TWI739960B - 可uv固化之黏著劑及經表面羥基基團或水氣活化之塗層組成物 - Google Patents

可uv固化之黏著劑及經表面羥基基團或水氣活化之塗層組成物 Download PDF

Info

Publication number
TWI739960B
TWI739960B TW106140536A TW106140536A TWI739960B TW I739960 B TWI739960 B TW I739960B TW 106140536 A TW106140536 A TW 106140536A TW 106140536 A TW106140536 A TW 106140536A TW I739960 B TWI739960 B TW I739960B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
composition
unsaturated component
vinyl
thia
dimethoxy
Prior art date
Application number
TW106140536A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201825640A (zh
Inventor
巴里 C. 雅克雷斯
強納森 D. 高夫
Original Assignee
美商蓋列斯特股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 美商蓋列斯特股份有限公司 filed Critical 美商蓋列斯特股份有限公司
Publication of TW201825640A publication Critical patent/TW201825640A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI739960B publication Critical patent/TWI739960B/zh

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D183/04—Polysiloxanes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D4/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04—Polysiloxanes
    • C08G77/20—Polysiloxanes containing silicon bound to unsaturated aliphatic groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J183/00—Adhesives based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Adhesives based on derivatives of such polymers
    • C09J183/04—Polysiloxanes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J4/00—Adhesives based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; adhesives, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09J183/00 - C09J183/16

