TWI756881B

TWI756881B - 黏晶機之定位系統、黏晶機之定位裝置以及黏晶機置放晶粒方法

Info

Publication number: TWI756881B
Application number: TW109137192A
Authority: TW
Inventors: 石敦智; 語尚林; 林逸倫; 高為翰
Original assignee: 均華精密工業股份有限公司
Priority date: 2020-10-27
Filing date: 2020-10-27
Publication date: 2022-03-01
Also published as: TW202218002A

Abstract

一種黏晶機置放晶粒方法，包括以下步驟：分別配置基板與定位元件於載台的第一面與第二面；分別擷取取放裝置上的晶粒的晶粒影像資訊以及已知特徵資訊的定位影像資訊；比對晶粒的晶粒影像資訊與定位影像資訊。依據定位影像資訊來決定晶粒於基板對應之晶粒位置，藉由取放裝置置放晶粒於基板對應的晶粒位置。此外，一種黏晶機之定位系統與黏晶機之定位裝置亦被提出。

Description

黏晶機之定位系統、黏晶機之定位裝置以及黏晶機置放晶粒方法

本發明是有關於一種定位系統、定位裝置以及置放晶粒方法，特別是一種能高精度佈放晶粒的黏晶機之定位系統、黏晶機之定位裝置以及黏晶機置放晶粒方法。

一般的黏晶製程都是將晶粒透過對位的方法，將晶粒精準的黏著在附有定位標記的載板上，一旦載板上没有定位標記時，則作法則有所不同。現有的黏晶機利用取放單元吸取位於晶粒供應模組之晶粒，載台會先移動一行程並定位，再將晶粒運送至一載台上，使得晶粒與基板進行接合，接著重複下一晶粒。在此重複過程，取放單元僅知道晶粒要置放於基板的位置，對於講究精度的黏晶作業而言，任何載台移動都有可能會降低置放晶粒位置的精度。再者，有業者是利用基板上的現有的晶粒為定位的參考基準，然而，若現有的晶粒置放位置已偏移，而後續以此為基準擺放的晶粒，其位置的誤差將會越來越大。另外，一般常見的作法是在現有基板上進行額外加工對位標記，以提供對位的機制，然而，此舉會在黏晶後的基板上殘存額外對位標記，需要額外加工去除對位標記，徒增產線困惱與產品出貨時程。

據此，如何改良並能提供一種『黏晶機之定位系統、黏晶機之定位裝置以及黏晶機置放晶粒方法』來避免上述所遭遇到的問題，是相關技術領域人士亟待解決之課題。

本發明提供一種黏晶機之定位系統、黏晶機之定位裝置以及黏晶機置放晶粒方法，透過擷取載板背面設置的已知特徵資訊之定位影像資訊，來決定晶粒在基板上的晶粒位置，以提升黏晶時的精準度。

本發明之一實施例提供一種黏晶機之定位系統，適用於複數個晶粒，黏晶機之定位系統包括一載台、一基板、一取放裝置、一定位元件、一晶粒擷取元件、一特徵擷取元件以及一控制單元。載台包括相對的一第一面與一第二面。基板設置於載台的第一面。取放裝置用以將各晶粒置放於基板對應的一晶粒位置。定位元件設置於載台的第二面，定位元件包括複數個已知特徵資訊。晶粒擷取元件用以擷取取放裝置上的各晶粒的一晶粒影像資訊。特徵擷取元件用以擷取各已知特徵資訊的一定位影像資訊。控制單元用以連接載台、取放裝置、晶粒擷取元件與特徵擷取元件，控制單元接收並比對各晶粒的晶粒影像資訊與對應之定位影像資訊，且控制單元依據各定位影像資訊來決定各晶粒對應之晶粒位置，使取放裝置將各晶粒置放於基板對應的晶粒位置。

