TWI755690B - 光學測量裝置、光學測量方法以及光學測量程式 - Google Patents
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Abstract
本發明可以抑制測量精度的下降。光學測量裝置100包括:感測器頭30,聚集由對象物TA反射的反射光;受光部40,構成為多個畫素各自能夠檢測受光量,且針對經聚集的光獲得每個畫素的受光量分佈訊號Srd;以及恢復部51,基於使用受光部40測定的受光部特性訊號Src,自受光量分佈訊號Srd恢復受光量分佈原訊號Srp。
Description
本發明是有關於一種光學測量裝置、光學測量方法以及光學測量程式。
先前,作為光學測量裝置,已知有如下者,即包括:光源,產生具有多個波長成分的照射光;感測器頭,使來自光源的照射光產生軸上色像差,並且接收來自測量對象物的反射光,所述測量對象物的至少一部分配置於光軸的延長線上;受光部,將由感測器頭接收的反射光分離為各波長成分,接收各波長成分的光;導光部,將光源、受光部與感測器頭光學連接;以及處理部,基於受光部的各波長成分的受光量來計算自光學系統至測量對象物為止的距離(參照專利文獻1)。該光學測量裝置於將受光波形的多個波長成分各自的受光量與其受光量的基準值進行比較,受光量相對於基準值的變化量於多個波長成分的任一個中均為預先設定的臨限值以上的情況下,偵測受光波形的異常。
專利文獻1:日本專利特開2017-173159號公報
於專利文獻1所記載的光學測量裝置中,基於由受光部獲得的受光量分佈訊號(波形)的波峰受光量,測量自感測器頭至對象物為止的距離。
然而,於由感測器頭接收的光到達受光部的受光感測器(攝像元件)之前的期間,包含由分光器等器件引起的器件特性波形的成分。其結果,於包含器件特性波形的成分的受光部的受光量分佈波形中,例如有時半值寬度變大,測量精度下降。另外,器件特性於每個光學測量裝置中存在個體差異。
因此,本發明的目的在於提供一種可以抑制測量精度的下降的光學測量裝置、光學測量方法以及光學測量程式。
本發明的一形態的光學測量裝置包括:光學系統,聚集由對象物反射的反射光;受光部,構成為多個畫素各自能夠檢測受光量,且針對經聚集的光獲得每個畫素的受光量分佈訊號;以及恢復部,基於使用受光部測定的受光部特性訊號,自受光量分佈訊號恢復受光量分佈原訊號。
根據該形態,基於使用受光部測定的受光部特性訊號,
自受光量分佈訊號恢復受光量分佈原訊號。此處,本發明的發明者等人發現,於由受光部獲得的受光量分佈訊號中包含受光部特性訊號。另外,本發明的發明者等人發現,藉由預先使用受光部測定受光部特性訊號,可以自由受光部獲得的受光量分佈訊號去除受光部特性訊號。因此,藉由基於使用受光部測定的受光部特性訊號,能夠恢復去除了受光部特性訊號的受光量分佈原訊號。因此,與受光量分佈訊號相比,經恢復的受光量分佈原訊號的半值寬度變小,因此藉由基於該受光量分佈原訊號,可以抑制測量精度的下降。
於所述形態中,亦可為:光學系統使包含多個波長成分的光產生沿著光軸方向的色像差,將產生了色像差的光照射至對象物,受光部構成為針對經聚集的光獲得每個波長成分的受光量分佈訊號。
根據該形態,光學系統使包含多個波長成分的光產生沿著光軸方向的色像差,將產生了色像差的光照射至對象物,受光部構成為針對經聚集的光獲得每個波長成分的受光量分佈訊號。藉此,可以容易地實現抑制測量精度下降的白色共焦點方式的光學測量裝置。
於所述形態中,恢復部亦可進行表示受光部特性訊號的受光部特性函數與表示受光量分佈訊號的受光量函數的反卷積運算,求出表示受光量分佈原訊號的受光量原函數。
根據該形態,進行受光量函數與受光部特性函數的反卷
積運算,求出受光量原函數。如上文所述,受光量分佈訊號於受光量分佈原訊號中合成有受光部特性訊號。即,本發明的發明者等人發現,受光量函數是受光部特性函數與受光量原函數的合成積,即卷積。因此,藉由進行受光量函數與受光部特性函數的反卷積運算,可以求出受光量原函數,從而可以容易地恢復受光量分佈原訊號。
於所述形態中,亦可為:受光部特性函數是使用對受光部分別入射不同波長的光而測定的多個受光部特性訊號中的、基於受光量分佈訊號的波峰受光量的波長成分而選擇的受光部特性訊號而求出。
根據該形態,受光部特性函數是使用對受光部分別入射不同波長的光而測定的多個受光部特性訊號中的、基於受光量分佈訊號的波峰受光量的波長成分而選擇的受光部特性訊號而求出。藉此,可以根據與受光量分佈訊號的波峰受光量的波長成分對應的波長的受光部特性訊號,簡單地求出受光部特性函數。
於所述形態中,亦可為:受光部特性函數是使用對受光部分別入射不同波長的光而測定的多個受光部特性訊號而求出。
根據該形態,受光部特性函數是使用對受光部分別入射不同波長的光而測定的多個受光部特性訊號而求出。藉此,即使於沒有與受光量分佈訊號的波峰受光量的波長成分對應的受光部特性訊號的情況下,亦可以根據前後的波長下的受光部特性訊號進行補充而求出受光部特性函數。
於所述形態中,亦可更包括:儲存部,儲存與受光部特性訊號相關的資訊。
根據該形態,儲存與受光部特性訊號相關的資訊。藉此,可以縮短用於恢復受光量分佈原訊號的響應時間。
於所述形態中,亦可更包括:測量部,基於受光量分佈原訊號,測量自光學測量裝置至對象物為止的距離。
根據該形態,基於受光量分佈原訊號,測量自光學測量裝置至對象物為止的距離。藉此,與基於受光量分佈訊號的距離相比,可以提高所測量的距離的精度。
另外,本發明的另一形態的光學測量方法是包括光學系統與受光部的光學測量裝置的光學測量方法,包括:聚光步驟,藉由光學系統聚集由對象物反射的反射光;受光步驟,藉由構成為多個畫素各自能夠檢測受光量的受光部,針對經聚集的光獲得每個畫素的受光量分佈訊號;以及恢復步驟,基於使用受光部測定的受光部特性訊號,自受光量分佈訊號恢復受光量分佈原訊號。