Abstract

僅於藉由羥基化表面或曝露於水氣而活化後以紫外線、可見光或電子束照射進行固化之組成物係以環狀硫雜矽烷及不飽和矽烷、矽氧烷或烴之混合物為主。

Description

可UV固化之黏著劑及經表面羥基基團或水氣活化之塗層組成物
相關申請案之對照參考資料 本申請案主張2016年11月23日申請之美國臨時專利申請案第62/425,771號案之優先權，該案之揭露在此被併入以供參考。
本發明係有關於可UV固化之黏著劑及經表面羥基基團或水氣活化之塗層組成物。
經輻射固化之「輻射固化」塗層係使用來自電子束或來自紫外線或可見光輻射之能量交聯或固化之調配材料。輻射固化塗層以低熱能需求促進高生產率之生產。典型上，固化係於塗層本體起始，但更特別地係最接近照射源(除非具有大氣氧抑制作用)。不論是保護性或黏著性，大部份輻射固化材料之性能係依賴與表面之強烈結合。
最廣泛使用之輻射固化材料含有光起始劑及其它低分子量物種。於輻射固化期間，此等材料易自本體聚合相排除，擴散至露出的表面或基材與聚合本體間之界面。當低分子量物種擴散至界面，具有降低或折衷掉黏著性之普遍趨勢。另一非所欲之結果係低分子量物種擴散至露出或外部表面，其等於其間 細積及使本體樹脂塑化，且通常觀察到黏性。
具有一明顯需求係使黏著劑與保護塗層二者之界面結合達最大，且特別地，於輻射固化組成物如此作具有重大價值。於聚合物-基材之界面處而非於本體或最接近輻射表面之表面處起始固化具有內在優點，因為主要反應會於界面處起始，且會迫吏非反應性且低分子量之物種自經高度交聯之區域擴散。相似地，於露出表面處起始之固化會降低形成「黏性 」膜之趨勢。再者，具有會欲控制光起始之情況，特別於是於正式固化前之極低量曝光具有不利作用之環境。
過早之輻射固化(於施用至一基材之前)不僅於貯存條件下是一問題，而且於黏著結合施用發展最佳性能時亦是一問題。可藉由曝露於一表面羥基基團或大氣中之水氣而被打開進行之一輻射固化之一組成物係一「雙重曝光系統」，其排除因隨意曝露於輻射造成之過早固化。於表面羥基活化之情況，與表面之最大結合係藉由活化表面處之聚合反應(固化)而確保。
依據本發明之一實施例，係特地提出一種組成物，其包含一環狀硫雜矽雜環戊烷及一不飽和組份，其中此環狀硫雜矽雜環戊烷具有一烷氧基取代基且/或此不飽和組份具有多數個不飽和位置，且其中當此組成物被曝露於一表面上之羥基基團或大氣之水氣且於其後或同時被照射時，此組成物藉由輻射固化而固化形成一固體膜或固體塊。
本發明係有關於一種「潛隱式」或「隱蔽式」硫醇，更特別地係一種環狀硫雜矽雜環戊烷，當施用於諸如無機矽基材的擁有羥基基團之表面時，其與具有多個不飽和官能性位置之一聚合物或分子組合可被誘發進行表面起始之輻射固化。此等組成物係有利於降低黏性，因為呈水氣型式之羥基基團擴散於露出表面內且誘發輻射固化。依據本發明之組成物一般可被認為係潛式硫醇-烯之混合物，其等於逐步曝露於羥基基團及其後照射而形成樹脂。硫醇-烯反應於聚合物化學之範疇內的化學作用已係Hoyle等人之評論主題 (J. Poly Sci., A: Polymer Chemistry , 42, 5301-5338 (2004))。再者，硫醇-烯矽氧烷於美國專利第6,310,161號案及U. Muller et al. (J Macromol Sci Pure Appl Chem 33, 439 (1996))中探討，且K.D.Q Nguyen等人(Polymer Chemistry , 7 (33); (2016))描述具有硫醇及不飽和基團之矽氧烷。
如以下所示般自一環狀硫雜矽烷經羥基起始形成一硫醇係格外快速：少於一分鐘或更典型地係數秒之規格。此速度住要係由於先於一矽-硫鍵而形成一矽-氧 之熱力學優點，其次係由於釋放環狀硫雜矽烷之環應變。此時間尺寸係重要的，因為反應速度需接近輻射固化方法處理管線的速度。一旦形成，於一照射源存在中，硫醇或「硫醇」基團加至一烯烴或「烯」基團。
Figure 02_image001
Figure 02_image003
Figure 02_image005
Figure 02_image007
依據本發明之組成物因此包含一環狀硫雜矽雜環戊烷(於此處亦稱為一環狀硫雜矽烷)及一不飽和(烯烴)組份。本發明之環狀硫雜矽烷係含有一個Si-S鍵合及三個碳之五員環。此環上之另外取代可包括烷基基團，較佳係甲基基團，於Si上之烷氧基基團，諸如，較佳之甲氧基或乙氧基基團，或烷基或烷氧基基團二者之組合。使用未經取代之硫雜矽烷亦係於本發明之範圍內。較佳之環狀硫雜矽烷包括2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷，與二乙氧基及甲基甲氧基類似物。
不飽和組份可為一聚合物或一分子，包括一矽烷、矽氧烷，或烴，且較佳係具有多數個不飽和位置，諸如，較佳之聚丁二烯及其它不飽和樹脂。術語「多數個」可被瞭解係指二或更多個不飽和位置。更佳係矽氧烷及其它含矽之物種，諸如，四乙烯基四甲基環四矽氧烷、乙烯基甲氧基矽氧烷寡聚物，及乙烯基甲基矽氧烷共聚物。若於含矽之物種上具有多數個烷氧基不飽和，僅具有單一不飽和位置之不飽和材料可被用於本發明之組成物。例示不飽和組份包括乙烯基甲氧基矽氧烷 均聚物、乙烯基三甲氧基矽烷、1,3,5,7-四乙烯基- 1,3,5,7-四甲基環四矽氧烷、以乙烯基封端之(二苯基矽氧烷)-二甲基矽氧烷共聚物、烷氧基(四氧化伸乙基)甲醚，及1-辛烯。
於一較佳實施例，組成物中之此等一份的最佳比例係對於每一個不飽和單元(CH=CH)為一個硫醇(SH)。
已發現環狀硫雜矽烷與不飽和物種之組合物於缺乏羥基物種中不會進行自由基誘發之反應。但是，一旦曝露於來自諸如破璃、二氧化矽或氧化鋁之一表面，或來自大氣中之水氣的一羥基來源，環狀硫雜矽烷進行一開環反應，於其中，一巰基(-SH)基團形成，然後能與一不飽和基團進行一輻射誘發之反應。照射可於與曝露於羥基來源同時或其後實施。若未同時實施，於曝露與照射間之延遲並無限制，除非硫醇藉由大氣中之氧以一緩慢程序氧化。為了實際目的，環狀硫雜矽烷與表面或大氣中之水氣間之較佳反應時間係約15秒至約30分鐘，更佳係約5至約10分鐘。輻射可藉由一紫外線來源、可見光，或電子束提供。於一較佳實施例，輻射係藉由一紫外線來源提供。雖然此反應本身可誘發固化，即，一液體轉化成一固體，若於環狀化合物或不飽和組份中之矽原子上具有烷氧基取代，進一步之固化及交聯可藉由水解誘發之縮合反應而發生。形成之物料係一固體膜或固體塊。
