TWI736581B - 長條薄膜 - Google Patents
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- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 76
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 14
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 claims description 13
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 claims description 10
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 claims description 9
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 claims description 9
- 239000010408 film Substances 0.000 description 204
- -1 saturated alicyclic hydrocarbon Chemical class 0.000 description 94
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 90
- 229910001868 water Inorganic materials 0.000 description 90
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 53
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 47
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 47
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 47
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 45
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 37
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 36
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 36
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 36
- 238000000034 method Methods 0.000 description 31
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 29
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 27
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 24
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 21
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 20
- 229920000089 Cyclic olefin copolymer Polymers 0.000 description 19
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 19
- 125000003518 norbornenyl group Chemical group C12(C=CC(CC1)C2)* 0.000 description 19
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 18
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 17
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 17
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 16
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 15
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 15
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 14
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 13
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 12
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 11
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 11
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 10
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 10
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 10
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 10
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 10
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 10
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 9
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical class C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 9
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N norbornene Chemical compound C1[C@@H]2CC[C@H]1C=C2 JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 8
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 7
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 7
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 7
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 7
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 7
- 235000019589 hardness Nutrition 0.000 description 7
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 7
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 7
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 6
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 6
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 6
- HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N cyclohexene Chemical compound C1CCC=CC1 HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 6
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- 229920005906 polyester polyol Polymers 0.000 description 5
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 5
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 5
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 5
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 5
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 5
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 5
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 4
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 4
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 4
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 4
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 4
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 4
- MGNZXYYWBUKAII-UHFFFAOYSA-N cyclohexa-1,3-diene Chemical compound C1CC=CC=C1 MGNZXYYWBUKAII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N cyclopentadiene Chemical compound C1C=CC=C1 ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- YONVOYAHRUTYTG-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;hydrate Chemical compound O.CCOC(N)=O YONVOYAHRUTYTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 4
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 4
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 4
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 4
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 4
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 4
- AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N oxetane Chemical compound C1COC1 AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 4
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 4
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004970 Chain extender Substances 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 3
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 3
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001718 carbodiimides Chemical class 0.000 description 3
- 150000001924 cycloalkanes Chemical group 0.000 description 3
- 150000001925 cycloalkenes Chemical class 0.000 description 3
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 3
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 3
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 3
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- DFENKTCEEGOWLB-UHFFFAOYSA-N n,n-bis(methylamino)-2-methylidenepentanamide Chemical compound CCCC(=C)C(=O)N(NC)NC DFENKTCEEGOWLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 3
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 3
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 3
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PRBHEGAFLDMLAL-GQCTYLIASA-N (4e)-hexa-1,4-diene Chemical compound C\C=C\CC=C PRBHEGAFLDMLAL-GQCTYLIASA-N 0.000 description 2
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical compound CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 1755-01-7 Chemical compound C1[C@H]2[C@@H]3CC=C[C@@H]3[C@@H]1C=C2 HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 0.000 description 2
- SDJHPPZKZZWAKF-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylbuta-1,3-diene Chemical compound CC(=C)C(C)=C SDJHPPZKZZWAKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BYPFICORERPGJY-UHFFFAOYSA-N 3,4-diisocyanatobicyclo[2.2.1]hept-2-ene Chemical compound C1CC2(N=C=O)C(N=C=O)=CC1C2 BYPFICORERPGJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 9H-carbazole Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3NC2=C1 UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N Phosgene Chemical compound ClC(Cl)=O YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002679 ablation Methods 0.000 description 2
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 2
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N benzaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CC=C1 HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000378 calcium silicate Substances 0.000 description 2
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ca+2].[O-][Si]([O-])=O OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 2
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 2
- YACLQRRMGMJLJV-UHFFFAOYSA-N chloroprene Chemical compound ClC(=C)C=C YACLQRRMGMJLJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 2
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 2