根據該形態,基於使用受光部測定的受光部特性訊號,自受光量分佈訊號恢復受光量分佈原訊號。此處,本發明的發明者等人發現,於由受光部獲得的受光量分佈訊號中包含受光部特性訊號。另外,本發明的發明者等人發現,藉由預先使用受光部測定受光部特性訊號,可以自由受光部獲得的受光量分佈訊號去除受光部特性訊號。因此,藉由基於使用受光部測定的受光部特性訊號,能夠恢復去除了受光部特性訊號的受光量分佈原訊號。
因此,與受光量分佈訊號相比,經恢復的受光量分佈原訊號的半值寬度變小,因此藉由基於該受光量分佈原訊號,可以抑制測量精度的下降。
於所述形態中,亦可為:光學系統使包含多個波長成分的光產生沿著光軸方向的色像差,將產生了色像差的光照射至對象物,受光部構成為針對經聚集的光,獲得每個波長成分的受光量分佈訊號。
根據該形態,光學系統使包含多個波長成分的光產生沿著光軸方向的色像差,將產生了色像差的光照射至對象物,受光部構成為針對經聚集的光獲得每個波長成分的受光量分佈訊號。藉此,可以容易地實現抑制測量精度下降的白色共焦點方式的光學測量方法。
於所述形態中,恢復步驟亦可包括:進行表示受光部特性訊號的受光部特性函數與表示受光量分佈訊號的受光量函數的反卷積運算,求出表示受光量分佈原訊號的受光量原函數。
根據該形態,進行受光量函數與受光部特性函數的反卷積運算,求出受光量原函數。如上文所述,受光量分佈訊號於受光量分佈原訊號中合成有受光部特性訊號。即,本發明的發明者等人發現,受光量函數是受光部特性函數與受光量原函數的合成積,即卷積。因此,藉由進行受光量函數與受光部特性函數的反卷積運算,可以求出受光量原函數,從而可以容易地恢復受光量分佈原訊號。
於所述形態中,亦可為:受光部特性函數是使用對受光部分別入射不同波長的光而獲得的多個受光部特性訊號中的、基於受光量分佈訊號的波峰受光量的波長成分而選擇的受光部特性訊號而求出。
根據該形態,受光部特性函數是使用對受光部分別入射不同波長的光而測定的多個受光部特性訊號中的、基於受光量分佈訊號的波峰受光量的波長成分而選擇的受光部特性訊號而求出。藉此,可以根據與受光量分佈訊號的波峰受光量的波長成分對應的波長的受光部特性訊號,簡單地求出受光部特性函數。
於所述形態中,亦可為:受光部特性函數是使用對受光部分別入射不同波長的光而獲得的多個受光部特性訊號而求出。
根據該形態,受光部特性函數是使用對受光部分別入射不同波長的光而測定的多個受光部特性訊號而求出。藉此,即使於沒有與受光量分佈訊號的波峰受光量的波長成分對應的受光部特性訊號的情況下,亦可以根據前後的波長下的受光部特性訊號進行補充而求出受光部特性函數。
於所述形態中,亦可更包括:儲存步驟,將與受光部特性訊號相關的資訊儲存於儲存部。
根據該形態,儲存與受光部特性訊號相關的資訊。藉此,可以縮短用於恢復受光量分佈原訊號的響應時間。
於所述形態中,亦可更包括:測量步驟,基於受光量分佈原訊號,測量自光學測量裝置至對象物為止的距離。
根據該形態,基於受光量分佈原訊號,測量自光學測量裝置至對象物為止的距離。藉此,與基於受光量分佈訊號的距離相比,可以提高所測量的距離的精度。
另外,本發明的另一形態的光學測量程式是由電腦執行的、包括光學系統與受光部的光學測量裝置的光學測量程式,包括:聚光步驟,藉由光學系統聚集由對象物反射的反射光;受光步驟,藉由構成為多個畫素各自能夠檢測受光量的受光部,針對經聚集的光獲得每個畫素的受光量分佈訊號;以及恢復步驟,基於使用受光部測定的受光部特性訊號,自受光量分佈訊號恢復受光量分佈原訊號。
根據該形態,基於使用受光部測定的受光部特性訊號,自受光量分佈訊號恢復受光量分佈原訊號。此處,本發明的發明者等人發現,於由受光部獲得的受光量分佈訊號中包含受光部特性訊號。另外,本發明的發明者等人發現,藉由預先使用受光部測定受光部特性訊號,可以自由受光部獲得的受光量分佈訊號去除受光部特性訊號。因此,藉由基於使用受光部測定的受光部特性訊號,能夠恢復去除了受光部特性訊號的受光量分佈原訊號。因此,與受光量分佈訊號相比,經恢復的受光量分佈原訊號的半值寬度變小,因此藉由基於該受光量分佈原訊號,可以抑制測量精度的下降。
根據本發明,可以抑制測量精度的下降。
10:光源
20:導光部
21:第一纜線
22:第二纜線
23:第三纜線
24:光耦合器
30:感測器頭
31、41:準直透鏡
32:繞射透鏡
33:物鏡
40:受光部
42:分光器
43:調整透鏡
44:受光感測器
45:處理電路
50:控制部
51:恢復部
52:測量部
60:儲存部
70:操作部
80:顯示部
90:控制器
100:光學測量裝置
L1、L2:光
S200:距離測量處理
S201、S202、S203、S204、S205、S206:步驟
Src:受光部特性訊號
Srd:受光量分佈訊號
Srp:受光量分佈原訊號
TA:對象物
Whm:半值寬度
X:受光量原矩陣
Y:受光量矩陣
λ:波長
Λ:受光部特性矩陣
圖1是例示一實施方式的光學測量裝置的概略構成的構成圖。
圖2是例示由圖1所示的受光部獲得的受光量分佈訊號的波形圖。
圖3是例示由受光部獲得的受光量分佈訊號的波形圖。
圖4是例示圖3所示的受光量分佈訊號中所包含的受光部特性訊號的波形圖。
圖5是例示由感測器頭聚集的光的受光量分佈原訊號的波形圖。
圖6是用於說明反卷積的方法的一例的概念圖。
圖7是用於說明受光部特性矩陣的製作方法的一例的概念圖。
圖8是用於說明受光部特性矩陣的製作方法的另一例的概念圖。
圖9是例示一實施方式的光學測量裝置的測量至對象物為止的距離的概略運作的流程圖。
以下,說明本發明的實施方式。於以下的圖式的記載中,對相同或類似的部分以相同或類似的的符號表示。然而,圖式是示意性的。因此,具體的尺寸等應對照以下的說明來判斷。
另外,當然於圖式相互間亦包含彼此的尺寸的關係或比率不同的部分。進而,本發明的技術範圍不應限定性地解釋為該實施方式。