本發明亦係有關於一種用於製造一固體膜或封裝材料之方法，其係藉由將一組成物曝露於一表面上之羥基基團或大氣水分，於其後或同時地照射此組成物。此組成物包含如前所述之一環狀硫雜矽雜環戊烷及一不飽和組份。輻射可藉由一紫外線來源、可見光，或電子束提供。於一較佳實施例，輻射係藉由一紫外線來源提供。於一實施例，照射係於具有具羥基基材之表面的諸如玻璃或煅製二氧化矽之一基材存在中實施。
抑制玻璃化表面之水氣起始的破裂擴展的能力係本發明之塗層的一重要優點。一例子係製造光纖維，於其中，組成物可於此等纖維自一預成形物以與拉伸程序一致之速度拉伸之後立即與光學纖維反應。再者，藉由與和羥基基團相關之表面缺陷反應及藉由紫外線固化快速形成一保護包層，與破裂擴展有關之吸水被降低，此纖維受保護免於機械性損害，且因此，增加纖維強度。
本發明現將配合下列非限制性範例作說明。範例若非本發明的且於缺乏於輻射曝光之前或同時之羥基或水氣活化作用未發生固化，其等係指名為「比較性」。
於所有範例，一Uvitron International Porta-ray 400R UV1197攜帶式紫外線/可見光固化系統被作為紫外線來源。此紫外線燈係一400瓦金屬鹵化物：輻射通量(72瓦)，315-400nm，峰值照射度500mW/cm2 (UVA)。 範例1(比較)：2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷與乙烯基甲氧基矽氧烷均聚物，8-12 cSt之混合物，曝露於乾燥惰性氛圍中之熱
Figure 02_image009
2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷(Gelest產品編碼：SID3545.0)及乙烯基甲氧基矽氧烷均聚物，8-12 cSt(Gelest產品編碼：VMM-010)以1:1重量比例添加至一小玻璃瓶。此小玻璃瓶被劇烈地混合5分鐘，然後，約1克之混合物添加至一閃爍瓶。此瓶以N2 沖洗，以一蓋子及膠帶密封，且於110°C加熱1小時。物料維持一透明液體。未觀察到固化。 範例2(比較)：2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷與乙烯基甲氧基矽氧烷均聚物，8-12 cSt之混合物，曝露於空氣中之熱
Figure 02_image011
2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷(Gelest產品編碼：SID3545.0)與乙烯基甲氧基矽氧烷均聚物，8-12 cSt(Gelest產品編碼：VMM-010)以1:1之重量比例添加至一小玻璃瓶。此小玻璃瓶被劇烈地混合5分鐘，然後，約1克之混合物添加至一閃爍瓶。此瓶以一蓋子及膠帶密封，且於110°C加熱1小時。物料維持一透明液體。未觀察到固化。 範例3(比較)：2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷與乙烯基甲氧基矽氧烷均聚物，8-12 cSt之混合物，曝露於乾燥惰性氛圍中之紫外線來源
Figure 02_image013
2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷(Gelest產品編碼：SID3545.0)及乙烯基甲氧基矽氧烷均聚物，8-12 cSt(Gelest產品編碼：VMM-010)以1:1重量比例添加至一小玻璃瓶。此小玻璃瓶被劇烈地混合5分鐘，然後，約1克之混合物添加至一圓底燒瓶。此燒瓶以N2 沖洗且使用一玻璃塞及夾子密封。物料係經由此燒瓶之側邊曝露於一紫外線燈約30分鐘。物料維持一透明液體；固形成固體。未觀察到固化。 範例4：2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷與乙烯基甲氧基矽氧烷均聚物，8-12 cSt之混合物，水露於空氣中之紫外線來源
Figure 02_image015
2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷(Gelest產品編碼：SID3545.0)及乙烯基甲氧基矽氧烷均聚物，8-12 cSt(Gelest產品編碼：VMM-010)以1:1重量比例添加至一小玻璃瓶。此小玻璃瓶被劇烈地混合5分鐘，然後，混合物係以一薄層(＜0.5 mm)添加至一小玻璃培養皿，且曝露於一紫外線燈10分鐘。觀察到輻射固化。形成之物料係具有一些破裂之一透明固體。 範例5：2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷與乙烯基甲氧基矽氧烷均聚物，8-12 cSt之混合物，曝露於空氣中之紫外線來源
Figure 02_image017
2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷(Gelest產品編碼：SID3545.0)及乙烯基甲氧基矽氧烷均聚物，8-12 cSt(Gelest產品編碼：VMM-010)以1:1之重量比例添加至一小玻璃瓶。此小玻璃瓶被劇烈地混合5分鐘，然後，約1克之混合物添加至一圓底燒瓶。物料係經由此燒瓶之側邊曝露於一紫外線燈約30分鐘。觀察到輻射固化，且形成之物料係一透明固體。 範例6(比較)：2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷及乙烯基三甲氧基矽烷之混合物，曝露於乾燥惰性氛圍中之熱
Figure 02_image019
2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷(Gelest產品編碼：SID3545.0)及乙烯基三甲氧基矽烷(Gelest產品編碼：SIV9220.0)以1:1重量比例添加至一小玻璃瓶。此小玻璃瓶被劇烈地混合5分鐘，然後，約1克之混合物添加至一閃爍瓶。此瓶以N2 沖洗，以一蓋子及膠帶密封，且於110°C加熱1小時。物料維持一透明液體。未觀察到固化。 範例7(比較)：2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷與乙烯基三甲氧基矽烷之混合物，曝露於空氣中之熱
Figure 02_image021
