TWI738675B - 偏振器配置、極紫外線輻射產生裝置及用於雷射光束之線性偏振之方法 - Google Patents

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Abstract

本發明係關於一種偏振器配置(1)，其包括： 一第一偏振器器件(2)，其具有用於在一第一方向(R1)上傳播之一雷射光束(5)之線性偏振之一第一偏振器表面(8)，該雷射光束(5)按一第一角度照射該第一偏振器表面(8)。該偏振器配置(1)額外地包括：一相移器件(4)，其用於使在該第一偏振器表面(8)處透射之該線性偏振雷射光束(5a)之一偏振方向旋轉達一預定旋轉角度；及一第二偏振器器件(3)，其具有一第二偏振器表面(11)，該線性偏振雷射光束(5a)在已行進穿過該相移器件(4)之後按一第二角度照射該第二偏振器表面(11)且在該第二偏振器表面(11)處透射，照射該第二偏振器表面(11)之該雷射光束(5a)之一入射平面相對於照射該第一偏振器表面(8)之該雷射光束(5)之一入射平面旋轉達該預定角度。本發明亦係關於一種具有至少一個此偏振器配置之EUV輻射產生裝置，且係關於一種用於產生在一第一方向上傳播之一線性偏振雷射光束(5b)且視需要用於反射在與該第一方向相反之一第二方向上傳播之一第二雷射光束之方法。

Description

偏振器配置、極紫外線輻射產生裝置及用於雷射光束之線性偏振之方法
一透射偏振器配置通常包括一偏振器表面，該偏振器表面按相對於入射光束(舉例而言一雷射光束)之一角度定向。舉例而言，偏振表面可形成於由對於雷射光束透射之一材料製成之一載體元件之一側，舉例而言在一平面平行板之一側。在此情況中之(舉例而言未偏振)雷射光束按不等於90°之一角度(通常按所謂的布魯斯特(Brewster)角)照射透射載體元件之偏振器表面。可能藉由偏振器表面反射之一輻射分量在此情況中基本上垂直於該偏振器表面上之雷射光束之入射平面偏振(s偏振)。藉由偏振器表面透射之一輻射分量通常具有一高比例之一第二偏振方向，該第二偏振方向平行於入射雷射光束之入射平面延伸(p偏振)。
一偏振選擇性塗層(其增大雷射光束之s偏振輻射分量之偏振器表面之反射率，或加強相互垂直偏振輻射分量之分離)可形成於偏振器表面上。此等偏振器器件亦被稱為薄膜偏振器(TFP)。舉例而言，薄膜偏振器可購自II-VI公司，參見「www.ii-vi.de/english/CO2-Laser-Optics/thin-film-polarizers.com」。作 為一偏振選擇性塗層之一替代或補充，一偏振器器件可不僅包括一個平面平行板而且包括複數個平面平行板，平面平行板之側表面分別形成一偏振器表面，此等偏振器表面彼此平行且與入射光束成布魯斯特角定向，以便進一步減小藉由一各自偏振器表面或一各自平面平行板透射之光束之相對較小s偏振輻射分量。
此等偏振器亦可用於高功率應用中，其中雷射光束具有數百瓦之一功率，如(舉例而言)在用於處理(舉例而言切割或焊接)工件之雷射處理機器中，或在其中將一高功率雷射光束引導至一目標材料上以便將後者轉換為一電漿狀態且藉此產生EUV輻射之EUV輻射產生裝置中之情況。
高雷射功率具有折射率之一取決於溫度變化發生在透射(偏振)雷射光束之材料中，且此變化導致一所謂的熱透鏡之效應。由於雷射光束之功率及因此透射材料之溫度在雷射光束之光束輪廓之中心處比雷射光束之邊緣區域中更大，故材料之光學厚度如同在一透鏡中從雷射光束之光束輪廓之中心至其邊緣區域變化。
已知用於補償此一熱透鏡之多種方法：舉例而言，從DE 10 2011 054 941 B3已知借助於一校正單元實行一高功率雷射之一雷射光束之焦點位置之熱偏移之一校正，該校正單元包括用於借助於校正資料改變焦點位置之至少一個可變光學元件。
從JP 61238487，已知藉由按相對於雷射諧振器中產生之雷射輻射之光束路徑之一角度將一雷射光束定向至半透明鏡上且量測藉由熱透鏡產生之雷射光束偏差而監測一雷射諧振器之一半透明鏡上之熱透鏡。
JP 11068213已揭示具有一Q切換器之一CO2雷射，其中期望尤其藉由使用一旋轉截斷器補償配置於光束路徑中之一光學元件之熱透鏡效應。
US 2015/0062544 A1已揭示一種用於一聚焦系統之溫度補償之裝置，該裝置包括具有一熱透鏡之至少一個透射光學元件。對於溫度補償，使用至少一個反射光學元件，其同樣具有一熱透鏡，其與透射光學元件之熱透鏡互補，使得兩個光學元件之組合光學性質基本上獨立於溫度。
同樣已知實行將線性偏振雷射輻射轉換為圓形或橢圓形偏振雷射輻射以供材料處理。舉例而言，DE 100 33 071 A1描述用於材料處理之一雷射配置，其為此包括至少一個延遲板。EP 1 742 307 B1描述其中出於此目的使用一相移鏡之一裝置。從DE 10 2007 033 567 A1，已知使用一雷射諧振器，其具有一相移器件以便在該雷射諧振器內激發或穩定化徑向或方位角偏振雷射輻射。
1:偏振器配置
2:第一偏振器器件
3:第二偏振器器件
4:相移器件/λ/2延遲板
4a:雷射光束/第一相移鏡
4b:第二相移鏡
5:雷射光束
5':往回反射雷射光束
5a:線性偏振雷射光束
5b:雷射光束
6a:平面平行板/載體元件
6b:平面平行板/板形載體元件
7a:偏振選擇性塗層
7b:偏振選擇性塗層
8:第一偏振器表面/第一光束分離器表面
8a:第三偏振器表面
9a:橢圓表面區域
9b:橢圓表面區域
10:非對稱光束輪廓
11:第二偏振器表面
11a:第四偏振器表面
12:基本上旋轉對稱橫截面或光束輪廓
20:極紫外線(EUV)輻射產生裝置
21:光束源
22:放大器配置
23a:光學放大器或放大級
23b:光學放大器或放大級