首先,參照圖1對本實施方式的光學測量裝置的構成進行說明。圖1是例示一實施方式的光學測量裝置100的概略構成的構成圖。
如圖1所示,光學測量裝置100包括光源10、導光部20、感測器頭30、受光部40、控制部50、儲存部60、操作部70及顯示部80。光源10、導光部20的一部分、受光部40、控制部50、儲存部60、操作部70以及顯示部80收容於控制器90。
然而,光學測量裝置100的各部並不限定於分為感測器頭30與控制器90而收容的構成。例如,光學測量裝置100的各部亦可分成三個以上而收容。
光學測量裝置100以規定的測量週期來測量自該裝置至對象物TA為止的距離,具體而言,以規定的測量週期來測量自感測器頭30至對象物TA為止的距離。另外,光學測量裝置100亦可以規定的測量週期來測量以某位置為基準的距離的變化、即位移。
光源10構成為發出包含多個波長成分的光。光源10基於自控制部50輸入的控制訊號來運作,例如基於該控制訊號而變更光的光量。
光源10較佳為發出包含多個波長成分的光。於此情況下,光源10例如包含白色發光二極體(Light Emitting Diode,
LED),產生白色光。然而,光源10發出的光只要為包含涵蓋光學測量裝置100所要求的距離範圍的波長範圍的光即可,不限定於白色光。
導光部20用於傳播光。導光部20例如包括第一纜線21、第二纜線22、第三纜線23及光耦合器24。
第一纜線21的一端(圖1中為左端)與光源10光學連接。第二纜線22的一端(圖1中為右端)與感測器頭30光學連接。第三纜線23的一端(圖1中為左端)與受光部40光學連接。第一纜線21的另一端(圖1中為右端)及第三纜線23的另一端(圖1中為右端)與第二纜線22的另一端(圖1中為左端)經由光耦合器24而光學結合。
光耦合器24將自第一纜線21入射的光傳送至第二纜線22,並且將自第二纜線22入射的光分割並分別傳送至第一纜線21及第三纜線23。再者,藉由光耦合器24自第二纜線22傳送至第一纜線21的光於光源10終結。
光耦合器24例如包含熔合延伸型(熔融延伸型)的光耦合器。另一方面,第一纜線21、第二纜線22及第三纜線23分別例如由光纖構成。各光纖可為具有單一的芯(core)的單芯,亦可為具有多個芯的多芯。
感測器頭30構成為經由第二纜線22相對於控制器90裝卸自如。
感測器頭30例如包括準直透鏡31、繞射透鏡32、及物
鏡33。準直透鏡31、繞射透鏡32、以及物鏡33構成為向對象物TA照射光。另外,準直透鏡31、繞射透鏡32、以及物鏡33構成為聚集由對象物TA反射的反射光。再者,本實施方式的感測器頭30相當於本發明的「光學系統」的一例。
準直透鏡31構成為將自第二纜線入射的光轉換為平行光。準直透鏡31包含單一或多個透鏡。另外,準直透鏡31亦用於將入射至感測器頭30的光聚集。
繞射透鏡32構成為使平行光產生沿著光軸方向的色像差。物鏡33構成為將產生了色像差的光聚集並照射至對象物TA。因藉由繞射透鏡32產生軸上色像差,因此自物鏡33照射的光的每個波長於不同距離(位置)具有焦點。
圖1所示的例子中,示出焦點距離相對長的第一波長的光L1、及焦點距離相對短的第二波長的光L2。第一波長的光L1於對象物TA的表面對焦(聚焦),另一方面,第二波長的光L2於對象物TA的近前對焦(聚焦)。
經對象物TA的表面反射的光經由物鏡33及繞射透鏡32而由準直透鏡31聚集,入射至第二纜線22。反射光中的第一波長的光L1於成為共焦點的第二纜線22的端面對焦,其大部分入射至第二纜線22。另一方面,其他波長於第二纜線22的端面並未對焦,不入射至第二纜線22。入射至第二纜線22的反射光藉由光耦合器24而其一部分傳送至第三纜線23,射出至受光部40。
於第二纜線22為光纖的情況下,其芯相當於針孔(pin
hole)。因此,藉由減小光纖的芯徑,而將反射光聚集的針孔變小,可以穩定地檢測於對象物TA的表面對焦的波長的光。
受光部40構成為針對由感測器頭30聚集的光獲得後述的受光量分佈訊號。由感測器頭30聚集的光例如為由對象物TA反射的反射光。受光部40例如包括準直透鏡41、分光器(繞射光柵)42、調整透鏡43、受光感測器44及處理電路45。
準直透鏡41構成為將自第三纜線23出射的光轉換為平行光。分光器42構成為將該平行光按每個波長成分進行分光(分離)。調整透鏡43構成為調整經分光的各波長的光的點徑。
受光感測器44構成為針對經分光的光而能夠對每個波長成分檢測受光量。受光感測器44包含多個受光元件。各受光元件與分光器42的分光方向對應地一維排列。藉此,各受光元件與經分光的各波長成分的光對應地配置,受光感測器44能夠對每個波長成分檢測受光量。
受光感測器44的一個受光元件對應於一個畫素。因此,受光感測器44亦可謂構成為多個畫素各自能夠檢測受光量。再者,各受光元件不限定於一維排列的情況,亦可二維排列。各受光元件例如較佳為於包含分光器42的分光方向的檢測面上二維排列。
各受光元件基於自處理電路45輸入的控制訊號,根據於規定的曝光時間的期間接收的光的受光量而蓄積電荷。而且,各受光元件基於自處理電路45輸入的控制訊號,於曝光時間以
外、即非曝光時間的期間,輸出與所蓄積的電荷相應的電訊號。藉此,於曝光時間接收的受光量轉換為電訊號。
處理電路45構成為控制受光感測器44所進行的受光。另外,對於處理電路45而言,構成為對自受光感測器44的各受光元件輸入的電訊號進行用以輸出至控制部50的訊號處理。處理電路45例如包含放大電路及類比-數位(Analog-to-Digital,A/D)轉換電路。放大電路將自各受光元件輸入的電訊號以規定的增益分別放大。而且,A/D轉換電路對經放大的各受光元件的電訊號進行採樣(sampling)、量化(quantization)及編碼(coding),轉換為數位訊號。如此,各受光元件所檢測的受光量轉換為數位值,而獲得每個受光元件、即每個畫素的受光量的分佈訊號(以下簡稱為「受光量分佈訊號」)。處理電路45將該受光量分佈訊號輸出至控制部50。各受光元件的規定的曝光時間、放大電路的規定的增益等可基於控制訊號而變更。
