TWI751355B - 按摩單元及按摩機 - Google Patents

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TWI751355B TW107124098A TW107124098A TWI751355B TW I751355 B TWI751355 B TW I751355B TW 107124098 A TW107124098 A TW 107124098A TW 107124098 A TW107124098 A TW 107124098A TW I751355 B TWI751355 B TW I751355B
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曽我卓之
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日商富士醫療器股份有限公司
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Abstract

按摩單元係具備有基底構件、施療元件驅動單元、以及滑動機構。前述施療元件驅動單元的下部係安裝於前述基底構件而可繞著第一旋轉軸進行旋動。前述滑動機構的一端係安裝於前述基底構件的下部。前述滑動機構的另一端係安裝於前述施療元件驅動單元。採用下列構造中的至少一者:前述滑動機構的一端安裝於前述基底構件之下部而可繞著第二旋轉軸進行旋動的構造、及前述滑動機構的另一端安裝於前述施療元件驅動單元而可繞著第三旋轉軸進行旋動的構造。

Description

按摩單元及按摩機
本申請案係主張2017年10月27日在日本申請之日本特願2017-208235之優先權,本說明書援用其全內容。
本發明係關於一種具有施療元件的按摩單元及配備有該按摩單元的按摩機。
在日本特開2002-159549號公報揭示有一種可大幅地變更摩擦球的突出量的按摩機。
在日本特開2002-159549號公報的第1圖至第6圖所揭示的第一實施例的按摩機中,隨著沿前後方向延伸的前進後退軸的旋動,使安裝於摩擦球驅動單元殼體的從動螺紋體沿著前進後退軸移動。藉由從動螺紋體,使摩擦球驅動單元殼體朝前後方向進退移動,而使摩擦球朝前後方向前進後退移動。
而且,在日本特開2002-159549號公報中的第7圖至第12圖所揭示的第二實施例的按摩機係於沿著左右寬度方向延伸的前進後退軸安裝有左右一對的小齒輪(pinion gear),且於摩擦球驅動單元殼體的上部安裝有左右一對的圓弧狀的齒條(rack)。隨著前進後退軸的旋動,小齒輪會一面旋動、一面沿著齒條滑動。藉由小齒輪沿著齒條的滑動,使摩擦球驅動單元殼體以昇降軸為中心朝前後方擺動,而使摩擦球朝前後方向前進後退移動。
在日本特開2002-159549號公報的第1圖至第6圖所揭示的第一實施例的按摩機中,若設成可大幅地變更摩擦球的突出量時,在摩擦球驅動單元殼體後退時,從摩擦球驅動單元殼體朝前方突出之前進後退軸的突出部分的長度會變長。因此,若沒有適當地配置摩擦球,則摩擦球因捶打動作而往後方移動時,會有前進後退軸的前端比摩擦球還位於前方的疑慮。
而且,在日本特開2002-159549號公報的第7圖至第12圖所揭示的第二實施例的按摩機中,於摩擦球驅動單元殼體的上部安裝有圓弧狀的齒條,而小齒輪係配置於較圓弧狀的齒條更上方之處。亦即,日本特開2002-159549號公報的第7圖至第12圖所揭示的第二實施例的按摩機,係於摩擦球驅動單元殼體的上方必須具有某程度大小的空間的構造,例如欲將摩擦球的上方向可到達處儘可能地設於上方時,是較不合適的構造。
