TWI760454B - 層合體及層合體之製造方法 - Google Patents

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TWI760454B
TWI760454B TW107109035A TW107109035A TWI760454B TW I760454 B TWI760454 B TW I760454B TW 107109035 A TW107109035 A TW 107109035A TW 107109035 A TW107109035 A TW 107109035A TW I760454 B TWI760454 B TW I760454B
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Abstract

本發明提供光擴散特性均一之層合體及其製造方法。
本發明之層合體等，係於光擴散控制薄膜層合上覆層合薄膜而成之層合體，其特徵為光擴散控制薄膜具有特定之內部構造，且層合體之層合面內，將形成光擴散控制薄膜時之移動方向設為長邊方向，將與該長邊方向垂直之方向設為短邊方向，且沿上覆層合薄膜之短邊方向測定之相位差Re(nm)之最大值設為Remax，最小值設為Remin時，滿足特定之關係式(1)，(Remax-Remin)/(Remax+Remin)×100<35(%) (1)。

Description

層合體及層合體之製造方法
本發明有關層合體及層合體之製造方法。
尤其有關藉由上覆層合薄膜層合由光擴散控制薄膜用組成物所成之塗佈層之狀態下進行光硬化所得之光擴散控制薄膜與上覆層合薄膜之層合體，係光擴散控制薄膜之光擴散特性不管薄膜面內之部位為何而均為均一的層合體、以及有關此等層合體之製造方法。
以往，於例如液晶顯示裝置或投影螢幕等所屬之光學技術領域中，提案使用光擴散控制薄膜。
該光擴散控制薄膜具有如下之光擴散特性者：於特定入射角度範圍(以下有時稱為「光擴散入射角度區域」)時顯示一定之光擴散狀態，於偏離光擴散入射角度區域之入射角度範圍，使入射光直接透過，或顯示與在光擴散入射角度區域之光擴散狀態不同之光擴散狀態。
作為此等光擴散控制薄膜，已知有多種態 樣，尤其已廣泛使用於薄膜內具有於折射率相對低之區域中林立有折射率相對高的複數柱狀物而成之柱構造的光擴散控制薄膜。
又，作為其他類型之光擴散控制薄膜，已廣泛使用具有於薄膜內，於沿薄膜面沿任意一方向相互配置折射率不同之複數板狀區域而成之百葉窗構造之光擴散薄膜。
不過，具有此等柱構造或百葉窗構造之光擴散控制薄膜，已知係藉由對於將含有折射率不同之2種以上的聚合性化合物之光擴散控制薄膜用組成物塗佈成膜狀之塗佈層，以特定方法照射活性能量線而獲得。
亦即，藉由對塗佈層照射經控制行進方向之特定活性能量線，邊使塗佈層中之2種以上之聚合性化合物相分離邊硬化，可獲得具有特定內部構造之光擴散控制薄膜。
然而，對於塗佈層直接照射特定活性能量線時，見到難以於薄膜膜厚方向全面，亦即直至薄膜上面形成特定之內部構造之問題。
亦即，雖可於薄膜膜厚方向之下方部分形成特定之內部構造，但見到於上方部分會發生未形成內部構造之區域的問題。
因此，揭示有不發生未形成內部構造之區域而用以直至薄膜上面形成特定之內部構造的技術(例如參考專利文獻1)。
亦即，專利文獻1中，揭示擴散性根據光之入 射角而變化之異向性光學薄膜之製造方法，其特徵係包含下述步驟：於光硬化性之未硬化樹脂組成物層之一面上，接合濁度值為1.0~50.0%之光照射遮罩之光照射遮罩接合步驟，於光照射遮罩接合步驟後，藉由透過光照射遮罩照射光而使未硬化樹脂組成物層硬化而形成異向性擴散層之硬化步驟。
又，亦記載有光照射遮罩之表面粗糙度為0.05~0.50μm，或光照射遮罩之氧透過係數為1.0×10-11cm3(STP)cm/(cm2．s．Pa)以下。
亦即，對於由光擴散控制薄膜用組成物所成之塗佈層，以層合特定上覆層合薄膜之狀態進行光硬化，而抑制發生未形成內部構造之區域。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2016-194687號公報(申請專利範圍)
然而，即使使用專利文獻1中記載之光照射遮罩之情況，亦難以穩定地抑制未形成內部構造之區域發生。
尤其，於有某寬度之1片連續之光擴散控制薄膜中， 見到未發生未形成內部構造之區域之部位，亦見到發生之部位。由此，薄膜面內之光擴散特性亦因光之入射部位而變化，而於全體見到光擴散特性變不均一之問題。
因此，本發明人等鑑於如以上之情況而積極努力後，發現藉由將沿上覆層合薄膜面內之特定方向測定的相位差之偏差設為特定範圍內之值，即使於未發生未形成內部構造之區域時，或即使發生時，內部構造均可均一形成，因而完成本發明。
亦即，本發明之目的在於提供藉由上覆層合薄膜層合由光擴散控制薄膜用組成物所成之塗佈層之狀態下進行光硬化所得之光擴散控制薄膜與上覆層合薄膜之層合體，係光擴散控制薄膜之光擴散特性不管薄膜面內之部位為何而均為均一的層合體、以及有關此等層合體之製造方法。
依據本發明，提供如下之層合體，而可解決上述問題，該層合體之特徵係於源自光擴散控制薄膜用組成物之光擴散控制薄膜之至少一面上層合有上覆層合薄膜之狀態之層合體，且光擴散控制薄膜具有於低折射率區域中具有複數高折射率區域且該高折射率區域沿厚度方向延伸之內部構造，且係層合體之層合面內，將形成光擴散控制薄膜時之移動方向設為長邊方向，將與該長邊方向垂直之方向設為短邊方向，且將沿上覆層合薄膜之短邊方向測定之相位差Re(nm)之最大值設為Remax，最小值設為Remin 時，滿足下述關係式(1)，(Remax-Remin)/(Remax+Remin)×100<35(%) (1)。
亦即，依據本發明之層合體，由於將沿上覆層合薄膜面內之特定方向測定的相位差Re的偏差設為特定範圍內之值，故藉由對於由光擴散控制薄膜用組成物所成之塗佈層層合上覆層合薄膜之狀態下進行硬化，可獲得由光擴散特性不管薄膜面內之部位為何均為均一的光擴散控制薄膜與上覆層合薄膜之層合體。
又，構成本發明之層合體時，上覆層合薄膜之短邊方向之長度較好為100~10000mm之範圍內之值。
藉由如此構成，可獲得短邊方向之長度充分的層合體，進而可獲得短邊方向之長度充分的光擴散控制薄膜。
又，構成本發明之層合體時，上覆層合薄膜之相位差Re之中央值較好為1000~3000nm之範圍內之值。
藉由如此構成，可有效地抑制光擴散控制薄膜中發生未形成內部構造之區域。
又，構成本發明之層合體時，上覆層合薄膜之膜厚較好為5~5000μm之範圍內之值。
藉由如此構成，可獲得進而安定地滿足關係式(1)之上覆層合薄膜。
又，構成本發明之層合體時，作為光擴散控制薄膜之內部構造，較好包含於折射率相對低之區域中，於薄膜膜厚方向林立有折射率相對較高之複數柱狀物而成 之柱構造。
藉由如此構成，可獲得具有等向性之光擴散特性之光擴散控制薄膜。
又，構成本發明之層合體時，作為光擴散控制薄膜之內部構造，較好包含於沿薄膜面之任意一方向交替配置折射率不同之複數板狀區域而成之百葉窗構造。
藉由如此構成，可獲得具有異向性之光擴散特性之光擴散控制薄膜。
又，本發明之另一態樣係一種層合體之製造方法，其特徵係上述之層合體之製造方法，且包含下述步驟(a)~(d)，(a)準備包含高折射率活性能量線硬化成分及低折射率活性能量線硬化成分之光擴散控制薄膜用組成物之步驟，(b)對步驟薄片膜狀塗佈光擴散控制薄膜用組成物而形成塗佈層之步驟，(c)對於塗佈層之露出面層合滿足關係式(1)之上覆層合薄膜之步驟，(d)邊使塗佈層移動，邊透過上覆層合薄膜，對該塗佈層照射活性能量線之步驟。
亦即，依據本發明之層合體之製造方法，係將沿上覆層合薄膜面內之特定方向測定的相位差Re的偏差設為特定範圍內之值。因此藉由對於由光擴散控制薄膜用組成物所成之塗佈層層合上覆層合薄膜之狀態下藉由照射活性能量線而硬化(光硬化)。其結果可獲得由光擴散特性不管薄膜 面內之部位為何均為均一的光擴散控制薄膜與上覆層合薄膜之層合體。
