TWI745913B

TWI745913B - 系統級測試設備及系統級測試系統

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Publication number: TWI745913B
Application number: TW109111372A
Authority: TW
Inventors: 振龍蔡; 基因羅森塔爾
Original assignee: 美商第一檢測有限公司
Priority date: 2020-04-01
Filing date: 2020-04-01
Publication date: 2021-11-11
Also published as: US20210311107A1; US11226362B2; TW202138811A

Abstract

本發明公開一種系統級測試設備及系統級測試系統。系統級測試設備包含：設備本體、晶片承載裝置及控制裝置。設備本體中的固持機構用以固持系統電路板。晶片承載裝置包含承載電路板，承載電路板設置多個電連接座及多個連接結構。多電連接座與多個連接結構電性連接。當電連接座承載有待測晶片，承載電路板設置於系統電路板上，且多個連接結構與系統電路板的系統連接結構連接時，控制裝置能發出測試訊號以對系統電路板及多個待測晶片進行系統級檢測作業。

Description

系統級測試設備及系統級測試系統

本發明涉及一種測試設備及測試系統，特別是一種系統級測試設備及系統級測試系統。

現有常見的系統級測試(system level test)設備，大多是利用人工的方式，將待測晶片安裝於系統電路板上，並給該待測晶片及待測電路板通電並發送訊號，而後以人工的方式，判斷待測晶片是否正常運作，最後，以人工的方式將待測晶片卸下，並將其置放於相對應的分類區域。

現有的系統級測試廠商，會依據不同的客戶需求，而客製化不同的系統電路板，並依據客戶需求，於該系統電路板上設置不同數量的電連接座(socket)。但此種方式，系統級測試廠商會生產出各式不同的系統電路板，由於不同客戶的系統電路板的電路設計需求不同，因此，不同客戶的系統電路板，大多無法共用，但設置於該系統電路板上的相關電連接座大多是可以共用。系統級測試廠商若是將系統電路板上的電連接座拆下，則需要耗費大量的時間及成本，從而導致整體測試時間冗長及成本提升。若是系統級測試廠商不拆下電連接座重複利用，則會有資源浪費的問題。

本發明的實施例在於提供一種系統級測試設備及系統級測試系統，其用以改善現有相關系統級測試廠商，面對不同客戶的測試需求，需要製作出不同的系統電路板，由於系統電路板上的電連接座大多是銲接固定於系統電路板，因此，對於系統級測試廠商而言，即使不同客戶使用相同的電連接座，系統級測試廠商在製造系統電路板時，仍無法輕易地重複利用那些電連接座。

本發明的其中一個實施例公開一種系統級測試設備，其用以對多個待測晶片進行一系統級檢測作業，系統級測試設備連接一供電設備，系統級測試設備包含：一設備本體、一固持機構、一晶片承載裝置及一控制裝置。設備本體包含至少一容置室。固持機構設置於設備本體，且固持機構位於容置室中，固持機構用以固定一系統電路板。晶片承載裝置能被移動地設置於被固持機構固定的系統電路板的一連接面上，晶片承載裝置包含：一承載電路板、多個電連接座及多個連接結構。承載電路板彼此相反的兩側面分別定義為一第一側面及一第二側面。多個電連接座設置於第一側面；各個電連接座用以承載一個待測晶片。多個連接結構設置於第一側面或第二側面，多個連接結構與多個電連接座電性連通；多個連接結構用以與系統電路板的連接面上設置的多個系統連接結構相連接。控制裝置電性連接晶片承載裝置。其中，當晶片承載裝置設置於容置室中，且晶片承載裝置的至少一個電連接座承載有待測晶片，系統電路板被固持機構固定，且多個連接結構與多個系統連接結構相連接，而供電設備供電給系統級測試設備時，被電連接座承載的待測晶片，將能通過電連接座、多個連接結構、至少一個系統連接結構與系統電路板電性連通，而控制裝置能發出至少一測試訊號至晶片承載裝置，以測試被電連接座承載的待測晶片與系統電路板電性連接後，是否能正常運作。

本發明的其中一個實施例公開一種系統級測試系統，其用以對多個待測晶片進行一系統級檢測作業，系統級測試系統連接一供電設備，系統級測試系統包含：一中央控制裝置、多個系統級測試設備、一晶片安裝設備及一移載設備。各個系統級測試設備電性連接中央控制裝置，各個系統級測試設備包含：一設備本體及一固持機構。設備本體包含至少一容置室。固持機構設置於設備本體，固持機構位於容置室中，固持機構用以固定一系統電路板。各個晶片承載裝置包含：一承載電路板、多個電連接座及多個連接結構。承載電路板彼此相反的兩側面分別定義為一第一側面及一第二側面。多個電連接座設置於第一側面；各個電連接座用以承載一個待測晶片。多個連接結構設置於第一側面或第二側面，多個連接結構與多個電連接座電性連通。多個連接結構用以與系統電路板的一連接面上設置的多個系統連接結構相連接。晶片安裝設備電性連接中央控制裝置，中央控制裝置能控制晶片安裝設備，以將多個待測晶片安裝於多個電連接座。移載設備電性連接中央控制裝置，中央控制裝置能控制移載設備，而使移載設備將其中一個系統電路板移入或移出容置室；中央控制裝置還能控制移載設備，而使移載設備將其中一個晶片承載裝置移入或移出容置室。其中，當晶片承載裝置設置於容置室中，且晶片承載裝置的至少一個電連接座承載有待測晶片，系統電路板被固持機構固定，且多個連接結構與多個系統連接結構相連接，而供電設備供電給系統級測試設備時，被電連接座承載的待測晶片，將能通過電連接座、至少一連接結構、至少一系統連接結構與系統電路板電性連通，而中央控制裝置能發出至少一測試訊號至晶片承載裝置，以測試被電連接座承載的待測晶片與系統電路板電性連接後，是否能正常運作。

綜上所述，本發明的系統級測試設備及系統級測試系統，藉由固持機構、晶片承載裝置等設計，讓使用者可以輕易地更換不同的待測試系統電路板，但可以重複利用相同的電連接座。

請一併參閱圖1及圖2，圖1顯示為本發明的系統級測試設備的示意圖，圖2顯示為本發明的系統級測試設備的方塊示意圖。如圖所示，本發明的系統級測試設備A包含：一設備本體A1、一固持機構A2、一晶片承載裝置A3及一控制裝置A4。系統級測試設備A連接一供電設備B，供電設備B提供系統級測試設備A運作時所需的電力，供電設備B例如是連接市電。本發明的系統級測試設備A是用以對與一系統電路板D連接的多個待測晶片C進行一系統級檢測(System Level Test , SLT)作業，亦即，本發明的系統級測試設備A是用來測試多個待測晶片C與系統電路板D電性連接後，各個待測晶片C是否可以正常運作。

一般來說，一個電子產品在大量組裝生產前，大致會先後通過兩階段測試，第一階段的測試通常是對電子產品的各個積體電路(integrated circuit, IC)單獨進行各項電氣檢測(即為俗稱的ATE測試)；若各積體電路皆通過第一階段的測試後，則會進行第二階段的測試；於第二階段的測試中，相關人員或是機械會將通過第一階段測試的積體電路組裝成電子產品，或者是組裝成近似於電子產品的狀態，而後，對該電子產品通電，以測試積體電路是否可以正常地運作(即為俗稱的SLT測試)；若該電子產品通過第二階段的測試，相關人員才會正式大量地投入生產。本發明的系統級測試設備A的其中一個最主要的功用，就是用來進行上述第二階段(俗稱的SLT測試)的測試作業。

如圖1所示，在具體應用中，設備本體A1可以是包含有多個容置室A10，各個容置室A10彼此間可以是相互連通，或者，各個容置室A10彼此間也可以是不相互連通，於此不加以限制。固持機構A2設置於各個容置室A10中，固持機構A2用來固定一個系統電路板D。在實際應用中，固持機構A2可以是電性連接控制裝置A4，而控制裝置A4可以控制固持機構A2，以使固持機構A2固持設置於容置室A10中的系統電路板D，相對地，控制裝置A4也可以控制固持機構A2不再固持系統電路板D；當固持機構A2不再固持系統電路板D時，系統電路板D將可被相關的機械手臂或是人員，由容置室A10中取出。當然，固持機構A2也可以是手動的機構，而相關人員是利用人工的方式操作固持機構A2，以使固持機構A2固持系統電路板D。

關於固持機構A2的外型、尺寸、固持方式，皆可依據系統電路板D及容置室A10的外型、尺寸等進行設計，於此不加以限制，任何可以使系統電路板D固定於容置室A10中的機構皆屬於本實施例可應用的範圍。在其中一個實施例中，固持機構A2也可以是利用抽氣的方式，使設置於容置室A10中的系統電路板D緊貼於容置室A10的一側壁。

如圖1所示，當固持機構A2將系統電路板D固持於容置室A10中時，系統電路板D的一連接面D1將外露於設備本體A1的容置室A10。系統電路板D於所述連接面D1設置有多個系統連接結構D2，多個所述系統連接結構D2例如是形成於系統電路板D表面的金屬端子。需說明的是，於本案實施例之圖1中所示的系統電路板D僅為示範態樣，在實際應用中，系統電路板D除了設置有多個系統連接結構D2外，還可以是依據需求設置有其他電子零組件，例如各式微處理器、電阻、電容等零件，於此不加以限制。