本發明的目的在於提供一種都不需要沿著前後方向延伸且螺設有從動螺紋體的前進後退軸、以及其安裝位置會在施療元件驅動單元的上部的圓弧狀的齒條的 構成,並且可大幅地變更施療元件的突出量的按摩單元及配備該按摩單元的按摩機。
本說明書所揭示的按摩單元的構成為:具備有基底構件、施療元件驅動單元、以及滑動機構,該施療元件驅動單元係具有施療元件及驅動前述施療元件的驅動部,該滑動機構係可朝沿著大致與左右方向垂直之面的滑動軸方向進行伸縮;其中,前述施療元件驅動單元的下部係安裝於前述基底構件而可繞著沿左右方向延伸的第一旋轉軸進行旋動,而前述滑動機構的一端係安裝於前述基底構件的下部,前述滑動機構的另一端係安裝於前述施療元件驅動單元,關於前述滑動機構的一端及另一端的安裝係採用下列構造中的至少一者:前述滑動機構的一端安裝於前述基底構件的下部而可繞著沿左右方向延伸之第二旋轉軸進行旋動的構造,以及前述滑動機構的另一端安裝於前述施療元件驅動單元而可繞著沿左右方向延伸之第三旋轉軸進行旋動的構造。
本說明書中所揭示的按摩機的構成為:具備有上述構成的按摩單元、支持被施療者之身體的身體支持部、以及沿著前述身體支持部之與前述身體接觸之面延伸的導引軌;其中,前述按摩單元係由前述導引軌引導而在前述身體支持部內進行上昇下降。
根據以下所示的實施形態的說明可更加明瞭本發明之意義或效果。惟以下的實施形態僅是本發明的一個實施形態,本發明或各構成要素的用語意義並不限定於以下之實施形態所記載者。
1、1’‧‧‧按摩單元
2‧‧‧基底構件
2A‧‧‧平板構件
2A1‧‧‧第一延伸部
2A2‧‧‧第二延伸部
2A3‧‧‧第三延伸部
2B‧‧‧ㄈ字狀構件
2B1‧‧‧基部
2B2‧‧‧左壁部
2B3‧‧‧右壁部
3‧‧‧施療元件驅動單元
4‧‧‧軸桿
5、6‧‧‧導引輪
7‧‧‧昇降軸
8‧‧‧昇降用馬達
9、10‧‧‧小齒輪
11‧‧‧滑動機構
11A‧‧‧滑動用馬達
11B‧‧‧控制桿構件
31、32‧‧‧施療元件
33‧‧‧捶打用馬達
34‧‧‧傳動皮帶
35‧‧‧皮帶輪
36‧‧‧捶打用軸桿
36A‧‧‧軸部
36B、36C‧‧‧偏心部
36D、36E‧‧‧突出部
37‧‧‧摩擦用馬達
38‧‧‧支持軸
100‧‧‧按摩機
200‧‧‧座位部
300‧‧‧靠背部
300A‧‧‧面
300B、300C‧‧‧導引軌
400‧‧‧基台部
400A‧‧‧控制部
500‧‧‧臂部施療部
600‧‧‧操作部
700‧‧‧電線
800‧‧‧支架
900‧‧‧腿部承載部
AM1、AM2‧‧‧桿臂
B1、B2、B3、B4‧‧‧軸承部
L‧‧‧距離
R1、R2‧‧‧旋轉傳達部
S1、S2‧‧‧支持部
第1圖係一實施例之按摩機的立體圖。
第2A圖係一實施例之按摩單元的前方立體圖。
第2B圖係一實施例之按摩單元的後方立體圖。
第3圖係一實施例之按摩單元的俯視圖。
第4圖係一實施例之按摩單元的後視圖。
第5圖係一實施例之按摩單元的左側視圖。
第6圖係滑動機構伸長狀態下的一實施例之按摩單元的立體圖。
第7圖係變形例之按摩單元的後方立體部分圖。
第8A圖係變形例之按摩單元的後視圖。
第8B圖係變形例之按摩單元的後視圖。
第8C圖係變形例之按摩單元的後視圖。
以下,一面參照圖式,一面針對本發明之例示性的實施形態詳細說明。
1.按摩機的構成