此處,參照圖2對基於受光量分佈訊號的距離的測量進行說明。圖2是例示由圖1所示的受光部40獲得的受光量分佈訊號的波形圖。圖2中,橫軸為畫素(受光感測器44的各受光元件),縱軸為受光量。
如圖2所示,已知受光量分佈訊號通常為高斯(Gauss)分佈(亦稱為正態分佈)。因此,受光量分佈訊號具有某畫素的受光量成為波峰的波形。如上文所述,自感測器頭30至對焦的點為止的距離視波長而不同,因此自受光感測器44獲得的受光量分佈
訊號的波峰受光量的畫素為與自感測器頭30照射並於對象物TA對焦的光的波長對應的畫素。而且,該波長對應於自感測器頭30至對象物TA為止的距離。圖1所示的例子中,於對象物TA的表面對焦的第一波長的光L1作為受光量分佈訊號的波峰受光量的波長而出現。
具體而言,於將受光量分佈訊號的波峰受光量設為100%時,求出50%的受光量的線與受光量分佈訊號的兩個交點的中間點,獲得與該中間點的畫素對應的波長λ。
波長λ與距離的關係(對應)預先儲存於控制部50的記憶體等。測量部52藉由參照該關係,而基於反射光的受光量分佈訊號的波峰的受光量的波長λ來測量自感測器頭30至對象物TA為止的距離。藉此,於反射光的每個波長成分的受光量分佈中,可以抑制波峰以外的波長成分對距離造成的影響,並可以基於於對象物TA對焦的波峰的波長成分來測量距離。因此,可以穩定且高精度地測量自光學測量裝置100至對象物TA為止的距離。
如上所述,受光量分佈訊號的波形是高斯分佈(看作是),因此可以用高斯函數來表示(近似)。另外,已知半值寬度作為表示高斯分佈的擴展程度的指標。於圖2所示的例子中,半值寬度Whm是受光量的波峰(最大值)的50%的受光量的線與受光量分佈訊號的兩個交點的長度(寬度),即半值全寬。於以下的說明中,除特別明示的情況以外,半值寬度是指半值全寬。
此處,理想的是,受光量分佈訊號較佳為與於對象物TA
對焦的光的波長對應的畫素成為波峰的脈衝狀的波形。換言之,受光量分佈訊號的半值寬度理想的是大致為零的值。若受光量分佈訊號的半值寬度為大致為零的小值,則例如即使距離稍有不同亦可以正確地測量為不同的測量值等,可謂光學測量裝置100的測量精度高。因此,受光量分佈訊號的半值寬度成為光學測量裝置100的測量精度或測量性能的指標。
然而,實際上,由於各種因素,例如感測器頭30的光學系統的光學性能與分光器的光學性能等,受光量分佈訊號的波形不會成為脈衝狀。因此,如圖2所示,現狀是受光量分佈訊號的半值寬度Whm變大,其分佈變廣。
接下來,參照圖3至圖5,對由受光部40獲得的受光量分佈訊號與受光量分佈原訊號的關係進行說明。圖3是例示由受光部40獲得的受光量分佈訊號Srd的波形圖。圖4是例示圖3所示的受光量分佈訊號中所包含的受光部特性訊號Src的波形圖。圖5是例示由感測器頭30聚集的光的受光量分佈原訊號Srp的波形圖。圖3至圖5中,橫軸為畫素(受光感測器44的各受光元件),縱軸為受光量。另外,圖3至圖5表示檢測玻璃等具有光透過性的對象物TA的表面及背面,測量該對象物TA的厚度的情況的例子。
如圖3所示,於由受光部40獲得的受光量分佈訊號Srd中,於作為透明體的對象物TA的表面對焦的畫素(波長)與於該對象物TA的背面對焦的畫素(波長)此兩處,出現受光量的波峰。
於此情況下,對各波峰受光量求出中間點,測量相對於與各波峰受光量對應的波長的距離之差、即對象物TA的厚度。
然而,於相對於兩個受光量波峰的各高斯分佈中,半值寬度的值大的情況下,如圖3所示,兩個高斯分佈不分離,無法獲得相對於各波峰受光量的所述中間點。因此,有時無法根據受光部40的受光量分佈訊號Srd測量對象物TA的厚度。
此處,本發明的發明者等人發現,於由受光部40獲得的受光量分佈訊號Srd中包含受光部特性訊號Src。受光部特性訊號Src是如下的訊號(成分),即:於由受光部40具體而言由感測器頭30聚集的光自第三纜線23出射起至入射至受光感測器44的各受光元件的過程中,藉由準直透鏡41、分光器42、調整透鏡43等各器件的特性,合成於受光量分佈原訊號Srp。受光量分佈原訊號Srp是針對由感測器頭30聚集的光,受到由受光部40的特性造成的影響之前的受光量分佈訊號。
於圖3至圖5所示的例子中,於由受光部40獲得的圖3所示的受光量分佈訊號Srd中,於光到達受光感測器44之前的期間,合成有圖4所示的受光部特性訊號Src。如圖5所示,於受光量分佈原訊號Srp中不包含圖4所示的受光部特性訊號Src,因此能夠對各波峰受光量求出所述中間點。因此,可以根據該受光量分佈原訊號Srp測量對象物TA的厚度。
返回至圖1的說明,控制部50構成為控制光學測量裝置100的各部的運作。另外,控制部50構成為藉由執行儲存於儲
存部60的程式等而實現後述的各功能。控制部50例如包含中央處理單元(Central Processing Unit,CPU)、應用專用積體電路(Application Specific Integrated Circuit,ASIC)、現場可程式閘陣列(Field Programmable Gate Array,FPGA)等微處理器及唯讀記憶體(Read Only Memory,ROM)、隨機存取記憶體(Random Access Memory,RAM)、緩衝記憶體(buffer memory)等記憶體。
另外,控制部50例如包括恢復部51及測量部52作為其功能構成。
恢復部51構成為基於使用受光部40測定的、圖4所示的受光部特性訊號Src,自圖3所示的受光量分佈訊號Srd恢復圖5所示的受光量分佈原訊號Srp。如上文所述,於受光量分佈訊號Srd中包含受光部特性訊號Src。此處,發明的發明者等人發現,藉由預先使用受光部40測定受光部特性訊號Src,可以自由受光部40獲得的受光量分佈訊號Srd去除受光部特性訊號Src。因此,藉由基於使用受光部40測定的受光部特性訊號Src,能夠恢復去除了受光部特性訊號Src的受光量分佈原訊號Srp。因此,與受光量分佈訊號Srd相比,經恢復的受光量分佈原訊號Srp的半值寬度變小,因此藉由基於該受光量分佈原訊號Srp,可以抑制測量精度的下降。