- 150000004292 cyclic ethers Chemical class 0.000 description 2
- ZXIJMRYMVAMXQP-UHFFFAOYSA-N cycloheptene Chemical compound C1CCC=CCC1 ZXIJMRYMVAMXQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- URYYVOIYTNXXBN-UPHRSURJSA-N cyclooctene Chemical compound C1CCC\C=C/CC1 URYYVOIYTNXXBN-UPHRSURJSA-N 0.000 description 2
- 239000004913 cyclooctene Substances 0.000 description 2
- LPIQUOYDBNQMRZ-UHFFFAOYSA-N cyclopentene Chemical compound C1CC=CC1 LPIQUOYDBNQMRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 2
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N dodecane Chemical compound CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N epsilon-caprolactam Chemical compound O=C1CCCCCN1 JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 2
- 238000006266 etherification reaction Methods 0.000 description 2
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 2
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 2
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N hydrazine Substances NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 2
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- OVHHHVAVHBHXAK-UHFFFAOYSA-N n,n-diethylprop-2-enamide Chemical compound CCN(CC)C(=O)C=C OVHHHVAVHBHXAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UUORTJUPDJJXST-UHFFFAOYSA-N n-(2-hydroxyethyl)prop-2-enamide Chemical compound OCCNC(=O)C=C UUORTJUPDJJXST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QNILTEGFHQSKFF-UHFFFAOYSA-N n-propan-2-ylprop-2-enamide Chemical compound CC(C)NC(=O)C=C QNILTEGFHQSKFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- 239000011146 organic particle Substances 0.000 description 2
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 2
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 2
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 2
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 2
- KMUONIBRACKNSN-UHFFFAOYSA-N potassium dichromate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Cr](=O)(=O)O[Cr]([O-])(=O)=O KMUONIBRACKNSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 2
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 2
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012748 slip agent Substances 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RUELTTOHQODFPA-UHFFFAOYSA-N toluene 2,6-diisocyanate Chemical compound CC1=C(N=C=O)C=CC=C1N=C=O RUELTTOHQODFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003021 water soluble solvent Substances 0.000 description 2
- JNELGWHKGNBSMD-UHFFFAOYSA-N xanthone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3OC2=C1 JNELGWHKGNBSMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- 239000004711 α-olefin Substances 0.000 description 2
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 1
- LWNGJAHMBMVCJR-UHFFFAOYSA-N (2,3,4,5,6-pentafluorophenoxy)boronic acid Chemical compound OB(O)OC1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1F LWNGJAHMBMVCJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DDKMFQGAZVMXQV-UHFFFAOYSA-N (3-chloro-2-hydroxypropyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(O)CCl DDKMFQGAZVMXQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UNMJLQGKEDTEKJ-UHFFFAOYSA-N (3-ethyloxetan-3-yl)methanol Chemical compound CCC1(CO)COC1 UNMJLQGKEDTEKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBVMSEMQJGGOFR-FNORWQNLSA-N (4e)-4-methylhexa-1,4-diene Chemical compound C\C=C(/C)CC=C JBVMSEMQJGGOFR-FNORWQNLSA-N 0.000 description 1
- OJOWICOBYCXEKR-KRXBUXKQSA-N (5e)-5-ethylidenebicyclo[2.2.1]hept-2-ene Chemical compound C1C2C(=C/C)/CC1C=C2 OJOWICOBYCXEKR-KRXBUXKQSA-N 0.000 description 1
- PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N (E)-1,3-pentadiene Chemical compound C\C=C\C=C PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 1
- WLTSXAIICPDFKI-FNORWQNLSA-N (E)-3-dodecene Chemical compound CCCCCCCC\C=C\CC WLTSXAIICPDFKI-FNORWQNLSA-N 0.000 description 1
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 description 1
- UTOVMEACOLCUCK-SNAWJCMRSA-N (e)-4-butoxy-4-oxobut-2-enoic acid Chemical compound CCCCOC(=O)\C=C\C(O)=O UTOVMEACOLCUCK-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 1
- GJZFGDYLJLCGHT-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=C(CC)C(CC)=CC=C3SC2=C1 GJZFGDYLJLCGHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWQFVUQPHUKAMY-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propoxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 QWQFVUQPHUKAMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZXTWGWHSMCWGA-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound NC1=NC=NC(N)=N1 VZXTWGWHSMCWGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSCLFFBWRKTMTE-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(isocyanatomethyl)cyclohexane Chemical compound O=C=NCC1CCCC(CN=C=O)C1 XSCLFFBWRKTMTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWYPDXLJACEENP-UHFFFAOYSA-N 1,3-cycloheptadiene Chemical compound C1CC=CC=CC1 GWYPDXLJACEENP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RCJMVGJKROQDCB-UHFFFAOYSA-N 1,3-dimethyl-1,3-butadiene Natural products CC=CC(C)=C RCJMVGJKROQDCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDMDQYCEEKCBGR-UHFFFAOYSA-N 1,4-diisocyanatocyclohexane Chemical compound O=C=NC1CCC(N=C=O)CC1 CDMDQYCEEKCBGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATOUXIOKEJWULN-UHFFFAOYSA-N 1,6-diisocyanato-2,2,4-trimethylhexane Chemical compound O=C=NCCC(C)CC(C)(C)CN=C=O ATOUXIOKEJWULN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDRZFSPCVYEJTP-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylcyclohexene Chemical compound C=CC1=CCCCC1 SDRZFSPCVYEJTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 1
- RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfonylpiperidin-4-one Chemical compound CS(=O)(=O)N1CCC(=O)CC1 RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCTXKRPTIMZBJT-UHFFFAOYSA-N 2,2,4-trimethylpentane-1,3-diol Chemical compound CC(C)C(O)C(C)(C)CO JCTXKRPTIMZBJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTBDIHRZYDMNKB-UHFFFAOYSA-N 2,2-Bis(hydroxymethyl)propionic acid Chemical compound OCC(C)(CO)C(O)=O PTBDIHRZYDMNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVYDLYGCSIHCMR-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(hydroxymethyl)butanoic acid Chemical compound CCC(CO)(CO)C(O)=O JVYDLYGCSIHCMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPYKYDBKQYZEKG-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylpropane-1,1-diol Chemical compound CC(C)(C)C(O)O QPYKYDBKQYZEKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVSKIKFHRZPJSS-UHFFFAOYSA-N 2,4-D Chemical compound OC(=O)COC1=CC=C(Cl)C=C1Cl OVSKIKFHRZPJSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CVAWAQKMBDKROW-UHFFFAOYSA-N 2,4-diisocyanato-1-methylbenzene;isocyanic acid Chemical compound N=C=O.CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O CVAWAQKMBDKROW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LESMLVDJJCWZAJ-UHFFFAOYSA-N 2-(diphenylphosphorylmethyl)-1,3,5-trimethylbenzene Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1CP(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 LESMLVDJJCWZAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWLALWYNXFYRGW-UHFFFAOYSA-N 2-Ethyl-1,3-hexanediol Chemical compound CCCC(O)C(CC)CO RWLALWYNXFYRGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 2-chlorothioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC=C3SC2=C1 ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical group CCCCC(CC)COC(=O)C(C)=C WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPXVRLXJHPTCPW-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-(4-propan-2-ylphenyl)propan-1-one Chemical compound CC(C)C1=CC=C(C(=O)C(C)(C)O)C=C1 QPXVRLXJHPTCPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(O)COC(=O)C=C GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMWMTSCFTPQVCJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1.CC1=CC=CC=C1O LMWMTSCFTPQVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C(C)=C RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C=C CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003504 2-oxazolinyl group Chemical group O1C(=NCC1)* 0.000 description 1
- KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)C)=CC=C3SC2=C1 KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BIDWUUDRRVHZLQ-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-(2-ethylhexoxymethyl)oxetane Chemical compound CCCCC(CC)COCC1(CC)COC1 BIDWUUDRRVHZLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUXZNIDKDPLYBY-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-(phenoxymethyl)oxetane Chemical compound C=1C=CC=CC=1OCC1(CC)COC1 JUXZNIDKDPLYBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FNYWFRSQRHGKJT-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxymethyl]oxetane Chemical compound C1OCC1(CC)COCC1(CC)COC1 FNYWFRSQRHGKJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMIOYAVXLAOXJI-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[[4-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxymethyl]phenyl]methoxymethyl]oxetane Chemical compound C=1C=C(COCC2(CC)COC2)C=CC=1COCC1(CC)COC1 LMIOYAVXLAOXJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULMZOZMSDIOZAF-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxy-2-(hydroxymethyl)propanoic acid Chemical compound OCC(CO)C(O)=O ULMZOZMSDIOZAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MECNWXGGNCJFQJ-UHFFFAOYSA-N 3-piperidin-1-ylpropane-1,2-diol Chemical compound OCC(O)CN1CCCCC1 MECNWXGGNCJFQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGVRJVHOJNYEHR-UHFFFAOYSA-N 4-chlorobenzophenone Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 UGVRJVHOJNYEHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKXAYLPDMSGWEV-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCO YKXAYLPDMSGWEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCCOC(=O)C=C NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100033806 Alpha-protein kinase 3 Human genes 0.000 description 1
- 101710082399 Alpha-protein kinase 3 Proteins 0.000 description 1
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 1
- GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N C[CH]O Chemical group C[CH]O GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004986 Cholesteric liquid crystals (ChLC) Substances 0.000 description 1
- 235000017788 Cydonia oblonga Nutrition 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 1
- OIFBSDVPJOWBCH-UHFFFAOYSA-N Diethyl carbonate Chemical compound CCOC(=O)OCC OIFBSDVPJOWBCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYMOEINVGRTEX-ARJAWSKDSA-N Ethyl hydrogen fumarate Chemical compound CCOC(=O)\C=C/C(O)=O XLYMOEINVGRTEX-ARJAWSKDSA-N 0.000 description 1
- AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-M Glycolate Chemical compound OCC([O-])=O AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-L Malonate Chemical compound [O-]C(=O)CC([O-])=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IIGAAOXXRKTFAM-UHFFFAOYSA-N N=C=O.N=C=O.CC1=C(C)C(C)=C(C)C(C)=C1C Chemical compound N=C=O.N=C=O.CC1=C(C)C(C)=C(C)C(C)=C1C IIGAAOXXRKTFAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCJBSZOMTQUOEQ-UHFFFAOYSA-N N=C=O.N=C=O.CC1=CCCCC1 Chemical compound N=C=O.N=C=O.CC1=CCCCC1 PCJBSZOMTQUOEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQSSNGKVNWXYOE-UHFFFAOYSA-N N=C=O.N=C=O.CCC(C)CC(C)(C)C Chemical compound N=C=O.N=C=O.CCC(C)CC(C)(C)C OQSSNGKVNWXYOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYIMHWNKQXQBDG-UHFFFAOYSA-N N=C=O.N=C=O.CCCCCC Chemical compound N=C=O.N=C=O.CCCCCC KYIMHWNKQXQBDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N Pentane-1,5-diol Chemical compound OCCCCCO ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical class CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910009372 YVO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N [4-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol Chemical compound OCC1CCC(CO)CC1 YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXBFLNPZHXDQLV-UHFFFAOYSA-N [cyclohexyl(diisocyanato)methyl]cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1C(N=C=O)(N=C=O)C1CCCCC1 KXBFLNPZHXDQLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 description 1
- 238000012644 addition polymerization Methods 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-L adipate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)CCCCC([O-])=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000004964 aerogel Substances 0.000 description 1
- 238000007754 air knife coating Methods 0.000 description 1
- 125000003158 alcohol group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001334 alicyclic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000007824 aliphatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSDREXVUYHZDNP-UHFFFAOYSA-N alumanylidynesilicon Chemical compound [Al].[Si] CSDREXVUYHZDNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N anhydrous glutaric acid Natural products OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 1
- RRFQCEWDBIZSDW-UHFFFAOYSA-N benzenediazonium fluoro(dioxido)borane Chemical compound [O-]B([O-])F.[O-]B([O-])F.[O-]B([O-])F.[O-]B([O-])F.[O-]B([O-])F.[O-]B([O-])F.N#[N+]C1=CC=CC=C1.N#[N+]C1=CC=CC=C1.N#[N+]C1=CC=CC=C1.N#[N+]C1=CC=CC=C1.N#[N+]C1=CC=CC=C1.N#[N+]C1=CC=CC=C1.N#[N+]C1=CC=CC=C1.N#[N+]C1=CC=CC=C1.N#[N+]C1=CC=CC=C1.N#[N+]C1=CC=CC=C1.N#[N+]C1=CC=CC=C1.N#[N+]C1=CC=CC=C1 RRFQCEWDBIZSDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLSMCQSGRWNEGX-UHFFFAOYSA-N bis(4-aminophenyl)methanone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N)C=C1 ZLSMCQSGRWNEGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RFVHVYKVRGKLNK-UHFFFAOYSA-N bis(4-methoxyphenyl)methanone Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(OC)C=C1 RFVHVYKVRGKLNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHJMTUPIZMNBFR-UHFFFAOYSA-N biuret Chemical compound NC(=O)NC(N)=O OHJMTUPIZMNBFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002981 blocking agent Substances 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- XZKRXPZXQLARHH-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-dienylbenzene Chemical compound C=CC=CC1=CC=CC=C1 XZKRXPZXQLARHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTIXVVCRANICNC-UHFFFAOYSA-N butane-1,1-diol;hexanedioic acid Chemical compound CCCC(O)O.OC(=O)CCCCC(O)=O PTIXVVCRANICNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMRWNKZVCUKKSR-UHFFFAOYSA-N butane-1,2-diol Chemical compound CCC(O)CO BMRWNKZVCUKKSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWBTYPJTUOEWEK-UHFFFAOYSA-N butane-2,3-diol Chemical compound CC(O)C(C)O OWBTYPJTUOEWEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001506 calcium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910000389 calcium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011010 calcium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N carbon carbon Chemical compound C.C CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 229910052570 clay Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001246 colloidal dispersion Methods 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCCCC1 KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCSLWNXVIDKVGD-UHFFFAOYSA-N deca-3,7-diene Chemical compound CCC=CCCC=CCC LCSLWNXVIDKVGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006837 decompression Effects 0.000 description 1
- GTBGXKPAKVYEKJ-UHFFFAOYSA-N decyl 2-methylprop-2-enoate Chemical group CCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C GTBGXKPAKVYEKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWLDHHJLVGRRHD-UHFFFAOYSA-N decyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCOC(=O)C=C FWLDHHJLVGRRHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 229920000359 diblock copolymer Polymers 0.000 description 1
- IEPRKVQEAMIZSS-AATRIKPKSA-N diethyl fumarate Chemical compound CCOC(=O)\C=C\C(=O)OCC IEPRKVQEAMIZSS-AATRIKPKSA-N 0.000 description 1
- 125000004177 diethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- LDCRTTXIJACKKU-ONEGZZNKSA-N dimethyl fumarate Chemical compound COC(=O)\C=C\C(=O)OC LDCRTTXIJACKKU-ONEGZZNKSA-N 0.000 description 1