第1圖係一實施例之按摩機100的立體圖。以下的說明中,將從就座於按摩機100的被施療者觀看之前側(正面側)稱為「前側」,且將從就座於按摩機100的被施療者觀看之後側(背面側)稱為「後側」。此外,將從就座於按摩機100的被施療者觀看之上側(頭側)稱為「上側」,且將從就 座於按摩機100的被施療者觀看之下側(腳側)稱為「下側」。此外,將從就座於按摩機100的被施療者觀看之右側稱為「右側」,且將從就座於按摩機100的被施療者觀看之左側稱為「左側」。
按摩機100係具備有:座位部200、靠背部300、基台部400、臂部施療部500、操作部600、電線700、支架800、及腿部承載部900。
座位部200係支持被施療者的臀部及大腿。
靠背部300係支持被施療者的肩部、腰部、及背部。靠背部300係安裝於座位部200的後端而可繞著沿左右方向延伸的後傾(reclining)旋轉軸進行旋動。靠背部300係內置有沿著與被施療者的肩部及腰部接觸之面300A延伸的導引軌300B及300C。後述的按摩單元1係由導引軌300B及300C引導而在靠背部300內進行上昇下降。另外,亦可將導引軌300B及300C延長至座位部200的後部,而使後述的按摩單元1在座位部200及靠背部300內進行上昇下降。
基台部400係豎立設置於座位部200的左右兩側且為座位部200的下方。設置於座位部200之左側的基台部400的內部係內置有控制部400A。
臂部施療部500係豎立設置於座位部200的左右兩側且為座位部200的上方。臂部施療部500係內置可膨脹收縮的膨脹收縮袋,且藉由該膨脹收縮袋而一面 支持被施療者的臂部一面對該臂部施療。
操作部600係供被施療者進行施療模式的選擇及/或施療的強弱調節等之輸入裝置。操作部600係經由電線700連接於控制部400A。控制部400A係根據從操作部600所輸出的信號來控制按摩機100的各部。
支架800係固定於設置在座位部200的左側的臂部施療部500。操作部600係可對支架800進行裝卸。
腿部承載部900係支持被施療者的小腿。
2.按摩單元的構成
第2A圖係按摩單元1的前方立體圖。第2B圖係按摩單元1的後方立體圖。第3圖係按摩單元1的俯視圖。第4圖係按摩單元1的後視圖。第5圖係按摩單元1的左側視圖。第6圖係滑動機構11伸長狀態下的按摩單元1的立體圖。
按摩單元1係具備有基底構件2。基底構件2係具備有平板構件2A、及ㄈ字狀構件2B。
平板構件2A係具備有:沿著左右方向延伸的第一延伸部2A1、從第一延伸部的左端朝上方延伸的第二延伸部2A2、以及從第一延伸部的右端朝上方延伸的第三延伸部2A3。
ㄈ字狀構件2B係具備有基部2B1、從基部2B1的左端往後方延伸的左壁部2B2、以及從基部2B1的右端往後方延伸的右壁部2B3。基部2B1的前面係固定於 第一延伸部2A1的後面中央。
按摩單元1係更具備有:施療元件驅動單元3、軸桿4、以及導引輪5及6。施療元件驅動單元3的下部係安裝在基底構件2而可繞著屬於沿左右方向延伸之支軸桿4的中心軸的第一旋轉軸進行旋動。軸桿4係由一對的軸承部B1及B2可旋轉地支持。軸桿4的左端係設置有導引輪5,而軸桿4的右端係設置有導引輪6。導引輪5係在按摩單元1的上昇下降時在導引軌300B上滑動,導引輪6係在按摩單元1的上昇下降時在導引軌300C上滑動。針對施療元件驅動單元3的詳細茲如後述。
按摩單元1還具備有:昇降軸7、昇降用馬達8、以及小齒輪9及10。昇降用馬達8係連動地連結於沿左右方向延伸的昇降軸7。昇降用馬達8係藉由旋轉傳達部R1而與昇降軸7連動地連結。旋轉傳達部R1係包含用以變更軸承部及旋轉軸方向的齒輪機構。昇降軸7係由軸承部B3及旋轉傳達部R1內的軸承部可旋轉地支持。昇降用馬達8係令按摩單元1上昇下降的驅動源,並且固定於第二延伸部2A2的背面上部。在昇降軸7的左端設置有小齒輪9,在昇降軸7的右端設置有小齒輪10。小齒輪9係與設置於導引軌300B的齒條嚙合,且小齒輪10係與設置於導引軌300C的齒條嚙合。因此,藉由昇降用馬達8的驅動來使昇降軸7旋轉,從而使按摩單元1沿著導引軌300B及300C上昇下降。昇降軸7係位於比軸桿4更後方且更上方之位置。
