脂液、聚丙烯酸烷酯乳劑、聚乙酸乙烯酯樹脂乳劑、天然橡膠乳膠等。
pH調整劑可列舉例如:乳酸-乳酸鈉、檸檬酸-檸檬酸鈉、琥珀酸-琥珀酸鈉等緩衝劑等。
維生素類可列舉例如:維生素A、B1、B2、B6、C、E及其衍生物、泛酸及其衍生物、生物素等。
抗氧化劑可列舉例如:生育酚類、二丁基羥基甲苯、丁基羥基苯甲醚、沒食子酸酯類。
抗氧化助劑可列舉例如:磷酸、檸檬酸、抗壞血酸、馬來酸、丙二酸、琥珀酸、反丁烯二酸、腦磷脂、六偏磷酸鹽、植酸(phytic acid)、伸乙基二胺四乙酸等。
其他可能調配的成分可列舉例如:防腐劑(對羥基苯甲酸乙酯、對羥基苯甲酸丁酯、氯菲那辛(chlorphenesin)、苯氧基乙醇等);消炎劑(例如甘草酸衍生 物、甘草次酸衍生物、水楊酸衍生物、檜木醇(hinokitiol)、氧化鋅、尿囊素等);美白劑(例如胎盤萃取物、虎耳草萃取物、熊果苷);各種萃取物(例如黃柏、黃連、紫根、杓藥、當藥、樺木、鼠尾草、枇杷、紅蘿蔔、蘆薈、錦葵、鳶尾、葡萄、薏苡仁、絲瓜、百合、番紅花、川芎、生薑、小連翹、芒柄花、大蒜、辣椒、陳皮、當歸、海藻等);活化劑(例如蜂王漿、光敏劑、膽固醇衍生物等);血液循環促進劑(例如壬酸香草醯胺、菸鹼酸苯甲酯、菸鹼酸β-丁氧基乙酯、辣椒素、薑油酮、斑螫酊(cantharides tincture)、魚石脂(ichthammol)、單寧酸、α-冰片(α-borneol)、生育酚菸鹼酸酯、肌醇六菸鹼酸酯、環扁桃酯、抗凝血劑拮抗劑(cinnarizine)、托拉佐林(tolazoline)、乙醯膽鹼、維拉帕米(verapamil)、頭花千金藤素(cepharanthine)、γ-穀維素(γ-oryzanol)等);抗脂漏劑(例如硫、二甲噻蒽(thianthol)等);抗炎症劑(例如傳明酸、硫代牛磺酸、亞牛磺酸(hypotaurine)等)等。
再者,可適當地調配乙二胺四乙酸二鈉、乙二胺四乙酸三鈉、檸檬酸鈉、聚磷酸鈉、偏磷酸鈉、葡萄糖酸、蘋果酸等金屬螫合劑、咖啡因、單寧、維拉帕米、傳明酸及其衍生物、甘草、花梨(Chinese quince)、日本鹿蹄草等各種草藥萃取物、乙酸生育酚、甘草次酸、甘草酸及其衍生物或其鹽等藥劑、維生素C、抗壞血酸磷酸鎂、抗壞血酸葡萄糖苷、熊果苷、麴酸等美白劑、精胺酸、離胺酸等胺基酸及其衍生物、果糖、甘露糖、赤藻糖醇、海 藻糖、木糖醇等糖類等。
就本發明的粉末化妝料的產品形態而言,可為粉末化妝料的類別中的任何產品形態。具體而言,可為粉底、眼影、頰彩、爽身粉(body powder)、香粉(perfume powder)、嬰兒爽身粉(baby powder)、粉餅(pressed powder)、除臭粉(deodorant powder)、白妝修容粉()等產品形態。
將無機粉末成分、油性成分及其他成分預以亨歇爾混合機(Henschel mixer)混合後,以粉碎機(pulverizer)粉碎2次。然後,將所得之混合物填充於樹脂製的中型器皿,用習知的方法進行乾式壓製成形,可得到於化妝料調配有本發明的氧化鈦的固體形狀的粉末化妝料。
就將本發明的氧化鈦調配於化妝料的製造方法而言,可使用習知的方法。例如可以下述方法適當地獲得:日本專利第5422092號記載之將使用揮發性溶劑的漿料進行乾燥而製作的製造方法、日本專利第5972437號記載之將使用揮發性溶劑的漿料填充後除去而製作的製造方法。
關於本發明,以下係列舉實施例以更詳細地敘述,但本發明不限於該等實施例。就調配量而言,若 未特別載明,即表示其成分相對於所調配的體系之質量%。
在說明實施例之前,先就使用於本發明的二氧化鈦的試驗之評估方法進行說明。
將樣品以X射線繞射裝置(Geigerflex,理學電機公司製)進行測定,藉由應用謝樂(Scherrer)方程式算出平均微晶直徑。