2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷(Gelest產品編碼：SID3545.0)及乙烯基三甲氧基矽烷(Gelest產品編碼：SIV9220.0)以1:1之重量比例添加至一小玻璃瓶。此小玻璃瓶被劇烈地混合5分鐘。約1克之混合物添加至一閃爍瓶。此瓶以一蓋子及膠帶密封，且於110°C加熱1小時。物料維持一透明液體。未觀察到固化。 範例8(比較)：2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷與乙烯基三甲氧基矽烷之混合物，曝露於在乾燥惰性氛圍中之紫外線來源
Figure 02_image023
2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷(Gelest產品編碼：SID3545.0)及乙烯基三甲氧基矽烷(Gelest產品編碼：SIV9220.0)以1:1重量比例添加至一小玻璃瓶。此小玻璃瓶被劇烈地混合5分鐘。然後，約1克之混合物添加至一圓底燒瓶。此燒瓶以N2 沖洗且使用一塞及夾子密封。物料係經由燒瓶之側邊曝露於一紫外線燈約30分鐘。物料維持一透明液體。未觀察到固化。 範例9：2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷與乙烯基三甲氧基矽烷之混合物，曝露於在空氣中之紫外線來源
Figure 02_image025
2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷(Gelest產品編碼：SID3545.0)及乙烯基三甲氧基矽烷(Gelest產品編碼：SIV9220.0)以1:1重量比例添加至一小玻璃瓶。此小玻璃瓶被劇烈地混合5分鐘。混合物以一薄層(＜0.5 mm)添加至一小的玻璃培養皿，且曝露於一紫外線燈10分鐘。觀察到輻射固化。形成之物料係一透明脆性固性。 範例10：2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷與乙烯基三甲氧基矽烷之混合物，曝露於空氣中之紫外線來源
Figure 02_image027
2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷(Gelest產品編碼：SID3545.0)及乙烯基三甲氧基矽烷(Gelest產品編碼：SIV9220.0)以1:1重量比例添加至一小玻璃瓶。此小玻璃瓶被劇烈地混合5分鐘。約1克之混合物添加至一圓底燒瓶。物料經由燒瓶之側邊曝露於一紫外線燈約30分鐘。觀察到輻射固化且形成之物料係一透明固體。 範例11(比較)：2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷與1,3,5,7-四乙烯基-1,3,5,7-四甲基環四矽氧烷之混合物，曝露於乾燥惰性氛圍中之熱
Figure 02_image029
重複範例1所述之實驗，除了1,3,5,7-四乙烯基-1,3,5,7-四甲基環四矽氧烷(Gelest產品編碼：SIT7900)取代VMM-010。未觀察到固化。物料維持一透明液體。 範例12(比較)：2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷與1,3,5,7-四乙烯基-1,3,5,7-四甲基環四矽氧烷之混合物，曝露於空氣中之熱
Figure 02_image031
重複範例2所述之實驗，除了1,3,5,7-四乙烯基-1,3,5,7-四甲基環四矽氧烷(Gelest產品編碼：SIT7900)取代VMM-010。未觀察到固化。物料維持一透明液體。 範例13(比較)：2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷與1,3,5,7-四乙烯基-1,3,5,7-四甲基環四矽氧烷之混合物，曝露於乾燥惰性氛圍中之紫外線來源
Figure 02_image033
重複範例3所述之實驗，除了1,3,5,7-四乙烯基-1,3,5,7-四甲基環四矽氧烷(Gelest產品編碼：SIT7900)取代VMM-010。未觀察到固化。物料維持一透明液體。 範例14：2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷與1,3,5,7-四乙烯基-1,3,5,7-四甲基環四矽氧烷之混合物，曝露於空氣中之紫外線來源
Figure 02_image035
2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷(Gelest產品編碼：SID3545.0)及1,3,5,7-四乙烯基-1,3,5,7-四甲基環四矽氧烷(Gelest產品編碼：SIT7900.0)以1:1重量比例添加至一小玻璃瓶。此小玻璃瓶被劇烈地混合5分鐘。混合物以一薄層(＜0.5 mm)添加至一小的玻璃培養皿，且曝露於一紫外線燈10分鐘。觀察到輻射固化。形成之物料係一透明脆性固體。 範例15：2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷與1,3,5,7-四乙烯基-1,3,5,7-四甲基環四矽氧烷之混合物，曝露於空氣中之紫外線來源
Figure 02_image037
2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷(Gelest產品編碼：SID3545.0)及1,3,5,7-四乙烯基-1,3,5,7-四甲基環四矽氧烷(Gelest產品編碼：SIT7900.0)以1:1重量比例添加至一小玻璃瓶。此小玻璃瓶被劇烈地混合5分鐘。約1克之混合物添加至一圓底燒瓶。物料經由燒瓶之側邊曝露於一紫外線燈約30分鐘。觀察到輻射固化，且形成之物料係一透明固體。 範例16(比較)：2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷與以乙烯基為終端之(15-17%二苯基矽氧烷)-二甲基矽氧烷共聚物，500cSt之混合物，曝露於乾燥惰性氛圍中之熱
Figure 02_image039