本發明之另一實施例提供一種黏晶機之定位裝置，適用於置放複數個晶粒的一黏晶機，黏晶機包括一取放裝置與一基板，取放裝置用以將各晶粒置放於基板對應的一晶粒位置，黏晶機之定位裝置包括一載台、一定位元件以及一特徵擷取元件。載台包括相對的一第一面與一第二面，載台的第一面用以設置基板。定位元件設置於載台的第二面，定位元件包括複數個已知特徵資訊，各已知特徵資訊分別對應至晶粒的晶粒位置。特徵擷取元件用以擷取各已知特徵資訊的一定位影像資訊，依據各定位影像資訊，使取放裝置將各晶粒置放於基板對應的晶粒位置。

本發明之又一實施例提供一種黏晶機置放晶粒方法，適用於一黏晶機，黏晶機包括一載台、一取放裝置與一定位元件，載台包括相對的一第一面與一第二面，取放裝置取放各晶粒，黏晶機置放晶粒方法包括以下步驟：分別配置基板與定位元件於載台的第一面與第二面，其中定位元件包括複數個已知特徵資訊；分別擷取取放裝置上的各晶粒的一晶粒影像資訊以及各已知特徵資訊的一定位影像資訊；比對各晶粒的晶粒影像資訊與對應之定位影像資訊。依據各定位影像資訊來決定各晶粒於基板對應之一晶粒位置，藉由取放裝置置放各晶粒於基板對應的晶粒位置。

基於上述，在本發明之黏晶機之定位系統、黏晶機之定位裝置以及黏晶機置放晶粒方法中，是根據擷取配置在載台背面的已知特徵資訊之定位影像資訊，來決定晶粒所欲置放的晶粒位置，藉此提升黏晶時的精準度。

再者，本發明無需在基板上設置定位元件，便可提供晶粒置放的定位機制，故黏晶後的基板無需額外去除定位元件，且本發明的載台背面的已知特徵資訊更可重複利用，提升使用便利性。

另外，由於載台與其上的基板移動時，配置在載台背面的定位元件也會同步移動，使得定位元件與基板之間並未有相對位置的變動，故可確保定位元件上的每個已知特徵資訊相對於基板之位置不會變動，可作為後續晶粒置放黏晶對位的基準。