如圖2所示，控制裝置A4電性連接晶片承載裝置A3，而控制裝置A4可以發出至少一測試訊號A41至晶片承載裝置A3或系統電路板D，以對與系統電路板D相連接的晶片承載裝置A3所承載的多個待測晶片C進行系統級檢測作業。控制裝置A4例如是各式電腦、伺服器等，於此不加以限制。在實際應用中，控制裝置A4還可以控制供電設備B提供電力至晶片承載裝置A3或系統電路板D。

在實際應用中，控制裝置A4可以是透過各式傳輸線、金屬端子、無線等方式，與系統電路板D電性連接，而控制裝置A4據以能通過傳輸線、金屬端子、無線等方式，將測試訊號A41發送至系統電路板D。具體來說，設備本體A1用以承載系統電路板D的位置，可以是設置有金屬端子，而系統電路板D設置於設備本體A1時，系統電路板D相對應的金屬端子，將可與設備本體A1的金屬端子相連接，從而控制裝置A4即可通過設備本體A1的金屬端子及系統電路板D的金屬端子，將測試訊號A41傳至系統電路板D；或者，控制裝置A4可以是連接有一傳輸線，該傳輸線的一端設置有連接頭，而連接頭可以插設於系統電路板D相對應的插座，藉此，控制裝置A4得以通過傳輸線、連接頭及插座，將測試訊號A41傳至系統電路板D。

請一併參閱圖1至圖3，圖3顯示為本發明的晶片承載裝置A3的其中一實施例的示意圖。晶片承載裝置A3包含一承載電路板1、多個電連接座2及多個連接結構3。承載電路板1彼此相反的兩側面分別定義為一第一側面101及一第二側面102。多個電連接座2設置於承載電路板1的第一側面101。多個連接結構3則設置於承載電路板1的第二側面102，且多個連接結構3與多個電連接座2電性連通，各個連接結構3用以與系統電路板D的多個系統連接結構D2相接觸。其中，承載電路板1於其內部還具有一連接線路103，連接線路103用以使多個電連接座2能與多個連接結構3電性連通。在實際應用中，連接線路103及連接結構3可以是由填充於承載電路板1的貫孔中的導電材料所構成，也就是說，承載電路板1具有多個貫孔，各個貫孔貫穿承載電路板1，且各個貫孔中填充有導電材料，而導電材料對應於承載電路板1的第二側面102形成多個連接結構3。於此所指的連接線路103主要是用來使連接結構3與電連接座2電性連通，因此，連接線路103具體的形成方式、具體的外型等皆可依據需求變化，於此不加以限制。

當承載電路板1透過人工或是機械設備的搬移，而設置於被固持機構A2固定的系統電路板D的連接面D1上時，多個連接結構3將可以對應與連接面D1上的多個系統連接結構D2相接觸，而電連接座2承載的待測晶片C(如圖7所示)，將可以通過電連接座2、連接線路103、多個連接結構3及多個系統連接結構D2，與系統電路板D電性連通。

當至少一個電連接座2承載有待測晶片C，承載電路板1設置於被固持機構A2固定的系統電路板D上，而多個連接結構3與多個系統連接結構D2相連接，且供電設備B供電給系統級測試設備A時，電連接座2承載的待測晶片C，將能通過電連接座2、至少一連接結構3、連接線路103、至少一系統連接結構D2與系統電路板D電性連接，而控制裝置A4能發出至少一測試訊號A41至晶片承載裝置A3或系統電路板D，以測試電連接座2承載的待測晶片C，與系統電路板D電性連接後是否能正常運作(即所述系統級測試作業)。

如圖2及圖3所示，在實際應用中，系統級測試設備A還可以包含至少一第一供電構件A5及至少一第二供電構件A6。第一供電構件A5設置於承載電路板1的第一側面101。第二供電構件A6設置於設備本體A1。當系統電路板D被固持機構A2固定於容置室A10中，且承載多個待測晶片C的承載電路板1設置於系統電路板D的連接面D1上時，供電設備B將能通過第二供電構件A6及第一供電構件A5，提供各個待測晶片C及系統電路板D運作時所需的電力。在具體實施中，控制裝置A4可以是包含有用以轉換電壓及調整電流的相關電子零組件，而控制裝置A4可以將供電設備B所提供的電力，轉換為適合系統電路板D及待測晶片C所需的電壓及電流，並通過多個第一供電構件A5及多個第二供電構件A6將電力傳入系統電路板D及待測晶片C。

在實際應用中，各第一供電構件A5可以是包含有多個連接端子，各個連接端子可以是形成於承載電路板1的第一側面101的金屬端子；相對地，各第二供電構件A6同樣是包含有多個金屬端子，且各第二供電構件A6可以是設置於設備本體A1的相關電路板上。關於第一供電構件A5及第二供電構件A6的數量、形式、外型等，皆不以圖3所示為限；多個第一供電構件A5設置於承載電路板1上的位置亦不以圖3所示為限。在不同的實施例中，第一供電構件A5可以是一接收天線，而第二供電構件A6可以是一發射天線，接收天線用以與發射天線相互耦合；供電設備B則能通過第一供電構件A5及第二供電構件A6，以無線的方式提供各個待測晶片C及系統電路板D運作時所需的電力。

如圖3所示，在各個待測晶片C及系統電路板D運作時所需的電力是通過第一供電構件A5及第二供電構件A6提供的實施例中，系統級測試設備A還可以包含一升降裝置A7，控制裝置A4電性連接升降裝置A7，而控制裝置A4能控制升降裝置A7，以使設置於承載電路板1的第一供電構件A5與設置於設備本體A1的第二供電構件A6相互接觸，據以使待測晶片C及系統電路板D取得電力。在具體的應用中，系統電路板D可以是設置於升降裝置A7上，而控制裝置A4控制升降裝置A7作動時，升降裝置A7將可使系統電路板D及承載電路板1一同向第二供電構件A6的方向靠近，直到設置於承載電路板1的第一供電構件A5與第二供電構件A6相接觸。在不同的實施例中，多個第二供電構件A6也可以是連接升降裝置A7，而控制裝置A4能控制升降裝置A7，以使多個第二供電構件A6及其所連接的電路板向設置於系統電路板D上的承載電路板1的多個第一供電構件A5的方向靠近，直到多個第二供電構件A6與多個第一供電構件A5相互接觸。

特別強調的是，在控制裝置A4對電連接座2所承載的待測晶片C進行所述系統級測試作業的過程中，待測晶片C運作所需的電力，也可以是直接通過系統電路板D取得，當然待測晶片C運作時所需的電力的取得方式，可以是依據需求變化。

請一併參閱圖4至圖8，圖4顯示為本發明的系統測試設備的單一個電連接座的其中一實施例的示意圖，圖5顯示為電連接座的剖面分解示意圖，圖6顯示為電連接座未承載待測晶片的剖面示意圖，圖7顯示為電連接座承載有待測晶片的剖面示意圖，圖8顯示為電連接座承載待測晶片且被抵壓裝置抵壓時的剖面示意圖。

如圖4至圖6所示，各個電連接座2包含：多個探針組件20、一電連接座本體21、一升降結構22、一支撐結構23及多個彈性組件24。各探針組件20包含針體201及彈簧202。針體201的一端用以與待測晶片C的接點結構C1(如圖7所示)相連接。彈簧202套設於針體201，且當針體201的一端受壓時，彈簧202將受壓而對應產生彈性回復力，而當針體201不再受壓時，針體201將受彈性回復力作用而回復至未受壓的位置。

電連接座本體21具有一頂壁211、一環側壁212及一抵頂部213。頂壁211具有一開孔21A，環側壁212的一側連接於頂壁211的周緣，環側壁212的另一側用以設置於承載電路板1，頂壁211及環側壁212及承載電路板1共同形成有一容置槽21B。頂壁211彼此相反的兩側面定義為一外側面2111(如圖6所示)及一內側面2112(如圖6所示)。在實際應用中，頂壁211及環側壁212可以是一體成型地設置。

升降結構22包含一基部221及一承載部222。基部221完全地設置於容置槽21B中，基部221向一側延伸形成有承載部222，承載部222的部分能穿設於開孔21A。承載部222向遠離基部221的一側延伸形成有四個限位部223，四個限位部223可以是位於承載部222的四個邊角處，且四個限位部223與承載部222共同形成有一晶片容槽22B，晶片容槽22B用以提供待測晶片C設置，四個限位部223用以與待測晶片C相互卡合。升降結構22還具有多個連接孔22A(如圖5所示)，各個連接孔22A貫穿基部221及承載部222設置。

多個探針組件20的一部分固定設置於支撐結構23中，且多個探針組件20的一端，用以與承載電路板1的電接觸結構104(如圖15所示)相連接。所述電接觸結構104與連接線路103電性連接，電接觸結構104可以是形成於承載電路板1的第一側面101的金屬端子。多個探針組件20的另一端則位於多個連接孔22A中，位於多個連接孔22A中的探針組件20的一端用以與待測晶片C的接點結構C1相連接。

