KR20170076626A

KR20170076626A - 웨이퍼 수납용기

Info

Publication number: KR20170076626A
Application number: KR1020170039237A
Authority: KR
Inventors: 우범제; 윤석문; 한명석; 김현신
Original assignee: 피코앤테라(주); 우범제
Priority date: 2017-03-28
Filing date: 2017-03-28
Publication date: 2017-07-04

Abstract

본 발명은 내부에 웨이퍼가 수납되는 웨이퍼 수납용기에 관한 것으로서, 특히, 내벽과 외벽의 이중벽 구조를 이용해서 수납실과 다수 개의 공간챔버를 별도의 독립된 공간으로 형성하고, 상기 공간챔버에 공간을 활용하여 상기 웨이퍼의 퓸을 제거하거나, 상기 웨이퍼 수납용기의 내부 환경을 조절 또는 측정하는 장치들을 설치할 수 있는 웨이퍼 수납용기에 관한 것이다.

Description

웨이퍼 수납용기{WAFER STORAGE CONTAINER}

본 발명은 내부에 웨이퍼가 수납되는 웨이퍼 수납용기에 관한 것이다.

일반적으로 반도체 소자는 웨이퍼 상에 증착 공정, 연마 공정, 포토리소그래피 공정, 식각 공정, 이온주입 공정, 세정 공정, 검사 공정, 열처리 공정 등이 선택적이면서도 반복적으로 수행되어 제조되며, 이렇게 반도체 소자로 형성되기 위하여 웨이퍼는 각 공정에서 요구되는 특정 위치로 운반되어 진다.

반도체 제조 공정 시에, 가공되는 웨이퍼는 고정밀도의 물품으로 보관 및 운반 시 외부의 오염 물질과 충격으로부터 오염되거나 손상되지 않도록 개구 통합형 포드(Front Opening Unified Pod, FOUP)와 같은 웨이퍼 수납용기에 수납되어 이송한다.

이 경우, 공정상에서 사용되는 공정 가스 및 공정상의 부산물인 퓸(Fume) 등이 제거되지 않고 웨이퍼의 표면에 잔존한 채로 웨이퍼 수납용기에 수납된다.

그러나 이러한 잔존물이 웨이퍼의 표면에 부착된 상태로 공정을 진행하게 되면 반도체 제조 장비의 오염 및 에칭 패턴(etch pattern)의 불량 등으로 이어져, 결국 제품의 신뢰성이 저하되는 문제가 있다.

최근에 이러한 문제를 해결하기 위해, 내부에 웨이퍼가 수납된 웨이퍼 수납용기를 로드포트(Load Port)와 결합시켜 상기 로드포트에서 공급되는 가스를 이용하여, 상기 웨이퍼의 표면에 잔존하는 퓸을 제거하는 기술들이 개발되고 있으며, 이러한, 웨이퍼 수납용기로는 특허문헌 한국 등록특허 제1366135호(이하, '특허문헌 1' 이라 한다)와, 일본 공개특허 제2012-004199호(이하, '특허문헌 2' 라 한다)에 기재된 것이 공지되어 있다.

특허문헌 1의 포스트 퍼지 장치는 웨이퍼 수납부와, 다수 개의 분사노즐이 형성된 다수 개의 분사배관과, 상기 다수 개의 분사배관에 체결되는 공급배관으로 구성된 Fume 제거부와, Fume 배기부를 포함하여 구성되어, 제1기체가 상기 공급배관을 따라 공급되어, 상기 다수 개의 분사배관으로 유동되고, 상기 다수 개의 분사노즐을 통해 상기 웨이퍼 수납부에 수납된 웨이퍼로 분사되게 된다.

그러나, 특허문헌 1의 포스트 퍼지 장치의 경우, 웨이퍼 수납부의 내부 공간에 퓸 제거부가 설치되어 있으므로, 상기 웨이퍼 수납부에 웨이퍼가 수납되면 상기 내부 공간의 공간이 협소하여, 상기 포스트 퍼지 장치의 내부 환경을 조절하거나 측정하는 기타 장치들을 설치할 공간이 없다는 문제가 있다.

또한, 퓸 제거부의 세로 길이 방향으로 다수 개 배치되는 상기 분사배관 중 상기 공급배관과 상대적으로 가장 멀리 위치하는 분사배관에서 분사되는 제1기체의 분사압이 다른 분사배관에서 분사되는 제1기체의 분사압에 비해 상대적으로 낮으며, 상기 분사배관의 상, 하부에서 분사되는 제1기체의 분사압 또한, 상기 공급배관이 체결되는 상기 분사배관의 중앙부에서 분사되는 제1기체의 분사압 보다 상대적으로 낮으므로, 상기 웨이퍼 수납부의 전방부와, 하부 및 상부에 상기 제1기체의 분사가 충분히 이루어질 수 없다는 문제가 있다.

상기 분사배관을 통해 상기 제1기체가 일종의 선상(線上)방식으로 분사되므로, 상기 웨이퍼 수납부에서 상기 분사배관이 배치되지 않는 영역에는 상기 제1기체가 분사되지 않아, 상기 분사배관이 배치된 일정 영역에만 상기 제1기체의 분사가 집중되게 된다. 따라서, 상기 웨이퍼의 퓸을 제거하지 못하는 사영역이 발생할 수 있으며, 이를 해결하기 위해 상기 분사배관의 갯수를 늘리게 되면, 상기 제1기체의 분사압 차이가 더욱 커지게 됨으로써, 전술한 상기 웨이퍼 수납부의 전방부와, 하부 및 상부에 상기 제1기체의 분사가 더욱 이루어질 수 없다는 문제가 있다.

상기 포스트 퍼지 장치를 장기간 사용함에 따라, 상기 Fume 배기부에 퓸이 지속적으로 접촉하게 되어, 상기 Fume 배기부의 오염 및 부식이 발생하게 되어 세척 또는 교체가 필요한데, 상기 포스트 퍼지 장치의 구성상 상기 Fume 배기부의 세척 및 교체가 쉽게 이루어질 수 없어, 상기 포스트 퍼지 장치의 수명이 단축될 수 있다는 문제가 있다.

특허문헌 2의 기판 수납용기는 용기 본체와, 상기 용기 본체의 저판에 형성되어 불활성 가스를 유동시키는 한 쌍의 급기밸브 및 한 쌍의 배기밸브를 포함하되, 상기 급기밸브는 상기 용기 본체의 만곡 돌기부와, 측벽 및 지지체의 포위편에 포위된 공간에 위치된 구성을 갖고 있다.

따라서, 상기 기판 수납용기는 상기 한 쌍의 급기밸브를 통해 상기 공간에 불활성 가스가 유입되면, 복수의 후부 지주와 복수의 후부 지지편 사이에 형성된 유출구 또는 상하 인접하는 상기 후부 지지편들 사이에 형성된 공극을 통해 상기 불활성 가스가 웨이퍼 방향으로 유동한 후, 상기 용기 본체의 저판 전방에 형성된 한 쌍의 배기 밸브로 배기된다.

그러나 특허문헌 2의 기판 수납용기의 경우, 용기 본체의 전방에 한 쌍의 배기 밸브가 형성되고, 용기 본체의 좌, 우측에 지지체가 형성되어 있으므로, 상기 용기 본체에 웨이퍼가 수납되면 상기 용기 본체의 내부 공간이 협소하여, 상기 기판 수납용기의 내부 환경을 조절하거나 측정하는 기타 장치들을 설치할 공간이 없다는 문제가 있다.

웨이퍼의 후방 영역에서만 상기 불활성 가스의 공급이 이루어지게 되어, 상기 웨이퍼의 전방에 상기 웨이퍼의 퓸이 제거되지 않는 사영역이 발생할 수 있다는 문제가 있다.

상기 불활성 가스는 단순히 공간에 유입되어, 상기 유출구 또는 상기 공극을 통해 유동하는 것에 불과하여, 상기 웨이퍼의 표면에 잔존하는 퓸을 직접적으로 제거할 정도의 압력과 유속을 가지지 못하며, 상기 웨이퍼의 중심영역까지 충분히 유동할 수도 없다는 문제가 있다.

상기 웨이퍼의 퓸을 제거한 상기 불활성 가스가 상기 저판의 전방에 형성된 한 쌍의 배기 밸브로 배기되므로, 상기 배기 밸브와 인접한 일부 영역에서만 집중적으로 배기가 될 수 있어, 상기 불활성 가스와 상기 퓸의 배기가 원활히 이루어지기 힘들다는 문제가 있다.

상기 불활성 가스의 일부 영역에서의 공급과, 일부 영역에서의 배기로 인해, 상기 용기 본체 내부에서의 상기 불활성 가스의 유동이 일종의 난류가 형성될 수 있으며, 이로 인해, 상기 불활성 가스의 균일한 공급 및 배기가 이루어 질 수 없을 뿐만 아니라 상기 웨이퍼를 기준으로 후방 및 전방 영역에서의 상기 불활성 가스의 유동이 원할하게 이루어질 수 없어, 웨이퍼의 퓸 제거의 효율이 떨어진다는 문제가 있다.

한국 등록특허 제1366135호. 일본 공개특허 제2012-004199호.

본 발명은 전술한 문제를 해결하기 위해 안출된 것으로서, 이중벽 구조를 이용해서 수납실과 이외의 공간을 효율적으로 이용하는 웨이퍼 수납용기를 제공하는 것이다.

본 발명의 일 특징에 따른 웨이퍼 수납용기는 내부에 웨이퍼가 수납되는 본체를 포함하는 웨이퍼 수납용기에 있어서, 상기 본체는, 상기 본체의 외부 측면을 구성하는 외벽부; 및 상기 외벽부로부터 내측으로 이격되어 형성되는 내벽부;를 포함하되, 상기 내벽부의 내측 공간으로 이루어지는 수납실에 상기 웨이퍼가 수납되고, 상기 외벽부와 상기 내벽부 사이의 공간으로 이루어지는 공간챔버가 상기 수납실의 둘레방향으로 다수 개 형성된 것을 특징으로 한다.

또한, 상기 내벽부에 상기 공간챔버와 상기 수납실을 연통시키는 다수의 구멍이 형성되고, 상기 다수 개의 공간챔버 중 적어도 하나는 상기 다수의 구멍을 통해 상기 수납실로 가스를 공급하고, 상기 다수 개의 가스실 중 적어도 하나는 상기 다수의 구멍을 통해 상기 수납실의 가스를 배기하는 것을 특징으로 한다.

또한, 상기 본체의 상부 플레이트와 하부 플레이트에 결합되어 형성된 웨이퍼 지지체를 더 포함하되, 상기 웨이퍼 지지체는 상, 하 방향으로 다수 개 배열되는 웨이퍼 지지대를 포함하는 것을 특징으로 한다.

또한, 상기 내벽부에는 상, 하 방향으로 다수 개 배열되는 웨이퍼 지지대가 형성되는 것을 특징으로 한다.

또한, 상기 다수의 구멍은 매트릭스의 형태로 형성되고, 상기 매트릭스의 형태의 다수의 구멍은 상기 상, 하방향으로 다수 개 배열된 웨이퍼 지지대 사이에 위치하는 것을 특징으로 한다.

또한, 상기 본체는, 상기 본체의 바닥면을 이루며, 상기 본체로부터 분리 가능하게 결합되는 하부 플레이트를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.

또한, 상기 하부 플레이트는, 상기 내벽부보다 상기 본체의 내측방향에 위치하도록 상기 하부 플레이트의 저면에 형성되는 가스홀; 상기 공간챔버에 위치하도록 상기 하부 플레이트의 상면에 형성되는 연통홀; 및 상기 가스홀과 상기 연통홀을 연통하도록 상기 하부 플레이트의 내부에 형성되는 통로를 포함하는 것을 특징으로 한다.

또한, 상기 하부 플레이트는, 상기 본체의 바닥면을 이루는 제1하부 플레이트와, 상기 제1하부 플레이트의 하부에 위치하는 제2하부 플레이트 및 상기 제2하부 플레이트의 하부에 위치하는 제3하부 플레이트가 결합되어 형성되고, 상기 가스홀은 상기 제3하부 플레이트에 형성되고, 상기 연통홀은 상기 제1하부 플레이트에 형성되고, 상기 통로는 상기 제2하부 플레이트에 형성되는 것을 특징으로 한다.

또한, 상기 공간챔버 내의 가스 흐름의 역류를 방지하는 역류방지수단이 형성된 것을 특징으로 한다.

또한, 상기 공간챔버 내의 가스 흐름을 측정하는 유동측정 센서가 형성된 것을 특징으로 한다.

또한, 상기 공간챔버 내의 가스 흐름을 차단하는 차단부재가 설치되는 것을 특징으로 한다.

또한, 상기 내벽부는 상기 본체로부터 분리 가능하게 결합되는 것을 특징으로 한다.

또한, 상기 외벽부와 상기 내벽부는 상기 본체의 후방으로 볼록한 곡률을 갖는 것을 특징으로 한다.

또한, 상기 외벽부와 상기 내벽부 사이의 이격 거리는 동일한 것을 특징으로 한다.

