TWI745393B - 晶圓收納容器 - Google Patents

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TWI745393B TW106122303A TW106122303A TWI745393B TW I745393 B TWI745393 B TW I745393B TW 106122303 A TW106122303 A TW 106122303A TW 106122303 A TW106122303 A TW 106122303A TW I745393 B TWI745393 B TW I745393B
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南韓商披考安泰拉有限公司
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Abstract

本發明是有關於一種晶圓收納容器，特別是，有關於一 種於收納室的內部沿垂直方向劃分多個吹掃區域而向上述多個吹掃區域噴射吹掃氣體，藉此不僅可確保均勻地對晶圓進行吹掃，而且可不浪費吹掃氣體而有效率地對晶圓進行吹掃的晶圓收納容器。

Description

晶圓收納容器
本發明是有關於一種晶圓收納容器，特別是，有關於一種向收納至收納室的晶圓供給吹掃氣體而去除上述晶圓的煙霧的晶圓收納容器。
通常，於晶圓上選擇性且反覆地執行沉積製程、研磨製程、光刻製程、蝕刻製程、離子注入製程、清洗製程、檢查製程及熱處理製程等製造半導體元件，為了以此方式形成半導體元件而向各製程中所要求的特定位置搬運晶圓。
晶圓是高精度的物品，為了不使其受到外部污染物質的污染及因外部衝擊引起的損傷，將其收納至如前開式單元匣(Front Opening Unified Pod，FOUP)等的晶圓收納容器進行保管或搬運。
於該情形時，未去除製程中所使用的處理氣體及作為製程中的副產物的煙霧(Fume)等而殘留於晶圓的表面，因此存在半導體製造設備受到污染、或晶圓的蝕刻圖案(etch pattern)發生不良等而晶圓的可靠性下降的問題。
最近，為了解決此種問題，正在開發向收納於晶圓收納 容器的晶圓供給吹掃氣體而去除殘留於晶圓表面的煙霧、或防止晶圓氧化的吹掃(Purging)技術。
為了對收納至晶圓收納容器的晶圓進行吹掃，晶圓收納容器與如晶圓載出載入機(Load Port)等的可供給吹掃氣體的供給裝置結合，向收納於晶圓收納容器的晶圓供給吹掃氣體。因此，於晶圓收納容器具備供自上述供給裝置供給的吹掃氣體流動的流路、及噴射吹掃氣體的噴射口等。
如上所述，作為可供給吹掃氣體的晶圓收納容器，公知有韓國公開專利第2015-0087015號(以下，稱為“先前技術”)中所記載者。
先前技術的晶圓盒包括如下構件而構成：多個堆載台，支持晶圓，向收納室噴射吹掃氣體；及吸氣孔，與排氣部連通而排放晶圓盒的吹掃氣體與煙霧。
另外，於多個堆載台具備供吹掃氣體流動的吹掃氣體流路、及與上述吹掃氣體流路連通的吹掃氣體排出口。因此，吹掃氣體是自吹掃氣體供給源供給而藉由與上述吹掃氣體流路連通的側部氣體管流入至堆載台的內部，之後藉由吹掃氣體排出口噴射至收納室。
然而，於先前技術的晶圓盒中，一個側部氣體管與多個堆載台所具備的吹掃氣體流路連通，因此無法個別地對分別自多個堆載台噴射的吹掃氣體進行控制。因此，於僅於收納室的一部分區域收納晶圓的情形時(例如，僅於配置至收納室的下部的堆 載台堆載晶圓的情形時)，亦向未收納晶圓的中央區域及上部區域噴射吹掃氣體，因此存在會造成吹掃氣體的不必要的浪費的問題。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
(專利文獻1)韓國公開專利第2015-0087015號
本發明是為了解決上述問題而提出，其目的在於提供一種可確保均勻地對晶圓進行吹掃，將吹掃氣體的浪費最小化的晶圓收納容器。
另外，本發明的另一目的在於提供一種個別地控制噴射至沿收納室的垂直方向劃分的多個吹掃區域的吹掃氣體而進行噴射，藉此可獨立地對晶圓進行吹掃的晶圓收納容器。
另外，本發明的另一目的在於提供一種於收納室內，在垂直方向上的多個支持台具備凹陷部，從而可防止於晶圓藉由前方開口部而進出收納室時干涉移送上述晶圓的機械臂的晶圓收納容器。
另外，本發明的另一目的在於提供一種於在支持台支持晶圓時，將形成於支持台與晶圓之間的空間最小化，藉此可將噴射至收納室的吹掃氣體的垂直方向上的流動最小化而更有效率地向收納室中所劃分的多個吹掃區域個別地噴射吹掃氣體的晶圓收 納容器。
另外，本發明的另一目的在於提供一種於收納室的前方兩側具備前方排氣部，藉此可阻斷外部氣體流入至收納室的內部而更有效率地於收納室內對晶圓進行吹掃的晶圓收納容器。
本發明的一實施方式的晶圓收納容器的特徵在於包括：收納室，收納藉由前方開口部而收納的晶圓；多個噴射部，向上述收納室噴射吹掃氣體；及排氣部，排放上述收納室的吹掃氣體及煙霧；上述收納室可沿垂直方向劃分成多個吹掃區域，向上述各吹掃區域噴射吹掃氣體的噴射部個別地接收吹掃氣體而噴射至上述各吹掃區域。
另外，上述晶圓收納容器的特徵在於：上述多個噴射部分別具備與上述收納室相接的噴射部內壁面，於上述噴射部內壁面形成有使吹掃氣體噴射至上述收納室的噴射孔。
另外，上述晶圓收納容器的特徵在於：上述多個噴射部以分別與沿垂直方向劃分的上述多個吹掃區域對應的方式沿垂直方向積層配置。
另外，上述晶圓收納容器的特徵在於：更包括向上述多個噴射部供給吹掃氣體的供給部，上述供給部具備沿垂直方向延伸的多個垂直供給流路，上述多個垂直供給流路分別與上述多個噴射部連通。
另外，上述晶圓收納容器的特徵在於：上述排氣部具備 與上述收納室相接的排氣部內壁面，於上述排氣部內壁面形成有使上述收納室的吹掃氣體及煙霧排放至上述排氣部的排氣孔。
另外，上述晶圓收納容器的特徵在於：上述排氣部具備與上述排氣孔連通的多個排氣空間、及分別與上述多個排氣空間連通的多個垂直排氣流路，上述多個排氣空間以分別與沿垂直方向劃分的上述多個吹掃區域對應的方式，於上述排氣部的內部沿垂直方向積層配置。
如上所述的本發明的晶圓收納容器具有如下效果。
亦可對收納至收納室的上部的晶圓噴射足量的吹掃氣體，因此可均勻地對收納至收納室的多個晶圓進行吹掃，從而可確保晶圓製造製程的可靠性。
另外，可僅對多個吹掃區域中的定位有晶圓的區域選擇性地噴射吹掃氣體而對晶圓進行吹掃，因此可防止吹掃氣體的不必要的浪費。
10:晶圓收納容器
111~118:第1水平構件至第8水平構件
121~126:第1垂直構件至第6垂直構件
200:收納室
210:第1吹掃區域
220:第2吹掃區域
230:第3吹掃區域
251:前方開口部
310:第1噴射部
310a~310d:第1-1噴射部至第1-4噴射部
320:第2噴射部
320a~320d:第2-1噴射部至第2-4噴射部
330:第3噴射部
330a~330d:第3-1噴射部至第3-4噴射部
340:第1噴射部內壁面
345:第1支持台結合部
350:第2噴射部內壁面
346:第2支持台結合部
361:第1噴射部外壁面
362:第2噴射部外壁面
371a~371d:第1-1供給孔至第1-4供給孔
372a~372d:第2-1供給孔至第2-4供給孔
373a~373d:第3-1供給孔至第3-4供給孔
390:噴射孔
400:排氣部
410:第1排氣空間
411:第1垂直排氣流路
420:第2排氣空間
421:第2垂直排氣流路
430:第3排氣空間
431:第3垂直排氣流路
440:排氣部內壁面
490:排氣孔
510:第1供給部
520:第2供給部
531a~531d:第1-1供給空間至第1-4供給空間
532a~532d:第2-1供給空間至第2-4供給空間
533a~533d:第3-1供給空間至第3-4供給空間
541a~541d:第1-1垂直供給流路至第1-4垂直供給流路
542a~542d:第2-1垂直供給流路至第2-4垂直供給流路
543a~543d:第3-1垂直供給流路至第3-4垂直供給流路
600:支持台
610:後方支持部
611:後方圓弧部
612:後方突出部
620:左側支持部
621:左側圓弧部
622:左側突出部
630:右側支持部
631:右側圓弧部
632:右側突出部
640:左側傾斜部
650:右側傾斜部
660:左側凹陷部
670:右側凹陷部
710:第1前方排氣部
720:第1排氣狹縫
721a~721c:第4排氣空間至第6排氣空間
731a~731c:第4垂直排氣流路至第6垂直排氣流路
750:第2前方排氣部
760:第2排氣狹縫
761a~761c:第7排氣空間至第9排氣空間
771a~771c:第7垂直排氣流路至第9垂直排氣流路
800:下部板
810:第1下部板
811a~811d:第1-1供給連通孔至第1-4供給連通孔
812a~812d:第2-1供給連通孔至第2-4供給連通孔
813a~813d:第3-1供給連通孔至第3-4供給連通孔
815a~815c:第1排氣連通孔至第3排氣連通孔
816a~816c:第4排氣連通孔至第6排氣連通孔
817a~817c:第7排氣連通孔至第9排氣連通孔
820:第2下部板
821a~821d:第1-1供給流路至第1-4供給流路
822a~822d:第2-1供給流路至第2-4供給流路
823a~823d:第3-1供給流路至第3-4供給流路
825:第1後方排出孔
826a~826c:第4排氣流路至第6排氣流路
827a~827c:第7排氣流路至第9排氣流路
830:第3下部板
831a~831d:第1-1流入孔至第1-4流入孔
832a~832d:第2-1流入孔至第2-4流入孔
833a~833d:第3-1流入孔至第3-4流入孔
835:第2後方排出孔
836a~836c:第4排出孔至第6排出孔
837a~837c:第7排出孔至第9排出孔
850:連接構件
851a:第1-1主流入孔
851b:第1-2主流入孔
852a:第2-1主流入孔
852b:第2-2主流入孔
853a:第3-1主流入孔
853b:第3-2主流入孔
855:整合排出流路
857:主排氣孔
860:支承構件
900:上部板
C1:中心線
C2:中心線
W:晶圓
圖1是本發明的較佳的實施例的晶圓收納容器的立體圖。
圖2是圖1的分解立體圖。
圖3是圖1的前視圖。
圖4是表示注入至圖3的第1吹掃區域至第3吹掃區域的吹 掃氣體的流動的前視圖。
圖5是表示圖1的第1噴射部內壁面的局部立體圖。
圖6是表示圖1的第1-1噴射部至第3-2噴射部的局部立體圖。
圖7是表示圖6的第1-1噴射部至第3-2噴射部之吹掃氣體的流動的局部立體圖。
圖8是表示圖1的左側剖面的左側剖面圖。
圖9是表示排放至圖8的第1前方排氣部的外部氣體的流動及排放至排氣部的吹掃氣體及煙霧的流動的右側剖面圖。
圖10是表示圖1的第2噴射部內壁面的局部立體圖。
圖11是表示圖1的第1-3噴射部至第3-4噴射部的局部立體圖。
圖12是表示圖11的第1-3噴射部至第3-4噴射部的吹掃氣體的流動的局部立體圖。
圖13是表示圖1的右側剖面的右側剖面圖。
圖14是表示排放至圖13的第2前方排氣部的外部氣體的流動及排放至排氣部的吹掃氣體及煙霧的流動的右側剖面圖。
圖15是圖1的俯視剖面圖。
圖16是表示噴射至支持於圖15的支持台的晶圓的吹掃氣體的流動及排放至排氣部的吹掃氣體及煙霧的流動的俯視剖面圖。
圖17是表示圖1的排氣部的正面的前視圖。
圖18是表示圖17的排氣部的背面的剖面的背面剖面圖。
圖19是表示圖1的第1供給部右側面的右側視圖。
圖20是表示圖1的第2供給部左側面的左側視圖。
圖21是圖1的支持台的俯視圖。
圖22是表示於圖21的支持台支持有晶圓的圖。
圖23是表示圖1的第1前方排氣部右側面的立體圖。
圖24是表示圖23的第1前方排氣部的左側面的剖面的剖面立體圖。
圖25是表示圖1的第2前方排氣部的左側面的立體圖。
圖26是表示圖25的第2前方排氣部的右側面的剖面的剖面立體圖。
圖27是表示圖1的下部板的分解立體圖。
圖28是圖27的第1下部板的俯視圖。
圖29是圖27的第2下部板的俯視圖。
圖30是圖27的第3下部板的俯視圖。
圖31是圖27的連接部的俯視圖。
圖32是表示圖27的下部板內部的吹掃氣體的流動的俯視圖。
圖33是表示本發明的較佳的實施例的晶圓收納容器的吹掃氣體的供給/噴射流動的概略圖。
圖34是表示本發明的較佳的實施例的晶圓收納容器的吹掃氣體、煙霧及外部氣體的排放流動的概略圖。
以下所提及的“吹掃氣體”是用於去除晶圓的煙霧的惰性氣體的統稱，特別是可為作為惰性氣體之一的氮氣(N2)。
另外，“吹掃(Purging)”是對晶圓噴射吹掃氣體而去除殘留於晶圓表面的煙霧、或防止晶圓氧化的統稱。
本發明的較佳的實施例的晶圓收納容器包括如下構件而構成：收納室，收納藉由前方開口部而收納的晶圓；多個噴射部，向收納室噴射吹掃氣體；排氣部，排出收納室的吹掃氣體與煙霧；及供給部，向多個噴射部供給吹掃氣體。
於收納室的前方形成有前方開口部，晶圓藉由前方開口部而進出於收納室的內部。
於收納室的內部具備支持晶圓的支持台，由支持台支持晶圓而進行收納，因此可容易地收納藉由前方開口部而收納的晶圓。
多個噴射部向收納有晶圓的收納室噴射吹掃氣體，排氣部排放藉由多個噴射部而噴射於收納室的吹掃氣體與晶圓的煙霧，供給部向多個噴射部供給自晶圓收納容器的外部流入的吹掃氣體。
上述收納室可沿垂直方向劃分為多個吹掃區域。於該情形時，吹掃區域是指多個噴射部個別地接收吹掃氣體而向收納室噴射吹掃氣體來實現晶圓吹掃的區域。
如上所述的吹掃區域的數量可於可達成本發明的目的的範圍內，根據晶圓收納容器的用途及尺寸而進行各種劃分。
