TWI754829B - 有機發光二極體封裝結構及其製造方法 - Google Patents

Abstract

本發明揭露一種有機發光二極體封裝結構，藉由設置於第一可撓式基板上方依序設置的有機無機複合阻障層、彈性封裝膠層、設有機發光二極體層的第二可撓式基板以及金屬框，使此封裝結構具有介於0mg/m²-day~2.7x10^-6mg/m²-day之阻水率。本發明亦揭露一種有機發光二極體封裝結構的製造方法，包含使用塗佈法備製有機阻障層，以及使用塗佈法、物理氣相沉積法或濺鍍法備製無機阻障層，並於彈性封裝膠層之外圍框設一金屬薄膜。

Description

有機發光二極體封裝結構及其製造方法

本發明係關於一種有機發光二極體封裝結構及其製造方法，尤指一種封裝可撓式半導體元件之結構及其製造方法。

發光二極體(Light-Emitting Diode,LED)元件乃是半導體世代所廣泛使用之光源，舉凡照明裝置、指示燈、手機或穿戴裝置、顯示器等，發光二極體之使用隨處可見，其中，有機發光二極體(Organic Light-Emitting Diode,OLED)更具有高效率、高彩度及可撓的優點，因此以有機發光二極體作為光源的顯示器，成為備受大眾喜愛的一種顯示器類型。

然而，有機發光二極體之元件極容易受到外來的水氣或其他氣體及有害物質所影響而受潮，或造成老化的現象，成為其使用壽命上極為不利的因素，因此有機發光二極體之封裝技術為本領域極關鍵的一環。

習知之有機發光二極體的封裝結構，均具有難以兼顧阻水率(Water Vapor Transmission Rate,WVTR)以及耐曲折程度之問題，當封裝結構具有良好的阻水率時，其可曲折程度往往不足，而當封裝結構可高度地耐曲折時，其阻水率往往不甚理想。

為解決先前技術中所提及的課題，本發明提供了一種有機發光二極體封裝結構，包含：一第一可撓式基板；一阻障層，設置於該可撓式基板上；一第二可撓式基板，透過一彈性封裝膠層與該阻障層接合；一有機發光二極體層，設置於該第二可撓式基板上；以及一金屬框，框設於該第一可撓式基板、該阻障層、該彈性封裝膠層及該第二可撓式基板之外圍，且該金屬框為一金屬薄膜。

另外，本發明更提供了一種有機發光二極體封裝結構的製造方法，包含：a.於一第一可撓式基板上塗佈一第一有機阻障層；b.於該第一有機阻障層上方使用塗佈法、物理氣相沉積法或濺鍍法備製備製一第一無機阻障層；c.於該第一無機阻障層上塗佈一第二有機阻障層；d.於該第二有機阻障層上方使用塗佈法、物理氣相沉積法或濺鍍法備製備製一第二無機阻障層；e.重複步驟c-d，形成阻水率介於0mg/m²-day~2.7x10^-6mg/m²-day之一阻障層；f.於該阻障層上設置一有機發光二極體層及一第二可撓式基板，且第二可撓式基板透過一彈性封裝膠層與該阻障層接合；以及g.於第一可撓式基板、阻障層及第二可撓式基板之外圍框設一金屬框，形成一有機發光二極體封裝結構。

以上對本發明的簡述，目的在於對本發明之數種面向和技術特徵作一基本說明。發明簡述並非對本發明的詳細表述，因此其目的不在特別列舉本發明的關鍵性或重要元件，也不是用來界定本發明的範圍，僅為以簡明的方式呈現本發明的數種概念而已。