23c:光學放大器或放大級
24:光束導引器件
25:聚焦器件
26:目標材料
27:集光鏡
28:真空室
29:驅動器雷射配置
30:相移器件
αB:布魯斯特角
β:旋轉角度
λ:波長
δ:路徑差
R1:第一方向
R2:第二方向
p:偏振方向
s:偏振方向
圖1a、圖1b展示具有呈一λ/2延遲板之形式之一相移器件之一偏振器配置之示意圖，一雷射光束在一第一方向上行進穿過該λ/2延遲板，圖2a、圖2b展示圖1a、圖1b之偏振器配置之示意圖，在相對方向上傳播之一雷射光束在該偏振器配置處反射或偏移，圖3展示具有呈兩個相移鏡之形式之一相移器件之一偏振器配置之一示意圖，圖4a、圖4b展示在偏振器配置之一第一偏振器器件之後且在一第二偏振器器件之後之一線性偏振雷射光束之一光束輪廓之表示，且圖5展示具有根據圖1a、圖1b、圖2a、圖2b或圖3之一偏振器配置之一EUV輻射產生裝置之一示意圖。
本發明係關於一種偏振器配置，其包括：一第一偏振器器件，其具有用於在一第一方向上傳播之一雷射光束之線性偏振之一第一偏振器表面，該雷射光束按一第一角度(不等於0°)(即，非垂直地)照射第一偏振器表面。本發明亦係關於一種具有此一偏振器配置之EUV輻射產生裝置，且係關於一種用於一雷射光束之線性偏振之關聯方法。
本發明之目的
本發明之目的係提供一種偏振器配置、一種包括偏振器配置之EUV輻射產生裝置及一種用於一雷射光束之線性偏振之方法，其中基本上補償藉由熱透鏡效應引發之雷射光束之光束輪廓之一旋轉非對稱修改。
本發明之標的
藉由介紹中提及之類型之一偏振器裝置達成此目的，該偏振器裝置進一步包括：一相移器件，其用於使在第一偏振器表面處透射之線性偏振雷射光束之一偏振方向旋轉達一預定旋轉角度；及一第二偏振器器件，其具有一第二偏振器表面，雷射光束在已行進穿過相移器件之後按一第二角度(不等於0°)照射該第二偏振器表面且藉由該第二偏振器表面透射，使照射該第二偏振器表面之雷射光束之一入射平面相對於照射第一偏振器表面之雷射光束之一入射平面旋轉達預定角度。
為產生進入偏振器配置之雷射光束，使用一光束源，舉例而言一CO0雷射。第一偏振器表面及第二偏振器表面通常分別形成於一載體元件之一前側，該載體元件由透射雷射光束之波長之一材料(載體材料)製成。若雷射光束係具有約10.6μm之一波長之一CO2雷射光束，則透射材料可舉例而言係硒化鋅。藉由偏振器表面或藉由載體元件透射之線性偏振雷射光束可視需要亦具有具垂直於第一偏振方向之一第二偏振方向之小輻射分量；在此應用之範疇中，此一雷射光束亦被稱為一線性偏振雷射光束。透射載體材料之類型適於使用之雷射光束之波長。對於近IR波長範圍中或可見波長範圍中之較短波長，石英玻璃可舉例而言用作用於載體元件之一材料。
照射第一偏振器表面之雷射光束可能已經線性偏振，明確言之使得當其行進穿過第一偏振器器件且穿過第二偏振器器件時其未被衰減或僅稍微衰減。通常，此一雷射光束相對於至第一偏振器表面上之入射平面p偏振，且對應地相對於至第二偏振器表面上之該入射平面p偏振。一已經線性偏振雷射光束行進穿過偏振器配置(此保持其在偏振器配置中之線性偏振)可能在此雷射光束在配置於偏振器配置之下游之一或多個物件(舉例而言一目標材料，參見上文)處往回反射時有用，且雷射光束之偏振方向在至少一個 進一步相移器件處旋轉，使得照射偏振器配置之往回反射雷射光束之偏振方向再次垂直於在正向方向上傳播之雷射光束之偏振方向定向。舉例而言，進一步相移器件可係一相移鏡，其當雷射光束在正向方向上行進穿過時且當雷射光束在反向方向上行進穿過時分別產生λ/4之一路徑差，使得整體產生λ/2之一路徑差。由於偏振方向之旋轉，故藉由偏振配置偏移或反射往回反射雷射光束，使得該往回反射雷射光束無法再行進回至光束源且偏振器配置充當一光學隔離器。
本發明者已發現，待偏振雷射光束(其通常具有一旋轉對稱(舉例而言圓形)光束輪廓)在按一角度(不等於0°)入射於第一偏振器表面上期間在一橢圓表面區域中照射該第一偏振器表面。因此，其上形成第一偏振器表面之透射材料之熱透鏡不僅充當一球面透鏡，而且額外地具有一柱面透鏡之效應：熱透鏡之效應在沿著橢圓表面區域之長軸延伸之一第一方向上比在垂直於該第一方向、沿著橢圓表面區域之短軸延伸之一第二方向上更大。另外，熱柱面透鏡亦充當相對於雷射光束傾斜之一透鏡，其導致一散光。由於熱透鏡效應，故已行進穿過光束分離器表面及透射材料之線性偏振雷射光束同樣具有一旋轉非對稱橢圓光束輪廓，其通常比一旋轉對稱(舉例而言圓形)光束輪廓更難以處置。
為使光束輪廓對稱，或為補償熱柱面透鏡效應(包含傾斜透鏡之效應)，使得獲得具有一旋轉對稱(特定言之圓形)光束輪廓之一線性偏振雷射光束，可視需要使用舉例而言呈具有一固定焦距之一柱面透鏡及/或一柱面鏡之形式之一補償光學元件。然而，藉由第一偏振器器件產生之熱柱面透鏡之強度，或更精確地熱柱面透鏡之焦距取決於入射雷射功率，使得具有一恆定焦距之一補償光學元件無法獨立於功率而補償熱柱面透鏡。
為補償第一偏振器器件之熱柱面透鏡，因此提出使用一第二偏振器器件，其基本上垂直於第一偏振器器件之熱柱面透鏡起作用。兩個柱面透鏡疊加，使得藉由兩個偏振器器件整體產生一球面或旋轉對稱熱透鏡。偏振器配置之球面透鏡或熱透鏡之球面分量導致呈一散光之形式之一成像像差，其基本上對應於兩個偏振器方向之間之距離，而在第二偏振器表面處透射之線性偏振雷射光束之光束輪廓保持(近似)旋轉對稱或圓形。
為能夠使用第二偏振器器件來補償第一偏振器器件之熱柱面透鏡效應，有必要使第一偏振器表面處透射之線性偏振雷射光束之偏振方向旋轉，使得藉由第二偏振器件透射線性偏振雷射光束之一顯著分量，而無線性偏振雷射光束之光束輪廓同樣被旋轉。為在無光束輪廓之同時旋轉之情況下產生偏振方向之此旋轉，使用一相移器件。若另一方面線性偏振雷射光束之偏振方向及光束輪廓兩者皆將(舉例而言)借助於一潛望鏡旋轉，則將藉由第二偏振器器件進一步增強第一偏振器器件之熱柱面透鏡效應。