為讓本發明能更明顯易懂，下文特舉實施例，並配合所附圖式作詳細說明如下。

30:晶粒

50:基板

52:黏晶面

54:設置面

100:黏晶機之定位裝置

110:載台

112:第一面

114:第二面

120:定位元件

122:已知特徵資訊

122A:第一已知特徵資訊

122B:第二已知特徵資訊

130:特徵擷取元件

200:黏晶機之定位系統

210:取放裝置

212:吸取元件

214:旋轉元件

220:晶粒擷取元件

230:控制單元

A1:軸向

C1,C2,C3,C4:物件

G1,G2:移動位置資訊

L1:基板的方向

L2,L3:移動方向

M1:晶粒影像資訊

M2:定位影像資訊

P:晶粒位置

P1:第一晶粒位置

P2:第二晶粒位置

S100:黏晶機置放晶粒方法

S110~S140:步驟

X:第一方向

Y:第二方向

Z:第三方向

第1圖為本發明的黏晶機之定位裝置的示意圖。

第2圖為基板的黏晶面的示意圖。

第3圖為本發明的已知特徵資訊一排列的示意圖。

第4圖為本發明的基板的黏晶面中晶粒位置的示意圖。

第5A圖為本發明的黏晶機之定位系統的示意圖。

第5B圖為本發明的取放裝置一實施例的示意圖。

第6圖為本發明的黏晶機置放晶粒方法的流程圖。

第7A圖為本發明的晶粒影像資訊一實施例的示意圖。

第7B圖為本發明的定位影像資訊一實施例的示意圖。

第7C圖為本發明依據定位影像資訊比對晶粒影像資訊一實施例的示意圖。

第7D圖為本發明置放晶粒於基板對應的晶粒位置一實施例的示意圖。

第8A圖為本發明的晶粒影像資訊另一實施例的示意圖。

第8B圖為本發明的定位影像資訊另一實施例的示意圖。

第8C圖為本發明依據定位影像資訊比對晶粒影像資訊另一實施例的示意圖。

第8D圖為本發明置放晶粒於基板對應的晶粒位置另一實施例的示意圖。

以下結合附圖和實施例，對本發明的具體實施方式作進一步描述。以下實施例僅用於更加清楚地說明本發明的技術方案，而不能以此限制本發明的保護範圍。

為了說明上的便利和明確，圖式中各元件的厚度或尺寸，係以誇張或省略或概略的方式表示，以供熟悉此技藝之人士之瞭解與閱讀，且各元件的尺寸並未完全為其實際的尺寸，並非用以限定本發明可實施之限定條件，故不具技術上之實質意義，任何結構之修飾、比例關係之改變或大小之調整，在不影響本發明所能產生之功效及所能達成之目的下，均應仍落在本案所揭示之技術內容得能涵蓋之範圍內。

第1圖為本發明的黏晶機之定位裝置的示意圖。請參閱第1圖。本實施例的黏晶機之定位裝置100適用於置放多個晶粒的黏晶機。黏晶機之定位裝置100包括一載台110、一定位元件120以及一特徵擷取元件130。載台110包括相對的一第一面112與一第二面114，其中載台110的第一面112可稱為正面，載台110的第二面114可稱為背面。載台110可進行沿第一方向X(如X軸)、第二方向Y(如Y軸)、及繞著第三方向Z(如Z軸)旋轉等。

在本實施例中，載台110的第一面112用以設置基板50，其中基板50具有相對的一黏晶面52與一設置面54，基板50的黏晶面52用以置放晶粒，基板50的設置面54用以固定在載台110之上。本發明不對基板50如何固定在載台110的第一面112的手段加以限制。在一實施例中，載台110內可設置如真空吸附元件(未繪示)來吸附以固定基板50的位置。在另一實施例中，載台110上例如可利用黏貼元件(未繪示)來黏固基板50。此外，如第2圖所示，第2圖為基板50的黏晶面52的示意圖。基板50上的黏晶面52並未有任何標記位置，黏晶面52僅供置放各晶粒之用，換言之，本實施例無需在基板50上設置定位元件(標記、符號)。

請復參閱第1圖，在本實施例中，定位元件120設置於載台110的第二面114，定位元件120包括複數個已知特徵資訊122，每個已知特徵資訊122分別設置於載台110的第二面114的不同位置上。在本實施例中，每個已知特徵資訊122係凸出於載台110的第二面114的凸出物或是刻印或標記。

此外，同時參閱第1圖、第3圖與第4圖，每個已知特徵資訊122分別對應至晶粒在基板50上所欲擺放黏晶的晶粒位置P，換言之，本發明係可依據實際基板50上所欲擺放黏晶的晶粒位置P，設計不同定位元件120上的已知特徵資訊122的形狀與排列方式。舉例而言，如第3圖所示，複數個已知特徵資訊122係為具有特定重複性結構紋路之平面(或凸出物)，且已知特徵資訊122的形狀為一矩形或一長方形。在其他實施例中，已知特徵資訊122可為線條、文字、三角形或十字形或其他有規律的特徵。

在本實施例中，沿著第三方向Z(Z軸)上，定位元件120中的第一已知特徵資訊122A會對應至基板50上的黏晶面52上的第一晶粒位置P1(由於此第一晶粒位置P1並未實際存在，故以虛線表示)；同理，定位元件120中的第二已知特徵資訊122B會對應至基板50上的黏晶面52上的第二晶粒位置P2(由於此第二晶粒位置P2並未實際存在，故以虛線表示)。由於載台110與其上的基板50移動時，配置在載台110背面的定位元件120也會同步移動，使得定位元件120與基板50之間並未有相對位置的變動，故可確保定位元件120上的每個已知特徵資訊122相對於基板50之位置不會變動，可作為後續晶粒置放黏晶對位的基準。