또한, 상기 다수 개의 공간챔버 사이에는 보강기둥이 설치된 것을 특징으로 한다.

또한, 상기 공간챔버 내부에 설치된 센서를 포함하는 것을 특징으로 한다.

또한, 상기 공간챔버 내부에 설치된 히터를 포함하는 것을 특징으로 한다.

또한, 상기 다수 개의 공간챔버의 단면폭은 일정하고, 상기 수납실의 단면폭은 전방 개구부로 갈수록 커지는 것을 특징으로 한다.

또한, 상기 다수 개의 공간챔버는, 상기 수납실에 수납되는 웨이퍼의 중심점을 기준으로 전방 좌, 우 외측면에 각각 위치하는 제1, 2공간챔버와, 상기 수납실에 수납되는 웨이퍼의 중심점을 기준으로 후방 좌, 우 외측면에 각각 위치하는 제3, 4공간챔버와, 상기 제3, 4공간챔버 각각의 후방에서 상기 수납실의 외측면에 위치하는 제5, 6공간챔버로 구성되는 것을 특징으로 한다.

이상에서 설명한 바와 같은 본 발명의 웨이퍼 수납용기에 따르면, 다음과 같은 효과가 있다.

웨이퍼 수납용기의 이중벽 구조로 인해, 수납실과 다수 개의 공간챔버가 서로 독립된 별개의 공간을 형성하며, 이로 인해, 웨이퍼가 수납되는 공간을 충분히 확보하면서도, 상기 공간챔버의 공간을 활용하여 웨이퍼의 퓸을 제거하거나, 상기 웨이퍼 수납용기의 내부 환경을 조절 또는 측정하는 장치들을 설치할 수 있다는 효과가 있다.

가스가 상기 수납실의 측면 전체에 면상(面上)으로 공급되므로, 상기 가스가 균일하게 공급되며, 이로 인해, 웨이퍼의 퓸이 제거되지 않는 사영역의 발생을 방지할 수 있다.

상기 수납실로 공급되는 상기 가스가 높은 압력과 빠른 유속을 갖게 되어, 단순히 상기 다수의 구멍으로 상기 가스가 새어나오는게 아닌, 노즐에서 가스가 분사되는 것과 같은 효과를 가질 수 있으므로, 상기 가스가 상기 웨이퍼의 중심 영역까지 고르게 공급될 수 있고, 웨이퍼의 표면에 잔존하는 퓸을 효율적으로 제거할 수 있다.

상, 하로 인접하는 지지대 사이에 다수의 구멍이 다수의 행과 다수의 열을 갖는 매트릭스 형태로 배치됨으로써, 상기 지지대에 지지되는 웨이퍼의 퓸을 효율적으로 제거할 수 있다.

상기 수납실의 측면 전체에 면상(面上)으로 상기 가스 및 퓸이 효율적으로 배기될 수 있으며, 이로 인해, 상기 수납실이 청정한 가스로 치환되어 상기 웨이퍼의 산화(Oxidation)를 방지할 수 있다.

외벽이 상기 웨이퍼 수납용기로부터 분리 가능하게 설치됨으로써, 상기 분리벽을 용이하게 교체 또는 세척을 할 수 있으며, 이로 인해, 상기 웨이퍼 수납용기의 수명이 연장될 수 있다.

히터 및 센서에 의해 상기 웨이퍼 수납용기의 내부의 온도 및 습도를 조절하거나, 온도 및 습도를 측정할 수 있으며, 이로 인해, 상기 웨이퍼 수납용기의 내부에 수납된 웨이퍼의 퓸을 더욱 효율적으로 제거할 수 있다.

차단부재 및 역류방지수단에 의해, 상기 웨이퍼 수납용기 내부의 가스의 공급 및 가스의 배기시 역류하는 것을 방지할 수 있으며, 상기 웨이퍼 수납용기를 로드포트에서 분리시 상기 웨이퍼 수납용기 내부에 존재하는 가스가 외부로 유출되는 것을 방지할 수 있다.

유동측정센서에 의해, 상기 웨이퍼 수납용기 내부의 가스의 공급 및 가스의 배기가 원할하게 이루어지는지 여부를 파악할 수 있다.

도 1은 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 웨이퍼 수납용기의 사시도.
도 2는 도 1의 분해 사시도.
도 3은 도 1의 상부 플레이트의 하면을 도시한 저면도.
도 4는 도 1의 제1하부 플레이트의 상면을 도시한 평면도.
도 5(a) 및 도 5(b)는 도 4의 제1하부 플레이트에 차단부재가 설치된 것을 도시한 측면 단면도.
도 6은 도 1의 제2하부 플레이트의 상면을 도시한 평면도.
도 7은 도 1의 제3하부 플레이트의 상면을 도시한 평면도.
도 8은 도 1의 평면 단면도.
도 9(a)는 도 1의 제1, 2보강 기둥을 도시한 사시도.
도 9(b)는 도 1의 제3 내지 제5보강 기둥을 도시한 사시도.
도 10는 도 1의 지지부를 도시한 사시도.
도 11는 도 1의 좌측면의 단면을 도시한 측면 단면도.
도 12는 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 웨이퍼 수납용기의 가스의 유동을 도시한 도.

이하에서 언급되는 '가스'는 웨이퍼(W)의 퓸을 제거하기 위한 불활성 기체를 통칭하는 말이며, 특히, 불활성 기체 중 하나인 질소(N₂) 가스일 수 있다.

본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 웨이퍼 수납용기는 본체를 포함하여 구성된다. 본체는 전방이 개방된 전방 개구부를 갖으며, 본체는 본체의 외부 측면을 구성하는 외벽부와, 외벽부로부터 내측으로 이격되어 형성되는 내벽부와, 본체의 상면을 구성하는 상부 플레이트와, 본체의 바닥면을 구성하는 하부 플레이트와, 내벽부의 내측공간으로 이루어지는 수납실과, 외벽부와 내벽부 사이의 공간으로 이루어지는 다수 개의 공간챔버를 포함하여 구성된다.

외벽부는 본체의 전방 개구부를 제외한 영역에서 상부 플레이트와 하부 플레이트를 연결하여, 본체의 외부 측면을 구성한다.

내벽부는 본체의 전방 개구부를 제외한 영역에서 상부 플레이트와 하부 플레이트를 연결하여, 본체의 내부 측면을 구성한다. 따라서, 본체는 전방 개구부에 의해 전방이 개방되고, 내벽부와 외벽부에 의해 이중벽의 구조를 갖는다.

내벽부에는 다수의 구멍이 형성될 수 있으며, 다수의 구멍은 다수 개의 공간챔버와 수납실을 각각 연통시키는 역할을 한다.

상부 플레이트는 본체의 상면을 구성하고, 하부 플레이트는 본체의 바닥면을 구성한다.

하부 플레이트는 본체로부터 분리 가능하게 결합될 수 있으며, 다수 개의 하부 플레이트의 결합으로 구성될 수 있다.

하부 플레이트가 다수 개의 하부플레이트의 결합으로 이루어질 영우, 본체의 바닥면을 이루는 것은 다수 개의 하부 플레이트 중 최상부에 위치하는 하부 플레이트가 된다.

하부 플레이트의 저면에는 가스홀이 형성될 수 있고, 하부 플레이트의 상면에는 다수 개의 공간챔버에 위치하는 다수 개의 연통홀이 형성될 수 있고, 하부 플레이트의 내부에는 가스홀과 다수 개의 연통홀을 연통시키는 통로가 형성될 수 있다.

가스홀은 다수 개의 가스홀로 구성될 수 있으며, 다수 개의 가스홀 중 적어도 하나는 공간챔버로 가스를 공급하는 공급 가스홀의 역할을 하고, 다수 개의 가스실 중 적어도 하나는 수납실의 가스 및 웨이퍼의 퓸을 배기하는 배기 가스홀의 역할을 한다.

다수 개의 가스홀은 수납실에 수납되는 웨이퍼의 중심점을 기준으로 전방에 위치하는 한 쌍의 전방 가스홀과, 수납실에 수납되는 웨이퍼의 중심점을 기준으로 후방에 위치하는 한 쌍의 후방 가스홀로 구성되는 것이 바람직하다.

수납실은 내부에 웨이퍼가 수납되며, 본체에서 내벽부의 내측 공간에 형성된 공간을 말한다.

공간챔버는 수납실의 둘레방향으로 다수 개가 형성되며, 본체에서 내벽부와 외벽부 사이에 형성된 공간을 말한다.

다수 개의 공간챔버는 가스가 유동하는 가스챔버의 역할을 할 수 있으며, 이를 위해, 다수 개의 공간챔버 각각은 다수 개의 구멍을 갖는 내벽부에 의해 수납실과 연통되고, 다수 개의 공간챔버 각각에 위치하는 연통홀과 통로에 의해 가스홀과 연통될 수 있다.

이 경우, 다수 개의 공간챔버 중 적어도 하나는 수납실로 가스를 공급하는 가스 공급챔버의 역할을 하고, 다수 개의 가스실 중 적어도 하나는 수납실의 가스 및 웨이퍼의 퓸을 배기하는 가스 배기챔버의 역할을 한다.

또한, 다수 개의 공간챔버는 웨이퍼 수납용기의 내부 환경을 조절하거나 측정하는 장치들이 설치되는 공간으로 이용될 수 있으며, 이를 위해, 웨이퍼 수납용기 내부의 온도를 조절하는 히터가 설치될 수 있고, 웨이퍼 수납용기 내부의 온도또는 습도를 센싱하는 센서가 설치될 수 있다.

전술한 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 웨이퍼 수납용기는 외벽부와 내벽부의 이중벽 구조로 인해, 수납실과 다수 개의 공간챔버가 서로 독립된 별개의 공간을 형성할 수 있다.

이로 인해, 웨이퍼가 수납되는 공간을 충분히 확보하면서도, 공간챔버의 공간을 활용하여, 웨이퍼의 퓸을 제거하거나, 웨이퍼 수납용기의 내부 환경을 조절 또는 측정하는 장치들을 설치할 수 있다는 효과가 있다.

전술한 다수 개의 공간챔버는 제1 내지 제6공간챔버, 즉, 6개의 공간챔버로 이루어질 수 있으며, 다수 개의 가스홀은 제1 내지 제4가스홀, 즉, 4개의 가스홀로 이루어 질 수 있다. 또한, 하부 플레이트는 제1 내지 제3하부 플레이트의 결합, 즉, 3개의 하부 플레이트의 결합으로 이루어질 수 있다.

제1, 2가스홀은 수납실에 수납되는 웨이퍼의 중심점을 기준으로 전방에 위치하는 전방 가스홀이고, 제3, 4가스홀은 수납실에 수납되는 웨이퍼의 중심점을 기준으로 후방에 위치하는 후방 가스홀이다.

제1가스홀은 제1, 3공간챔버와 연통될 수 있으며, 제2가스홀은 제2, 4공간챔버와 연통될 수 있고, 제3, 4가스홀은 각각 제5, 6 공간챔버와 연통될 수 있다.

제1, 2가스홀에는 로드포트의 가스 공급 노즐이 결합되어 제1 내지 제4 공간챔버를 통해 수납실 내부로 가스가 공급될 수 있으며, 제3, 4가스홀에는 로드포트의 가스 배기 노즐이 결합되어, 제5, 6 공간챔버를 통해 수납실의 가스 및 웨이퍼의 퓸이 배기될 수 있다.

이하, 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 웨이퍼 수납용기의 하나의 실시 예로서, 전술한 바와 같이, 공간챔버가 제1 내지 제6공간챔버로 이루어지고, 가스홀이 제1 내지 제4가스홀로 이루어지고, 하부 플레이트가 제1 내지 제3하부 플레이트의 결합으로 이루어지는 것을 기준으로 설명한다.

이 경우, 제1, 2가스홀은 로드포트의 가스 공급 노즐과 결합하는 가스 공급홀의 역할을 하고, 제3, 4가스홀은 로드포트의 가스 배기 노즐과 결합하는 가스 배기홀의 역할을 한다. 따라서, 제1가스홀과 연통되는 제1, 3가스실과 제2가스홀과 연통되는 제2, 4공간챔버는 가스 공급챔버의 역할을 하고, 제3가스홀과 연통되는 제5공간챔버와 제4가스홀과 연통되는 제6공간챔버는 가스 배기챔버의 역할을 하게 됨은 물론이다.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 설명하면 다음과 같다.

도 1은 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 웨이퍼 수납용기의 사시도이고, 도 2는 도 1의 분해 사시도이고, 도 3은 도 1의 상부 플레이트의 하면을 도시한 저면도이고, 도 4는 도 1의 제1하부 플레이트의 상면을 도시한 평면도이고, 도 5(a) 및 도 5(b)는 도 4의 제1하부 플레이트에 차단부재가 설치된 것을 도시한 측면 단면도이고, 도 6은 도 1의 제2하부 플레이트의 상면을 도시한 평면도이고, 도 7은 도 1의 제3하부 플레이트의 상면을 도시한 평면도이고, 도 8은 도 1의 평면 단면도이고, 도 9(a)는 도 1의 제1, 2보강 기둥을 도시한 사시도이고, 도 9(b)는 도 1의 제3 내지 제5보강 기둥을 도시한 사시도이고, 도 10는 도 1의 지지부를 도시한 사시도이고, 도 11는 도 1의 좌측면의 단면을 도시한 측면 단면도이고, 도 12는 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 웨이퍼 수납용기의 가스의 유동을 도시한 도이다.