100a:第一可撓式基板

100b:第二可撓式基板

200:有機發光二極體層

300:阻障層

300a:有機阻障層

300b:無機阻障層

400:封裝層

401:彈性封裝膠層

402:金屬框

500:黏著層

500b:黏著層

a-g:步驟

(圖1a)本發明一實施例之有機發光二極體封裝結構示意圖。

(圖1b)本發明另一實施例之有機發光二極體封裝結構示意圖。

(圖2)本發明再一實施例之有機發光二極體封裝結構示意圖。

(圖3)本發明最佳實施例之有機發光二極體封裝結構示意圖。

(圖4)本發明一實施例之封裝層示意圖。

(圖5)本發明一實施例之有機發光二極體封裝結構的俯視圖。

(圖6)本發明一實施例有機發光二極體封裝結構的製作方法流程圖。

為能瞭解本發明的技術特徵及實用功效，並可依照說明書的內容來實施，茲進一步以如圖式所示的較佳實施例，詳細說明如後：

首先，請參照圖1b，圖1b係本發明一實施例之有機發光二極體封裝結構示意圖。如圖1b所示，在本實施例中，有機發光二極體封裝結構包含：一第一可撓式基板100a；一阻障層300設置於該第一可撓式基板100a上方；一有機發光二極體層200，設置於該阻障層300上方；一第二可撓式基板100b，設置於該機發光二極體層200上方；以及一封裝層400，繞設於該第一可撓式基板100a、該阻障層300、該有機發光二極體層200及該第二可撓式基板100b之側面 (或周圍)。其中該封裝層400包含：一包覆該第一可撓式基板100a、該阻障層300、該有機發光二極體層200及該第二可撓式基板100b之彈性封裝膠層401，以及一框設於該彈性封裝膠層401及該第一可撓式基板100a、該第二可撓式基板100b部分表面的一金屬框402，而此金屬框402為一金屬薄膜。

在本實施例中，該阻障層300堆疊於第一可撓式基板100a的上方，且阻障層300為至少一有機阻障層300a與至少一無機阻障層300b之組合，例如阻障層300可包含一層有機阻障層300a與一層無機阻障層300b；舉以圖1的實施例為例，阻障層300為兩層有機阻障層300a與為兩層無機阻障層300b之組合，而阻障層300中有機阻障層300a與無機阻障層300b之數目以及放置位置可視阻障層300之功能性需求做調整，本發明不以此說明為限。

在本實施例中，阻障層300中每個有機阻障層300a與每個無機阻障層300b依次有序交替堆疊。舉以圖1a的實施例為例，阻障層300包含二層有機阻障層300a與兩層無機阻障層300b，且阻障層300依有機阻障層300a、無機阻障層300b、有機阻障層300a、無機阻障層300b之順序依序疊在第一可撓式基板100a上方。而在其他可能的實施例中，阻障層300可包含三層有機阻障層300a與兩層無機阻障層300b，則阻障層300依有機阻障層300a、無機阻障層300b、有機阻障層300a、無機阻障層300b、有機阻障層300a之順序依序疊在第一可撓式基板100a上方。阻障層300之有機阻障層300a與無機阻障層300b之數量以及其交替的順序可依產品的功能性需求而定，亦可選擇將無機阻障層300b放置在第一可撓式基板100a上方作為第一層，再依序堆疊上有機阻障層300a、無機阻障層300b等，本發明不以此說明為限。此外，本發明中所述之有機發光二極體層200可包含銦錫 氧化物層(Indium Tin Oxide,ITO)、陽極電極層、電洞傳輸層(HTL)、發光層(EL)、電子傳輸層(ETL)以及陰極電極層等發光二極體元件結構。