在一項實施例中，相移器件之預定旋轉角度在80°與100°之間，較佳地90°。理想地，藉由相移器件產生之旋轉角度應係90°。此可在相移器件產生180°之一相移，或λ/2之一路徑差時達成，λ表示雷射光束之波長。在180°之一相移，或λ/2之一路徑差之情況中，雷射光束保持線性偏振。若發生λ/2之一相移之一略微偏差，則線性偏振雷射光束通常變成橢圓形偏振，但藉由遵循光束路徑之第二偏振器器件再次轉換為一(基本上)線性偏振雷射光束。
若使用90°之一旋轉角度，則照射第一偏振器表面之雷射光束之入射平面垂直於照射第二偏振器表面之雷射光束之入射平面定向。如上文所描述，在此情況中，兩個熱柱面透鏡(包含傾斜透鏡之效應)在兩個互相對立 的方向上起作用，使得具有一旋轉對稱(特定言之圓形)光束輪廓之一入射雷射光束使偏振器配置具有一(基本上)旋轉對稱(特定言之圓形)光束輪廓。雷射光束在從偏振器配置出射時之發散在兩個方向上亦相等，使得雷射光束即使在進一步傳播期間亦保持其旋轉對稱光束輪廓。若熱柱面透鏡起作用之兩個方向並不彼此垂直，則將產生可能稍微偏離一圓形之一光束輪廓。略微偏離90°之一旋轉角度(其可能舉例而言位於80°與100°之間)一般言之不導致最佳補償，但可能有時仍可容許。
在一項進一步實施例中，第一角度及第二角度具有相等大小，即，雷射光束按相同角度(不等於0°)照射第一偏振器表面及第二偏振器表面。此係有利的，以便產生在兩個偏振方向上之量值方面具有相同大小之一熱柱面效應。然而，視需要亦可(略微)不同地選擇兩個角度且同時(略微)偏離90°之一旋轉角度，各自偏差經選擇使得雷射光束之光束輪廓在行進穿過偏振器配置時基本上整體被保持。
如上文所說明，可使用偏振器配置以便過濾或反射在與第一方向相反之一第二方向上傳播之一雷射光束，在第二方向上傳播之雷射光束之偏振方向垂直於在第一方向上傳播之雷射光束之偏振方向定向。對於在第二方向上傳播之雷射光束之反射或過濾，可視需要使用偏振器配置之第一偏振器表面及第二偏振器表面。
在另一實施例中，第一偏振器器件包括一第三偏振器表面及/或第二偏振器器件包括用於在與第一方向相反之一第二方向上傳播之一雷射光束之線性偏振之一第四偏振器表面，在第二方向上傳播之雷射光束按第一角度照射第三偏振器表面及/或按第二角度照射第四偏振器表面。第一偏振器表面及第三偏振器表面，及第二偏振器表面及第四偏振器表面可特定言之分 別形成於第一偏振器器件及第二偏振器器件之一載體元件之兩個相對側上。特定言之，載體元件可係一平面平行板。藉由第三或第四偏振器表面，在第二方向上傳播之一雷射光束(其具有相對於在第一方向上傳播之雷射光束之偏振方向旋轉達90°之一偏振方向)可經反射且因此過濾，使得偏振器配置可用作防止往回反射之保護，或作為一光學隔離器。理想地，在第二方向上傳播之雷射光束已在第二偏振器器件之第四偏振器表面處完全偏移或反射，使得其不再照射第三偏振器表面。若必要，則在第二方向上傳播之雷射光束之於第四偏振器表面處透射之一信號分量可在第三偏振器表面處偏移或反射。
在另一實施例中，雷射光束照射第一及/或第三偏振器表面之第一角度，及/或線性偏振雷射光束照射第二及/或第四偏振器表面之第二角度對應於布魯斯特角。當雷射輻射按布魯斯特角照射偏振器表面時，基本上具有一單一偏振方向(s偏振)之一輻射分量在偏振器表面處反射，其增強偏振器件之效應。
藉由以下公式給定偏振表面或在一光學較稀疏介質與一光學較密集介質之間之一介面處之布魯斯特角αB：αB=arctan(n2/n1)，其中n2表示光學較密集介質之折射率之實部且n1表示光學較稀疏介質(通常具有n1=1.00之空氣或真空)之折射率之實部。在配置於環境空氣中之一偏振器器件之情況中，因此藉由其上形成偏振器表面之透射材料之折射率n2判定布魯斯特角αB。
在另一實施例中，第一偏振器表面形成於由一透射材料製成之一載體元件(較佳地一平面平行板)上，及/或第二偏振器表面形成於由一透射材料 製成之一載體元件(較佳地一平面平行板)上。如上文所描述，雷射光束按各自透射材料之布魯斯特角αB理想地照射偏振器表面。一板形載體元件已證明有利，此係因為除熱透鏡外，其對雷射光束幾乎無影響。一板形載體元件之使用此外有利，此係因為熱透鏡隨雷射光束行進穿過之透射材料體積之長度而增大。
在一個改進中，第一偏振器表面及第三偏振器表面形成於第一偏振器器件之載體元件之相對側上，及/或第二偏振器表面及第四偏振器表面形成於第二偏振器器件之載體元件之相對側上。在此情況中，載體元件經組態為一平面平行板係特別有利的，此係因為使用此一板，第一側上之入射角與第二側上之出射角一致。因此，反射回之光束按與在正向方向上傳播之雷射光束照射板之第一側相同之角度照射板之第二側。
在一個改進中，第一偏振器器件之載體元件在第一及/或第三偏振器表面上具有一偏振選擇性塗層及/或第二偏振器器件之載體元件在第二及/或第四偏振器表面上具有一偏振選擇性塗層。如上文所描述，兩個偏振器器件可係薄膜偏振器，其中將一偏振選擇性塗層施覆於載體元件上。然而，應瞭解，亦可視需要省略一偏振選擇性塗層，特定言之在偏振器器件包括彼此平行且在光束路徑中連續地配置之複數個偏振器表面時。
在另一實施例中，第一偏振器器件及第二偏振器器件具有相同設計。在此情況中，若一雷射光束按相同角度照射第一表面及第二表面，則兩個偏振器器件產生具有相等量值之一熱柱面透鏡。兩個偏振器器件在其等具有在其幾何結構方面相同且包括相同透射材料及(若存在)相同偏振選擇性塗層之一載體元件時具有相同設計。