將二氧化鈦粉末以成為5%濃度之方式分散混合於硝化纖維素漆,將所得的分散物以0.101μm的膜厚於黑白的遮蓋率試驗紙JIS-K5400上進行塗佈、乾燥,得到試驗樣品。將所得的試驗樣品用分光測色機(CM-2600,Konica Minolta公司製)對白與黑紙上的塗膜表面分別進行測色。算出Hunter Lab色空間之色差(△E),並將此設為遮蓋力而進行評估。再者,△E越高則表示遮蓋力越小,△E越低則表示遮蓋力越大。
×:25<△E
△:22<△E≦25
○:△E≦22
所謂紅色穿透性,係指藉由與前述遮蓋力相同方式在黑紙上的測定所得之各波長的分光反射率中,算出波長於450nm的反射率與波長於650nm的反射率之比(波長於450nm的反射率/波長於650nm的反射率:R450/R650)。
R450/R650越高,則表示紅色穿透性越高,R450/R650越低,則表示紅色穿透性越低。
×:R450/R650≦1.3
△:1.3<R450/R650≦1.35
○:1.35<R450/R650≦1.4
◎:1.4<R450/R650
每單位質量的比表面積可藉由相當於國際標準ISO 5794/1(附錄D)的The Journal of the American Chemical Society、60卷、309頁、1938年2月記載的BET(Brunauer-Emmet-Teller)法之習知的氮氣吸附法來求得。
用第1圖表示的方法,求取粒子的長軸與短軸的長度之平均值。
首先,本發明人等使用所能取得之市售品的顏料級金紅石型及銳鈦礦型的氧化鈦,以上述評估方法進行評估。結果表示於表1。
*1:Tipaque CR-50(石原產業公司製、表觀平均粒徑:200nm、形狀:不定形)
*2:Bayertitan A(拜耳公司製、表觀平均粒徑:400nm、形狀:不定形)
金紅石型的顏料級氧化鈦與銳鈦礦型的顏料級氧化鈦,其紅色穿透性皆為低。而且,該等即使以高溫燒製,紅色穿透性仍為低。
本發明人等對於使用紅色穿透性高的金紅石型氧化鈦無法製造遮蓋力佳者進行檢討。
本發明人等係使用專利文獻(日本特開2010-173863號公報)的方法,合成由針狀粒子以放射狀配向凝聚而成之於 粒子表面具有針狀突起之2種粒徑不同的二氧化鈦。
將所得之氧化鈦分別稱為氧化鈦A(比表面積:101m2/g、微晶直徑:5nm、表觀平均粒徑:0.2至0.3μm、針狀突起形狀)、氧化鈦B(比表面積:117m2/g、微晶直徑:11nm、表觀平均粒徑:0.3μm、針狀突起形狀)。
而且,將市售品(ST-730:鈦工業股份公司製)的由針狀粒子以放射狀配向凝聚而成之於粒子表面具有針狀突起之二氧化鈦稱為氧化鈦C(比表面積:98m2/g、微晶直徑:6nm、表觀平均粒徑:0.5μm、針狀突起形狀)。
並且,將市售品(ST-750:鈦工業股份公司製)的由針狀粒子以放射狀配向凝聚而成之於粒子表面具有針狀突起之二氧化鈦稱為氧化鈦D(84m2/g、微晶直徑:8.6nm、表觀平均粒徑:1.0μm、針狀突起形狀)。
又且,將市售品(MT062;Tayca工業股份公司製)的粒子為針狀的氧化鈦稱為氧化鈦E(比表面積:47m2/g、微晶直徑:23.3nm、表觀平均粒徑:65nm、針狀突起形狀)。
使用各二氧化鈦,藉由以下的方法得到二氧化鈦粉體。將所得之二氧化鈦粉末用上述評估方法進行評估,檢討燒製前的二氧化鈦的種類與燒製溫度的關係。結果表示於表2至表6。
將使用於母核的二氧化鈦100g放入石英製坩鍋,以蒙孚爐在各溫度進行燒製1小時,藉此得到二氧化鈦粉 末。
氧化鈦A(比表面積:101m2/g、微晶直徑:5nm、表觀平均粒徑:0.2至0.3μm、針狀突起形狀)
氧化鈦B(比表面積:117m2/g、微晶直徑:11nm、表觀平均粒徑:0.3μm、針狀突起形狀)
氧化鈦C(比表面積:98m2/g、微晶直徑:6 nm、表觀平均粒徑:0.5μm、針狀突起形狀)