1:塗佈層
2:步驟薄片
10:光擴散控制薄膜
10a:等向性光擴散控制薄膜
10b~10d:光擴散控制薄膜
12、12b~12d:折射率相對較高的區域(包含折射率相對較高的板狀區域)
12a:折射率相對較高的柱狀物
14、14a~14d:折射率相對較低的區域(包含折射率相對較低的板狀區域)
16:彎曲部
20:內部構造
20a’:邊界面
20a:柱構造
20b:百葉窗構造
20c:彎曲柱構造
20d:特定內部構造
52、54:入射光
52’、54’:特定擴散光
56:入射光
56’:透過光
60:平行光
70:來自點光源之放射光
100:層合體
102:點光源
104:透鏡
圖1(a)~(b)係供於用以說明本發明之層合體概略的圖。
圖2(a)~(b)係供於用以說明於薄膜內具有柱構造之光擴散控制薄膜之概略的圖。
圖3(a)~(b)係供於用以說明於薄膜內具有柱構造之光擴散控制薄膜中入射角度依存性及等向性光擴散的圖。
圖4(a)~(d)係供於用以說明本發明之光擴散控制薄膜中之內部構造態樣的圖。
圖5(a)~(c)係供於用以說明本發明之層合體之製造方法的圖。
圖6係供於用以說明活性能量線之照射角的圖。
圖7係供於用以顯示實施例1及比較例1中之上覆層合薄膜之寬度方向之位置與相位差Re之關係的圖。
圖8(a)~(c)係供於用以顯示實施例1~2及比較例1中之光擴散控制薄膜之剖面照片的圖。
圖9(a)~(b)係供於用以顯示實施例1~2及比較例1中之參考光對於光擴散控制薄膜之入射角度與變角濁度之關係的圖。
圖10(a)~(b)係供於用以顯示實施例1~2及比較例1中 之光擴散控制薄膜之短邊方向的位置與直進透過光強度P.T之關係的圖。
[第1實施形態]
本發明之第1實施形態係如圖1(a)所示，於源自光擴散控制薄膜用組成物之光擴散控制薄膜10之至少一面上層合上覆層合薄膜4之狀態的層合體100。
而且，係如下特徵之層合體：光擴散控制薄膜10具有於低折射率區域14中具有複數高折射率區域12，且該高折射率區域12於厚度方向延伸之內部構造20，係層合體100之層合面內，於將形成光擴散控制薄膜10時之移動方向設為長邊方向，將與該長邊方向垂直之方向設為短邊方向，且將沿上覆層合薄膜4之短邊方向測定之相位差Re(nm)之最大值設為Remax，最小值設為Remin時，滿足下述關係式(1)，(Remax-Remin)/(Remax+Remin)×100<35(%) (1)。
亦即，係如下特徵之層合體100：於光擴散控制薄膜10之至少一面上層合上覆層合薄膜4之狀態的層合體100，且光擴散控制薄膜10係由包含高折射率硬化成分(高折射率活性能量線硬化成分)及低折射率硬化成分(低折射率活性能量線硬化成分)之光擴散控制薄膜用組成物的硬化物所構成。
而且，作為硬化物之光擴散控制薄膜內，具有於折射率相對較低之區域14中具備折射率相對較高之複數區域12之內部構造20，且如圖1(b)所示，於將源自光擴散控制薄膜用組成物之塗佈層1光硬化時之該塗佈層1之移動方向MD設為長邊方向LD，將於層合體100之層合面內且與長邊方向LD垂直之方向設為短邊方向SD，且將沿上覆層合薄膜4之短邊方向SD測定之相位差Re(nm)之最大值設為Remax，最小值設為Remin時，滿足上述關係式(1)。
以下，參考適當圖式具體說明本發明之第1實施形態。
但，關於光擴散控制薄膜用組成物及其硬化態樣係於第2實施形態中說明。
1.上覆層合薄膜
本發明之上覆層合薄膜係如圖1(b)所示，使源自光擴散控制薄膜用組成物之塗佈層1光硬化時之該塗佈層1之移動方向MD設為長邊方向LD，將層合體之層合面內且與長邊方向LD垂直方向設為短邊方向SD，且將沿上覆層合薄膜4之短邊方向SD測定之相位差Re(nm)之最大值設為Remax，最小值設為Remin時，滿足下述關係式(1)。
(Remax-Remin)/(Remax+Remin)×100<35(%) (1)
其理由為若關係式(1)之左邊表示之相位差Re之偏差值為35%以上之值，則透過上覆層合薄膜光硬化所得之光擴散控制薄膜之內部構造會依薄膜面內之部位過度 變化之故。因此難以保持薄膜面內之光擴散特性之均一性之故。
亦即，關係式(1)之左邊表示之相位差Re之偏差值之上限值更好設為30%以下之值，又更好設為25%以下之值，特加設為10%以下之值。
且，關係式(1)之左邊表示之相位差Re之偏差值越小越好，但若為過小的值，則材料選擇幅度過度受限制。
因此，關係式(1)之左邊表示之相位差Re之偏差值之下限值較好為0.1%以上之值，更好為0.5%以上之值，又更好為1%以上之值。
又，算出相位差Re的偏差時，較好沿上覆層合薄膜之短邊方向SD，以等間隔於5~100部位測定相位差Re(關於後述相位差Re之中央值亦相同)。
又，如由圖1(b)所明瞭，上覆層合薄膜之長邊方向LD及短邊方向SD與層合體之長邊方向LD及短邊方向SD一致，亦與構成層合體之光擴散控制薄膜及步驟薄片之長邊方向LD及短邊方向SD一致。
又，相位差Re可藉由薄膜之延伸處理而調整，尤其較好藉由雙軸延伸而調整。
此處，針對上覆層合薄膜之相位差Re之偏差與光擴散控制薄膜之光擴散特性之均一性的關係簡單予以說明。
亦即，認為所照射之活性能量線之振動方向與所形成之折射率分佈構造之間有密切關係。且，活性能量線照射 於上覆層合薄膜時，根據上覆層合薄膜之相位差，上覆層合薄膜之長邊方向LD與短邊方向SD之振動受到不同影響。因此，推測為產生之分歧使活性能量線之振動方向變化。
其結果，推測上覆層合薄膜下方所形成之光擴散控制薄膜之光擴散特性被上覆層合薄膜之相位差Re大為左右。因此，認為相位差Re於短邊方向SD偏差時，光擴散特性亦對應地偏差。
又，上覆層合薄膜之相位差Re的中央值較好為1000~3000nm之範圍內之值。
其理由為若相位差Re之中央值為未達1000nm之值，則由於為相位差Re過度低之薄膜，故有材料選定困難之情況。
另一方面，若相位差Re之中央值為超過3000nm之值，則由於為相位差Re過度高之薄膜，故有材料選定困難之情況。
因此，相位差Re之中央值之下限值更好為1100nm以上之值，又更好為1200nm以上之值。
又，相位差Re之中央值之上限值更好為2800nm以下之值，又更好為2900nm以下之值。
又，上覆層合薄膜之活性能量線照射側表面之算術平均粗糙度(Ra)較好為1~200nm之範圍內之值。
若該Ra成為未達1nm之值，則上覆層合薄膜捲出時，會有該薄膜彼此密著，剝離時之振動變大之情況。因此有 該振動傳導至活性能量線照射部分，而使光擴散控制薄膜之內部構造形成精度降低之虞。
另一方面，若該Ra成為超過200nm之值，則由於表面形狀過大，故有活性能量線產生擴散而對構造形成造成阻礙之情況之故。
因此，上覆層合薄膜之算術平均粗糙度(Ra)之下限值更好為5nm以上之值，又更好為10nm以上之值。
且，上覆層合薄膜之算術平均粗糙度(Ra)之上限值更好為100nm以下之值，又更好為40nm以下之值，特佳為30nm以下。
又，作為表面粗糙度之一的算術平均粗糙度(Ra)可依據JIS B 0601：2001，以與其吻合之方式測定，亦可依據ANSI B46.1測定。
又，上覆層合薄膜之最大隆起(Rp)較好為20~5000nm之範圍內之值。
其理由為該Rp若成為未達20nm之值，則上覆層合薄膜捲出時，有該薄膜彼此密著，剝離時之振動變大之情況。因此，有該振動傳導至活性能量線照射部分，而使光擴散控制薄膜之內部構造形成精度降低之虞。另一方面，若該Rp成為超過5000nm之值，則由於表面形狀過大，故有活性能量線產生擴散而對構造形成造成阻礙之情況之故。
因此，上覆層合薄膜之最大隆起(Rp)之下限值更好為50nm以上之值，又更好為100nm以上之值，特佳為300nm 以上。
且，上覆層合薄膜之最大隆起(Rp)之上限值更好為2000nm以下之值，又更好為1000nm以下之值，特佳為600nm以下。
又，作為表面粗糙度之一的最大隆起(Rp)可依據JIS B 0601：2001，以與其吻合之方式測定，亦可依據ANSI B46.1測定。