在一項實施例中，相移器件包括至少一個透射相移光學元件，較佳地 一延遲板。如上文所描述，延遲板通常係一λ/2延遲板，其在雷射光束垂直照射延遲板時產生180°之一相移或λ/2之一路徑差，及因此偏振方向達90°之旋轉。
在另一實施例中，相移器件包括至少一個反射相移光學元件，較佳地一相移鏡。市售相移鏡往往產生90°之一相移，或λ/4之一路徑差。經此一相移，將一線性偏振雷射光束轉換為一圓形偏振雷射光束，且反之亦然。在光束路徑中彼此跟隨之兩個相移鏡(其各自引起90°之一相移或λ/4之一路徑差)使一線性偏振雷射光束之偏振方向旋轉達90°。在此情況中，相移器件因此通常包括兩個相移鏡，以便產生180°之相移，或λ/2之路徑差。應瞭解，相移器件可視需要包括透射相移元件及反射相移元件兩者。
本發明之另一態樣係關於一種EUV輻射產生裝置，其包括：一驅動器雷射配置，其用於產生一雷射光束；一真空室，一目標材料可配置於其中；一光束導引器件，其用於在一第一方向上將來自驅動器雷射器件之雷射光束導引至目標材料上；及如上文描述之至少一個偏振器器件配置。當反射回之雷射光束之偏振方向垂直於在正向方向上傳播之雷射光束之偏振方向定向時，偏振器配置可用於在目標材料之方向上(即，在一第一方向上)自驅動器雷射器件傳播之雷射光束之線性偏振且用於過濾或用於偏移自目標材料或另一物件(舉例而言一光圈)反射回至驅動器雷射配置之一雷射光束。
在另一實施例中，EUV輻射產生裝置額外地包括至少一個進一步相移器件，其經配置於偏振器配置與目標材料之間，該進一步相移器件經組態以便產生在目標材料處反射且在與第一方向相反之一第二方向上照射偏振器配置之一雷射光束，該雷射光束之偏振方向垂直於在第一方向上傳播之 雷射光束之偏振方向延伸。雷射光束之偏振方向可能可在目標材料上之衝擊或反射期間旋轉，但進一步偏振旋轉或相移器件(其產生偏振方向之此旋轉)(舉例而言一相移鏡，其在雷射光束之雙重通過期間產生λ/2之一路徑差)可配置於偏振器配置與目標材料之間。若目標材料或雷射光束之光束路徑中之視需要進一步元件同樣具有一偏振旋轉效應，則將調適進一步偏振旋轉器件之效應，使得整體獲得在自偏振器配置出射之雷射光束之一偏振方向與在反向方向上進入偏振器配置之雷射光束之間達90°之一旋轉。
在此情況中，偏振器配置可用作防止自目標材料反射回之雷射光束進入驅動器雷射器件之一光學隔離器。
EUV輻射產生裝置之驅動器雷射配置通常包括一個雷射源，或視需要產生一個或視需要複數個(脈動)雷射光束或所謂的種子脈衝之複數個雷射源，該複數個(脈動)雷射光束或所謂的種子脈衝在一放大器配置之一個光學放大器中(通常在複數個光學放大器中)放大至複數個kW(視需要10kW或以上)之雷射功率。該偏振器或一偏振器配置可配置在驅動器雷射配置中或在光束導引器件中，以便視需要偏振藉由光束源產生之雷射光束及/或過濾或偏移在目標材料處反射回之雷射光束。偏振器配置可特定言之在光束路徑中配裝於放大器配置前方，此係因為其中使用之雷射功率雖然相當高，但通常未高至足以損壞偏振器配置之偏振器器件。
應瞭解，此處描述之偏振器配置亦可用於其他應用中，舉例而言用於材料處理中(舉例而言用於雷射處理機器中)，以便借助於依透射操作之偏振器器件產生具有一對稱光束輪廓之一(線性)偏振雷射光束，或以便允許往回反射保護。依透射操作之偏振器器件之使用具有比依反射操作之偏振器器件之使用更容易調整之優勢。此外，依反射操作之偏振器器件之使用 將承擔往回行進之雷射光束破壞偏振器器件之風險，此係因為其通常具有比在正向方向上傳播之雷射光束高得多的一功率。然而，載體材料對於透射(p偏振)雷射輻射之吸收通常比對於反射(s偏振)雷射輻射之吸收大得多，使得後者應在一各自偏振器表面處被反射且非被透射。在此處描述之偏振器配置中，藉由第二偏振器器件補償第一偏振器器件之熱柱面透鏡此外匹配於雷射功率，即，其在雷射功率根據第一偏振器器件之熱柱面透鏡之變動期間變化。
本發明亦係關於一種用於產生在一第一方向上傳播之一線性偏振雷射光束之方法，其包括：按一第一角度將一雷射光束定向至一第一偏振器器件之一第一偏振器表面上以供一入射雷射光束之線性偏振；藉由產生一路徑差(或一相移)而使在第一偏振器表面處透射之線性偏振雷射光束之一偏振方向旋轉達一預定旋轉角度；及按一第二角度將雷射光束定向至一第二偏振器器件之一第二偏振器表面上，使照射第二偏振器表面之雷射光束之一入射平面相對於照射第一偏振器表面之雷射光束之一入射平面旋轉達預定角度。如上文所描述，第一及第二(入射)角度較佳地重合，且其等較佳地對應於布魯斯特角。路徑差係較佳地λ/2，其對應於180°之一相移且導致偏振方向達90°之一旋轉角度之一旋轉。
在一個改進中，方法包括：在第一偏振器器件之一第三偏振器表面處及/或在第二偏振器器件之一第四偏振器表面處，反射在與第一方向相反之一第二方向上傳播之一雷射光束，該雷射光束之偏振方向垂直於在第一方向上傳播之線性偏振雷射光束之偏振方向定向。如上文所描述，反射回之雷射光束可在第四偏振器表面處且視需要在第三偏振器表面處反射，使得其不再於第二方向上傳播。
本發明之其他優勢可見於描述及圖式中。同樣地，上文提及之特徵及下文涉及之特徵可獨立使用，或其等數個可以任何所要組合使用。展示且描述之實施例不應解釋為一詳盡清單，而係具有用於描述本發明之一例示性性質。
圖1a、圖1b展示具有呈一λ/2延遲板之形式之一相移器件之一偏振器配置之示意圖，一雷射光束在一第一方向上行進穿過該λ/2延遲板，圖2a、圖2b展示圖1a、圖1b之偏振器配置之示意圖，在相對方向上傳播之一雷射光束在該偏振器配置處反射或偏移，圖3展示具有呈兩個相移鏡之形式之一相移器件之一偏振器配置之一示意圖，圖4a、圖4b展示在偏振器配置之一第一偏振器器件之後且在一第二偏振器器件之後之一線性偏振雷射光束之一光束輪廓之表示，且圖5展示具有根據圖1a、圖1b、圖2a、圖2b或圖3之一偏振器配置之一EUV輻射產生裝置之一示意圖。