更詳細而言,恢復部51構成為進行表示受光部特性訊號Src的受光部特性函數與表示受光量分佈訊號Srd的受光量函數的反卷積運算(以下,亦簡稱為「反卷積」),求出表示受光量分
佈原訊號Srp的受光量原函數。
如上所述,圖3所示的受光量分佈訊號Srd於圖5所示的受光量分佈原訊號Srp中合成有圖4所示的受光部特性訊號Src。即,本發明的發明者等人發現,當將表示受光量分佈訊號Srd的函數設為受光量函數h(x,d),將表示受光量分佈原訊號Srp的函數設為受光量原函數g(x,d),將表示受光部特性訊號Src的函數設為受光部特性函數f(x)時,受光量函數h(x,d)可以由以下的式(1)表示。再者,x是個體識別符,d是自感測器頭30至對象物TA為止的距離。
h(x,d)=f(x)*g(x,d)...(1)
式(1)意指受光量函數h(x,d)是受光部特性函數f(x)與受光量原函數g(x,d)的合成積,即卷積。因此,恢復部51藉由進行受光量函數h(x,d)與受光部特性函數f(x)的反卷積運算,可以求出受光量原函數g(x,d),從而可以容易地恢復受光量分佈原訊號Srp。
此處,參照圖6對用於求出受光量原函數g(x,d)的反卷積進行說明。圖6是用於說明反卷積的方法的一例的概念圖。
於以下的說明中,作為反卷積的方法的一例,使用亞可比(Jacobi)法或者高斯=賽代爾(Seidel)法求出受光量原函數g(x,d)。亞可比法以及高斯=賽代爾法中一般使用矩陣。因此,於使用亞可比法或高斯=賽代爾法進行反卷積的情況下,預先決定以受光量函數h(x,d)的依變數的值為成分的受光量矩陣Y
及以受光部特性函數f(x)的依變數的值為成分的受光部特性矩陣Λ。受光部特性矩陣Λ是將受光量分佈原訊號Srp的波峰受光量配置成對角成分的對角矩陣。再者,關於受光部特性矩陣Λ的詳細將後述。
當將以受光量原函數g(x,d)的依變數的值為成分的矩陣設為受光量原矩陣X時,式(1)變換為以下的式(2)。
Y(x,d)=Λ(x)*X(x,d)...(2)
如圖6所示,當將受光量矩陣Y設為N列(N為2以上的整數)1行的矩陣、將受光部特性矩陣Λ設為N列M行(M為2以上的整數)的矩陣時,應求出的受光量原矩陣X成為N列1行的矩陣。關於該N維的聯立方程式,藉由使用亞可比法或高斯=賽代爾法,可以求出受光量原矩陣X的各成分x1、x2、......、xN的值。再者,受光部特性矩陣Λ的行數M基本上是依賴於分光器42的波長長的值。
此處,參照圖7至圖8對受光部特性矩陣Λ的製作方法進行說明。圖7是用於說明受光部特性矩陣Λ的製作方法的一例的概念圖。圖8是用於說明受光部特性矩陣Λ的製作方法的另一例的概念圖。
為了製作受光部特性矩陣Λ,如圖7所示,預先獲取多個受光部特性訊號Src。多個受光部特性訊號Src是對受光部40分別入射不同波長的光而獲得的受光量分佈訊號。具體而言,受光部40的受光部特性訊號Src中,分光器42的特性占主導地位。
因此,於光學測量裝置100發貨前,於分光器42的檢查裝置中,將單一波長的光入射至分光器42,由受光感測器接收該經分光的光而獲得受光量分佈訊號。藉由對多個,例如波長互相不同的五種光重覆進行此一系列的作業,可以獲取多個受光部特性訊號Src。
最初,對於由受光部40獲得的受光量分佈訊號Srd,求出與波峰受光量對應的畫素,即波長λ。接下來,基於該波長λ,選擇多個受光部特性訊號Src中的一個。例如,選擇多個受光部特性訊號Src中與波峰受光量對應的波長最接近根據受光量分佈訊號Srd求出的波長λ的受光部特性訊號Src。然後,藉由將所選擇的受光部特性訊號Src的波峰受光量配置成對角成分,可以製作受光部特性矩陣Λ。
如此,以受光部特性函數f(x)的依變數的值為成分的受光部特性矩陣Λ是使用對受光部40分別入射不同波長的光而測定的多個受光部特性訊號Src中的、基於受光量分佈訊號Srd的波峰受光量的波長成分而選擇的受光部特性訊號Src而求出。藉此,可以根據與受光量分佈訊號Srd的波峰受光量的波長成分對應的波長λ的受光部特性訊號Src,簡單地求出受光部特性函數f(x)。
或者,亦可與圖7所示的例子同樣地,預先獲取多個受光部特性訊號Src,如圖8所示,使用該些多個受光部特性訊號Src來製作受光部特性矩陣Λ。具體而言,將多個受光部特性訊號Src的波峰受光量各自配置成受光部特性矩陣Λ的對角成分之
一。於圖8所示的例子的情況下,關於獲得多個受光部特性訊號Src時使用的波長之間的波長,需要根據前後的波長下的受光部特性訊號Src進行補充,配置成對角成分。
如此,以受光部特性函數f(x)的依變數的值為成分的受光部特性矩陣Λ亦可使用對受光部40分別入射不同波長的光而測定的多個受光部特性訊號Src而求出。藉此,即使於沒有與受光量分佈訊號Srd的波峰受光量的波長成分對應的受光部特性訊號Src的情況下,亦可以根據前後的波長下的受光部特性訊號Src進行補充而求出受光部特性函數f(x)。
於本實施方式中,作為反卷積的方法,示出了使用亞可比法或高斯=賽代爾法的例子,但並不限定於此。反卷積除了亞可比法或高斯=賽代爾法以外,亦存在各種各樣的方法。本發明只要為使用濾波成分即受光部特性訊號Src恢復原訊號即受光量分佈原訊號Srp的技術思想的方法,就能夠作為反卷積的手段而適用。作為此種方法,例如可以適用使用傅立葉轉換或神經網路的反卷積的方法。
另外,亦可如以下的式(3)所示,事先求出受光部特性矩陣的逆矩陣,藉由求出與受光量分佈訊號的積來恢復受光量原訊號。藉此,可以使受光量分佈原訊號恢復所需的計算高速化。
X=Λ-1*Y...(3)