이하, 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 웨이퍼 수납용기(1)에 대해 설명한다.

도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 웨이퍼 수납용기(1)는 외벽부(100), 내벽부(200), 상부 플레이트(300) 및 제1하부 플레이트(400)가 각각 외부 측면, 내부 측면, 상면, 및 바닥면을 이루는 본체(10)와, 본체(10)에 설치되는 제1 내지 제5보강 기둥(710a ~ 710e) 및 웨이퍼 지지체(720)와, 본체(10)의 공간챔버(150)에 설치되는 센서 및 히터를 포함하여 구성된다.

도 1, 2, 8 및 도 12에 도시된 바와 같이, 본체(10)는 전방이 개방된 전방 개구부를 갖으며, 본체(10)의 외부 측면을 구성하는 외벽부(100)와, 외벽부(100)로부터 내측으로 이격되게 형성되어 본체(10)의 내부 측면을 이루는 내벽부(200)와, 본체(10)의 상면을 이루는 상부 플레이트(300)와, 본체(10)의 바닥면을 이루는 제1하부 플레이트(400)와, 제1하부 플레이트(400)의 하부에 위치하는 제2하부 플레이트(500)와, 제2하부 플레이트(500)의 하부에 위치하는 제3하부 플레이트(600)와, 내벽부(200)의 내측공간으로 이루어지는 수납실(250)과, 외벽부(100)와 내벽부(200) 사이의 공간으로 이루어지는 공간챔버(150)를 포함하여 구성된다.

이하, 본체(10)의 외벽부(100)에 대해 설명한다.

도 1, 2, 8 및 도 12에 도시된 바와 같이, 외벽부(100)는 본체(10)의 전방 개구부를 제외한 영역에서 상부 플레이트(300)와 제1하부 플레이트(400)를 연결하며 본체(10)의 외부 측면을 구성한다.

외벽부(100)는 제1 내지 제6외벽(100a ~ 100f)으로 구성되어 있으며, 제1 내지 제6외벽(100a ~ 100f)은 각각 그 상부가 후술할 상부 플레이트(300)의 외벽부 상부 고정홈(310)에 끼워지고, 그 하부가 후술할 제1하부 플레이트(400)의 외벽부 하부 고정홈(410)에 끼워짐으로써, 상부 플레이트(300)와 제1하부 플레이트(400)를 연결하여 본체(10)의 외부 측면을 구성한다.

제1, 2외벽(100a, 100b)은 본체(10)의 전방 좌, 우측에 각각 위치한다. 제3, 4외벽(100c, 100d)은 본체(10)의 후방 좌, 우측에 각각 위치한다. 제5, 6외벽(100e, 100f)은 본체(10)의 후방에 위치한다.

따라서, 본체(10)를 기준으로 전방 좌측부터 전방 우측까지 제1외벽(100a), 제3외벽(100c), 제5외벽(100e), 제6외벽(100f), 제4외벽(100d), 제2외벽(100b)이 위치하고 있다. 또한, 제1 내지 제6외벽(100a ~ 100f)은 본체(10)의 전방 개구부를 제외한 영역의 측면을 이루고 있다.

제1, 3외벽(100a, 100c)은 제1보강 기둥(710a)에 의해 연결되어 있다. 제3, 5외벽(100c, 100e)은 제3보강 기둥(710c)에 의해 연결되어 있다. 제5, 6외벽(100e, 100f)은 제5보강 기둥(710e)에 의해 연결되어 있다. 제4, 6외벽(100d, 100f)은 제4보강 기둥(710d)에 의해 연결되어 있다. 제2, 4외벽(100b, 100d)은 제2보강 기둥(710b)에 의해 연결되어 있다.

이렇게, 제1 내지 제5보강 기둥(710a ~ 710e)에 의해 상호 연결된 제1 내지 제6외벽(100a ~ 100f)의 전체적인 형상은 본체(10)의 후방으로 볼록한 곡률을 갖는 원호 형상이 되는 것이 바람직하며, 이는 후술할 수납실(250)에 수납된 웨이퍼(W)의 형상에 따라 본체(10)의 형상을 형성함으로써, 웨이퍼(W)의 퓸을 더욱 효율적으로 제거하기 위함이다.

이하, 본체(10)의 내벽부(200)에 대해 설명한다.

도 1, 2, 8 및 도 12에 도시된 바와 같이, 내벽부(200)는 제1 내지 제6내벽(200a ~ 200f)으로 구성되어 있으며, 제1 내지 제6내벽(200a ~ 200f) 각각은 제1 내지 제6외벽(100a ~ 100f)으로부터 본체(10)의 내측방향으로 이격되어 있으며, 다수의 구멍(210)이 형성되어 있다.

제1 내지 제6내벽(200a ~ 200f)은 각각 그 상부가 후술할 상부 플레이트(300)의 내벽부 상부 고정홈(320)에 끼워지고, 그 하부가 후술할 제1하부 플레이트(400)의 내벽부 하부 고정홈(420)에 끼워짐으로써, 본체(10)의 전방 개구부를 제외한 영역에서 상부 플레이트(300)와 제1하부 플레이트(400)를 연결하여 본체(10)의 내부 측면을 구성한다.

제1, 3내벽(200a, 200c)은 제1보강 기둥(710a)에 의해 연결되어 있다. 제3, 5내벽(200c, 200e)은 제3보강 기둥(710c)에 의해 연결되어 있다. 제5, 6내벽(200e, 200f)은 제5보강 기둥(710e)에 의해 연결되어 있다. 제4, 6내벽(200d, 200f)은 제4보강 기둥(710d)에 의해 연결되어 있다. 제2, 4내벽(200b, 200d)은 제2보강 기둥(710b)에 의해 연결되어 있다.

이렇게, 제1 내지 제5보강 기둥(710a ~ 710e)에 의해 상호 연결된 제1 내지 제6내벽(200a ~ 200f)의 전체적인 형상 또한, 제1 내지 제6외벽(100a ~ 100f)과 같이 본체(10)의 후방으로 볼록한 곡률을 갖는 원호 형상이 되는 것이 바람직하다. 또한, 제1 내지 제6외벽(100a ~ 100f)과 제1 내지 제6내벽(200a ~ 200f)의 원호 형상은 동일한 곡률을 갖는 것이 바람직하며, 이로 인해, 제1 내지 제6외벽(100a ~ 100f)과 제1 내지 제6내벽(200a ~ 200f) 사이의 이격 거리는 동일하게 형성될 수 있다.

이하, 제1 내지 제6내벽(200a ~ 200f)의 다수의 구멍(210)에 대해 설명한다.

도 1, 2 및 11에 도시된 바와 같이, 다수의 구멍(210)은 제1 내지 제6내벽(200a ~ 200f)에 각각 형성되며, 다수의 행과 다수의 열을 갖는 매트릭스 형태로 형성되는 것이 바람직하다.

이 경우, 상, 하로 인접하는 지지대(721) 사이에 다수의 구멍(210)이 다수의 행과 다수의 열을 갖는 매트릭스 형태로 배치됨으로써, 지지대(721)에 지지되는 웨이퍼(W)의 퓸을 효율적으로 제거할 수 있다.

이러한 매트릭스 형태의 다수의 구멍(721)의 행과 행 사이의 간격 및 열과 열사 이의 간격은 동일한 간격을 갖는 것이 바람직하다. 다시 말해 구멍(721)과 구멍(721)과의 수직 간격 및 수평 간격은 동일한 간격을 갖는 것이 바람직하다.

또한, 위와 달리, 다수의 구멍(721)은 매트릭스 형태가 아닌 인접하는 행이 교차하는 지그재그 형태로 다수의 행과 다수의 열을 갖는 형태로 형성될 수 있다.

이 경우, 매트릭스 형태의 다수의 구멍(721)과 비교하여, 다수의 구멍(721)의 다수의 행과 다수의 열 사이의 구멍(721)이 형성되지 않은 영역, 즉, 구멍(721)과 구멍(151)간의 간격이 더욱 좁아지게 되므로, 수납실(250) 내부에 가스가 더욱 촘촘하게 공급될 수 있다.

다수의 구멍(210)은 제1 내지 제6내벽(200a ~ 200f)에서 상부로 갈수록 그 직경이 크게 형성될 수 있다.

이 경우, 제1 내지 제6공간챔버(150a ~ 150f)에 가스가 충진되어 수납실(250)로 공급될 때, 제1 내지 제6내벽(200a ~ 200f)의 하부에 위치하는 다수의 구멍(210)을 통해서만 상기 가스가 공급되는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 제1 내지 제6내벽(200a ~ 200f)의 상부와 하부에 형성된 다수의 구멍(210)을 통해 상기 가스가 수납실(250)로 균일하게 공급되게 할 수 있다.

또한, 수납실(250)에 공급된 가스를 제1 내지 제6공간챔버(150a ~ 150f)를 통해 배기시에도 위와 같은 원리에 의해, 제1 내지 제6내벽(200a ~ 200f)의 상부와 하부에 형성된 다수의 구멍(210)을 통해 상기 가스가 제1 내지 제6공간챔버(150a ~ 150f)로 균일하게 배기될 수 있다.

전술한 구성을 갖는 제1 내지 제6내벽(200a ~ 200f)은 수납실(250)과 제1 내지 제6공간챔버(150a ~ 150f) 사이에 각각 위치하게 되며, 수납실(250)과 제1 내지 제6공간챔버(150a ~ 150f)를 별개의 독립된 공간으로 나누는 역할을 한다.

또한, 제1 내지 제6내벽(200a ~ 200f)에 형성된 다수의 구멍(210)을 통해, 수납실(250)과 제1 내지 제6공간챔버(150a ~ 150f)에 유동하는 가스를 연통시키는 역할을 한다.

이하, 본체(10)의 상부 플레이트(300)에 대해 설명한다.

도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이, 상부 플레이트(300)는 외벽부(100) 및 내벽부(200)의 전체적인 형상과 대응되도록 곡률을 갖는 곡선형태의 형상을 갖을 수 있으며, 본체(10)의 상면을 이룬다.

상부 플레이트(300)의 하면에는 외벽부 상부 고정홈(310)과, 내벽부 상부 고정홈(320)과, 제1 내지 제5보강 기둥 상부 고정홈(330a ~ 330e)이 형성된다.

외벽부 상부 고정홈(310)에는 제1 내지 제6외벽(100a ~ 100f)의 상부가 끼워져 고정된다. 내벽부 상부 고정홈(320)에는 제1 내지 제6내벽(200a ~ 200f)의 상부가 끼워져 고정된다. 외벽부 상부 고정홈(310)과 내벽부 상부 고정홈(320)은 각각에 고정되는 외벽부(100) 및 내벽부(200)의 형상과 대응되도록 곡률을 갖는 곡선형으로 형성될 수 있다.

제1 내지 제5보강 기둥 상부 고정홈(330a ~ 330e)에는 제1 내지 제5보강 기둥(710a ~ 710e)의 상부가 끼워져 고정된다. 제1 내지 제5보강 기둥 상부 고정홈(330a ~ 330e)에 고정된 제1 내지 제5보강 기둥(710a ~ 710e)은 각각 상부 플레이트(300)와 나사 결합된다. 또한, 제1 내지 제5보강 기둥 상부 고정홈(330a ~ 330e)은 각각 제1 내지 제5보강 기둥(710a ~ 710e)의 상부와 대응되는 형상을 갖을 수 있다.

이하, 본체(10)의 제1하부 플레이트(400)에 대해 설명한다.

도 1, 2 및 도 4에 도시된 바와 같이, 제1하부 플레이트(400)는 상부 플레이트(300)와 대향되어 본체(10)의 바닥면을 이루게 되며, 외벽부(100) 및 내벽부(200)의 전체적인 형상과 대응되도록 곡률을 갖는 곡선형태의 원호 형상을 갖을 수 있고, 본체(10)의 바닥면을 이룬다.

제1하부 플레이트(400)의 상면에는 외벽부 하부 고정홈(410)과, 내벽부 하부 고정홈(420)과, 제1 내지 제5보강 기둥 하부 고정홈(430a ~ 430e)이 형성된다.

외벽부 하부 고정홈(410)에는 제1 내지 제6외벽(100a ~ 100f)의 하부가 끼워져 고정된다. 내벽부 하부 고정홈(420)에는 제1 내지 제6내벽(200a ~ 200f)의 하부가 끼워져 고정된다. 외벽부 하부 고정홈(410)과 내벽 하벽부 고정홈(420)은 각각에 고정되는 외벽부(100) 및 내벽부(200)의 형상과 대응되도록 곡률을 갖는 곡선형으로 형성될 수 있다.