在實際應用中，支撐結構23可以是包含一底座結構231及一輔助結構232。底座結構231設置於容置槽21B中，且底座結構231與電連接座本體21相互固定(例如是配合多個螺絲而與電連接座本體21相互固定)。底座結構231具有多個穿孔2311，而多個探針組件20的一端固定設置於底座結構231的多個穿孔2311中。輔助結構232設置於容置槽21B中，且輔助結構232位於底座結構231及頂壁211之間，輔助結構232與底座結構231相互固定(例如是利用螺絲相互鎖固)。輔助結構232具有多個彼此間隔地設置的支撐孔2321，多個支撐孔2321與底座結構231的多個穿孔2311相互連通，且多個支撐孔2321與多個連接孔22A相對應地設置，而多個連接孔22A、多個支撐孔2321及多個穿孔2311將共同形成有多個探針通道，多個探針組件20則對應設置於多個探針通道中。

如圖6所示，支撐結構23設置於容置槽21B中，彈性組件24設置於支撐結構23及升降結構22之間。彈性組件24能使升降結構22的基部221抵靠頂壁211的內側面2112，並使基部221與支撐結構23之間對應形成有一間隙S。在實際應用中，在電連接座2固定於承載電路板1上，且電連接座2的限位部223未受外力抵壓時，位於升降結構22及支撐結構23之間的四個彈性組件24可以是略為被壓縮，而彈性組件24被壓縮所對應產生的彈性回復力，將使升降結構22穩固地抵靠於頂壁211的內側面2112。

如圖7所示，當待測晶片C固定設置於晶片容槽22B中，且升降結構22未被抵壓時，待測晶片C的多個接點結構C1將對應容置於多個連接孔22A中，且各個探針組件20是未與多個接點結構C1相連接(例如是不相互接觸)。當升降結構22被抵壓時，升降結構22的至少一部分將內縮於電連接座本體21中，即，升降結構22將相對於支撐結構23向承載電路板1的方向移動，而多個探針組件20將對應與待測晶片C的多個接點結構C1相連接。

如上所述，在晶片承載裝置A3的各個電連接座2具有升降結構22的實施例中，系統級測試設備A還可以包含有一抵壓裝置A8(如圖2所示)，控制裝置A4電性連接抵壓裝置A8，控制裝置A4能控制抵壓裝置A8，以使抵壓裝置A8抵壓設置於多個電連接座2的待測待測晶片C的一側面C2(如圖7所示)。當設置於電連接座2的待測晶片C及電連接座2的升降結構22受抵壓裝置A8抵壓時，待測晶片C的多個接點結構C1將與電連接座2中的多個探針組件20的一端相接觸，而待測待測晶片C得以通過電連接座2與連接線路103電性連通。

請復參圖2，在實際應用中，本發明的系統級測試設備A還可以包含一溫度調節裝置A9，溫度調節裝置A9電性連接控制裝置A4，控制裝置A4能控制溫度調節裝置A9作動，以使多個待測晶片C及系統電路板D一同處於一預定高溫溫度或一預定低溫溫度的環境中進行系統級測試作業。在系統電路板D及晶片承載裝置A3設置於設備本體A1的容置室A10中的實施例中，容置室A10可以是具有一活動門；當活動門關閉，而容置室A10呈為一封閉空間的狀態時，控制裝置A4將可以控制溫度調節裝置A9作動，而使容置室A10的溫度上升至所述預定高溫溫度，或者，下降至所述預定低溫溫度。關於溫度調節裝置A9調整容置室A10的溫度的方式，於此不加以限制。以下將舉例說明，溫度調節裝置A9具體可實施的態樣，為利清楚說明，以下說明中將分別以溫度調節裝置A91及溫度調節裝置A92，兩種不同標號來表示不同態樣的溫度調節裝置A9。

請一併參閱圖1、圖9至圖12，圖9顯示為本發明的系統級測試設備的溫度調節裝置的其中一實施例的示意圖，圖10、11顯示為本發明的系統級測試設備的溫度調節裝置其中一實施例的分解示意圖，圖12顯示為圖9的溫度調節裝置設置於圖3的晶片承載裝置上的剖面示意圖。

進一步來說，溫度調節裝置A9可以包含：一接觸結構A911及一罩體A912。接觸結構A911包含一接觸面A9111。接觸結構A911用以抵壓多個電連接座2的限位部223(如圖12所示)。當接觸結構A911抵壓多個電連接座2的限位部223時，接觸面A9111將對應抵靠於被電連接座2承載的待測晶片C的一側面C2(如圖12所示)。接觸結構A911內可以包含至少一流道A9112，接觸結構A911還具有一流體入口A9113及一流體出口A9114，流道A9112、流體入口A9113及流體出口A9114相互連通。高溫流體或低溫流體能通過流體入口A9113進入流道A9112中，並通過流體出口A9114排出流道A9112。在流道A9112中具有高溫流體或低溫流體時，接觸面A9111的溫度將隨之上升或下降，藉此，可讓與接觸面A9111相接觸的待測晶片C處於預定高溫溫度或預定低溫溫度的環境中進行系統級測試作業。

在實際應用中，控制裝置A4可以是電性連接提供高溫流體或低溫流體的一流體設備，流體設備通過多個管體連接接觸結構A911的流體入口A9113及流體出口A9114，而控制裝置A4能控制該流體設備，以使高溫流體或低溫流體通過管體及流體入口A9113，而進入接觸結構A911的流道A9112中，藉此，使接觸面A9111的溫度上升或下降。

特別說明的是，在不同的實施例中，接觸結構A911內部也可以是不具有流道A9112，而接觸結構A911可以是連接一電加熱器，電加熱器的加熱線圈可以是埋設於接觸結構A911中。控制裝置A4電性連接該電加熱器，而控制裝置A4能控制該電加熱器作動，以使加熱線圈產生熱能，從而使接觸面A9111的溫度提高至預定高溫溫度。相對地，接觸結構A911內也可以是設置有一致冷晶片，而控制裝置A4可以是透過控制致冷晶片作動，以使接觸面A9111的溫度降低至預定低溫溫度。

特別說明的是，在不同的實施例中，接觸結構A911內部也可以是同時具有流道A9112及所述電加熱器，其中，流道A9112可以是用來提供低溫流體通過以使接觸結構A911的溫度下降，而電加熱器則是用來使接觸結構A911的溫度上升。另外，值得一提的是，在實際應用中，前述抵壓裝置A8與溫度調節裝置A9可以是同一個裝置，亦即，抵壓裝置A8可以是對應具有所述接觸結構A911。

如圖10及圖11所示，罩體A912的一側內凹形成有一凹槽A9121，罩體A912具有一容置開孔A9122，容置開孔A9122與凹槽A9121相連通。接觸結構A911固定設置於罩體A912的凹槽A9121中，而接觸結構A911的流體入口A9113及流體出口A9114可以是對應位於穿出容置開孔A9122設置。接觸結構A911固定於罩體A912，且接觸面A9111的尺寸小於罩體A912的尺寸，而接觸結構A911的周緣與罩體A912形成凹槽A9121的內壁面A9123之間形成有間隙，藉此，當罩體A912蓋設於承載電路板1的第一側面101(如圖12所示)時，接觸結構A911、罩體A912及承載電路板1之間將共同形成有一封閉空間SP1。

在實際應用中，罩體A912可以具有至少一抽氣孔A9124。抽氣孔A9124用以與系統級測試設備A所連接的抽氣裝置E相連接，而控制裝置A4能控制抽氣裝置E，以使抽氣裝置E通過抽氣孔A9124，將封閉空間SP1內的空氣向外抽出。當封閉空間SP1內的空氣被抽氣裝置E抽出時，封閉空間SP1將呈現為近似於真空的狀態，如此，將可大幅降低接觸結構A911抵壓多個電連接座2的限位部223所需的作用力，而且，可以使封閉空間SP1的溫度不易受封閉空間SP1外的溫度影響。如圖10及圖11所示，罩體A912還可以是固定設置有一蓋體A913，蓋體A913與接觸結構A911之間可以是對應形成有一容置空間SP2，容置空間SP2可以是填充有任何可以阻隔熱能傳遞的構件。

請一併參閱圖13至圖17，圖13及圖14分別顯示為本發明的系統級測試設備的晶片承載裝置的其中一實施例的分解及組裝示意圖，圖15顯示為本發明的系統級測試設備的其中一個電連接座與承載電路板的分解示意圖，圖16為圖15的局部放大示意圖。如圖所示，在實際應用中，為了使電連接座2便於安裝、拆卸及維修，電連接座2可以是可拆卸地設置於承載電路板1；更具體來說，電連接座2可以在不利用螺絲的情況下，被固定於承載電路板1的第一側面101。

進一步來說，晶片承載裝置A3還可以包含一固定組件4，固定組件4包含：一固定構件41及多個鎖固件42。固定構件41可以是包含：一固定本體411及多個抵壓結構體412。固定本體411具有多個容置孔4111。固定本體411可拆卸地固定設置於承載電路板1的第一側面101，舉例來說，固定本體411及承載電路板1可以是分別具有相對應的鎖孔，而固定本體411及承載電路板1即可透過多個鎖固件42(例如螺絲)相互固定。

多個抵壓結構體412可拆卸地固定於固定本體411，且各個抵壓結構體412對應於一個容置孔4111設置。各個抵壓結構體412包含多個穿孔4121。固定本體411於鄰近於各個容置孔4111的位置，還可以是形成有多個輔助固定部4113，輔助固定部4113具有鎖孔41131，且抵壓結構體412具有相對應的鎖孔4122，而抵壓結構體412可以是配合多個鎖固件(例如螺絲)可拆卸地固定於輔助固定部4113。