於晶圓的製造製程中，以10個晶圓為單位而向各製程移送晶圓的情形較多，因此較佳為於一個吹掃區域對10個晶圓進行吹掃，收納至晶圓收納容器的晶圓數量通常為30個。
因此，於收納至晶圓收納容器的晶圓數量為30個時，劃分於收納室的吹掃區域例如可劃分為3個吹掃區域。
於該情形時，較佳為晶圓收納容器具備3個噴射部、即第1噴射部至第3噴射部而劃分成第1吹掃區域至第3吹掃區域，以下以此為基準而進行說明。
如上所述，於具備個別地接收吹掃氣體而向收納室噴射吹掃氣體的第1噴射部至第3噴射部的情形時，收納室可劃分成第1吹掃區域至第3吹掃區域。於該情形時，第1噴射部向第1吹掃區域噴射吹掃氣體，第2噴射部向第2吹掃區域噴射吹掃氣體，第3噴射部向第3吹掃區域噴射吹掃氣體，於收納室的內部沿垂直方向劃分第1吹掃區域至第3吹掃區域。
如上所述，為了達成第1噴射部至第3噴射部個別地接收吹掃氣體而向收納室噴射吹掃氣體，藉此於收納室沿垂直方向劃分第1吹掃區域至第3吹掃區域的情形，第1噴射部至第3噴射部可分別形成分別與第1吹掃區域至第3吹掃區域對應的位於垂直方向上的噴射孔。
例如，於第1吹掃區域至第3吹掃區域按照自下部至上部的順序以第1吹掃區域、第2吹掃區域及第3吹掃區域劃分於收納室的情形時(即，第1吹掃區域為收納室的下部區域、第2 吹掃區域為收納室的中間區域、第3吹掃區域為收納室的上部區域)，形成至第1噴射部的噴射孔可形成於與第1吹掃區域的高度對應的位置(下部區域)。因此，第1噴射部可個別地接收吹掃氣體而僅向收納室的下部區域即第1吹掃區域噴射吹掃氣體。
另外，形成至第2噴射部的噴射孔可形成於與第2吹掃區域的高度對應的位置(中間區域)，因此第2噴射部可個別地接收吹掃氣體而僅向收納室的中間區域即第2吹掃區域噴射吹掃氣體。
另外，形成至第3噴射部的噴射孔可形成於與第3吹掃區域的高度對應的位置(上部區域)，因此第3噴射部可個別地接收吹掃氣體而僅向收納室的上部區域即第3吹掃區域噴射吹掃氣體。
如上所述，於本發明的晶圓收納容器中，第1噴射部至第3噴射部個別地接收吹掃氣體而噴射至收納室，因此於收納室的內部形成沿垂直方向劃分的第1吹掃區域至第3吹掃區域。
因此，個別地形成分別流向第1吹掃區域至第3吹掃區域的吹掃氣體的流動，因此與先前技術不同，流向收納室的上部區域即第3吹掃區域的吹掃氣體無需流向第1吹掃區域或第2吹掃區域，因此不會產生吹掃氣體的流量的損失。
因此，與先前技術不同，本發明的晶圓收納容器亦可向收納室的上部區域即第3吹掃區域噴射足量的吹掃氣體。
另外，由於第1噴射部至第3噴射部個別地接收吹掃氣 體，因此可藉由對供給至第1噴射部至第3噴射部的吹掃氣體進行控制而對噴射至收納室的第1吹掃區域至第3吹掃區域的吹掃氣體進行控制，因此可僅向第1吹掃區域至第3吹掃區域中的收納晶圓的區域噴射吹掃氣體。因此，可防止先前技術中因向未收納晶圓的區域噴射吹掃氣體而產生的吹掃氣體的浪費，且與收納於收納室的晶圓的待機時間對應地對晶圓噴射吹掃氣體而去除晶圓的煙霧，藉此可將因未能去除一部分晶圓的煙霧而晶圓發生不良的情形最少化。
作為與上述內容不同的構成，為了達成第1噴射部至第3噴射部個別地接收吹掃氣體而向收納室噴射吹掃氣體，藉此於收納室沿垂直方向劃分第1吹掃區域至第3吹掃區域的情形，第1噴射部至第3噴射部能夠以與沿垂直方向劃分的第1吹掃區域至第3吹掃區域對應的方式沿垂直方向積層配置。
例如，於第1吹掃區域至第3吹掃區域按照自下部至上部的順序以第1吹掃區域、第2吹掃區域及第3吹掃區域劃分於收納室的情形時(即，第1吹掃區域為收納室的下部區域、第2吹掃區域為收納室的中間區域、第3吹掃區域為收納室的上部區域)，第1噴射部至第3噴射部亦可按照自下部至上部的順序沿垂直方向積層配置第1噴射部、第2噴射部及第3噴射部。於該情形時，第1噴射部至第3噴射部分別具備與收納室相接的噴射部內壁面，可於噴射部內壁面形成向收納室噴射吹掃氣體的噴射孔。
因此，第1噴射部可個別地接收吹掃氣體而藉由形成於 第1噴射部所具備的噴射部內壁面的噴射孔來僅向第1吹掃區域噴射吹掃氣體。
另外，第2噴射部可個別地接收吹掃氣體而藉由形成於第2噴射部所具備的噴射部內壁面的噴射孔來僅向第2吹掃區域噴射吹掃氣體，第3噴射部亦可個別地接收吹掃氣體而藉由形成於第3噴射部所具備的噴射部內壁面的噴射孔來僅向第3吹掃區域噴射吹掃氣體。
如上所述，於第1噴射部至第3噴射部沿垂直方向積層配置而分別向第1吹掃區域至第3吹掃區域噴射吹掃氣體的情形時，第1噴射部至第3噴射部可分別劃分成分別自多個方向對第1吹掃區域至第3吹掃區域噴射吹掃氣體的多個噴射部。
例如，向第1吹掃區域噴射吹掃氣體的第1噴射部可包括：第1-1噴射部，向第1吹掃區域的前方左側噴射吹掃氣體；第1-2噴射部，向第1吹掃區域的後方左側噴射吹掃氣體；第1-3噴射部，向第1吹掃區域的前方右側噴射吹掃氣體；及第1-4噴射部，向第1吹掃區域的後方右側噴射吹掃氣體。
與第1噴射部相同，向第2吹掃區域噴射吹掃氣體的第2噴射部亦可包括：第2-1噴射部，向第2吹掃區域的前方左側噴射吹掃氣體；第2-2噴射部，向第2吹掃區域的後方左側噴射吹掃氣體；第2-3噴射部，向第1吹掃區域的前方右側噴射吹掃氣體；及第2-4噴射部，向第2吹掃區域的後方右側噴射吹掃氣體。
與第1噴射部相同，向第3吹掃區域噴射吹掃氣體的第 3噴射部亦可包括：第3-1噴射部，向第3吹掃區域的前方左側噴射吹掃氣體；第3-2噴射部，向第3吹掃區域的後方左側噴射吹掃氣體；第3-3噴射部，向第3吹掃區域的前方右側噴射吹掃氣體；及第3-4噴射部，向第3吹掃區域的後方右側噴射吹掃氣體。
如上所述，第1噴射部至第3噴射部分別包括第1-1噴射部至第1-4噴射部、第2-1噴射部至第2-4噴射部、第3-1噴射部至第3-4噴射部而構成，藉此可分別無死角地對收納室的第1吹掃區域至第3吹掃區域噴射吹掃氣體，因此可有效率地去除收納至收納室的晶圓的煙霧。
以下，以如下情形為基準而對本發明的較佳的實施例的晶圓收納容器的一個實施例進行說明：如上所述，由多個噴射部構成第1噴射部至第3噴射部，第1噴射部至第3噴射部分別包括第1-1噴射部至第1-4噴射部、第2-1噴射部至第2-4噴射部及第3-1噴射部至第3-4噴射部而構成。
於該情形時，於收納室收納30個晶圓，收納室的內部由第1噴射部至第3噴射部沿垂直方向劃分為第1吹掃區域至第3吹掃區域。因此，於第1吹掃區域至第3吹掃區域分別定位有10個晶圓，可藉由第1噴射部至第3噴射部而分別對10個晶圓進行吹掃。
以下，參照隨附圖式，對本發明的較佳的實施例的晶圓收納容器10進行說明。
圖1是本發明的較佳的實施例的晶圓收納容器的立體 圖，圖2是圖1的分解立體圖，圖3是圖1的前視圖，圖4是表示注入至圖3的第1吹掃區域至第3吹掃區域的吹掃氣體的流動的前視圖，圖5是表示圖1的第1噴射部內壁面的局部立體圖，圖6是表示圖1的第1-1噴射部至第3-2噴射部的局部立體圖，圖7是表示圖6的第1-1噴射部至第3-2噴射部的吹掃氣體的流動的局部立體圖，圖8是表示圖1的左側剖面的左側剖面圖，圖9是表示排放至圖8的第1前方排氣部的外部氣體的流動及排放至排氣部的吹掃氣體及煙霧的流動的右側剖面圖，圖10是表示圖1的第2噴射部內壁面的局部立體圖，圖11是表示圖1的第1-3噴射部至第3-4噴射部的局部立體圖，圖12是表示圖11的第1-3噴射部至第3-4噴射部的吹掃氣體的流動的局部立體圖，圖13是表示圖1的右側剖面的右側剖面圖，圖14是表示排放至圖13的第2前方排氣部的外部氣體的流動及排放至排氣部的吹掃氣體及煙霧的流動的右側剖面圖，圖15是圖1的俯視剖面圖，圖16是表示噴射至支持於圖15的支持台的晶圓的吹掃氣體的流動及排放至排氣部的吹掃氣體及煙霧的流動的俯視剖面圖，圖17是表示圖1的排氣部的正面的前視圖，圖18是表示圖17的排氣部的背面的剖面的背面剖面圖，圖19是表示圖1的第1供給部的右側面的右側視圖，圖20是表示圖1的第2供給部的左側面的左側視圖，圖21是圖1的支持台的俯視圖，圖22是表示於圖21的支持台支持有晶圓的圖，圖23是表示圖1的第1前方排氣部的右側面的立體圖，圖24是表示圖23的第1前方排氣部的左側面的剖面的剖面立體 圖，圖25是表示圖1的第2前方排氣部的左側面的立體圖，圖26是表示圖25的第2前方排氣部的右側面的剖面的剖面立體圖，圖27是表示圖1的下部板的分解立體圖，圖28是圖27的第1下部板的俯視圖，圖29是圖27的第2下部板的俯視圖，圖30是圖27的第3下部板的俯視圖，圖31是圖27的連接部的俯視圖，圖32是表示圖27的下部板內部吹掃氣體的流動的俯視圖，圖33是表示本發明的較佳的實施例的晶圓收納容器的吹掃氣體的供給/噴射流動的概略圖，圖34是表示本發明的較佳的實施例的晶圓收納容器的吹掃氣體、煙霧及外部氣體的排放流動的概略圖。
如圖1至圖3所示，本發明的較佳的實施例的晶圓收納容器10包括如下構件而構成：收納室200，收納藉由前方開口部251而收納的晶圓W；第1噴射部至第3噴射部310、320、330，向收納室200噴射吹掃氣體；第1水平構件至第8水平構件111~118及第1垂直構件至第6垂直構件121~126，構成第1噴射部至第3噴射部310、320、330的框架；排氣部400，排放收納室200的吹掃氣體及煙霧；供給部，向第1噴射部至第3噴射部310、320、330供給吹掃氣體；支持台600，設置至收納室200的內部而支持晶圓W；第1前方排氣部710及第2前方排氣部750，配置至收納室200的前方的左右側；下部板800，構成晶圓收納容器10的下部面；連接構件850，設置至下部板800的下部；上部板900，構成晶圓收納容器10的上部面。
收納室200
以下，對收納室200進行說明。
如圖1至圖3所示，收納室200發揮於內部收納晶圓W的功能，定義為由第1噴射部至第3噴射部310、320、330及排氣部400包圍的內側空間。
於收納室200的前方形成有前方開口部251，晶圓W藉由前方開口部251而進出。
收納室200的上部面由上部板900構成，收納室200的下部面由下部板800構成，收納室200的外圍面由第1噴射部內壁面340及第2噴射部內壁面350與排氣部內壁面440構成。
因此，收納室200的除前方開口部251以外的上部面、下部面、外圍面由上下部板900、800、第1噴射部內壁面340及第2噴射部內壁面350與排氣部內壁面440封閉。
另外，於構成收納室200的外圍面的第1噴射部內壁面340及第2噴射部內壁面350與排氣部內壁面440分別形成有噴射孔390及排氣孔490，可藉由噴射孔390向收納室200噴射吹掃氣體、或藉由排氣孔490排放噴射於收納室200的吹掃氣體及晶圓W的煙霧。
於收納室200的內部具備支持晶圓W的支持台600，因此晶圓W可支持至支持台600而容易地收納至收納室200。
於該情形時，如圖5及圖10所示，支持台600可藉由分別具備於收納室200的左側後方及右側後方的第1支持台結合部345及第2支持台結合部346而容易地設置至第1噴射部內壁 面340及第2噴射部內壁面350。
另外，可根據收納至收納室200的晶圓W的數量而沿垂直方向具備多個支持台600。因此，於收納室200具備分別支持30個晶圓W的30個支持台600，之後對此種支持台600進行詳述。
如圖3及圖4所示，收納室200的內部沿垂直方向劃分為第1吹掃區域至第3吹掃區域210、220、230，於該情形時，按照自下部至上部的順序而依序劃分第1吹掃區域210、第2吹掃區域220與第3吹掃區域230。
第1吹掃區域至第3吹掃區域210、220、230是於收納室200的內部劃分的假想區域，其是指藉由分別自第1噴射部至第3噴射部310、320、330噴射的吹掃氣體對晶圓W進行吹掃的區域。
因此，藉由自第1噴射部310噴射的吹掃氣體吹掃收納至收納室200而位於第1吹掃區域210的晶圓W，藉由自第2噴射部320噴射的吹掃氣體吹掃位於第2吹掃區域220的晶圓W，藉由自第3噴射部330噴射的吹掃氣體吹掃位於第3吹掃區域230的晶圓W。
另外，分別個別地對供給至第1噴射部310的吹掃氣體、供給至第2噴射部320的吹掃氣體及供給至第3噴射部330的吹掃氣體進行供給，之後對其進行詳述。
第1噴射部至第3噴射部310、320、330
以下，對第1噴射部至第3噴射部310、320、330進行說明。
如圖3及圖4所示，第1噴射部至第3噴射部310、320、330以包覆收納室200的外圍的方式配置，按照自下部至上部的順序沿垂直方向積層配置第1噴射部310、第2噴射部320及第3噴射部330，藉此配置成分別與於收納室200沿垂直方向劃分的第1吹掃區域至第3吹掃區域210、220、230對應。
換言之，第1噴射部310配置至下部板800的上部，第2噴射部320配置至第1噴射部310的上部，第3噴射部330配置至第2噴射部320的上部及上部板900的下部。即，於下部板800與上部板900之間，第1噴射部至第3噴射部310、320、330沿垂直方向配置成3層。因此，可根據自第1噴射部至第3噴射部310、320、330噴射的吹掃氣體容易地劃分第1吹掃區域至第3吹掃區域210、220、230。
如圖6及圖11所示，第1噴射部至第3噴射部310、320、330可分別包括第1-1噴射部至第1-4噴射部310a~310d、第2-1噴射部至第2-4噴射部320a~320d及第3-1噴射部至第3-4噴射部330a~330d而構成，於該情形時，第1-1噴射部至第1-4噴射部310a~310d向第1吹掃區域210噴射吹掃氣體，第2-1噴射部至第2-4噴射部320a~320d向第2吹掃區域220噴射吹掃氣體，第3-1噴射部至第3-4噴射部330a~330d向第3吹掃區域230噴射吹掃氣體。