返回至圖1的說明,測量部52構成為基於受光量分佈原訊號Srp,測量自光學測量裝置100,更準確地說自感測器頭30
至對象物TA為止的距離。藉此,與基於受光量分佈訊號Srd的距離相比,可以提高所測量的距離的精度。
控制部50的各功能能夠藉由由電腦(微處理器)執行的程式來實現。因此,控制部50所具備的各功能能夠藉由硬體、軟體或硬體與軟體的組合來實現,並不限定於任意一種情況。
另外,於控制部50的各功能藉由軟體、或硬體與軟體的組合來實現的情況下,該處理能夠藉由多任務、多執行緒、或多任務與多執行緒此兩者執行,並不限定於任意一種情況。
儲存部60構成為儲存程式或資料等。儲存部60例如包含硬碟驅動器、固態驅動器等。儲存部60預先儲存控制部50執行的各種程式或執行程式所需要的資料等。
另外,儲存部60儲存受光部特性函數f(x)作為與受光部特性訊號Src相關的資訊。儲存部60亦可儲存受光部特性函數f(x)的反函數來代替受光部特性函數f(x),例如亦可儲存圖8所示的例子中製作的受光部特性矩陣Λ、或受光部特性矩陣Λ的逆矩陣。如此,藉由儲存與受光部特性訊號Src相關的資訊,可以縮短用於恢復受光量分佈原訊號Srp的響應時間。
操作部70用於藉由利用者(用戶)的操作而輸入資訊。操作部70例如包含按鈕、開關等。於此情況下,於利用者操作按鈕、開關等時,與操作對應的訊號輸入至控制部50。然後,控制部50生成與該訊號對應的資料,藉此能夠將資訊輸入至光學測量裝置100。
顯示部80用於輸出資訊。詳細而言,顯示部80例如構成為顯示所測量的距離、設定內容、運作狀態、通訊狀態等。顯示部80例如包含多位數的七段顯示器或十一段顯示器、及以多種顏色發光的顯示燈。
接下來,參照圖9對本實施方式的光學測量裝置的運作的一例進行說明。圖9是例示一實施方式的光學測量裝置100的測量至對象物TA為止的距離的概略運作的流程圖。
當藉由例如利用者(用戶)的操作啟動光學測量裝置100時,光學測量裝置100的控制部50執行圖9所示的距離測量處理S200。再者,於以下的說明中,為了簡化說明,儲存部60設為儲存圖8所示的例子中說明的受光部特性矩陣Λ以及相當於受光部特性矩陣Λ的逆矩陣或反函數的資訊作為受光部特性函數f(x)的資訊。另外,藉由記錄每個感測器控制器的特性,可以去除控制器的偏差,恢復感測器頭的原訊號。
如圖9所示,最初,控制部50以規定週期輸出控制訊號,自光源10向對象物TA投射光(S201)。
接下來,控制部50自受光部40獲得由對象物TA反射,並由感測器頭30聚集的光的受光量分佈訊號Srd(S202)。
接下來,恢復部51使用於步驟S202中獲得的受光量分佈訊號Srd,導出表示該受光量分佈訊號Srd的受光量函數h(x,d)(S203)。具體而言,恢復部51根據受光量分佈訊號Srd的各畫素的值(受光量)的一部分或全部決定受光量矩陣Y的各成分,
求出受光量矩陣Y。
接下來,恢復部51自儲存部60讀出圖8所示的受光部特性矩陣Λ作為受光部特性函數f(x)的資訊(S204)。
接下來,恢復部51使用於步驟S203中導出的受光量函數h(x,d)及於步驟S204中讀出的受光部特性函數f(x)的資訊,進行反卷積運算(S205)。藉此,恢復受光量原函數g(x,d)。
具體而言,恢復部51藉由使用受光量矩陣Y及受光部特性矩陣Λ解出多維聯立方程式,而計算受光量原矩陣X。
接下來,測量部52基於作為步驟S205的結果的經恢復的受光量原函數g(x,d),測量自光學測量裝置100至對象物TA為止的距離(S206)。測量部52亦可使步驟S206中測量的距離顯示於顯示部80。
步驟S206之後,控制部50返回至步驟S201,重覆步驟S201至步驟S206的處理,直至例如光學測量裝置100停止為止。
於本實施方式中,示出了光學測量裝置100測量自感測器頭30至對象物TA為止的距離的例子,但並不限定於此。關於光學測量裝置所測量的測量值為亦可測量例如以某位置為基準的距離的變化,即位移。
另外,於本實施方式中,示出了光學測量裝置100以白色共焦點方式測量距離的例子,但並不限定於此。光學測量裝置例如亦可以三角測距方式測量距離。所謂三角測距方式,是不使
用如圖1般的同軸光學系統,而是由不同的光學系統構成自光源照射至對象物的光及由對象物反射的光。例如構成為將自光源出射的雷射光照射至對象物,由受光部測定由對象物反射的雷射光,基於雷射光的光軸與受光部的位置、姿勢關係及由受光部測定的雷射光的入射角度,測量自光學測量裝置至對象物為止的距離。於此情況下,雷射光的入射角度是基於使用受光部測定的受光部分佈訊號而決定。
以上,對本發明的例示性的實施方式進行了說明。根據本發明的一實施方式的光學測量裝置100、光學測量方法以及光學測量程式,基於使用受光部40測定的、圖4所示的受光部特性訊號Src,自圖3所示的受光量分佈訊號Srd恢復圖5所示的受光量分佈原訊號Srp。此處,本發明的發明者等人發現,於由受光部40獲得的受光量分佈訊號Srd中包含受光部特性訊號Src。另外,本發明的發明者等人發現,藉由預先使用受光部40測定受光部特性訊號Src,可以自由受光部40獲得的受光量分佈訊號Srd去除受光部特性訊號Src。因此,藉由基於使用受光部40測定的受光部特性訊號Src,能夠恢復去除了受光部特性訊號Src的受光量分佈原訊號Srp。因此,與受光量分佈訊號Srd相比,經恢復的受光量分佈原訊號Srp的半值寬度變小,因此藉由基於該受光量分佈原訊號Srp,可以抑制測量精度的下降。
以上說明的實施方式是為了使本發明的理解容易,而非用於限定性地解釋本發明。實施方式所包括的各構件及其配置、
材料、條件、形狀以及尺寸等不限定於例示,可以適當變更。另外,能夠將不同實施方式所示的構成彼此局部地置換或組合。
(附記)