進一步而言，阻障層300及有機發光二極體層200之間還可包含有一黏著層500，該黏著層500的材料可以是光固化黏著劑或是熱固化黏著劑。其中，光固化黏著劑的材料包含丙烯酸酯單體、丙烯酸酯寡聚合物單體或其組合。本實施例中採用丙烯酸酯單體，因丙烯酸酯具有優良的耐候性、透明性、保色性和力學強度，而丙烯酸酯單體可選自二縮三丙二醇二丙烯酸酯(Tripropylene glycol diacrylate,TPGDA)、新戊二醇二丙烯酸酯(Neopropylene glycol diacrylate,NPGDA)、丙氧基化新戊二醇二丙烯酸酯(Propoxylated neopropylene glycol diacrylate,PO-NPGDA)、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(Trimethyloipropane triacrylate,TMPTA)、乙氧基化三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(Ethoxylated trimethyloipropane triacrylate,EO-TMPTA)、丙氧基化三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(Propoxylated trimethyloipropane triacrylate,PO-TMPTA)、丙氧基化甘油三丙烯酸酯(Propoxylated glyceryl triacrylate,GPTA)、二-(三羥甲基丙烷)四丙烯酸酯(Di-trimethyloipropane tetraacrylate,di-TMPTA)、乙氧基化季戊四醇四丙烯酸酯(Ethoxylated pentaerythritol tetraacrylate,EO-PETA)、二季戊四醇六丙烯酸酯(Dipentaerythritol hexaacrylate,DPHA)或其組合；在其他可能的實施例中，亦可選用丙烯酸酯寡聚合物單體作為光固化黏著劑材料，例如：環氧丙烯酸酯(Epoxy acrylate,EA)、聚氨酯丙烯酸酯(Urethane acrylate,PUA)、聚酯丙烯酸酯(Polyester acrylate,PEA)、不飽和聚酯丙烯酸酯(Unsaturated polyester acrylate,UPE)、胺基丙烯酸酯(Amine acrylate)、聚矽氧烷丙烯酸酯(Silicon acrylate)或其組合。

若是以熱固化黏著劑作為黏著層的材料，則可選用熱固化矽膠樹脂，其是利用烤箱加熱或添加硬化劑的方式固化。而本實施例中選用的熱固化矽膠樹脂材料包含甲基矽(Methyl silicon)、苯基矽(Phenyl silicon)或其組合

另外，由圖1a可見，本發明之封裝層400係繞設於該第一可撓式基板100a、該阻障層300、該有機發光二極體層200及該第二可撓式基板100b之外圍，藉以對進行阻水處理後之電子元件進行封裝。而經過阻水處理以及封裝處理後，本發明之有機發光二極體封裝結構可達到阻水率介於0mg/m²-day~2.7x10^-6mg/m²-day之效果。

接續，請參照圖1b，圖1b係本發明另一實施例之有機發光二極體封裝結構示意圖。本實施例與圖1a之實施例的差異在於，在圖1b的有機發光二極體封裝結構中，第二可撓式基板100b及有機發光二極體層200之間還可設置有另一阻障層300，且該阻障層300同樣可為兩層有機阻障層300a與為兩層無機阻障層300b之組合，而阻障層300中有機阻障層300a與無機阻障層300b之數目以及放置位置可視阻障層300之功能性需求做調整，本發明不以此說明為限。

進一步而言，阻障層300及有機發光二極體層200之間還同樣可包含有一黏著層500b，該黏著層500b的材料同樣可以是前述之光固化黏著劑或是熱固化黏著劑。

再者，請參照圖2，圖2係本發明再一實施例之有機發光二極體封裝結構示意圖。如圖2所示，在本實施例中，有機發光二極體封裝結構包含：一第一可撓式基板100a；一阻障層300設置於該第一可撓式基板100a上方；一有機發光二極體層200，設置於該阻障層300上方；一第二可撓式基板100b，設置於該機發光二極體層200上方；以及一封裝層400，繞設於該第一可撓式基板100a、 該阻障層300、該有機發光二極體層200及該第二可撓式基板100b之側面(或周圍)。其中該封裝層400包含：一包覆該第一可撓式基板100a、該阻障層300、該有機發光二極體層200及該第二可撓式基板100b之彈性封裝膠層401，以及一框設於該彈性封裝膠層401及該第一可撓式基板100a、該第二可撓式基板100b部分表面的一金屬框402，而此金屬框402為一金屬薄膜。

