TWI703099B - 玻璃基板之製造方法及玻璃基板製造裝置 - Google Patents

玻璃基板之製造方法及玻璃基板製造裝置 Download PDF

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TWI703099B
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Abstract

本發明於製造玻璃板時，抑制產生於玻璃板之搬送方向之板厚度偏差。
於製造玻璃基板時，使自處於經加熱之成形爐室之上部空間內之成形體之上部溢流之熔融玻璃沿上述成形體之兩側面流下之後，使熔融玻璃於上述成形體之下端合流，製造被搬送之平板玻璃，其後對平板玻璃進行冷卻。此時，於與上述熔融玻璃或上述平板玻璃之搬送方向正交之寬度方向上，利用遮蔽構件而部分地阻斷上述熔融玻璃或上述平板玻璃接受來自上述上部空間之熱，藉此，對上述熔融玻璃或上述平板玻璃之上述寬度方向之溫度分佈進行調整。

Description

玻璃基板之製造方法及玻璃基板製造裝置
本發明係關於一種玻璃基板之製造方法及玻璃基板製造裝置。
先前，作為玻璃板之製造方法之一，使用有下拉法。於下拉法中，自成形體溢流之熔融玻璃分流而沿成形體之側面流下。分流而流下之熔融玻璃於成形體之下端部合流，成形為玻璃板。成形之玻璃板一面被向鉛垂方向下方搬送，一面受到冷卻。於冷卻步驟中，玻璃板自黏性區域經由黏彈性區域而向彈性區域變遷。
沿成形體之側面流下之熔融玻璃離開成形體，同時，玻璃板藉由表面張力而向寬度方向收縮。藉由該收縮，於玻璃板產生板厚度偏差或凹凸。於專利文獻1中揭示有如下方法：於成形體與成形體下方之拉伸輥之間，於玻璃板之寬度方向之緣部的附近，使用與玻璃板分離地設置之冷卻單元，對玻璃板之緣部之溫度進行調整，從而抑制玻璃板之收縮。其後，收縮已受到抑制之玻璃板通過緩冷空間而成形。於該緩冷空間中，以達到所期望之溫度分佈(不會使玻璃板產生應變之溫度分佈)之方式而控制環境溫度，抑制玻璃板之板厚度偏差。另一方面，近年來，對於液晶顯示裝置用玻璃基板而言，玻璃板之板厚度偏差所要求之規格(品質)變得嚴格。
板厚度偏差為於玻璃板之寬度方向上產生之厚度偏差，大多於玻璃板之搬送方向上連續地產生，且玻璃板之寬度方向上之產生位置固定。為了滿足與板厚度偏差相關之近年來之嚴格之要求規格，若僅 進行緩冷空間中之熱管理，則並不充分。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開平5-124827號公報
因此，本發明之目的在於提供可抑制沿玻璃板之搬送方向產生之板厚度偏差的玻璃板之製造方法及玻璃板之製造裝置。
本發明之一態樣為玻璃基板之製造方法。該製造方法包括：成形步驟，其使自處於經加熱之成形爐室之上部空間內的成形體上部溢流之熔融玻璃沿上述成形體之兩側面流下之後，使熔融玻璃於上述成形體之下端合流，製造被搬送之平板玻璃；冷卻步驟，其對上述平板玻璃進行冷卻；及調整步驟，其於與上述熔融玻璃或上述平板玻璃之搬送方向正交之寬度方向上，利用遮蔽構件而部分地阻斷上述熔融玻璃或上述平板玻璃接受來自上述上部空間之熱，藉此，對上述熔融玻璃或上述平板玻璃之上述寬度方向之溫度分佈進行調整。
較佳為於上述調整步驟中，對上述熔融玻璃或上述平板玻璃之上述寬度方向之溫度分佈進行調整，使得於上述冷卻步驟中獲得之上述平板玻璃之上述寬度方向每20mm所獲得的最大玻璃板厚度tmax與最小玻璃板厚度tmin之差tmax-tmin分別為15μm以下。