1.一種光學測量裝置(100),包括:感測器頭(30),聚集由對象物(TA)反射的反射光;受光部(40),構成為多個畫素各自能夠檢測受光量,且針對經聚集的光獲得每個畫素的受光量分佈訊號(Srd);以及恢復部(51),基於使用受光部(40)測定的受光部特性訊號(Src),自受光量分佈訊號(Srd)恢復受光量分佈原訊號(Srp)。
8.一種光學測量方法,是包括感測器頭(30)與受光部(40)的光學測量裝置(100)的光學測量方法,包括:聚光步驟,藉由感測器頭(30)聚集由對象物(TA)反射的反射光;受光步驟,藉由構成為多個畫素各自能夠檢測受光量的受光部(40),針對經聚集的光獲得每個畫素的受光量分佈訊號(Srd);以及恢復步驟,基於使用受光部(40)測定的受光部特性訊號(Src),自受光量分佈訊號(Srd)恢復受光量分佈原訊號(Srp)。
15.一種光學測量程式,是由電腦執行的、包括感測器頭(30)與受光部(40)的光學測量裝置(100)的光學測量程式,包括:聚光步驟,藉由感測器頭(30)聚集由對象物(TA)反射的反射光;
受光步驟,藉由構成為多個畫素各自能夠檢測受光量的受光部(40),針對經聚集的光獲得每個畫素的受光量分佈訊號(Srd);以及恢復步驟,基於使用受光部(40)測定的受光部特性訊號(Src),自受光量分佈訊號(Srd)恢復受光量分佈原訊號(Srp)。
10:光源
20:導光部
21:第一纜線
22:第二纜線
23:第三纜線
24:光耦合器
30:感測器頭
31、41:準直透鏡
32:繞射透鏡
33:物鏡
40:受光部
42:分光器
43:調整透鏡
44:受光感測器
45:處理電路
50:控制部
51:恢復部
52:測量部
60:儲存部
70:操作部
80:顯示部
90:控制器
100:光學測量裝置
L1、L2:光
TA:對象物
Claims (15)
- 一種光學測量裝置,包括:光學系統,聚集由對象物反射的反射光;受光部,構成為多個畫素各自能夠檢測受光量,且針對所述經聚集的光獲得所述每個畫素的受光量分佈訊號;以及恢復部,基於使用所述受光部測定的受光部特性訊號,自所述受光量分佈訊號恢復具有半值寬度的受光量分佈原訊號。
- 如請求項1所述的光學測量裝置,其中所述光學系統使包含多個波長成分的光產生沿著光軸方向的色像差,將產生了色像差的光照射至所述對象物,所述受光部構成為針對所述經聚集的光獲得所述每個波長成分的所述受光量分佈訊號。
- 如請求項2所述的光學測量裝置,其中所述恢復部進行受光部特性函數與受光量函數的反卷積運算,求出受光量原函數,所述受光部特性函數表示所述受光部特性訊號,所述受光量函數表示所述受光量分佈訊號,所述受光量原函數表示所述受光量分佈原訊號。
- 如請求項3所述的光學測量裝置,其中所述受光部特性函數是使用對所述受光部分別入射不同波長的光而測定的多個所述受光部特性訊號中的、基於所述受光量分佈訊號的波峰受光量的波長成分而選擇的所述受光部特性訊號而求出。
- 如請求項3所述的光學測量裝置,其中所述受光部特性函數是使用對所述受光部分別入射不同波長的光而測定的多個所述受光部特性訊號而求出。
- 如請求項1至請求項5中任一項所述的光學測量裝置,更包括:儲存部,儲存與所述受光部特性訊號相關的資訊。
- 如請求項1至請求項5中任一項所述的光學測量裝置,更包括:測量部,基於所述受光量分佈原訊號,測量自所述光學測量裝置至所述對象物為止的距離。
- 一種光學測量方法,是包括光學系統與受光部的光學測量裝置的光學測量方法,包括:聚光步驟,藉由所述光學系統聚集由對象物反射的反射光;受光步驟,藉由構成為多個畫素各自能夠檢測受光量的所述受光部,針對所述經聚集的光獲得所述每個畫素的受光量分佈訊號;以及恢復步驟,基於使用所述受光部測定的受光部特性訊號,自所述受光量分佈訊號恢復具有半值寬度的受光量分佈原訊號。
- 如請求項8所述的光學測量方法,其中所述光學系統使包含多個波長成分的光產生沿著光軸方向的色像差,將產生了色像差的光照射至所述對象物,所述受光部構成為針對所述經聚集的光獲得所述每個波長成 分的所述受光量分佈訊號。
- 如請求項9所述的光學測量方法,其中所述恢復步驟包括:進行受光部特性函數與受光量函數的反卷積運算,求出,所述受光部特性函數表示所述受光部特性訊號,所述受光量函數表示所述受光量分佈訊號,所述受光量原函數表示所述受光量分佈原訊號。
- 如請求項10所述的光學測量方法,其中所述受光部特性函數是使用對所述受光部分別入射不同波長的光而獲得的多個所述受光部特性訊號中的、基於所述受光量分佈訊號的波峰受光量的波長成分而選擇的所述受光部特性訊號而求出。
- 如請求項10所述的光學測量方法,其中所述受光部特性函數是使用對所述受光部分別入射不同波長的光而獲得的多個所述受光部特性訊號而求出。
- 如請求項8至請求項12中任一項所述的光學測量方法,更包括:儲存步驟,將與所述受光部特性訊號相關的資訊儲存於儲存部。
- 如請求項8至請求項12中任一項所述的光學測量方法,更包括:測量步驟,基於所述受光量分佈原訊號,測量自所述光學測量裝置至所述對象物為止的距離。
- 一種光學測量程式,是由電腦執行的、包括光學系統與受光部的光學測量裝置的光學測量程式,包括:聚光步驟,藉由所述光學系統聚集由對象物反射的反射光;受光步驟,藉由構成為多個畫素各自能夠檢測受光量的所述受光部,針對所述經聚集的光獲得所述每個畫素的受光量分佈訊號;以及恢復步驟,基於使用所述受光部測定的受光部特性訊號,自所述受光量分佈訊號恢復具有半值寬度的受光量分佈原訊號。
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Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102655064B1 (ko) * | 2020-11-05 | 2024-04-09 | 세메스 주식회사 | 거리 측정 시스템 및 거리 측정 방법 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW200643388A (en) * | 2005-03-28 | 2006-12-16 | Omron Tateisi Electronics Co | Spectroscopic polarimetry |