請復參閱第1圖，在本實施例中，特徵擷取元件130位於載台110的下方，即特徵擷取元件130位於載台110的第二面114的下方，特徵擷取元件130用以擷取已知特徵資訊122的定位影像資訊，換言之，本實施例根據擷取配置在載台110背面(第二面114)的已知特徵資訊122之定位影像資訊，來決定每個晶粒在基板50的黏晶面52上所欲置放的晶粒位置，藉此提升黏晶時的精準度。需說明的是，特徵擷取元件130可為電荷耦合元件(CCD，Charge Coupled Device)、互補性氧化金屬半導體(CMOS，Complementary Metal-Oxide Semiconductor)感光元件等影像擷取元件，但不以此為限。

第5A圖為本發明的黏晶機之定位系統的示意圖。請參閱第5A圖。本實施例的黏晶機之定位系統200適用於置放晶粒30於基板50的黏晶面52上，使晶粒30與基板50進行接合。本實施例的黏晶機之定位系統200包括一取放裝置210、一晶粒擷取元件220、控制單元230以及一黏晶機之定位裝置100，其中黏晶機之定位裝置100包括一載台110、一定位元件120以及一特徵擷取元件130，黏晶機之定位裝置100可參考前述第1圖所述，在此不重複贅述。

在本實施例中，取放裝置210用以將每個晶粒30置放於基板50對應的晶粒位置。本實施例之取放裝置210具有一吸取元件212，利用吸取元件212吸附晶粒30。在一實施例中，參酌第5B圖所示，取放裝置210可具有多個吸取元件212以及一旋轉元件214，多個吸取元件212分別設置於旋轉元件214，旋轉元件214可以一軸向A1為中心旋轉，其中軸向A1例如為X軸、Y軸或Z軸。當某一個吸取元件212吸取晶粒30並置放於基板50之後，旋轉元件214以軸向A1為中心旋轉，使另一個已吸取晶粒30的吸取元件212再置放於基板50的不同位置。

請復參閱第5A圖，在本實施例中，晶粒擷取元件220設置於載板110的第一面112的上方，晶粒擷取元件220用以擷取取放裝置210上的各晶粒30的一晶粒影像資訊M1，特徵擷取元件130用以擷取已知特徵資訊122的定位影像資訊M2。需說明的是，特徵擷取元件130與晶粒擷取元件220可為電荷耦合元件(CCD，Charge Coupled Device)、互補性氧化金屬半導體(CMOS，Complementary Metal-Oxide Semiconductor)感光元件等影像擷取元件，但不以此為限。

在本實施例中，控制單元230用以連接載台110、取放裝置210、晶粒擷取元件220與特徵擷取元件130，控制單元230可透過硬體(例如積體電路)、軟體(例如處理器執行之程式指令)或其組合來實現。

在此配置之下，控制單元230可提供每個晶粒30之一移動位置資訊G1於取放裝置210，其中移動位置資訊G2包括沿第一方向X(如X軸)、第二方向Y(如Y軸)、或第三方向Z(如Z軸)旋轉等。在本實施例中，依據移動位置資訊G1，使得取放裝置210先沿著第一方向X與第二方向Y移動，使得晶粒30在基板50的黏晶面52之上。接著，取放裝置210朝基板50的方向(即第三方向Z)移動之前。控制單元230接收並比對晶粒30的晶粒影像資訊M1與對應之定位影像資訊M2，且控制單元230依據定位影像資訊M2來決定晶粒30對應之晶粒位置，換言之，本實施例是根據比對每個晶粒30的晶粒影像資訊M1與對應之定位影像資訊M2，來適時調整載台110與取放裝置210上的晶粒30的相對位置，使取放裝置210能將每個晶粒30精確地置放於基板50的黏晶面52對應的晶粒位置，達到更精確之黏晶作業。在下一個晶粒置放之前，控制單元230提供載台110之一移動位置資訊G2於載台110，以移動載台110。