在圖式之以下描述中，相同參考符號用於相同或功能等效之組件。
圖1a、圖1b展示一偏振器配置1，其包括一第一偏振器器件2及一第二偏振器器件3，以及配置於第一偏振器器件2與第二偏振器器件3之間之呈一λ/2延遲板之形式之一相移器件4。該相移器件4針對一雷射光束5產生λ/2之一路徑差δ，該雷射光束5在基本上p偏振時於一第一方向R1上進入偏振器配置1。在展示之實例中，雷射光束5具有一波長λ 10.6μm且由一CO2雷射產生。應瞭解，雷射光束5亦可具有一不同波長λ，舉例而言約1μm或更小之一波長λ。
第一偏振器器件2及第二偏振器器件3具有相同設計，且分別具有呈一 平面平行板之形式之一載體元件6a、6b，將一偏振選擇性塗層7a、7b施覆於該載體元件之前側上，即，在面向於一第一方向R1上傳播之入射雷射光束5之側上。載體元件6a、6b之材料係硒化鋅，但應瞭解，亦可使用在雷射光束5之波長λ下透明之其他材料，舉例而言針對可見或近IR波長範圍中之一波長λ之石英玻璃。具有偏振選擇性塗層7a之第一偏振器器件2之載體元件6a之前側形成一第一偏振器表面8(或光束分離器表面)，在該第一偏振器表面8處將初始未偏振雷射光束5分成藉由第一偏振器器件2或第一光束分離器表面8透射之一雷射光束5a，及藉由第一偏振器件2反射之一輻射分量，此分量僅在圖1a中描畫輪廓，此係因為入射雷射光束5基本上p偏振。
在圖1a、圖1b中展示之偏振器配置中，入射雷射光束5按對應於載體元件6a之ZnSe材料之布魯斯特角αB之一第一(入射)角度照射偏振器表面8。參見圖1a、圖1b中展示之XYZ座標系統，在第一偏振器表面8處反射之輻射分量因偏振器表面8按布魯斯特角αB之配置，且明確言之基本上垂直於入射雷射光束5之入射平面X、Z而線性偏振(s偏振)。另一方面，藉由第一偏振器器件2透射之雷射光束5a基本上平行於雷射光束5至第一偏振器表面8上之入射平面X、Z而線性偏振(p偏振)。偏振選擇性塗層7a、7b用來增強將雷射光束5分離成s偏振分量及p偏振輻射分量。
如借助於圖1b可見，雷射光束5在一橢圓表面區域9a中行進穿過第一偏振器器件2，使得在一基本上橢圓體積區域中藉由雷射光束5沿著第一偏振器器件2之載體元件6a之材料加熱該材料之厚度。由於載體元件6a之材料或偏振選擇性塗層7a對於高功率之雷射光束5(該高功率可舉例而言位於數百W或以上之一範圍中)之吸收，故在載體元件6a之照射體積中產生一溫度梯度，及與其相關聯之一熱透鏡，即，載體元件6a之材料之折射率依據 雷射功率而變化。
由於雷射光束5行進穿過之體積係基本上橢圓，故藉由第一偏振器器件2產生充當一球面透鏡且充當一額外柱面透鏡，且導致雷射光束5之(非所要)聚焦之一熱透鏡。由於熱透鏡之傾斜，故熱柱面透鏡基本上在X方向上起作用，使得如圖4a中高度示意性地表示，將入射雷射光束5之圓形光束輪廓轉換為藉由第一偏振器器件2透射之雷射光束4a之一非對稱光束輪廓10。
為校正第一偏振器器件2之熱柱面透鏡對透射線性偏振雷射光束5a之影響，且以此方式產生一基本上對稱(圓形)光束輪廓，第二偏振器器件3經提供在偏振器配置1中。如藉由比較圖1a及圖1b可見，使第二偏振器器件3繞Z軸相對於第一偏振器器件2旋轉達90°之一旋轉角度β。因此，藉由第一偏振器器件2透射之雷射光束5a在相對於入射平面X、Z旋轉達90°之旋轉角度β之一入射平面Y、Z中照射第二偏振器器件3之一第二偏振器表面11，在該入射平面X、Z中雷射光束5照射第一偏振器器件2之第一偏振器表面8。因此，使在其處雷射光束5a照射第二偏振器表面11之一橢圓表面區域9b同樣旋轉達90°。因此，第二偏振器器件3之熱柱面透鏡垂直於第一偏振器器件2之熱柱面透鏡起作用，使得如圖4b中高度示意性地展示，藉由第二偏振器器件3透射之雷射光束5b以一基本上旋轉對稱橫截面或光束輪廓12傳播。
為使藉由按90°之旋轉角度β配置之第二偏振器器件3透射由第一偏振器器件2透射之基本上線性偏振雷射光束5a，有必要使透射雷射光束5a之偏振方向p同樣旋轉達旋轉角度β，但在此情況中雷射光束5a之光束輪廓10不同樣旋轉。為此，在圖1a、圖1b中展示之實例中，使用λ/2延遲板4，其使偏振方向p相對於第一偏振器器件2之入射平面X、Z旋轉達90°，使得藉由 第一偏振器器件2透射之雷射光束5a在行進穿過λ/2延遲板4之後經s偏振。由於經透射雷射光束5a至第二偏振器器件3之第二偏振器表面11上之入射平面Y、Z相對於第一偏振器器件2之入射平面X、Z旋轉達90°，故經透射雷射光束5a相對於至第二偏振器表面11上之入射平面Y、Z經p偏振，使得雷射光束5b之功率在行進穿過第二偏振器器件3時被保留或僅略微減少。
如圖2a、圖2b中所表示，亦可使用圖1a、圖1b中展示之偏振器配置1，以便過濾在與第一方向相反之一第二方向R2上傳播之一雷射光束5'。在第二方向R2上傳播之雷射光束5'可特定言之係在第一方向R1上傳播之雷射光束5之一往回反射輻射分量。在第二方向R2上傳播之雷射光束5'相對於至第二偏振器器件3上之入射平面X、Z經s偏振且按布魯斯特角αB照射形成於板形載體元件6b之背側上之一第四偏振器表面11a。同樣將一偏振選擇性塗層7b施覆於第二偏振器器件3之板形載體元件6b之背側上，以便增大相對於s偏振及p偏振輻射分量之選擇性。如圖2b中可見，在第二方向R2上傳播之雷射光束5'在第二偏振器器件3之第四偏振器表面11a處經反射，使得其不再照射第一偏振器器件2。在第四偏振器表面11a處反射之雷射光束5'經偏移至一光束阱(未展示)中且藉此被吸收。