如圖15所示，各個承載電路板1的第一側面101可以是具有多個電接觸結構104，各個電接觸結構104與連接線路103相連接。各個電接觸結構104例如是形成於承載電路板1表面的金屬端子。各個電連接座2內所包含的多個探針組件20的一端，可以是凸出於電連接座2的支撐結構23的一端；外露於支撐結構23的多個探針組件20的一端，則是用來與承載電路板1的多個電接觸結構104相接觸。電連接座2的環側壁212還可以是向外凸出形成有一抵頂部213。當抵壓結構體412固定於固定本體411時，抵壓結構體412將對應抵靠於各個電連接座2的抵頂部213。也就是說，各個抵頂部213是為利於抵壓結構體412抵壓而設置，而抵頂部213的外型，可以是對應於抵壓結構體412及穿孔4121設計。

如圖16所示，當固定本體411固定於設置有電連接座2的承載電路板1的第一側面101，且抵壓結構體412固定於固定本體411時，抵壓結構體412、固定本體411及承載電路板1將共同夾持多個電連接座2，而使電連接座2固定於承載電路板1的一第一側面101。

依上所述，透過固定組件4及承載電路板1的相互配合，以將多個電連接座2固持於承載電路板1的第一側面101的設計，將可以讓各個電連接座2在不利用螺絲鎖固的情況下，被固定於承載電路板1的一側。

如圖15所示，為了便於相關人員使電連接座2外露的探針組件20，正確地與承載電路板1的電接觸結構104相接觸，電連接座2的支撐結構23還可以是包含有多個定位孔2312，承載電路板1具有相對應的多個定位孔105，而電連接座2的定位孔2312及承載電路板1的定位孔105，可以提供多個定位件25插設，藉此，可以便於使用者正確地將電連接座2設置於承載電路板1。

請參閱圖17，其顯示為本發明的系統級測試設備的溫度調節裝置的其中一實施例的示意圖。溫度調節裝置A92可以是包含一接觸結構A921、一框體A922及一彈性環形密封件A923。溫度調節裝置A92內設置有一溫度調節器，溫度調節器與接觸結構A921連接，溫度調節器能被控制而使接觸結構A921的溫度上升至一預定高溫溫度，且溫度調節器也能被控制而使接觸結構A921的溫度下降至一預定低溫溫度。在實際應用中，溫度調節器例如可以是包含有加熱線圈、致冷晶片等，但不以此為限。

框體A922環繞接觸結構A921設置，而接觸結構A921的一接觸面A9211，可以是與框體A922的一環抵壓面A9221齊平地設置。彈性環形密封件A923設置於環抵壓面A9221。在不同的實施例中，接觸面A9211也可以是高出於環抵壓面A9221設置，但接觸面A9211是不低於環抵壓面A9221設置。彈性環形密封件A923設置於環抵壓面A9221上，而彈性環形密封件A923對應環繞接觸結構A921設置。彈性環形密封件A923可以是依據需求為橡膠等受壓能回復至原狀的材質，於此不加以限制；關於彈性環形密封件A923的截面外型，例如可以是圓形、橢圓形、梯形等，於此不加以限制。

請一併參閱圖18至圖20，圖18顯示為圖14所示晶片承載裝置的局部剖面示意圖，圖19為圖17所示的溫度調節裝置抵靠於圖14所示的晶片承載裝置的剖面示意圖，圖20顯示為圖17所示的晶片承載裝置的局部放大示意圖。如圖18所示，晶片承載裝置A3在未受溫度調節裝置A92的接觸結構A921抵壓的情況下，固定構件41的固定本體411的一抵頂面4112，是與各個電連接座本體21的外側面2111齊平，而各個電連接座2的升降結構22的一部分則是高出於抵頂面4112設置。也就是說，各個待測晶片C設置於電連接座2中，且晶片承載裝置A3未受溫度調節裝置A92的接觸結構A921抵壓時，部分的升降結構22可以是高出於抵頂面4112設置；其中，設置於升降結構22中的待測晶片C則可以是高出抵頂面4112或不高出於抵頂面4112，於此不加以限制。

如圖19所示，當接觸結構A921抵壓晶片承載裝置A3所承載的多個待測晶片C的側面C2時，接觸結構A921的一部分將同時抵壓於固定本體411的抵頂面4112，且彈性環形密封件A923則是對應抵壓於的固定本體411的抵頂面4112，而接觸結構A921、固定本體411、抵壓結構體412及承載電路板1將共同形成一封閉空間SP3，多個電連接座2則是對應位於封閉空間SP3中。

在接觸結構A921抵壓晶片承載裝置A3所承載的多個待測晶片C的側面C2，而多個電連接座2對應位於封閉空間SP3中時，控制裝置A4將可以控制系統級測試設備A連接的抽氣裝置E作動，以將封閉空間SP3中的空氣向外抽出，藉以使封閉空間SP3呈現為近似於真空的狀態，在抽氣裝置E將空氣向外抽出的過程中，晶片承載裝置A3將會受負壓作用，而與溫度調節裝置A92更緊密地相互抵壓。

如圖20所示，在實際應用中，接觸結構A921與框體A922之間可以是形成有一抽氣間隙H，此抽氣間隙H可以是環繞接觸結構A921設置，且框體A922可以是形成有多個抽氣孔A9222，抽氣孔A9222與抽氣間隙H相連通(例如是框體A922內部具有相對應的通道)，抽氣孔A9222用以與抽氣裝置E相連接。在本實施例中是以抽氣間隙H大致環繞接觸結構A921設置為例，但抽氣間隙H具體形成的位置及其外型不以此為限，只要可以使封閉空間SP3通過抽氣間隙H及抽氣孔A9222與抽氣裝置E連通即可。另外，抽氣孔A9222的數量、外型、設置位置皆可依據需求變化。

在控制裝置A4連接抽氣裝置E的各個實施例中，控制裝置A4控制抽氣裝置E進行抽氣的時間點，可以是依據需求設計，於此不加以限制；另外，控制裝置A4也可以是依據相關偵測器所回傳的訊號來判斷是否控制抽氣裝置E開始對封閉空間進行抽氣。

請復參圖1及圖2，上述各實施例所述的溫度調節裝置A9，可以是對應設置於各個容置室A10中，且各個溫度調節裝置A9可以是對應設置於容置室A10用以設置系統電路板D的位置的上方，亦即，當系統電路板D及晶片承載裝置A3設置於容置室A10中時，溫度調節裝置A9將對應位於系統電路板D及晶片承載裝置A3的上方。在各容置室A10中設置有溫度調節裝置A9，且系統級測試設備A設置有升降裝置A7的實施例中，控制裝置A4能控制升降裝置A7以使系統電路板D及其上的晶片承載裝置A3，一同向溫度調節裝置A9的方向移動，直到多個電連接座2承載的多個待測晶片C的側面C2(如圖8所示)與溫度調節裝置A9的接觸結構的接觸面相接觸為止。

在不同的實施例中，升降裝置A7也可以是與溫度調節裝置A9相連接，而控制裝置A4控制升降裝置A7作動時，升降裝置A7會使溫度調節裝置A9向承載電路板1的方向移動，直到溫度調節裝置A9的接觸結構的接觸面，抵靠於多個電連接座2所承載的待測晶片C的側面C2。

綜上所述，在系統級測試設備A具有溫度調節裝置A9及升降裝置A7，且系統級測試設備A與抽氣裝置E相連接的實施例中，系統級測試設備A的作動方式可以是：當相關人員或是機械，將系統電路板D及晶片承載裝置A3設置於容置室A10中時，控制裝置A4可以是先控制升降裝置A7作動，而使被晶片承載裝置A3承載的多個待測晶片C的側面C2，先抵靠於溫度調節裝置A9的接觸結構的接觸面；接著，控制裝置A4將控制溫度調節裝置A9作動，而使接觸面的溫度到達預定高溫溫度或預定低溫溫度；當接觸面的溫度到達預定溫度時，控制裝置A4給電至多個待測晶片C及系統電路板D，且控制裝置A4將發送測試訊號至多個待測晶片C及系統電路板D，以對多個待測晶片C及系統電路板D進行系統級測試作業。

當控制裝置A4對多個待測晶片C及系統電路板D完成系統級測試作業後，控制裝置A4將可以控制相關的提示裝置(例如是喇叭、警示燈等)作動，以提示相關人員多個待測晶片C及系統電路板D已經完成系統級測試作業。當然，在不同的應用中，控制裝置A4也可以是傳遞相關訊號至相關的移載設備(例如機械手臂)，而使移載設備將晶片承載裝置A3及系統電路板D由容置室A10中取出。

請參閱圖21，其顯示為本發明的系統級測試系統的其中一實施例的示意圖。本實施例與前述實施例最大不同之處在於：系統級測試設備還是包含有多個輔助連接組件5，各個輔助連接組件5包含多條連接線51及一連接埠52。各個輔助連接組件5的多條連接線51的一端用以與系統電路板D的多個系統連接結構D2相連接，多條連接線51的另一端與連接埠52相連接。

在實際用中，各個輔助連接組件5所包含的多條連接線51可以是軟排線(flat flexible cable)，且各個輔助連接組件5可以是包含有兩個連接埠52，而多條連接線51的兩端對應連接兩個連接埠52，各個輔助連接組件5的兩個連接埠52則是對應用來連接系統電路板D的系統連接結構D2及承載電路板1的連接結構3。