以下藉由第6圖來說明本發明之黏晶機置放晶粒方法。請同時參閱第1圖至第5B圖。本發明的黏晶機置放晶粒方法S100適用於一黏晶機，黏晶機可參照第5A圖所述的構件。本發明的黏晶機置放晶粒方法S100包括以下步驟S110至步驟S140。首先，進行步驟S110，分別配置基板50與定位元件120於載台110的第一面112與第二面114，其中定位元件120包括複數個已知特徵資訊122。此外，步驟110包括以下步驟：設置各已知特徵資訊122於載台110的第二面114的不同位置上，其中如第4圖，各已知特徵資訊122分別對應至晶粒在基板50上所欲擺放黏晶的晶粒位置P，換言之，本發明係可依據實際基板50上所欲擺放黏晶的晶粒位置P，設計不同定位元件120上的已知特徵資訊122的形狀與排列方式。

接著，進行步驟S120，分別擷取取放裝置210上的晶粒30的一晶粒影像資訊M1以及已知特徵資訊122的定位影像資訊M2。如第5A圖所示，藉由晶粒擷取元件220擷取取放裝置210上的各晶粒的晶粒影像資訊M1，並藉由特徵擷取元件130擷取已知特徵資訊122的定位影像資訊M2。由此可知，特徵擷取元件130僅能擷取定位元件120中對應晶粒位置的已知特徵資訊122，而非擷取定位元件120中所有的已知特徵資訊122，故可藉此提升擷取後影像的解析度，以利後續精確判斷擺放晶粒的晶粒位置。

此外，步驟S120之前，更包括以下步驟：依據每個晶粒30所欲置放於基板50的黏晶面52的位置，控制單元230提供載台110之一移動位置資訊G2於載台110，以移動載台110，其中移動位置資訊G2包括沿第一方向X(如X軸)、第二方向Y(如Y軸)、及可繞著第三方向Z(如Z軸)旋轉等。在本實施例中，依據移動位置資訊G2，使得載台110先沿著第一方向X與第二方向Y移動。接著，依據每個晶粒30所欲置放於基板50的黏晶面52的位置，控制單元230可提供每個晶粒30之一移動位置資訊G1於取放裝置210，其中移動位置資訊G2包括沿第一方向X(如X軸)、第二方向Y(如Y軸)、或第三方向Z(如Z軸)旋轉等。在本實施例中，依據移動位置資訊G1，使得取放裝置210先沿著第一方向X與第二方向Y移動，使得取放裝置210移動晶粒30至的黏晶面52之上。

接著，進行步驟S130，比對各晶粒30的晶粒影像資訊M1與對應之定位影像資訊M2。如第5A圖所示，控制單元230接收並比對晶粒30的晶粒影像資訊M1與對應之定位影像資訊M2。接著，進行步驟S140，依據定位影像資訊M2來決定每個晶粒30於基板50對應之晶粒位置，藉由取放裝置210置放晶粒30於基板50對應的晶粒位置，換言之，本實施例是根據比對每個晶粒30的晶粒影像資訊M1與對應之定位影像資訊M2，來適時調整載台110與取放裝置210上的晶粒30的相對位置，使取放裝置210能將每個晶粒30精確地置放於基板50的黏晶面52對應的晶粒位置，達到更精確之黏晶作業。

詳細而言，上述步驟S130至步驟S140之間，包括以下步驟：偵測各晶粒影像資訊M1是否偏移對應之定位影像資訊M2。如第7A圖所示，晶粒擷取元件220所擷取到的晶粒影像資訊M1，而物件C1係為擷取晶粒30之影像；如第7B圖所示，特徵擷取元件130所擷取到的定位影像資訊M2，而物件C2為擷取已知特徵資訊122之影像，已知特徵資訊122的形狀例如為十字，故物件C2也為十字的影像。控制單元230接收並比對晶粒30的晶粒影像資訊M1與對應之定位影像資訊M2，若控制單元230偵測各晶粒影像資訊M1並未偏移對應之定位影像資訊M2。例如第7C圖所示，以定位影像資訊M2的物件C2(虛線表示)作為比對基準，晶粒影像資訊M1中的物件C1的中心位置若是與物件C2的中心位置重合，則控制單元230偵測晶粒影像資訊M1並未偏移對應之定位影像資訊M2。接著，控制單元230可提供每個晶粒30之一移動位置資訊G1於取放裝置210，藉由取放裝置210朝基板的方向L1(即第三方向Z)置放晶粒30於基板50對應的晶粒位置。