重複範例1所述之實驗，除了以乙烯基為終端之(15-17%二苯基矽氧烷)-二甲基矽氧烷 共聚物，500cSt (Gelest產品編碼：PDV-1625)取代VMM-010。未觀察到固化。物料維持一透明液體。 範例17(比較)：2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷與以乙烯基封端之(15-17%二苯基矽氧烷)-二甲基矽氧烷共聚物，500cSt之混合物，曝露於空氣中之熱
Figure 02_image041
重複範例2所述之實驗，除了以乙烯基封端之(15-17%二苯基矽氧烷)-二甲基矽氧烷共聚物，500cSt (Gelest產品編碼：PDV-1625)取代VMM-010。未觀察到固化。物料維持一透明液體。 範例18(比較)：2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷與以乙烯基封端之(15-17%二苯基矽氧烷)-二甲基矽氧烷共聚物，500cSt之混合物，曝露於乾燥惰性氛圍中之紫外線來源
Figure 02_image043
重複範例3所述之實驗，除了以乙烯基封端之(15-17%二苯基矽氧烷)-二甲基矽氧烷共聚物，500cSt(Gelest產品編碼：PDV-1625)取代VMM-010。未觀察到固化。物料維持一透明液體。 範例19：2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷與以乙烯基封端之(15-17%二苯基矽氧烷)-二甲基矽氧烷共聚物，500cSt之混合物，曝露於空氣中之紫外線來源
Figure 02_image045
2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷(Gelest產品編碼：SID3545.0)及以乙烯基封端之(15-17%二苯基矽氧烷)-二甲基矽氧烷共聚物，500cSt(Gelest產品編碼：PDV-1625)以1:1重量比例添加至一小玻璃瓶。此小玻璃瓶被劇烈地混合5分鐘。混合物以一薄層(＜0.5 mm)添加至一小的玻璃培養皿， 且曝露於一紫外線燈10分鐘。觀察到輻射固化。形成之物料係一些微混濁之凝膠。 範例20：2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷與以乙烯基封端之(15-17%二苯基矽氧烷)-二甲基矽氧烷共聚物，500cSt之混合物，曝露於空氣中之紫外線來源
Figure 02_image047
2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷(Gelest產品編碼：SID3545.0)及以乙烯基封端之(15-17%二苯基矽氧烷)-二甲基矽氧烷共聚物，500cSt(Gelest產品編碼：PDV-1625)以1:1重量比例添加至一小玻璃瓶。此小玻璃瓶被劇烈地混合5分鐘。約1克之混合物添加至一圓底燒瓶。物料經由燒瓶之側邊曝露於一紫外線燈約30分鐘。觀察到輻射固化。形成之物料係一些微混濁之凝膠。 範例21(比較)：2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷與1-辛烯之混合物，曝露於乾燥惰性氛圍中之熱
Figure 02_image049
重複範例1之實驗，除了1-辛烯(Gelest產品編碼：ENE03280)取代VMM-010。未觀察到固化。物料維持一透明液體。 範例22(比較)：2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷與1-辛烯之混合物，曝露 空氣中之熱
Figure 02_image051
重複範例2之實驗，除了1-辛烯(Gelest產品編碼：ENE03280)取代VMM-010。未觀察到固化。形成之物料係一透明液體。 範例23(比較)：2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷與1-辛烯之混合物，曝露於乾燥惰性氛圍之紫外線來源
Figure 02_image053
重複範例3之實驗，除了1-辛烯(Gelest產品編碼：ENE03280)取代VMM-010。未觀察到固化。物料維持一透明液體。 範例24：2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷與1-辛烯之混合物，曝露於空氣中之紫外線來源
Figure 02_image055
2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷(Gelest產品編碼：SID3545.0)及1-辛烯(Gelest產品編碼：ENEO3280)以1:1重量比例添加至一小玻璃瓶。此小玻璃瓶被劇烈地混合5分鐘。混合物以一薄層(＜0.5 mm)添加至一小的玻璃培養皿，且曝露於一紫外線燈10分鐘。觀察到輻射固化。形成之物料係具有一些破裂之一不透明固體。 範例25：2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷與1-辛烯之混合物，曝露於空氣中之紫外線來源
Figure 02_image057
2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷(Gelest產品編碼：SID3545.0)及1-辛烯(Gelest產品編碼：ENEO3280)以1:1重量比例添加至一小玻璃瓶。此小玻璃瓶被劇烈地混合5分鐘。約1克之混合物添加至一圓底燒瓶。物料經由燒瓶之側邊曝露於一紫外線燈約30分鐘。觀察到輻射固化。形成之物料係具有一些破裂之一不透明固體。 範例26(比較)：2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷與烯丙氧基(四氧化伸乙基)甲醚，tech-90之混合物，曝露於乾燥惰性氛圍中之熱
Figure 02_image059
重複範例1之實驗，除了烯丙氧基(四氧化伸乙基)甲醚，tech-90(Gelest產品編碼：ENEA0367)取代VMM-010。未觀察到固化。物料維持一透明液體。 範例27(比較)：2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷與烯丙氧基(四氧化伸乙基)甲醚之混合物，曝露於空氣中之熱
Figure 02_image061