也就是說，承載電路板1的多個連接結構3是通過多個輔助連接組件5，與系統電路板D的多個連接結構3相互連接，而承載電路板1與系統電路板D則是通過多個輔助連接組件5彼此電性連通，系統電路板D所連接的供電設備所提供的電力，則可以通過多個輔助連接組件5，傳遞至承載電路板1及設置於承載電路板1上各個電連接座2、各電連接座2所承載的待測晶片C。透過多個輔助連接組件5來連接承載電路板1及系統電路板D的方式，可以是讓承載電路板1無需固定設置於系統電路板D的一側面，而承載電路板1及系統電路板D可以是分別透過不同的固持機構固定於設備本體A1中。

特別說明的是，於本實施例的圖式中，是以各個輔助連接組件5包含多條連接線51及兩個連接埠52，但各個輔助連接組件5所包含的連接線51的數量及連接埠52的數量，不以圖中所示為限。在不同的實施例中，各個輔助連接組件5可以是僅包含有單一個連接埠52，而各個輔助連接組件5的多條連接線51的一端則可以是直接與系統電路板D的多個系統連接結構D2相連接。另外，各個輔助連接組件5的形式也不以圖中所示為限。

在本發明的系統級測試設備A應用為自動化設備時，例如可以是透過機械手臂等裝置，來將多個輔助連接組件5的連接埠52，與承載電路板1的連接結構3相連接。於本實施例圖式中，是以多個連接結構3與電連接座2設置於承載電路板1的同一側面為例，但多個連接結構3不侷限於僅可設置於承載電路板1設置有電連接座2的一側面，在不同的實施例中，多個連接結構3也可以是設置於承載電路板1相反於設置有電連接座2的一側面。

請參閱圖22，其顯示為本發明的系統級測試設備的其中一實施例的示意圖。本實施例與前述實施例最大不同之處在於，各個輔助連接組件5的連接埠52可以是設置於設備本體A1，且各個連接埠52是對應位於承載電路板1的上方，且承載電路板1是對應設置於一升降裝置上，而升降裝置能使承載電路板1向靠近連接埠52的方向移動，藉此，使承載電路板1的連接結構3與連接埠52相連接。在具體的應用中，連接埠52可以是與前述溫度調節裝置一同設置於設備本體A1，如此，當升降裝置使承載電路板1的連接結構3與連接埠52相互連接時，前述溫度調節裝置將可以同時對應抵靠於承載電路板1上的電連接座2所承載的晶片的一側面。

請參閱圖23，其顯示為本發明的系統級測試設備的其中一實施例的示意圖。本實施例與前述實施例最大不同之處在於：系統級測試設備A除了包含多個輔助連接組件5外，系統級測試設備A還可以包含有多個輔助升降組件6。多個輔助升降組件6與多個輔助連接組件5的連接埠52相連接，且各個輔助升降組件6電性連接控制裝置A4；控制裝置A4可以控制各個輔助升降組件6作動，而使各個輔助升降組件6能使其所連接的連接埠52與承載電路板1的其中一個連接結構3相互連接或相互分離。在具體實施中，各個輔助升降組件6例如可以是包含有滑軌、氣缸、油壓缸等機構，但不以此為限。

在具體的應用中，為利於輔助連接組件5，能容易地將其所連接的連接埠，與承載電路板1的連接結構3相連接，多個連接結構3可以是設置於承載電路板1面對系統電路板D的一側面，而多個連接結構3可以是對應位於承載電路板1相反於設置有電連接座2的一側面。如此，各個輔助升降組件6僅需要使其所連接的連接埠52垂直地往上移動，即可順利地與相對應的承載電路板1的連接結構3相互連接。

在實際應用中，承載電路板1及系統電路板D可以是分別透過固持機構A21、A2固定設置設備本體A1(如圖1所示)的容置室A10(如圖1所示)中，且承載電路板1及系統電路板D固定於設備本體A1中後，承載電路板1的多個連接結構3將是對應位於系統電路板D的多個系統連接結構D2的正上方。

請一併參閱圖24及圖25，圖24顯示為本發明的系統級測試系統的示意圖，圖25顯示為本發明的系統級測試系統的方塊示意圖。如圖所示，系統級測試系統Z包含一中央控制裝置Z1、一晶片安裝設備Z2、多個系統級測試設備Z3、一移載設備Z4、一分類設備Z5及多個晶片承載裝置Z6。中央控制裝置Z1例如是伺服器、各式電腦設備等。於此所指的系統級測試設備Z3及晶片承載裝置Z6，與前述實施例所載的系統級測試設備A及晶片承載裝置A3相同，因此，系統級測試設備Z3及晶片承載裝置Z6所包含的構件及其連接關係以下將不再贅述；另外，於以下說明中，關於系統級測試設備A及晶片承載裝置A3所包含的相關構件的圖式，請參考圖1至圖3及圖7所示。

中央控制裝置Z1與各個系統級測試設備Z3的控制裝置A4(如圖2所示)電性連接。晶片安裝設備Z2用以將多個待測晶片C設置於各個晶片承載裝置Z6的多個電連接座2(如圖3所示)。移載設備Z4用以將承載有多個待測晶片C的晶片承載裝置Z6，設置於系統級測試設備Z3的容置室A10(如圖1所示)中。分類設備Z5用以將通過系統級測試作業的待測晶片C(如圖7所示)，移載至良品區域或不良品區域。在實際應用中，移載設備Z4還可以是用來移載系統電路板D，分類設備Z5還可以是用來將通過系統級測試作業的系統電路板D，移載至良品區域或不良品區域。

本發明的系統級測試系統Z具體的作動流程可以是：首先，中央控制裝置Z1控制晶片安裝設備，將多個待測晶片C安裝於晶片承載裝置Z6；接著，中央控制裝置Z1控制移載設備Z4先將系統電路板D置放於其中一個系統級測試設備Z3的其中一個容置室A10中，並且中央控制裝置Z1將透過該系統級測試設備Z3的控制裝置A4，控制相對應的固持機構A2作動，從而使系統電路板D固定設置於容置室A10中；當系統電路板D固定設置於容置室A10中時，中央控制裝置Z1將控制移載設備Z4，以將承載有多個待測晶片C的晶片承載裝置Z6移載至設置有系統電路板D的容置室A10中，並使晶片承載裝置Z6對應設置於系統電路板D的連接面D1上。

當晶片承載裝置Z6設置於系統電路板D上後，系統級測試設備Z3的控制裝置A4，將可以對該晶片承載裝置Z6所承載的多個待測晶片C及系統電路板D進行系統級測試作業。控制裝置A4對與系統電路板D相連接的多個待測晶片C進行系統級測試作業時，可以是依據預先規劃的程序，而控制溫度調節裝置作動，以使待測晶片C在預定溫度的環境中進行系統級測試作業。

當控制裝置A4對與系統電路板D相連接的多個待測晶片C完成系統級測試作業後，控制裝置A4可以是回傳相關訊號至中央控制裝置Z1。中央控制裝置Z1接收控制裝置A4所傳遞的相關訊號後，中央控制裝置Z1可以是控制移載設備Z4，將晶片承載裝置Z6移載至分類設備Z5，而分類設備Z5則可依據各待測晶片C於系統級測試作業中的檢測結果，對待測晶片C進行分類作業。

在實際應用中，針對不同的測試需求，中央控制裝置Z1可以是控制移載設備Z4，先將系統電路板D移出系統級測試設備Z3，而後再將另一個系統電路板D移入系統級測試設備Z3中。

以上所公開的內容僅為本發明的優選可行實施例，並非因此侷限本發明的專利範圍，所以凡是運用本發明說明書及圖式內容所做的等效技術變化，均包含於本發明的專利範圍內。

A ：系統級測試設備 A1 ：設備本體 A10 ：容置室 A2 ：固持機構 A21 ：固持機構 A3 ：晶片承載裝置 1 ：承載電路板 101 ：第一側面 102 ：第二側面 103 ：連接線路 104 ：電接觸結構 105 ：定位孔 2 ：電連接座 20 ：探針組件 201 ：針體 202 ：彈簧 21 ：電連接座本體 21A ：開孔 21B ：容置槽 211 ：頂壁 2111 ：外側面 2112 ：內側面 212 ：環側壁 213 ：抵頂部 22 ：升降結構 22A ：連接孔 22B ：晶片容槽 221 ：基部 222 ：承載部 223 ：限位部 23 ：支撐結構 231 ：底座結構 232 ：輔助結構 2321 ：支撐孔 2311 ：穿孔 2312 ：定位孔 24 ：彈性組件 25 ：定位件 3 ：連接結構 4 ：固定組件 41 ：固定構件 411 ：固定本體 4111 ：容置孔 4112 ：抵頂面 4113 ：輔助固定部 41131 ：鎖孔 412 ：抵壓結構體 4121 ：穿孔 4122 ：鎖孔 42 ：鎖固件 5：輔助連接組件 51 ：連接線 52：連接埠 6 ：輔助升降組件 A4 ：控制裝置 A41 ：測試訊號 A5 ：第一供電構件 A6 ：第二供電構件 A7 ：升降裝置 A8 ：抵壓裝置 A9 ：溫度調節裝置 A91 ：溫度調節裝置 A911 ：接觸結構 A9111 ：接觸面 A9112 ：流道 A9113 ：流體入口 A9114 ：流體出口 A912 ：罩體 A9121 ：凹槽 A9122 ：容置開孔 A9123 ：內壁面 A9124 ：抽氣孔 A913 ：蓋體 A92 ：溫度調節裝置 A921 ：接觸結構 A9211 ：接觸面 A922 ：框體 A9221 ：環抵壓面 A9222 ：抽氣孔 A923 ：彈性環形密封件 B ：供電設備 C ：待測晶片 C1 ：接點結構 C2 ：側面 D ：系統電路板 D1 ：連接面 D2 ：系統連接結構 E ：抽氣裝置 S ：間隙 SP1 ：封閉空間 SP2 ：容置空間 SP3 ：封閉空間 H ：抽氣間隙 Z ：系統級測試系統 Z1 ：中央控制裝置 Z2 ：晶片安裝設備 Z3 ：系統級測試設備 Z4 ：移載設備 Z5 ：分類設備 Z6 ：晶片承載裝置