由於反射回之雷射光束5'可能在第四偏振器表面11a處未完全反射，故第一偏振器器件2之載體元件6a之背側可用作一第三偏振器表面8a，以便反射可能到達第一偏振器器件2之往回反射雷射光束5'之一輻射分量，或使其偏移至又一光束阱，使得其不在第二方向R2上進一步傳播。為增大偏振選擇性，亦將一偏振選擇性塗層7a施覆於第一偏振器器件2之載體元件6a之背側上。
圖3展示一偏振器配置1之一實例，其與圖1a、圖1b及圖2a、圖2b中展 示之偏振器配置1之不同之處在於：代替呈一延遲板4之形式之一相移器件，使用包括配置於第一偏振器器件2與第二偏振器器件3之間之兩個相移鏡4a、4b之一相移器件4。相移鏡4a、4b分別引發λ/4之一路徑差(對應於90°之一相移)。藉由第一偏振器器件2透射之線性偏振雷射光束5a在第一相移鏡4a處變成圓形偏振且在第二相移鏡4b處再次線性偏振，使得如圖1a、圖1b中展示之偏振器配置1中之情況，雷射光束5a之偏振方向整體旋轉達90°之一旋轉角度β。
為使用第一鏡4a或第二鏡4b產生λ/4之一路徑差，雷射光束5a之偏振方向有必要相對於至各自鏡4a、4b上之入射平面按45°之一角度定向，出於此原因偏振器器件2之第一偏振器表面8及偏振器器件3之第二偏振器表面11相對於相移鏡4a、4b之各自表面分別旋轉達45°，其各者引起雷射光束5a達90°之偏差。
在圖1a、圖1b及圖2a、圖2b或圖3中展示之偏振器器件2、3中，至第一偏振器表面8及第二偏振器表面11上之第一及第二(入射)角度具有相等大小，且其等分別對應於布魯斯特角αB。至第三偏振器表面8a或第四偏振器表面11a上之往回反射雷射光束5'的(入射)角度同樣具有相等大小且對應於布魯斯特角αB。然而，此並非絕對必要，即，第一及第二角度可能不同於布魯斯特角αB。兩個角度具有相等大小亦有利但非絕對必要。相移器件4、4a、4b之旋轉角度β可視需要同樣(略微)不同於90°，且可視需要位於80°與100°之間。
根據圖1a、圖1b、圖2a、圖2b或根據圖3之偏振器配置1可用於其中一高功率雷射光束需經偏振之不同應用領域中。圖5高度示意性地展示包括此一偏振器配置1之一EUV輻射產生裝置20。該EUV輻射產生裝置20包括一 光束源21、具有三個光學放大器或放大級23a、23b、23c之一放大器配置22、一光束導引器件24(未詳細表示)及一聚焦器件25。該聚焦器件25用來將藉由光束源21產生且藉由放大器配置22放大之雷射光束5聚焦於其中放置一目標材料26之一真空室28中之一目標區域上。在使用雷射光束5b照射期間，目標材料26經轉換為一電漿狀態且藉此發射EUV輻射，該EUV輻射借助於一集光鏡27聚焦。在圖4中展示之實例中，集光鏡27具有一開口以供雷射光束5b行進穿過。在展示之實例中，光束源21包括兩個CO2雷射以便產生一預脈衝及一主脈衝，該兩個脈衝在放大器配置22中一起放大且聚焦至目標材料26上。連同放大器配置22，光束源21形成EUV輻射產生裝置20之一驅動器雷射配置29。
在圖5中展示之實例中，偏振器配置1經配置於光束源21與放大器配置22之間且經使用以便在從驅動器雷射配置29至目標材料26之一第一方向上用最少可能損耗透射藉由通常已經線性偏振之光束源21產生之脈動雷射光束5，且過濾或偏移在目標材料26處反射回且在一第二方向上傳播之雷射光束5'，使得其無法再到達驅動器雷射配置29或在光束路徑中位於偏振器配置1前方之光學元件。
為過濾或偏移在第二方向上傳播且再次照射偏振器配置1之雷射光束5'，其偏振方向相對於在正向方向上自偏振器配置1出射之雷射光束5b旋轉達90°。為使雷射光束5b之偏振方向旋轉達90°，將又一相移器件30配置於偏振器配置1與目標材料26之間。進一步相移器件30可舉例而言係一相移鏡，其在於第一方向R1上傳播之雷射光束5b及於第二方向R2上傳播之往回反射雷射光束5'之穿過期間整體產生λ/2之一路徑差，且因此引發偏振方向達90°之所要旋轉。應瞭解，為此，亦可使用配置於偏振器配置1與目標材 料26之間之其他相移或偏振旋轉光學元件。
應瞭解，偏振器配置1或視需要又一偏振器配置亦可經配置於EUV輻射產生裝置20中之另一位置(舉例而言在光束導引器件24中)，以便產生一線性偏振雷射光束(其旋轉對稱光束輪廓在一熱透鏡發生時基本上被保留)，且視需要過濾往回反射雷射光束5'。
1‧‧‧偏振器配置
2‧‧‧第一偏振器器件
3‧‧‧第二偏振器器件
4‧‧‧相移器件/λ/2延遲板
4a‧‧‧雷射光束/第一相移鏡
4b‧‧‧第二相移鏡
5‧‧‧雷射光束
5a‧‧‧線性偏振雷射光束
5b‧‧‧雷射光束
8‧‧‧第一偏振器表面/第一光束分離器表面
11‧‧‧第二偏振器表面
λ‧‧‧波長
δ‧‧‧路徑差

Claims (14)

  1. 偏振器配置(1)，其包括：一第一偏振器器件(2)，其具有一第一偏振器表面(8)以供在一第一方向(R1)上傳播之一雷射光束(5)之線性偏振，該雷射光束(5)按一第一角度(αB)照射該第一偏振器表面(8)，其特徵在於一相移器件(4)，其用於使在該第一偏振器表面(8)處透射之該線性偏振雷射光束(5a)之一偏振方向(p)旋轉達一預定旋轉角度(β)，及一第二偏振器器件(3)，其具有一第二偏振器表面(11)，該線性偏振雷射光束(5a)在已行進穿過該相移器件(4)之後按一第二角度(αB)照射該第二偏振器表面(11)且藉由該第二偏振器表面(11)透射，照射該第二偏振器表面(11)之該雷射光束(5a)之一入射平面(Y、Z)相對於照射該第一偏振器表面(8)之該雷射光束(5)之一入射平面(X、Z)旋轉達該預定角度(β)，其中該相移器件(4)之該預定旋轉角度(β)在80°與100°之間。
  2. 如請求項1之偏振器配置，其中該第一角度(αB)及該第二角度(αB)具有相等大小。