- 229960004419 dimethyl fumarate Drugs 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- LDCRTTXIJACKKU-ARJAWSKDSA-N dimethyl maleate Chemical compound COC(=O)\C=C/C(=O)OC LDCRTTXIJACKKU-ARJAWSKDSA-N 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- ROORDVPLFPIABK-UHFFFAOYSA-N diphenyl carbonate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC(=O)OC1=CC=CC=C1 ROORDVPLFPIABK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZLBDYMWFAHSOQ-UHFFFAOYSA-N diphenyliodanium Chemical compound C=1C=CC=CC=1[I+]C1=CC=CC=C1 OZLBDYMWFAHSOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- GRGBENNNGZARRZ-UHFFFAOYSA-N dodecanedihydrazide Chemical compound NNC(=O)CCCCCCCCCCC(=O)NN GRGBENNNGZARRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000002296 dynamic light scattering Methods 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 229920006332 epoxy adhesive Polymers 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- FZWBABZIGXEXES-UHFFFAOYSA-N ethane-1,2-diol;hexanedioic acid Chemical compound OCCO.OC(=O)CCCCC(O)=O FZWBABZIGXEXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBTWDPVRUJHZSW-UHFFFAOYSA-N ethane-1,2-diol;hexanedioic acid;propane-1,2-diol Chemical compound OCCO.CC(O)CO.OC(=O)CCCCC(O)=O SBTWDPVRUJHZSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDLDYFCCDKENPD-UHFFFAOYSA-N ethenylcyclohexane Chemical compound C=CC1CCCCC1 LDLDYFCCDKENPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960005082 etohexadiol Drugs 0.000 description 1
- 238000007765 extrusion coating Methods 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- XLYMOEINVGRTEX-UHFFFAOYSA-N fumaric acid monoethyl ester Natural products CCOC(=O)C=CC(O)=O XLYMOEINVGRTEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003827 glycol group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- 239000012760 heat stabilizer Substances 0.000 description 1
- AHAREKHAZNPPMI-UHFFFAOYSA-N hexa-1,3-diene Chemical compound CCC=CC=C AHAREKHAZNPPMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHMBHFSEKCCCBW-UHFFFAOYSA-N hexane-2,5-diol Chemical compound CC(O)CCC(C)O OHMBHFSEKCCCBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPEOOEIAIFABQP-UHFFFAOYSA-N hexanedioic acid;hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO.OC(=O)CCCCC(O)=O WPEOOEIAIFABQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNCPIMCVTKXXOY-UHFFFAOYSA-N hexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical group CCCCCCOC(=O)C(C)=C LNCPIMCVTKXXOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNMQRPPRQDGUDR-UHFFFAOYSA-N hexyl prop-2-enoate Chemical group CCCCCCOC(=O)C=C LNMQRPPRQDGUDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009775 high-speed stirring Methods 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 description 1
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-L isophthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=CC(C([O-])=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 150000002596 lactones Chemical group 0.000 description 1
- 238000007561 laser diffraction method Methods 0.000 description 1
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 1
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 1
- PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N lauryl acrylate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C=C PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- FSPSELPMWGWDRY-UHFFFAOYSA-N m-Methylacetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC(C)=C1 FSPSELPMWGWDRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N magnesium orthosilicate Chemical compound [Mg+2].[Mg+2].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000391 magnesium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052919 magnesium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019792 magnesium silicate Nutrition 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930187760 maximol Natural products 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005641 methacryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004184 methoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N methyl diethanolamine Chemical compound OCCN(C)CCO CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002762 monocarboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920006030 multiblock copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229940088644 n,n-dimethylacrylamide Drugs 0.000 description 1
- YLGYACDQVQQZSW-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylprop-2-enamide Chemical compound CN(C)C(=O)C=C YLGYACDQVQQZSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDQKICIMIPUDBL-UHFFFAOYSA-N n-[2-(dimethylamino)ethyl]prop-2-enamide Chemical compound CN(C)CCNC(=O)C=C WDQKICIMIPUDBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002560 nitrile group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- OTLDLKLSNZMTTA-UHFFFAOYSA-N octahydro-1h-4,7-methanoindene-1,5-diyldimethanol Chemical compound C1C2C3C(CO)CCC3C1C(CO)C2 OTLDLKLSNZMTTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZIDBRBFGPQCRY-UHFFFAOYSA-N octyl 2-methylprop-2-enoate Chemical group CCCCCCCCOC(=O)C(C)=C NZIDBRBFGPQCRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ANISOHQJBAQUQP-UHFFFAOYSA-N octyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)C=C ANISOHQJBAQUQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000002918 oxazolines Chemical class 0.000 description 1
- 150000002921 oxetanes Chemical class 0.000 description 1
- 125000003566 oxetanyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N para-ethylbenzaldehyde Natural products CCC1=CC=C(C=O)C=C1 QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N pentamethylene Natural products C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N pentene Chemical compound CCCC=C YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 229920000747 poly(lactic acid) Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 1
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000223 polyglycerol Polymers 0.000 description 1
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920000131 polyvinylidene Polymers 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOQSSGDQNWEFSX-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)OC(=O)C(C)=C BOQSSGDQNWEFSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYBIZMNPXTXVMV-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)OC(=O)C=C LYBIZMNPXTXVMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=C NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N propyl prop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C=C PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 238000007363 ring formation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007151 ring opening polymerisation reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 1
- 229940116351 sebacate Drugs 0.000 description 1
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-L sebacate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)CCCCCCCCC([O-])=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-L succinate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)CCC([O-])=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L terephthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=C(C([O-])=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- SJMYWORNLPSJQO-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical group CC(=C)C(=O)OC(C)(C)C SJMYWORNLPSJQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBFJAVXCNXDMBH-UHFFFAOYSA-N tetracyclo[6.2.1.1(3,6).0(2,7)]dodec-4-ene Chemical compound C1C(C23)C=CC1C3C1CC2CC1 XBFJAVXCNXDMBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000101 thioether group Chemical group 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000036962 time dependent Effects 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005809 transesterification reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- 229920000428 triblock copolymer Polymers 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H tricalcium bis(phosphate) Chemical compound [Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N triphenylamine Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N tripropylamine Chemical compound CCCN(CCC)CCC YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVWRKZWQTYIKIY-UHFFFAOYSA-N urea-1-carboxylic acid Chemical compound NC(=O)NC(O)=O AVWRKZWQTYIKIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
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Abstract
本發明係一種長條薄膜,其係至少在一方的面,具有藉由連續的線狀凹凸部構成的複數滾花部的長條薄膜,複數上述滾花部,排列在上述長條薄膜的長邊方向,將上述滾花部從上述長條薄膜的厚度方向觀看的平面形狀,在上述滾花部的每1個平面形狀,具有10個以上曲率半徑為0.3mm以下且角度為100°以下,或曲率半徑為0.2mm以下且角度為120°以下的角部,在上述滾花部的每1個平面形狀,具有18個以上的直線狀的直線部。