제1 내지 제5보강 기둥 하부 고정홈(430a ~ 430e)에는 제1 내지 제5보강 기둥(710a ~ 710e)의 하부가 끼워져 고정된다. 제1 내지 제5보강 기둥 하부 고정홈(430a ~ 430e)에 끼워져 고정된 제1 내지 제5보강 기둥(710a ~ 710e)은 각각 하부 플레이트(400)와 나사 결합된다. 또한, 제1 내지 제5보강 기둥 하부 고정홈(430a ~ 430e)은 각각 제1 내지 제5보강 기둥(710a ~ 710e)의 하부와 대응되는 형상을 갖을 수 있다.

또한, 제1하부 플레이트(400)에는 각각 제1하부 플레이트(400)의 상면과 하면을 관통하는 제1 내지 제6연통홀(450a ~ 450f)이 형성되어 있다.

제1연통홀(450a)은 제1외벽(100a)과 제1내벽(200a) 사이에 위치한다. 제2연통홀(450b)은 제2외벽(100b)과 제2내벽(200b) 사이에 위치한다. 제3연통홀(450c)은 제3외벽(100c)과 제3내벽(200c) 사이에 위치한다. 제4연통홀(450d)은 제4외벽(100d)과 제4내벽(200d) 사이에 위치한다. 제5연통홀(450e)은 제5외벽(100e)과 제5내벽(200e) 사이에 위치한다. 제6연통홀(450f)은 제6외벽(100f)과 제6내벽(200f) 사이에 위치한다.

제1 내지 제6연통홀(450a ~ 450f)은 각각 일방향으로 길게 형성된 장공홀의 형태를 갖거나, 그 폭이 서로 동일한 슬릿형태를 갖을 수 있다.

제1 내지 제6연통홀(450a ~ 450f)이 장공홀의 형태를 갖는 경우, 제1 내지 제4공간챔버(150a ~ 150d)에서 수납실(250)로의 가스 공급과 수납실(250)에서 제5, 6공간챔버(150e, 150f)로의 가스 및 웨이퍼(W)의 퓸의 배기를 더욱 용이하게 할 수 있다.

상세하게 설명하자면, 제1 내지 제4공간챔버(150a ~ 150d)에서 수납실(100)로의 가스 공급은 제1 내지 제4내벽(200a ~ 200d)의 다수의 구멍(210)에 의해 일종의 면상(面上)으로 이루어지게 된다. 이 경우, 제1 내지 제4공간챔버(150a ~ 150d)의 바닥면에 각각 형성된 제1 내지 제4연통홀(450a ~ 450d)이 장공홀로 형성되면, 제1 내지 제4공간챔버(150a ~ 150d)로의 가스 유입이 제1 내지 제4공간챔버(150a ~ 150d)의 바닥면의 대부분의 영역에 걸쳐 균일하게 이루어 질 수 있다. 따라서, 제1 내지 제4공간챔버(150a ~ 150d)의 바닥면의 길이방향(장공홀로 형성된 제1 내지 제4연통홀(450a ~ 450d)과 같은 길이 방향)으로 균일한 가스가 충진되고, 이렇게 충진된 상기 가스가 제1 내지 제4내벽(200a ~ 200d)의 다수의 구멍(210)을 통해 수납실(250)로 공급됨으로써, 상기 가스의 면상(面上) 공급이 더욱 효과적으로 이루어 질 수 있다.

수납실(250)과 제5, 6공간챔버(150e, 150f) 사이에 각각 위치하는 제5, 6내벽(200e, 200d)의 다수의 구멍(210)에 의해 면상(面上)으로 수납실(250)의 가스 및 웨이퍼(W)의 퓸이 배기되는 것 또한 위와 같은 원리에 의해 이루어질 수 있다. 따라서, 장공홀로 형성된 제5, 6연통홀(450e, 450f)에 의해 수납실(250)의 가스 및 웨이퍼(W)의 퓸이 제5, 6공간챔버(150e, 150f)를 통해 제3, 4가스홀(630, 640)로 효과적으로 배기될 수 있다.

이하, 본체(10)의 제2하부 플레이트(500)에 대해 설명한다.

도 1, 2 및 도 6에 도시된 바와 같이, 제2하부 플레이트(500)는 제1하부 플레이트(400)와 제3하부 플레이트(600) 사이에 위치하며, 제1 내지 제4통로(510, 520, 530, 540)가 형성되어 있다. 또한, 제2하부 플레이트(500)는 제1하부 플레이트(400)와 마찬가지로 외벽부(100) 및 내벽부(200)의 전체적인 형상과 대응되도록 곡률을 갖는 곡선형태의 원호 형상을 갖을 수 있다.

제1통로(510)는 제1하부 플레이트(400)에 형성된 제1, 3연통홀(450a, 450c)과 제3하부 플레이트(600)에 형성된 제1가스홀(610)을 연통시키며, 제1유입구멍(511)과, 제1, 2분지통로(512, 513)와, 제1, 2연통부(514, 515)를 포함하여 구성된다.

제1유입구멍(511)은 제2하부 플레이트(500)의 상면과 하면을 관통하여 형성되며, 제1가스홀(610)과 대응되도록 제2하부 플레이트(500)의 전방 좌측에 위치한다.

제1분지통로(512)는 제1유입구멍(511)과 제1연통부(514)를 연통시키고, 제2분지통로(513)는 제1유입구멍(511)과 제2연통부(515)를 연통시킨다.

이 경우, 제1, 2분지통로(512, 513)와, 제1, 2연통부(514, 515)의 용이한 연통을 위해, 제1, 2분지통로(512, 513) 중 적어도 어느 하나의 분지통로에는 곡선형의 굴곡부가 형성되는 것이 바람직하다.

제1연통부(514)는 제1하부 플레이트(400)의 제1연통홀(450a)과 대응되도록 제1공간챔버(150a) 영역 하부에 위치하고, 제1하부 플레이트(400)의 제2연통부(515)는 제3연통홀(450c)과 대응되도록 제3공간챔버(150c) 영역 하부에 위치한다.

이 경우, 제1연통부(514)는 제1분지통로(512)와 연통되는 부분을 제외한 부분은 제1연통홀(450a)과 같은 장공홀의 형태 또는 슬릿형태를 갖는 형상으로 형성되는 것이 바람직하다. 제2연통부(515)는 제1분지통로(512)와 연통되는 부분을 제외한 부분은 제3연통홀(450c)과 같은 장공홀의 형태 또는 슬릿형태를 갖는 형상으로 형성되는 것이 바람직하다.

제1, 2분지통로(512, 513)와 제1, 2연통부(514, 515)는 가스가 유동되는 일종의 유로 역할을 하게 되므로, 제2하부 플레이트(500)의 상면과 하면을 관통하는 제1유입구멍(511)와 달리, 제2하부 플레이트(500)의 상면 또는 하면에만 형성되는 것이 바람직하다.

제2통로(520)는 제1하부 플레이트(400)에 형성된 제2, 4연통홀(450b, 450d)과 제3하부 플레이트(600)에 형성된 제2가스홀(620)을 연통시키며, 제2유입구멍(521)과, 제3, 4분지통로(522, 523)와, 제3, 4연통부(524, 525)를 포함하여 구성된다.

제2유입구멍(521)은 제2하부 플레이트(500)의 상면과 하면을 관통하여 형성되며, 제2가스홀(620)과 대응되도록 제2하부 플레이트(500)의 전방 우측에 위치한다.

제3분지통로(522)는 제2유입구멍(521)과 제3연통부(524)를 연통시키고, 제4분지통로(523)는 제2유입구멍(521)과 제4연통부(525)를 연통시킨다.

이 경우, 제3, 4분지통로(522, 523)와, 제3, 4연통부(524, 525)의 용이한 연통을 위해, 제3, 4분지통로(522, 523) 중 적어도 어느 하나의 분지통로에는 곡선형의 굴곡부가 형성되는 것이 바람직하다.

제3연통부(524)는 제1하부 플레이트(400)의 제2연통홀(450b)과 대응되도록 제1공간챔버(150a) 영역 하부에 위치하고, 제2연통부(515)는 제1하부 플레이트(400)의 제3연통홀(450c)과 대응되도록 제3공간챔버(150c) 영역 하부에 위치한다.

이 경우, 제3연통부(524)는 제2분지통로(513)와 연통되는 부분을 제외한 부분은 제2연통홀(450b)과 같은 장공홀의 형태 또는 슬릿형태를 갖는 형상으로 형성되는 것이 바람직하다. 제4연통부(525)는 제4분지통로(523)와 연통되는 부분을 제외한 부분은 제4연통홀(450d)과 같은 장공홀의 형태 또는 슬릿형태를 갖는 형상으로 형성되는 것이 바람직하다.

제3, 4분지통로(522, 523)와 제3, 4연통부(524, 525)는 가스가 유동되는 일종의 유로 역할을 하게 되므로, 제2하부 플레이트(500)의 상면과 하면을 관통하는 제1, 2유입구멍(511, 521)과 달리, 제2하부 플레이트(500)의 상면 또는 하면에만 형성되는 것이 바람직하다.

제3통로(530)는 제1하부 플레이트(400)에 형성된 제5연통홀(450e)과 제3하부 플레이트(600)에 형성된 제3가스홀(630)을 연통시킨다.

제3통로(530) 상에는 제2하부 플레이트(500)의 상면과 하면을 관통하는 제1배기구멍(531)이 형성되며, 제1배기구멍(531)은 제3가스홀(630)과 대응되도록 제2하부 플레이트(500)의 후방 좌측에 위치한다.

또한, 제5연통홀(450e)로의 용이한 가스 유동을 위해, 제3통로(530)에서 제5연통홀(450e)과 대응되는 위치 부분은 제5연통홀(450e)과 같은 장공홀의 형태 또는 슬릿형태를 갖는 형상으로 형성되는 것이 바람직하다.

제4통로(540)는 제1하부 플레이트(400)에 형성된 제6연통홀(450f)과 제3하부 플레이트(600)에 형성된 제4가스홀(640)을 연통시킨다.

제4통로(540) 상에는 제2하부 플레이트(500)의 상면과 하면을 관통하는 제2배기구멍(541)이 형성되며, 제2배기구멍(541)은 제4가스홀(640)과 대응되도록 제2하부 플레이트(500)의 후방 우측에 위치한다.

또한, 제6연통홀(450f)로의 용이한 가스 유동을 위해, 제4통로(540)에서 제6연통홀(450f)과 대응되는 위치 부분은 제6연통홀(450f)과 같은 장공홀의 형태 또는 슬릿형태를 갖는 형상으로 형성되는 것이 바람직하다.

제3, 4통로(530, 540)는 가스가 유동되는 일종의 유로 역할을 하게 되므로, 제2하부 플레이트(500)의 상면과 하면을 관통하는 제1, 2배기구멍(531, 541)과 달리, 제2하부 플레이트(500)의 상면 또는 하면에만 형성되는 것이 바람직하다.

전술한 제1, 2유입구멍(511, 521)의 직경과 제1, 2배기구멍(531, 541)의 직경은 각각 제1, 2가스홀(610, 620)의 직경과 제3, 4가스홀(630, 640)의 직경보다 작게 형성되는 것이 바람직하다.

상게하게 설명하자면, 후술할 바와 같이, 제1, 2가스홀(610, 620)의 직경은 상기 로드포트의 가스 공급 노즐과 동일한 직경을 갖는 것이 바람직하고, 제3, 4가스홀(630, 640)의 직경은 상기 로드포트의 가스 배기 노즐과 동일한 직경을 갖는 것이 바람직한데, 상기 로드포트의 가스 공급 노즐 및 가스 배기 노즐의 직경은 비교적 큰 직경을 갖게 된다. 따라서, 제1, 2유입구멍(511, 521)와 제1, 2배기구멍(531, 541)의 직경이 제1 내지 제4가스홀(610, 620, 630, 640)의 직경보다 크거나 동일하게 되면, 그만큼 제1 내지 제4통로(510, 520, 530, 540)의 폭 또한 커져야 하므로, 가스의 공급 또는 배기 효율이 떨어질 수 있다. 따라서, 제1, 2유입구멍(511, 521) 및 제1, 2배기구멍(531, 541)의 직경을 각각 제1, 2가스홀(610, 620) 및 제3, 4가스홀(630, 640)의 직경보다 작게 형성함으로써, 제1 내지 제4통로(510, 520, 530, 540)에서 공급 또는 배기되는 가스의 유동을 더욱 용이하게 할 수 있으며, 제1 내지 제4통로(510, 520, 530, 540)의 크기가 작아짐에 따라, 웨이퍼 수납용기(1)의 컴팩트화를 달성할 수 있다.

이하, 본체(10)의 제3하부 플레이트(600)에 대해 설명한다.

도 1, 2 및 도 7에 도시된 바와 같이, 제3하부 플레이트(600)는 제2하부 플레이트(500)의 하부에 위치하여, 웨이퍼 수납용기(1)의 최하부 면을 이루게 되며, 제3하부 플레이트(600)에는 제1 내지 제4가스홀(610, 620, 630, 640)이 형성된다.