重複範例2之實驗，除了烯丙氧基(四氧化伸乙基)甲醚，tech-90(Gelest產品編碼：ENEA0367)取代VMM-010。未觀察到固化。物料維持一透明液體。 範例28(比較)：2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷與烯丙氧基(四氧化伸乙基)甲醚之混合物，曝露於乾燥惰性氛圍中之紫外線來源
Figure 02_image063
重複範例3之實驗，除了烯丙氧基(四氧化伸乙基)甲醚，tech-90(Gelest產品編碼：ENEA0367)取代VMM-010。未觀察到固化。物料維持一透明液體。 範例29：2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷與烯丙氧基(四氧化伸乙基)甲醚之混合物，曝露於空氣中之紫外線來源
Figure 02_image065
2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷(Gelest品編碼：SID3545.0)及烯丙氧基(四氧化伸乙基)甲醚，tech-90(Gelest產品編碼：ENEA0367)以1:1重量比例添加至一小玻璃瓶。此小玻璃瓶被劇烈地混合5分鐘。混合物以一薄層(＜0.5 mm)添加至一小的玻璃培養皿，且曝露於一紫外線燈10分鐘。觀察到輻射固化。形成之物料係一透明凝膠狀固體。 範例30：2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷與烯丙氧基(四氧化伸乙基)甲醚之混合物，曝露於空氣中之紫外線來源
Figure 02_image067
2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷(Gelest產品編碼：SID3545.0)及烯丙氧基(四氧化伸乙基)甲醚，tech-90(Gelest產品編碼：ENEA0367)以1:1重量比例添加至一小玻璃瓶。此小玻璃瓶被劇烈地混合5分鐘。約1克之混合物添加至一圓底燒瓶。物料係經由燒瓶之側邊曝露於一紫外線燈約30分鐘。觀察到輻射固化。形成之物料係一透明凝膠。 範例31(比較)：2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷與1,3,5,7-四乙烯基-1,3,5,7-四甲基環四矽氧烷之混合物，曝露於乾燥惰性氛圍中之紫外線來源
Figure 02_image033
2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷(Gelest產品編碼：SID3545.0)及1,3,5,7-四乙烯基-1,3,5,7-四甲基環四矽氧烷(Gelest產品編碼：SIT7900.0)以1:1重量比例添加至一小玻璃瓶。此小玻璃瓶被劇烈地混合5分鐘。約0.75克之混合物添加至一圓底燒瓶。此燒瓶以N2 沖洗，且使用一玻璃塞及夾子密封。物料經由燒瓶之側邊曝露於一紫外線燈約30分鐘。物料維持一透明無色液體。未形成一固體。未觀察到固化。 範例32：2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷與1,3,5,7-四乙烯基-1,3,5,7-四甲基環四矽氧烷之混合物，曝露於煅製二氧化矽存在中的乾燥惰性氛圍中之紫外線來源
Figure 02_image070
0.2克之煅製二氧化矽(12-20 nm之顆粒尺寸；200公尺2 /克之表面積；Gelest產品編碼：SIS6960.0)添加至含有4克之 2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷(Gelest產品編碼：SID3545.0)與1,3,5,7-四乙烯基-1,3,5,7-四甲基環四矽氧烷(Gelest產品編碼：SIT7900.0)之1:1 w/w混合物的一小玻璃瓶。此小玻璃瓶被劇烈地混合5分鐘，且一黏稠自由流動之混濁液體被回收。約0.75克之混合物添加至一圓底燒瓶。燒瓶以N2 沖洗且使用一玻璃塞及夾子密封。物料經由燒瓶之側邊曝露於一紫外線燈約30分鐘。觀察到輻射固化。形成之物料係一些微混濁之自由(free-standing)凝膠。 範例33(比較)：未經處理之硼矽酸鹽玻璃片的機械性質
一未經處理之硼矽酸鹽玻璃片使用一三點彎曲測試方法打破。此玻璃片之降伏負載係0.021%且降伏應力係79 mPa。 範例34：以2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷與乙烯基甲氧基矽氧烷均聚物，8-12 cSt之混合物處理的硼矽酸鹽玻璃片之機械性質
一硼矽酸鹽玻璃片於2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷與乙烯基甲氧基矽氧烷均聚物(Gelest產品編碼SID3545.0及VMM-010)之1:1 w/w混合物中浸漬10分鐘。此玻璃片自此溶液移除且曝露於空氣中之紫外線照射5分鐘，形成具有1.46之折射率的一透明可撓性塗層。然後，此玻璃片使用一三點彎曲測試方法打破。玻璃片之降伏負載係0.034%且降伏應力係127 mPa。此玻璃片係比得自比較例之玻璃片強約60%。 範例35：以2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷與乙烯基甲氧基矽氧烷均聚物，8-12 cSt之混合物處理的經水氣調節的硼矽酸鹽玻璃片之機械性質
一新的硼矽酸鹽玻璃片藉由於去離子水中浸泡24小時而進行水氣調節。然後，玻璃片於2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷與乙烯基甲氧基矽氧烷均聚物(Gelest產品編碼SID3545.0及VMM-010)之1:1 w/w混合物中浸漬10分鐘。玻璃片自此溶液移除且曝露於空氣中之紫外線照射5分鐘，形成具有1.46之折射率的一透明可撓性塗層。然後，此玻片使用一三點彎曲測試方法打破。玻璃片之降伏負載係0.032%且降伏應力係117 mPa。此玻璃片係比來自比較例之玻璃片強約50%。
熟習此項技藝者會瞭解在未偏離其廣發明概念下可對上述實施例作改變。再者，以此揭露內容為基礎，熟習此項技藝者會進步認知上述例示之組份的相對比例可在未偏離本發明之精神及範圍下作改變。因此瞭解本發明係不限於揭露之特別實施例，而係打算涵蓋如所附申請專利範圍界定之本發明的精神及範圍內作修改。
(無)