另外，第1-1噴射部310a及第1-2噴射部310b、第2-1 噴射部320a及第2-2噴射部320b、第3-1噴射部330a及第3-2噴射部330b、第1-3噴射部310c及第1-4噴射部310d、第2-3噴射部320c及第2-4噴射部320d、第3-3噴射部330c及第3-4噴射部330d分別藉由下文敍述的第1-1外部供給線至第3-2外部供給線(未圖示)而個別地接收吹掃氣體，之後對其進行詳述。
如上所述，第1噴射部310、第2噴射部320及第3噴射部330沿垂直方向積層配置，因此彼此於垂直方向上區分。
換言之，配置至收納室200的左側及後方左側的第1-1噴射部310a及第1-2噴射部310b、第2-1噴射部320a及第2-2噴射部320b與第3-1噴射部330a及第3-2噴射部330b彼此於垂直方向上區分，此種垂直方向上的區分如下。
於第1-1噴射部310a及第1-2噴射部310b與第2-1噴射部320a及第2-2噴射部320b之間具備第2水平構件112，因此第1-1噴射部310a及第1-2噴射部310b與第2-1噴射部320a及第2-2噴射部320b於垂直方向上區分。
於第2-1噴射部320a及第2-2噴射部320b與第3-1噴射部330a及第3-2噴射部330b之間具備第3水平構件113，因此第2-1噴射部320a及第2-2噴射部320b與第3-1噴射部330a及第3-2噴射部330b於垂直方向上區分。
另外，配置至收納室200的右側及後方右側的第1-3噴射部310c及第1-4噴射部310d、第2-3噴射部320c及第2-4噴射部320d與第3-3噴射部330c及第3-4噴射部330d彼此於垂直方 向上區分，此種垂直方向上的區分如下。
於第1-3噴射部310c及第1-4噴射部310d與第2、3噴射部320c及第2-4噴射部320d之間具備第6水平構件116，因此第1-3噴射部310c及第1-4噴射部310d與第2-3噴射部320c及第2-4噴射部320d於垂直方向上區分。
另外，於第2-3噴射部320c及第2-4噴射部320d與第3-3噴射部330c及第3-4噴射部330d之間具備第7水平構件117，因此第2-3噴射部320c及第2-4噴射部320d與第3-3噴射部330c及第3-4噴射部330d於垂直方向上區分。
另外，於配置至收納室200的左側及後方左側的第1-1噴射部310a與第1-2噴射部310b、第2-1噴射部320a與第2-2噴射部320b、及第3-1噴射部330a與第3-2噴射部330b之間分別具備第2垂直構件122。因此，第1-1噴射部310a與第1-2噴射部310b於水平方向上區分，第2-1噴射部320a與第2-2噴射部320b於水平方向上區分，第3-1噴射部330a與第3-2噴射部330b於水平方向上區分。
另外，於配置至收納室200的右側及後方右側的第1-3噴射部310c與第1-4噴射部310d、第2-3噴射部320c與第2-4噴射部320d、及第3-3噴射部330c與第3-4噴射部330d之間分別具備第5垂直構件125。因此，第1-3噴射部310c與第1-4噴射部310d於水平方向上區分，第2-3噴射部320c與第2-4噴射部320d於水平方向上區分，第3-3噴射部330c與第3-4噴射部330d 於水平方向上區分。
第1-1噴射部310a及第1-2噴射部310b、第2-1噴射部320a及第2-2噴射部320b、與第3-1噴射部330a及第3-2噴射部330b的內側面由第1噴射部內壁面340構成，第1-1噴射部310a及第1-2噴射部310b、第2-1噴射部320a及第2-2噴射部320b、與第3-1噴射部330a及第3-2噴射部330b的外側面由第1噴射部外壁面361構成。
於該情形時，第1噴射部內壁面340具備於收納室200與第1-1噴射部310a及第1-2噴射部310b、第2-1噴射部320a及第2-2噴射部320b、第3-1噴射部330a及第3-2噴射部330b之間。
因此，第1噴射部內壁面340於構成第1-1噴射部310a及第1-2噴射部310b、第2-1噴射部320a及第2-2噴射部320b、與第3-1噴射部330a及第3-2噴射部330b的內側面的同時，構成收納室200的外側面(或外圍面)。換言之，第1-1噴射部310a及第1-2噴射部310b、第2-1噴射部320a及第2-2噴射部320b、與第3-1噴射部330a及第3-2噴射部330b藉由第1噴射部內壁面340而與收納室200的左側及後方左側相接。
第1噴射部外壁面361以向收納室200的相反方向遠離第1噴射部內壁面340的方式具備，於此種第1噴射部內壁面340與第1噴射部外壁面361之間形成有間隔空間。
因此，第1-1噴射部310a及第1-2噴射部310b、第2-1 噴射部320a及第2-2噴射部320b、與第3-1噴射部330a及第3-2噴射部330b可分別定義為第1噴射部內壁面340與第1噴射部外壁面361之間的間隔空間。
第1-3噴射部310c及第1-4噴射部310d、第2-3噴射部320c及第2-4噴射部320d、與第3-3噴射部330c及第3-4噴射部330d的內側面由第2噴射部內壁面350構成，第1-3噴射部310c及第1-4噴射部310d、第2-3噴射部320c及第2-4噴射部320d、與第3-3噴射部330c及第3-4噴射部330d的外側面由第2噴射部外壁面362構成。
於該情形時，第2噴射部內壁面350具備於收納室200與第1-3噴射部310c及第1-4噴射部310d、第2-3噴射部320c及第2-4噴射部320d、第3-3噴射部330c及第3-4噴射部330d之間。
因此，第2噴射部內壁面350於構成第1-3噴射部310c及第1-4噴射部310d、第2-3噴射部320c及第2-4噴射部320d、與第3-3噴射部330c及第3-4噴射部330d的內側面的同時，構成收納室200的外側面(或外圍面)。換言之，第1-3噴射部310c及第1-4噴射部310d、第2-3噴射部320c及第2-4噴射部320d、與第3-3噴射部330c及第3-4噴射部330d藉由第2噴射部內壁面350而與收納室200的右側及後方右側相接。
第2噴射部外壁面362以向收納室200的相反方向遠離第2噴射部內壁面350的方式具備，於此種第2噴射部內壁面350 與第2噴射部外壁面362之間形成有間隔空間。
因此，第1-3噴射部310c及第1-4噴射部310d、第2-3噴射部320c及第2-4噴射部320d、與第3-3噴射部330c及第3-4噴射部330d可分別定義為第2噴射部內壁面350與第2噴射部外壁面362之間的間隔空間。
可於上述第1-1噴射部至第3-4噴射部310a~330d具備對收納室200的內部溫度及濕度進行調節的加熱器(未圖示)。
加熱器可由第1-1加熱器至第3-4加熱器構成，以便與第1-1噴射部至第3-4噴射部310a~330d對應。
第1-1加熱器至第3-4加熱器可分別以位於第1-1噴射部至第3-4噴射部310a~330d的外側的方式設置至第1噴射部外壁面361及第2噴射部外壁面362的外側面。
於該情形時，較佳為於向外側方向遠離第1噴射部外壁面361及第2噴射部外壁面362的位置設置罩蓋(未圖示)，以不使第1-1加熱器至第3-4加熱器露出至外部。因此，晶圓收納容器10的最外殼的外圍面由罩蓋構成，第1-1加熱器至第3-4加熱器位於第1噴射部外壁面361及第2噴射部外壁面362與罩蓋之間。
較佳為個別地控制第1-1加熱器至第3-4加熱器，因此可僅使與第1-1噴射部至第3-4噴射部310a~330d中的向第1吹掃區域至第3吹掃區域210、220、230噴射吹掃氣體的噴射部對應的加熱器進行動作。
例如，於第2-2噴射部320b向第2吹掃區域220噴射 吹掃氣體時，使第2-2加熱器進行動作，藉此可對自第2-2噴射部320b噴射的吹掃氣體與收納室200的第2吹掃區域220進行加熱。因此，可容易地對收納至第2吹掃區域220的晶圓W進行吹掃，因第2吹掃區域220的內部的濕度變低而可防止晶圓W氧化。
如上所述，可與第1-1噴射部至第3-4噴射部310a~330d的個別控制有機地實現第1-1加熱器至第3-4加熱器的個別控制。因此，可利用加熱器僅對第1吹掃區域至第3吹掃區域210、220、230中的所期望的吹掃區域進行溫度及濕度調節，因此能夠以最少的能量(電氣等)防止晶圓W氧化。
噴射孔390
以下，對形成至第1噴射部內壁面340及第2噴射部內壁面350的噴射孔390進行說明。
如圖3、圖5、圖8、圖10及圖13所示，於第1噴射部內壁面340及第2噴射部內壁面350形成多個噴射孔390。
於該情形時，多個噴射孔390可形成為具有列與行的矩陣形態，如上所述，本發明的較佳的實施例的晶圓收納容器10收納30個晶圓W而進行吹掃，因此較佳為多個噴射孔390具有30個列。
另外，較佳為多個噴射孔390以分別位於30個支持台600的上部的方式形成。換言之，以多個噴射孔390分別位於支持台600的上部與下部的方式形成至第1噴射部內壁面340及第2噴射部內壁面350，因此可容易地向分別由30個支持台600支持 的30個晶圓W的上部噴射吹掃氣體。
形成於第1噴射部內壁面340的噴射孔390中的位於與第1吹掃區域210對應的高度的噴射孔390連通第1-1噴射部310a及第1-2噴射部310b與第1吹掃區域210的左側及後方左側。因此，供給於第1-1噴射部310a及第1-2噴射部310b的內部的吹掃氣體可藉由噴射孔而噴射至第1吹掃區域210的左側及後方左側。
形成於第1噴射部內壁面340的噴射孔390中的位於與第2吹掃區域220對應的高度的噴射孔390連通第2-1噴射部320a及第2-2噴射部320b與第2吹掃區域220的左側及後方左側。因此，供給於第2-1噴射部320a及第2-2噴射部320b的內部的吹掃氣體可藉由噴射孔而噴射至第1吹掃區域210的左側及後方左側。
形成於第1噴射部內壁面340形成的噴射孔390中的位於與第3吹掃區域230對應的高度的噴射孔390連通第3-1噴射部330a及第3-2噴射部330b與第3吹掃區域230的左側及後方左側。因此，供給於第3-1噴射部330a及第3-2噴射部330b的內部的吹掃氣體可藉由噴射孔而噴射至第1吹掃區域210的左側及後方左側。
形成於第2噴射部內壁面350的噴射孔390中的位於與第1吹掃區域210對應的高度的噴射孔390連通第1-3噴射部310c及第1-4噴射部310d與第1吹掃區域210的右側及後方右側。因此，供給於第1-3噴射部310c及第1-4噴射部310d的內部的吹掃氣體可藉由噴射孔而噴射至第1吹掃區域210的右側及後方右側。
形成於第2噴射部內壁面350的噴射孔390中的位於與第2吹掃區域220對應的高度的噴射孔390連通第2-3噴射部320c及第2-4噴射部320d與第2吹掃區域220的右側及後方右側。因此，供給於第2-3噴射部320c及第2-4噴射部320d的內部的吹掃氣體可藉由噴射孔而噴射至第1吹掃區域210的右側及後方右側。
形成於第2噴射部內壁面350上的噴射孔390中的位於與第3吹掃區域230對應的高度的噴射孔390連通第3-3噴射部330c及第3-4噴射部330d與第3吹掃區域230的右側及後方右側。因此，供給於第3-3噴射部330c及第3-4噴射部330d的內部的吹掃氣體可藉由噴射孔而噴射至第1吹掃區域210的右側及後方右側。
如上所述，第1-1噴射部至第3-4噴射部310a~330d藉由形成於第1噴射部內壁面340及第2噴射部內壁面350的噴射孔而向第1吹掃區域至第3吹掃區域210、220、230即收納室200的內部噴射吹掃氣體。
於該情形時，分別對第1-1噴射部至第3-2噴射部310a~330b供給特定的吹掃氣體而儲存，因此儲存於上述各噴射部的吹掃氣體的內部壓力上升，因此種內部壓力而藉由噴射孔390向第1吹掃區域至第3吹掃區域210、220、230噴射吹掃氣體。
如上所述，自構成收納室200的外圍面的第1噴射部內壁面340及第2噴射部內壁面350的噴射孔390噴射吹掃氣體，因此相較先前技術具有可將死角最小化的效果。
詳細而言，於先前技術中，具備噴射口的噴射構件另外具備於收納室的兩側面而噴射吹掃氣體，但本發明的較佳的實施例的晶圓收納容器10是於第1噴射部內壁面340及第2噴射部內壁面350直接形成噴射孔390而噴射吹掃氣體。因此，可藉由簡單地於第1噴射部內壁面340及第2噴射部內壁面350形成噴射孔390而容易地調節噴射至第1吹掃區域至第3吹掃區域210、220、230的吹掃氣體的噴射方向，因此可容易地形成將死角最小化的最佳噴射孔390的排列。
另外，於第1噴射部內壁面340及第2噴射部內壁面350形成噴射孔390，因此可容易地增加噴射孔390的數量，於噴射孔390的數量變多而密集地配置多個噴射孔390的情形時，可達成如自作為收納室200的外圍面的第1噴射部內壁面340及第2噴射部內壁面350整體噴射吹掃氣體的一種面噴射效果。因此，與先前技術不同，可確保均勻的噴射壓力，因此可防止僅向晶圓W的一部分區域集中地噴射吹掃氣體。
另外，於因長期使用晶圓收納容器10而噴射孔390受到煙霧的污染被堵塞的情形時，可藉由更換第1噴射部內壁面340及第2噴射部內壁面350而解決因噴射孔390堵塞引起的問題，因此可容易地對晶圓收納容器10進行維護管理。
另外，與上述實施例不同，可於第1噴射部內壁面340及第2噴射部內壁面350沿垂直方向具有30行以上的噴射孔390。換言之，亦可沿垂直方向形成2個以上的噴射孔390，而並 非於多個支持台600之間定位有一個噴射孔390。因此，可於一個吹掃區域沿垂直方向形成10個以上的數量的噴射孔390，因此可更容易地對晶圓W進行吹掃。
另外，噴射孔390的形狀可形成為長方形狹縫形狀、端部為圓弧的狹縫形狀、圓孔形狀、多邊形的孔形狀等各種形狀。
第1-1供給孔至第3-2供給孔371a~373b及第1-3供給孔至第3-4供給孔371c~373d