又，上覆層合薄膜之濁度較好成為1~25%之範圍內之值。
其理由為若濁度成為未達1%之值，則上覆層合薄膜捲出時，有該薄膜彼此密著，剝離時之振動變大之情況。因此，有該振動傳導至活性能量線照射部分，而使光擴散控制薄膜之內部構造形成精度降低之虞。
另一方面，若濁度成為超過25%之值，則由於表面形狀過大，故有活性能量線產生擴散而對構造形成造成阻礙之情況之故。
因此，上覆層合薄膜之濁度之下限值更好為3%以上之值，又更好為5%以上之值。
且，上覆層合薄膜之濁度之上限值更好為20%以下之值，又更好為15%以下之值。
又，上覆層合薄膜之全光線透過率較好成為70~97%之範圍內之值。
其理由為若該全光線透過率成為未達70%之值，則活性能量線之透過性過於降低，而有難以效率良好地形成光 擴散控制薄膜中之特定內部構造之情況。另一方面，若該全光線透過率成為超過97%之值，則有材料選擇幅度過於受到限制之情況。
因此，上覆層合薄膜之全光線透過率之下限值更好為75%以上之值，又更好為80%以上之值。
且，上覆層合薄膜之全光線透過率之上限值更好為95%以下之值，又更好為93%以下之值。
又，作為上覆層合薄膜之材料並未特別限制，但舉例為聚對苯二甲酸乙二酯薄膜、三乙醯基纖維素薄膜、環烯烴聚合物薄膜、環狀烯烴薄膜、離子聚合物薄膜、聚乙烯薄膜、聚氯乙烯薄膜、聚偏氯乙烯薄膜、聚乙烯醇薄膜、聚丙烯薄膜、聚酯薄膜、聚碳酸酯薄膜、聚苯乙烯薄膜、聚丙烯腈薄膜、乙烯乙酸乙烯酯共聚物薄膜、乙烯-乙烯醇共聚物薄膜、乙烯-甲基丙烯酸共聚物薄膜、尼龍薄膜、賽璐吩等，可單獨使用該等中之1種，亦可組合2種以上使用。
其理由為若為該等材料，則可更穩定地獲得滿足關係式(1)之上覆層合薄膜之故。
又，上覆層合薄膜之短邊方向之長度較好成為100~10000mm之範圍內之值。
其理由為該短邊方向之長度成為未達100mm之值時，構成層合體之光擴散控制薄膜之短邊方向之長度亦成為未達100mm之值，而有使光擴散控制薄膜不滿足實用上要求之尺寸的情況。
另一方面，該短邊方向之長度成為超過10000mm之值時，有難以於寬度方向均一照射活性能線之情況。
因此，上覆層合薄膜之短邊方向之長度之下限值更好為200mm以上之值，又更好為300mm以上之值，特佳為600mm以上之值。
又，上覆層合薄膜之短邊方向之長度之上限值更好為8000mm以下之值，又更好為6000mm以下之值，特佳為3000mm以下之值。
又，上覆層合薄膜之膜厚較好成為5~5000μm之範圍內之值。
其理由為該膜厚成為未達5μm之值時，處理變難，上覆層合薄膜貼合時有產生皺摺之情況之故。
另一方面，該膜厚成為超過5000μm之值時，處理變難，上覆層合薄膜搬送時有產生皺摺之情況之故。
因此，上覆層合薄膜之膜厚之下限值更好為10μm以上之值，又更好為30μm以上之值。
又，上覆層合薄膜之膜厚之上限值更好為1000μm以下之值，又更好為400μm以下之值，再更佳為100μm以下之值。
又，上覆層合薄膜之兩面中，與光擴散控制薄膜接觸之側的面亦可塗佈聚矽氧樹脂等之剝離劑而設置剝離層。
2.光擴散控制薄膜
(1)光擴散控制薄膜之光擴散的基本原理
最初，作為本發明之光擴散控制薄膜之一例，使用圖2~3針對於薄膜內具有柱構造20a之具有等向性光擴散特性之等向性光擴散控制薄膜10a加以說明。
首先，圖2(a)顯示薄膜內具有柱構造20a之等向性光擴散控制薄膜10a之俯視圖，圖2(b)係顯示沿虛線A-A於垂直方向切斷圖2(a)所示之等向性光擴散控制薄膜10a，自箭頭方向觀看切斷面之情況的等向性光擴散控制薄膜10a之剖面圖。
又，圖3(a)顯示薄膜內具有柱構造20a之等向性光擴散控制薄膜10a之全體圖，圖3(b)係顯示藉由圖3(a)之等向性光擴散控制薄膜10a而擴散之光的擴散程度(擴散光之擴展形狀)。
如該圖2(a)之俯視圖所示，等向性光擴散控制薄膜10a具有由折射率相對較高的柱狀物12a與折射率相對較低之區域14a所成之柱構造20a。
又，如圖2(b)之剖面圖所示，於等向性光擴散控制薄膜10a之內部，具有折射率相對較高的柱狀物12a與折射率相對較低之區域14a，複數之折射率相對較高的柱狀物12a以具有特定間隔之方式以林立狀態配置。
藉此推定為如圖3(a)所示，於入射角θ1為光擴散入射角度區域內的入射光藉由等向性光擴散控制薄膜10a而擴散。
亦即推定為如圖2(b)所示，對於等向性光擴散控制薄膜10a之入射光的入射角係自對於柱構造20a之邊界面20a’ 平行至特定角度範圍內之值，亦即，為光擴散入射角度區域內之值之情況，入射光(52、54)以邊變化方向邊沿膜厚方向通過柱構造20a之折射率相對較高之柱狀物12a之內部，而使出光面側之光的行進方向變得不一樣。
其結果推定為，於入射角為光擴散入射角度區域內之情況，入射光藉由等向性光擴散控制薄膜10a而擴散而成為特定之擴散光(52’、54’)。
另一方面，入射光對於等向性光擴散控制薄膜10a之入射角偏離光擴散入射角度區域之情況時，推定為如圖2(b)所示，入射光56並未藉由等向性光擴散控制薄膜10a而擴散，而是直接通過，成為透過光56’。
藉由以上基本原理，具備柱構造20a之等向性光擴散控制薄膜10a例如如圖3(a)所示，可能發揮光之透過與擴散中之入射角依存性。
又，如圖2(b)所示，具備柱構造20a之等向性光擴散控制薄膜10a作為其光擴散特性通常成為具有「等向性」。
此處，本發明中所謂「等向性」意指如圖3(b)所示，入射光藉由薄膜而擴散時，經擴散之出射光於與薄膜平行之面內(有時稱為俯視)，該光的擴散程度不因該面內之方向而變化之性質。
更具體而言，如圖3(a)所示，入射光藉由等向性光擴散控制薄膜10a而擴散時，經擴散之出射光之擴散程度於與薄膜平行之面內成為圓狀。
又，如圖3(a)所示，等向性光擴散控制薄膜， 於入射光之入射角θ1包含於光擴散入射角度區域時，即使其入射角θ1不同之情況，於出光面側亦可大致同樣地進行光擴散。
因此，等向性光擴散控制薄膜可謂具有將光集中於特定部位之聚光作用。
又，柱構造內之柱狀物12a內部之入射光之方向變化，認為除了成為如圖2(b)所示般藉由全反射而方向以直線狀鋸齒狀變化之步進指數型之情況以外，亦有成為方向以曲線狀變化之梯度指數型之情況。
又，本發明之光擴散控制薄膜具有之內部構造若為包含高折射率區域與低折射率區域者，則不限定於上述柱構造。
亦即，光擴散控制薄膜之技術領域中，若為可藉由過去以來已知之相分離而形成之內部構造，則於本發明之光擴散控制薄膜中，亦同樣可形成。
例如，如圖4(a)所示，亦可為具有折射率不同之複數板狀區域(12b、14b)沿薄膜面沿任意一方向交互配置而成之百葉窗構造20b。
或者，亦可如圖4(b)所示，係柱狀物沿薄膜膜厚方向於中間點具有彎曲部16之彎曲柱構造20c。
或者，亦可如圖4(c)所示，係於折射率相對較低之區域14d中，折射率相對較高之複數薄片狀物12d沿薄膜面沿任意一方向排列複數行之特定內部構造20d。
或者，亦可如圖4(d)所示，係百葉窗構造20b與柱構 造20a組合而成。
亦即，光擴散控制薄膜之技術領域中已知之內部構造之種類持續有多樣，但本發明之光擴散控制薄膜為該等內部構造之任一者均可。
且，無論哪種內部構造，光擴散之基本原理均與柱構造20a之情況相同。
但，因各內部構造之形態，擴散光之擴散形狀產生差異。
例如，圖4(a)所示之百葉窗構造20b之情況，異向性光擴散之俯視中產生棒狀擴散光，於圖4(b)所示之彎曲柱構造20c時，於彎曲部之上方等向性光擴散之光的一部分於彎曲部之下方產生進而經等向性光擴散之擴散光。
又，圖4(c)所示之特定內部構造20d時，由於係百葉窗構造20b與柱構造20a之混雜型，故產生俯視下橢圓形狀之擴散光，如圖4(d)所示組合百葉窗構造20b及柱構造20a時，於柱構造20a經光擴散之光的一部分進而於百葉窗構造20b被光擴散，故而產生俯視時子彈狀之擴散光。
(2)內部構造