按摩單元1還具備有滑動機構11。滑動機構11係包含屬於滑動機構11之軀動源的滑動用馬達11A。滑動機構11係藉由滑動用馬達11A的驅動而朝滑動軸方向伸縮。
滑動機構11的滑動軸方向(長邊方向)係沿著大致與左右方向垂直的面。如第5圖及第6圖所示,滑動機構11之滑動軸方向(長手方向)係因應滑動機構11的伸縮量而變化。
滑動機構11的一端係安裝於基底構件2的下部,而可繞著沿左右方向延伸的第二旋轉軸進行旋動,更詳細而言,滑動機構11的一端係安裝於基底構件2的左壁部2B2及右壁部2B3。
滑動機構11的另一端係安裝於施療元件驅動單元3而可繞著沿左右方向延伸的第三旋轉軸進行旋動。第三旋轉軸係位於比第二旋轉軸更後方且更上方之位置。
藉由滑動機構11的伸長,從而如第6圖所示增大施療元件31及32的突出量(在與左右方向垂直的面中,連結導引輪5及6之旋轉中心與小齒輪9及10之旋轉中心的直線、與施療元件31及32之離該直線最遠離之部位的距離L)。亦即,藉由滑動機構11的伸縮,可大幅地變更施療元件31及32的突出量。
而且,不需要螺設有沿前後方向延伸的從動螺紋體的前進後退軸。因此,在按摩單元1中,只要適當地配置摩擦球(施療元件31及32),則因捶打動作摩擦球往後移動時,不會有前進後退軸的前端位於較摩擦球(施療元件31及32)更前方的疑慮。
而且,按摩單元1不需要其安裝位置會在施療元件驅動單元的上部的圓弧狀的齒條。因此,按摩單元1不需要在施療元件驅動單元3的上方確保用來配置圓弧狀的齒條及與該圓弧狀的齒條嚙合的小齒輪。亦即,按摩單元1係適用於欲將施療元件31及32之上方向可到達處儘可能地設於上方的情形。
滑動機構11還包含:直接檢測滑動機構11之伸縮量的感測器(未圖示)。就直接感測滑動機構11之伸縮量的感測器而言,例如可採用複數個接觸感測器,該複數個接觸感測器係在長邊方向依預定間隔配置在滑動機構11的控制桿構件11B的外周部分。根據感測到接觸之接觸感測器、與未感測到接觸之接觸感測器的交界,來直接感測滑動機構11的伸縮量。亦可根據滑動用馬達11A的旋轉量而間接地感測滑動機構11的伸縮量,惟間接性感測的感測誤差會變大,故以直接感測為佳。
控制部400A係根據直接感測滑動機構11的伸縮量之感測器(未圖示)的感測結果來控制滑動用馬達11A,俾使滑動機構11的伸縮量與所設定者一致。藉此,控制部400A可精確度佳地控制施療元件31及32的突出量。
最後,針對施療元件驅動單元3的詳細加以說明。施療元件驅動單元3係具備有:左右一對的施療元件31及32、藉由使施療元件31及32朝前後方向擺動而使施療元件31及32進行捶打作動的捶打機構、以及藉由使施療元件31及32偏心旋動而使施療元件31及32進行摩擦作動的摩擦機構。
捶打機構係包含:捶打用馬達33、傳動皮帶34、皮帶輪35、及捶打用軸桿36。捶打用軸桿36係包含:朝左右方向延伸的軸部36A;中心軸以在偏離軸部36A之中心軸的位置關係的方式安裝於軸部36A的偏心部36B及36C;從偏心部36B的外周部分朝軸部36A的直徑方向突出的突出部36D;以及從偏心部36C的外周部分朝軸部36A的直徑方向突出的突出部36E。當驅動捶打用馬達33時,藉由傳動皮帶34及皮帶輪35來對捶打用軸桿36施加驅動力,並使捶打用軸桿36旋轉。隨著捶打用軸桿36的旋轉,突出部36D會使桿臂AM1朝上下擺動,且突出部36E會使桿臂AM2朝上下擺動。軸部36A與偏心部36B及36C亦可為一體構成的零件,或軸部36A與偏心部36B及36C亦可為各自獨立的零件。