以下，對形成至第1噴射部外壁面361的第1-1供給孔至第3-2供給孔371a~373b、與形成至第2噴射部外壁面362的第1-3供給孔至第3-4供給孔371c~373d進行說明。
如圖6及圖7所示，第1-1供給孔至第3-2供給孔371a~373b形成至第1噴射部外壁面361。
第1-1供給孔371a連通第1-1噴射部310a的內部與第1供給部510的第1-1供給空間531a，因此第1-1供給空間531a的吹掃氣體可流動至第1-1噴射部310a的內部。
第1-2供給孔371b連通第1-2噴射部310b的內部與第1供給部510的第1-2供給空間531b，因此第1-2供給空間531b的吹掃氣體可流動至第1-2噴射部310b的內部。
第2-1供給孔372a連通第2-1噴射部320a的內部與第1供給部510的第2-1供給空間532a，因此第2-1供給空間532a的吹掃氣體可流動至第2-1噴射部320a的內部。
第2-2供給孔372b連通第2-1噴射部320a的內部與第 1供給部510的第2-1供給空間532a，因此第2-1供給空間532a的吹掃氣體可流動至第2-1噴射部320a的內部。
第3-1供給孔373a連通第3-1噴射部330a的內部與第1供給部510的第3-1供給空間533a，因此第3-1供給空間533a的吹掃氣體可流動至第3-1噴射部330a的內部。
第3-2供給孔373b連通第3-2噴射部330b的內部與第1供給部510的第3-2供給空間533b，因此第3-2供給空間533b的吹掃氣體可流動至第3-2噴射部330b的內部。
如圖11及圖12所示，第1-3供給孔至第3-4供給孔371c~373d形成至第2噴射部外壁面362。
第1-3供給孔371c連通第1-3噴射部310c的內部與第2供給部520的第1-3供給空間531c，因此第1-3供給空間531c的吹掃氣體可流動至第1-3噴射部310c的內部。
第1-4供給孔371d連通第1-4噴射部310d的內部與第2供給部520的第1-4供給空間531d，因此第1-4供給空間531d的吹掃氣體可流動至第1-4噴射部310d的內部。
第2-3供給孔372c連通第2-3噴射部320c的內部與第2供給部520的第2-3供給空間532c，因此第2-3供給空間532c的吹掃氣體可流動至第2-3噴射部320c的內部。
第2-4供給孔372d連通第2-4噴射部320d的內部與第2供給部520的第2-4供給空間532d，因此第2-4供給空間532d的吹掃氣體可流動至第2-4噴射部320d的內部。
第3-3供給孔373c連通第3-3噴射部330c的內部與第2供給部520的第3-3供給空間533c，因此第3-3供給空間533c的吹掃氣體可流動至第3-3噴射部330c的內部。
第3-4供給孔373d連通第3-4噴射部330d的內部與第2供給部520的第3-4供給空間533d，因此第3-4供給空間533d的吹掃氣體可流動至第3-4噴射部330d的內部。
較佳為上述第1-1供給孔至第3-4供給孔371a~373d形成為垂直方向長度長於水平方向長度的狹縫形態。
另外，較佳為第1-1供給孔至第3-4供給孔371a~373d的水平方向長度形成為短於分別與第1-1供給孔至第3-4供給孔371a~373d連通的第1供給部及第2供給部的第1-1供給空間至第3-4供給空間531a~533d的水平方向長度。
其原因在於，於吹掃氣體自第1-1供給空間至第3-4供給空間531a~533d向第1-1供給孔至第3-4供給孔371a~373d流動時，自寬度相對較寬的第1-1供給空間至第3-4供給空間531a~533d向寬度相對較窄的第1-1供給孔至第3-4供給孔371a~373d流動，因此可使吹掃氣體的噴射壓瞬間上升。
如上所述，若吹掃氣體的噴射壓瞬間上升，則吹掃氣體可容易地流動至第1-1噴射部至第3-4噴射部310a~330d的內部整體，因此自第1-1噴射部至第3-4噴射部310a~330d噴射的吹掃氣體可更順暢地噴射至第1吹掃區域至第3吹掃區域210、220、230整體。
第1水平構件至第8水平構件111~118及第1垂直構件至第6垂直構件121~126
以下，對第1水平構件至第8水平構件111~118及第1垂直構件至第6垂直構件121~126進行說明。
如圖2及圖6所示，第1水平構件至第4水平構件111~114及第1垂直構件至第3垂直構件121~123配置至收納室200的左側。
第1水平構件至第4水平構件111~114由第1垂直構件至第3垂直構件121~123連接，因此種連接構造而第1水平構件至第4水平構件111~114及第1垂直構件至第3垂直構件121~123構成第1-1噴射部至第3-2噴射部310a~330b的骨架、即框架。
於該情形時，第1水平構件至第4水平構件111~114與第1垂直構件至第3垂直構件121~123可分別具有特定的寬度，上述寬度的尺寸與第1噴射部內壁面340與第1噴射部外壁面361之間的間隔空間的寬度相同。因此，可由上述寬度定義第1-1噴射部至第3-2噴射部310a~330b的內部空間的寬度。
如圖2及圖11所示，第5水平構件至第8水平構件115~118及第4垂直構件至第6垂直構件124~126配置至收納室200的右側。
第5水平構件至第8水平構件115~118由第4垂直構件至第6垂直構件124~126連接，因此種連接構造而第5水平構 件至第8水平構件115~118及第4垂直構件至第6垂直構件124~126構成第1-3噴射部至第3-4噴射部310c~330d的骨架、即框架。
於該情形時，第5水平構件至第8水平構件115~118與第4垂直構件至第6垂直構件124~126可分別具有特定的寬度，上述寬度的尺寸與第2噴射部內壁面350與第2噴射部外壁面362之間的間隔空間的寬度相同。因此，可由上述寬度定義第1-3噴射部至第3-4噴射部310c~330d的內部空間的寬度。
排氣部400
以下，對排氣部400進行說明。
如圖2至圖14所示，排氣部400配置至第1-2噴射部至第3-2噴射部310b、320b、330b與第1-4噴射部至第3-4噴射部310d、320d、330d之間。因此，發揮向收納室200的後方排放藉由第1噴射部至第3噴射部310、320、330而噴射於收納室200的內部的吹掃氣體及晶圓W的煙霧的功能。
如圖5、圖6、圖10、圖11及圖17所示，排氣部400的內側面由排氣部內壁面440構成。
於該情形時，排氣部內壁面440具備於收納室200與排氣部400之間。
因此，排氣部內壁面440於構成排氣部400的內側面的同時，構成收納室200的外側面(或外圍面)。換言之，排氣部400藉由排氣部內壁面440而與收納室200的後方相接。
於排氣部內壁面440形成多個排氣孔490，如上所述，本發明的較佳的實施例的晶圓收納容器10收納30個晶圓W而進行吹掃，因此較佳為於排氣部內壁面440形成30個排氣孔490。
於該情形時，30個排氣孔490沿垂直方向形成，各排氣孔490較佳為位於與上述噴射孔390的列相同的高度。換言之，排氣孔490較佳為與噴射孔390相同地以分別位於30個支持台600的上部的方式形成。
如圖17及圖18所示，排氣部400可具備與排氣孔490連通的第1排氣空間至第3排氣空間410、420、430、及分別與第1排氣空間至第3排氣空間410、420、430連通的第1垂直排氣流路至第3垂直排氣流路411、421、431。
第1排氣空間至第3排氣空間410、420、430按照自下部至上部的順序而以第1排氣空間410、第2排氣空間420、第3排氣空間430積層配置至排氣部400的內部，因此分別與於收納室200沿垂直方向劃分的第1吹掃區域至第3吹掃區域210、220、230對應。
因此，藉由與第1排氣空間410連通的排氣孔490而排放噴射於第1吹掃區域210的吹掃氣體及晶圓W的煙霧，藉由與第2排氣空間420連通的排氣孔490而排放噴射於第2吹掃區域220的吹掃氣體及晶圓W的煙霧，藉由與第3排氣空間430連通的排氣孔490而排放噴射於第3吹掃區域230的吹掃氣體及晶圓W的煙霧。
於該情形時，與第1排氣空間410連通的排氣孔490的數量為10個，與第2排氣空間420連通的排氣孔490的數量為10個，與第3排氣空間430連通的排氣孔490的數量為10個。
因此，可將收納至第1吹掃區域210的10個晶圓W的煙霧連同吹掃氣體一併排放至第1排氣空間410，可將收納至第2吹掃區域220的10個晶圓W的煙霧連同吹掃氣體一併排放至第2排氣空間420，可將收納至第3吹掃區域230的10個晶圓W的煙霧連同吹掃氣體一併排放至第3排氣空間430。
第1垂直排氣流路411以垂直延伸的方式具備於排氣部400的內部，一端與第1排氣空間410連通，另一端與下文技述的第1下部板810的第1排氣連通孔815a連通。因此，第1垂直排氣流路411發揮使排放於第1排氣空間410的吹掃氣體向第1排氣連通孔815a流動的通路作用。
第2垂直排氣流路421以垂直延伸的方式具備於排氣部400的內部，一端與第2排氣空間420連通，另一端與下文敍述的第1下部板810的第2排氣連通孔815b連通。因此，第2垂直排氣流路421發揮使排放於第2排氣空間420的吹掃氣體向第2排氣連通孔815b流動的通路作用。
第3垂直排氣流路431以垂直延伸的方式具備於排氣部400的內部，一端與第3排氣空間430連通，另一端與下文敍述的第1下部板810的第3排氣連通孔815c連通。因此，第3垂直排氣流路431發揮使排放於第3排氣空間430的吹掃氣體向第3排 氣連通孔815c流動的通路作用。
如上所述，於構成收納室200的外圍面的排氣部400的排氣部內壁面440形成排氣孔490而藉由排氣孔490排放吹掃氣體及晶圓W的煙霧，因此具有晶圓收納容器10的維護管理較為容易的效果。即，於排氣孔490受到煙霧的污染而堵塞的情形時，僅更換排氣部內壁面440，因此可容易地解決因排氣孔490堵塞引起的問題。
另外，與上述實施例不同，排氣孔490可於排氣部內壁面440沿垂直方向形成30個以上。換言之，亦可沿垂直方向形成2個以上的排氣孔490，而並非於多個支持台600之間定位有一個排氣孔490。因此，可於一個吹掃區域內沿垂直方向形成10個以上的數量的排氣孔490，因此可更容易排放對晶圓W進行吹掃後產生的煙霧。
另外，排氣孔490的形狀可形成為長方形狹縫形狀、端部為圓弧的狹縫形狀、圓孔形狀、多邊形的孔形等各種形狀。
供給部
以下，對供給部進行說明。
如圖2、圖5、圖6、圖10、圖11及圖15所示，供給部可包括：第1供給部510，配置至第1-1噴射部至第3-2噴射部310a~330b的外側，以收納室200為基準而配置至左側；第2供給部520，配置至第1-3噴射部至第3-4噴射部310c~330d的外側，以收納室200為基準而配置至右側。
第1供給部510發揮向第1-1噴射部至第3-2噴射部310a~330b供給藉由下部板800而流入的吹掃氣體的功能，第2供給部520發揮向第1-3噴射部至第3-4噴射部310c~330d供給藉由下部板800而流入的吹掃氣體的功能。
如圖19所示，第1供給部510具備分別與第1-1供給孔至第3-2供給孔371a~373b連通的第1-1供給空間至第3-2供給空間531a~533b、及分別與第1-1供給空間至第3-2供給空間531a~533b連通的第1-1垂直供給流路至第3-2垂直供給流路541a~543b。
第1-1供給空間至第3-2供給空間531a~533b是指於內部儲存吹掃氣體而藉由第1-1供給孔至第3-2供給孔371a~373b供給至第1-1噴射部至第3-2噴射部310a~330b的空間，將第1供給部510的右側面開口而形成。
第1-1供給空間至第3-1供給空間531a、532a、533a以第1供給部510的中心線(圖19的C1)為基準而形成至前方側，第1-2供給空間至第3-2供給空間531b、532b、533b以第1供給部510的中心線(圖19的C1)為基準而形成至後方側。即，第1-1供給空間至第3-1供給空間531a、532a、533a與第1-2供給空間至第3-2供給空間531b、532b、533b以第1供給部510的中心線(圖19的C1)為基準而彼此對稱地配置。
為了使第1-1供給空間至第3-2供給空間531a~533b分別與第1-1供給孔至第3-2供給孔371a~373b對應，按照自第1 供給部510的下部至上部的順序依序配置第1-1供給空間531a及第1-2供給空間531b、第2-1供給空間532a及第2-2供給空間532b、與第3-1供給空間533a及第3-2供給空間533b。
另外，供給空間的尺寸按照第1-1供給空間531a及第1-2供給空間531b、第2-1供給空間532a及第2-2供給空間532b、第3-1供給空間533a及第3-2供給空間533b的順序逐漸增大。
如上所述，越朝向第1供給部510的上部，則供給空間的尺寸越大，因此流動至第3-1供給空間533a及第3-2供給空間533b的內部的吹掃氣體的流量變多，因此可向第3-1噴射部330a及第3-2噴射部330b供給足量的吹掃氣體。
因此，第3-1噴射部330a及第3-2噴射部330b可向第3吹掃區域230噴射足量的吹掃氣體，可於劃分於收納室200的上部的第3吹掃區域230容易地對晶圓W進行吹掃。
第1-1垂直供給流路至第3-2垂直供給流路541a~543b以沿垂直方向延伸的方式形成至第1供給部510的內部，一端分別與第1-1供給空間至第3-2供給空間531a~533b連通，另一端分別與形成於第1下部板810的第1-1供給連通孔至第3-2供給連通孔811a~813b連通。因此，第1-1垂直供給流路至第3-2垂直供給流路541a~543b發揮使自第1-1供給連通孔至第3-2供給連通孔811a~813b流入的吹掃氣體向第1-1供給空間至第3-2供給空間531a~533b流動的通路作用。