本實施例與圖1a之實施例的差別在於，本實施例之阻障層具有三層有機阻障層300a與三層無機阻障層300b，且阻障層300依有機阻障層300a、無機阻障層300b、有機阻障層300a、無機阻障層300b、有機阻障層300a、無機阻障層300b之順序依序疊在可撓式基板100上方。而阻障層300中有機阻障層300a與無機阻障層300b之數目以及放置位置仍可視阻障層300之功能性需求做調整，本發明不以此說明為限。另外，由圖2可見，本發明之封裝層400係繞設於該第一可撓式基板100a、該阻障層300、該有機發光二極體層200及該第二可撓式基板100b之外圍，藉以對進行阻水處理後之電子元件進行封裝。而經過阻水處理以及封裝處理後，本發明之有機發光二極體封裝結構可達到阻水率介於0mg/m²-day~2.7x10^-6mg/m²-day之效果。

在可能的實施例中，阻障層300中每個有機阻障層300a與每個無機阻障層300b依次有序交替堆疊。例如阻障層300包含六層有機阻障層300a與七層無機阻障層300b，這些阻障層300依無機阻障層300b、有機阻障層300a、無機阻障層300b、有機阻障層300a、無機阻障層300b...之順序依序疊在可撓式基板100上方以及四周之外圍。阻障層300之有機阻障層300a與無機阻障層300b之數量以及其交替的順序可依產品的功能性需求而定，亦可選擇將有機阻障層300a放置在第一可撓式基板100a上方及四周作為第一層，再依序在有機阻障層300a的上方 及四周堆疊上無機阻障層300b、有機阻障層300a等其他層阻障層，本發明不以此說明為限。

其他較佳實施例中，至少一有機阻障層300a係選自聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚對二甲苯基、六甲基二矽胺烷、八甲基環四二矽氧烷、聚甲基丙烯酸甲酯、聚乙烯對苯二甲酸酯、聚丙烯、聚丙烯酸酯、聚丙烯氰、含氟有機聚合物、矽酸四乙酯、聚矽氧烷、聚對苯二甲酸丁二醇酯、聚氯乙烯、聚醯胺、乙烯-乙烯醇共聚物、環氧樹脂、環氧化胺及有機矽膠所組成之群體。阻障層300中所包含的每個有機阻障層300a可為不同材質所組成，舉例而言，阻障層300可包含三層有機阻障層300a，依序為聚對二甲苯基、含氟有機聚合物以及環氧樹脂，此三層有機阻障層300a與阻障層300中另包含的三層無機阻障層300b依序交替堆疊。

另一些較佳實施例中，至少一無機阻障層300b係選自三氧化二鋁(Al₂O₃)、二氧化鈦(TiO₂)、二氧化鋯(ZrO₂)、氧化鎂(MgO)、二氧化鉿(HfO₂)、五氧化二鉭(Ta₂O₅)、一氮化矽(SiN)、氮化矽(Si₃N₄)、氮化鋁(AlN)、氮氧化矽(SiNO)、氧化矽(SiO_x)、碳化矽(SiC)及銦錫氧化物(ITO)所組成之群體，其中氧化矽(SiO_x)包含一氧化矽(SiO)、二氧化矽(SiO₂)或其他氧化矽材料。阻障層300中所包含的每個有機阻障層300a與無機阻障層300b可為不同材質所組成，在一最佳實施例中，阻障層300包含三層有機阻障層300a與三層無機阻障層300b交替堆疊，其堆疊方式由下而上依序有機阻障層300a(材質為聚對苯二甲酸乙二酯)、無機阻障層300b(材質為二氧化鈦)、有機阻障層300a(材質為聚矽氧烷)、無機阻障層300b(材質為氮化矽、有機阻障層300a(材質為聚醯胺)以及無機阻障層300b(材質為二氧化矽)。或者，阻障層300可包含五層有機阻障層300a與四層無 機阻障層300b交替堆疊，其堆疊方式由下而上依序為有機阻障層300a(材質為八甲基環四二矽氧烷)、無機阻障層300b(材質為氮化鋁)、有機阻障層300a(材質為六甲基二矽胺烷)、無機阻障層300b(材質為二氧化鋯)、有機阻障層300a(材質為聚乙烯對苯二甲酸酯)、無機阻障層300b(材質為氧化鎂)、有機阻障層300a(材質為乙烯-乙烯醇共聚物)、無機阻障層300b(材質為銦錫氧化物)以及有機阻障層300a(材質為聚氯乙烯)。