圖1為本發明的系統級測試設備的示意圖。

圖2為本發明的系統級測試設備的方塊示意圖。

圖3為本發明的系統級測試設備的晶片承載裝置的其中一實施例的示意圖。

圖4為本發明的系統測試設備的單一個電連接座的其中一實施例的示意圖。

圖5為本發明的系統測試設備的單一個電連接座的剖面分解示意圖。

圖6為本發明的系統測試設備的單一個電連接座未承載待測晶片的剖面示意圖。

圖7為本發明的系統測試設備的單一個電連接座承載有待測晶片的剖面示意圖。

圖8為本發明的系統測試設備的單一個電連接座承載待測晶片且被抵壓裝置抵壓時的剖面示意圖。

圖9為本發明的系統級測試設備的溫度調節裝置的其中一實施例的示意圖。

圖10、11為本發明的系統級測試設備的溫度調節裝置的其中一實施例的分解示意圖。

圖12為本發明的系統級測試設備的溫度調節裝置設置於晶片承載裝置上的剖面示意圖。

圖13及圖14分別為本發明的系統級測試設備的晶片承載裝置的其中一實施例的分解及組裝示意圖。

圖15為本發明的系統級測試設備的其中一個電連接座與承載電路板的分解示意圖。

圖16為圖14所示的本發明的系統級測試設備的晶片承載裝置的局部放大示意圖。

圖17為本發明的系統級測試設備的溫度調節裝置的其中一實施例的示意圖。

圖18為圖14所示的本發明的系統級測試設備的晶片承載裝置的局部剖面示意圖。

圖19為圖17所示的本發明的系統級測試設備的溫度調節裝置抵靠於圖14所示的本發明的系統級測試設備的晶片承載裝置的剖面示意圖。

圖20為圖17所示的本發明的系統級測試設備的晶片承載裝置的局部放大示意圖。

圖21為本發明的系統級測試設備的其中一實施例的側面示意圖。

圖22為本發明的系統級測試設備的其中一實施例的側面示意圖。

圖23為本發明的系統級測試設備的其中一實施例的側面示意圖。

圖24為本發明的系統級測試系統的示意圖。

圖25為本發明的系統級測試系統的方塊示意圖。

A ：系統級測試設備 A1 ：設備本體 A10 ：容置室 A2 ：固持機構 A3 ：晶片承載裝置 1 ：承載電路板 2 ：電連接座 A9 ：溫度調節裝置 D ：系統電路板 D1 ：連接面 D2 ：系統連接結構