本發明之光擴散控制薄膜中之內部構造，若為包含高折射率區域與低折射率區域，而獲得光擴散特性者，則未特別限制，可為柱構造或百葉窗構造等之各種態樣。
以下作為一例，針對柱構造加以說明，但百葉窗構造等之其他內部構造，亦可基於有關柱構造的內容。
如圖2(a)~(b)所示，柱構造20a為用以將入射光等向性擴散之內部構造，具體而言，係於折射率相對較低的區域中，林立折射率相對較高的複數柱狀物而成之內部構造。
(2)-1折射率
柱構造中之折射率相對較低之區域的折射率與折射率相對較高的複數柱狀物之折射率差較好為0.01以上之值。
其理由為若該折射率差成為0.01以上之值，則入射光於柱構造內全反射之角度區域變窄，故有使入射角度依存性過度降低之情況之故。
因此，該折射率差之下限值更好成為0.03以上之值，又更好為0.1以上之值。
又，該折射率差雖較大較好，但基於選定可形成柱構造之材料之觀點，認為0.3左右為上限。
(2)-2最大徑
又，於如圖2(a)~(b)所示之柱構造20a中，柱狀物之剖面中之最大徑較好成為0.1~15μm之範圍內之值。
其理由為該最大徑若為未達0.1μm之值，則儘管為入射光之入射角度，亦有難以顯示光擴散特性之情況。另一方面，該最大徑若為超過15μm之值，則於柱構造內直進的光增加，有使擴散光之均一性降低之情況之故。
因此，柱構造中，該最大徑之下限值更好為0.5μm以 上之值，又更好為1μm以上之值。
且，柱構造中，該最大徑之上限值更好為10μm以下之值，又更好為5μm以下之值。
又，關於柱狀物之剖面形狀，雖未特別限定，但較好為例如圓、橢圓、多邊形、不規則形等。
且，所謂柱狀物之剖面意指藉由與薄膜表面平行之面切斷而得之剖面。
又，柱狀物之最大徑或長度等可藉由光學數位顯微鏡觀察而測定。
又，上述最大徑之數值範圍於柱狀物間之距離亦同樣。
(2)-3厚度
又，如圖2(b)所示之柱構造20a之厚度(膜厚方向之長度)較好成為10~700μm之範圍內之值。
其理由為該厚度若為未達10μm之值，則於柱構造內會直進之入射光增加，有難以獲得充分光擴散特性之範圍之情況。另一方面，若該厚度成為超過700μm之值，則對於光擴散控制薄膜用組成物照射活性能量線而形成柱構造時，因初期形成之柱構造會使光聚合之進行方向擴散，而有難以形成期望之柱構造之情況之故。
因此，柱構造之厚度下限值更好為30μm以上之值，又更好為50μm以上之值。
且，柱構造之厚度上限值更好為200μm以下之值，又 更好為100μm以下之值。
又，所謂「光擴散特性之範圍」意指顯示光擴散特性之入射角的範圍及擴散光之擴大範圍。
(2)-4傾斜角
又，如圖2(b)所示，柱構造20a中，柱狀物12a等較好對於光擴散控制薄膜之膜厚方向以一定傾斜角度林立。
其理由為藉由使柱狀物之傾斜角為一定，而於柱構造內使入射光更穩定反射，可進一步提高源自柱構造之入射角度依存性之故。
更具體而言，柱構造中，柱狀物對於薄膜面之法線的傾斜角較好成為0~80°之範圍內之值。
其理由為若該傾斜角成為超過80°之值，則有伴隨此活性能量線之入射角度之絕對值亦變大，故空氣與塗佈層之界面中之活性能量線之反射比例會增加，於形成柱構造時，有產生必須照射更高照度之活性能量線之情況之故。
因此，該傾斜角度之上限值更好為60°以下之值，又更好為40°以下之值。
又，傾斜角度意指於對薄膜面垂直，且藉由將1根柱狀物全體沿軸線切斷為二的面而切斷薄膜時之剖面中所測定之對於薄膜表面之法線與柱狀物之最上部所成之角度中較窄側的角度。
(3)膜厚
又，本發明之光擴散控制薄膜之膜厚較好成為10~700μm之範圍內之值。
其理由為光擴散控制薄膜之膜厚若為未達10μm之值，則於柱構造內直進之入射光增加，有難以顯示特定之光擴散特性之情況。另一方面，若光擴散控制薄膜之膜厚成為超過700μm之值，則對於光擴散控制薄膜用組成物照射活性能量線而形成柱構造時，因初期形成之柱構造會使光聚合之進行方向擴散，而有難以形成期望之柱構造之情況之故。且應用於顯示器等時，有易於顯示圖像產生起皺之情況之故。
因此，光擴散控制薄膜之膜厚下限值更好為30μm以上之值，又更好為50μm以上之值。
且，光擴散控制薄膜之膜厚上限值更好為300μm以下之值，又更好為100μm以下之值。
(4)特性
又，有關本發明之光擴散控制薄膜之特性，濁度70%以上之入射角度區域之幅度較好處於60°以上之值。
藉由如此限制特定之入射角度區域之幅度，由於可有效率地擷取入射光，並均一擴散，故有提高擴散光之明亮度之情況。
因此，濁度70%以上之入射角度區域之幅度較好設為80°以上之值，更好設為100°以上之值。
又，有關本發明之光擴散控制薄膜之特性， 於將薄膜表面之法線方向設為0°，自入射角度區域於與該區域偏離之方向照射傾斜60°之入射光時之直進透過光強度P.T之中央值較好設為0.1~99%之範圍內之值。
其理由為若該中央值成為未達0.1%之值，則有作為薄膜全體之透過率惡化之情況。
另一方面，該中央值成為超過99%之值時，有入射角度區域不足之情況。
因此，該中央值之下限更好設為1%以上，又更好為5%以上。
且，該中央值之上限更好設為50%以下，又更好設為15%以下。
又，所謂直進透過光強度係將與入射光相同角度射出之出射光強度除以入射光全體之強度，以百分比表示者。
又，有關本發明之光擴散控制薄膜之特性，直進透過光強度P.T之偏差較好設為0.1~3.8%之範圍內之值。
其理由為該偏差若成為未達0.1%之值，則有難以控制之情況。
另一方面，該偏差若設為超過3.8%之值，則有光擴散狀態發生濃淡之情況。
因此該偏差之下限更好設為1%以上，又更好為2%以上。
且，該偏差之上限更好設為3.5%以下，又更好設為2.8%以下。
3.步驟薄片
又，如圖1(a)所示，本發明之層合體100亦可於光擴散控制薄膜10之一面，亦即與層合上覆層合薄膜4之側相反側之面上，層合步驟薄片2。
如此，藉由以上覆層合薄膜及步驟薄片挾持光擴散控制薄膜之兩面，而可有效地保護光擴散控制薄膜。
此處，所謂步驟薄片係製造層合體時，供光擴散控制薄膜用組成物塗佈之薄片。
作為該步驟薄片，可使用通常之剝離薄膜，舉例為例如對於聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯等之聚酯薄膜、或聚丙烯、聚乙烯等之聚烯烴薄膜塗佈聚矽氧樹脂等之剝離劑而設置剝離層者。
又，該步驟薄片之膜厚通常較好設為20~150μm之範圍內之值。
[第2實施形態]
本發明之實施形態係層合體之製造方法，係第1實施形態之層合體之製造方法，其特徵為包含下述步驟(a)~(d)。
(a)準備包含高折射率活性能量線硬化成分及低折射率活性能量線硬化成分之光擴散控制薄膜用組成物之步驟，(b)對步驟薄片膜狀塗佈光擴散控制薄膜用組成物而形成塗佈層之步驟， (c)對於塗佈層之露出面層合滿足關係式(1)之上覆層合薄膜之步驟，(d)邊使塗佈層移動，邊透過上覆層合薄膜，對該塗佈層照射活性能量線之步驟。以下，以與第1實施形態不同為中心，參考適當圖式具體說明本發明之第2實施形態。
1.步驟(a)：準備光擴散控制薄膜用組成物之步驟
步驟(a)係準備特定之光擴散控制薄膜用組成物之步驟。
更具體而言，係混合以下說明之(A)~(B)成分以及依需要之其他成分的步驟。
且，混合時，可於室溫下直接攪拌，但基於提高均一性之觀點，較好於例如40~80℃之加溫條件下攪拌，成為均一混合液。
又，為成為適於塗佈之期望黏度，亦較好進而添加稀釋溶劑。
(1)(A)成分：高折射率活性能量線硬化成分
本發明之光擴散控制薄膜用組成物之特徵係包含高折射率硬化成分(高折射率活性能量線硬化成分)作為(A)成分。
其理由為藉由包含高折射率活性能量線硬化成分作為(A)成分，而與後述之作為(B)成分之低折射率硬化成分(低 折射率活性能量線硬化成分)之間於聚合速度產生特定差，而抑制兩成分彼此均一共聚合，藉此可邊有效率地將(A)成分及(B)成分相分離(phase separation)邊進行硬化之故。
藉此，由於在硬化前之階段儘管為均一組成物，於硬化時亦可形成柱構造或百葉窗構造之特定內部構造，故可對作為所得硬化物之光擴散控制薄膜，賦予可效率良好地使入射光擴散之優異光擴散特性。