較佳為於上述調整步驟中，對上述熔融玻璃或上述平板玻璃之上述寬度方向之溫度分佈進行調整，使得於上述冷卻步驟中獲得之平板玻璃之玻璃寬度方向每100mm所獲得的最大玻璃板厚度tmax與最小玻璃板厚度tmin之差tmax-tmin分別為20μm以下。
此時，較佳為當於上述熔融玻璃或上述平板玻璃中產生凹部而產生厚度偏差時，於上述調整步驟中，使上述遮蔽構件靠近上述凹部之寬度方向之產生位置而調整上述溫度分佈，使得於上述產生位置，上述熔融玻璃或上述平板玻璃不會接受上述上部空間之熱。
較佳為當於上述熔融玻璃或上述平板玻璃中產生凸部而產生厚度偏差時，於上述調整步驟中，使上述遮蔽構件靠近夾持上述凸部之寬度方向之產生位置的兩側之位置而調整上述溫度分佈，使得於上述兩側之位置，上述熔融玻璃或上述平板玻璃不會接受上述上部空間之熱。
較佳為根據上述厚度偏差之程度，對上述遮蔽構件與上述平板玻璃之表面之分離距離進行調整。
較佳為上述調整步驟於上述熔融玻璃或上述平板玻璃之黏度為107.6泊以下時進行。
較佳為於上述成形體之上述下端與向上述熔融玻璃或上述平板玻璃之搬送方向下游側或上游側離開上述下端達50mm之位置之間，進行上述調整步驟。
較佳為上述冷卻步驟包含為了防止上述平板玻璃向上述平板玻璃之寬度方向收縮而利用冷卻輥對上述平板玻璃之兩側之端部進行冷卻的步驟，上述上部空間相對於與設置上述冷卻輥之下部空間分隔之分隔板，位於上述平板玻璃之搬送方向上游側，上述遮蔽構件設置於上述上部空間。
較佳為上述成形爐室使上述平板玻璃經由上述分隔板之間的狹縫孔而進入至上述下部空間，上述遮蔽構件由上述分隔板支持。
較佳為使上述分隔板之厚度或高度發生變化，藉此，調整使用 上述遮蔽構件而調整上述溫度分佈之搬送方向之位置。
又，本發明之另一態樣為玻璃基板製造裝置。該製造裝置包括：成形爐室；成形體，其設置於上述成形爐室之上部空間內，使熔融玻璃溢流而沿兩側面流下之後，使熔融玻璃於下端合流而製造被搬送之平板玻璃；熱源，其對上述上部空間之壁及上述上部空間內之環境進行加熱；及 遮蔽構件，其於與上述熔融玻璃或上述平板玻璃之搬送方向正交之寬度方向上，部分地阻斷上述熔融玻璃或上述平板玻璃接受來自上述上部空間之熱，藉此，對上述熔融玻璃或上述平板玻璃之上述寬度方向之溫度分佈進行調整。
根據上述玻璃板之製造方法及玻璃板製造裝置，對與流經成形體之側面之熔融玻璃、或由熔融玻璃離開成形體之下端而形成的平板玻璃之搬送方向正交之寬度方向之溫度分佈進行調整，藉此，可抑制板厚度偏差。
10‧‧‧成形體
11‧‧‧下端
12‧‧‧槽
13a‧‧‧側面
13b‧‧‧傾斜面
14‧‧‧玻璃供給管
20‧‧‧分隔板
30‧‧‧冷卻輥
40a~40h‧‧‧隔熱構件
42a‧‧‧下部空間
42b~42h‧‧‧緩冷空間
50a~50h‧‧‧進給輥
60a~60h‧‧‧溫度控制單元
70‧‧‧檢測裝置
80、80a、80b、80c‧‧‧遮蔽構件
100‧‧‧玻璃板製造裝置
200‧‧‧熔解槽
300‧‧‧澄清槽
400‧‧‧成形裝置
410‧‧‧上部空間
412‧‧‧爐壁
414‧‧‧加熱器
420‧‧‧緩冷區
A‧‧‧位置
B‧‧‧位置
G‧‧‧平板玻璃
MG‧‧‧熔融玻璃
圖1係本實施形態之玻璃板製造裝置之一例之概略構成圖。
圖2係本實施形態之成形裝置之一例之剖面概略構成圖。
圖3係本實施形態之成形裝置之一例之側面概略構成圖。
圖4係將配置有成形體之本實施形態之成形爐室之上部空間的一例放大而進行說明之圖。
圖5係對本實施形態之使用有遮蔽構件之平板玻璃之溫度分佈的調整之一例進行說明之圖。
圖6係對本實施形態之使用有遮蔽構件之平板玻璃之溫度分佈的調整之其他例子進行說明之圖。