進一步而言，阻障層300及有機發光二極體層200之間同樣還可包含有一黏著層500，該黏著層500的材料可以是光固化黏著劑或是熱固化黏著劑。

進一步而言，在前述圖1a、圖1b及圖2的實施例中，該可撓式基板100及/或該彈性封裝膠層401可以選用吸水率介於0%~0.1%，較佳為低於0.05%(介於0%~0.05%)之高分子材料為佳，以維持低濕度為目的。吸水率0.1%以下之高分子材料有，PE聚乙烯(polyethylene,PE)吸水率0.01%以下，聚丙烯(Polypropylene,PP)吸水率0.01-0.03%，聚對苯二甲酸丁二酯(Poly butylene terephthalate,PBT)吸水率0.06至0.08%，聚苯硫醚(Polyphenylene sulfide,PPS)吸水率0.02%，聚四氟乙烯(PTFE)吸水率0.01%以下，碳添加20%之聚碳酸酯(PC)吸水率0.1%，碳添加20%之聚對苯二甲酸丁二醇酯吸水率0.05%或其組合等。其中適於基板材料者尤以，吸水率在0.1%以下，耐藥品性良好，高溫安定性高，且成型收縮率為1%以下，較佳為0.5%以下之PPS(聚硫化苯)，添加碳之PPS，添加碳之PBT，添加碳之聚碳酸酯為特佳。

除此之外，高分子材料還可以是吸水率小於0.01%的環烯烴組合物，如環烯烴共聚物(Cycloolefin copolymer,COC)、環烯烴聚合物(Cycloolefin polymer,COP)或其組合等。高分子材料也可以是吸水率小於0.05%的單一層經 改質的液晶高分子(modified liquid crystal polymer，modified LCP)、聚苯醚樹脂(PPO/PPE)或芳烷型環氧樹脂，本發明不應依此為限。

請參照圖3，圖3係本發明最佳實施例之有機發光二極體封裝結構示意圖。如圖1b所示，在本實施例中，有機發光二極體封裝結構包含：一第一可撓式基板100a；一阻障層300設置於該第一可撓式基板100a上方；一有機發光二極體層200，設置於一第二可撓式基板100b上，且該第二可撓式基板100b透過一彈性封裝膠層401與該阻障層300和該第一可撓式基板100a接合；以及一框設於該彈性封裝膠層401及該第一可撓式基板100a、該第二可撓式基板100b及該阻障層300的一金屬框402，而此金屬框402為一金屬薄膜。

在本實施例中，該阻障層300堆疊於第一可撓式基板100a的上方，且阻障層300為至少一有機阻障層300a與至少一無機阻障層300b之組合，例如阻障層300可包含一層有機阻障層300a與一層無機阻障層300b；舉以圖1的實施例為例，阻障層300為兩層有機阻障層300a與為兩層無機阻障層300b之組合，而阻障層300中有機阻障層300a與無機阻障層300b之數目以及放置位置可視阻障層300之功能性需求做調整，本發明不以此說明為限。

另外，由圖3可見，本實施例之金屬框402係繞設於該第一可撓式基板100a、該阻障層300、該有機發光二極體層200及該第二可撓式基板100b之外圍，藉以對進行阻水處理後之電子元件進行封裝。而經過阻水處理以及封裝處理後，本發明之有機發光二極體封裝結構可達到阻水率介於0mg/m²-day~2.7x10^-6mg/m²-day之效果。