氧化鈦D(84m2/g、微晶直徑:8.6nm、表觀平均粒徑:1μm、針狀突起形狀)
氧化鈦E(比表面積:47m2/g、微晶直徑:23.3nm、表觀平均粒徑:65nm、針狀突起形狀)
於氧化鈦A至C,遮蓋力均會因為提高燒製溫度而提高。已知因為比表面積會伴隨溫度的上升而減少,故燒製前存在的以放射狀配向凝聚的針狀粒子係彼此凝聚,因而減少存在於粒子中的空隙。此係導致表觀折射率提高,遮蓋力提高。但是,紅色穿透性係徐緩地減少。特別是以高溫燒製時會產生過度燒結,初始的紅色穿透性顯著降低。
特別是平均粒徑大的氧化鈦C,在700℃下幾乎喪失紅色穿透性。
而且,與氧化鈦A至C同樣為針狀粒子以放射狀配向凝聚而成的氧化鈦D,雖與氧化鈦A至C同樣地為伴隨燒製溫度上升而比表面積減少,但是因表觀粒徑顯著較大,遮蓋力的提高極為微小。再者,就紅色穿透性而言,亦由 於表觀粒徑顯著較大,因此無論在燒製前後,仍為低紅色穿透性,未能得到所期望的紅色穿透性。
而且,就燒製前的平均粒徑較小且為由單一種針狀粒子所構成的氧化鈦E而言,燒製後形狀亦無大的變化,雖然維持了紅色穿透性,但遮蓋力完全沒有提高。
再者,檢討不同形狀的二氧化鈦。
而且,將市售品(TT055(A);石原產業公司製)之粒子為粒狀的二氧化鈦稱為氧化鈦F(比表面積:37m2/g、微晶直徑:24.8nm、表觀平均粒徑:50nm、粒狀)。
又且,將市售品(ST643;鈦工業公司製)之由棒狀粒子以稻草束狀配向凝聚而成的二氧化鈦稱為氧化鈦G(比表面積:132m2/g、微晶直徑:8.6nm、表觀平均粒徑:200nm、稻草束狀)。
氧化鈦F(比表面積:37m2/g、微晶直徑:24.8nm、表觀平均粒徑:50nm、粒狀)
由試驗例6-1至6-4得知,粒狀的氧化鈦在以350至720℃燒製時,微晶直徑沒有變化,就比表面積、微晶直徑而言皆無法成為本發明的燒製後的氧化鈦。
因此,雖具有紅色穿透性,但未能得到所期望的遮蓋力。
氧化鈦G(比表面積:132m2/g、微晶直徑:8.6nm、表觀平均粒徑:200nm、稻草束狀)
試驗例7-1所使用的氧化鈦與本發明的使用於母核的二氧化鈦同樣地係滿足(a)表觀平均粒徑、(b)以X射線繞射法測定的平均微晶直徑、(c)比表面積,但是粒子表面沒有針狀突起。再者,由於短徑/長徑的比大至2.5,故即使燒製後也無法實現充分的紅色穿透性及遮蓋力。
依此等檢討,適合作為本發明的使用於母核的氧化鈦為從遮蓋力的提升及紅色穿透性的維持之觀點來看可容許的溫度範圍較廣之氧化鈦B。
測定金紅石型的顏料級氧化鈦(*1)及氧化鈦B(未燒製、燒製溫度:700℃、900℃)的分光反射率的結果係表示於第2圖。再者,測定係將二氧化鈦粉末以濃度成為5%之方式分散混合於硝化纖維素漆,並將所得的 分散物以0.101μm的膜厚於黑白的遮蓋率測試紙JIS-K5400上進行塗佈、乾燥,而得到測試樣品。將所得的測試樣品用分光測色機(CM-2600、Konica Minolta公司製),對白與黑紙上的塗膜表面分別進行測色,得到分光反射率。
其中,對於二氧化鈦B,係拍攝未燒製者、燒製者(燒製溫度:300℃、500℃、700℃、900℃)的TEM影像。結果表示於第3圖。
而且,對於二氧化鈦B測定隨旋轉窯的燒製溫度變化之遮蔽力、紅色穿透性。結果分別表示於第4圖、第5圖。
由以上的結果,在以蒙孚爐燒製時,適合的溫度為500至800℃,特別理想為500至700℃。
其次,本發明人等係以氧化鈦B作為母核,在500至800℃範圍仔細檢討燒製溫度。亦即,本發明人等係將燒製溫度改變的二氧化鈦粉體用上述評估方法進行評估。結果表示於表5、表6。
燒製係以更接近量產、燒製效率高之旋轉型燒製爐(旋轉窯)進行。
就一般而言,旋轉型燒製爐係燒製效率高,已知可以用較靜置燒製的蒙孚爐更低的燒製溫度來得到同樣的燒製狀態。