Claims (24)

  1. 一種組成物，其包含一環狀硫雜矽雜環戊烷及一不飽和組份，其中該環狀硫雜矽雜環戊烷具有一烷氧基取代基且/或該不飽和組份具有多數個不飽和位置，且其中當該組成物被曝露於一表面上之羥基基團或大氣之水氣且於其後或同時被照射時，該組成物藉由輻射固化而固化形成一固體膜或固體塊。
  2. 如請求項1之組成物，其中該環狀硫雜矽雜環戊烷係2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷。
  3. 如請求項2之組成物，其中該不飽和組份係一乙烯基甲氧基矽氧烷均聚物。
  4. 如請求項2之組成物，其中該不飽和組份係一乙烯基三甲氧基矽烷。
  5. 如請求項2之組成物，其中該不飽和組份係1,3,5,7-四乙烯基-1,3,5,7-四甲基環四矽氧烷。
  6. 如請求項2之組成物，其中該不飽和組份係以乙烯基封端之(二苯基矽氧烷)-二甲基矽氧烷共聚物。
  7. 如請求項2之組成物，其中該不飽和組份係1-辛烯。
  8. 如請求項2之組成物，其中該不飽和組份係烯丙氧基(四氧化伸乙基)甲醚。
  9. 如請求項1之組成物，其中該不飽和組份係一聚合物或一分子。
  10. 如請求項1之組成物，其中該不飽和組份 係選自由乙烯基甲氧基矽氧烷均聚物、乙烯基三甲氧基矽烷、1,3,5,7-四乙烯基-1,3,5,7-四甲基環四矽氧烷、一以乙烯基封端之(二苯基矽氧烷)-二甲基矽氧烷共聚物、1-辛烯，及烯丙氧基(四氧化伸乙基)甲醚所組成之群組。
  11. 如請求項1之組成物，其中該組成物係藉由紫外線照射、可見光，或電子束輻射固化。
  12. 一種用於製造固體膜之方法，其包含將一組成物曝露於一表面上之羥基基團或大氣之水氣，其後或同時照射該組成物，其中該組成物包含一環狀硫雜矽雜環戊烷及一不飽和組份，且其中該環狀硫雜矽雜環戊烷具有一烷氧基取代基且/或該不飽和組份具有多數個不飽和位置。
  13. 如請求項12之方法，其中該組成物被照射約10至約30分鐘。
  14. 如請求項12之方法，其中該組成物係於煅製二氧化矽存在中被照射。
  15. 如請求項12之方法，其中該照射係選自紫外線、可見光，及電子束。
  16. 如請求項12之方法，其中該環狀硫雜矽雜環戊烷係2,2-二甲氧基-1-硫雜-2-矽雜環戊烷。
  17. 如請求項16之方法，其中該不飽和組份係乙烯基甲氧基矽氧烷均聚物。
  18. 如請求項16之方法，其中該不飽和組份係乙烯基三甲氧基矽烷。
  19. 如請求項16之方法，其中該不飽和組份係1,3,5,7-四乙烯基-1,3,5,7-四甲基環四矽氧烷。
  20. 如請求項16之方法，其中該不飽和組份係以乙烯基封端之(二苯基矽氧烷)-二甲基矽氧烷共聚物。
  21. 如請求項16之方法，其中該不飽和組份係1-辛烯。
  22. 如請求項16之方法，其中該不飽和組份係烯丙氧基(四氧化伸乙基)甲醚。
  23. 如請求項12之方法，其中該不飽和組份係一聚合物或一分子。
  24. 如請求項12之方法，其中該不飽和組份係選自由乙烯基甲氧基矽氧烷均聚物、乙烯基三甲氧基矽烷、1,3,5,7-四乙烯基-1,3,5,7-四甲基環四矽氧烷、一以乙烯基封端之(二苯基矽氧烷)-二甲基矽氧烷共聚物、1-辛烯，及烯丙氧基(四氧化伸乙基)甲醚所組成之群組。
TW106140536A 2016-11-23 2017-11-22 可uv固化之黏著劑及經表面羥基基團或水氣活化之塗層組成物 TWI739960B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201662425771P 2016-11-23 2016-11-23
US62/425,771 2016-11-23