請參照圖4，圖4係本發明一實施例之封裝層示意圖。由圖3可見封裝層400包含一包覆該第一可撓式基板100a、該阻障層300、該有機發光二極體 層200及該第二可撓式基板100b之彈性封裝膠層401，以及一框設於該彈性封裝膠層401及該第一可撓式基板100a、該第二可撓式基板100b部分表面的一金屬框402。此金屬框402設置於彈性封裝膠層401的外側，更包覆住該第一可撓式基板100a、該阻障層300、該有機發光二極體層200及該第二可撓式基板100b的四個側邊；於部分實施例中，此金屬框402為一金屬薄膜並一體地框設於彈性封裝膠層401上方及外圍之四周。當金屬框402為一金屬薄膜時，封裝層400具有最佳的耐曲折程度，並且可提供有機發光二極體封裝結構較佳的保護。另一些較佳實施例中，封裝層400包含彈性封裝膠層401以及一框設於彈性封裝膠層401以及第一可撓式基板100a、第二可撓式基板100b部分表面的金屬框402。此時金屬框402同時包覆住彈性封裝膠層401上方的外圍和彈性封裝膠層401以及阻障層300側邊之四周，此封裝層400結構除可直接保護有機發光二極體層200之外，更可進一步提供阻障層300一額外的保護，間接確保有機發光二極體層200不會受到水氣或有害物質之傷害。

本實施例一較佳的實施樣態中，彈性封裝膠層401係如圖1a、1b、2及3中所示，繞設於有機發光二極體層200之外圍，用以加強阻擋來自四周的水氣與有害物質之效果，此時金屬框402則更進一步地包覆住彈性封裝膠層401以及阻障層300、有機發光二極體層200及第一、第二可撓式基板100a、100b外圍之四周。

請參照圖5，圖5係本發明一實施例之封裝層俯視圖。由圖4可見金屬框402僅部分地包覆住第一、第二可撓式基板100a、100b的外圍，不阻擋光線的路徑，本發明之金屬框402可選用自鋁(Al)、銅(Cu)、鐵(Fe)、錫(Ze)、鎳(Ni)、釩(V)、鈦(Ti)、鋯(Zr)或前述金屬所阻成之合金材料。本發明另一較佳實施例中， 彈性封裝膠層401之彈性係數介於2.0(kPa)-5.0(kPa)，使第一、第二可撓式基板100a、100b與有機發光二極體層200可維持一定的耐曲折程度。彈性封裝膠層401可選用自紫外光(聚合)膠、感壓黏著膠、熱固化黏著膠或其組合物，較佳的，紫外光聚合膠及感壓黏著膠為一軟性膠，並具有前述之彈性係數，此有機發光二極體封裝結構具有阻水率介於0mg/m²-day~2.7x10^-6mg/m²-day以下之效果。

請參照圖6，圖6係本發明一實施例有機發光二極體封裝結構的製作方法流程圖。如圖6所示，本發明之有機發光二極體封裝結構的製造方法包含以下步驟：步驟a，於一第一可撓式基板上塗佈一第一有機阻障層；步驟b，於該第一有機阻障層上方使用塗佈法、物理氣相沉積法或濺鍍法備製備製一第一無機阻障層；步驟c，於該第一無機阻障層上塗佈一第二有機阻障層；步驟d，於該第二有機阻障層上方使用塗佈法、物理氣相沉積法或濺鍍法備製備製一第二無機阻障層；步驟e，重複步驟c-d，形成阻水率介於0mg/m²-day~2.7x10^-6mg/m²-day之一阻障層；步驟f，於第二可撓式基板上設置有機發光二極體層，且第二可撓式基板透過一彈性封裝膠層與該阻障層接合；以及步驟g，於第一可撓式基板、阻障層及第二可撓式基板之外圍框設一金屬框，形成一有機發光二極體封裝結構。