(1)-1折射率
作為(A)成分之高折射率活性能量線硬化成分的折射率較好成為1.5~1.65之範圍內之值。
其理由為若(A)成分之折射率成為未達1.5之值，則與作為(B)成分之低折射率活性能量線硬化成分的折射率差變得過小，而有難以獲得有效光擴散特性之情況之故。另一方面，若(A)成分之折射率成為超過1.65之值，則與(B)成分之折射率差雖變大，但有亦難以形成與(B)成分之外觀上的相溶狀態之情況之故。
因此，(A)成分之折射率之下限值更好成為1.55以上之值，又更好為1.56以上之值。
且，(A)成分之折射率之上限值更好成為1.6以下之值，又更好為1.59以下之值。
又，所謂上述之(A)成分之折射率，意指藉由光照射硬化前之(A)成分之折射率。
又，折射率可依據例如JIS K0062：1992測定。
(1)-2種類
又，(A)成分種類並未特別限制，但較好為含有複數芳香環之(甲基)丙烯酸酯。
其理由係若為該等化合物，則可更有效率地邊將(A)成分及(B)成分相分離邊進行光硬化，而可獲得更優異之光擴散特性之故。
作為此等化合物，可舉例為例如(甲基)丙烯酸聯苯酯、(甲基)丙烯酸萘酯、(甲基)丙烯酸蒽酯、(甲基)丙烯酸苄基苯酯、(甲基)丙烯酸聯苯氧基烷酯、(甲基)丙烯酸萘氧基烷酯、(甲基)丙烯酸蒽氧基烷酯、(甲基)丙烯酸苄基苯氧基烷酯、(甲基)丙烯酸鄰-苯氧基苄酯、(甲基)丙烯酸間-苯氧基苄酯、(甲基)丙烯酸對-苯氧基苄酯等，或該等之一部分藉由鹵素、烷基、烷氧基、鹵化烷基等取代者等。
又，所謂「(甲基)丙烯酸」意指丙烯酸及甲基丙烯酸兩者。
又，作為(A)成分，更好為包含含有聯苯環之化合物，尤其更好為包含以下述通式(1)表示之聯苯化合物。
Figure 107109035-A0305-02-0032-1
(通式(1)中，R1~R10係分別獨立，R1~R10之至少1個為以下述通式(2)表示之取代基，其餘為氫原子、羥基、羧基、烷基、烷氧基、鹵化烷基、羥基烷基、羧基烷基及鹵原子之任一取代基)。
Figure 107109035-A0305-02-0032-2
(通式(2)中，R11為氫原子或甲基，碳數n為1~4之整數，重複數m為1~10之整數)。
其理由推定為藉由包含具有特定構造之聯苯化合物作為(A)成分，可於(A)成分及(B)成分之聚合速度產生特定差，使(A)成分與(B)成分之相溶性降低至特定範圍，而可使兩成分彼此之共聚合性降低之故。
又，提高源自(A)成分之折射率相對高的區域的折射率，可更容易調節將與源自(B)成分之折射率相對低的區域的折射率之差設為特定以上之值。
又，作為以通式(1)表示之聯苯化合物之具體 例可較好地舉例下述式(3)~(4)表示之化合物。
Figure 107109035-A0305-02-0033-3
Figure 107109035-A0305-02-0033-4
(2)(B)成分：低折射率活性能量線硬化成分
本發明之光擴散控制薄膜用組成物之特徵係包含低折射率活性能量線硬化成分作為(B)成分。
其理由為藉由包含低折射率活性能量線硬化成分作為(B)成分，而與上述之作為(A)成分之高折射率活性能量線硬化成分之間於聚合速度產生特定差，而抑制兩成分彼此均一共聚合，藉此可邊有效率地將(A)成分及(B)成分相分離邊進行光硬化之故。
藉此，由於於光硬化前之階段儘管為均一組成物，於光硬化時亦可形成柱構造或百葉窗構造之特定內部構造， 故可對作為所得硬化物之光擴散控制薄膜，賦予可效率良好地使入射光擴散之優異光擴散特性。
(2)-1折射率
作為(B)成分之低折射率活性能量線硬化成分的折射率較好成為1.4~1.5之範圍內之值。
其理由為若(B)成分之折射率成為未達1.4之值，則與(A)成分之折射率差雖變大，但有與(A)成分之相溶性極端惡化，而難以形成特定內部構造之情況之故。另一方面，若(B)成分之折射率成為超過1.5之值，則與(A)成分之折射率差變得過小，而有難以獲得期望光擴散特性之情況之故。
因此，(B)成分之折射率之下限值更好成為1.45以上之值，又更好為1.45以上之值。
且，(B)成分之折射率之上限值更好成為1.49以下之值，又更好為1.48以下之值。
又，所謂上述之(B)成分之折射率，意指藉由光照射硬化前之(B)成分之折射率。而且，折射率如上述可依據例如JIS K0062：1992測定。
又，上述之(A)成分的折射率與(B)成分的折射率之差較好設為0.01以上之值。
其理由為該折射率之差若成為未達0.01之值，則入射光於特定內部構造內全反射之角度變窄，故有光擴散特性之範圍變過度狹窄之情況之故。另一方面，該折射率差若 成為過度大之值，則(A)成分與(B)成分之相溶性過度惡化，而有難以形成特定之內部構造之情況之故。
因此，(A)成分的折射率與(B)成分的折射率之差的下限值更好設為0.05以上之值，又更好設為0.1以上之值。
且，(A)成分的折射率與(B)成分的折射率之差的上限值更好設為0.5以下之值，又更好設為0.2以下之值。
又，此處所謂(A)成分與(B)成分的折射率意指藉由光照射硬化前之(A)成分與(B)成分之折射率。
(2)-2種類
又，(B)成分種類並未特別限制，但可舉例為例如胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、於側鏈具有(甲基)丙烯醯基之(甲基)丙烯酸系聚合物、含有(甲基)丙烯醯基之聚矽氧樹脂、不飽和聚酯樹脂等，但特佳為胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯。
其理由係若為胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯，則可更有效率地邊將(A)成分及(B)成分相分離邊進行光硬化，而可獲得更優異之光擴散特性之故。
又，所謂(甲基)丙烯酸酯意指丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯兩者。
又，胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯係由(B1)含有至少2個異氰酸酯基之化合物、(B2)多元醇化合物，較好為二醇化合物，特佳為聚烷二醇、及(B3)(甲基)丙烯酸羥基烷酯所形成。
又，(B)成分為亦包含具有胺基甲酸酯鍵之重複單位的寡聚物者。
其中作為(B1)成分之含有至少2個異氰酸酯基之化合物可舉例為例如2,4-甲苯二異氰酸酯、2,6-甲苯二異氰酸酯、1,3-二甲苯二異氰酸酯、1,4-二甲苯二異氰酸酯、4,4’-二異氰酸亞甲基二苯(MDI)等之芳香族異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯等之脂肪族聚異氰酸酯、異佛酮二異氰酸酯(IPDI)、氫化二苯基甲烷二異氰酸酯等之脂環式聚異氰酸酯、及該等之縮脲體、異氰脲酸酯體、進而為乙二醇、丙二醇、新戊二醇、三羥甲基丙烷、蓖麻油等之低分子含活性氫之化合物的反應物的加成物(例如二甲苯二異氰酸酯系3官能加成物)等。
又，形成胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯之成分中，作為(B2)成分的聚烷二醇舉例為例如聚乙二醇、聚丙二醇、聚丁二醇、聚己二醇等，其中，特佳為聚丙二醇。
其理由為若為聚丙二醇，則使(B)成分硬化時，可成為該硬化物中之良好軟鏈段，而可有效提高所得光擴散控制薄膜之處理性或安裝性之故。
又，(B)成分之重量平均分子量主要可藉由(B2)成分之重量平均分子量調節。此處，(B2)成分之重量平均分子量通常為2300~19500，較好為4300~14300，特佳為6300~12300。