於該情形時，第1-1垂直供給流路至第3-2垂直供給流 路541a~543b的另一端可分別形成為於第1供給部的下表面開口的孔形態，因此可容易地與第1-1供給連通孔至第3-2供給連通孔811a~813b連通。
如圖20所示，於第2供給部520具備分別與第1-3供給孔至第3-4供給孔371c~373d連通的第1-3供給空間至第3-4供給空間531c~533d、及分別與第1-3供給空間至第3-4供給空間531c~533d連通的第1-3垂直供給流路至第3-4垂直供給流路541c~543d。
第1-3供給空間至第3-4供給空間531c~533d是指於內部儲存吹掃氣體而藉由第1-3供給孔至第3-4供給孔371c~373d供給至第1-3噴射部至第3-4噴射部310c~330d的空間，將第2供給部520的左側面開口而形成。
第1-3供給空間至第3-3供給空間531c、532c、533c以第2供給部520的中心線(圖20的C2)為基準而形成至前方側，第1-4供給空間至第3-4供給空間531d、532d、533d以第2供給部520的中心線(圖20的C2)為基準而形成至後方側。即，第1-3供給空間至第3-3供給空間531c、532c、533c與第1-4供給空間至第3-4供給空間531d、532d、533d以第2供給部520的中心線(圖20的C2)為基準而彼此對稱地配置。
為了使第1-3供給空間至第3-4供給空間531c~533d分別與第1-3供給孔至第3-4供給孔371c~373d對應，按照自第2供給部520的下部至上部的順序依序配置第1-3供給空間531c及 第1-4供給空間531d、第2-3供給空間532c及第2-4供給空間532d、與第3-3供給空間533c及第3-4供給空間533d。
另外，供給空間的尺寸按照第1-3供給空間531c及第1-4供給空間531d、第2-3供給空間532c及第2-4供給空間532d、第3-3供給空間533c及第3-4供給空間533d的順序逐漸增大。
如上所述，越朝向第2供給部520的上部，則供給空間的尺寸越大，因此流動至第3-3供給空間533c及第3-4供給空間533d的內部的吹掃氣體的流量變多，因此可向第3-3噴射部330c及第3-4噴射部330d供給足量的吹掃氣體。
因此，第3-3噴射部330c及第3-4噴射部330d可向第3吹掃區域230噴射足量的吹掃氣體，可於劃分於收納室200的上部的第3吹掃區域230容易地對晶圓W進行吹掃。
第1-3垂直供給流路至第3-4垂直供給流路541c~543d以沿垂直方向延伸的方式形成至第2供給部520的內部，一端分別與第1-3供給空間至第3-4供給空間531c~533d連通，另一端分別與形成於第1下部板810的第1-3供給連通孔至第3-4供給連通孔811c~813d連通。因此，第1-3垂直供給流路至第3-4垂直供給流路541c~543d發揮使自第1-3供給連通孔至第3-4供給連通孔811c~813d流入的吹掃氣體向第1-3供給空間至第3-4供給空間531c~533d流動的通路作用。
於該情形時，第1-3垂直供給流路至第3-4垂直供給流路541c~543d的另一端可分別形成為於第2供給部520的下表面 開口的孔形態，因此可容易地與第1-3供給連通孔至第3-4供給連通孔811c~813d連通。
因如上所述的第1供給部510及第2供給部520的構成而可容易地將藉由下部板800流入的吹掃氣體供給至第1-1噴射部至第3-4噴射部310a~330d。
如上所述，於本發明的較佳的實施例的晶圓收納容器10中，第1供給部510配置至第1-1噴射部至第3-2噴射部310a~330b的外側而向第1-1噴射部至第3-2噴射部310a~330b的內部供給吹掃氣體，第2供給部520配置至第1-3噴射部至第3-4噴射部310c~330d的外側而向第1-3噴射部至第3-4噴射部310c~330d的內部供給吹掃氣體。
因此，可僅利用2個供給部向12個噴射部供給吹掃氣體，因此可達成晶圓收納容器10的小型化的構造。
支持台600
以下，對支持台600進行說明。
如圖1至圖3所示，支持台600發揮支持收納至收納室200的內部的晶圓W的功能，可於收納室200的內部沿垂直方向具備多個。於該情形時，本發明的較佳的實施例的晶圓收納容器10對30個晶圓W進行吹掃，因此具備30個支持台600。
如圖21及圖22所示，支持台600包括如下構件而構成：後方支持部610；左側支持部620，自後方支持部610的左側向前方方向延伸而形成；及右側支持部630，自後方支持部610的右側 向前方方向延伸而形成。
後方支持部610發揮支持晶圓W的後方的功能，於後方支持部610形成有後方圓弧部611。
後方圓弧部611以自後方支持部610的上表面朝向下部方向形成階差的方式形成，呈圓弧形狀。
於該情形時，後方圓弧部611呈具有與晶圓W的曲率相同的曲率的圓弧形狀，因此以假想線連接後方圓弧部611、左側圓弧部621及右側圓弧部631，形成與晶圓W相同的圓形形狀。
於後方圓弧部611形成後方突出部612，後方突出部612發揮支持晶圓W的後方下表面的功能。
左側支持部620自後方支持部610的左側向前方方向延伸而形成，發揮支持晶圓W的左側的功能。另外，於左側支持部620形成有左側圓弧部621。
左側圓弧部621以自左側支持部620的上表面朝向下部方向形成階差的方式形成，呈圓弧形狀。
於該情形時，左側圓弧部621呈具有與晶圓W的曲率相同的曲率的圓弧形狀，因此以假想線連接後方圓弧部611、左側圓弧部621及右側圓弧部631，形成與晶圓W相同的圓形形狀。
於左側圓弧部621形成左側突出部622，左側突出部622發揮支持晶圓W的右側下表面的作用。
右側支持部630自右側支持部630的左側向前方方向延伸而形成，發揮支持晶圓W的右側的功能。另外，於右側支持部 630形成有右側圓弧部631。
右側圓弧部631以自右側支持部630的上表面朝向下部方向形成階差的方式形成，呈圓弧形狀。
於該情形時，右側圓弧部631呈具有與晶圓W的曲率相同的曲率的圓弧形狀，因此以假想線連接後方圓弧部611、左側圓弧部621及右側圓弧部631，形成與晶圓W相同的圓形形狀。
於右側圓弧部631形成右側突出部632，後方突出部612發揮支持晶圓W的左側下表面的作用。
如上所述，後方突出部612、左側突出部622及右側突出部632分別支持晶圓W的後方、左側下表面及右側下表面，因此以3個點支持晶圓W。如上所述，藉由3個突出部而以3個點支持晶圓W，藉此可將晶圓W的接觸面積最小化，因此可防止因接觸晶圓W引起的晶圓W的破損等。
可於後方支持部610與左側支持部620延伸的部分的外側面形成左側傾斜部640。
左側傾斜部640以越自後方朝向前方，則越向外側方向傾斜的方式形成。
可於後方支持部610與右側支持部630延伸的部分的外側面形成右側傾斜部650。
右側傾斜部650亦能夠以越自後方朝向前方，則越向外側方向傾斜的方式形成。
如上所述的左側傾斜部640及右側傾斜部650與晶圓收 納容器10的小型化的構造有關。
即，晶圓收納容器10的左右側形成有如左側傾斜部640及右側傾斜部650的傾斜部，左右側傾斜部640、650為了呈與上述晶圓收納容器對應的形狀而形成至支持台600。
如上所述的傾斜部發揮將晶圓收納容器10的面積最小化的功能，因此晶圓收納容器10具有小型化的構造。
於後方支持部610與左側支持部620延伸的部分的內側面形成左側凹陷部660，於後方支持部610與右側支持部630延伸的部分的內側面形成右側凹陷部670。
於後方圓弧部611與左側圓弧部621之間，向後方方向凹陷地形成左側凹陷部660。
於後方圓弧部611與右側圓弧部631之間，向後方方向凹陷地形成右側凹陷部670。
如上所述的左側凹陷部660及右側凹陷部670發揮於藉由機械臂(未圖示)而將晶圓W收納至收納室200時，防止機械臂的爪(未圖示)與支持台600、即後方支持部610的內側面接觸的功能，因此晶圓W可藉由前方開口部251容易地進出收納室200而支持至支持台600。
如圖22所示，於晶圓W支持至支持台600的情形時，可藉由如上所述的支持台600的構成及形狀而於收納室200的內部將吹掃氣體於垂直方向上的流動最小化。
詳細而言，當藉由分別形成於後方圓弧部611、左側圓 弧部621及右側圓弧部631的後方突出部612、左側突出部622及右側突出部632而以3點支持晶圓W時，由晶圓W封閉除支持台600左側凹陷部660及右側凹陷部670以外的區域。因此，支持有晶圓W的支持台600於收納室200的內部沿垂直方向發揮一種隔板的作用，因此可限制吹掃氣體於垂直方向上的流動。
另外，即便於支持台600中形成有左側凹陷部660及右側凹陷部670的區域未被晶圓W封閉，由於吹掃氣體沿以水平方向噴射至定位有左側凹陷部660及右側凹陷部670的區域，因此亦可藉由沿水平方向噴射的上述吹掃氣體限制吹掃氣體於垂直方向上的流動。
詳細而言，第1-2噴射部310b、第2-2噴射部320b、第3-2噴射部330b的噴射孔390向定位有左側凹陷部660的方向噴射吹掃氣體。另外，第1-4噴射部310d、第2-4噴射部320d、第3-4噴射部330d的噴射孔390向定位有右側凹陷部670的方向噴射吹掃氣體。
如上所述，第1噴射部至第3噴射部310、320、330的噴射孔390向定位有左側凹陷部660及右側凹陷部670的方向噴射吹掃氣體，於該情形時，沿水平方向噴射吹掃氣體。因此，於噴射時，上述吹掃氣體形成一種水平方向的層而流動。
可藉由此種形成水平方向的層流動的吹掃氣體而防止吹掃氣體藉由左側凹陷部660及右側凹陷部670沿垂直方向流動，因此支持台600可限制吹掃氣體於垂直方向上的流動。
如上所述，藉由支持台600限制吹掃氣體於垂直方向上的流動，藉此可更有效率地對下文敍述的第1噴射部至第3噴射部310、320、330進行個別控制。
另外，以為了防止機械臂的爪與支持台600接觸而於上述支持台600形成有左側凹陷部660及右側凹陷部670的情形為基準進行了說明，但支持台600亦可根據機械臂的爪的形狀而形成為不具有左側凹陷部660及右側凹陷部670的形狀。因此，於晶圓W支持至此種支持台600的情形時，因晶圓W而支持台600的內側空間(為了支持晶圓W而開口的空間)封閉，可更有效地限制上述吹掃氣體於垂直方向上的流動。
第1前方排氣部710及第2前方排氣部750
以下，對第1前方排氣部710及第2前方排氣部750進行說明。
如圖1、圖2、圖5、圖6、圖10及圖11所示，第1前方排氣部710及第2前方排氣部750分別配置至收納室200的前方兩側，發揮藉由排放外部氣體而阻斷外部氣體流入至收納室200的內部的功能。
於該情形時，外部氣體是指包括外部空氣在內的所有氣體。
第1前方排氣部710以配置至收納室200的前方左側的方式，配置至第1-1噴射部至第3-1噴射部310a、320a、330a的前方。
如圖23及圖24所示，於第1前方排氣部710具備第1排氣狹縫720、與第1排氣狹縫720連通的第4排氣空間至第6排氣空間721a、721b、721c、及分別與第4排氣空間至第6排氣空間721a、721b、721c連通的第4垂直排氣流路至第6垂直排氣流路731a、731b、731c。
將第1前方排氣部710的右側面開口而形成第1排氣狹縫720。於該情形時，第1排氣狹縫720呈垂直方向長度長於水平方向長度的狹縫形狀。
第4排氣空間至第6排氣空間721a、721b、721c與第1排氣狹縫720連通，以與第1吹掃區域至第3吹掃區域210、220、230對應的方式形成至第1前方排氣部710的內部。因此，按照自第1前方排氣部710的下部至上部的順序配置第4排氣空間721a、第5排氣空間721b及第6排氣空間721c，分別與第1吹掃區域至第3吹掃區域210、220、230的高度相同地形成第4排氣空間至第6排氣空間721a、721b、721c的高度。
第4垂直排氣流路至第6垂直排氣流路731a、731b、731c以沿垂直方向延伸的方式形成至第1前方排氣部710的內部，一端分別與第4排氣空間至第6排氣空間721a、721b、721c連通，另一端分別與第1下部板810的第4排氣連通孔至第6排氣連通孔816a、816b、816c連通。因此，第4垂直排氣流路至第6垂直排氣流路731a、731b、731c發揮使藉由第4排氣空間至第6排氣空間721a、721b、721c而排放的外部氣體向第4排氣連通孔至第 6排氣連通孔816a、816b、816c流動的通路作用。
於該情形時，第4垂直排氣流路至第6垂直排氣流路731a、731b、731c的另一端可分別形成為於第1前方排氣部710的下表面開口的孔形態，因此可容易地與第4排氣連通孔至第6排氣連通孔816a、816b、816c連通。
如圖25及圖26所示，於第2前方排氣部750具備第2排氣狹縫760、與第2排氣狹縫720連通的第7排氣空間至第9排氣空間761a、761b、761c、及分別與第7排氣空間至第9排氣空間761a、761b、761c連通的第7垂直排氣流路至第9垂直排氣流路771a、771b、771c。
將第2前方排氣部750的左側面開口而形成第2排氣狹縫760。於該情形時，第2排氣狹縫760呈垂直方向長度長於水平方向長度的狹縫形狀。
第7排氣空間至第9排氣空間761a、761b、761c與第2排氣狹縫760連通，以與第1吹掃區域至第3吹掃區域210、220、230對應的方式形成至第2前方排氣部750的內部。因此，按照自第2前方排氣部750的下部至上部的順序配置第7排氣空間761a、第8排氣空間761b及第9排氣空間761c，分別與第1吹掃區域至第3吹掃區域210、220、230的高度相同地形成第7排氣空間至第9排氣空間761a、761b、761c的高度。