Description
本發明關於形成滾花部的長條薄膜。
先前,光學薄膜等的薄膜,從實現高生產性的觀點,以長的長條薄膜製造。然而,由於薄膜一般很薄,有操作性差的情形。因此,從先前,有提案在薄膜的寬幅方向的端部形成凹凸部,提升薄膜的操作性(專利文獻1及2)。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2011-143710號公報
[專利文獻2]日本特開2009-040964號公報
在通常的製造時,長條薄膜係以其長邊方向邊連續輸送邊施以各種處理之後,以捲筒狀捲取回收。但是,如專利文獻1及2的先前技術,薄膜的操作性的改善效果並不是很滿意。具體而言,長條薄膜的輸送性及捲繞性的改善並不充分。在此,所謂「輸送性」係指可抑制長條薄膜在輸送時的蛇行的性質,蛇行量越小越佳。此外,所謂蛇行量,係指輸送的
長條薄膜,在該長條薄膜的寬幅方向的偏移量。再者,所謂「捲繞性」,係指將長條薄膜捲取成捲筒狀時,可抑制向長條薄膜的寬幅方向捲偏的性質,捲偏量越小越佳。
本發明係有鑑於上述課題而創案,以提供輸送性及捲繞性優良的長條薄膜為目標。
本發明者們,為解決上述課題專心研究的結果,發現藉由使滾花部在由厚度方向所視的平面形狀,增加特定的角部及直線部的數量,可抑制長條薄膜的蛇行及捲偏,而完成本發明。
即本發明如下所述。
[1]一種長條薄膜,其係至少在一方的面,具有藉由連續的線狀凹凸部構成的複數滾花部的長條薄膜,複數上述滾花部,排列在上述長條薄膜的長邊方向,將上述滾花部從上述長條薄膜的厚度方向觀看的平面形狀,在上述滾花部的每1個平面形狀,具有10個以上曲率半徑為0.3mm以下且角度為100°以下,或曲率半徑為0.2mm以下且角度為120°以下的角部,在上述滾花部的每1個平面形狀,具有18個以上的直線狀的直線部。
[2]如[1]所述的長條薄膜,其中在上述長條薄膜的寬幅方向的每1個上述滾花部的長度LTD,與在上述長條薄膜的長邊方向的每1個上述滾花部的長度LMD之比LTD/LMD,係
LTD/LMD≧2。
[3]如[1]或[2]所述的長條薄膜,其中上述長條薄膜,具備由環狀烯烴樹脂或(甲基)丙烯酸樹脂所組成的基材層。
[4]如[3]所述的長條薄膜,其中上述長條薄膜,具備:上述基材層;及設於上述基材層的上述滾花部側的功能層,上述功能層的厚度,係上述基材層的厚度的10%以下。
根據本發明,可提供輸送性及捲繞性優良的長條薄膜。
1~4‧‧‧滾花部
100‧‧‧長條薄膜
100U‧‧‧長條薄膜的面
110‧‧‧滾花部
111‧‧‧角部
112‧‧‧直線部
113‧‧‧非直線部
120‧‧‧凹凸部
121‧‧‧凹部分
122‧‧‧凸部
圖1係示意表示關於本發明的一實施形態的長條薄膜,由該長條薄膜的厚度方向觀看的情形的平面圖。
圖2係示意表示關於本發明的一實施形態的長條薄膜具有的滾花部之一,由該上述長條薄膜的厚度方向觀看的平面形狀的平面圖。
圖3係放大示意表示關於本發明的一實施形態的長條薄膜具有的滾花部的角部之一的平面圖。
圖4係示意表示用於形成角部所照射的雷射光的照射點P的移動的情形的平面圖。
圖5係示意表示用於形成直線部照射的雷射光的照射點P的移動的情形的平面圖。
圖6係示意表示包含在關於本發明的一實施形態的長條薄膜所具有的滾花部的線狀的凹凸部,以垂直於該凹凸部的延在
方向裁切的剖面的剖面圖。
圖7係示意表示以本發明的實施例1形成的滾花部的平面形狀的平面圖。
圖8係示意表示以本發明的實施例2形成的滾花部的平面形狀的平面圖。
圖9係示意表示以本發明的實施例3形成的滾花部的平面形狀的平面圖。
圖10係示意表示以比較例1形成的滾花部的平面形狀的平面圖。
以下,顯示實施形態及例示物詳細說明關於本發明,惟本發明並非限定於以下所示實施形態及例示物,可在不脫離本發明的申請範圍及其均等的範圍的範圍任意實施。
在以下的說明,所謂「長條」的薄膜,係指對寬度,具有5倍以上的長度的薄膜,具有10倍或其以上的長度為佳,具體係指可捲取成捲筒狀保管或搬運的程度的長度的薄膜。長條的薄膜的長度的上限,並無特別限制,例如,可為對寬度的10萬倍以下。
在以下的說明,所謂形成在薄膜的滾花部的平面形狀,若無特別提及,係表示由上述薄膜的厚度方向觀看的滾花部的形狀。
在以下的說明,若無特別提及,所謂「(甲基)丙烯酸」係指包含「丙烯酸」、「甲基丙烯酸」及該等的組合的用語,「(甲基)丙烯酸酯」係指包含「丙烯酸酯」、「甲基丙烯
酸酯」及該等的組合的用語。
[1.長條薄膜的實施形態]
圖1係示意表示關於本發明的一實施形態的長條薄膜100,由該長條薄膜100的厚度方向觀看的情形的平面圖。
如圖1所示長條薄膜100係長條的薄膜,至少在一方的面100U,具有複數滾花部110。該等複數滾花部110,係排列設在長條薄膜100的長邊方向MD。此外,滾花部110,通常係設於長條薄膜100的寬幅方向TD的至少一方的端部,以設在兩方的端部為佳。由厚度方向觀看各滾花部110的平面形狀,可為不同,在本實施形態,均係表示滾花部110的平面形狀相同之例。
圖2係示意表示關於本發明的一實施形態的長條薄膜100所具有的滾花部110之一,由該上述長條薄膜100的厚度方向觀看的平面形狀的平面圖。
如圖2所示,滾花部110,係由連續的線狀凹凸部120構成。該等凹凸部120,係藉由雷射光的照射所形成。因此,凹凸部120,係以雷射光的照射點所移動的痕跡,通常係以一筆畫狀的連續線所形成。然後,滾花部110,具有藉由如此的線狀的凹凸部120所描畫的特定的平面形狀。
在本實施形態,由長條薄膜100的厚度方向觀看滾花部110的平面形狀,滿足下述要件(A)及(B)。
(A)滾花部110的平面形狀,在上述滾花部110的每1個平面形狀,具有10個以上(a)曲率半徑為0.3mm以下且角度為100°以下,或(b)曲率半徑為0.2mm以下且角度為120°以下的角部111。
(B)滾花部110的平面形狀,在上述滾花部的每1個平面
形狀,具有18個以上的直線狀的直線部112。
藉由具有滿足該等要件(A)及(B)的滾花部110,長條薄膜100具有良好的輸送性及捲繞性。
以下,說明上述要件(A)。
滾花部110的平面形狀,通常,包含藉由直線狀延在的凹凸部120所構成的直線部112;及藉由非直線狀延在的凹凸部120所構成的非直線部113。非直線部113之中,將(a)曲率半徑為0.3mm以下且角度為100°以下,或(b)曲率半徑為0.2mm以下且角度為120°以下的部分,稱為角部111。
圖3係放大示意表示關於本發明的一實施形態的長條薄膜100所具有的滾花部110的角部111之一的平面圖。
上述角部111,以巨觀來看,係呈尖的角,但以微觀來看,通常,帶有如圖3所示的圓度。此時,上述圓度部分的曲率半徑R,係該角部111的曲率半徑。此外,以巨觀來看時,將在角部111交叉的2個直線部112延長,而延長的線112a及112b交叉的角度θ,係上述角部111的角度。
關於本實施形態的滾花部110,係如圖2所示,將上述角部111,在每1個滾花部110的平面形狀,通常具有10個以上,以12個以上為佳,以15個以上更佳。如此的藉由使滾花部110具有很多的角部111,可改善長條薄膜100的輸送性及捲繞性。每1個滾花部110的平面形狀的角部111的數量上限,並無特別限定,在容易進行形成滾花部110的觀點,以40個以下為佳,以30個以下更佳,以25個以下特別佳。
在此,說明可藉由具有多數的角部111的滾花部
110,改善長條薄膜10的輸送性及捲繞性的原理。惟,本發明的技術性範圍,並非受限於下述原理的說明。
圖4係示意表示用於形成角部111所照射的雷射光的照射點P的移動的情形的平面圖。此外,圖5係示意表示用於形成直線部112所照射的雷射光的照射點P的移動的情形的平面圖。在圖4及圖5,照射點P係表示向箭頭A1及A2所示方向移動的情形。
形成線狀連續的凹凸部120時,如圖4及圖5所示,邊移動雷射光的照射點P,邊對薄膜照射雷射光。形成直線部112時,照射點P係如圖5所示以直線狀移動。另一方面,形成角部111時,照射點P係如圖4所示以陡峭的角度曲折移動。使照射點P陡峭地曲折移動時,在其移動方向的內側部分,由於雷射光的照射時間會變長,故照射的雷射光的能量密度會變大。因此,在角部111,凹凸部120的高度H(參照圖6)會變高。藉由如此的凹凸部120的高度H較高,在角部111,使長條薄膜100與其他的構件接觸時,可使其接觸壓較大。
因此,輸送長條薄膜100時,在上述角部111,可使輸送輥輪與長條薄膜100的接觸壓變高。因此,使滾花部110具有很多角部111,則可使輸送輥輪對長條薄膜100的抓力(摩擦力)變大,故可抑制蛇行而改善輸送性。
此外,將長條薄膜100捲繞時,在上述角部111,可使捲疊的長條薄膜100相互的接觸壓變高。因此,使滾花部110具有很多角部111,則可使捲疊的長條薄膜100相互的抓力變大,故可抑制捲偏而改善捲繞性。
接著,說明上述要件(B)。
滾花部110的平面形狀,係如圖2所示,在滾花部110的每1個平面形狀,通常具有,18個以上的直線狀的直線部112,以25個以上為佳,以30個以上更佳。如此地藉由使滾花部110具有很多直線部112,可改善長條薄膜100的輸送性及捲繞性。滾花部110的每1個平面形狀的直線部112的數量的上限,並無特別限制,由容易進行滾花部110的形成的觀點,以45個以下為佳,以40個以下更佳,以35個以下特別佳。
在此,說明藉由具有很多直線部112的滾花部110,可改善長條薄膜10的輸送性及捲繞性的原理。惟,本發明的技術性範圍,並非受限於下述原理的說明。
直線部112,係藉由凹凸部120構成。因此,在直線部112,雖沒有角部111那麼大,但可使長條薄膜100與其他的構件接觸時,使該接觸壓變大。因此,加上角部111,藉由具有很多直線部112的滾花部110,長條薄膜100,藉由直線部112的作用,亦可使輸送輥輪與長條薄膜的接觸壓,及捲疊的長條薄膜100相互的接觸壓變高。然後,藉由如上所述地,使接觸壓變高,可使輸送輥輪隊長條薄膜100的抓力,以及,捲疊的長條薄膜100相互的抓力更大,故可有效地改善輸送性及捲繞性。
如圖2所示,直線部112每1條的長度L112,以0.1mm以上為佳,以0.2mm以上更佳,以0.3mm以上特別佳,以5mm以下為佳,以4mm以下更佳,以3mm以下特別佳。
在長條薄膜100的寬幅方向TD的每1個滾花部110的長度LTD,與長條薄膜100的長邊方向的1個滾花部110
的長度LMD的比LTD/LMD,落於既定範圍為佳。具體而言,上述比LTD/LMD,以2以上為佳,以2.5以上更佳,以3以上特別佳。藉由使比LTD/LMD落於上述範圍,可使形狀不會崩塌地形成滾花部110。上述比LTD/LMD的上限,並無特別限制,以15以下為佳,以13以下更佳,以10以下特別佳。
滾花部110的長度LTD及LMD,以分別使上述比LTD/LMD落於上述範圍地適宜設定為佳。具體而言,在長條薄膜100的寬幅方向TD的每1個滾花部110的長度LTD,以3mm以上為佳,以5mm以上更佳,以7mm以上特別佳,以20mm以下為佳,以17mm以下更佳,以15mm以下特別佳。此外,在長條薄膜100的長邊方向的每1個滾花部110的長度LMD,以0.1mm以上為佳,以0.5mm以上更佳,以1mm以上特別佳,以20mm以下為佳,以15mm以下更佳,以10mm以下特別佳。
如圖1所示,滾花部110,通常係以既定的間距,排列設於長條薄膜100的長邊方向MD。此時,滾花部110的間距,以0.5mm以上為佳,以1mm以上更佳,以1.5mm以上特別佳,以10mm以下為佳,以7mm以下更佳,以5mm以下特別佳。此外滾花部110的間距,可為一定,亦可不同。
圖6係示意表示包含在關於本發明的一實施形態的長條薄膜100所具有的滾花部110的線狀的凹凸部120,以垂直於該凹凸部120的延在方向裁切的剖面的剖面圖。
如圖6所示構成上述滾花部110的凹凸部120,具備:凹部121;及設於凹部121兩側的凸部122。通常,凹部121,係相當於樹脂,藉由雷射光的照射的熱熔融或燒蝕而去除的部
分,此外,凸部122係相當於樹脂,藉由上述雷射光的照射,被加熱流動化而鼓起的部分。藉由凸部122,較周圍的長條薄膜100的面100U突出,在該凹凸部120,長條薄膜100的實質性的厚度變得較厚。因此,如上所述,長條薄膜100的輸送性及捲繞性等的操作性變得良好。
凹凸部120的高度H,可為均一,亦可為不均一。通常,在滾花部110的角部111與直線部112,凹凸部120的高度H不同。此外,在角部111,內側的凸部122與外側的凸部122,其高度H可為不同。
在滾花部110的角部111的凹凸部120的平均高度,以1μm以上為佳,以2μm以上更佳,以3μm以上特別佳,以25μm以下為佳,以20μm以下更佳,以15μm以下特別佳。藉由使角部111的凹凸部120的平均高度,落於上述範圍的下限值以上,可使長條薄膜100在捲繞時,抑制捲偏。此外,藉由使角部111的凹凸部120的平均高度,落於上述範圍的上限值以下,可抑制因捲取的捲筒的捲徑,在形成滾花部110的部分(例如,捲筒的軸方向的端部)與其以外的部分(例如,捲筒的軸方向的中央部)形成落差,而使長條薄膜100變形。
在滾花部110的直線部112的凹凸部120的平均高度,以0.5μm以上為佳,以1μm以上更佳,以1.5μm以上特別佳,以25μm以下為佳,以20μm以下更佳,以15μm以下特別佳。藉由使直線部112的凹凸部120的平均高度,落於上述範圍的下限值以上,可使長條薄膜100在捲繞時,抑制捲偏。此外,藉由使直線部112的凹凸部120的平均高度,落於上述
範圍的上限值以下,可使形狀不會崩塌地形成滾花部110。
凹凸部120的寬幅W,以0.1μm以上為佳,以0.15μm以上更佳,以0.2μm以上特別佳,以1μm以下為佳,以0.75μm以下更佳,以0.5μm以下特別佳。藉由使凹凸部120的寬幅W,落於上述範圍的下限值以上,可使長條薄膜100在捲繞時,抑制捲偏。此外,藉由使凹凸部120的寬幅W,落於上述範圍的上限值以下,可使形狀不會崩塌地形成滾花部110。
長條薄膜100的寬幅及厚度,並無特別限制,可採用按照使用目的的寬度及厚度。長條薄膜100的寬度,以700mm以上為佳,以1000mm以上更佳,進一步以1200mm以上為佳,以2500mm以下為佳,以2200mm以下更佳,進一步以2000mm以下為佳。此外,長條薄膜100的厚度,以1μm以上為佳,以5μm以上更佳,進一步以20μm以上為佳,以1000μm以下為佳,以300μm以下更佳,進一步以150μm以下為佳。
長條薄膜100,在使用於作為光學薄膜時,在沒有滾花部110的區域,具有高的透明性為佳。具體而言,在上述區域的長條薄膜100的全光線穿透率以85%~100%為佳,以92%~100%更佳。此外,長條薄膜100在上述區域的霧度,以0%~5%為佳,以0%~3%更佳,以0%~2%特別佳。在此,全光線穿透率,係遵照JIS K7105,使用日本電色工業公司製「濁度計NDH-2000」測定。此外,霧度可使用日本電色工業公司製的濁度計「NDH-2000」測定。
上述長條薄膜100,可藉由包含對形成滾花部110之前的薄膜,照射雷射光的步驟的製造方法而製造。以下,有
時將形成滾花部110之前的薄膜適宜地稱為「處理前薄膜」。
雷射光的照射,通常,係將處理前薄膜向該當處理前薄膜的長邊方向連續輸送,而進行。對處理前薄膜的至少一方的面,照射雷射光,則在照射雷射光之處,發生局部的熱熔融或燒蝕。因此,在照射雷射光之處,可在處理前薄膜產生作為凹凸部120的凸狀的變形及凹狀的變形。
使用如此的雷射光的滾花部110的形成,由於無需機械性的力量,故在滾花部110不容易殘留殘留應力。因此,容易抑制以長條薄膜100的滾花部110作為起點的破斷的發生。此外,即使是使用厚度較薄的處理前薄膜之情形,亦容易抑制薄膜在形成滾花部110時的破斷。再者,可容易地抑制,因滾花部110的形成的異物的出現。
在上述雷射光的照射時,係將雷射光照到處理前薄膜的照射點P,以描繪欲形成的滾花部110的平面形狀地移動。藉此,在雷射光的照射點P所移動的痕跡形成凹凸部120,故可形成具有所期望的平面形狀的滾花部110。
使雷射光的照射點P移動時、照射點P以將滾花部110的平面形狀、中途不讓線中斷地連續描畫為佳(一筆寫成)。由此一個滾花部110形成的期間,雷射光可持續照射。因此,能抑制滾花部110的形狀的變異,所以可以穩定的形成滾花部110。
雷射光的照射點P的移動速度,可在可形成所期望的滾花部110的範圍任意設定。具體的移動速度,以500mm/s以上為佳,以1000mm/s以上更佳,以1500mm/s以上特別佳,以10000mm/s以下為佳,以8000mm/s以下更佳,以6000mm/s
以下特別佳。
作為雷射光的照射裝置的雷射裝置,可舉例如ArF準分子雷射裝置、KrF準分子雷射裝置、XeC1準分子雷射裝置、YAG雷射裝置(特別是第3諧波或第4諧波),YLF或YVO4的固體雷射裝置(特別是第3諧波或第4諧波)、Ti:S雷射裝置、半導體雷射裝置、光纖維雷射裝置、及二氧化碳雷射裝置。該等雷射裝置之中,從相對較廉價,且可有效地得到適於薄膜加工的輸出的觀點,以二氧化碳雷射裝置為佳。
雷射光的輸出,以1W以上為佳,以5W以上更佳,進一步以15W以上為佳,以120W以下為佳,以100W以下更佳,進一步以80W以下為佳,進一步以70W以下更佳。藉由使雷射光的輸出落於上述範圍的下限值以上,可抑制雷射光的照射量不足,而可穩定地形成滾花部110。此外,藉由使雷射光的輸出落於上述範圍的上限值以下,可抑制薄膜發生貫通孔。
[2.長條薄膜的組成]
上述長條薄膜,通常,使用樹脂薄膜。該樹脂薄膜可為延伸薄膜,亦可為未延伸薄膜。此外,上述樹脂薄膜,可為僅具有基材層的單層薄膜,基材層亦可進一步組合成具有任意層的複層薄膜。
基材層,通常使用由樹脂組成的層。如此的樹脂,可按照長條薄膜的用途使用各式各樣的樹脂,其中,以環狀烯烴樹脂或(甲基)丙烯酸樹脂為佳。具備由環狀烯烴樹脂或(甲基)丙烯酸樹脂組成的基材層的薄膜,一般在捲取時容易捲入空氣,因此,容易發生捲偏。對此,形成上述滾花部,可在容易
發生如此的捲偏的薄膜,有效地抑制捲偏。
環狀烯烴樹脂,係包含環狀烯烴聚合物的樹脂。環狀烯烴聚合物,在機械特性、耐熱性、透明性、低吸濕性、尺寸穩定性及輕量性優良。
環狀烯烴聚合物,係其聚合物的結構單位具有脂環結構的聚合物。環狀烯烴聚合物,可為主鏈具有脂環結構的聚合物、側鏈具有脂環結構的聚合物、主鏈及側鏈具有脂環結構的聚合物、及該等的2以上的任意比例的混合物。其中,由機械性強度及耐熱性的觀點,以主鏈具有脂環結構的聚合物為佳。
脂環結構之例,可舉飽和脂環烴(環烷)結構及不飽和脂環烴(環烯、環炔)結構。其中,由機械強度及耐熱性的觀點,以環烷結構及環烯結構為佳,其中以環烷結構特別佳。
構成脂環結構的碳原子數,在一個脂環結構,以4個以上為佳,以5個以上更佳,以30個以下為佳,以20個以下更佳,以15個以下特別佳。構成脂環結構的碳原子數在此範圍,可使樹脂的機械強度、耐熱性及成形性高度地平衡。
在環狀烯烴聚合物,具有脂環結構的結構單位的比例,以55重量%以上為佳,以70重量%以上更佳,以90重量%以上特別佳。在環狀烯烴聚合物的具有脂環結構的結構單位的比例在此範圍,可使透明性及耐熱性良好。
環狀烯烴聚合物,可舉例如降莰烯系聚合物、單環的環狀烯烴系聚合物、環狀共軛二烯系聚合物、乙烯基脂環烴系聚合物、及該等的氫化物等。該等之中,降莰烯系聚合物,成形性良好而特別合適。