  3. 如請求項1之偏振器配置，其中該第一偏振器器件(2)包括一第三偏振器表面(8a)及/或其中該第二偏振器器件(3)包括用於在與該第一方向相反之一第二方向(R2)上傳播之一雷射光束(5')之線性偏振之一第四偏振器表面(11a)，在該第二方向(R2)上傳播之該雷射光束(5')按該第一角度(αB)照射 該第三偏振器表面(8a)及/或按該第二角度(αB)照射該第四偏振器表面(11a)。
  4. 如請求項1之偏振器配置，其中該雷射光束(5、5')照射該第一偏振器表面(8)及/或該第三偏振器表面(8a)之該第一角度(αB)，及/或該雷射光束(5a、5')照射該第二偏振器表面(11)及/或該第四偏振器表面(11a)之該第二角度(αB)對應於布魯斯特角(αB)。
  5. 如請求項1之偏振器配置，其中該第一偏振器表面(8)形成於由一透射材料製成之一載體元件，較佳地一平面平行板(6a)上，及/或其中該第二偏振器表面(11)形成於由一透射材料製成之一載體元件，較佳地一平面平行板(6b)上。
  6. 如請求項5之偏振器配置，其中該第一偏振器表面(8)及該第三偏振器表面(8a)形成於該第一偏振器器件(2)之該載體元件(6a)之相對側上，及/或其中該第二偏振器表面(11)及該第四偏振器表面(11a)形成於該第二偏振器器件(3)之該載體元件(6b)之相對側上。
  7. 如請求項1之偏振器配置，其中該第一偏振器器件(2)之該載體元件(6a)在該第一偏振器表面(8)及/或該第三偏振器表面(8a)上具有一偏振選擇性塗層(7a)，及/或該第二偏振器器件(3)之該載體元件(6b)在該第二偏振器表面(11)及/或該第四偏振器表面(11a)上具有一偏振選擇性塗層(7b)。
  8. 如請求項1之偏振器配置，其中該第一偏振器器件(2)及該第二偏振器器件(3)具有相同設計。
  9. 如請求項1之偏振器配置，其中該相移器件包括至少一個透射相移光學元件，較佳地一延遲板(4)。
  10. 如請求項1之偏振器配置，其中該相移器件(4)包括至少一個反射相移光學元件，較佳地一相移鏡(4a、4b)。
  11. EUV輻射產生裝置(20)，其包括：一驅動器雷射配置(29)，其用於產生一雷射光束(5b)，一真空室(28)，一目標材料(26)可配置於其中，一光束導引器件(24)，其用於在一第一方向(R1)上將來自該驅動器雷射器件(29)之該雷射光束(5b)導引至該目標材料(26)上，及如先前請求項中一項之偏振器器件配置(1)。
  12. 如請求項11之EUV輻射產生裝置，其進一步包括：至少一個進一步相移器件(30)，其經配置於該偏振器配置(1)與該目標材料(26)之間，該進一步相移器件(30)經組態以便產生在該目標材料(26)處反射且在與該第一方向相反之一第二方向(R2)上照射該偏振器配置(1)之一雷射光束(5')，該雷射光束(5')之該偏振方向(p)垂直於在該第一方向(R1)上傳播之該雷射光束(5b)之該偏振方向(s)延伸。
  13. 用於在一第一方向上傳播之一雷射光束(5b)之該線性偏振之方法，其包括：按一第一角度(αB)將一雷射光束(5)定向至一第一偏振器器件(2)之一第一偏振器表面(8)上以供一入射雷射光束(5a)之線性偏振，藉由產生一路徑差(δ)而使在該第一偏振器表面(8)處透射之該線性偏振雷射光束(5a)之一偏振方向(p)旋轉達一預定旋轉角度(β)，及按一第二角度(αB)將該雷射光束(5a)定向至一第二偏振器器件(3)之一第二偏振器表面(11)上，照射該第二偏振器表面(11)之該雷射光束(5a)之一入射平面(Y、Z)相對於照射該第一偏振器表面(8)之該雷射光束(5)之一入射平面(X、Z)旋轉達該預定角度(β)。
  14. 如請求項13之方法，其進一步包括：在該第一偏振器器件(2)之一第三偏振器表面(8a)處及/或在該第二偏振器器件(3)之一第四偏振器表面(11a)處，反射在與該第一方向相反之一第二方向(R2)上傳播之一雷射光束(5')，該雷射光束(5')之該偏振方向(s)垂直於在該第一方向(R1)上傳播之該線性偏振雷射光束(5b)之該偏振方向(p)定向。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20230118278A1 (en) * 2018-09-12 2023-04-20 Trumpf Lasersystems For Semiconductor Manufacturing Gmbh Optical assembly, in particular for polarization of a laser beam, and euv radiation generating device therewith
EP3914889B1 (de) 2019-01-24 2022-10-05 TRUMPF Lasersystems for Semiconductor Manufacturing GmbH Anordnung zur überwachung eines optischen elements, laserquelle und euv-strahlungserzeugungsvorrichtung
KR20220022472A (ko) 2019-04-04 2022-02-25 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 레이저 집속 모듈
KR102226255B1 (ko) * 2020-12-23 2021-03-10 한화시스템(주) 지향성 에너지 무기 시스템