第7垂直排氣流路至第9垂直排氣流路771a、771b、771c以沿垂直方向延伸的方式形成至第2前方排氣部750的內部，一 端分別與第7排氣空間至第9排氣空間761a、761b、761c連通，另一端分別與第1下部板810的第7排氣連通孔至第9排氣連通孔817a、817b、817c連通。因此，第7垂直排氣流路至第9垂直排氣流路771a、771b、771c發揮使藉由第7排氣空間至第9排氣空間761a、761b、761c而排放的外部氣體向第7排氣連通孔至第9排氣連通孔817a、817b、817c流動的通路作用。
於該情形時，第7垂直排氣流路至第9垂直排氣流路771a、771b、771c的另一端可分別形成為於第2前方排氣部750的下表面開口的孔形態，因此可容易地與第7排氣連通孔至第9排氣連通孔817a、817b、817c連通。
根據如上所述的構成，如圖9、圖14、圖16所示，第1前方排氣部710及第2前方排氣部750可藉由第1排氣狹縫720及第2排氣狹縫760而排放外部氣體。
因此，可預先阻斷外部氣體藉由前方開口部251而流入至收納室200的內部，因此可防止外部氣體與噴射至收納室200的吹掃氣體混合而形成一種亂流的情形。
另外，如上所述，第1排氣狹縫720以於收納室200的前方朝向右側方向開口的方式形成至第1前方排氣部710的右側面，第2排氣狹縫760以於收納室200的前方朝向右側方向開口的方式形成至第2前方排氣部750的左側面。
因此，可藉由第1前方排氣部710及第2前方排氣部750而容易地向左右方向排放外部氣體，因此可更有效地阻斷外部氣 體流入至收納室200。
另外，第1前方排氣部710至第2前方排氣部750不僅排放外部氣體，而且亦可排放第1吹掃區域至第3吹掃區域210、220、230內的吹掃氣體。
換言之，如圖16所示，可藉由第1前方排氣部710及第2前方排氣部750而排放自第1-1噴射部至第3-1噴射部310a、320a、330a及第1-2噴射部至第3-2噴射部310b、320b、330b噴射的吹掃氣體中的向前方方向噴射的吹掃氣體。
如上所述，第1前方排氣部710及第2前方排氣部750排放自第1-1噴射部至第3-1噴射部310a、320a、330a及第1-2噴射部至第3-2噴射部310b、320b、330b噴射的吹掃氣體中的向前方方向噴射的吹掃氣體中的一部分，因此具有使自第1供給部510及第2供給部520供給至第1-1噴射部至第3-1噴射部310a、320a、330a及第1-2噴射部至第3-2噴射部310b、320b、330b的吹掃氣體的流動更順暢的效果。
換言之，自第1供給部510及第2供給部520供給至第1-1噴射部至第3-1噴射部310a、320a、330a及第1-2噴射部至第3-2噴射部310b、320b、330b的吹掃氣體的流動會因第1-1噴射部至第3-1噴射部310a、320a、330a及第1-2噴射部至第3-2噴射部310b、320b、330b的尺寸而表現出相對較弱的流動，但如上所述，第1前方排氣部710及第2前方排氣部750排放自第1-1噴射部至第3-1噴射部310a、320a、330a及第1-2噴射部至第3-2 噴射部310b、320b、330b噴射的吹掃氣體，因此上述流動會變得更順暢。
因此，因如上所述的第1前方排氣部710及第2前方排氣部750與第1供給部510及第2供給部520的有機結合關係而即便第1供給部510及第2供給部520配置至相對後方側，亦產生可使自第1供給部510及第2供給部520供給至第1-1噴射部至第3-1噴射部310a、320a、330a及第1-2噴射部至第3-2噴射部310b、320b、330b的吹掃氣體的流動變順暢的效果。
另外，可根據第1前方排氣部710及第2前方排氣部750的抽吸力而調節於收納室200流動的吹掃氣體的流動，因此可防止產生無法去除晶圓W的煙霧的死角。
換言之，若第1前方排氣部710及第2前方排氣部750的抽吸力增強，則吹掃氣體自收納室200的內部向收納室200的外部、自後方朝向前方流動，因此可使吹掃氣體容易地流動至晶圓W的整個區域。因此，可更容易地去除晶圓W的整個區域的煙霧。
以上，說明為第4排氣空間至第6排氣空間721a、721b、721c與一個排氣狹縫、即第1排氣狹縫720連通，但亦可具備以分別與第4排氣空間至第6排氣空間721a、721b、721c的高度對應的方式形成的3個狹縫。因此，於該情形時，第1前方排氣部710可更容易地對分別與第1吹掃區域至第3吹掃區域210、220、230對應的高度的外部氣體進行選擇性地排放。
當然，亦可具備以分別與第7排氣空間至第9排氣空間761a、761b、761c的高度對應的方式形成的3個狹縫。因此，於該情形時，第2前方排氣部750可更容易地對分別與第1吹掃區域至第3吹掃區域210、220、230對應的高度的外部氣體進行選擇性地排放。
下部板800
以下，對下部板800進行說明。
如圖1至圖3所示，下部板800構成晶圓收納容器10的下部面，藉此發揮封閉收納室200的下部，使自外部供給的吹掃氣體流入至晶圓收納容器10的功能。
另外，如圖27所示，藉由結合同形的第1下部板至第3下部板810、820、830而構成下部板800。
於該情形時，於第1下部板810的下部結合第2下部板820，於第2下部板820的下部結合第3下部板830。
另外，於第3下部板830的下部設置連接外部供給線(未圖示)及外部排氣線(未圖示)的連接構件850與支承構件860。
於該情形時，支承構件860設置至下部板800的下表面、即第3下部板830的下表面的前方左右側，發揮於將晶圓收納容器10載置至晶圓載出載入機等時，保持水平而使載置穩定的功能。
第1下部板810
以下，對第1下部板810進行說明。
如圖28所示，第1下部板810構成收納室200的底面，以貫通第1下部板810的上表面與下表面的方式分別形成第1-1供給連通孔至第3-4供給連通孔811a~813d及第1排氣連通孔至第9排氣連通孔815a、815b、815c、816a、816b、816c、817a、817b、817c。
第1-1供給連通孔至第3-1供給連通孔811a、812a、813a及第1-2供給連通孔至第3-2供給連通孔811b、812b、813b以與配置至第1下部板810的上表面的第1供給部510對應的方式形成至第1下部板810的後方左側。
第1-1供給連通孔至第3-1供給連通孔811a、812a、813a及第1-2供給連通孔至第3-2供給連通孔811b、812b、813b的一端分別與第1供給部510的第1-1供給連通孔至第3-1供給連通孔811a、812a、813a及第1-2供給連通孔至第3-2供給連通孔811b、812b、813b連通，另一端分別與第2下部板820的第1-1供給流路至第3-1供給流路821a、822a、823a及第1-2供給流路至第3-2供給流路821b、822b、823b連通。
第1-3供給連通孔至第3-3供給連通孔811c、812c、813c及第1-4供給連通孔至第3-4供給連通孔811d、812d、813d以與配置至第1下部板810的上表面的第2供給部520對應的方式形成至第1下部板810的後方右側。
第1-3供給連通孔至第3-3供給連通孔811c、812c、813c及第1-4供給連通孔至第3-4供給連通孔811d、812d、813d的一 端分別與第2供給部520的第1-3供給連通孔至第3-3供給連通孔811c、812c、813c及第1-4供給連通孔至第3-4供給連通孔811d、812d、813d連通，另一端分別與第2下部板820的第1-3供給流路至第3-3供給流路821c、822c、823c及第1-4供給流路至第3-4供給流路821d、822d、823d連通。
第1排氣連通孔至第3排氣連通孔815a、815b、815c以與配置至第1下部板810的上表面的排氣部400對應的方式形成至第1下部板810的後方。
第1排氣連通孔至第3排氣連通孔815a、815b、815c的一端分別與排氣部400的第1垂直排氣流路至第3垂直排氣流路411、421、431連通，另一端與第2下部板820的第1後方排出孔825連通。
第4排氣連通孔至第6排氣連通孔816a、816b、816c以與配置至第1下部板810的上表面的第1前方排氣部710對應的方式形成至第1下部板810的前方左側。
第4排氣連通孔至第6排氣連通孔816a、816b、816c的一端分別與第1前方排氣部710的第4垂直排氣流路至第6垂直排氣流路731a、731b、731c連通，另一端分別與第2下部板820的第4排氣流路至第6排氣流路826a、826b、826c連通。
第7排氣連通孔至第9排氣連通孔817a、817b、817c以與配置至第1下部板810的上表面的第2前方排氣部750對應的方式形成至第1下部板810的前方右側。
第7排氣連通孔至第9排氣連通孔817a、817b、817c的一端分別與第2前方排氣部750的第7垂直排氣流路至第9垂直排氣流路771a、771b、771c連通，另一端分別與第2下部板820的第7排氣流路至第9排氣流路827a、827b、827c連通。
第2下部板820
以下，對第2下部板820進行說明。
如圖29所示，第2下部板820結合至第1下部板810的下部，以貫通第2下部板820的上表面與下表面的方式分別形成第1-1供給流路至第3-4供給流路821a~823d、第1後方排出孔825及第4排氣流路至第9排氣流路826a、826b、826c、827a、827b、827c。
第1-1供給流路至第3-2供給流路821a~823b以自第2下部板820的後方左側向後方中央方向延伸的方式形成。
第1-1供給流路至第3-2供給流路821a~823b的一端分別與第1下部板810的第1-1供給連通孔至第3-2供給連通孔811a~813b連通，另一端分別與第3下部板830的第1-1流入孔至第3-2流入孔831a~833b連通。
第1-3供給流路至第3-4供給流路821c~823d以自第2下部板820的後方右側向後方中央方向延伸的方式形成。
第1-3供給流路至第3-4供給流路821c~823d的一端分別與第1下部板810的第1-3供給連通孔至第3-4供給連通孔811c~813d連通，另一端分別與第3下部板830的第1-3流入孔至第 3-4流入孔831c~833d連通。
第1-1供給流路至第3-4供給流路821a~823d的長度較佳為較第1-1供給流路至第1-4供給流路821a~821d更短地形成第2-1供給流路至第2-4供給流路822a~822d，較第2-1供給流路至第2-4供給流路822a~822d更短地形成第3-1供給流路至第3-4供給流路823a~823d。
如上所述，將向第3噴射部330供給吹掃氣體的供給流路的長度形成為短於向第1噴射部310及第2噴射部320供給吹掃氣體的供給流路的長度，因此可向劃分於收納室200的上部的第3吹掃區域230噴射足量的吹掃氣體。
藉由如上所述般調節供給流路的長度，亦可向位於上部的噴射部供給足量的吹掃氣體，因此可向第1吹掃區域至第3吹掃區域210、220、230噴射均勻的量的吹掃氣體。
第1後方排出孔825形成至第2下部板820的後方。
第1後方排出孔825的上部與第1下部板810的第1排氣連通孔至第3排氣連通孔815a、815b、815c連通，下部與第3下部板830的第2後方排氣孔490連通。
第4排氣流路至第6排氣流路826a、826b、826c以自第2下部板820的前方左側向前方中央方向延伸的方式形成。
第4排氣流路至第6排氣流路826a、826b、826c的一端分別與第1下部板810的第4排氣連通孔至第6排氣連通孔816a、816b、816c連通，另一端分別與第3下部板830的第4排 出孔至第6排出孔836a、836b、836c連通。
第7排氣流路至第9排氣流路827a、827b、827c以自第2下部板820的前方右側向前方中央方向延伸的方式形成。
第7排氣流路至第9排氣流路827a、827b、827c的一端分別與第1下部板810的第7排氣連通孔至第9排氣連通孔817a、817b、817c連通，另一端分別與第3下部板830的第7排出孔至第9排出孔837a、837b、837c連通。
第4排氣流路至第9排氣流路826a、826b、826c、827a、827b、827c的長度較佳為較第4排氣流路826a及第7排氣流路827a更短地形成第5排氣流路826b及第8排氣流路827b，較第5排氣流路826b及第8排氣流路827b更短地形成第6排氣流路826c及第9排氣流路827c。
如上所述，將藉由第1前方排氣部710的第6排氣空間721c及第2前方排氣部750的第9排氣空間761c而排放外部氣體的排氣流路的長度形成為短於藉由第1前方排氣部710的第4排氣空間721a及第5排氣空間721b、與第2前方排氣部750的第7排氣空間761a及第8排氣空間761b而排放外部氣體的排氣流路，藉此可使第1前方排氣部710及第2前方排氣部750的排氣阻力相同。
詳細而言，若以第1前方排氣部710為基準而以如“第4垂直排氣流路731a+第4排氣流路826a=第5垂直排氣流路731b+第5排氣流路826b=第6垂直排氣流路731c+第6排氣流 路826c”的條件形成流路的長度，則可相同地形成第1前方排氣部710的第4排氣空間至第6排氣空間721a、721b、721c的排氣阻力，因此可向第4排氣空間至第6排氣空間721a、721b、721c均勻地排氣。
另外，若以第2前方排氣部750為基準而以如“第7垂直排氣流路771a+第7排氣流路827a=第8垂直排氣流路771b+第8排氣流路827b=第9垂直排氣流路771c+第9排氣流路827c”的條件形成流路的長度，則可相同地形成第2前方排氣部750的第7排氣空間至第9排氣空間761a、761b、761c的排氣阻力，因此可向第7排氣空間至第9排氣空間761a、761b、761c均勻地排氣。