제1, 2가스홀(610, 620)은 전술한 바와 같이, 상기 로드포트의 가스 공급 노즐과 결합하여, 가스를 웨이퍼 수납용기(1)로 유입하는 가스 공급홀의 역할을 하며, 제3하부 플레이트(600)의 상면과 하면을 관통하여 형성되고, 각각 제3하부 플레이트(600)의 전방 좌, 우측에 위치한다. 이 경우,

제1, 2가스홀(610, 620)은 수납실(250) 내의 하부, 즉, 제1, 2내벽(200a, 200b)보다 본체(10)의 내측 방향에 위치하게 된다.

제3, 4가스홀(630, 640)은 전술한 바와 같이, 상기 로드포트의 가스 배기 노즐과 결합하여, 수납실(250)에 공급된 가스 및 웨이퍼(W)의 퓸을 상기 로드포트의 가스 배기 노즐로 배기하는 가스 배기홀의 역할을 하며, 제3하부 플레이트(600)의 상면과 하면을 관통하여 형성되고, 각각 제3하부 플레이트(600)의 후방 좌, 우측에 위치한다.

이 경우, 제3, 4가스홀(6300, 640)은 수납실(250) 내의 하부, 즉, 제5, 6내벽(200e, 200f)보다 본체(10)의 내측 방향에 위치하게 된다.

제1, 2가스홀(610, 620)의 직경은 상기 로드포트의 가스 공급 노즐의 직경과 같고, 제1, 2유입구멍(511, 521)보다 큰 것이 바람직하며, 제3, 4가스홀(630, 640)의 직경은 상기 로드포트의 가스 배기 노즐의 직경과 같고, 제1, 2배기구멍(531, 541)보다 큰 것이 바람직하다.

전술한 바와 같이, 본체(10)의 외부 측면을 이루는 제1 내지 제6외벽(100a ~ 100f)과 내부 측면을 이루는 제1 내지 제6내벽(200a ~ 200f) 구조, 즉, 본체(10)의 이중벽 구조로 인해, 본체(10)에는 제1 내지 제6내벽(200a ~ 200f)의 내측 공간으로 이루어지는 수납실(250)과, 제1 내지 제6외벽(100a ~ 100f)과 제1 내지 제6내벽(200a ~ 200f) 사이의 이격 공간으로 이루어지는 공간챔버(150)가 형성될 수 있다.

제1 내지 제3하부 플레이트(400, 500, 600)는 상, 하로 결합 된다. 다시 말해, 제1 내지 제5보강 기둥(710a ~ 710e)의 하부와 결합된 제1하부 플레이트(400)의 하부에 제2, 3하부 플레이트(500, 600)가 결합되는 것이며, 이러한 제2, 3하부 플레이트(500, 600)는 제1하부 플레이트(400)로부터 용이하게 분리가능하도록 나사 결합으로 이루어지는 것이 바람직하다.

위와 같이, 제1 내지 제3하부 플레이트(400, 500, 600)가 서로 결합되는 구조를 갖게 됨으로써, 다양한 구조를 갖는 공간챔버(150)를 더욱 용이하게 제작할 수 있다는 이점이 있다.

예컨데, 제1하부 플레이트(400)에 형성되는 연통홀의 갯수나 형상등을 다양하게 형성하고, 그에 따라 제2하부 플레이트(500)의 통로들을 형성시키고, 보강 기둥의 갯수를 달리함으로써, 후술할 공간챔버(150)의 갯수 또는 크기 등을 용이하게 조절할 수 있다.

물론, 위에서와 달리, 웨이퍼 수납용기(1)의 하부 플레이트를 제1 내지 제3하부 플레이트(400, 500, 600)의 결합이 아닌 하나의 하부 플레이트로 제작할 수도 있다.

이하, 본체(10)의 수납실(250)에 대해 설명한다.

도 1, 2 및 도 8에 도시된 바와 같이, 수납실(250)은 본체(10)에서 제1 내지 제6내벽(200a ~ 200f)의 내측 방향에 형성된 공간으로 이루어져 있다. 수납실(250)의 전방은 전방 개구부에 의해 개방되어 있다.

수납실(250)의 외측면, 상면 및 하면은 각각 제1 내지 제6내벽(200a ~ 200f), 상부 플레이트(300), 제1하부 플레이트(400)에 의해 이루어져 있다.

제1, 2내벽(200a, 200b)이 수납실(250)의 전방 좌, 우 외측면을 이룬다. 제3, 4내벽(200c, 200d)이 수납실(250)의 후방 좌, 우 외측면을 이룬다. 제5, 6내벽(200e, 200f)이 수납실(250)의 후방면을 이룬다. 상부 플레이트(300)가 수납실(250)의 상면을 이룬다. 제1하부 플레이트(400)가 수납실(250)의 바닥면을 이룬다.

수납실(250)의 전방 개구부를 제외한 영역의 둘레방향으로는 제1 내지 제6공간챔버(150a ~ 150f)가 위치한다.

수납실(250)은 전방 개구부로 갈수록 그 단면폭이 크게 형성되며, 수납실(250)의 내부 양측에는 웨이퍼(W)를 지지하는 한 쌍의 웨이퍼 지지체(720)가 설치된다.

이하, 본체(10)의 공간챔버(150)에 대해 설명한다.

공간챔버(150)는 도 1, 2 및 도 8에 도시된 바와 같이, 본체(10)의 제1 내지 제6외벽(100a ~ 100f)과 제1 내지 제6내벽(200a ~ 200f) 사이의 이격공간으로 이루어져 있으며, 제1 내지 제5보강 기둥(710a ~ 710e)에 의해 서로 독립된 별개의 제1 내지 제6공간 챔버(150a ~ 150f)로 구성되어 있다.

제1 내지 제6공간챔버(150a ~ 150f)는 제1 내지 제6외벽(100a ~ 100f)에 의해 제1 내지 제6공간챔버(150a ~ 150f)의 외면이 형성되고, 제1 내지 제6내벽(200a ~ 200f)에 의해 제1 내지 제6공간챔버(150a ~ 150f)의 내면이 형성된다.

또한, 전술한 바와 같이, 제1 내지 제6공간챔버(150a ~ 150f)의 외면과 내면을 이루는 제1 내지 제6외벽(100a ~ 100f)과 제1 내지 제6내벽(200a ~ 200f)은 각각 동일한 곡률을 갖는 곡선형태를 갖을 수 있으며, 이로 인해, 제1 내지 제6공간챔버(150a ~ 150f)는 전체적으로 곡률을 갖는 곡선형태의 원호 형상을 갖을 수 있다. 이 경우, 제1 내지 제6외벽(100a ~ 100f)과 제1 내지 제6내벽(200a ~ 200f) 사이 각각의 이격거리는 동일하게 형성되는 것이 바람직하며, 이로 인해, 제1 내지 제6공간챔버(150a ~ 150f)의 단면폭은 일정하게 형성된다.

제1 내지 제6공간챔버(150a ~ 150f)은 수납실(250)의 둘레방향으로 위치하도록 형성된다. 상세하게, 수납실(250)에 수납되는 웨이퍼(W)의 중심점을 기준으로 전방 좌, 우 외측면에는 각각 제1, 2공간챔버(150a, 150b)가 위치한다. 수납실(250)에 수납되는 웨이퍼(W)의 중심점을 기준으로 후방 좌, 우 외측면에는 제3, 4공간챔버(150c, 150d)가 각각 위치한다. 제3, 4공간챔버(150c, 150d) 각각의 후방에서 수납실(250)의 후방 외측면에는 각각 제5, 6공간챔버(150e, 150f)가 위치한다.

다시 말해, 수납실(250)을 기준으로 좌측 전방부터 우측 전방까지 수납실(250)의 둘레를 따라, 제1공간챔버(150a), 제3공간챔버(150c), 제5공간챔버(150e), 제6공간챔버(150f), 제4공간챔버(150d), 제2공간챔버(150b)가 위치한다.

제1공간챔버(150a)와 제2공간챔버(150b)는 서로 대향되고, 제3공간챔버(150c)과 제5공간챔버(150e)은 서로 대향된다.

제1공간챔버(150a)와 제2공간챔버(150b)의 전방에는 커버(20)가 설치된다.

커버(20)는 제1공간챔버(150a)과 제3공간챔버(150c)의 전면을 이룸과 동시에 상부 플레이트(300)와 제1 내지 제3하부 플레이트(400, 500, 600)를 연결하여, 웨이퍼 수납용기(1)의 전방부를 견고하게 하는 역할을 한다.

제1공간챔버(150a)의 상면과 바닥면은 각각 상부 플레이트(300)와 제1하부 플레이트(400)에 의해 이루어져 있다. 제1공간챔버(150a)의 좌, 우 측면은 각각 제1외벽(100a)과 제1내벽(200a)에 의해 이루어져 있다. 제1공간챔버(150a)의 전면과 후면은 각각 커버(20)와 제1보강 기둥(710a)에 의해 이루어져 있다. 또한, 제1공간챔버(150a)의 바닥면, 즉, 제1공간챔버(150a) 영역의 바닥면을 이루는 제1하부 플레이트(400)에는 제1연통홀(450a)이 형성되어 있다.

제2공간챔버(150b)의 상면과 바닥면은 각각 상부 플레이트(300)와 제1하부 플레이트(400)에 의해 이루어져 있다. 제2공간챔버(150b)의 좌, 우 측면은 각각 제2내벽(200b)과 제2외벽(100b)에 의해 이루어져 있다. 제2공간챔버(150b)의 전면과 후면은 각각 커버(20)와 제2보강 기둥(710b)에 의해 이루어져 있다. 또한, 제2공간챔버(150b)의 바닥면, 즉, 제2공간챔버(150b) 영역의 바닥면을 이루는 제1하부 플레이트(400)에는 제2연통홀(450b)이 형성되어 있다.

제3공간챔버(150c)의 상면과 바닥면은 각각 상부 플레이트(300)와 제1하부 플레이트(400)에 의해 이루어져 있다. 제3공간챔버(150c)의 좌, 우 측면은 각각 제3외벽(100c)과 제3내벽(200c)에 의해 이루어져 있다. 제3공간챔버(150c)의 전면과 후면은 각각 제1보강 기둥(710a)과 제3보강 기둥(710c)에 의해 이루어져 있다. 또한, 제3공간챔버(150c)의 바닥면, 즉, 제3공간챔버(150c) 영역의 바닥면을 이루는 제1하부 플레이트(400)에는 제3연통홀(450c)이 형성되어 있다.

제4공간챔버(150d)의 상면과 바닥면은 각각 상부 플레이트(300)와 제1하부 플레이트(400)에 의해 이루어져 있다. 제4공간챔버(150d)의 좌, 우 측면은 각각 제4내벽(200d)과 제4외벽(100d)에 의해 이루어져 있다. 제4공간챔버(150d)의 전면과 후면은 각각 제2보강 기둥(710b)과 제4보강 기둥(710d)에 의해 이루어져 있다. 또한, 제4공간챔버(150d)의 바닥면, 즉, 제4공간챔버(150d) 영역의 바닥면을 이루는 제1하부 플레이트(400)에는 제4연통홀(450d)이 형성되어 있다.

제5공간챔버(150e)의 상면과 바닥면은 각각 상부 플레이트(300)와 제1하부 플레이트(400)에 의해 이루어져 있다. 제5공간챔버(150e)의 좌, 우 측면은 각각 제5외벽(100e)과 제5내벽(200e)에 의해 이루어져 있다. 제5공간챔버(150e)의 전면과 후면은 각각 제3보강 기둥(710c)과 제5보강 기둥(710e)에 의해 이루어져 있다. 또한, 제5공간챔버(150e)의 바닥면, 즉, 제5공간챔버(150e) 영역의 바닥면을 이루는 제1하부 플레이트(400)에는 제5연통홀(450e)이 형성되어 있다.

제6공간챔버(150f)의 상면과 바닥면은 각각 상부 플레이트(300)와 제1하부 플레이트(400)에 의해 이루어져 있디. 제6공간챔버(150f)의 좌, 우 측면은 각각 제6내벽(200f)과 제6외벽(100f)에 의해 이루어져 있다. 제6공간챔버(150f)의 전면과 후면은 각각 제5보강 기둥(710e)과 제5보강 기둥(710e)에 의해 이루어져 있다. 또한, 제6공간챔버(150f)의 바닥면, 즉, 제6공간챔버(150f) 영역에 위치하는 제1하부 플레이트(400)에는 제6연통홀(450f)이 형성되어 있다.

전술한 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 웨이퍼 수납용기(1)는 제1 내지 제6공간챔버(150a ~ 150f), 즉, 6개의 공간챔버를 갖는 것으로 설명하였으나, 제1 내지 제6공간챔버(150a ~ 150f)는 웨이퍼 수납용기(1)의 용도와 크기에 따라 그 갯수가 달라질 수 있으며, 이로 인해, 제1 내지 제6외벽(100a ~ 100f), 제1 내지 제6내벽(200a ~ 200f), 제1 내지 제6연통홀(450a ~ 450f) 및 제1 내지 제5보강 기둥(710a ~ 710e)의 갯수는 달라질 수 있다.