Claims

一種系統級測試設備，其用以對多個待測晶片進行一系統級檢測作業，所述系統級測試設備連接一供電設備，所述系統級測試設備包含：一設備本體，其包含至少一容置室；一固持機構，其設置於所述設備本體，所述固持機構位於所述容置室中，所述固持機構用以固定一系統電路板；一晶片承載裝置，其能被移動地設置於被所述固持機構固定的所述系統電路板的一連接面上，所述晶片承載裝置包含：一承載電路板，其彼此相反的兩側面分別定義為一第一側面及一第二側面；多個電連接座，其設置於所述第一側面；各個所述電連接座用以承載一個所述待測晶片；多個連接結構，其設置於所述第一側面或所述第二側面，多個所述連接結構與多個所述電連接座電性連通；多個所述連接結構用以與所述系統電路板的所述連接面上設置的多個系統連接結構相連接；一控制裝置，其電性連接所述晶片承載裝置；其中，當所述晶片承載裝置設置於所述容置室中，且所述晶片承載裝置的至少一個所述電連接座承載有所述待測晶片，所述系統電路板被所述固持機構固定，且多個所述連接結構與多個所述系統連接結構相連接，而所述供電設備供電給所述系統級測試設備時，被所述電連接座承載的所述待測晶片，將能通過所述電連接座、至少一所述連接結構、至少一所述系統連接結構與所述系統電路板電性連通，而所述控制裝置能發出至少一測試訊號至所述晶片承載裝置，以測試被所述電連接座承載的所述待測晶片與所述系統電路板電性連接後，是否能正常運作；其中，所述設備本體包含至少一容置室，所述系統級測試設備還包含至少一升降裝置，所述升降裝置設置於所述容置室中，所述控制裝置電性連接所述升降裝置；所述控制裝置能控制所述升降裝置，以使所述升降裝置推抵所述晶片承載裝置或所述系統電路板，據以讓所述承載電路板抵靠於所述系統電路板的所述連接面。
如請求項1所述的系統級測試設備，其中，各個所述電連接座具有多個探針組件，多個所述探針組件的一部份外露於所述電連接座的一端，所述承載電路板的所述第一側面具有多個電接觸結構，多個所述電接觸結構用以與多個所述探針組件相連接；所述晶片承載裝置還包含一固定組件，所述固定組件包含至少一固定構件及多個鎖固件，所述固定構件包含多個穿孔，各個所述穿孔用以提供至少一個所述電連接座的一部份穿設；其中，所述固定構件是透過多個所述鎖固件固定於所述承載電路板的所述第一側面，而多個所述電連接座則是被所述固定構件及所述承載電路板共同夾持而固定於所述第一側面，藉此，各個所述電連接座是可拆卸地設置於所述第一側面。
如請求項1所述的系統級測試設備，其中，所述系統級測試設備還包含一抵壓裝置，所述控制裝置電性連接所述抵壓裝置，所述控制裝置能控制所述抵壓裝置，以使所述抵壓裝置的一接觸結構，抵壓設置於多個所述電連接座的所述待測晶片的一側面；設置於所述電連接座的所述待測晶片受所述接觸結構抵壓時，所述待測晶片的多個接點結構將與所述電連接座中的多個探針組件的一端相接觸，而所述待測晶片得以通過所述電連接座與至少一個所述連接結構電性連通。
如請求項3所述的系統級測試設備，其中，各個所述電連接座包含：一電連接座本體，其具有一頂壁及一環側壁，所述頂壁具有一開孔，所述環側壁的一端與所述頂壁的周緣相連接，所述環側壁的另一端抵靠於所述承載電路板，所述頂壁、所述環側壁及所述承載電路板共同形成有一容置槽；所述頂壁彼此相反的兩側面定義為一外側面及一內側面，所述內側面位於所述容置槽中；所述頂壁相反於所述承載電路板的一側定義為一外側面；一支撐結構，其抵靠於所述承載電路板，且所述支撐結構位於所述容置槽中；一升降結構，其設置於所述容置槽中，所述升降結構具有一基部及一承載部，所述基部位於所述容置槽中，所述基部向一側延伸形成所述承載部，所述承載部的至少一部分位於所述開孔中；所述承載部向遠離所述基部的一側延伸形成有多個限位部，多個所述限位部的至少一部分穿出所述開孔，且多個所述限位部及所述承載部共同形成有一晶片容槽，所述晶片容槽用以容置所述待測晶片；所述升降結構還具有多個連接孔，多個所述連接孔貫穿所述基部及所述承載部；至少一彈性組件，其設置於所述容置槽中，各個所述彈性組件的一端固定於所述升降結構，各個所述彈性組件的另一端固定於所述支撐結構，多個所述彈性組件受壓所產生的彈性回復力使所述基部抵靠於所述頂壁的所述內側面，且所述升降結構與所述支撐結構之間形成有一間隙；多個所述探針組件，各個所述探針組件的一端固定設置於所述支撐結構，且各個所述探針組件的一部份外露於所述支撐結構；多個所述探針組件的另一端穿設於多個所述連接孔；其中，當所述晶片容槽設置有所述待測晶片，且所述限位部未被所述接觸結構抵壓時，位於多個所述連接孔中的所述探針組件不與所述待測晶片的多個接點結構相連接，且所述升降結構的一部分凸伸出所述頂壁的所述外側面；其中，當所述晶片容槽設置有所述待測晶片，且所述限位部被所述接觸結構抵壓而向所述電連接座本體內縮時，位於多個所述連接孔中的所述探針組件將與所述待測晶片的多個所述接點結構相連接。
如請求項4所述的系統級測試設備，其中，所述接觸結構包含一接觸面，所述抵壓裝置抵壓多個所述電連接座的所述限位部時，所述接觸面對應抵靠於被所述電連接座承載的所述待測晶片的一側面；所述接觸結構內包含至少一流道，所述接觸結構還具有一流體入口及一流體出口，所述流道的兩端分別為所述流體入口及所述流體出口；其中，當高溫流體或是低溫流體通過所述流體入口進入所述流道時，所述接觸面的溫度將隨之升高或降低。
如請求項5所述的系統級測試設備，其中，所述系統級測試設備連接一抽氣裝置，所述系統級測試設備還包含一罩體，所述罩體與所述接觸結構相連接；當所述接觸結構的所述接觸面接觸被多個所述電連接座所承載的多個所述待測晶片的所述側面時，所述罩體將與所述承載電路板共同形成一封閉空間；其中，所述控制裝置能控制所述抽氣裝置對所述封閉空間進行抽氣。
如請求項1所述的系統級測試設備，其中，所述系統級測試設備還包含一溫度調節裝置，所述溫度調節裝置設置於所述設備本體，所述溫度調節裝置包含：至少一溫度調節器；及至少一接觸結構，其具有一接觸面，所述接觸面用以與所述晶片承載裝置所承載的多個所述待測晶片的一側面相接觸；所述控制裝置能控制所述溫度調節器，而使所述接觸結構的溫度上升至一預定高溫溫度或下降至一預定低溫溫度。
如請求項7所述的系統級測試設備，其中，各個所述電連接座包含：一電連接座本體，其具有一頂壁及一環側壁，所述頂壁具有一開孔，所述環側壁的一端與所述頂壁的周緣相連接，所述環側壁的另一端抵靠於所述承載電路板，所述頂壁、所述環側壁及所述承載電路板共同形成有一容置槽；所述頂壁彼此相反的兩側面定義為一外側面及一內側面，所述內側面位於所述容置槽中；所述頂壁相反於所述承載電路板的一側定義為一外側面；一支撐結構，其抵靠於所述承載電路板，且所述支撐結構位於所述容置槽中；一升降結構，其設置於所述容置槽中，所述升降結構具有一基部及一承載部，所述基部位於所述容置槽中，所述基部向一側延伸形成所述承載部，所述承載部的至少一部分位於所述開孔中；所述承載部向遠離所述基部的一側延伸形成有多個限位部，多個所述限位部的至少一部分穿出所述開孔，且多個所述限位部及所述承載部共同形成有一晶片容槽，所述晶片容槽用以容置所述待測晶片；所述升降結構還具有多個連接孔，多個所述連接孔貫穿所述基部及所述承載部；至少一彈性組件，其設置於所述容置槽中，各個所述彈性組件的一端固定於所述升降結構，各個所述彈性組件的另一端固定於所述支撐結構，多個所述彈性組件受壓所產生的彈性回復力使所述基部抵靠於所述頂壁的所述內側面，且所述升降結構與所述支撐結構之間形成有一間隙；多個探針組件，各個所述探針組件的一端固定設置於所述支撐結構，且各個所述探針組件的一部份外露於所述支撐結構；多個所述探針組件的另一端穿設於多個所述連接孔；其中，當所述晶片容槽設置有所述待測晶片，且所述限位部未被所述接觸結構抵壓時，位於多個所述連接孔中的所述探針組件不與所述待測晶片的多個接點結構相連接，且所述升降結構的一部分凸伸出所述頂壁的所述外側面；其中，當所述晶片容槽設置有所述待測晶片，且所述限位部被所述接觸結構抵壓而向所述電連接座本體內縮時，位於多個所述連接孔中的所述探針組件將與所述待測晶片的多個所述接點結構相連接。
如請求項7所述的系統級測試設備，其中，所述晶片承載裝置還包含一固定組件，所述固定組件包含至少一固定構件及多個鎖固件，所述固定構件包含多個穿孔，各個所述穿孔用以提供至少一個所述電連接座的一部份穿設；其中，所述固定構件是透過多個所述鎖固件固定於所述承載電路板的所述第一側面，而多個所述電連接座則是被所述固定構件及所述承載電路板共同夾持而固定於所述第一側面；所述系統級測試設備連接一抽氣裝置；所述溫度調節裝置還包含：一框體，其環繞所述接觸結構設置，所述框體具有一環抵壓面，所述環抵壓面與所述接觸面齊平，或者，所述接觸面高出於所述環抵壓面；及一彈性環形密封件，其設置於所述環抵壓面；其中，當所述接觸面與所述晶片承載裝置所承載的多個所述待測晶片的所述側面相接觸時，所述彈性環形密封件將對應抵壓於所述固定構件相反於所述承載電路板的一側，而所述接觸結構與所述承載電路板之間將對應形成一封閉空間；其中，所述控制裝置能控制所述抽氣裝置，對所述封閉空間進行抽氣。
如請求項9所述的系統級測試設備，其中，所述框體與所述接觸結構之間形成有至少一抽氣間隙，所述框體具有至少一抽氣孔，所述抽氣孔與所述抽氣間隙相連通，而所述抽氣裝置能通過所述抽氣孔及所述抽氣間隙，將所述封閉空間中的空氣向外抽出。
如請求項1所述的系統級測試設備，其中，所述系統測試設備還包含至少一第一供電構件及至少一第二供電構件，所述第一供電構件設置於所述承載電路板，所述第二供電構件設置於所述設備本體；所述設備本體具有至少一容置室，所述固持機構位於所述容置室中；當所述系統電路板被所述固持機構固定於所述容置室中，且所述承載電路板設置於所述系統電路板的所述連接面上時，所述供電設備能通過所述第二供電構件及所述第一供電構件，提供各個所述待測晶片及所述系統電路板運作時所需的電力。
如請求項1所述的系統級測試設備，其中，所述系統級測試設備還包含多個輔助連接組件，各個所述輔助連接組件包含至少一連接線及一連接埠，所述連接線的一端與所述連接埠相連接，所述連接線的另一端用以與所述系統電路板的其中一個所述系統連接結構相連接；多個所述連接埠用以與多個所述連接結構相連接。
如請求項12所述的系統級測試設備，其中，所述系統級測試設備還包含多個輔助升降組件，各個所述輔助升降組件電性連接所述控制裝置，且多個所述輔助升降組件與多個所述連接埠相連接，而所述控制裝置能控制各個所述輔助升降組件，以使各個所述輔助升降組件所連接的所述連接埠與一個所述連接結構相互連接或相互分離。