在另一實施例中。如第8A圖所示，晶粒擷取元件220所擷取到的晶粒影像資訊M1，而物件C3係為擷取晶粒30之影像；如第8B圖所示，特徵擷取元件130所擷取到的定位影像資訊M2，而物件C4為擷取已知特徵資訊122之影像，已知特徵資訊122的形狀例如為矩形，故物件C4也為矩形的影像。控制單元230接收並比對晶粒30的晶粒影像資訊M1與對應之定位影像資訊M2，若控制單元230偵測各晶粒影像資訊M1是偏移對應之定位影像資訊M2。

例如第8C圖所示，以定位影像資訊M2的物件C4(虛線表示)作為比對基準，晶粒影像資訊M1中的物件C3的中心位置並未與物件C4的中心位置重合，則控制單元230偵測晶粒影像資訊M1是偏移對應之定位影像資訊M2。若是，控制單元230取得晶粒影像資訊M1與對應之定位影像資訊M2之偏移距離，作為移動位置資訊G1、G2。接著，依據移動位置資訊G1、G2，調整載台110與取放裝置210上的晶粒30的相對位置。由此可知，本實施例係根據比對晶粒30的晶粒影像資訊M1與對應之定位影像資訊M2，來適時調整載台110與取放裝置210上的晶粒30的相對位置，達到更精確之黏晶作業。舉例而言，如第8D圖所示，依據偏移距離，作為移動位置資訊G1，控制單元230提供載台110之移動位置資訊G2於載台110，使載台110沿著一移動方向L2移動，直到定位影像資訊M2之物件C4的中心位置重合於晶粒影像資訊M1的物件C4的中心位置。又或者，依據偏移距離，作為移動位置資訊G2，控制單元230提供每個晶粒30之移動位置資訊G1於取放裝置210，使取放裝置210沿著一移動方向L3(相反於移動方向L2)移動，直到晶粒影像資訊M1的物件C4的中心位置重合於定位影像資訊M2之物件C4的中心位置。

綜上所述，在本發明之黏晶機之定位系統、黏晶機之定位裝置以及黏晶機置放晶粒方法中，是根據擷取配置在載台背面的已知特徵資訊之定位影像資訊，來決定晶粒所欲置放的晶粒位置，藉此提升黏晶時的精準度。

此外，本發明可根據比對各晶粒的晶粒影像資訊與對應之定位影像資訊，來適時調整載台與取放裝置上的晶粒的相對位置，達到更精確之黏晶作業。

另外，本發明並非擷取定位元件中所有的已知特徵資訊，而僅是擷取每個晶粒之晶粒位置對應的一已知特徵資訊，故可藉此提升擷取後影像的解析度，以利後續精確判斷晶粒位置。

雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作些許之更動與潤飾，故本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。