第3下部板830
以下，對第3下部板830進行說明。
如圖30所示，第3下部板830結合至第2下部板820的下部，以貫通第3下部板830的上表面與下表面的方式分別形成第1-1流入孔至第3-4流入孔831a~833d、第2後方排出孔835及第4排出孔至第9排出孔836a、836b、836c、837a、837b、837c。
第1-1流入孔至第3-1流入孔831a、832a、833a及第1-2流入孔至第3-2流入孔831b、832b、833b以自前方朝向後方方向排列的方式形成至第3下部板830的後方中央。
第1-3流入孔至第3-3流入孔831c、832c、833c及第1-4流入孔至第3-4流入孔831d、832d、833d於第3下部板830的後 方中央，按照以第3下部板830的中心線為基準而與第1-1流入孔至第3-1流入孔831a、832a、833a及第1-2流入孔至第3-2流入孔831b、832b、833b對稱的方式自前方朝向後方方向排列。
第1-1流入孔至第3-4流入孔831a~833d的上部分別與第2下部板820的第1-1供給流路至第3-4供給流路821a~823d連通。
第1-1流入孔831a及第1-3流入孔831c與連接構件850的第1-1主流入孔851a連通，第2-1流入孔832a及第2-3流入孔832c與連接構件850的第2-1主流入孔852a連通，第3-1流入孔833a及第3-3流入孔833c與連接構件850的第3-1主流入孔853a連通。
第1-2流入孔831b及第1-4流入孔831d與連接構件850的第1-2主流入孔851b連通，第2-2流入孔832b及第2-4流入孔832d與連接構件850的第2-2主流入孔852b連通，第3-2流入孔833b及第3-4流入孔833d與連接構件850的第3-2主流入孔853b連通。
第2後方排出孔835以與第2下部板820的第1後方排出孔825連通的方式，於第3下部板830的後方貫通第2下部板820的上表面與下表面而形成。
第2後方排出孔835的一端與第1後方排出孔825連通，另一端與連接構件850的整合排出流路855連通。
第4排出孔至第9排出孔836a、836b、836c、837a、837b、 837c以較第1-1流入孔至第3-4流入孔831a~833d位於前方的方式，於第2下部板820的中央貫通第2下部板820的上表面與下表面而形成。
第4排出孔至第9排出孔836a、836b、836c、837a、837b、837c的一端分別與第2下部板820的第4排氣流路至第9排氣流路826a、826b、826c、827a、827b、827c連通，另一端分別與連接構件850的整合排出流路855連通。
如上所述，分別於第1下部板至第3下部板810、820、830形成供給/排氣連通孔、供給/排氣流路等，藉此即便下部板800的內部的流路形狀複雜，亦可容易地形成上述供給/排氣連通孔、供給/排氣流路等。
另外，於晶圓收納容器10結合至晶圓載出載入機等而與外部供給/排氣線連接時，可藉由適當地形成如上所述的第1下部板至第3下部板810、820、830的供給/排氣連通孔、供給/排氣流路等而將供給吹掃氣體的供給線與排放吹掃氣體及煙霧的排氣線簡化。
連接構件850
以下，對連接構件850進行說明。
如圖27所示，連接構件850設置至下部板800的下部、即第3下部板830的下部。
連接構件850發揮將第1-1外部供給線至第3-2外部供給線(未圖示)與外部排氣線(未圖示)連接至晶圓收納容器10 的功能。
如圖31所示，於連接構件850形成第1-1主流入孔至第3-2主流入孔851a~853b、整合排出流路855及主排氣孔490。
第1-1主流入孔851a與第3下部板830的第1-1流入孔831a及第1-3流入孔831c連通，第2-1主流入孔852a與第3下部板830的第2-1流入孔832a及第2-3流入孔832c連通，第3-1主流入孔853a與第3下部板830的第3-1流入孔833a及第3-3流入孔833c連通。
第1-2主流入孔851b與第3下部板830的第1-2流入孔831b及第1-4流入孔831d連通，第2-2主流入孔852b與第3下部板830的第2-2流入孔832b及第2-4流入孔832d連通，第3-2主流入孔853b與第3下部板830的第3-2流入孔833b及第3-4流入孔833d連通。
第1-1主流入孔至第3-2主流入孔851a~853b分別與第1-1外部供給線至第3-2外部供給線連接。
因此，藉由個別地控制第1-1外部供給線至第3-2外部供給線、即6個外部供給線，可使與第1-1主流入孔至第3-2主流入孔851a~853b連通的6個注入部個別地向第1吹掃區域至第3吹掃區域210、220、230噴射吹掃氣體，之後對其進行詳述。
整合排出流路855發揮將第2下部板820的第2後方排出孔835及第4排出孔至第9排出孔836a、836b、836c、837a、837b、837c與主排氣孔490連通的流路功能。
於主排氣孔490連接外部排氣線，因此排放於整合排出流路855的吹掃氣體、晶圓W的煙霧、外部氣體等可容易地排放至晶圓收納容器10的外部。
上部板900
如圖1至圖3所示，上部板900構成晶圓收納容器10的上部面，發揮封閉收納室200的上部的功能。
於該情形時，上部板900的下表面結合至第4水平構件114的上表面、第8水平構件118的上表面及排氣部400的上表面。
上部板900的整體形狀與下部板800的整體形狀相同。
可於上部板900的下表面具備晶圓感知感測器(未圖示)。
晶圓感知感測器可感知是否收納有晶圓W、及晶圓W支持於多個支持台600中的哪一支持台600。
晶圓收納容器10的吹掃氣體供給/噴射流動
以下，對本發明的較佳的實施例的晶圓收納容器10的吹掃氣體供給/噴射流動進行說明。
如圖33所示，藉由連接於第1-1主流入孔至第3-2主流入孔851a、853b的第1-1外部供給線至第3-2外部供給線而實現本發明的較佳的實施例的晶圓收納容器10的吹掃氣體供給/噴射流動。
第1-1外部供給線向第1-1噴射部310a及第1-3噴射部310c供給吹掃氣體，第1-2外部供給線向第1-2噴射部310b及第 1-4噴射部310d供給吹掃氣體。因此，藉由第1-1外部供給線及第1-2外部供給線而分別向第1-1噴射部至第1-4噴射部310a~310d供給吹掃氣體，以此方式供給的吹掃氣體自第1-1噴射部至第1-4噴射部310a~310d噴射至收納室200，藉此於收納室200劃分第1吹掃區域210。
第2-1外部供給線向第2-1噴射部320a及第2-3噴射部320c供給吹掃氣體，第2-2外部供給線向第2-2噴射部320b及第2-4噴射部320d供給吹掃氣體。因此，藉由第2-1外部供給線及第2-2外部供給線而分別向第2-1噴射部至第2-4噴射部320a~320d供給吹掃氣體，以此方式供給的吹掃氣體自第2-1噴射部至第2-4噴射部320a~320d噴射至收納室200，藉此於收納室200劃分第2吹掃區域220。
第3-1外部供給線向第3-1噴射部330a及第3-3噴射部330c供給吹掃氣體，第3-2外部供給線向第3-2噴射部330b及第3-4噴射部330d供給吹掃氣體。因此，藉由第3-1外部供給線及第3-2外部供給線而分別向第3-1噴射部至第3-4噴射部330a~330d供給吹掃氣體，以此方式供給的吹掃氣體自第3-1噴射部至第3-4噴射部330a~330d噴射至收納室200，藉此於收納室200劃分第3吹掃區域230。
以下，詳細地對藉由第1-1外部供給線至第3-2外部供給線而分別向第1吹掃區域至第3吹掃區域210、220、230形成的吹掃氣體的供給/噴射流動進行說明。
藉由第1-1外部供給線及第1-2外部供給線實現的吹掃氣體的供給/噴射流動
以下，參照圖4、圖7、圖12、圖16、圖32及圖33，對藉由第1-1外部供給線及第1-2外部供給線而向第1吹掃區域210形成的吹掃氣體的供給/噴射流動進行說明。
當自第1-1外部供給線供給吹掃氣體時，上述吹掃氣體藉由連接構件850的第1-1主流入孔851a而分流至第1-1供給流路821a與第1-3供給流路821c。
流動至第1-1供給流路821a的吹掃氣體向第1-1供給連通孔811a流動而流動至第1供給部510的第1-1垂直供給流路541a。流動至第1-1垂直供給流路541a的吹掃氣體藉由第1-1供給空間531a與第1-1供給孔371a而供給至第1-1噴射部310a的內部。以此方式供給於第1-1噴射部310a的內部的吹掃氣體藉由噴射孔390而噴射至第1吹掃區域210的左側。
流動至第1-3供給流路821c的吹掃氣體向第1-3供給連通孔811c流動而流動至第2供給部520的第1-3垂直供給流路541c。流動至第1-3垂直供給流路541c的吹掃氣體藉由第1-3供給空間531c與第1-3供給孔371c而供給至第1-3噴射部310c的內部。以此方式供給於第1-3噴射部3100的內部的吹掃氣體藉由噴射孔390而噴射至第1吹掃區域210的右側。
當自第1-2外部供給線供給吹掃氣體時，上述吹掃氣體藉由連接構件850的第1-2主流入孔851b而分流至第1-2供給流 路821b與第1-4供給流路821d。
流動至第1-2供給流路821b的吹掃氣體向第1-2供給連通孔811b流動而流動至第1供給部510的第1-2垂直供給流路541b。流動至第1-2垂直供給流路541b的吹掃氣體藉由第1-2供給空間531b與第1-2供給孔371b而供給至第1-2噴射部310b的內部。以此方式供給於第1-2噴射部310b的內部的吹掃氣體藉由噴射孔390而噴射至第1吹掃區域210的後方左側。
流動至第1-4供給流路821d的吹掃氣體向第1-4供給連通孔811d流動而流動至第2供給部520的第1-4垂直供給流路541d。流動至第1-4垂直供給流路541d的吹掃氣體藉由第1-4供給空間531d與第1-4供給孔371d而供給至第1-4噴射部310d的內部。以此方式供給於第1-4噴射部310d的內部的吹掃氣體藉由噴射孔390而噴射至第1吹掃區域210的後方右側。
藉由第2-1外部供給線及第2-2外部供給線實現的吹掃氣體的供給/噴射流動
以下，參照圖4、圖7、圖12、圖16、圖32及圖33，對藉由第2-1外部供給線及第2-2外部供給線而向第2吹掃區域220形成的吹掃氣體的供給/噴射流動進行說明。
當自第2-1外部供給線供給吹掃氣體時，上述吹掃氣體藉由連接構件850的第2-1主流入孔852a而分流至第2-1供給流路822a與第2-3供給流路822c。
流動至第2-1供給流路822a的吹掃氣體向第2-1供給連 通孔812a流動而流動至第1供給部510的第2-1垂直供給流路542a。流動至第2-1垂直供給流路542a的吹掃氣體藉由第2-1供給空間532a與第2-1供給孔372a而供給至第2-1噴射部320a的內部。以此方式供給於第2-1噴射部320a的內部的吹掃氣體藉由噴射孔390而噴射至第2吹掃區域220的右側。
流動至第2-3供給流路822c的吹掃氣體向第2-3供給連通孔812c流動而流動至第2供給部520的第2-3垂直供給流路542c。流動至第2-3垂直供給流路542c的吹掃氣體藉由第2-3供給空間532c與第2-3供給孔372c而供給至第2-3噴射部320c的內部。以此方式供給於第2-3噴射部320c的內部的吹掃氣體藉由噴射孔390而噴射至第2吹掃區域220的右側。
當自第2-2外部供給線供給吹掃氣體時，上述吹掃氣體藉由連接構件850的第2-2主流入孔852b而分流至第2-2供給流路822b與第2-4供給流路822d。
流動至第2-2供給流路822b的吹掃氣體向第2-2供給連通孔812b流動而流動至第1供給部510的第2-2垂直供給流路542b。流動至第2-2垂直供給流路542b的吹掃氣體藉由第2-2供給空間532b與第2-2供給孔372b而供給至第2-2噴射部320b的內部。以此方式供給於第2-2噴射部320b的內部的吹掃氣體藉由噴射孔390而噴射至第2吹掃區域220的後方左側。
流動至第2-4供給流路822d的吹掃氣體向第2-4供給連通孔812d流動而流動至第2供給部520的第2-4垂直供給流路 542d。流動至第2-4垂直供給流路542d的吹掃氣體藉由第2-4供給空間532d與第2-4供給孔372d而供給至第2-4噴射部320d的內部。以此方式供給於第2-4噴射部320d的內部的吹掃氣體藉由噴射孔390而噴射至第2吹掃區域220的後方右側。
藉由第3-1外部供給線及第3-2外部供給線實現的吹掃氣體的供給/噴射流動
以下，參照圖4、圖7、圖12、圖16、圖32及圖33，對藉由第3-1外部供給線及第3-2外部供給線而向第3吹掃區域230形成的吹掃氣體的供給/噴射流動進行說明。
當自第3-1外部供給線供給吹掃氣體時，上述吹掃氣體藉由連接構件850的第3-1主流入孔853a而分流至第3-1供給流路823a與第3-3供給流路823c。
流動至第3-1供給流路823a的吹掃氣體向第3-1供給連通孔813a流動而流動至第1供給部510的第3-1垂直供給流路543a。流動至第3-1垂直供給流路543a的吹掃氣體藉由第3-1供給空間533a與第3-1供給孔373a而供給至第3-1噴射部330a的內部。以此方式供給於第3-1噴射部330a的內部的吹掃氣體藉由噴射孔390而噴射至第3吹掃區域230的右側。
流動至第3-3供給流路823c的吹掃氣體向第3-3供給連通孔813c流動而流動至第2供給部520的第3-3垂直供給流路543c。流動至第3-3垂直供給流路543c的吹掃氣體藉由第3-3供給空間533c與第3-3供給孔373c而供給至第3-3噴射部330c的 內部。以此方式供給於第3-3噴射部330c的內部的吹掃氣體藉由噴射孔390而噴射至第3吹掃區域230的右側。