WO2022199797A1 (de) 2021-03-23 2022-09-29 Trumpf Lasersystems For Semiconductor Manufacturing Gmbh Verfahren zur herstellung eines zur aufnahme und zur definierten positionierung wenigstens eines optischen bauteils vorgesehenen gehäuses sowie nach einem derartigen verfahren hergestelltes gehäuse

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1300626C (zh) * 2002-06-28 2007-02-14 汤姆森许可贸易公司 偏振光照明装置
WO2011122397A1 (ja) * 2010-03-29 2011-10-06 ギガフォトン株式会社 極端紫外光生成装置
US20140346374A1 (en) * 2012-03-14 2014-11-27 Gigaphoton Inc. Faraday rotator, optical isolator, laser apparatus, and extreme ultraviolet light generation apparatus

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61238487A (ja) 1985-04-15 1986-10-23 Mitsubishi Electric Corp レ−ザ装置
DE69218830T2 (de) * 1991-05-29 1997-07-17 Matsushita Electric Ind Co Ltd Bildprojektions-System
JPH1168213A (ja) 1997-08-26 1999-03-09 Nippon Steel Corp Ｑスイッチｃｏ２レーザ装置
DE10033071A1 (de) 2000-07-07 2002-01-17 Trumpf Lasertechnik Gmbh Laseranordnung für die Materialbearbeitung
EP1742307B1 (de) 2005-07-08 2008-08-20 Trumpf Werkzeugmaschinen GmbH + Co. KG Vorrichtung zur Beeinflussung der Polarisation einer Laserstrahlung
US20080002751A1 (en) * 2005-08-10 2008-01-03 Gongxue Hua High damage threshold Q-switched CO2 laser
DE102007033567A1 (de) 2007-07-19 2009-04-09 Trumpf Laser- Und Systemtechnik Gmbh Phasenschiebe-Einrichtung und Laserresonator zur Erzeugung radial oder azimutal polarisierter Laserstrahlung
US8462425B2 (en) * 2010-10-18 2013-06-11 Cymer, Inc. Oscillator-amplifier drive laser with seed protection for an EUV light source
DE102011054941B3 (de) 2011-10-28 2013-01-17 Qioptiq Photonics Gmbh & Co. Kg Vorrichtung und Verfahren zur Korrektur der thermischen Verschiebung der Fokuslage von über Optiken geführten Laserstrahlen
JP2013229553A (ja) * 2012-03-30 2013-11-07 Gigaphoton Inc レーザ装置及び極端紫外光生成装置
US9280053B2 (en) * 2013-09-04 2016-03-08 Cymer, Llc Apparatus for and method of temperature compensation in high power focusing system for EUV LPP source

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1300626C (zh) * 2002-06-28 2007-02-14 汤姆森许可贸易公司 偏振光照明装置
WO2011122397A1 (ja) * 2010-03-29 2011-10-06 ギガフォトン株式会社 極端紫外光生成装置
US20140346374A1 (en) * 2012-03-14 2014-11-27 Gigaphoton Inc. Faraday rotator, optical isolator, laser apparatus, and extreme ultraviolet light generation apparatus

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Publication number Publication date
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