이하, 본체(10)의 상부 플레이트(300)와 제1하부 플레이트(400)를 연결하도록 설치되는 제1 내지 제5보강 기둥(710a ~ 710e)에 대해 설명한다.

도 1, 2, 8 및 도 9(a), 9(b)에 도시된 바와 같이, 제1보강 기둥(710a)은 제1외벽(100a) 및 제1내벽(200a)과 제3외벽(100c)및 제3내벽(200c)을 연결하며 제1공간챔버(150a)와 제3공간챔버(150c) 사이에 설치된다.

제2보강 기둥(710b)은 제2외벽(100b) 및 제2내벽(200b)과 제4외벽(100d)및 제4내벽(200d)을 연결하며 제2공간챔버(150b)와 제4공간챔버(150d) 사이에 설치된다.

제3보강 기둥(710c)은 제3외벽(100c) 및 제3내벽(200c)과 제5외벽(100e)및 제5내벽(200e)을 연결하며 제3공간챔버(150c)와 제5공간챔버(150e) 사이에 설치된다.

제4보강 기둥(710d)은 제4외벽(100d) 및 제4내벽(200d)과 제6외벽(100f)및 제6내벽(200f)을 연결하며 제4공간챔버(150d)와 제6공간챔버(150f) 사이에 설치된다.

제5보강 기둥(710e)은 제5외벽(100e) 및 제5내벽(200e)과 제6외벽(100f)및 제6내벽(200f)을 연결하며 제5공간챔버(150f)와 제6공간챔버(150f)사이에 설치된다.

제1 내지 제5보강 기둥(710a ~ 710e)이 제1 내지 제6공간챔버(150f) 사이에 각각 설치됨으로써, 제1 내지 제6공간챔버(150a ~ 150f)를 각각 별개의 독립적인 공간으로 나누는 역할뿐만 아니라, 상부 플레이트(300)와 제1하부 플레이트(400)를 연결하여 지지함으로써, 웨이퍼 수납용기(1)를 더욱 견고하게 하는 역할을 한다.

제1 내지 제5보강 기둥(710a ~ 710e)의 상부는 상부 플레이트(300)의 제1 내지 제6보강 기둥 상부 고정홈(330a ~ 330e)에 고정되어 나사 결합으로 결합된다.

제1 내지 제5보강 기둥(710a ~ 710e)의 하부는 제1하부 플레이트(400)의 제1 내지 제6보강 기둥 하부 고정홈(430a ~ 430e)와 나사 결합으로 결합된다.

제1 내지 제5보강 기둥(710a ~ 710e)의 양측에는 각각 외벽부 결합홈(711)과 내벽부 결합홈(712)이 형성되어 있다. 외벽부 결합홈(711)에는 제1 내지 제6외벽(100a ~ 100f)이 끼워지고, 내벽부 결합홈(712)에는 제1 내지 제6내벽(200a ~ 200f)이 끼워지게 된다.

제1, 2보강 기둥(710a, 710b)는 도 9(a)에 도시된 바와 같이, 그 형상이 동일하고, 제3 내지 제5보강 기둥(710c ~ 710e)는 도 9(b)에 도시된 바와 같이, 그 형상이 동일하다.

또한, 제1, 2보강 기둥(710a, 710b)의 두께(t1)는 제3 내지 제5보강 기둥(710c ~ 710e)의 두께(t2)보다 작게 형성되는 것이 바람직하며, 이는 제1, 2보강기둥(710a, 710b)에 인접하게 설치되는 웨이퍼 지지체(720)의 설치를 용이하게 하기 위함이다.

전술한 제1 내지 제5보강 기둥(710a ~ 710e), 상부 플레이트(300), 제1하부 플레이트(400), 제1 내지 제6외벽(100a ~ 100f) 및 제1 내지 제6내벽(200a ~ 200f)의 결합 구조로 인해, 제1 내지 제6외벽(100a ~ 100f) 및 제1 내지 제6내벽(200a ~ 200f)이 웨이퍼 수납용기(1)의 본체(10)로부터 용이하게 분리가 가능하다.

예컨데, 제1 내지 제5보강 기둥(710a ~ 710e)과 나사 결합으로 결합된 상부 플레이트(300) 또는 제1하부 플레이트(400)를 제1 내지 제5보강 기둥(710a ~ 710e)으로부터 분리한 후, 제1 내지 제5보강 기둥(710a ~ 710e)의 외벽부 결합홈(711)에 각각 끼워진 제1 내지 제6외벽(100a ~ 100f)을 빼내 분리하거나, 제1 내지 제5보강 기둥(710a ~ 710e)의 내벽부 결합홈(712)에 각각 끼워진 제1 내지 제6내벽(200a ~ 200f)을 빼내 분리할 수 있다.

이렇게, 제1 내지 제6외벽(100a ~ 100f) 및 제1 내지 제6내벽(200a ~ 200f)을 웨이퍼 수납용기(1)로부터 용이하게 분리 가능한 구조로 구성되면, 웨이퍼 수납용기(1)의 유지 보수 측면에서 유리한 이점을 갖게 된다.

예컨데, 웨이퍼 수납용기(1)를 오랜기간 동안 사용하게 되면 가스 및 웨이퍼(W)의 퓸이 비교적 많이 유동하는 제1 내지 제6내벽(200a ~ 200f)이 상기 가스 및 웨이퍼(W)의 퓸에 의해 부식되거나 오염이 될 수 있는데, 이 경우, 제1 내지 제6내벽(200a ~ 200f)을 분리하여 교체하거나 세척을 해줌으로써, 손쉽게 웨이퍼 수납용기(1)의 수명을 연장할 수 있다.

이하, 본체(10)의 수납실(250)에 설치되는 웨이퍼 지지체(720)에 대해 설명한다.

도 10 및 도 11에 도시된 바와 같이, 웨이퍼 지지체(720)는 본체(10)의 수납실(250)의 내부 양측에서 웨이퍼(W)를 지지하도록 상부 플레이트(300) 및 제1하부 플레이트(400)와 결합되며, 상, 하로 다수 개 배열되는 웨이퍼 지지대(721)와, 웨이퍼 지지대(721)를 연결하는 연결부재(723)와, 연결부재(723)에 형성되는 중간재(725)를 포함하여 구성된다.

상, 하 방향으로 배열되는 웨이퍼 지지대(721)의 갯수는 수납실(250)에 수납되는 웨이퍼(W)의 갯수에 따라 달라질 수 있으며, 25 ~ 30개인 것이 바람직하다.

웨이퍼 지지대(721)는 일측이 웨이퍼(W)의 곡률과 동일한 곡률을 갖는 곡선형으로 형성되어 있으며, 상기 일측에는 다수의 리브(722)가 형성될 수 있다.

리브(722)는 그 상면이 웨이퍼(W)의 하면과 접함으로써 웨이퍼(W)를 지지하며, 이로 인해, 웨이퍼(W)와 웨이퍼 지지대(721)와의 접촉면적이 작아지게 되므로, 웨이퍼(W)의 손상을 방지할 수 있다. 또한, 웨이퍼 지지대(721)의 일측이 웨이퍼(W)의 곡률과 같은 곡률을 갖는 곡선형으로 형성되어 있으므로, 웨이퍼(W)의 지지를 더욱 용이하게 할 수 있다.

연결부재(723)는 상, 하로 다수 개 배열되는 웨이퍼 지지대(721)를 서로 연결하는 역할을 하며, 다수 개가 구비될 수 있다.

중간재(725)는 연결부재(723)의 상부와 하부에 각각 형성되며, 중간재(725)가 상부 플레이트(300)와 제1하부 플레이트(400)와 각각 나사 결합으로 결합함으로써, 웨이퍼 지지체(720)가 상부 플레이트(300) 및 제1하부 플레이트(400)에 결합될 수 있다.

전술한 구조를 갖는 한 쌍의 웨이퍼 지지체(720)가 상부 플레이트(300) 및 제1하부 플레이트(400) 사이에 결합되어 수납실(250)의 양측면에 위치할 때, 도 11에 도시된 바와 같이, 웨이퍼 지지체(720)의 상, 하 방향으로 다수 개 배열된 웨이퍼 지지대(721)의 사이에 제2, 4내벽(200b, 200d)의 다수의 구멍(210)이 위치하는 것이 바람직하다.

또한, 제2, 4내벽(200b, 200d)에서 다수의 구멍(210)이 형성된 영역 길이(d1)는 웨이퍼 지지체(720)의 웨이퍼 지지대(721)의 길이(d2)보다 더 크게 형성되는 것이 바람직하다.

물론, 제2, 4내벽(200b, 200d)과 대향되는 제1, 3내벽(200a, 200c)에 위치하는 웨이퍼 지지체(720)의 경우에도 상, 하 방향으로 다수 개 배열된 웨이퍼 지지대(721)의 사이에 제1, 3내벽(200a, 200c)의 다수의 구멍(210)이 위치하는 것이 바람직다.

또한, 제1, 3내벽(200a, 200c)에서 다수의 구멍(210)이 형성된 영역 길이는 웨이퍼 지지체(720)의 웨이퍼 지지대(721)의 길이보다 더 크게 형성되는 것이 바람직하다.

위와 같은 구조로 인해, 제1 내지 제4내벽(200a ~ 200d)의 다수의 구멍(210)을 통해, 상, 하 방향으로 다수 개 배열된 웨이퍼 지지대(721) 사이로 가스가 용이하게 공급될 수 있다. 따라서, 웨이퍼 지지대(721)에 지지된 웨이퍼(W)의 표면에 잔존하는 퓸을 제거하지 못하는 사영역이 발생하지 않게 되어 상기 퓸이 용이하게 제거될 수 있다.

전술한 웨이퍼 지지체(720)는 웨이퍼 지지대(721), 연결부재(723) 및 중간재(725)는 각각 따로 제작되어 조립될 수도 있고, 플라스틱 재료의 사출 등에 의해 일체형으로 형성될 수도 있다.

전술한 웨이퍼 지지체(720)의 구조와 달리, 웨이퍼 지지대(721)가 제3내벽(200a) 및 제4내벽(200d) 각각에 형성됨으로써, 웨이퍼(W)를 지지할 수 있다.

웨이퍼 지지대(721)는 제3내벽(200c) 및 제4내벽(200d)에 상, 하 방향으로 다수 개 배열되며, 제3, 4내벽(200c, 200d)의 다수의 구멍(210)은 상, 하 방향으로 다수 개 배열된 웨이퍼 지지대(721) 사이에 위치하는 것이 바람직다.

제3내벽(200c)과 제4내벽(200d)에서 다수의 구멍(210)이 형성된 영역의 길이는 웨이퍼 지지대(721)의 길이보다 더 크게 형성되는 것이 바람직하다.

이러한 제3, 4내벽(200a, 200d)에 각각 형성되는 웨이퍼 지지대(721)는 플라스틱 사출 등에 의해 제3, 4내벽(200a, 200d) 각각과 일체로 성형되어 형성되거나, 제3, 4내벽(200a, 200d) 각각에 웨이퍼 지지대(721)가 설치될 수 있다.

전술한 바와 같이, 지지대(721)가 제3내벽(200c) 및 제4내벽(200d)각각에 형성됨으로써, 전술한 분리구조에 의해 제3, 4내벽(200c, 200d)을 분리할 때, 제3, 4내벽(200c, 200d)에 형성된 지지대(721)도 같이 분리될 수 있다. 따라서, 제3, 4분내벽(200c, 200d)을 분리함에 따라 가스 및 웨이퍼(W)의 퓸에 의해 부식되거나 오염될 수 있는 지지대(721)도 손쉽게 분리될 수 있으며, 이로 인해, 지지대(721)의 세척 및 교체가 용이하게 이루어질 수 있어 손쉽게 웨이퍼 수납용기(1)의 수명을 연장할 수 있다.

이하, 전술한 구성을 갖는 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 웨이퍼 수납용기(1)가 로드포트와 결합하여 가스를 공급 및 배기함으로써, 웨이퍼(W)의 퓸을 제거하는 것에 대해 설명한다.

먼저, 상기 로드포트의 상부에 웨이퍼 수납용기(1)가 결합되면, 상기 로드포트의 가스 공급 노즐은 제3하부 플레이트(600)의 제1, 2가스홀(610, 620)와 결합하여 연통되고, 상기 로드포트의 가스 배기 노즐은 제3하부 플레이트(600)의 제3, 4가스홀(630, 640)와 결합하여 연통되게 된다.

따라서, 상기 로드 포트의 가스 공급 노즐에서 가스가 공급되어 제1가스홀(610)로 상기 가스가 유입되면, 제1통로(510)의 제1유입구멍(511)을 통해 제1분지통로(512)를 따라 제1연통홀(450a)로 상기 가스가 유동되어 제1공간챔버(150a)에 충진되며, 제2분지통로(513)를 따라 제3연통홀(450c)로 상기 가스가 유동되어 제3공간챔버(150c)에 충진되게 된다.