TW201000875A (en) * | 2008-04-14 | 2010-01-01 | Otsuka Denshi Kk | Optical characteristic measurement apparatus and optical characteristic measurement method |
US20120105649A1 (en) * | 2010-11-01 | 2012-05-03 | Canon Kabushiki Kaisha | Adjustment method, adjustment apparatus, method of manufacturing optical system, image pickup apparatus, and method of manufacturing image pickup apparatus |
CN103988046A (zh) * | 2011-09-22 | 2014-08-13 | 欧姆龙株式会社 | 光学计测装置 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB0211068D0 (en) * | 2002-05-14 | 2002-06-26 | Amersham Biosciences Uk Ltd | Method for assessing biofilms |
JP2007304525A (ja) * | 2006-05-15 | 2007-11-22 | Ricoh Co Ltd | 画像入力装置および電子機器および画像入力方法 |
JP2010039323A (ja) * | 2008-08-07 | 2010-02-18 | Nikon Corp | 共焦点顕微鏡 |
JP2011215707A (ja) * | 2010-03-31 | 2011-10-27 | Canon Inc | 画像処理装置、撮像装置、画像処理方法およびプログラム |
JP6131448B2 (ja) * | 2012-12-04 | 2017-05-24 | 三星電子株式会社Samsung Electronics Co.,Ltd. | 共焦点光学式検査装置および共焦点光学式検査方法 |
US9675430B2 (en) * | 2014-08-15 | 2017-06-13 | Align Technology, Inc. | Confocal imaging apparatus with curved focal surface |
JP6485322B2 (ja) * | 2015-10-27 | 2019-03-20 | 三菱電機株式会社 | 画像処理装置及び画像処理方法 |
EP3397949B1 (en) * | 2015-12-31 | 2022-05-18 | Zygo Corporation | Method and apparatus for optimizing the optical performance of interferometers |
WO2019053768A1 (ja) * | 2017-09-12 | 2019-03-21 | 株式会社ニコン | 顕微鏡および観察方法 |
-
2019
- 2019-04-10 JP JP2019075017A patent/JP7296239B2/ja active Active
-
2020
- 2020-02-26 WO PCT/JP2020/007670 patent/WO2020208962A1/ja active Application Filing
- 2020-03-05 TW TW109107158A patent/TWI755690B/zh active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW200643388A (en) * | 2005-03-28 | 2006-12-16 | Omron Tateisi Electronics Co | Spectroscopic polarimetry |
TW201000875A (en) * | 2008-04-14 | 2010-01-01 | Otsuka Denshi Kk | Optical characteristic measurement apparatus and optical characteristic measurement method |
US20120105649A1 (en) * | 2010-11-01 | 2012-05-03 | Canon Kabushiki Kaisha | Adjustment method, adjustment apparatus, method of manufacturing optical system, image pickup apparatus, and method of manufacturing image pickup apparatus |
CN103988046A (zh) * | 2011-09-22 | 2014-08-13 | 欧姆龙株式会社 | 光学计测装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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