桿臂AM1係支持施療元件31,桿臂AM2係支持施療元件32。施療元件31係安裝於桿臂AM1的前端,施療元件32係安裝於桿臂AM2的前端。
摩擦機構係包含摩擦用馬達37、支持軸38、及偏心旋動體。支持軸38係通過設置於桿臂AM1之後部的貫通孔及設置於桿臂AM2之後部的貫通孔,並朝左右方向延伸。偏心旋動體係在支持軸38的左右方向中心固定於 支持軸38。當驅動摩擦用馬達37時,支持軸38會旋轉,且固定於支持軸38的偏心旋動體亦會旋轉。偏心旋動體係使桿臂AM1及AM2分別朝上下、左右、前後擺動。
3.其他
上述實施形態之所有點為例示,可知並非用以限定本發明者,且應理解本發明的技術範圍並非為上述實施形態的說明,而是由申請專利範圍所揭示者,且包括與申請專利範圍相等的意義及屬於申請專利範圍內之所有變更。
例如,在上述實施形態中,茲列舉所謂的椅子式按摩機為例加以說明,惟本發明的按摩單元亦可配備於所謂床型式按摩機等。
此外,在上述實施形態中,滑動機構11的另一端係安裝於施療元件驅動單元3的下方後端,惟只要施療元件驅動單元3的各零件及滑動機構11不相干擾,則亦可在施療元件驅動單元3的下方後端以外的位置安裝滑動機構11的另一端。
此外,在上述實施形態中,滑動機構11的兩端雖可相對於安裝有滑動機構11的零件進行旋動,惟亦可設成:使滑動機構11的一端可相對於基底構件2的下部進行旋動,而使滑動機構11的另一端不可相對於施療元件驅動單元3進行旋動,或相反地亦可設成:使滑動機構11的另一端可相對於施療元件驅動單元3進行旋動,而使滑動機構11的一端不可相對於基底構件2的下部進行旋動。
此外,在上述實施形態中,雖於軸桿4的 兩端設置有導引輪5及6,惟亦可在較軸桿4更後方之處設置導引用軸桿,該導引用軸桿係沿著左右方向延伸而可旋動地安裝在基底構件2,且在上述導引用軸桿設置導引輪5及6。根據該變形例,軸桿4係位於較昇降軸7及上述導引用軸桿更靠前方之處,所以屬於軸桿4之中心軸的第一旋轉軸係成為設置於較昇降軸7及上述導引用軸桿更靠被施療者的身體側之處。藉此,可將施療元件31及32的突出量設為比上述實施形態更大。
此外,與上述實施形態不同,亦可使滑動機構11設為不包括滑動用馬達11A的構成,而使滑動機構11設為包括產生抵抗收縮之抵抗力的阻尼器的構成。根據該變形例,由於阻尼器會隨著被施療者的身體形狀收縮,所以可將施療元件31及32的突出量設為隨著被施療者的身體形狀的設定。
此外,在上述實施形態中,例如可感測滑動馬達11A的馬達轉矩,且根據該馬達轉矩來決定滑動機構11的伸縮量,並將施療元件31及32的突出量設為隨著被施療者的身體形狀的設定。
此外,在上述實施形態中,雖在基底構件2的上部設置昇降軸7,且在基底構件2的下部設置軸桿4,惟亦可與上述實施形態相反地:在基底構件2的下部設置昇降軸7,而在基底構件2的上部設置軸桿4。另外,當於基底構件2的下部設置昇降軸7時,亦於基底構件2的下部設置使昇降軸7旋轉的昇降用馬達8。
此外,上述實施形態中,施療元件驅動單元3及滑動機構11係不可相對於基底構件2朝左右方向移動的構造,惟亦可將施療元件驅動單元3及滑動機構11設為可相對於基底構件2朝左右方向移動的構造。