一種系統級測試系統，其用以對多個待測晶片進行一系統級檢測作業，所述系統級測試系統連接一供電設備，所述系統級測試系統包含：一中央控制裝置；多個系統級測試設備，各個所述系統級測試設備電性連接所述中央控制裝置，各個所述系統級測試設備包含：一設備本體，其包含至少一容置室；及一固持機構，其設置於所述設備本體，所述固持機構位於所述容置室中，所述固持機構用以固定一系統電路板；多個晶片承載裝置，各個所述晶片承載裝置包含：一承載電路板，其彼此相反的兩側面分別定義為一第一側面及一第二側面；多個電連接座，其設置於所述第一側面；各個所述電連接座用以承載一個所述待測晶片；及多個連接結構，其設置於所述第一側面或所述第二側面，多個所述連接結構與多個所述電連接座電性連通；多個所述連接結構用以與所述系統電路板的一連接面上設置的多個系統連接結構相連接；一晶片安裝設備，其電性連接所述中央控制裝置，所述中央控制裝置能控制所述晶片安裝設備，以將多個所述待測晶片安裝於多個所述電連接座；以及一移載設備，其電性連接所述中央控制裝置，所述中央控制裝置能控制所述移載設備，而使所述移載設備將其中一個所述系統電路板移入或移出所述容置室；所述中央控制裝置還能控制所述移載設備，而使所述移載設備將其中一個所述晶片承載裝置移入或移出所述容置室；其中，當所述晶片承載裝置設置於所述容置室中，且所述晶片承載裝置的至少一個所述電連接座承載有所述待測晶片，所述系統電路板被所述固持機構固定，且多個所述連接結構與多個所述系統連接結構相連接，而所述供電設備供電給所述系統級測試設備時，被所述電連接座承載的所述待測晶片，將能通過所述電連接座、至少一所述連接結構、至少一所述系統連接結構與所述系統電路板電性連通，而所述中央控制裝置能發出至少一測試訊號至所述晶片承載裝置，以測試被所述電連接座承載的所述待測晶片與所述系統電路板電性連接後，是否能正常運作；其中，所述設備本體包含至少一容置室，所述系統級測試設備還包含至少一升降裝置，所述升降裝置設置於所述容置室中，所述控制裝置電性連接所述升降裝置；所述控制裝置能控制所述升降裝置，以使所述升降裝置推抵所述晶片承載裝置或所述系統電路板，據以讓所述承載電路板抵靠於所述系統電路板的所述連接面。
如請求項14所述的系統級測試系統，其中，各個所述系統級測試設備的各個所述電連接座具有多個探針組件，多個所述探針組件的一部份外露於所述電連接座的一端，所述承載電路板的所述第一側面具有多個電接觸結構，多個所述電接觸結構用以與多個所述探針組件相連接；所述晶片承載裝置還包含一固定組件，所述固定組件包含至少一固定構件及多個鎖固件，所述固定構件包含多個穿孔，各個所述穿孔用以提供至少一個所述電連接座的一部份穿設；其中，所述固定構件是透過多個所述鎖固件固定於所述承載電路板的所述第一側面，而多個所述電連接座則是被所述固定構件及所述承載電路板共同夾持而固定於所述第一側面，藉此，各個所述電連接座是可拆卸地設置於所述第一側面。
如請求項14所述的系統級測試系統，其中，各個所述系統級測試設備還包含一抵壓裝置，所述控制裝置電性連接所述抵壓裝置，所述控制裝置能控制所述抵壓裝置，以使所述抵壓裝置的一接觸結構，抵壓設置於多個所述電連接座的所述待測晶片的一側面；設置於所述電連接座的所述待測晶片受所述接觸結構抵壓時，所述待測晶片的多個接點結構將與所述電連接座中的多個探針組件的一端相接觸，而所述待測晶片得以通過所述電連接座與至少一個所述連接結構電性連通。
如請求項16所述的系統級測試系統，其中，各個所述系統級測試設備的各個所述電連接座包含：一電連接座本體，其具有一頂壁及一環側壁，所述頂壁具有一開孔，所述環側壁的一端與所述頂壁的周緣相連接，所述環側壁的另一端抵靠於所述承載電路板，所述頂壁、所述環側壁及所述承載電路板共同形成有一容置槽；所述頂壁彼此相反的兩側面定義為一外側面及一內側面，所述內側面位於所述容置槽中；所述頂壁相反於所述承載電路板的一側定義為一外側面；一支撐結構，其抵靠於所述承載電路板，且所述支撐結構位於所述容置槽中；一升降結構，其設置於所述容置槽中，所述升降結構具有一基部及一承載部，所述基部位於所述容置槽中，所述基部向一側延伸形成所述承載部，所述承載部的至少一部分位於所述開孔中；所述承載部向遠離所述基部的一側延伸形成有多個限位部，多個所述限位部的至少一部分穿出所述開孔，且多個所述限位部及所述承載部共同形成有一晶片容槽，所述晶片容槽用以容置所述待測晶片；所述升降結構還具有多個連接孔，多個所述連接孔貫穿所述基部及所述承載部；至少一彈性組件，其設置於所述容置槽中，各個所述彈性組件的一端固定於所述升降結構，各個所述彈性組件的另一端固定於所述支撐結構，多個所述彈性組件受壓所產生的彈性回復力使所述基部抵靠於所述頂壁的所述內側面，且所述升降結構與所述支撐結構之間形成有一間隙；多個所述探針組件，各個所述探針組件的一端固定設置於所述支撐結構，且各個所述探針組件的一部份外露於所述支撐結構；多個所述探針組件的另一端穿設於多個所述連接孔；其中，當所述晶片容槽設置有所述待測晶片，且所述限位部未被所述接觸結構抵壓時，位於多個所述連接孔中的所述探針組件不與所述待測晶片的多個接點結構相連接，且所述升降結構的一部分凸伸出所述頂壁的所述外側面；其中，當所述晶片容槽設置有所述待測晶片，且所述限位部被所述接觸結構抵壓而向所述電連接座本體內縮時，位於多個所述連接孔中的所述探針組件將與所述待測晶片的多個所述接點結構相連接。
如請求項17所述的系統級測試系統，其中，所述接觸結構包含一接觸面，所述抵壓裝置抵壓多個所述電連接座的所述限位部時，所述接觸面對應抵靠於被所述電連接座承載的所述待測晶片的一側面；所述接觸結構內包含至少一流道，所述接觸結構還具有一流體入口及一流體出口，所述流道的兩端分別為所述流體入口及所述流體出口；其中，當高溫流體或是低溫流體通過所述流體入口進入所述流道時，所述接觸面的溫度將隨之升高或降低。
如請求項18所述的系統級測試系統，其中，各個所述系統級測試設備連接一抽氣裝置，各個所述系統級測試設備還包含一罩體，所述罩體與所述接觸結構相連接；當所述接觸結構的所述接觸面接觸被多個所述電連接座所承載的多個所述待測晶片的所述側面時，所述罩體將與所述承載電路板共同形成一封閉空間；其中，所述控制裝置能控制所述抽氣裝置對所述封閉空間進行抽氣。
如請求項14所述的系統級測試系統，其中，各個所述系統級測試設備還包含一溫度調節裝置，所述溫度調節裝置設置於所述設備本體，所述溫度調節裝置包含：至少一溫度調節器；及至少一接觸結構，其具有一接觸面，所述接觸面用以與所述晶片承載裝置所承載的多個所述待測晶片的一側面相接觸；所述控制裝置能控制所述溫度調節器，而使所述接觸結構的溫度上升至一預定高溫溫度或下降至一預定低溫溫度。
如請求項20所述的系統級測試系統，其中，各個所述系統級測試設備的各個所述電連接座包含：一電連接座本體，其具有一頂壁及一環側壁，所述頂壁具有一開孔，所述環側壁的一端與所述頂壁的周緣相連接，所述環側壁的另一端抵靠於所述承載電路板，所述頂壁、所述環側壁及所述承載電路板共同形成有一容置槽；所述頂壁彼此相反的兩側面定義為一外側面及一內側面，所述內側面位於所述容置槽中；所述頂壁相反於所述承載電路板的一側定義為一外側面；一支撐結構，其抵靠於所述承載電路板，且所述支撐結構位於所述容置槽中；一升降結構，其設置於所述容置槽中，所述升降結構具有一基部及一承載部，所述基部位於所述容置槽中，所述基部向一側延伸形成所述承載部，所述承載部的至少一部分位於所述開孔中；所述承載部向遠離所述基部的一側延伸形成有多個限位部，多個所述限位部的至少一部分穿出所述開孔，且多個所述限位部及所述承載部共同形成有一晶片容槽，所述晶片容槽用以容置所述待測晶片；所述升降結構還具有多個連接孔，多個所述連接孔貫穿所述基部及所述承載部；至少一彈性組件，其設置於所述容置槽中，各個所述彈性組件的一端固定於所述升降結構，各個所述彈性組件的另一端固定於所述支撐結構，多個所述彈性組件受壓所產生的彈性回復力使所述基部抵靠於所述頂壁的所述內側面，且所述升降結構與所述支撐結構之間形成有一間隙；多個探針組件，各個所述探針組件的一端固定設置於所述支撐結構，且各個所述探針組件的一部份外露於所述支撐結構；多個所述探針組件的另一端穿設於多個所述連接孔；其中，當所述晶片容槽設置有所述待測晶片，且所述限位部未被所述接觸結構抵壓時，位於多個所述連接孔中的所述探針組件不與所述待測晶片的多個接點結構相連接，且所述升降結構的一部分凸伸出所述頂壁的所述外側面；其中，當所述晶片容槽設置有所述待測晶片，且所述限位部被所述接觸結構抵壓而向所述電連接座本體內縮時，位於多個所述連接孔中的所述探針組件將與所述待測晶片的多個所述接點結構相連接。
如請求項20所述的系統級測試系統，其中，各個所述晶片承載裝置還包含一固定組件，所述固定組件包含至少一固定構件及多個鎖固件，所述固定構件包含多個穿孔，各個所述穿孔用以提供至少一個所述電連接座的一部份穿設；其中，所述固定構件是透過多個所述鎖固件固定於所述承載電路板的所述第一側面，而多個所述電連接座則是被所述固定構件及所述承載電路板共同夾持而固定於所述第一側面；所述系統測試設備連接一抽氣裝置；所述溫度調節裝置還包含：一框體，其環繞所述接觸結構設置，所述框體具有一環抵壓面，所述環抵壓面與所述接觸面齊平，或者，所述接觸面高出於所述環抵壓面；及一彈性環形密封件，其設置於所述環抵壓面；其中，當所述接觸面與所述晶片承載裝置所承載的多個所述待測晶片的所述側面相接觸時，所述彈性環形密封件將對應抵壓於所述固定構件相反於所述承載電路板的一側，而所述接觸結構與所述承載電路板之間將對應形成一封閉空間；其中，所述控制裝置能控制所述抽氣裝置，對所述封閉空間進行抽氣。
如請求項22所述的系統級測試系統，其中，所述框體與所述接觸結構之間形成有至少一抽氣間隙，所述框體具有至少一抽氣孔，所述抽氣孔與所述抽氣間隙相連通，而所述抽氣裝置能通過所述抽氣孔及所述抽氣間隙，將所述封閉空間中的空氣向外抽出。
如請求項14所述的系統級測試系統，其中，各個所述系統測試設備還包含至少一第一供電構件及至少一第二供電構件，所述第一供電構件設置於所述承載電路板，所述第二供電構件設置於所述設備本體；所述設備本體具有至少一容置室，所述固持機構位於所述容置室中；當所述系統電路板被所述固持機構固定於所述容置室中，且所述承載電路板設置於所述系統電路板的所述連接面上時，所述供電設備能通過所述第二供電構件及所述第一供電構件，提供各個所述待測晶片及所述系統電路板運作時所需的電力。
如請求項14所述的系統級測試系統，其中，所述系統級測試設備還包含多個輔助連接組件，各個所述輔助連接組件包含至少一連接線及一連接埠，所述連接線的一端與所述連接埠相連接，所述連接線的另一端用以與所述系統電路板的其中一個所述系統連接結構相連接；多個所述連接埠用以與多個所述連接結構相連接。
如請求項25所述的系統級測試系統，其中，所述系統級測試系統還包含多個輔助升降組件，各個所述輔助升降組件電性連接所述控制裝置，且多個所述輔助升降組件與多個所述連接埠相連接，而所述控制裝置能控制各個所述輔助升降組件，以使各個所述輔助升降組件所連接的所述連接埠與一個所述連接結構相互連接或相互分離。