當自第3-2外部供給線供給吹掃氣體時，上述吹掃氣體藉由連接構件850的第3-2主流入孔853b而分流至第3-2供給流路823b與第3-4供給流路823d。
流動至第3-2供給流路823b的吹掃氣體向第3-2供給連通孔813b流動而流動至第1供給部510的第3-2垂直供給流路543b。流動至第3-2垂直供給流路543b的吹掃氣體藉由第3-2供給空間533b與第3-2供給孔373b而供給至第3-2噴射部330b的內部。以此方式供給於第3-2噴射部330b的內部的吹掃氣體藉由噴射孔390而噴射至第3吹掃區域230的後方左側。
流動至第3-4供給流路823d的吹掃氣體向第3-4供給連通孔813d流動而流動至第2供給部520的第3-4垂直供給流路543d。流動至第3-4垂直供給流路543d的吹掃氣體藉由第3-4供給空間533d與第3-4供給孔373d而供給至第3-4噴射部330d的內部。以此方式供給於第3-4噴射部330d的內部的吹掃氣體藉由噴射孔390而噴射至第3吹掃區域230的後方右側。
如上所述，於本發明的較佳的實施例的晶圓收納容器10中，第1-1噴射部310a及第1-3噴射部310c、第1-2噴射部及310第1-4噴射部310d、第2-1噴射部320a及第2-3噴射部320c、第2-2噴射部320b及第2-4噴射部320d、第3-1噴射部330a及第3-3噴射部330c與第3-2噴射部330b及第3-4噴射部330d分別藉由 第1-1外部供給線至第3-2外部供給線而個別地接收吹掃氣體，因此可向第1吹掃區域至第3吹掃區域210、220、230噴射吹掃氣體。
因此，可藉由對第1-1外部供給線至第3-2外部供給線供給的吹掃氣體進行控制而僅對第1吹掃區域至第3吹掃區域210、220、230中的所期望的區域選擇性地噴射吹掃氣體。
例如，於機械臂僅將晶圓W收納支持至位於第2吹掃區域220的支持台600的情形時，自第2-1外部供給線及/或第2-2外部供給線供給吹掃氣體而僅向第2吹掃區域220噴射吹掃氣體，藉此可對位於第2吹掃區域220的晶圓W進行吹掃。因此，與先前技術不同，可減少吹掃氣體的不必要的浪費。
另外，可確保均勻地對收納至收納室200的晶圓W進行吹掃。
例如，於第1-1外部供給線至第3-2外部供給線分別具備質量流量控制器(Mass Flow Controller，MFC)的情形時，若利用上述MFC提高供給至第3-1外部供給線及第3-2外部供給線的吹掃氣體的壓力，則藉由噴射孔390而自第3-1噴射部至第3-4噴射部330a~330d的內部噴射至第3吹掃區域230的吹掃氣體的壓力亦變高。因此，與先前技術不同，亦可向於收納室200的內部位於上部的第3吹掃區域230噴射足量的吹掃氣體，藉由此種方法而分別不同地設定自第1-1外部供給線至第3-2外部供給線供給的吹掃氣體的供給壓力，藉此可均勻地對收納至收納室200的 晶圓W進行吹掃。
晶圓收納容器10的吹掃氣體、煙霧及外部氣體的排氣流動
以下，對本發明的較佳的實施例的晶圓收納容器10的吹掃氣體、晶圓W的煙霧、外部氣體的排氣流動進行說明。
如圖34所示，藉由連接於主排氣孔857的外部排氣線(未圖示)而實現本發明的較佳的實施例的晶圓收納容器10的吹掃氣體、晶圓W的煙霧、外部氣體的排氣流動。
排氣部400發揮排放藉由第1-1噴射部至第3-4噴射部310a~330d而噴射於第1吹掃區域至第3吹掃區域210、220、230的吹掃氣體及晶圓W的煙霧的功能，第1前方排氣部710及第2前方排氣部750發揮向晶圓收納容器10的外部排放外部氣體的功能。
以下，詳細地對排氣部400與第1前方排氣部710及第2前方排氣部750的排氣流動進行說明。
藉由排氣部400實現的吹掃氣體及煙霧的排氣流動
以下，參照圖9、圖14、圖16、圖32及圖34，對第1吹掃區域至第3吹掃區域210、220、230的吹掃氣體及晶圓W的煙霧藉由排氣部400而排放的排氣流動進行說明。
當藉由抽吸風扇等而於外部排氣線產生抽吸力時，第1吹掃區域210內的吹掃氣體及晶圓W的煙霧藉由排氣孔490而流動至第1排氣空間410。流動至第1排氣空間410的吹掃氣體及晶 圓W的煙霧藉由第1垂直排氣流路411而流動至第1排氣連通孔815a，經由第1後方排出孔825、第2後方排出孔835而流動至整合排出流路855。以此方式流動至整合排出流路855的吹掃氣體及晶圓W的煙霧於流動至主排氣孔857後，藉由外部排氣線而排放至晶圓收納容器10的外部。
當藉由抽吸風扇等而於外部排氣線產生抽吸力時，第2吹掃區域220內的吹掃氣體及晶圓W的煙霧藉由排氣孔490而流動至第2排氣空間420。流動至第2排氣空間420的吹掃氣體及晶圓W的煙霧藉由第2垂直排氣流路421而流動至第2排氣連通孔815b，經由第1後方排出孔825、第2後方排出孔835而流動至整合排出流路855。以此方式流動至整合排出流路855的吹掃氣體及晶圓W的煙霧於流動至主排氣孔857後，藉由外部排氣線而排放至晶圓收納容器10的外部。
當藉由抽吸風扇等而於外部排氣線產生抽吸力時，第3吹掃區域230內的吹掃氣體及晶圓W的煙霧藉由排氣孔490而流動至第3排氣空間430。流動至第3排氣空間430的吹掃氣體及晶圓W的煙霧藉由第3垂直排氣流路431而流動至第3排氣連通孔815c，經由第1後方排出孔825、第2後方排出孔835而流動至整合排出流路855。以此方式流動至整合排出流路855的吹掃氣體及晶圓W的煙霧於流動至主排氣孔857後，藉由外部排氣線而排放至晶圓收納容器10的外部。
如上所述，藉由排氣部400排放的吹掃氣體及晶圓W的 煙霧藉由各排氣流路、即3個排氣流路排放後，彙聚到一起而自第2下部板820的第1後方排出孔825排放。
其是為了藉由一個外部排氣線的抽吸力而容易地排放吹掃氣體及晶圓W的煙霧。因此，為了選擇性地排放第1吹掃區域至第3吹掃區域210、220、230的吹掃氣體及晶圓W的煙霧，較佳為於第1垂直排氣流路至第3垂直排氣流路411、42、431具備閥。
換言之，第1垂直排氣流路至第3垂直排氣流路411、42、431可分別具備如電磁閥等的閥，藉由對此種電磁閥進行控制，可容易地對第1吹掃區域至第3吹掃區域210、220、230的吹掃氣體及晶圓W的煙霧進行選擇性地排放。因此，於自第1-1噴射部至第3-4噴射部310a~330d向第1吹掃區域至第3吹掃區域210、220、230選擇性地噴射吹掃氣體時，可僅向第1吹掃區域至第3吹掃區域210、220、230中的噴射有吹掃氣體的吹掃區域排放吹掃氣體及晶圓W的煙霧。
如上所述，對吹掃氣體向第1吹掃區域至第3吹掃區域210、220、230的噴射、及吹掃氣體與煙霧的排放進行控制而選擇性地實施，藉此可更優異地確保均勻地對上述晶圓W進行吹掃，亦可明顯地減少吹掃氣體的不必要的浪費。
另外，與上述實施例不同，排氣部400亦可發揮與外部供給線連接而噴射吹掃氣體的功能，於該情形時，可分別向第1吹掃區域至第3吹掃區域210、220、230的後方選擇性地噴射吹 掃氣體。
藉由第1、第2前方排氣部710、750實現的外部氣體的排氣流動
以下，參照圖9、圖14、圖16、圖32及圖34，對藉由第1前方排氣部710及第2前方排氣部750而排放的外部氣體的排氣流動進行說明。
當藉由抽吸風扇等而於外部排氣線產生抽吸力時，晶圓收納容器10的前方左側外部的外部氣體藉由第1前方排氣部710的第1排氣狹縫720而流動至第4排氣空間至第6排氣空間721a、721b、721c。
流動至第4排氣空間721a的外部氣體藉由第4垂直排氣流路731a而流動至第4排氣連通孔816a，經由第4排氣流路826a及第4排出孔836a而流動至整合排出流路855。以此方式流動至整合排出流路855的外部氣體於流動至主排氣孔857後，藉由外部排氣線而排放至晶圓收納容器10的外部。
流動至第5排氣空間721b的外部氣體藉由第5垂直排氣流路731b而流動至第5排氣連通孔816b，經由第5排氣流路826b及第5排出孔836b而流動至整合排出流路855。以此方式流動至整合排出流路855的外部氣體於流動至主排氣孔857後，藉由外部排氣線而排放至晶圓收納容器10的外部。
流動至第6排氣空間721c的外部氣體藉由第6垂直排氣流路731c而流動至第6排氣連通孔816c，經由第6排氣流路 826c及第6排出孔836c而流動至整合排出流路855。以此方式流動至整合排出流路855的外部氣體於流動至主排氣孔857後，藉由外部排氣線而排放至晶圓收納容器10的外部。
當藉由抽吸風扇等而於外部排氣線產生抽吸力時，晶圓收納容器10的前方右側外部的外部氣體藉由第2前方排氣部750的第2排氣狹縫760而流動至第7排氣空間至第9排氣空間761a、761b、761c。
流動至第7排氣空間761a的外部氣體藉由第7垂直排氣流路771a而流動至第7排氣連通孔817a，經由第7排氣流路827a及第7排出孔837a而流動至整合排出流路855。以此方式流動至整合排出流路855的外部氣體於流動至主排氣孔857後，藉由外部排氣線而排放至晶圓收納容器10的外部。
流動至第8排氣空間761b的外部氣體藉由第8垂直排氣流路771b而流動至第8排氣連通孔817b，經由第8排氣流路827b及第8排出孔837b而流動至整合排出流路855。以此方式流動至整合排出流路855的外部氣體於流動至主排氣孔857後，藉由外部排氣線而排放至晶圓收納容器10的外部。
流動至第9排氣空間761c的外部氣體藉由第9垂直排氣流路771c而流動至第9排氣連通孔817c，經由第9排氣流路827c及第9排出孔837c而流動至整合排出流路855。以此方式流動至整合排出流路855的外部氣體於流動至主排氣孔857後，藉由外部排氣線而排放至晶圓收納容器10的外部。
如上所述，第1前方排氣部710及第2前方排氣部750分別排放晶圓收納容器10的前方左右側外部的外部氣體，因此可藉由預先阻斷藉由前方開口部251流入至收納室200的內部的外部氣體而防止於第1吹掃區域至第3吹掃區域210、220、230進行的晶圓W的吹掃受阻。
如上所述，藉由第1前方排氣部710及第2前方排氣部750排放的外部氣體藉由各排氣流路、即6個排氣流路排放後，彙聚到一起而自連接構件850的整合排出流路855排放。
其是為了藉由一個外部排氣線的抽吸力而容易地排放外部氣體。因此，為了選擇性地排放與第1吹掃區域至第3吹掃區域210、220、230對應的高度上的外部氣體，較佳為於第4排氣流路至第9排氣流路826a、826b、826c、827a、827b、827c具備閥。
換言之，第4排氣流路至第9排氣流路826a、826b、826c、827a、827b、827c可分別具備如電磁閥等的閥，藉由對此種電磁閥進行控制，可容易地對與第1吹掃區域至第3吹掃區域210、220、230對應的高度上的外部氣體進行選擇性地排放。
因此，如上所述，於對第1吹掃區域至第3吹掃區域210、220、230中的任一吹掃區域選擇性地噴射及排放吹掃氣體的情形時，可僅選擇性地排放與上述吹掃區域的高度對應的區域的外部氣體，因此可預先阻斷外部氣體流入至進行吹掃的吹掃區域。
另外，與上述實施例不同，第1前方排氣部710及第2 前方排氣部750亦可發揮與外部供給線連接而噴射吹掃氣體的功能，於該情形時，可向晶圓收納容器10的外部的前方左右側噴射吹掃氣體。
若如上所述般藉由第1前方排氣部710及第2前方排氣部750噴射吹掃氣體，則可於晶圓收納容器10的外部的外部氣體的污染嚴重的情形時(例如，煙霧等殘留於晶圓收納容器10的外部的情形時)，噴射吹掃氣體而防止於位於晶圓收納容器10的外部的其他半導體製程裝備殘留煙霧，同時阻斷受到污染的上述外部氣體流入至收納室200的內部。
如上所述，參照本發明的較佳的實施例進行了說明，但於本技術領域內具有常識者可於不脫離下述申請專利範圍中所記載的本發明的思想及技術領域的範圍內，對本發明實施各種修正或變形。
10:晶圓收納容器
200:收納室
251:前方開口部
600:支持台
710:第1前方排氣部
750:第2前方排氣部
800:下部板
900:上部板

Claims (3)

  1. 一種晶圓收納容器，其特徵在於包括：收納室，收納藉由前方開口部而收納的晶圓，所述收納室沿垂直方向劃分成多個吹掃區域，所述多個吹掃區域形成為在所述收納室中互相連通的分隔的區域；多個噴射部，向所述收納室噴射吹掃氣體；及排氣部，排放所述收納室的吹掃氣體及煙霧；所述多個噴射部中的每一個具備與所述收納室相接的噴射部內壁面，所述噴射部內壁面形成有使所述吹掃氣體噴射至所述收納室的多個噴射孔；以及供給部，包括多個供給空間，所述多個供給空間被配置為與所述多個噴射部個別地連通，以將所述吹掃氣體分別地供應給所述多個噴射部，所述多個噴射部分別通過所述多個供應空間接收所述吹掃氣體，且，所述多個噴射部分別向相對應的所述吹掃區域噴射所述吹掃氣體，其中所述排氣部包括：排氣部內壁面，與所述收納室相接；排氣孔，形成在所述排氣部內壁面上，用以排放所述收納室的吹掃氣體及煙霧；多個排氣空間，與所述排氣孔連通； 多個垂直排氣流路，分別與所述多個排氣空間連通；其中多個所述排氣空間被布置成在垂直方向上與多個所述吹掃區域一對一地對應堆疊，多個所述排氣空間中的至少一個與多個所述排氣孔連通。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的晶圓收納容器，其中所述多個噴射部以分別與沿垂直方向劃分的所述多個吹掃區域對應的方式沿垂直方向積層配置。
  3. 如申請專利範圍第2項所述的晶圓收納容器，其中所述供給部具備沿垂直方向延伸的多個垂直供給流路，所述多個垂直供給流路分別與所述多個噴射部連通。
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