S100:黏晶機置放晶粒方法

S110~S140:步驟

Claims

一種黏晶機之定位系統，適用於複數個晶粒，該黏晶機之定位系統包括：一載台，包括相對的一第一面與一第二面；一基板，設置於該載台的該第一面；一取放裝置，用以將各該晶粒置放於該基板對應的一晶粒位置；一定位元件，設置於該載台的該第二面，該定位元件包括複數個已知特徵資訊；一晶粒擷取元件，用以擷取該取放裝置上的各該晶粒的一晶粒影像資訊；一特徵擷取元件，用以擷取各該已知特徵資訊的一定位影像資訊；以及一控制單元，用以連接該載台、該取放裝置、該晶粒擷取元件與該特徵擷取元件，該控制單元接收並比對各該晶粒的該晶粒影像資訊與對應之該定位影像資訊，且該控制單元依據各該定位影像資訊來決定各該晶粒對應之該晶粒位置，使該取放裝置將各該晶粒置放於該基板對應的該晶粒位置。
如請求項1所述的黏晶機之定位系統，其中各該已知特徵資訊分別設置於該載台的該第二面的不同位置上，且各該已知特徵資訊分別對應至該晶粒的該晶粒位置。
如請求項1所述的黏晶機之定位系統，其中各該已知特徵資訊係凸出於該載台的該第二面的一凸出物或是一刻印、一標記。
如請求項1所述的黏晶機之定位系統，其中各該已知特徵資訊係為線條、文字、矩形、長方形、三角形或十字形或有規律的特徵。
如請求項1所述的黏晶機之定位系統，其中該基板上僅供置放各該晶粒。
一種黏晶機之定位裝置，適用於置放複數個晶粒的一黏晶機，該黏晶機包括一取放裝置與一基板，該取放裝置用以將各該晶粒置放於該基板對應的一晶粒位置，該黏晶機之定位裝置包括：一載台，包括相對的一第一面與一第二面，該載台的該第一面用以設置該基板；一定位元件，設置於該載台的該第二面，該定位元件包括複數個已知特徵資訊，各該已知特徵資訊分別對應至該晶粒的該晶粒位置；以及一特徵擷取元件，用以擷取各該已知特徵資訊的一定位影像資訊，其中依據各該定位影像資訊，使該取放裝置將各該晶粒置放於該基板對應的該晶粒位置。
如請求項6所述的黏晶機之定位裝置，其中各該已知特徵資訊分別設置於該載台的該第二面的不同位置上。
如請求項6所述的黏晶機之定位裝置，其中各該已知特徵資訊係凸出於該載台的該第二面的一凸出物或是一刻印、一標記。
如請求項6所述的黏晶機之定位裝置，其中各該已知特徵資訊係為線條、文字、矩形、長方形、三角形或十字形或有規律的特徵。
一種黏晶機置放晶粒方法，適用於一黏晶機，該黏晶機包括一載台、一取放裝置與一定位元件，該載台包括相對的一第一面與一第二面，該取放裝置取放各該晶粒，該黏晶機置放晶粒方法包括以下步驟：分別配置一基板與該定位元件於該載台的該第一面與該第二面，其中該定位元件包括複數個已知特徵資訊；分別擷取該取放裝置上的各該晶粒的一晶粒影像資訊以及各該已知特徵資訊的一定位影像資訊；比對各該晶粒的該晶粒影像資訊與對應之該定位影像資訊；以及依據各該定位影像資訊來決定各該晶粒於該基板對應之一晶粒位置，藉由該取放裝置置放各該晶粒於該基板對應的該晶粒位置。
如請求項10所述的黏晶機置放晶粒方法，其中所述分別配置該基板與該定位元件於該載台的該第一面與該第二面的步驟，包括以下步驟：設置各該已知特徵資訊於該載台的該第二面的不同位置上，其中各該已知特徵資訊分別對應至該晶粒的該晶粒位置。
如請求項10所述的黏晶機置放晶粒方法，其中所述分別擷取該取放裝置上的各該晶粒的該晶粒影像資訊以及各該已知特徵資訊的該定位影像資訊的步驟之前，包括以下步驟：提供各該晶粒之一移動位置資訊於該取放裝置；以及依據該移動位置資訊，該取放裝置移動各該晶粒至該基板之上。
如請求項10所述的黏晶機置放晶粒方法，其中所述分別擷取該取放裝置上的各該晶粒的該晶粒影像資訊以及各該已知特徵資訊的該定位影像資訊的步驟之前，包括以下步驟：提供該載台之一移動位置資訊於該載台；以及依據該移動位置資訊，移動該載台。
如請求項10所述的黏晶機置放晶粒方法，其中所述比對各該晶粒的該晶粒影像資訊與對應之該定位影像資訊的步驟，包括以下步驟：偵測各該晶粒影像資訊是否偏移對應之該定位影像資訊；若否，藉由該取放裝置朝該基板的方向置放各該晶粒於該基板對應的該晶粒位置；若是，取得各該晶粒影像資訊與對應之該定位影像資訊之一偏移距離，作為一移動位置資訊；以及依據該移動位置資訊，調整該載台與該取放裝置上的該晶粒的相對位置。