在此,針對屬於按摩單元之施療元件驅動單元3及滑動機構11可相對於基底構件2朝左右方向移動之構造的一例的按摩單元1’加以說明。
第7圖係按摩單元1’的後方立體部分圖。第8A圖至第8C圖係按摩單元1’的後視圖。第8A圖係按摩單元1’之處於滑動機構未伸長且施療元件驅動單元3及滑動機構11位於中央之狀態的後視圖。第8B圖係按摩單元1’之處於滑動機構伸長且施療元件驅動單元3及滑動機構11位於靠左側之狀態的後視圖。第8C圖係按摩單元1’之處於滑動機構伸長且施療元件驅動單元3及滑動機構11位於靠右側之狀態的後視圖。
以下,針對按摩單元1’與按摩單元1不同的部分加以說明,而省略與按摩單元1相同的部分的說明。
按摩單元1’係具備有取代ㄈ字狀構件2B之滾珠螺桿機構的螺帽構件12。滑動機構11的一端係安裝於螺帽構件12的後端下部而可繞著沿左右方向延伸之第二旋轉軸進行旋動。
於滾珠螺桿機構的螺桿軸13連動地連結有左右方向移動用馬達14。藉由旋轉傳達部R2而於螺桿軸13連動地連結有左右方向移動用馬達14。旋轉傳達部R2係包括改變軸承部及旋轉軸方向用的齒輪機構。螺桿軸13係由軸承部B4及旋轉傳達部R2內的軸承部可旋轉地支持。
軸桿4係貫通螺帽構件12的內部。軸桿4係於施療元件驅動單元3的下部及螺帽構件12朝左右方向移動時作為引導軸並發揮功能。軸桿4的兩端係由一對的支持部S1及S2支持。導引輪5係以可旋動之方式安裝於第二延伸部2A2,且導引輪6係以可旋動之方式安裝於第三延伸部2A3。
由於按摩單元1’的施療元件驅動單元3係可相對於基底構件2朝左右方向移動,所以能夠調整施療元件31及32之位於左右方向的位置。
4.總結
以上說明的按摩單元的構成(第一構成)係具備有基底構件、施療元件驅動單元、以及滑動機構,該施療元件驅動單元係具有施療元件及驅動前述施療元件的驅動部,而該滑動機構係可朝沿大致與左右方向垂直之面的滑動軸方向進行伸縮;其中,前述施療元件驅動單元的下部係安裝於前述基底構件而可繞著沿左右方向延伸之第一旋轉軸進行旋動,而前述滑動機構的一端係安裝於前述基底構件的下部,前述滑動機構的另一端係安裝於前述施療元件驅動單元,關於前述滑動機構的一端及另一端的安裝係採用下列構造中的至少一者:前述滑動機構的一端安裝於前述基 底構件的下部而可繞著沿左右方向延伸之第二旋轉軸進行旋動的構造,及前述滑動機構的另一端安裝於前述施療元件驅動單元而可繞著沿左右方向延伸之第三旋轉軸進行旋動的構造。
在上述的第一構成的按摩單元中,亦可為下述構成(第二構成):具備有昇降軸,該昇降軸係沿著左右方向延伸且與昇降用馬達連動地連結,該昇降用馬達係屬於使前述按摩單元上昇下降的驅動源,前述第一旋轉軸係設置成較前述昇降軸更靠近被施療者之身體側。
在上述第一或第二構成的按摩單元中,亦可為下述構成(第三構成):前述滑動機構係包括屬於前述滑動機構之驅動源的滑動用馬達。
在上述第三構成的按摩單元中,亦可為下述構成(第四構成):前述滑動機構係包括直接檢測出前述滑動機構之伸縮量的感測器。
在上述第一或第二構成的按摩單元中,亦可為下述構成(第五構成):前述滑動機構包括產生抵抗收縮之抵抗力的阻尼器。
在上述第一至第五構成中之任一構成的按摩單元中,亦可為下述構成(第六構成):在前述基底構件的上部配置有昇降用馬達及昇降軸,該昇降用馬達係屬於使前述按摩單元上升下降的驅動源,該昇降軸係沿著左右方向延伸且與前述昇降用馬達連動地連結,而前述施療元件驅動單元及前述滑動機構係可相對於前述基底構件朝左 右方向進行移動;在前述基底構件的下部配置有左右方向移動用馬達,該左右方向移動用馬達係使前述施療元件驅動單元及前述滑動機構相對於前述基底構件朝左右方向移動的驅動源。