又，形成胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯之成分中，作為(B3)成分的(甲基)丙烯酸羥基烷酯舉例為例如(甲 基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸3-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸3-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯等。
且，基於降低所得胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯之聚合速度，更有效地形成特定內部構造之觀點，尤其更好為甲基丙烯酸羥基烷酯，又更好為甲基丙烯酸2-羥基乙酯。
(2)-3摻合量
又，將(A)成分及(B)成分之合計量設為100重量份時，(A)成分與(B)成分之摻合比((A)成分；(B)成分(重量比))較好設為20：80~80：20之範圍內之值。
亦即，將(A)成分及(B)成分之合計量設為100重量份時，(B)成分之摻合比例較好設為20~80質量份之範圍內之值。
其理由係若(B)成分之摻合比例成為未達20重量份之值，則源自(A)成分之折射率相對較高的區域幅度與源自(B)成分之折射率相對較低的區域幅度相比較，過度變大，而有難以獲得良好光擴散特性之情況之故。另一方面，若(B)成分之摻合比例成為超過80重量份之值，則(A)成分相對於(B)成分之存在比例變少，源自(A)成分之折射率相對較高的區域幅度與源自(B)成分之折射率相對較低的區域幅度相比較，過度變小，而有難以獲得良好光擴散特性之情況之故。
因此，將(A)成分及(B)成分之合計量設為100重量份 時，(B)成分之摻合比例之下限值更好設為40質量份以上之值，又更好較好設為55質量份以上之值。
且，將(A)成分及(B)成分之合計量設為100重量份時，(B)成分之摻合比例之上限值更好設為70質量份以下之值，又更好較好設為65質量份以下之值。
(3)(C)成分：光聚合起始劑
又，光擴散控制薄膜用組成物中，較好含有光聚合起始劑作為(C)成分。
其理由為藉由含有光聚合起始劑，對於光擴散控制薄膜用組成物照射活性能量線時，可更有效率地邊將(A)成分及(B)成分相分離邊進行光硬化，而可獲得更優異之光擴散特性之故。
此處，作為光聚合起始劑，舉例為苯偶因、苯偶因甲醚、苯偶因乙醚、苯偶因異丙醚、苯偶因正丁醚、苯偶因異丁醚、苯乙酮、二甲胺基苯乙酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2,2-二乙氧基-2-苯基苯乙酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、1-羥基環己基苯基酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-嗎啉基-丙烷-1-酮、4-(2-羥基乙氧基)苯基-2-(羥基-2-丙基)酮、二苯甲酮、對-苯基二苯甲酮、4,4-二乙胺基二苯甲酮、二氯二苯甲酮、2-甲基蒽醌、2-乙基蒽醌、2-第三丁基蒽醌、2-胺基蒽醌、2-甲基噻噸酮、2-乙基噻噸酮、2-氯噻噸酮、2,4-二甲基噻噸酮、2,4-二乙基噻噸酮、苄基二甲基縮醛、苯乙酮二甲基 縮醛、對-二甲胺基苯甲酸酯、寡聚[2-羥基-2-甲基-1-[4-(1-甲基乙烯基)苯基]丙烷]等，可單獨使用該等中之1種，亦可組合2種以上使用。
作為(C)成分之光聚合起始劑之摻合量，相對於(A)成分及(B)成分之合計量100質量份，較好設為0.2~20質量份之範圍內之值。
其理由係(C)成分之摻合量若成為未達0.2重量份之值，則缺乏聚合起始點，因此有難以使光擴散控制薄膜用組成物充分硬化之情況之故。另一方面，(C)成分之摻合量若成為超過20重量份之值，則有易產生光擴散控制薄膜之黃變或耐久性降低之情況之故。
因此，(C)成分之摻合量下限值更好設為0.5重量份以上之值，又更好設為1重量份以上之值。
且，(C)成分之摻合量上限值更好設為15重量份以下之值，又更好設為10重量份以下之值。
(4)其他添加劑
又，在不損及本發明效果之範圍內，亦可適當摻合其他添加劑。
作為其他添加劑舉例為例如抗氧化劑、抗靜電劑、聚合促進劑、聚合抑制劑、紅外線吸收劑、紫外線吸收劑、可塑劑、稀釋溶劑及調平劑等。
又，其他添加劑之含量，一般相對於(A)成分及(B)成分之合計量100重量份，較好設為0.01~5重量份之範圍內 之值。
且，尤其較好摻合紫外線吸收劑作為其他添加劑。
其理由為藉由摻合紫外線吸收劑，而照射活性能量線時，可於特定範圍內選擇性吸收特定波長之活性能量線之故。
其結果，不會阻礙光擴散控制薄膜用組成物之硬化，而可如例如圖4(b)所示，於所得光擴散控制薄膜之內部形成之特定內部構造產生彎曲部之故。
又，紫外線吸收劑較好為自由羥基苯基三嗪系紫外線吸收劑、苯并三唑系紫外線吸收劑、二苯甲酮系紫外線吸收劑及羥基苯甲酸酯系紫外線吸收劑所成之群中選擇之至少一種。
其理由係若為該等紫外線吸收劑，則可於特定內部構造中更明確產生彎曲，故所得光擴散控制薄膜中之光擴散特性之範圍可更有效地擴大之故。
亦即，若為於高壓水銀燈之主波長的365nm之波長於更接近部位具有波峰之該等紫外線吸收劑，則即使為少的摻合量，亦可確認產生彎曲之故。
且，光擴散控制薄膜用組成物中之紫外線吸收劑之摻合量，相對於(A)成分及(B)成分之合計量100重量份，較好為未達2重量份之值(但0重量份除外)。
其理由係若紫外線吸收劑之摻合量成為2重量份以上之值，則會阻礙光擴散控制薄膜用組成物之硬化，於薄膜 表面產生收縮皺褶，或有無法完全硬化之情況之故。另一方面，若紫外線吸收劑之摻合量過度少，則有對於光擴散控制薄膜之內部所形成之內部構造難以產生充分彎曲之情況之故。
因此，紫外線吸收劑之摻合量下限值，相對於(A)成分及(B)成分之合計量100重量份，更好為0.01重量份以上之值，又更好為0.02重量份以上之值。
又，紫外線吸收劑之摻合量上限值，相對於(A)成分及(B)成分之合計量100重量份，更好為1.5重量份以下之值，又更好為1重量份以下之值。
2.步驟(b)：塗佈步驟
步驟(b)係如圖5(a)所示，對步驟薄片2膜狀塗佈光擴散控制薄膜用組成物而形成塗佈層1之步驟。
作為該步驟，可如第1實施形態所記載，使用通常之剝離薄膜。
又，作為於步驟薄片上塗佈光擴散控制薄膜用組成物之方法，可使用例如棒塗佈法、刮刀塗佈法、輥塗佈法、刮板塗佈法、模嘴塗佈法、凹版塗佈法等。
又，此時之塗佈層厚度較好設為10~700μm之範圍內之值。
3.步驟(c)：層合步驟
步驟(c)係如圖5(b)所示，對塗佈層1之露出面層合滿 足關係式(1)之上覆層合薄膜4之步驟。
亦即，係保有步驟薄片2與上覆層合薄膜4之間隙，以未按壓硬化前之塗佈層1之方式進行層合之步驟。
4.步驟(d)：活性能量線照射步驟
步驟(d)係如圖5(c)所示，邊使塗佈層1移動，邊透過上覆層合薄膜4，對該塗佈層1照射平行光60的活性能量線，而於薄膜內形成柱構造或百葉窗構造等之特定內部構造，作成光擴散控制薄膜10之步驟。
以下，作為一例，針對形成柱構造之情況加以說明。
亦即，如圖5(c)所示，對於步驟薄片2上形成之塗佈層1照射光線之平行度高的平行光60。
此處，所謂平行光，意指光的行進方向於任一方向觀察時均不具有擴展之略平行之光。
更具體而言，例如如圖5(c)所示，可將來自點光源102之照射光70藉由透鏡104而作成平行光60。
又，照射光之平行度較好設為10°以下之值。
其理由係藉由將照射光之平行度設為該範圍內之值，可有效率且穩定地形成柱構造之故。
因此，照射光之平行度更好設為5°以下之值，又更好設為2°以下之值。
又，作為照射光之照射角，如圖6所示，於將對於塗佈層1的表面之法線的角度設為0°時之照射角θ×通常較好設為-80~80°之範圍內之值。
其理由係若照射角成為-80~80°之範圍外之值，則於塗佈層1表面之反射等的影響變大，有難以充分形成柱構造之情況之故。
又，圖6中之箭頭MD係指塗佈層之移動方向。
又，作為活性能量線的照射光較好使用紫外線。