또한, 상기 로드 포트의 가스 공급 노즐에서 가스가 공급되어 제2가스홀(620)로 상기 가스가 유입되면, 제2통로(520)의 제2유입구멍(521)을 통해 제3분지통로(522)를 따라 제2연통홀(450b)로 상기 가스가 유동되어 제2공간챔버(150b)에 충진되며, 제4분지통로(523)를 따라 제4연통홀(450d)로 상기 가스가 유동되어 제4공간챔버(150d)에 충진되게 된다.

이렇게 제1 내지 제4공간챔버(150a ~ 150d)에 각각 충진된 가스는 로드포트의 가스 공급 노즐의 공급압력과, 로드포트의 가스 배기 노즐의 흡입력에 의해 수납실(250)로 균일하게 공급될 수 있다.

상세하게 설명하면, 제1 내지 제4공간챔버(150a ~ 150d) 각각에 가스를 충진하기 위해 로드포트의 가스 공급 노즐이 가동하여 공급압력이 발생하고, 제5, 6공간챔버(150e, 150f)로 가스를 배기하기 위해 로드포트의 가스 배기 노즐이 가동하여 흡입력이 발생하게 된다.

따라서, 상기 공급압력에 의해 상기 가스가 제1 내지 제4공간챔버(150a ~ 150d)에 각각 충진된 후, 제1 내지 제4내벽(200a ~ 200d)의 다수의 구멍(210)을 통해 수납실(250)로 공급되고, 상기 흡입력에 의해 수납실(250)에 공급된 상기 가스가 제5, 6공간챔버(150e, 150f)로 배기되게 된다.

이렇게 가스의 공급과 배기가 지속적으로 이루어짐에 따라, 제1 내지 제4공간챔버(150a ~ 150d), 수납실(250), 제5, 6공간챔버(150e, 150f) 순으로 가스의 흐름이 발생하게 되며, 상기 공급압력과 상기 흡입력에 의해 제1 내지 제4공간챔버(150a ~ 150d)에 충진된 가스가 제1 내지 제4내벽(200a ~ 200d)의 다수의 구멍(210)을 통해 도 12에 도시된 바와 같이, 일종의 면상(面上)으로 균일하게 수납실(250)로 공급될 수 있는 것이다.

따라서, 선상(線上)방식으로 가스를 공급한 종래의 웨이퍼 수납용기와 달리 일정한 영역에만 가스가 공급되지 않게 되어 웨이퍼(W)의 퓸을 제거하지 못하는 사영역의 발생을 방지할 수 있다.

이 경우, 제1 내지 제4내벽(200a ~ 200d)의 다수의 구멍(210)은 (m×n) 개의 매트릭스 형태를 갖는 것이 바람직하며, m > 3 이고, 다수의 구멍(210)은 서로 연통되어 있다.

또한, 전술한 바와 같이, 제1 내지 제4내벽(200a ~ 200d)의 다수의 구멍(210)이 다수의 웨이퍼(W)를 각각 지지하는 다수의 지지대(721)의 상, 하 방향 사이에 각각 형성되어 있으므로, 다수의 웨이퍼(W)의 표면 각각에 상기 가스가 공급될 수 있으며, 이로 인해, 웨이퍼(W)의 퓸이 더욱 효율적으로 제거될 수 있다.

제1 내지 제4내벽(200a ~ 200d)의 다수의 구멍(210)을 통해 수납실(250)로 가스가 공급될 때, 상기 가스가 제1 내지 제4공간챔버(150a ~ 150d)에 충진되고, 다수의 구멍(210)이 제1 내지 제4내벽(200a ~ 200d)의 면적에 비해 그 직경이 작으므로, 제1 내지 제4공간챔버(150a ~ 150d)의 내부 압력이 수납실(250)의 내부 압력보다 높아지게 된다. 이로 인해, 수납실(250)로 공급되는 상기 가스는 높은 압력과 빠른 유속을 갖게 되어, 단순히 다수의 구멍(210)으로 상기 가스가 새어나오는게 아닌, 노즐에서 가스가 분사되는 것과 같은 효과를 가질 수 있다.

따라서, 상기 가스가 웨이퍼(W)의 중심 영역까지 고르게 공급될 수 있으며, 이로 인해, 상기 수납실(250)에 수납된 웨이퍼(W)의 표면에 잔존하는 퓸을 효율적으로 제거할 수 있다.

위와 같이, 수납실(250)에 가스가 공급이 되면, 수납실(250) 내부에 수납된 웨이퍼(W)의 표면에 잔존하는 퓸과, 상기 공급된 가스는 제5, 6내벽(200e, 200f)의 다수의 구멍(210)을 통해 제5, 6공간챔버(150e, 150f)로 유동하게 된다.

제5공간챔버(150e)로 유동된 상기 가스 및 퓸은 상기 로드포트의 배기 노즐에서 발생하는 흡입력에 의해, 제5연통홀(450e)을 통해 제3통로(530)로 유동되며, 제1배기구멍(531)과 제3가스홀(630)을 거쳐 상기 로드 포트의 배기 노즐로 배기되게 된다.

또한, 제6공간챔버(150f)로 유동된 상기 가스 및 퓸은 상기 로드포트의 배기 노즐에서 발생하는 흡입력에 의해, 제6연통홀(450f)을 통해 제4통로(540)로 유동되며, 제2배기구멍(541)과 제4가스홀(640)을 거쳐 상기 로드 포트의 배기 노즐로 배기되게 된다.

이렇게, 수납실(250)에 존재하는 가스 및 웨이퍼(W)의 퓸이 수납실(250)의 후방에 위치한 제5, 6내벽(200e, 200f)을 통해 전체적으로 배기가 되므로, 일종의 면상(面上)으로 상기 가스가 배기되는 것으로 볼 수 있다. 따라서, 선상(線上)으로 가스를 배기한 종래의 웨이퍼 수납용기와 달리 일정한 영역에만 가스 및 웨이퍼(W)의 퓸이 집중적으로 배기되지 않아, 상기 가스 및 퓸이 효율적으로 배기될 수 있다.

또한, 수납실(250)의 내부 기체들이 제1 내지 제4공간챔버(150d)에서 지속적으로 공급되는 가스로 치환되게 되어, 수납실(250) 내부에 청정도를 계속 유지할 수 있으며, 이로 인해, 수납실(250)에 수납된 웨이퍼(W)의 산화(Oxidation)을 효율적으로 방지할 수 있다.

또한, 도 12에 도시된 바와 같이, 가스의 공급과 배기가 각각 제1 내지 제4내벽(200a ~ 200d)의 다수의 구멍(210) 및 제5, 6내벽(200e, 200f)의 다수의 구멍(210)에 의해 수납실(250)의 면상(面上)으로 균일하게 이루어게 되므로. 선상(線上)방식으로 가스를 공급 및 배기한 종래의 웨이퍼 수납용기와 달리, 가스의 공급 및 배기가 일부 영역에만 집중적으로 이루어지지 않게 된다. 따라서, 수납실(250) 내부의 가스의 유동이 균일하게 유동되어, 상기 가스의 공급 및 배기가 원활하게 이루어질 수 있다.

전술한 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 웨이퍼 수납용기(1)의 경우, 제1 내지 제4공간챔버(150a ~ 150d)에서 수납실(250)로 가스를 공급함으로써, 일종의 가스 공급실의 역할을 하고, 제5, 6공간챔버(150e, 150f)는 수납실(250)에 공급된 가스 및 웨이퍼(W)의 퓸을 배기함으로써, 일종의 가스 배기실의 역할을 하였지만, 상기 로드포트의 가스 공급 노즐 또는 가스 배기 노즐과 결합하게 되는 제1 내지 제4가스홀(610, 620, 630, 640)에 따라 그 역할이 달라질 수 있다.

예컨데, 제1가스홀(610)이 상기 로드포트의 가스 배기 노즐과 결합하게 되고, 제2 내지 제4가스홀(610)이 상기 로드포트의 가스 공급 노즐과 결합하게 되면, 제1가스홀(610)과 연통된 제1, 3공간챔버(150a, 150c)는 가스 및 퓸을 배기하는 가스 배기실의 역할을 하고, 제2 내지 제4가스홀(610)과 연통되는 제2, 4, 5, 6공간챔버(150b, 150d, 150e, 150f)는 가스를 공급하는 가스 공급실의 역할을 하게 되는 것이다.

이렇게, 제1 내지 제4가스홀(610, 620, 630, 640)이 상기 로드포트의 가스 공급 노즐이나 가스 배기 노즐 중 어떠한 노즐과 결합하느냐에 따라, 웨이퍼 수납용기(1) 내의 가스 유동이 달라질 수 있으며, 웨이퍼(W)의 제작 공정에 따라, 웨이퍼 수납용기(1) 내의 가스 유동을 달리함으로써, 다양한 웨이퍼(W)의 상태에 맞춰 웨이퍼(W)의 퓸을 효율적으로 제거할 수 있다.

이하, 본체(10)의 공간챔버(150) 내부에 설치되는 히터 및 센서에 대해 설명한다.

센서(미도시)와 히터(미도시)는 공간챔버(150)의 내부 즉, 제1 내지 제6공간챔버(150a ~ 150f) 중 적어도 하나의 내부에 설치될 수 있다.

히터는 웨이퍼 수납용기(1) 내부를 가열함으로써, 웨이퍼 수납용기(1) 내부의 온도 및 습기를 조절할 수 있다. 따라서, 수납실(250) 내부에 수납된 웨이퍼(W)의 수분을 제거할 수 있으며, 제1 내지 제4공간챔버(150a ~ 150d)를 통해 수납실(250)로 공급되는 가스의 온도를 가열시켜 웨이퍼(W)의 퓸을 더욱 효율적으로 제거할 수 있다.

히터는 제1 내지 제6공간챔버(150a ~ 150f) 중 적어도 하나의 내부에 위치하도록, 제1 내지 제6외벽(100a ~ 100f) 중 적어도 하나의 내측면이나, 제1 내지 제6내벽(200a ~ 200f) 중 적어도 하나의 외측면에 설치될 수 있다. 만약, 히터가 제1 내지 제6내벽(200a ~ 200f) 중 적어도 하나의 외측면에 설치되는 경우, 제1 내지 제6내벽(200a ~ 200f)에서 구멍(210)이 형성되지 않은 영역에 설치되는 것이 바람직하다.

센서는 웨이퍼 수납용기(1) 내부의 환경을 측정하는 모니터링 센서로서, 히터에 의해 조절되는 웨이퍼 수납용기(1) 내부의 온도나, 웨이퍼 수납용기(1) 내부의 습도를 측정할 수 있다.

전술한 바와 같이, 제1 내지 제6공간챔버(150a ~ 150f) 중 적어도 하나의 내부에 히터 또는 센서가 설치됨으로써, 종래의 웨이퍼 수납용기와 달리, 웨이퍼(W)가 수납되는 수납실(250)의 공간을 충분히 확보하면서, 웨이퍼 수납용기(1) 내부의 환경, 즉, 온도 또는 습도를 조절하거나 온도 또는 습도를 측정하는 것을 달성할 수 있다.

이하, 공간챔버(150) 내의 가스 흐름을 차단하는 차단부재(470)에 대해 설명한다.

도 5(a) 및 도 5(b)에 도시된 바와 같이, 차단부재(470)는 차단판(471)과 차단판(471)의 단부와 제1하부 플레이트(400)를 연결하는 힌지부(472)를 포함하여 구성되며, 제1공간챔버(150a) 내부에서 제1연통홀(450a)의 상부에 위치하도록 제1하부 플레이트(400)에 설치된다.

로드포트의 가스 공급 노즐에서 가스가 공급되어 제1연통홀(450a)을 통해 제1공간챔버(150a) 내부로 가스가 유입되면, 도 5(a)에 도시된 바와 같이 상기 가스의 공급 압력에 의해 차단판(471)이 힌지부(472)를 중심으로 상향으로 회전하여 상기 가스가 제1연통홀(450a)을 통해 제1공간챔버(150a) 내부로 용이하게 공급된다.

로드포트의 가스 공급 노즐에서 가스의 공급이 중단되면, 차단판(471)을 회전시키는 가스의 공급 압력이 없어지므로, 도 5(b)에 도시된 바와 같이, 차단판(471)이 힌지부(472)를 중심으로 하향으로 회전하여, 제1연통홀(450a)을 덮음으로써, 상기 가스가 제1공간챔버(150a)에서 제1연통홀(450a)로 역류하는 것을 차단할 수 있다.

전술한 차단부재(470)는 제1공간챔버(150a) 뿐만 아니라 제2 내지 제4공간챔버(150b ~ 150d)의 내부에서 제2 내지 제4연통홀(450b ~ 450d) 상부에 위치하도록 제1하부 플레이트(400)에 설치될 수 있다.