以下，對本實施形態之玻璃板之製造方法及玻璃板製造裝置進行說明。圖1係本實施形態之玻璃板製造裝置之一例之概略構成圖。
如圖1所示，玻璃板製造裝置100包含熔解槽200、澄清槽300、及成形裝置400。於熔解槽200中，玻璃之原料熔解而生成熔融玻璃。熔解槽200中所生成之熔融玻璃被送向澄清槽300。於澄清槽300中，將熔融玻璃中所含之氣泡除去。於澄清槽300中除去氣泡後之熔融玻璃被送向成形裝置400。於成形裝置400中，例如藉由溢流下拉法而自熔融玻璃連續地使平板玻璃G成形。其後，成形後之平板玻璃G經冷卻，被切斷為特定大小之玻璃板。平板玻璃G例如用作顯示器用玻璃基板(例如液晶顯示器用玻璃基板、電漿顯示器用玻璃基板、有機EL(Electroluminescence，電致發光)顯示器用玻璃基板)、覆蓋玻璃或磁碟用等之強化玻璃用玻璃基板、捲繞為捲筒狀之玻璃基板、積層有半導體晶圓等電子元件之玻璃基板。
其次，對成形裝置400之詳細構成進行說明。圖2係成形裝置之一例之剖面概略構成圖，圖3係成形裝置之一例之側面概略構成圖。圖4係將配置有成形體之成形爐室之上部空間之一例放大而進行說明的圖。
於成形裝置400中進行成形步驟、冷卻步驟、及調整步驟，上述成形步驟係藉由溢流下拉法而製造平板玻璃之步驟，上述冷卻步驟係對成形後之平板玻璃進行冷卻之步驟，上述調整步驟係於製造平板玻璃時，對與熔融玻璃或平板玻璃之搬送方向正交之寬度方向之溫度分佈進行調整之步驟。
如圖2~圖4所示，成形裝置400包括成形體10、分隔板20、冷卻 輥30、隔熱構件40a、40b、...、40h、進給輥50a、50b、...、50h、及溫度控制單元(溫度控制裝置)60a、60b、...、60h。又，成形裝置400具有：成形爐室之上部空間410，其為較分隔板20更靠上方之空間；成形爐室之下部空間42a，其為分隔板20正下方之空間；及緩冷區420，其為下部空間42a下方之空間。緩冷區420具有複數個緩冷空間42b、42c、...、42h。下部空間42a、緩冷空間42b、緩冷空間42c、...、緩冷空間42h依序自鉛垂方向上方向下方積層。上部空間410、下部空間42a、及緩冷區420由耐火材及/或隔熱材建築物(未圖示)包圍，於下部空間42a、緩冷區420中進行平板玻璃G之冷卻步驟，溫度控制單元60a等將下部空間42a、緩冷區420控制為適合於使平板玻璃G成形、冷卻之溫度。
如圖4所示，上部空間410利用爐壁412而與外部空間隔開，該爐壁412包含作為耐火材且作為隔熱材之構件。於爐壁412之面向上部空間410之內壁面，對準成形體10之高度方向(圖4中之紙面上下方向)之設置位置而設置有複數個對上部空間410之環境及爐壁412進行加熱之加熱器414。
如圖2或圖4所示，成形體10為具有大致楔狀之剖面形狀之構件。成形體10係以使大致楔狀之下端11成為最下部之方式而配置於上部空間410。如圖2、圖4所示，於成形體10之上端面形成有槽12。槽12形成於成形體10之長度方向，即圖3之紙面左右方向。於槽12之一端部設置有玻璃供給管14。槽12係以如下方式形成，即，隨著自設置有玻璃供給管14之一端部向另一端部靠近而逐步變淺。於成形體10之長度方向之兩端，安裝有防止熔融玻璃MG自側壁溢出之導引件。自槽12溢出之熔融玻璃MG流經成形體10之兩側面13a、兩傾斜面13b，於下端11處融合而成形平板玻璃G。所謂熔融玻璃MG或平板玻璃G之寬度方向，係指熔融玻璃MG之表面或平板玻璃G之表面的面內之方 向中與搬送之搬送方向正交之方向。此處，於平板玻璃G兩側之端部形成如下部分，該部分之厚度相對於平板玻璃G之寬度方向中央之板厚度而變厚。