比表面積係顯示所得之氧化鈦粒子的空隙率降低及燒結的進行之指標,使用於本發明的二氧化鈦較佳係將成為母核的二氧化鈦粉體藉由燒製而使其比表面積成為相較於燒製前(100%)為8至30%的範圍。
由該等的結果可知,就遮蓋力及紅色穿透 性佳而言,燒製溫度以550至700℃為較佳,575至660℃為更佳。
再者,本發明人使用表6的以燒製溫度660℃所得之二氧化鈦,並以下述的表面處理方法得到經疏水化處理的二氧化鈦,將調配有此二氧化鈦之固體粉末化妝料分別用慣常方法進行調整。然後,將所得之化妝料用下述方法進行評估。
將所得之二氧化鈦粉體分散於離子交換水,加溫後,使其吸附硬脂酸3質量%,然後藉由脫水、洗淨、乾燥而得到表面處理二氧化鈦。
將無機粉末成分、油性成分及其他成分預先以亨歇爾混合機混合後,以粉碎機粉碎2次。然後,將所得之混合物填充於樹脂製的中型器皿,用習知的方法進行乾式壓製成形,可得到於化妝料調配有本發明的氧化鈦之固體形狀的粉末化妝料。
將本發明的氧化鈦調配於化妝料的製造方法,可使用 習知的方法。例如可以下述方法適當地獲得:日本專利第5422092號記載之將使用揮發性溶劑的漿料進行乾燥而製作的製造方法、日本專利第5972437號記載之將使用揮發性溶劑的漿料填充後除去而製作的製造方法。
評估(6):自然修飾性
10位專業評測員將樣品塗佈於臉,評估塗佈後的使用感。
A:10位評測員中7位以上回答修飾自然
B:10位評測員中5位以上未達7位回答修飾自然
C:10位評測員中未達5位回答修飾自然
10位專業評測員將樣品塗佈於臉,評估塗佈中的使用感。
A:10位評測員中7位以上回答推展性良好
B:10位評測員中5位以上未達7位回答推展性良好
C:10位評測員中未達5位回答推展性良好
10位專業評測員將樣品塗佈於臉,評估塗佈後的使用感。
A:10位評測員中7位以上回答不泛白
B:10位評測員中5位以上未達7位回答不泛白
C:10位評測員中未達5位回答不泛白
10位專業評測員將樣品塗佈於臉,評估塗佈後的使用感。
A:10位評測員中7位以上回答有遮蓋斑點、雀斑
B:10位評測員中5位以上未達7位回答有遮蓋斑點、雀斑
C:10位評測員中未達5位回答有遮蓋斑點、雀斑
10位專業評測員,將樣品塗佈於臉,評估塗佈後的使用感。
A:10位評測員中7位以上回答肌理不明顯
B:10位評測員中5位以上未達7位回答肌理不明顯
C:10位評測員中未達5位回答肌理不明顯
10位專業評測員將樣品塗佈於臉,評估塗佈後的使用感。
A:10位評測員中7位以上回答沒有顏色不均勻
B:10位評測員中5位以上未達7位回答沒有顏色不均勻
C:10位評測員中未達5位回答沒有顏色不均勻
(*1)三好化成股份公司製SA-Talc JA68R
(*2)Topy工業股份公司製PDM-FE
(*3)Topy工業股份公司製PDM-5L
(*4)Topy工業股份公司製PDM-10L
(*5)Topy工業股份公司製PDM-20L
(*6)三信礦工股份公司Sericite FSE
(*7)默克股份公司製Ronaflair Boroneige SF-12
(*8)石原產業股份公司製Tipaque CR-50
(*9)Tayca股份公司製MT-100TV
(*10)大東化成工業股份公司製OTS-2鐵丹No.216P
(*11)大東化成工業股份公司製OTS-2 STN-1
(*12)大東化成工業股份公司製OTS-2 BL-100
(*13)Toray Dow Corning股份公司製Trefil E-506S
(*14)Toray股份公司製Nylon SP-500
由試驗例8-1至8-3,得知使用本發明的二氧化鈦與氮化硼及合成氟金雲母或合成氟金雲母鐵的固體 粉末化妝料,係使用性及修飾性佳,且塗佈至肌膚時具有自然修飾且不泛白。
由試驗例8-4,得知將使用於母核的二氧化鈦直接使用時,就斑點、雀斑的遮蓋力及肌理顯著之點而言為不佳。