本發明之有機發光二極體封裝結構不僅可達到一較高的阻水率，更可維持發光二極體的可撓性，於封裝的防護作用之外，亦保持封裝後整體結構的彈性與耐曲折程度，為發光二極體的封裝帶來先前技術所無法提供的效用。

惟以上所述者，僅為本發明之較佳實施例而已，當不能以此限定本發明實施之範圍，即依本發明申請專利範圍及說明內容所作之簡單變化與修飾，皆仍屬本發明涵蓋之範圍內。

100a:第一可撓式基板

100b:第二可撓式基板

200:有機發光二極體層

300:阻障層

300a:有機阻障層

300b:無機阻障層

400:封裝層

401:彈性封裝膠層

402:金屬框

Claims (7)

1. 一種有機發光二極體封裝結構，包含：一第一可撓式基板；一阻障層，設置於該可撓式基板上，其中該阻障層為由包含聚對苯二甲酸乙二酯的有機阻障層、包含二氧化鈦的無機阻障層、包含聚矽氧烷的有機阻障層、包含氮化矽的無機阻障層、包含聚醯胺的有機阻障層、和包含二氧化矽的無機阻障層，依序從上而下形成的交互堆疊結構；一第二可撓式基板，透過一彈性封裝膠層與該阻障層接合，其中該彈性封裝膠層之彈性係數介於2.0(kPa)~5.0(kPa)；一有機發光二極體層，形成於該第二可撓式基板上；以及一金屬框，框設於該第一可撓式基板、該阻障層、該彈性封裝膠層及該第二可撓式基板之外圍，且該金屬框為一金屬薄膜。
2. 如請求項1中所述之有機發光二極體封裝結構，其中該彈性封裝膠層為紫外光膠、感壓黏著膠、熱固化膠或其組合。
3. 如請求項1中所述之有機發光二極體封裝結構，其中該有機發光二極體封裝結構之阻水率介於0mg/m²-day~2.7x10^-6mg/m²-day。
4. 如請求項1中所述之有機發光二極體封裝結構，其中該彈性封裝膠層、該第一可撓式基板及該第二可撓式基板為吸水率介於0%~0.1%之高分子材料。
5. 如請求項4中所述之有機發光二極體封裝結構，其中該高分子材料包含聚對苯二甲酸丁二酯(PBT)、聚苯醚(PPE)、聚丙 烯(PP)、液晶高分子聚合物(LCP)、環烯烴共聚物(COC)、環烯烴聚合物(COP)或其組合。
6. 一種有機發光二極體封裝結構的製作方法，包含：a.於一第一可撓式基板上，依序從下而上分別製備形成包含聚對苯二甲酸乙二酯的有機阻障層、包含二氧化鈦的無機阻障層、包含聚矽氧烷的有機阻障層、包含氮化矽的無機阻障層、包含聚醯胺的有機阻障層、以及包含二氧化矽的無機阻障層，於此，已完成該第一可撓式基板上具有交互堆疊結構的該阻障層，其中該阻障層的阻水率係介於0mg/m²-day~2.7x10^-6mg/m²-day之間；b.於一第二可撓式基板上設置一有機發光二極體層，且該第二可撓式基板透過一彈性封裝膠層與該阻障層接合，其中該彈性封裝膠層之彈性係數介於2.0(kPa)~5.0(kPa)；以及c.於該第一可撓式基板、該阻障層及該第二可撓式基板之外圍框設一金屬框，形成一有機發光二極體封裝結構；其中，於步驟a中所使用的製備方法為使用塗佈法、物理氣相沉積法或濺鍍法。
7. 如請求項6中所述之有機發光二極體封裝結構的製作方法，其中該彈性封裝膠層、該第一可撓式基板及該第二可撓式基板為吸水率介於0%~0.05%之高分子材料。

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