在本說明書中所揭示的按摩機的構成(第七構成)係具備有:上述第一至第五構成中之任一構成的按摩單元;支持被施療者之身體的身體支持部;以及沿著與前述身體支持部之前述身體接觸之面延伸的導引軌;其中,前述按摩單元係由前述導引軌引導而在前述身體支持部內進行上昇下降。
1‧‧‧按摩單元
2‧‧‧基底構件
2B3‧‧‧右壁部
3‧‧‧施療元件驅動單元
4‧‧‧軸桿
5、6‧‧‧導引輪
7‧‧‧昇降軸
8‧‧‧昇降用馬達
9、10‧‧‧小齒輪
11‧‧‧滑動機構
11A‧‧‧滑動用馬達
11B‧‧‧控制桿構件
33‧‧‧捶打用馬達
37‧‧‧摩擦用馬達
B1、B2、B3‧‧‧軸承部
R1‧‧‧旋轉傳達部

Claims (7)

  1. 一種按摩單元,係具備有:基底構件;施療元件驅動單元,係具有施療元件、及驅動前述施療元件的驅動部;滑動機構,係可朝沿著大致與左右方向垂直之面的滑動軸方向進行伸縮;其中前述施療元件驅動單元係安裝於前述基底構件而可繞著沿左右方向延伸的第一旋轉軸進行旋動,前述滑動機構的一端係安裝於前述基底構件,前述滑動機構的另一端係安裝於前述施療元件驅動單元;其中關於前述滑動機構的一端及另一端的安裝係採用下列構造中的至少一者:前述滑動機構的一端安裝於前述基底構件而可繞著沿左右方向延伸之第二旋轉軸進行旋動的構造,及前述滑動機構的另一端安裝於前述施療元件驅動單元而可繞著沿左右方向延伸之第三旋轉軸進行旋動的構造;前述基底構件配置有昇降用馬達及昇降軸,該昇降用馬達係屬於使前述按摩單元昇降的驅動源,該昇降軸係沿左右方向延伸且與前述昇降用馬達連動地連結;前述施療元件驅動單元及前述滑動機構可相對於前述基底構件朝左右方向移動; 前述基底構件配置有左右方向移動用馬達,該左右方向移動用馬達係屬於使前述施療元件驅動單元及前述滑動機構相對於前述基底構件朝左右方向移動的驅動源。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之按摩單元,其中,前述滑動機構的一端係以可繞著沿左右方向延伸之第二旋轉軸進行旋動之方式安裝於螺帽構件;並且前述滑動機構的一端係經由沿左右方向延伸且與前述左右方向移動用馬達連動地連結的螺桿軸及前述螺帽構件,安裝於前述基底構件;前述左右方向移動用馬達係配置於前述基底構件,該左右方向移動用馬達係屬於使前述螺桿軸與前述螺帽構件相對地旋轉而使前述施療元件驅動單元及前述滑動機構相對於前述基底構件朝左右方向移動的驅動源。
  3. 如申請專利範圍第1或2項所述之按摩單元,其中,前述施療元件驅動單元的下部係安裝於前述基底構件;前述滑動機構的一端係安裝於前述基底構件的下部;前述昇降軸係配置於前述基底構件的上部;前述左右方向移動用馬達係配置於前述基底構件的下部。
  4. 如申請專利範圍第1或2項所述之按摩單元,其中, 前述第一旋轉軸係設置成比前述昇降軸更靠近被施療者的身體側。
  5. 如申請專利範圍第1或2項所述之按摩單元,其中,前述滑動機構係包括直接檢測出前述滑動機構之伸縮量的感測器。
  6. 如申請專利範圍第1或2項所述之按摩單元,其中,前述滑動機構係包含產生抵抗收縮之抵抗力的阻尼器。
  7. 一種按摩機,係具備有:申請專利範圍第1至6項中任一項所述之按摩單元;身體支持部,係支持被施療者的身體;以及導引軌,係沿著前述身體支持部之與前述身體接觸之面延伸;其中前述按摩單元係由前述導引軌引導而在前述身體支持部內進行上昇下降。
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