降莰烯系聚合物之例,可舉具有降莰烯結構的單體的開環聚合物及其氫化物;具有降莰烯結構的單體的加成共聚物及其氫化物。此外,具有降莰烯結構的單體的開環聚合物之例,可舉具有降莰烯結構的1種單體的開環單獨聚合物、具有降莰烯結構的2種以上的單體的開環共聚物、以及具有降莰烯結構的單體及可與此共聚合的其他的單體的開環共聚物。再者,具有降莰烯結構的單體的加成共聚物之例,可舉具有降莰烯結構的1種單體的加成單獨聚合物、具有降莰烯結構的2種以上的單體的加成共聚物、以及具有降莰烯結構的單體及可與此共聚合的其他的單體的加成共聚物。該等之中,具有降莰烯結構的單體的開環聚合物的氫化物,由成形性、耐熱性、低吸濕性、尺寸穩定性、輕量性等的觀點特別合適。
具有降莰烯結構的單體之例,可舉雙環[2.2.1]庚-2-烯(慣用名:降莰烯)、三環[4.3.0.12,5]癸-3,7-二烯(慣用名:二環戊二烯)、7,8-苯并三環[4.3.0.12,5]癸-3,7-二烯(慣用名:羥甲基四氫茀)、四環[4.4.0.12,5.17,10]十二碳-3-烯(慣用名:四環十二碳烯)、及該等化合物的衍生物(例如,在環具有取代基)。在此,取代基之例,可舉烷基、亞烷基、及極性基。此外,該等取代基,亦可以相同或相異的複數個鍵結成環。具有降莰烯結構的單體,可以1種單獨使用,亦可以任意比例組合2種以上使用。
極性基之例,可舉雜原子及具有雜原子的原子團。雜原子之例,可舉氧原子、氮原子、硫原子、矽原子、及鹵素原子。極性基的具體例,可舉羧基、羰基氧羰基、環氧基、羥基、氧基、酯基、矽醇基、矽基、胺基、醯胺基、醯亞胺基、
腈基、及碸基。
可與具有降莰烯結構的單體開環共聚合的單體之例,可舉環己烯、環庚烯、環辛烯等的單環狀烯烴類及其衍生物;環己二烯、環庚二烯等的環狀共軛二烯及其衍生物。可與具有降莰烯結構的單體開環共聚合的單體,可以1種單獨使用,亦可以任意比例組合2種以上使用。
具有降莰烯結構的單體的開環聚合物,可例如,將單體在開環聚合觸媒的存在下聚合或共聚合而製造。
可與具有降莰烯結構的單體加成共聚合的單體之例,可舉乙烯、丙烯、1-丁烯等的碳原子2~20的α-烯烴及該等的衍生物;環丁烯、環戊烯、環己烯等的環烯烴及該等的衍生物;以及1,4-己二烯、4-甲基-1,4-己二烯、5-甲基-1,4-己二烯等的非共軛二烯。該等之中,以α-烯烴為佳,以乙烯更佳。此外,可與具有降莰烯結構的單體加成共聚合的單體,可以1種單獨使用,亦可以任意比例組合2種以上使用。
具有降莰烯結構的單體的加成共聚物,可例如,將單體在加聚作用觸媒的存在下聚合或共聚合而製造。
上述開環聚合物及加成共聚物的氫添加劑,可例如,在該等開環聚合物及加成共聚物的溶液,以包含鎳、鈀等的過渡金屬的加氫觸媒的存在下,將碳-碳不飽和鍵結,較佳的是加氫90%以上而製造。
降莰烯系聚合物之中,結構單位,X:雙環[3.3.0]辛-2,4-二基-乙烯結構,與Y:三環[4.3.0.12,5]癸-7,9-二基-乙烯結構,該等結構單位的量,相對於降莰烯系聚合物的結構單
位全體為90重量%以上,且X的比例與Y的比例之比,以X:Y的重量比,以100:0~40:60為佳。藉由使用如此的聚合物,可使包含該降莰烯系聚合物的薄膜,長期沒有尺寸變化,光學特性的穩定性優良。
單環的環狀烯烴系聚合物之例,可舉環己烯、環庚烯、環辛烯等的具有單環的環狀烯烴系單體的加成共聚物。
環狀共軛二烯烴系聚合物之例,可舉將1,3-丁二烯、異戊二烯、氯丁二烯等的共軛二烯烴系單體的加成共聚物環化反應而得的聚合物;環戊二烯、環己二烯等的環狀共軛二烯烴系單體的1,2-或1,4-加成共聚物;及該等的氫化物。
乙烯基脂環烴聚合物,可舉例如乙烯基環己烯、乙烯基環己烷等的乙烯基脂環烴系單體的聚合物及其氫化物;將包含在由苯乙烯、α-甲基苯乙烯等的乙烯基芳香烴系單體聚合而成的聚合物中的芳香環部分氫化而成的氫化物;乙烯基脂環烴系單體,或乙烯基芳香烴系單體,與可與該等乙烯基芳香烴系單體共聚合的其他的單體的隨機共聚物或嵌段共聚物等的共聚物的芳香環的氫化物;等。上述嵌段共聚物,可舉例如二嵌段共聚物、三嵌段共聚物或其以上的多重嵌段共聚物、以及傾斜嵌段共聚物等。
環狀烯烴聚合物的重量平均分子量(Mw),以10,000以上為佳,以15,000以上更佳,以20,000以上特別佳,以100,000以下為佳,以80,000以下更佳,以50,000以下特別佳。重量平均分子量在如此的範圍時,樹脂的機械性強度及成型加工性高度地平衡而佳。在此,上述重量平均分子量,係
以使用環己烷作為溶劑的凝膠滲透層析測定的聚異戊二烯或聚苯乙烯換算的重量平均分子量。惟,在上述凝膠滲透層析,試料不溶於環己烷時,亦可使用甲苯作為溶劑。
環狀烯烴聚合物的分子量分佈(重量平均分子量(Mw)/數目平均分子量(Mn)),以1.2以上為佳,以1.5以上更佳,以1.8以上特別佳,以3.5以下為佳,以3.0以下更佳,以2.7以下特別佳。藉由使分子量分佈在上述範圍的下限值以上,可提升聚合物的生產率,而抑制製造成本。此外,藉由使之在上限值以下,可使低分子成分的量變小,故可抑制暴露在高溫時的衰減,而可提升薄膜的穩定性。
環狀烯烴聚合物的玻璃轉移溫度,以130℃以上為佳,以135℃以上更佳,以150℃以下為佳,以145℃以下更佳。藉由使玻璃轉移溫度在上述範圍的下限值以上,可使薄膜在高溫下的耐久性良好,藉由使玻璃轉移溫度在上述範圍的上限值以下,可容易地進行延伸處理。
環狀烯烴聚合物,光彈性係數的絕對值,以10×10-12Pa-1以下為佳,以7×10-12Pa-1以下更佳,4×10-12Pa-1以下特別佳。光彈性係數C,係以雙折射為△n,應力為σ時,以「C=△n/σ」表示之值。藉由使環狀烯烴聚合物的光彈性係數落於上述範圍,可使薄膜的面內延遲Re的變異較小。
環狀烯烴聚合物的飽和吸水率,以0.03重量%以下為佳,以0.02重量%以下更佳,以0.01重量%以下特別佳。飽和吸水率在上述範圍,則可使長條薄膜的面內延遲Re及厚度方向的延遲Rth的經時變化變小。此外,將長條薄膜使用於
作為偏光板保護薄膜製造偏光板及液晶顯示裝置時,可抑制該偏光板及液晶顯示裝置的惡化,可將液晶顯示裝置的顯示功能,長期持續穩定地保持在良好的狀態。
飽和吸水率,係將試驗片浸漬在一定溫度的水中一定時間所增加的質量,對浸漬前的試驗片的質量的百分率表示之值。通常,係浸漬在23℃的水中24小時而測定。在環狀烯烴聚合物的飽和吸水率,可例如,藉由減少環狀烯烴聚合物中的極性基的量,調節在上述範圍。使飽和吸水率更低的觀點,環狀烯烴聚合物,不具有極性基為佳。
在環狀烯烴樹脂的環狀烯烴聚合物的比例,以50重量%~100重量%為佳,以70重量%~100重量%更佳,以90重量%~100重量%特別佳。藉由使聚合物的比例在上述範圍,可得到充分的耐熱性及透明性。
環狀烯烴樹脂,只要不顯著地損及本發明的效果,亦可包含環狀烯烴聚合物以外的任意成分。舉任意的成分之例,則可舉顏料、染料等的著色劑;螢光增白劑;分散劑;熱穩定劑;光安定劑;紫外線吸收劑;帶電防止劑;氧化防止劑;滑劑。此外,該等可以1種單獨使用,亦可以任意比例組合2種以上使用。
(甲基)丙烯酸樹脂,係含有(甲基)丙烯酸聚合物的樹脂。(甲基)丙烯酸聚合物,係表示丙烯酸或丙烯酸衍生物的聚合物,可舉例如,丙烯酸、丙烯酸酯、丙烯醯胺、丙烯腈、甲基丙烯酸及甲基丙烯酸酯等的聚合物及共聚物。(甲基)丙烯酸聚合物,由於強度高而硬,可實現機械性強度高的薄膜。
(甲基)丙烯酸聚合物,以包含具有聚合(甲基)丙烯酸酯所得的結構的結構單位的聚合物為佳。(甲基)丙烯酸酯,可舉例如,(甲基)丙烯酸的烷基酯。其中,具有以(甲基)丙烯酸,與碳數1~15的烷醇或環烷醇衍生的結構的化合物為佳。進一步,具有以(甲基)丙烯酸,與碳數1~8的烷醇衍生的結構的化合物更佳。藉由使碳數如上所述般小,可使薄膜在破斷時的拉伸變小。
丙烯酸酯的具體例,可舉丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸正丙酯、丙烯酸異丙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸異丁酯、丙烯酸二級丁酯、丙烯酸三級丁酯、丙烯酸正己酯、丙烯酸環己酯、丙烯酸正辛酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸正癸酯、丙烯酸正十二酯等。
此外,甲基丙烯酸酯的具體例,可舉甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸正丙酯、甲基丙烯酸異丙酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸異丁酯、甲基丙烯酸二級丁酯、甲基丙烯酸三級丁酯、甲基丙烯酸正己酯、甲基丙烯酸正辛酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸正癸酯、甲基丙烯酸正十二酯等。
再者,上述的(甲基)丙烯酸酯,在不顯著地損及本發明的效果的範圍,亦可具有例如,羥基、鹵素原子等的取代基。具有如此的取代基的(甲基)丙烯酸酯之例,可舉丙烯酸2-羥基乙酯、丙烯酸2-羥基丙酯、丙烯酸4-羥基丁酯、甲基丙烯酸2-羥基乙酯、甲基丙烯酸2-羥基丙酯、甲基丙烯酸4-羥基丁酯、甲基丙烯酸3-氯-2-羥基丙酯、甲基丙烯酸縮水甘油酯等。
該等可以1種單獨使用,亦可以任意比例組合2種以上使用。
此外,(甲基)丙烯酸聚合物,可為僅為丙烯酸或丙烯酸衍生物的聚合物,亦可為丙烯酸或丙烯酸衍生物與可與該等共聚合的任意單體的共聚物。任意單體,可舉例如,上述的(甲基)丙烯酸酯以外的α、β-乙烯性不飽和羧酸酯單體、以及α、β-乙烯性不飽和羧酸單體、烯基芳香族單體、共軛二烯單體、非共軛二烯單體、羧酸不飽和醇酯,及烯烴單體等。該等可以1種單獨使用,亦可以任意比例組合2種以上使用。
(甲基)丙烯酸酯以外的α、β-乙烯性不飽和羧酸酯單體的具體例,可舉富馬酸二甲酯、富馬酸二乙酯、馬來酸二甲酯、馬來酸二乙酯、泰康酸二甲酯等。
α、β-乙烯性不飽和羧酸單體,可為單羧酸、多元羧酸、多元羧酸的部分酯及多元羧酸酐的任一。其具體例,可舉巴豆酸、馬來酸、富馬酸、伊康酸、馬來酸單乙酯、富馬酸單正丁酯、馬來酸酐、泰康酸酐等。
烯基芳香族單體的具體例,可舉苯乙烯、α-甲基苯乙烯、甲基α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯及二乙烯基苯等。
共軛二烯單體的具體例,可舉1,3-丁二烯、2-甲基-1,3-丁二烯、1,3-戊二烯、2,3-二甲基-1,3-丁二烯、2-氯-1,3-丁二烯、環戊二烯。
非共軛二烯單體的具體例,可舉1,4-己二烯、二環戊二烯、亞乙基降莰烯等。
羧酸不飽和醇酯單體的具體例,可舉醋酸乙烯酯。
烯烴單體的具體例,可舉乙烯、丙烯、丁烯、戊
烯等。
(甲基)丙烯酸聚合物包含任意單體時,具有聚合該(甲基)丙烯酸聚合物的任意單體而得的結構的結構單位的量,以50重量%以下為佳,以15重量%以下更佳,以10重量%以下特別佳。
該等丙烯酸聚合物之中,以聚甲基丙烯酸酯為佳,其中以聚甲基丙烯酸甲酯更佳。
(甲基)丙烯酸聚合物在(甲基)丙烯酸樹脂的比例,以50重量%~100重量%為佳,以70重量%~100重量%更佳,以90重量%~100重量%特別佳。藉由使聚合物的比例在上述範圍,可得充分的機械性強度。
(甲基)丙烯酸樹脂,只要不顯著地損及本發明的效果,可包含(甲基)丙烯酸聚合物以外的任意成分。舉任意成分之例,可舉與可包含環狀烯烴樹脂的任意成分同樣的例。此外,任意成分,可以1種單獨使用,亦可以任意比例組合2種以上使用。
上述基材層,可藉由將樹脂以適當的薄膜成形法成形而製造。薄膜成形法,可舉例如,澆鑄成形法、擠出成形法、膨脹成形法等。其中,以不使用溶劑的熔融擠出法,可有效地減低殘留揮發成分量,從地球環境及作業環境的觀點,及製造效率優良的觀點而言為佳。熔融擠出法,亦可採用使用模具的膨脹法,惟在生產性及厚度精度優良的點,以T模具法為佳。
使用具備2層以上的層的複層薄膜作為長條薄膜時,該複層薄膜,具備基材層及功能層為佳。功能層,可設於
基材層的一側,亦可設於兩側。其中,功能層設於基材層的滾花部側為佳,在功能層的表面設滾花部更佳。
作為如此的功能層,可舉例如,帶電防止層、硬塗層、密著防止層、易接著層等。
帶電防止層,係指具有小的表面電阻值的層。帶電防止層的具體的表面電阻值,以1.0×106Ω/□以上為佳,以1.0×107Ω/□以上更佳,以1.0×108Ω/□以上特別佳,以1.0×1010Ω/□以下為佳,以5.0×109Ω/□以下更佳,以1.0×109Ω/□以下特別佳。表面電阻值,可遵照JIS K6911,使用數位超絕緣/微少電流計(日置電氣公司製「DSM-8104」)測定。如此的帶電防止層,可例如,以包含有金屬氧化物粒子等的導電性粒子與聚合物的樹脂形成。
硬塗層,係指具有高硬度的層。將硬塗層的具體硬度以JIS鉛筆硬度表示,則以B以上為佳,以HB以上更佳,以H以上特別佳。在此,JIS鉛筆硬度,係遵照JIS K5600-5-4,將各種硬度的鉛筆以傾斜45°,由上施加500g重的負荷,刮拭層的表面,開始有傷痕的鉛筆的硬度。如此的硬塗層,可例如,以樹脂形成。
密著防止層,係指具有粗的表面,與其他的薄膜重疊時,可抑制薄膜之間的密著的層。如此的密著防止層,可例如,以包含聚合物及粒子的樹脂形成。
所謂易接著層,係指將該易接著層的表面與其他的構件黏貼時可發揮高接著性的層。如此的易接著層,可例如,以包含聚合物的樹脂形成。
上述功能層之中,以易接著層為佳。易接著層,
以包含水系樹脂的層為佳。所謂水系樹脂,係可調製成以水為媒體的溶液或分散液的樹脂。將包含水系樹脂的水溶液或分散液,塗佈於基材層的表面,乾燥,在基材層的表面,形成水系樹脂的層。水系樹脂,可舉例如,脲烷樹脂、聚氨酯樹脂、及各個樹脂的乳膠等,以水系脲烷樹脂為佳。
水系脲烷樹脂,包含聚氨酯,及按照需要的任意成分。
包含在水系脲烷樹脂中的聚氨酯,可舉例如(i)在1分子中平均含有2個以上的活性氫的成分與(ii)多價異氰酸酯成分反應而得的聚氨酯。
此外,包含在水系脲烷樹脂中的聚氨酯,可舉例如,將上述(i)成分及(ii)成分脲烷化反應而得的含有異氰酸酯基的預聚合物中和,使用鏈延長劑將鏈延長,加水作成分散體而製造的聚氨酯。在此,用於得到含有異氰酸酯基的預聚合物的(i)成分及(ii)成分的脲烷化反應,係在異氰酸酯基過剩的條件下,在對反應惰性而與水的親和性大的有機溶劑中進行。
在該等聚氨酯中,亦可含有酸結構(酸殘基)。
含有異氰酸酯基的預聚合物的鏈伸長方法,可採用習知的方法。可例如,使用水、水溶性多胺、二醇類等作為鏈伸長劑,使含有異氰酸酯基的預聚合物與鏈伸長劑,按照需要在觸媒的存在下反應。
上述(i)成分(即,在1分子中含有平均2個以上的活性氫的成分),以具有羥基性的活性氫為佳。如此的化合物的具體例,可舉多元醇化合物、聚醚多元醇、聚酯多元醇、聚
醚酯多元醇、聚碳酸酯多元醇等。
(1)多元醇化合物
多元醇化合物,可舉例如,乙二醇、丙二醇、二乙二醇、三乙二醇、1,2-丁二醇,1,3-丁二醇,2,3-丁二醇,1,4-丁二醇、1,5-戊二醇、新戊二醇、1,6-己二醇、2,5-己二醇、二丙二醇、2,2,4-三甲基-1,3-戊二醇、三環癸二甲醇,1,4-環己烷二甲醇、2,2-二甲基丙二醇,1,4-丁二醇等。
(2)聚醚多元醇
聚醚多元醇,可舉例如,上述多元醇化合物的環氧烷加成物;環氧烷與環醚(例如四氫呋喃等)的開環(共)聚合物;聚乙二醇、聚丙二醇、乙二醇-丙二醇的共聚物;二醇、聚四亞甲二醇、聚六亞甲二醇、聚辛亞甲二醇等的二醇類。
(3)聚酯多元醇
聚酯多元醇,可舉例如,將二羧酸或其酸酐,與多元醇化合物,在羥基過剩的條件中聚縮合而得。上述二羧酸,可舉例如己二酸、琥珀酸、癸二酸、戊二酸、馬來酸、富馬酸、鄰苯二甲酸等。此外,多元醇化合物,可舉例如,在上述(1)所舉的乙二醇、丙二醇,1,4-丁二醇,1,6-己二醇、辛亞甲二醇、新戊二醇等。聚酯多元醇,更具體,可舉例如,乙二醇-己二酸縮合物、丁二醇-己二酸縮合物、六亞甲二醇-己二酸縮合物、乙二醇-丙二醇-己二酸縮合物、或以二醇作為起始劑,使內脂開環聚合的聚內脂二醇等。
(4)聚醚酯多元醇
聚醚酯多元醇,可舉例如,將含有醚基的多元醇(例如,
上述(2)的聚醚多元醇或二乙二醇等),加入上述(3)所例示的二羧酸或其酸酐,使環氧烷反應形成之物等。此外,聚醚酯多元醇,可舉例如,將含有醚基的多元醇與其他的乙二醇的混合物,加入上述(3)所例示的二羧酸或其酸酐,使環氧烷反應形成之物等。聚醚酯多元醇,更具體,可舉例如,聚四亞甲二醇-己二酸縮合物等。
(5)聚碳酸酯多元醇
聚碳酸酯多元醇,可舉例如,以通式HO-R-(O-C(O)-O-R)x-OH(惟,式中,R係表示碳原子1~12的飽和脂肪酸多元醇的殘基。此外,x係表示分子的重覆單位的數量,通常為5~50的整數。)所示化合物等。該等飽和脂肪族多元醇與取代碳酸酯(例如,碳酸二乙酯、二苯基碳酸酯等),可藉由:以羥基過剩的條件反應的酯交換法;使上述飽和脂肪族多元醇與光氣反應的方法;使上述飽和脂肪族多元醇與光氣反應,按照需要,之後進一步使飽和脂肪族多元醇反應的方法而得。
如上述(1)至(5)所例示的化合物,可以1種單獨使用,亦可以任意比例組合2種以上使用。
與上述(i)成分反應的(ii)成分(即,多價異氰酸酯成分),可使用例如,在1分子中含有平均2個以上異氰酸酯基的脂肪族、脂環族或芳香族的化合物。
脂肪族二異氰酸酯化合物,以碳原子1~12的脂肪族二異氰酸酯為佳,可舉例如,六亞甲基二異氰酸酯、2,2,4-三甲基己烷二異氰酸酯、己烷二異氰酸酯(HDI)等。脂環式二異氰酸酯化合物,以碳原子數4~18的脂環式二異氰酸酯為
佳,可舉例如1,4-環己烷二異氰酸酯、甲基環己烯二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯(IPDI)、二環己基甲烷二異氰酸酯(HMDI)等。芳香族異氰酸酯,可舉例如甲苯二異氰酸酯、4,4'-二苯基甲烷二異氰酸酯、二甲苯二異氰酸酯等。
此外,水系脲烷樹脂中聚氨酯含有酸結構者(以下,適宜稱為「含有酸結構的水系脲烷樹脂」。),即使不使用界面活性劑,或界面活性劑的量少,亦可使之分散於水中。因此,根據含有酸結構的水系脲烷樹脂,可期待易接著層的耐水性變佳。將此稱為自我乳化型,係無需使用界面活性劑僅以分子的離子性,可使聚氨酯樹脂在水中分散穩定化的意思。使用如此的水系脲烷樹脂的易接著層,由於不需要界面活性劑,與環狀烯烴樹脂及丙烯酸系樹脂的接著性優良,且可維持很高的透明性。
酸結構,可舉例如,羧基(-COOH)、磺酸基(-SO3H)等的酸基。此外,酸結構,可在聚氨酯存在於側鏈,亦可存在於末端。此外,酸結構,可使用1種,亦可以任意比例組合2種以上使用。
酸結構的含量,以水系脲烷樹脂中的酸價,以20mgKOH/g以上為佳,以25mgKOH/g以上更佳,以250mgKOH/g以下為佳,以150mgKOH/g以下更佳。藉由使酸價在上述範圍的下限值以上,容易使水分散性良好,藉由使酸價在上述範圍的上限值以下,可使易接著層的耐水性良好。
對聚氨酯導入酸構造的方法,可舉例如,將二羥甲基烷酸,與上述(2)至(4)所記載的二醇成分的一部分或全部取代,預先對聚醚多元醇、聚酯多元醇、聚醚酯多元醇等導入
羧基的方法。在此使用的二羥甲基烷酸,可舉例如,二羥甲基醋酸、二羥甲基戊酮酸、二羥甲基酪酸等。此外,二羥甲基烷酸可以1種單獨使用,亦可以任意比例組合2種以上使用。