이러한 차단부재(470)로 인해, 로드포트의 가스 공급 노즐에서 가스의 공급이 중단되더라도, 상기 가스가 다시 로드포트의 가스 공급 노즐 방향으로 역류하는 것을 방지할 수 있다. 또한, 웨이퍼 수납용기(1)가 로드포트로부터 분리되더라도, 후술할 역류방지수단과 더불어, 공간챔버(150) 내부에 존재하는 가스가 웨이퍼 수납용기(1) 외부로 유출되는 것을 방지할 수 있다.

이하, 공간챔버(150) 내의 가스 흐름의 역류를 방지하는 역류방지수단에 대해 설명한다.

역류방지수단은 제1통로(510)의 제1분지통로(512)에 설치될 수 있다. 따라서, 제1가스홀(610)과 제1분지통로(512)를 따라 제1공간챔버(150a)로 유입된 가스가 다시 제1분지통로(512)로 역류하는 것을 방지할 수 있다.

역류방지수단은 제1통로(510)의 제2분지통로(513)에 설치될 수 있다. 따라서, 제1가스홀(610)과 제2분지통로(513)를 따라 제3공간챔버(150c)로 유입된 가스가 다시 제2분지통로(513)로 역류하는 것을 방지할 수 있다.

역류방지수단은 제2통로(520)의 제3분지통로(522)에 설치될 수 있다. 따라서, 제2가스홀(620)과 제3분지통로(522)를 따라 제2공간챔버(150c)로 유입된 가스가 다시 제3분지통로(522)로 역류하는 것을 방지할 수 있다.

역류방지수단은 제2통로(520)의 제4분지통로(523)에 설치될 수 있다. 따라서, 제2가스홀(620)과 제4분지통로(523)를 따라 제4공간챔버(150d)로 유입된 가스가 다시 제4분지통로(523)로 역류하는 것을 방지할 수 있다.

역류방지수단은 제3통로(530)에 설치될 수 있다. 따라서, 제5공간챔버(150e)에서 제3통로(530)를 통해 제3가스홀(630)로 배기된 가스 및 웨이퍼(W)의 퓸이 다시 제5공간챔버(150e)로 역류하는 것을 방지할 수 있다.

역류방지수단은 제4통로(540)에 설치될 수 있다. 따라서, 제6공간챔버(150f)에서 제4통로(540)를 통해 제4가스홀(640)로 배기된 가스 및 웨이퍼(W)의 퓸이 다시 제6공간챔버(150f)로 역류하는 것을 방지할 수 있다.

위와 같이, 역류방지수단이 제1 내지 제4통로(510, 520, 530, 540)에 설치됨으로써, 제1 내지 제6공간챔버(150a ~ 150f)로 이루어진 공간챔버(150) 내의 가스의 흐름의 역류를 방지하게 되고, 이로 인해, 웨이퍼 수납용기(1)의 가스의 공급및 가스의 배기를 더욱 용이하게 할 수 있다.

상세하게 설명하면, 전술한 바와 같이, 웨이퍼 수납용기(1) 내부의 가스의 공급 및 배기는 제1 내지 제6공간챔버(150a ~ 150f)의 구성과, 로드포트의 가스 공급 노즐의 공급압력 및 로드포트의 가스 배기 노즐의 흡입력의 유기적인 결합에 의해 균일하게 이루어질 수 있다. 만약, 제1 내지 제4공간챔버(150a ~ 150d)에서의 가스의 공급이 상기 가스의 역류에 의해서 원활히 이루어지지 않거나, 제5, 6공간챔버(150e, 150f)에서의 가스의 배기가 상기 가스의 역류에 의해서 원활히 이루어지지 않게 되면, 상기 공급압력 및 상기 흡입력에 의한 가스의 공급 및 배기가 원활히 이루어질 수 없게 된다. 따라서, 전술한 역류방지수단을 설치함으로써, 제1 내지 제6공간챔버(150a ~ 150f) 내의 가스의 흐름의 역류를 방지해 줌으로써, 웨이퍼 수납용기(1) 내부의 가스의 공급 및 가스의 배기가 원활하게 이루어질 수 있게 할 수 있는 것이다.

또한, 역류방지수단은 제1 내지 제4가스홀(610, 620, 630, 640)에 설치될 수 있으며, 이러한 역류방지수단은 웨이퍼 수납용기(1)가 로드포트에서 분리될 때, 제1 내지 제4가스홀(610, 620, 630, 640)과 연통된 제1 내지 제6공간챔버(150a ~ 150f)의 가스가 웨이퍼 수납용기(1)의 외부로 빠져나오는 것을 방지하는 역할을 한다.

전술한 역류방지수단(미도시)은 일방향으로 가스를 흐르게 하여 역류를 방지하는 체크밸브일 수 있다.

이하, 공간챔버(150) 내의 가스 흐름을 측정하는 유동측정센서에 대해 설명한다.

역류방지수단이 설치되는 제1 내지 제4통로(510, 520, 530, 540)에는 각각 유동측정센서가 형성될 수 있다.

제1, 2통로(510, 520)에 형성된 유동측정센서는 제1, 2통로(510, 520)를 통해 제1 내지 제4공간챔버(150a ~ 150d)로 공급되는 가스의 흐름을 측정할 수 있다.

제3, 4통로(530, 540)에 형성된 유동측정센서는 제5, 6공간챔버(150e, 150f)로부터 제3, 4통로(530, 540)를 통해 배기되는 가스의 흐름을 측정할 수 있다.

따라서, 웨이퍼 수납용기(1)의 수납실(250)에 수납된 웨이퍼(W)의 퓸을 제거시, 유동측정센서로 웨이퍼 수납용기(1) 내부의 가스의 공급 및 가스의 배기가 원활히 이루어지는지 파악할 수 있다.

전술한 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시 예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술분야의 통상의 기술자는 하기의 특허 청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 또는 변형하여 실시할 수 있다.

1: 웨이퍼 수납용기 10: 본체
20: 커버 100: 외벽부
100a: 제1외벽 100b: 제2외벽
100c: 제3외벽 100d: 제4외벽
100e: 제5외벽 100f: 제6외벽
150: 공간챔버 150a: 제1공간챔버
150b: 제2공간챔버 150c: 제3공간챔버
150d: 제4공간챔버 150e: 제5공간챔버
150f: 제5공간챔버 200: 내벽부
200a: 제1내벽 200b: 제2내벽
200c: 제3내벽 200d: 제4내벽
200e: 제5내벽 200f: 제6내벽
210: 구멍 250: 수납실
300: 상부 플레이트 310: 외벽 상부 고정홈
320: 분리벽 상부 고정홈 330a: 제1보강 기둥 상부 고정홈
330b: 제2보강 기둥 상부 고정홈 330c: 제3보강 기둥 상부 고정홈
330d: 제4보강 기둥 상부 고정홈 330e: 제5보강 기둥 상부 고정홈
400: 제1하부 플레이트 410: 외벽 하부 고정홈
420: 분리벽 하부 고정홈 430a: 제1보강 기둥 하부 고정홈
430b: 제2보강 기둥 하부 고정홈 430c: 제3보강 기둥 하부 고정홈
430d: 제4보강 기둥 하부 고정홈 430e: 제5보강 기둥 하부 고정홈
450a: 제1연통홀 450b: 제2연통홀
450c: 제3연통홀 450d: 제4연통홀
450e: 제5연통홀 450f: 제6연통홀
470: 차단부재 471: 차단판
472; 힌지부 500: 제2하부 플레이트
510: 제1통로 511: 제1유입구멍
512: 제1분지통로 513: 제2분지통로
514: 제1연통부 515: 제2연통부
520: 제2통로 521: 제2유입구멍
522: 제3분지통로 523: 제4분지통로
524: 제3연통부 525: 제4연통부
530: 제3통로 531: 제1배기구멍
540: 제4통로 541: 제2배기구멍
600: 제3하부 플레이트 610: 제1가스홀
620: 제2가스홀 630: 제3가스홀
640: 제4가스홀 710a: 제1보강 기둥
710b: 제2보강 기둥 710c: 제3보강 기둥
710d: 제4보강 기둥 710e: 제5보강 기둥
711: 외벽부 결합홈 712: 내벽부 결합홈
720: 지지체 721: 지지대
722: 리브 723: 연결부재
725: 중간재

Claims

내부에 웨이퍼가 수납되는 본체를 포함하는 웨이퍼 수납용기에 있어서,
상기 본체는,
상기 본체의 외부 측면을 구성하는 외벽부; 및
상기 외벽부로부터 내측으로 이격되어 형성되는 내벽부;를 포함하되,
상기 내벽부의 내측 공간으로 이루어지는 수납실에 상기 웨이퍼가 수납되고,
상기 외벽부와 상기 내벽부 사이의 공간으로 이루어지는 공간챔버가 상기 수납실의 둘레방향으로 다수 개 형성된 것을 특징으로 하는 웨이퍼 수납용기.
제1항에 있어서,
상기 내벽부에 상기 공간챔버와 상기 수납실을 연통시키는 다수의 구멍이 형성되고,
상기 다수 개의 공간챔버 중 적어도 하나는 상기 다수의 구멍을 통해 상기 수납실로 가스를 공급하고, 상기 다수 개의 가스실 중 적어도 하나는 상기 다수의 구멍을 통해 상기 수납실의 가스를 배기하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 수납용기.
제2항에 있어서,
상기 본체의 상부 플레이트와 하부 플레이트에 결합되어 형성된 웨이퍼 지지체를 더 포함하되,
상기 웨이퍼 지지체는 상, 하 방향으로 다수 개 배열되는 웨이퍼 지지대를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 수납용기.
제2항에 있어서,
상기 내벽부에는 상, 하 방향으로 다수 개 배열되는 웨이퍼 지지대가 형성되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 수납용기.
제3항 또는 제4항에 있어서,
상기 다수의 구멍은 매트릭스의 형태로 형성되고,
상기 매트릭스의 형태의 다수의 구멍은 상기 상, 하방향으로 다수 개 배열된 웨이퍼 지지대 사이에 위치하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 수납용기.
제1항에 있어서,
상기 본체는,
상기 본체의 바닥면을 이루며, 상기 본체로부터 분리 가능하게 결합되는 하부 플레이트를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 수납용기.
제6항에 있어서,
상기 하부 플레이트는,
상기 내벽부보다 상기 본체의 내측방향에 위치하도록 상기 하부 플레이트의 저면에 형성되는 가스홀;
상기 공간챔버에 위치하도록 상기 하부 플레이트의 상면에 형성되는 연통홀; 및
상기 가스홀과 상기 연통홀을 연통하도록 상기 하부 플레이트의 내부에 형성되는 통로를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 수납용기.
제7항에 있어서,
상기 하부 플레이트는,
상기 본체의 바닥면을 이루는 제1하부 플레이트와, 상기 제1하부 플레이트의 하부에 위치하는 제2하부 플레이트 및 상기 제2하부 플레이트의 하부에 위치하는 제3하부 플레이트가 결합되어 형성되고,
상기 가스홀은 상기 제3하부 플레이트에 형성되고, 상기 연통홀은 상기 제1하부 플레이트에 형성되고, 상기 통로는 상기 제2하부 플레이트에 형성되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 수납용기.
제2항에 있어서,
상기 공간챔버 내의 가스 흐름의 역류를 방지하는 역류방지수단이 형성된 것을 특징으로 하는 웨이퍼 수납용기.
제2항에 있어서,
상기 공간챔버 내의 가스 흐름을 측정하는 유동측정 센서가 형성된 것을 특징으로 하는 웨이퍼 수납용기.
제2항에 있어서,
상기 공간챔버 내의 가스 흐름을 차단하는 차단부재가 설치되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 수납용기.
제1항 또는 제4항에 있어서,
상기 내벽부는 상기 본체로부터 분리 가능하게 결합되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 수납용기.
제1항에 있어서,
상기 외벽부와 상기 내벽부는 상기 본체의 후방으로 볼록한 곡률을 갖는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 수납용기.
제13항에 있어서,
상기 외벽부와 상기 내벽부 사이의 이격 거리는 동일한 것을 특징으로 하는 웨이퍼 수납용기.
제1항에 있어서,
상기 다수 개의 공간챔버 사이에는 보강기둥이 설치된 것을 특징으로 하는 웨이퍼 수납용기.
제1항에 있어서,
상기 공간챔버 내부에 설치된 히터를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 수납용기.
제1항에 있어서,
상기 다수 개의 공간챔버의 단면폭은 일정하고,
상기 수납실의 단면폭은 전방 개구부로 갈수록 커지는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 수납용기.
제1항에 있어서,
상기 다수 개의 공간챔버는,
상기 수납실에 수납되는 웨이퍼의 중심점을 기준으로 전방 좌, 우 외측면에 각각 위치하는 제1, 2공간챔버와,
상기 수납실에 수납되는 웨이퍼의 중심점을 기준으로 후방 좌, 우 외측면에 각각 위치하는 제3, 4공간챔버와,
상기 제3, 4공간챔버 각각의 후방에서 상기 수납실의 외측면에 위치하는 제5, 6공간챔버로 구성되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 수납용기.