其理由係為電子束之情況，由於聚合速度非常快，因此於聚合過程中(A)成分與(B)成分無法充分相分離，而有難以形成柱構造之情況之故。
另一方面，與可見光相比較時，由於藉由紫外線照射而可硬化之紫外線硬化樹脂或可使用之光聚合起始劑之變化較為豐富，故可增廣(A)成分及(B)成分之選擇幅度。
又，作為於使用紫外線作為活性能量線時之照射條件，於塗佈層表面之峰值照度較好設為0.1~10mW/cm2之範圍內之值。
其理由為該峰值照度若為未達0.1mW/cm2之值，則有難以明確形成柱構造之情況之故。另一方面，該峰值照度若為超過10mW/cm2之值，則推定為硬化速度過快，而有難以有效形成柱構造之情況之故。
因此，塗佈層表面之峰值照度之下限值更好設為0.3mW/cm2以上之值，又更好設為0.5mW/cm2以上之值。
又，塗佈層表面之峰值照度之上限值更好設為8mW/cm2以下之值，又更好設為6mW/cm2以下之值。
又，於使用紫外線作為活性能量線時之塗佈 層表面之累積光量較好設為5~200mJ/cm2之範圍內之值。
其理由為該累積光量若為未達5mJ/cm2之值，則有難以使柱構造自上方向下方充分伸長之情況之故。另一方面，該累積光量若為超過200mJ/cm2之值，則有所得光擴散控制薄膜產生著色之情況之故。
因此，塗佈層表面之累積光量下限值更好設為7mJ/cm2以上之值，又更好設為10mJ/cm2以上之值。
且，塗佈層表面之累積光量上限值更好設為150mJ/cm2以下之值，又更好設為100mJ/cm2以下之值。
又，基於維持量產性並且穩定地形成柱構造之觀點，照射紫外線作為活性能量線照射時，步驟薄片上形成之塗佈層較好以0.1~10m/分鐘之範圍內之速度移動。
尤其更好以0.2m/分鐘以上之速度移動，且更好以3m/分鐘以下之速度移動。
又，本發明中，使光擴散控制薄膜用組成物硬化而成之光擴散控制薄膜內形成之內部構造若為包含高折射率區域及低折射率區域者，則並未限制於上述柱構造。
例如形成如圖4(a)所示之百葉窗構造20b時，只要對於步驟薄片2上形成之塗佈層1，照射於一方向觀看時實質上為平行光且自其他方向觀看時看似非平行之雜亂光的光作為照射光即可。
又，形成如圖4(c)所示之特定內部構造20d時，只要對 於步驟薄片2上形成之塗佈層1，照射於一方向觀看時實質上為平行光且自其他方向觀看時並非全部為雜亂光而是經調節至某程度平行度的光即可。
[實施例]
以下藉由實施例更詳細說明本發明。但本發明不限定於該等記載。
[實施例1]
1.上覆層合薄膜之準備
準備厚度38μm、短邊方向(寬度方向)之長度1000mm之雙軸延伸聚對苯二甲酸乙二酯薄膜捲筒(以下有時稱「薄膜A」)作為上覆層合薄膜。
(1)相位差Re之測定
測定所準備之上覆層合薄膜之相位差Re。
亦即，將所準備之上覆層合薄膜之長邊方向中任意部位作為測定部位予以特定。
其次，於經特定之測定部位中沿短邊方向1000mm，每50mm共20個部位作為測定點，使用王子測量機器(股)製之相位差測定裝置KOBRA-WR，測定相位差Re(nm)。所得結果示於圖7之特性曲線A。
該圖7係以橫軸作為上覆層合薄膜之短邊方向的位置(mm)，縱軸作為相位差Re(nm)的短邊方向位置-相位差Re 圖表。
且，由所得測定值，算出相位差Re之中央值(nm)及以式(1)表示之偏差((Remax-Remin)/(Remax+Remin)×100)(%)。所得結果示於表1。
(2)表面粗糙度Rp及Ra
又，測定所準備之上覆層合薄膜之算術平均粗糙度(Ra)及最大隆起(Rp)。
亦即，使用Veeco公司製之表面形狀測定裝置WYKO NT110(ANSI B46.1規格)，測定所準備之上覆層合薄膜之算術平均粗糙度(Ra)(nm)，並且測定最大隆起(Rp)(nm)。所得結果示於表1。
(3)濁度及全光線透過率之測定
又，測定所準備之上覆層合薄膜之濁度。
亦即，使用日本電色工業(股)製之濁度計NDH 5000，測定所準備之上覆層合薄膜之濁度(%)及全光線透過率。所得結果示於表1。
2.低折射率活性能量線硬化成分之合成
於容器內對於作為(B2)成分之重量平均分子量9200之聚丙二醇(PPG)1莫耳，收納作為(B1)成分之異佛酮二異氰酸酯(IPDI)2莫耳及作為(B3)成分之甲基丙烯酸2-羥基乙酯(HEMA)2莫耳後，依據常用方法進行反應，獲得作為 (B)成分之重量平均分子量9900之聚醚胺基甲酸酯甲基丙烯酸酯。
又，聚丙二醇及聚醚胺基甲酸酯甲基丙烯酸酯之重量平均分子量係藉凝膠滲透層析(GPC)按下述條件測定之聚苯乙烯換算值。
．GPC測定裝置：TOSOH(股)製，HLC-8020
．GPC管柱：TOSOH(股)製(以下記載為通過順序)
TSK防護管柱HXL-H
TSK gel GMHXL(×2)
TSK gel G2000HXL
．測定溶劑：四氫呋喃
．測定溫度：40℃
3.光擴散控制薄膜用組成物之調製
其次，添加作為(A)成分之上述式(3)表示之分子量268之丙烯酸鄰-苯基苯氧基乙氧基乙酯(新中村化學(股)製，NK ESTER A-LEN-10)62.5重量份及經合成之作為(B)成分之重量平均分子量9900之聚醚胺基甲酸酯甲基丙烯酸酯37.5重量份、對於(A)成分及(B)成分之合計量=100重量份之作為(C)成分之2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮1.25重量份後，於80℃之條件下進行加熱混合，獲得光擴散控制薄膜用組成物。
又，(A)成分及(B)成分之折射率係使用阿貝折射計(ATAGO(股)製，阿貝折射計DR-M2，Na光源，波長 589nm)，依據JIS K0062測定後，分別為1.58及1.46。
4.塗佈步驟
其次，邊將短邊方向長度1000mm之施以剝離處理之作為步驟薄片之透明聚對苯二甲酸乙二酯捲筒拉出邊於其剝離處理面塗佈所得之光擴散控制薄膜用組成物，形成膜厚60μm之塗佈層。
5.層合步驟
其次，對於塗佈層之露出面側，藉由輥對輥層合所準備之上覆層合薄膜。
其次，如圖5(c)所示，使用中心光線平行度控制於±3°以內之紫外線點平行光源(JATEC(股)製)，將平行度為2°以下之平行光以圖6所示之照射角θx大致成為10°之方式，對塗佈層照射。
此時之峰值照度設為2.00mW/cm2，累積光量設為53.13mJ/cm2，燈高度設為1480mm，塗佈層之移動速度設為1.0m/分鐘。
又，上述峰值照度及累積光量係將安裝有受光器之UV計(EYE GRAPHIC(股)製，EYE紫外線累積照度計UVPF-A1)設置於塗佈層之位置而測定。
又，光擴散控制薄膜之膜厚係使用定壓厚度測定器(寶製作所(股)製，TECLOCK PG-02J)測定。
又，具有所得柱構造之光擴散控制薄膜於與 塗佈層移動方向平行且與薄膜面正交之面切斷之剖面相片示於圖8(a)。
又，膜厚方向之柱構造之長度為60μm，其傾斜角為7°。
且，光擴散控制薄膜之切斷係使用剃刀進行，剖面照片之拍攝係使用keyence製，數位顯微鏡VHX-1000藉由反射觀察而進行。
6.評價
(1)變角濁度之測定
測定所得光擴散控制薄膜之變角濁度。
亦即自所得步驟薄片/光擴散控制薄膜/上覆層合薄膜層合體之任意部位，切出沿長邊方向之短條狀試驗片(120mm寬)，使用東洋精機製作所(股)製，Haze Gard Plus測定變角濁度(%)。
此時，將積分球開口與光擴散控制薄膜之距離設為62mm，參考光之入射點設為試驗片之光擴散控制薄膜之短邊方向之中心點。
又，如圖9(a)所示，參考光係自試驗片之步驟薄片側入射，且使參考光之入射角度沿光擴散控制薄膜之長邊方向變化進行測定。所得結果示於圖9(b)之特性曲線A。
該圖9(b)係以橫軸作為參考光之入射角度(°)，縱軸作為變角濁度(%)之入射角度-變角濁度圖表。又，自圖9(b)算出濁度70%以上之入射角度區域之幅度，並示於表1。
因此，由特性曲線A，可確認光擴散程度隨入射角度而異之性質，亦即入射角度依存性(特性曲線B：實施例2，特性曲線C：比較例1亦同)。