聚氨酯所含的酸結構的一部分或全部,被中和為佳。藉由將酸結構中和,可提升水系脲烷樹脂的水分散性。中和酸成分的中和劑,可舉例如,三甲胺、三乙胺、三丙胺、三丁胺、N-甲基二乙醇胺、三乙醇胺等的有機胺;氫氧化鈉、氫氧化鉀、氨等的無機鹼。此外,中和劑,可以1種單獨使用,亦可以任意比例組合2種以上使用。
聚氨酯的數目平均分子量,以1,000以上為佳,以20,000以上更佳,以1,000,000以下為佳,以200,000以下更佳。
水系脲烷樹脂,亦可直接使用市售的水系脲烷樹脂。水系脲烷樹脂,可使用例如DIC公司製的HYDRAN HW-301、HW-310、HW-311、HW-312B、HW-333、HW-340、HW-350、HW-375、HW-920、HW-930、HW-940、HW-950、HW-970、AP-10、AP-20、ECOS3000;三洋化成工業公司製的UPRENE UXA-3005、CHEMITYLEN GA-500;第一工業製藥公司製的Super Flex 110、Super Flex 150、Super Flex 260S、Super Flex 210、Super Flex 410、Super Flex 420、Super Flex 500M、Super Flex 870;ADECA公司製的ADEKA BONTIGHTER UHX-210、ADEKA BONTIGHTER UHX-280;住化拜耳脲烷公司製,Dispercoll U53、Dispercoll U54、Dispercoll U56、Dispercoll U42、Impranil DLU、Impranil DLS等。此外,水系脲烷樹脂,可以1種單獨使用,亦可以任意比例組合2種以上使用。
易接著層,包含粒子為佳。因此,易接著層係以水系樹脂形成時,該水系樹脂包含粒子為佳。藉由粒子,在易接著層的表面形成凹凸。藉此,提升易接著層的表面的滑性,可抑制捲取長條薄膜時發生皺褶。
粒子的平均粒徑,以1nm以上為佳,以5nm以上更佳,以10nm以上特別佳,以500nm以下為佳,以300nm以下更佳,以200nm以下特別佳。藉由使平均粒徑在上述範圍的下限值以上,可有效地提升接著層的滑性,藉由使之在上述範圍的上限值以下,可將霧度抑制為較低。粒子的平均粒徑,可採用藉由雷射繞射法測定粒徑分佈,在測定的粒徑分佈,由小徑側計算的累積體積為50%的粒徑(50%體積累積徑D50)。
粒子,可使用無機粒子、有機粒子的任一,使用水分散性的粒子為佳。無機粒子的材料,可舉例如,二氧化矽、二氧化鈦、氧化鋁、氧化鋯等的無機氧化物;碳酸鈣、滑石、黏土、燒製高嶺土、燒製矽酸鈣、水和矽酸鈣、矽酸鋁、矽酸鎂、磷酸鈣等。此外,有機粒子的材料,可舉例如,矽樹脂、氟樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂等。該等之中,以二氧化矽為佳。二氧化矽的粒子,抑制發生皺褶的能力及透明性優良,不容易發生霧度,沒有著色,對長條薄膜的光學特性造成的影響更小。此外,二氧化矽對脲烷樹脂的分散性及分散穩定性良好。二氧化矽粒子之中,以非晶質膠質二氧化矽粒子特別佳。
此外,粒子,可以1種單獨使用,亦可以任意比例組合2種以上使用。
易接著層包含的粒子的量,相對於100重量份易
接著層包含的聚合物,以0.5重量份以上為佳,以5重量份以上更佳,以8重量份以上特別佳,以20重量份以下為佳,以18重量份以下更佳,以15重量份以下特別佳。藉由使粒子的量在上述的範圍的下限值以上,可提升薄膜的操作性,故可抑制捲繞長條薄膜時發生皺褶。此外,藉由使粒子的量在上述範圍的上限值以下,可維持長條薄膜的沒有白濁的外觀。
以提升易接著層的機械強度的目的,在使用於製造易接著層的的水系樹脂,進一步包含架橋劑為佳。架橋劑,可使用具有可與包含在水系樹脂中的聚合物所具有的反應性基反應的官能基的化合物。例如,使用水系脲烷樹脂作為水系樹脂時,使用水系環氧化合物、水系胺基化合物、水系異氰酸酯化合物、水系碳二亞胺化合物、水系噁唑啉化合物等作為架橋劑,由材料的通用性的觀點為佳。其中,特別是使用水系環氧化合物、水系胺基化合物、水系噁唑啉化合物,由接著性的觀點為佳。
水系環氧化合物,以對水具有溶解性,或具有乳膠化的2個以上的環氧基的化合物為佳。水系環氧化合物之例,可舉使乙二醇、二乙二醇、三乙二醇、聚乙二醇、丙二醇、二丙二醇;1,4-丁二醇、1,6-己二醇、新戊二醇等的二醇類1莫耳,與2莫耳表氯醇經由醚化而得的二環氧化合物;使甘油、聚甘油、三羥甲基丙烷、異戊四醇、山梨醇等的多元醇類1莫耳,與2莫耳以上的表氯醇經由醚化而得的聚環氧化合物;使鄰苯二甲酸、對苯二甲酸、草酸、己二酸等的二羧酸1莫耳,與2莫耳表氯醇經由酯化而得的二環氧化合物等的環氧化合物。
水系胺基化合物,以對水具有溶解性,或具有乳膠化的2個以上的胺基的化合物為佳。水系胺基化合物之例,可舉碳二醯肼、草酸二醯肼、丙二酸二醯肼、琥珀酸二醯肼、己二酸二醯肼、癸二酸二醯肼、十二烷二酸二醯肼、間苯二甲酸二醯肼、對苯二甲酸二醯肼、乙醇酸二醯肼、聚丙烯酸二醯肼等的醯肼化合物、三聚氰胺樹脂、脲素樹脂、聚氰二胺(guanamine)樹脂等。
水系異氰酸酯化合物,可使用對水具有溶解性,或具有乳膠化的2個以上的非嵌段型的異氰酸酯基或嵌段型的異氰酸酯基的化合物。非嵌段型的異氰酸酯化合物,可舉例如,使多官能異氰酸酯化合物與一價或多價的非離子性聚烯醚醇反應而得的化合物。嵌段型異氰酸酯化合物,可舉例如,2,4-甲苯二異氰酸酯(2,4-TDI)、2,6-甲苯二異氰酸酯(2,6-TDI)、4,4'-二苯基甲烷二異氰酸酯(MDI)、二甲苯二異氰酸酯(XDI)、異佛爾酮二異氰酸酯(IPDI)、甲基環己基二異氰酸酯(H6TDI)、4,4'-二環己基甲烷二異氰酸酯(H12MDI)、1,3-雙(異氰酸甲基)環己烷(H6XDI)、四甲基二甲苯二異氰酸酯(TMXDI)、2,2,4-三甲基六亞甲基二異氰酸酯(TMHDI)、六亞甲基二異氰酸酯(HDI)、降莰烯二異氰酸酯(NBDI)、2,4,6-三異丙基苯基二異氰酸酯(TIDI)、1,12-二異氰酸酯十二烷(DDI)、2,4,-雙-(8-異氰酸酯辛基)-1,3-二辛基環丁烷(OCDI)、正戊烷-1,4-二異氰酸酯、及該等的變性體。上述變性體,可舉例如異氰脲酸酯變性體、加成物變性體、縮二脲變性體、脲甲酸酯變性體。再者,嵌段型異氰酸酯化合物,可舉例如,將具有1個以上的異氰酸酯基的上
述之例所舉的嵌段型異氰酸酯化合物的聚合物,以聚乙二醇基、羧基等變性,作成水溶性及或水分散性,將異氰酸酯以阻斷劑(酚、ε-己內醯胺等)保護而得的化合物等。
水系碳二亞胺化合物,可使用對水具有溶解性,或具有乳膠化的2個以上的碳二亞胺鍵結(-N=C=N-)的化合物。具有2個以上的碳二亞胺鍵結的化合物,可例如,使用2分子以上的聚異氰酸酯與碳二亞胺化觸媒,使2個異氰酸酯基進行脫碳酸反應形成碳二亞胺鍵結的方法而得。使用於製作具有2個以上的碳二亞胺鍵鍵結的化合物時的聚異氰酸酯及碳二亞胺化觸媒,並無特別限制,可使用先前習知的觸媒。
水系噁唑啉化合物,可使用對水具有溶解性,或具有乳膠化的2個以上的噁唑啉基的化合物。
架橋劑可以1種單獨使用,亦可以任意比例組合2種以上使用。
架橋劑的量,相對於100重量份水系樹脂包含的聚合物,以有效成分,以1重量份以上為佳,以3重量份以上更佳,以70重量份以下為佳,以65重量份以下更佳。藉由如此的配方,可使易接著層的強度與水系樹脂的水分散體的穩定性並存。此外,架橋劑之中,反應性高的醯肼化合物及多官能異氰酸酯化合物,由於有與基材層及接著劑產生相互作用的可能性,故其量盡少為佳。具體而言,相對於100重量份水系樹脂包含的聚合物,醯肼化合物及多官能異氰酸酯化合物的量,以有效成分,以1重量份以上為佳,以2重量份以上更佳,進而以3重量份以上為佳,以15重量份以下為佳,以10重量份
以下更佳,進而以8重量份以下為佳。
再者,易接著層,可按照需要,包含耐熱穩定劑、耐候穩定劑、平滑劑、帶電防止劑、滑動劑、抗黏劑、防暈劑、潤滑劑、染料、顏料、天然油、合成油、蠟等的成分。該等可以1種單獨使用,亦可以任意比例組合2種以上使用。
易接著層,可藉由準備包含聚合物及溶劑、以及按照需要粒子等的任意成分的樹脂組合物,將該樹脂組合物塗佈在基材層的表面形成上述樹脂組合物的層之後,藉由使該樹脂組合物的層硬化而製造。此外,樹脂組合物的層的硬化,亦可藉由例如,紫外線等的活性能量線的照射、加熱等進行。
例如,以脲烷樹脂形成易接著層時,可藉由在基材層的表面,直接塗佈水系脲烷樹脂的水分散體,形成作為易接著層的脲烷樹脂層。水系脲烷樹脂的水分散體,係將水系脲烷樹脂分散於水的液狀的組合物,亦可作成例如,乳膠、膠體分散系、水溶液等的形態。
水系脲烷樹脂的水分散體,亦可包含水溶性的溶劑。水溶性的溶劑,可舉例如,甲醇、乙醇、異丙醇、丙酮、四氫呋喃、N-甲基吡咯烷酮、二甲亞碸、乙二醇單甲基醚、乙二醇單丁基醚等。該等可以1種單獨使用,亦可以任意比例組合2種以上使用。
分散於水系脲烷樹脂的水分散體的水系脲烷樹脂的粒子的粒徑,由長條薄膜的光學特性的觀點,以0.01μm~0.4μm為佳。水系脲烷樹脂粒子的粒徑,可藉由動態光散射法測定,例如,可藉由大塚電子公司製的光散射光度計
DLS-8000系列測定。
水系脲烷樹脂的水分散體的黏度,以15mPa‧s以下為佳,以10mPa‧s以下特別佳。水系脲烷樹脂的分散體的黏度在上述範圍內,可將水系脲烷樹脂的水分散體均勻塗佈於基材層的表面。水系脲烷樹脂的水分散體的黏度,係以音叉型振動式黏度計,於25℃的條件下測定之值。可藉由改變水系脲烷樹脂的水分散體中的水系脲烷樹脂的比例及水系脲烷樹脂的粒徑等,調整水系脲烷樹脂的水分散體的黏度。
包含水系樹脂的塗佈液的塗佈方法,並無特別限定,可採用習知的塗佈方法。具體的塗佈法,可舉例如,線棒塗佈法、浸漬法、噴霧法、旋轉塗佈法、輥輪塗佈法、凹版塗佈法、氣刀塗佈法、淋幕塗佈法、斜板塗佈法、擠出塗佈法等。
在設易接著層之前,對基材層的表面施以改質處理,提升基材層與易接著層的密著性為佳。對基材層表面的改質處理,可舉例如能量線照射處理及藥劑處理等。能量線照射處理,可舉例如電暈放電處理、電漿處理、電子束照射處理、紫外線照射處理等,由處理效率方面等,以電暈放電處理、電漿處理為佳,以電暈放電處理特別佳。此外,藥劑處理,可舉例如,皂化處理、浸漬於重鉻酸鉀溶液、濃硫酸等的氧化劑水溶液,之後以水清洗的方法。
再者,在易接著層的表面,施以親水化表面處理為佳。易接著層的表面,通常將成為長條薄膜與其他的任意構件黏合時的黏貼面。因此,藉由進一步提升此面的親水性,可顯著地提升長條薄膜與任意構件的接著性。親水化表面處理,
可舉例如,電暈放電處理、電漿處理、火焰處理、紫外線照射處理等。其中,由處理效率方面,以電暈放電處理及大氣壓電漿處理為佳,以電暈放電處理特別佳。
上述易接著層等的功能層的厚度,以基材層的厚度的0.01%以上為佳,以0.015%以上更佳,以0.02%以上特別佳,以10%以下為佳,以5%以下更佳,以2%以下特別佳。藉由使功能層的厚度在上述範圍的下限值以上,可充分發揮該功能層的功能,此外,藉由使之在上述範圍的上限值以下,可容易地對薄膜面內進行均勻地塗佈樹脂組合物。
[長條薄膜的用途]
長條薄膜,可用於廣泛的用途,其中,使用於光學薄膜為佳。光學薄膜,可舉例如,相位差薄膜、偏光板保護薄膜、光學補償薄膜等。其中,上述長條薄膜,使用於作為偏光板保護薄膜為佳。
偏光板,通常具備,偏光片及偏光板保護薄膜。因此,使用上述長條薄膜作為偏光板保護薄膜時,通常,將長條薄膜黏貼於偏光片使用。
將長條薄膜黏貼於偏光片時,可不經由接著劑,直接將長條薄膜黏貼於偏光片,亦可經由接著劑黏貼。再者,可僅於偏光片的一方的面黏貼長條薄膜,亦可黏貼於兩方的面。僅於偏光片的一方的面黏貼長條薄膜時,亦可在偏光片的另一方的面,黏貼透明性高的其他薄膜。
偏光片,可使用例如,使聚乙烯醇膜吸附碘或二色性染料之後,在硼酸浴中單軸延伸而製造之薄膜。此外,偏
光片,亦可使用例如,使聚乙烯醇膜吸附碘或二色性染料延伸,進一步使分子鏈中的聚乙烯醇單位的一部分變性為聚伸乙烯基單位而製造的薄膜。再者,偏光片,可使用例如,柵格偏光片、多層偏光片、膽固醇狀液晶偏光片等的具有可將偏光分離為反射光與穿透光的功能的偏光片。該等之中,以含有聚乙烯醇的偏光片為佳。偏光片的偏光度,以98%以上為佳,以99%以上更佳。偏光片的平均厚度,以5μm~80μm為佳。
用於接著長條薄膜與偏光片的接著劑,可使用光學性透明之物。接著劑之例,可舉水性接著劑、溶劑型接著劑、二液硬化型接著劑、光硬化型接著劑、感壓性接著劑等。該等之中,以水性接著劑為佳,以聚乙烯醇系的水性接著劑特別佳。此外,接著劑,可以1種單獨使用,亦可以任意比例組合2種以上使用。
光硬化型接著劑,可使用脲烷(甲基)丙烯酸酯、羥烷基(甲基)丙烯酸酯及含有丙烯醯胺衍生物的丙烯酸酯系接著劑;以及,含有環氧化合物的接著劑(以下,有時適宜記載為「環氧系接著劑」。)。
脲烷(甲基)丙烯酸酯,並無特別限定,可使用例如,使聚異氰酸酯與多元醇類反應之後,進一步使含有羥基的(甲基)丙烯酸化合物及按照需要含有羥基的芳基醚化合物反應而得的含有自由基聚合性不飽和基的寡聚物。此外,脲烷(甲基)丙烯酸酯,亦可使用使含有羥基的(甲基)丙烯酸化合物與多元醇類反應之後,進一步使聚異氰酸酯反應而得之物。
該等之中,每一分子具有2個~3個雙鍵,每1個雙鍵的
數目平均分子量為500~3000的脲烷(甲基)丙烯酸酯,由於容易使接著強度、柔軟性、光硬化性及黏度平衡而佳。此外,脲烷(甲基)丙烯酸酯可以1種單獨使用,亦可以任意比例組合2種以上使用。
脲烷(甲基)丙烯酸酯在接著劑的量,以30重量%~50重量%為佳。脲烷(甲基)丙烯酸酯的量,在30重量%以上,可抑制接著劑的脆化,此外,藉由使之在50重量%以下,可抑制黏度過度上升,或使接著強度變高。
羥烷基(甲基)丙烯酸酯,可舉例如,羥乙基(甲基)丙烯酸酯、羥丙基(甲基)丙烯酸酯、羥丁基(甲基)丙烯酸酯。其中,以羥乙基甲基丙烯酸酯為佳。此外,羥烷基(甲基)丙烯酸酯,可以1種單獨使用,亦可以任意比例組合2種以上使用。
在接著劑的羥烷基(甲基)丙烯酸酯的量,以13重量%~40重量%為佳。藉由使羥烷基(甲基)丙烯酸酯的量,在13重量%以上,可提高接著劑全體的親水性,故特別是可提高對聚乙烯醇系的偏光片的接著強度,此外,藉由使之在40重量%以下,可抑制接著劑的脆地,或使光硬化性良好。
丙烯醯胺衍生物,可舉例如,N,N-二甲基丙烯醯胺、N,N-二乙基丙烯醯胺、N,N-二甲基胺基乙基丙烯醯胺、N,N-二甲基胺基丙基丙烯醯胺、N-異丙基丙烯醯胺、N,N-二甲基胺基丙基丙烯醯胺、N-羥基乙基丙烯醯胺,特別可舉N,N-二乙基丙烯醯胺、N-異丙基丙烯醯胺、N,N-二甲基胺基丙基丙烯醯胺、N-羥基乙基丙烯醯胺等。此外丙烯醯胺衍生物可以1種單獨使用,亦可以任意比例組合2種以上使用。
在接著劑的丙烯醯胺衍生物的量,以0~30重量%為佳,以1重量%~30重量%更佳。
丙烯酸酯系接著劑,加上上述成分,使(甲基)丙烯酸異莰酯,以30重量%~40重量%為佳。可藉由(甲基)丙烯酸異莰酯,賦予接著劑耐熱性之外,可不降低接著性能地調整用於改良塗層性能的黏度。
再者,上述丙烯酸酯系接著劑,包含2重量%~10重量%的光聚合起始劑為佳。光聚合起始劑,可舉例如,1-羥基環己基苯基酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、氧蒽酮、茀酮、苯甲醛、茀、蒽醌、三苯胺、咔唑、3-甲基苯乙酮、4-氯二苯甲酮、4,4'-二甲氧基二苯甲酮、4,4'-二胺基二苯甲酮、米其勒酮、安息香丙醚、安息香乙醚、苄基二甲基酮、1-(4-異丙基苯基)-2-羥基-2-甲基丙烷-1-酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、噻吨酮(thioxanthone)、二乙基噻吨酮、2-異丙基噻吨酮、2-氯噻吨酮、2-甲基1-[4-(甲硫基)苯基]-2-嗎啉基-丙烷-1-酮、2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦等。此外,光聚合起始劑,可以1種單獨使用,亦可以任意比例組合2種以上。
環氧系接著劑,含有環氧化合物。上述環氧化合物,由耐候性、折射率及陽離子聚合性的觀點,以分子內不含芳香環的環氧化合物作為主要成分為佳。在分子內不含芳香環的環氧化合物,可舉例如,具有脂環式環的多元醇的縮水甘油醚、脂肪族環氧化合物、脂環式環氧化合物等。
具有脂環式環的多元醇的縮水甘油醚,可藉由將芳香族多元醇在觸媒的存在下,在加壓下對芳香環進行選擇性
氫化反應而得之核氫化多羥基化合物,進行縮水甘油醚化者。芳香族多元醇,可舉例如,雙酚A、雙酚F、及雙酚S等的雙酚型化合物;酚醛樹脂、甲酚酚醛樹脂等的多官能型的化合物等。可藉由對該等芳香族多元醇的芳香環進行氫化反應而得的脂環式多元醇,與表氯醇反應,作成縮水甘油醚。具有如此的脂環式環的多元醇的縮水甘油醚之中,較佳的可舉氫化的雙酚A的二縮水甘油醚。
脂肪族環氧化合物,可為脂肪族多元醇或其環氧烷加成物的聚縮水甘油醚。脂肪族環氧化合物,可舉例如,對1,4-丁二醇的二縮水甘油醚;1,6-己二醇的二縮水甘油醚;甘油的三縮水甘油醚;三羥甲基丙烷的三縮水甘油醚;聚乙二醇的二縮水甘油醚;丙二醇的二縮水甘油醚;乙二醇、丙二醇或甘油等的脂肪族多元醇加成1種或2種以上的環氧烷化合物(環氧乙烷化合物或環氧丙烷化合物等)而得的聚醚多元醇的聚縮水甘油醚等。
在環氧系接著劑,環氧化合物,可以1種單獨使用,亦可以任意比例組合2種以上使用。
此外,環氧系接著劑,加上上述環氧化合物,亦可含有噁丁環化合物。藉由使用噁丁環化合物,可降低環氧系接著劑的黏度,加快硬化速度。
噁丁環化合物,係在分子內至少具有1個噁丁環(4員環醚)的化合物。噁丁環化合物,可舉例如3-乙基-3-羥基甲基噁丁環、1,4-雙[(3-乙基-3-噁丁環基)甲氧基甲基]苯、3-乙基3-(苯氧基甲基)噁丁環、二[(3-乙基-3-噁丁環基)甲基]醚、3-
乙基-3-(2-乙基己氧基甲基)噁丁環、酚醛噁丁環等。該等噁丁環化合物,可容易取得市售品。市售品,可舉例如,均為東亞合成公司所銷售的商品名,「ARON OXETANE OXT-101」、「ARON OXETANE OXT-121」、「ARON OXETANE OXT-211」、「ARON OXETANE OXT-221」、「ARON OXETANE OXT-212」等。噁丁環化合物的量,並無特別限定,以接著劑中的活性能量線硬化性化合物全體為基準,通常為50重量%以下,以10重量%~40重量%為佳。
接著劑,包含環氧化合物及噁丁環化合物等的陽離子聚合性化合物時,在該接著劑,通常,調配光陽離子聚合起始劑。使用光陽離子聚合起始劑,可在常溫形成接著劑層。因此,減少需要考慮偏光片的耐熱性及膨脹的扭曲的必要性,可密著性良好地黏合偏光片與長條薄膜。此外,光陽離子聚合起始劑,由於係以光對觸媒作用,故即使接著劑含有上述光陽離子聚合起始劑,該接著劑的儲存穩定性及作業性優良。
光陽離子聚合起始劑,係藉由可見光線、紫外線、X射線、電子線等的活性能量線的照射,產生陽離子種或路易斯酸,開始陽離子聚合性化合物的聚合反應。光陽離子聚合起始劑,可為任一型式,舉具體例,則有芳香族重氮鹽;芳香族錪鹽或芳香族鋶鹽等的鎓鹽;鐵-芳烴錯合物等。
芳香族重氮鹽,可舉例如,重氮苯六氟銻酸鹽、重氮苯六氟磷酸鹽、重氮苯六氟硼酸鹽等。
芳香族錪鹽,可舉例如,二苯基錪四(五氟苯基)硼酸鹽、二苯基錪六氟磷酸鹽、二苯基錪六氟銻酸鹽、二(4-