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201825640A TW201825640A (zh) 2018-07-16
TWI739960B true TWI739960B (zh) 2021-09-21

Family

ID=60915600

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW106140536A TWI739960B (zh) 2016-11-23 2017-11-22 可uv固化之黏著劑及經表面羥基基團或水氣活化之塗層組成物

Country Status (6)

Country Link
US (1) US10392530B2 (zh)
EP (1) EP3545041B1 (zh)
JP (1) JP6884958B2 (zh)
KR (1) KR102270148B1 (zh)
TW (1) TWI739960B (zh)
WO (1) WO2018098101A1 (zh)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110452387B (zh) * 2019-03-14 2021-06-15 广东工业大学 一种可紫外光固化的聚硅氧烷及其制备方法和应用
TWI736189B (zh) * 2019-04-02 2021-08-11 美商蓋列斯特科技股份有限公司 氧族矽環戊烷

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102712214A (zh) * 2009-11-16 2012-10-03 株式会社普利司通 官能化聚合物

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6051733A (en) * 1996-02-22 2000-04-18 Ucb, S.A. Sulfur-containing compounds for optical grade polymeric casting compositions
US6310161B1 (en) 1997-07-25 2001-10-30 Ucb S.A. Sulfur-containing compounds for optical grade polymeric casting compositions

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102712214A (zh) * 2009-11-16 2012-10-03 株式会社普利司通 官能化聚合物

Also Published As

Publication number Publication date
JP2020513436A (ja) 2020-05-14
WO2018098101A1 (en) 2018-05-31
US10392530B2 (en) 2019-08-27
US20180142126A1 (en) 2018-05-24
KR102270148B1 (ko) 2021-06-29
TW201825640A (zh) 2018-07-16
JP6884958B2 (ja) 2021-06-09
EP3545041A1 (en) 2019-10-02
KR20190085994A (ko) 2019-07-19
EP3545041B1 (en) 2020-08-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5311744B2 (ja) 紫外線硬化性樹脂組成物、当該硬化物、およびこれらから誘導される各種物品
TWI598422B (zh) Hardening method of hardenable polysiloxane composition
KR100991025B1 (ko) 실리카 함유 실리콘 수지 조성물 및 그 성형체
US20060040113A1 (en) Cationically curable silicone compositions based on colloidal silica and anti-mist/anti-fouling hard coatings formed therefrom
JP5771148B2 (ja) 硬化成型体の製造方法及び硬化成型体
TW200811244A (en) Curable organopolysiloxane composition and semiconductor device
Belon et al. Nanocomposite coatings via simultaneous organic–inorganic photo‐induced polymerization: synthesis, structural investigation and mechanical characterization
JP2017510667A (ja) Ｕｖ硬化性シリコーン組成物及び当該組成物を含有する防塵コーティング組成物
JP5407615B2 (ja) オルガノポリシロキサンならびにこれを含む硬化性組成物およびその製造方法
WO2011090172A1 (ja) ハードコート層を有する樹脂基板の製造方法およびハードコート層を有する樹脂基板
TWI739960B (zh) 可uv固化之黏著劑及經表面羥基基團或水氣活化之塗層組成物
JP2013502486A (ja) ハイブリッドコポリマーを用いたポリシロキサンコーティング
KR102255081B1 (ko) 경화성 실리콘 조성물
JP2016008246A (ja) 透明封止材用組成物、硬化物、透明封止材及び発光ダイオード
WO2010147030A1 (ja) 硬化性シリコーン樹脂組成物
JP7067398B2 (ja) 紫外線硬化型シリコーン接着剤組成物および積層体の製造方法
JP2003147268A (ja) 硬化被膜が形成された透明基材及びそのための硬化性樹脂組成物
JP2014208615A (ja) アルコキシシリル基含有シルセスキオキサンおよびその組成物
TWI589646B (zh) Organic-inorganic complex
JP5336399B2 (ja) 耐熱性複合型レンズ
JP6933032B2 (ja) 酸化ケイ素薄膜積層透明体
JP2019001923A (ja) 光硬化性シリコーン樹脂、積層体及びその製造方法
JP6988470B2 (ja) フォトレジスト及びフォトリソグラフィ
JP7003474B2 (ja) 酸化ケイ素薄膜積層体の製造方法
JPH02202953A (ja) シリコーン樹脂組成物及びハードコーティング膜