(2)直進透過光強度P.T之測定
測定所得光擴散控制薄膜之直進透過光強度。
亦即，沿與變角濁度測定所用者同樣之試驗片之短邊方向1000mm，每50mm共20部位作為測定點，使用SUGA試驗機(股)製，變角測色計VC-2，測定直進透過光強度P.T(%)。
此時，如圖10(a)所示，對於試驗片之步驟薄片側，自光擴散控制薄膜之柱狀物傾斜方向相反向傾斜60°之方向入射光而測定。所得結果示於圖10(b)之特性曲線A。
該圖10(b)係橫軸為光擴散控制薄膜之短邊方向的位置(mm)，縱軸為直進透過光強度(%)之短邊方向位置-直進透過光強度圖表。
又，由所得測定值，算出直進透過光強度P.T之中央值(%)及以式(1)表示之偏差((P.Tmax-P.Tmin)/(P.Tmax+P.Tmin)×100)(%)。所得結果示於表1。
[實施例2]
實施例2中，除了作為上覆層合薄膜係使用具有表1所示之相位差Re及表面粗糙度之厚度38μm、短邊方向之長度1000mm之雙軸延伸聚對苯二甲酸乙二酯捲筒(以下有時 稱為薄膜B)以外，與實施例1同樣製造層合體並評價。
所得結果分別示於表1、圖8(b)、圖9(b)之特性曲線B及圖10(b)之特性曲線B。
[比較例1]
比較例1中，除了作為上覆層合薄膜係使用具有表1所示之相位差Re及表面粗糙度之厚度75mm、短邊方向之長度1000mm之雙軸延伸聚對苯二甲酸乙二酯捲筒(以下有時稱為「薄膜C」)以外，與實施例1同樣製造層合體並評價。
所得結果分別示於表1、圖8(b)、圖9(b)之特性曲線C及圖10(b)之特性曲線C。
Figure 107109035-A0305-02-0052-5
[產業上之可利用性]
如以上所詳述，依據本發明，藉由將上覆層合薄膜面內之沿特定方向測定之相位差的偏差設為特定範圍內之值，即使於未發生未形成內部構造區域之情況，或發生之情況，均可均一形成內部構造。
其結果，可獲得光擴散特性不管薄膜面內部位為何均為均一的光擴散控制薄膜。
因此，藉由本發明所得之光擴散控制薄膜期待可顯著有助於液晶顯示裝置或投影螢幕等之高品質化。
10a:等向性光擴散控制薄膜
12a:折射率相對較高的柱狀物
14a:折射率相對較低的區域(包含折射率相對較低的板狀區域)
20a’:邊界面
20a:柱構造
52、54:入射光
52’、54’:特定擴散光
56:入射光
56’:透過光

Claims (7)

  1. 一種層合體，其係於源自光擴散控制薄膜用組成物之光擴散控制薄膜之至少一面上層合有上覆層合薄膜之狀態之層合體， 　　其特徵為前述光擴散控制薄膜具有於低折射率區域中具有複數高折射率區域且該高折射率區域沿厚度方向延伸之內部構造，且 　　前述層合體之層合面內，將形成前述光擴散控制薄膜時之移動方向設為長邊方向，將與該長邊方向垂直之方向設為短邊方向，且 　　將沿前述上覆層合薄膜之短邊方向測定之相位差Re(nm)之最大值設為Remax ，最小值設為Remin 時，滿足下述關係式(1)， 　　(Remax -Remin )/(Remax +Remin )×100＜35(%) (1)。
  2. 如請求項1之層合體，其中前述上覆層合薄膜之前述短邊方向之長度為100～10000mm之範圍內之值。
  3. 如請求項1或2之層合體，其中前述上覆層合薄膜之相位差Re之中央值為1000～3000nm之範圍內之值。
  4. 如請求項1或2之層合體，其中前述上覆層合薄膜之膜厚為5～5000μm之範圍內之值。
  5. 如請求項1或2之層合體，其中作為前述光擴散控制薄膜之內部構造，包含於折射率相對低之區域中，於薄膜膜厚方向林立有折射率相對較高之複數柱狀物而成之柱構造。
  6. 如請求項1或2之層合體，其中作為前述光擴散控制薄膜之內部構造，包含於沿薄膜面之任意一方向交替配置折射率不同之複數板狀區域而成之百葉窗構造。
  7. 一種層合體之製造方法，其特徵係如請求項1～6中任一項之層合體之製造方法，且包含下述步驟(a)～(d)， 　　(a)準備包含高折射率活性能量線硬化成分及低折射率活性能量線硬化成分之光擴散控制薄膜用組成物之步驟， 　　(b)對步驟薄片膜狀塗佈前述光擴散控制薄膜用組成物而形成塗佈層之步驟， 　　(c)對於前述塗佈層之露出面層合滿足前述關係式(1)之上覆層合薄膜之步驟， 　　(d)邊使前述塗佈層移動，邊透過前述上覆層合薄膜，對該塗佈層照射活性能量線之步驟。
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013019988A (ja) * 2011-07-08 2013-01-31 Mitsubishi Rayon Co Ltd 光制御フィルム
US8619363B1 (en) * 2007-11-06 2013-12-31 Fusion Optix, Inc. Light redirecting element comprising a forward diffracting region and a scattering region

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4953517B2 (ja) * 2001-05-14 2012-06-13 日東電工株式会社 偏光板の製造方法及び液晶表示装置
JP2003202415A (ja) * 2001-12-28 2003-07-18 Clariant Internatl Ltd 制御された散乱・透過特性を有する光学フィルムおよびそれを用いた液晶表示装置
JP4539191B2 (ja) * 2004-06-23 2010-09-08 凸版印刷株式会社 拡散フィルムの作製方法
JP5146047B2 (ja) * 2008-03-26 2013-02-20 コニカミノルタアドバンストレイヤー株式会社 樹脂フィルムの製造方法
JP2010044319A (ja) * 2008-08-18 2010-02-25 Daicel Chem Ind Ltd 光制御フィルム及びこれを用いたバックライト装置
JP2013539543A (ja) * 2010-06-30 2013-10-24 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 空間選択的な複屈折低減を有するフィルムを使用するマスク加工
WO2012067046A1 (ja) * 2010-11-16 2012-05-24 住友化学株式会社 光拡散フィルム、偏光板および画像表示装置
JP5999992B2 (ja) * 2012-06-15 2016-09-28 リンテック株式会社 光拡散フィルムの製造方法
US10007139B2 (en) * 2014-12-31 2018-06-26 Samsung Sdi Co., Ltd. Liquid crystal display module and liquid crystal display comprising the same
TW201702056A (zh) 2015-03-31 2017-01-16 巴川製紙所股份有限公司 異方性光學膜之製造方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8619363B1 (en) * 2007-11-06 2013-12-31 Fusion Optix, Inc. Light redirecting element comprising a forward diffracting region and a scattering region
JP2013019988A (ja) * 2011-07-08 2013-01-31 Mitsubishi Rayon Co Ltd 光制御フィルム

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