壬基苯基)錪六氟磷酸鹽等。
該等光陽離子聚合起始劑,可容易取得市售品。市售品,可舉例如,日本化藥公司製的KAYARAD PCI-220、KAYARAD PCI-620;聯合碳化物公司製的UVI-6990;Daicel Psytec公司製的UVACURE 1590;ADEKA公司製的ADEKA Optomer SP-150、ADEKA Optomer SP-170;日本曹達公司製的CI-5102、CIT-1370、CIT-1682、CIP-1866S、CIP-2048S、CIP-2064S;Midori化學公司製的DPI-101、DPI-102、DPI-103、DPI-105、MPI-103、MPI-105、BBI-101、BBI-102、BBI-103、BBI-105、TPS-101、TPS-102、TPS-103、TPS-105、MDS-103、MDS-105、DTS-102及DTS-103;RHODIA PI-2074等。
上述接著劑的黏度,以23℃,以20mPa‧s~5000mPa‧s為佳,以30mPa‧s~3000mPa‧s更佳,以50mPa‧s~1500mPa‧s特別佳。
使用接著劑黏合偏光片與長條薄膜時,將偏光片與長條薄膜經由接著劑黏合之後,亦可按照需要,使接著劑硬化。使接著劑硬化的方法,可按照接著劑的種類,採用適當的方法。例如,使用光硬化型接著劑時,可藉由紫外線等的活性能量線照射,使接著劑硬化。使用紫外線作為活性能量線時,紫外線照射強度,以200mJ/cm2以上為佳,以300mJ/cm2以上更佳,以7000mJ/cm2以下為佳,以6000mJ/cm2以下更佳。藉由使紫外線照射強度在上述範圍的下限值以上,可充分進行接著劑的硬化,故可抑制偏光片與長條薄膜剝落。此外,藉由使紫外線照射強度在上述範圍的上限值以下,可抑制長條薄膜因
紫外線的照射熱而熔融。
使用接著劑時,在偏光片與長條薄膜之間,設接著劑層。該接著劑層的平均厚度,以0.05μm以上為佳,以0.1μm以上更佳,以5μm以下為佳,以1μm以下更佳。
[實施例]
以下,顯示實施例具體說明本發明。惟,本發明並非限定於以下所示實施例,可在不脫離本發明的申請範圍及其均等的範圍的範圍任意變更實施。在以下的說明,表示量的「%」、「ppm」及「份」,若無特別提及,係重量基準。此外,以下說明的操作,若無特別提及,係在常溫常壓大氣中進行。
[評估方法]
[凹凸部的高度的測定方法]
長條薄膜的滾花部的各角部及各直線部的凹凸部的高度,係使用三維表面輪廓儀(ZYGO公司製「New View5000」)測定。由測定的高度值,求角部及直線部各個平均高度。
[角部的曲率半徑的測定方法]
長條薄膜的滾花部的各角部的曲率半徑,係使用三維表面輪廓儀(ZYGO公司製「New View5000」)測定。
[薄膜的蛇行量的評估方法]
將形成滾花部的長條薄膜,邊向該長條薄膜的長邊方向輸送,邊測定長條薄膜的輸送位置。以輸送開始時的輸送位置作為基準,求得直到輸送完成之間所產生的輸送位置的薄膜寬幅方向的偏移量,作為長條薄膜的蛇行量。然後,將所得蛇行量
在5mm以下時判定為「良」,較5mm大時為「不良」。
[薄膜的捲偏量的評估方法]
將形成滾花部的長條薄膜,向該長條薄膜的長邊方向輸送,以捲芯捲取,得到薄膜捲筒。將在薄膜捲筒的徑方向最內側的部分的長條薄膜的位置(捲取開始位置)與在薄膜捲筒的徑方向最外側的部分的長條薄膜的位置(捲繞結束位置)、與薄膜寬幅方向(即,捲筒的軸方向)之差,作為捲偏量。然後,將所得的捲偏量在5mm以下時判定為「良」,較5mm大時為「不良」。
[實施例1]
[基材層的製造]
將環狀烯徑樹脂(日本ZEON公司製「ZEONOR1430」;玻璃轉移溫度135℃)的膠粒,使用流通空氣的熱風乾燥器,以70℃乾燥2小時。將乾燥的膠粒,供給具有65mm 的螺桿的樹脂熔融混煉機的T模具式薄膜熔融擠出成形機,以熔融樹脂溫度270℃、T模具寬度1700mm的成形條件,進行擠出成形,製造長條的基材層(厚度50μm、寬度1500mm、長度2000m)。
[處理前薄膜的製造(易接著層的形成)]
在具備溫度計、攪拌機、氮導入管及冷凝管的2000ml四口燒瓶,放入840g聚酯多元醇(川崎化成工業公司製「MAXIMOL FSK-2000」,羥基價56mgKOH/g),與119g多價異氰酸酯成分的甲苯二異氰酸酯,200g作為溶劑的丁酮,邊導入氮氣以75℃反應1小時。
反應結束之後,冷卻至60℃,加入35.6g用於導
入酸結構的二羥甲基丙酸,以75℃反應,得到含有酸結構的聚氨酯溶液。包含在該溶液的聚氨酯的異氰酸酯基(-NCO基)的含量為0.5%。
接著,將該聚氨酯溶液冷卻至40℃,加入1500g的水,及10.6g作為中和劑的氫氧化鈉,藉由均質混和機高速攪拌進行乳化。由該乳化液,藉由在加熱減壓下,蒸餾去除丁酮之後,加入99.5g二氧化矽微球(日本AEROGEL公司製「AEROGEL130」;平均粒徑16nm)並攪拌,進一步加水中和處理使固形份濃度為10%。藉此得到中和的水系脲烷樹脂的水分散體。
在上述基材層的一面,將上述水系脲烷樹脂的水分散體,以逆向輥輪法,塗佈成乾燥後的厚度為100nm,以90℃乾燥。藉此,在基材層的一面形成易接著層,得到具備基材層及易接著層的複層結構的處理前薄膜。
[滾花部的形成]
將上述處理前薄膜,向長邊方向以30m/分的速度輸送。然後,對輸送的處理前薄膜的寬幅方向的左右兩端部的易接著層側的面,照射雷射光。雷射光的照射裝置,使用CO2雷射光照射裝置(Panasonic Sunx公司製的「LP-430U」,雷射光波長10.6μm)。此外,雷射光的照射輸出為輸出90%。
圖7係示意表示以本發明的實施例1形成的滾花部1的平面形狀的平面圖。在圖7,為顯示滾花部1的尺寸,顯示長條薄膜的長邊方向及寬幅方向的座標。該座標的數值單位係毫米。
上述雷射光的照射,係以描繪圖7所示滾花部1的平面形狀,邊以移動速度2000mm/s移動雷射光的照射點,而進行。在圖7所示滾花部1的平面形狀,以一點鏈線包圍所示的角部A,均為90°角。此外,滾花部1在平面形狀,角部A以外的非直線部(在圖7以虛線包圍表示的非直線部)X的角度為135°。藉由上述雷射光的照射,在處理前薄膜的易接著層側的面,形成在薄膜的長邊方向以4.2mm間距排列,以線狀的凹凸部構成的圖7所示平面形狀的複數滾花部1。藉此得到在表面具有滾花部1的長條薄膜。在形成的滾花部1,測定角部A的曲率半徑的結果為0.2mm。此外,以上述方法測定角部及直線部的凹凸部的平均高度。
將所得長條薄膜,進一步向長邊方向輸送,以直徑6英寸的捲芯(核)為中心,以捲取張力120N向長邊方向捲取1000m,得到薄膜捲筒。捲取時,測定長條薄膜的蛇行量及捲偏量,以上述方法評估。
[實施例2]
圖8係示意表示以本發明的實施例2形成的滾花部2的平面形狀的平面圖。在圖8,為顯示滾花部2的尺寸,顯示長條薄膜的長邊方向及寬幅方向的座標。該座標的數值單位係毫米。
在實施例2,除了將形成的滾花部2的平面形狀變更為圖8所示以外,以與實施例1同樣地,進行長條薄膜的製造及評估。在圖8所示滾花部2的平面形狀,以一點鏈線包圍所示的角部A,均為120°角。此外,在滾花部2的平面形狀,以二點
鏈線表示的角部B,均為60°角。再者,在滾花部2的平面形狀,角部A及角部B以外的非直線部(在圖8以虛線包圍表示的非直線部)X的角度為150°。在形成的滾花部2,測定角部A及角部B的曲率半徑的結果為0.1mm及0.2mm。
[實施例3]
圖9係示意表示以本發明的實施例3形成的滾花部3的平面形狀的平面圖。在圖9,為顯示滾花部3的尺寸,顯示長條薄膜的長邊方向及寬幅方向的座標。該座標的數值單位係毫米。
在實施例3,除了將形成的滾花部3的平面形狀變更為圖9所示以外,以與實施例1同樣地,進行長條薄膜的製造及評估。在圖9所示滾花部3的平面形狀,以一點鏈線包圍所示的角部A,均為90°角。此外,在滾花部3的平面形狀,以二點鏈線表示的角部B,均為96°角。在形成的滾花部滾花部3,測定角部A及角部B的曲率半徑的結果為0.2mm及0.2mm。
[比較例1]
圖10係示意表示以比較例1形成的滾花部4的平面形狀的平面圖。在圖10,為顯示滾花部4的尺寸,顯示長條薄膜的長邊方向及寬幅方向的座標。該座標的數值單位係毫米。
在比較例1,除了將形成的滾花部4的平面形狀變更為圖10所示以外,以與實施例1同樣地,進行長條薄膜的製造及評估。惟,比較例1,為對齊與實施例1~3的對比條件,如圖10所示,使滾花部4在長條薄膜的寬幅方向各排列4個形成。在圖10所示滾花部4的平面形狀,以一點鏈線包圍所示的角部A,均為90°角。在形成的滾花部4,測定角部A的曲率半徑的
結果為0.2mm。
[比較例2]
對處理前薄膜照射雷射光時,將雷射光照射點的移動速度變更為3000mm/s以外,以與實施例1同樣地,進行長條薄膜的製造及評估。在形成的滾花部,測定角部A的曲率半徑的結果為0.4mm。
[結果]
將上述實施例及比較例的結果示於下述表1。在表1,簡稱的意思係如下所述。
掃描速度:雷射光照射點的移動速度。
[討論]
由表1可知,在實施例1~3,在蛇行評估及捲偏評估的雙方,均得到良好的結果。因此,確認藉由本發明可實現輸送性及捲繞性優良的長條薄膜。
100‧‧‧長條薄膜
100U‧‧‧長條薄膜的面
110‧‧‧滾花部
TD‧‧‧寬幅方向
MD‧‧‧長邊方向
Claims (4)
- 一種長條薄膜,其係至少在一方的面,具有藉由連續的線狀凹凸部構成的複數個滾花部的長條薄膜,複數個上述滾花部,排列在上述長條薄膜的長邊方向,且設置於寬幅方向的至少一方的端部,將上述滾花部從上述長條薄膜的厚度方向觀看的平面形狀,在上述滾花部的每1個平面形狀,具有10個以上曲率半徑為0.3mm以下且角度為100°以下,或曲率半徑為0.2mm以下且角度為120°以下的角部,在上述滾花部的每1個平面形狀,具有18個以上的直線狀的直線部。
- 如申請專利範圍第1項所述的長條薄膜,其中在上述長條薄膜的寬幅方向的每1個上述滾花部的長度LTD,與在上述長條薄膜的長邊方向的每1個上述滾花部的長度LMD之比LTD/LMD,係LTD/LMD≧2。
- 如申請專利範圍第1或2項所述的長條薄膜,其中上述長條薄膜,具備由環狀烯烴樹脂或(甲基)丙烯酸樹脂所組成的基材層。
- 如申請專利範圍第3項所述的長條薄膜,其中上述長條薄膜,具備:上述基材層;及設於上述基材層的上述滾花部側的機能層,上述機能層的厚度,係上述基材層的厚度的10%以下。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016-035980 | 2016-02-26 | ||
JP2016035980 | 2016-02-26 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW201733787A TW201733787A (zh) | 2017-10-01 |
TWI736581B true TWI736581B (zh) | 2021-08-21 |
Family
ID=59686045
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW106104369A TWI736581B (zh) | 2016-02-26 | 2017-02-10 | 長條薄膜 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10557004B2 (zh) |
JP (1) | JP6885389B2 (zh) |
KR (1) | KR102709205B1 (zh) |
CN (1) | CN108602240B (zh) |
TW (1) | TWI736581B (zh) |
WO (1) | WO2017145718A1 (zh) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101797728B1 (ko) * | 2016-03-11 | 2017-11-16 | 삼성디스플레이 주식회사 | 디스플레이 장치 |
KR102582854B1 (ko) * | 2018-07-05 | 2023-09-26 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치 및 표시 장치의 제조 방법 |
JP7427897B2 (ja) * | 2019-09-27 | 2024-02-06 | コニカミノルタ株式会社 | フィルムロール及びその製造方法 |
JP2021088144A (ja) * | 2019-12-05 | 2021-06-10 | 日東電工株式会社 | 積層体の製造方法 |
WO2021131773A1 (ja) * | 2019-12-25 | 2021-07-01 | シャープ株式会社 | 光学フィルムロール |
WO2021250905A1 (ja) * | 2020-06-12 | 2021-12-16 | コニカミノルタ株式会社 | ロール体およびその製造方法、フィルムおよびその製造方法 |
CN115803175A (zh) | 2020-07-31 | 2023-03-14 | 日本瑞翁株式会社 | 长条膜 |
JPWO2022091815A1 (zh) | 2020-10-29 | 2022-05-05 | ||
CN117279766A (zh) * | 2021-04-23 | 2023-12-22 | 柯尼卡美能达株式会社 | 膜和膜卷、膜的制造方法 |
JPWO2023032373A1 (zh) * | 2021-09-01 | 2023-03-09 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4906372A (en) * | 1989-05-17 | 1990-03-06 | Desalination Systems, Inc. | Spiral-wound membrane cartridge |
TW200922980A (en) * | 2007-08-10 | 2009-06-01 | Nitto Denko Corp | Film and method for production thereof |
CN103796824A (zh) * | 2011-09-20 | 2014-05-14 | 3M创新有限公司 | 纹理膜及制造方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4942000A (en) * | 1986-07-30 | 1990-07-17 | Penoyer John A | Contactless knurling process for winding of high modulus thermoplastic films |
US5491014A (en) * | 1992-04-13 | 1996-02-13 | Ranoia; Vincent J. | Non-slip film leader |
US5393589A (en) * | 1992-06-24 | 1995-02-28 | Eastman Kodak Company | Apparatus and method for variably knurling edges of web and product produced thereby |
JP3134651U (ja) * | 2007-05-18 | 2007-08-23 | 共立産業株式会社 | ロール巻きフイルム |
JP5684545B2 (ja) | 2009-12-14 | 2015-03-11 | 富士フイルム株式会社 | ポリマーフィルム、フィルムロール及びナーリング付与ローラ |
JP2012066922A (ja) * | 2010-09-24 | 2012-04-05 | Sekisui Chem Co Ltd | 光学フィルムの巻重体及びその製造方法 |
JP2012187532A (ja) * | 2011-03-11 | 2012-10-04 | Toppan Printing Co Ltd | 光学フィルムの製造方法及び光学フィルム |
JP5279861B2 (ja) * | 2011-03-29 | 2013-09-04 | 富士フイルム株式会社 | ナーリング形成方法及び装置、並びに溶液製膜方法 |
-
2017
- 2017-02-03 CN CN201780010810.7A patent/CN108602240B/zh active Active
- 2017-02-03 US US16/075,270 patent/US10557004B2/en active Active
- 2017-02-03 KR KR1020187022669A patent/KR102709205B1/ko active IP Right Grant
- 2017-02-03 JP JP2018501116A patent/JP6885389B2/ja active Active
- 2017-02-03 WO PCT/JP2017/004129 patent/WO2017145718A1/ja active Application Filing
- 2017-02-10 TW TW106104369A patent/TWI736581B/zh active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4906372A (en) * | 1989-05-17 | 1990-03-06 | Desalination Systems, Inc. | Spiral-wound membrane cartridge |
TW200922980A (en) * | 2007-08-10 | 2009-06-01 | Nitto Denko Corp | Film and method for production thereof |
CN103796824A (zh) * | 2011-09-20 | 2014-05-14 | 3M创新有限公司 | 纹理膜及制造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR102709205B1 (ko) | 2024-09-23 |
CN108602240B (zh) | 2020-05-19 |
JPWO2017145718A1 (ja) | 2018-12-20 |
TW201733787A (zh) | 2017-10-01 |
CN108602240A (zh) | 2018-09-28 |
JP6885389B2 (ja) | 2021-06-16 |
WO2017145718A1 (ja) | 2017-08-31 |
KR20180114031A (ko) | 2018-10-17 |
US20190040215A1 (en) | 2019-02-07 |
US10557004B2 (en) | 2020-02-11 |
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