由試驗例8-5至8-7,得知即使使用傳統的顏料級氧化鈦,就塗在肌膚時在不泛白之點而言仍為不佳。
由試驗例8-8,得知即使使用本發明的二氧化鈦與氮化硼,若合成氟金雲母的粒徑超過20μm,則就顏色不均勻、肌理顯著之點而言仍為不佳。
由試驗例8-9,得知雖使用絹雲母取代氮化硼,並混合有本發明的二氧化鈦,但就推展性良好的程度之點而言仍為不佳。
由試驗例8-10,得知氮化硼的量較本發明的範圍多時,會強調肌理的顯著,就修飾性之點而言為不佳。
由試驗例8-11,得知氮化硼的量較本發明的範圍少時,就推展性良好的程度之點而言為不佳。
由試驗例8-12,得知本發明的二氧化鈦的量較本發明的範圍少時,就斑點/雀斑的遮蓋之點而言為不佳,無法得到自然修飾。
由試驗例8-13,得知本發明的二氧化鈦的量較本發明的範圍多時,就修飾自然、不泛白之點而言為不佳。
本案圖式為試驗例的表觀平均粒徑的算出方法示意圖或實驗數據圖,不足以代表本案發明,故本案無指定代表圖。
Claims (7)
- 一種粉末化妝料,其係包含:二氧化鈦粉體1至30質量%,該二氧化鈦粉體為表觀平均粒徑為100nm以上、未達500nm,以X射線繞射法測定的平均微晶直徑為15至30nm,比表面積為10至30m2/g,且具有由突出成放射狀的針狀突起所凝聚而成的形狀之粒子;氮化硼1至20質量%;以及平均粒徑為2至20μm的板狀層狀矽酸鹽10至50質量%。
- 一種粉末化妝料,其係包含:以X射線繞射法測定的平均微晶直徑為15至30nm,比表面積為10至30m2/g,且450nm的反射率的值為650nm的反射率的值的1.3倍以上,色差(△E)為22以下的金紅石型二氧化鈦粉體1至30質量%;氮化硼1至20質量%;以及平均粒徑為2至20μm的板狀層狀矽酸鹽10至50質量%;其中,色差(△E)係將二氧化鈦粉體以成為5%濃度之方式分散混合於硝化纖維素漆,並將所得的分散物以0.101μm的膜厚於黑白的遮蓋率測試紙JIS-K5400上進行塗佈、乾燥而得到測試樣品;將所得的測試樣品用分光測色機對白與黑紙上的塗膜表面分別進行測色;算出Hunter Lab色空間之色差(△E)。
- 一種粉末化妝料,係包含:二氧化鈦粉體1至30質量%,該二氧化鈦粉體係將滿足下述(a)至(c)的針狀粒子以放射狀配向凝聚而成的於粒子表面具有針狀突起的金紅石型二氧化鈦燒製所得之金紅石型二氧化鈦粉體,其表觀平均粒徑為100nm以上、未達500nm,以X射線繞射法測定的平均微晶直徑為15至30nm,比表面積為10至30m2/g;氮化硼1至20質量%;以及平均粒徑為2至20μm的板狀層狀矽酸鹽10至50質量%;(a)表觀平均粒徑為100nm以上、未達500nm;(b)以X射線繞射法測定的平均微晶直徑為1至25nm;(c)比表面積為40至200m2/g。
- 一種粉末化妝料,係包含:二氧化鈦粉體1至30質量%,該二氧化鈦粉體係將滿足下述(a)至(c)的於粒子表面具有針狀突起的金紅石型二氧化鈦燒製所得之金紅石型二氧化鈦粉體,燒製後的金紅石型二氧化鈦粉體的比表面積為燒製前的8至50%;氮化硼1至20質量%;以及平均粒徑為2至20μm的板狀層狀矽酸鹽10至50質量%;(a)表觀平均粒徑為100nm以上、未達500nm; (b)以X射線繞射法測定的平均微晶直徑為1至25nm;(c)比表面積為40至200m2/g。
- 如申請專利範圍第3或4項所述之粉末化妝料,其中,二氧化鈦的燒製溫度為500至800℃。
- 如申請專利範圍第5項所述之粉末化妝料,其中,二氧化鈦的燒製溫度為550至750℃。
- 如申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述之粉末化妝料,其中,板狀層狀矽酸鹽的長寬比為30至80。
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