又，於平板玻璃G兩側之端部受到夾持之寬度方向之區域即中央區域與端部相比較，薄且保有熱量小。因此，保有熱量容易因溫度不均等而發生變化，容易產生翹曲、應變。因此，必需嚴格地對中央區域之冷卻量進行管理。於本實施形態中，使於成形體10之下端11融合之熔融玻璃MG、平板玻璃G之溫度、黏度的調整精度提高，藉此，抑制包含平板玻璃G之凹凸即脈理之板厚度偏差。以下，將於成形體10之下端11融合之前的玻璃稱為熔融玻璃MG，將於下端11融合之後的玻璃稱為平板玻璃G。對於薄板玻璃而言，產生板厚度偏差則欠佳，尤其對於用作顯示器用玻璃基板之玻璃板而言，若部分地產生板厚度偏差，則會對顯示器之顯示精度造成較大之不良影響，因此欠佳。
分隔板20為配置於成形體10之下端11附近之板狀之隔熱材。分隔板20係以使其下端之高度方向之位置位於自成形體10之下端11之高度方向之位置靠下方的位置之方式而配置。如圖2及圖4所示，分隔板20配置於平板玻璃G之厚度方向之兩側。分隔板20分隔成形爐室之上部空間410與成形爐室之下部空間42a，藉此，抑制熱自上部空間410向下部空間42a移動。藉由作為隔熱材之分隔板20而分隔上部空間410與下部空間42a之目的在於：於上部空間410與下部空間42a各自中，針對空間內之溫度，以使兩空間不彼此影響之方式而進行溫度控制。又，以抑制自緩冷區420進入至上部空間410之上升氣流之體積流量之方式，預先對平板玻璃G與分隔板20之間的間隔進行調節而配置分隔板20。
冷卻輥30於下部空間42a中，配置於分隔板20附近。又，冷卻輥30配置於平板玻璃G之厚度方向之兩側，於厚度方向上夾持平板玻璃 G，且發揮如下作用，即，一面向下方搬送平板玻璃G，一面對平板玻璃G之端部進行冷卻。沿成形體10之側面13a、傾斜面13b流下之熔融玻璃MG離開成形體10之下端11，同時，平板玻璃G藉由表面張力而向寬度方向收縮。
冷卻輥30夾住相對於向寬度方向收縮之平板玻璃G兩側之端部而與中央區域之側相鄰接之部分，藉此，一面防止平板玻璃G向寬度方向收縮，一面對平板玻璃G進行冷卻。藉此，抑制平板玻璃G向寬度方向收縮，從而抑制產生於平板玻璃G之應變、板厚度偏差、凹凸。然而，若成形體10之下端11處之平板玻璃G之黏性高，且平板玻璃G之收縮率大，則存在無法藉由冷卻輥30而抑制應變、板厚度偏差、凹凸之情形。因此，於本實施形態中，利用遮蔽構件80對成形體10之下端11處之熱管理進行調整，藉此，可提高熱管理之精度，抑制板厚度偏差。即，為了防止平板玻璃G向平板玻璃G之寬度方向收縮，對平板玻璃進行冷卻之步驟包含利用冷卻輥30對平板玻璃G兩側之端部進行冷卻之步驟，上部空間410相對於與設置冷卻輥30之下部空間42a分隔之分隔板20，位於平板玻璃G之搬送方向上游側，遮蔽構件80設置於上部空間410。
隔熱構件40a、40b、...、40h於緩冷區420中，相對於平板玻璃G之搬送方向(鉛垂方向下方)，將緩冷區420分隔為複數個緩冷空間42b、42c、...、42h，抑制分割而成之各緩冷空間之熱移動。又，隔熱構件40a、40b、...、40h為配置於冷卻輥30之下方且配置於平板玻璃G之厚度方向之兩側的板狀之構件，其具有向搬送方嚮導引平板玻璃G之狹縫狀之空間。如上所述，下部空間42a與緩冷區420由耐火材及/或隔熱材建築物(未圖示)包圍，但於緩冷區420中存在將平板玻璃G搬出之狹縫狀之空間，又，於隔熱材建築物等中存在一部分微細之間隙。因此，藉由煙囪效應，於緩冷區420中產生自鉛垂方向下方朝 向下部空間42a之上升氣流。該氣流沿平板玻璃G上升，藉由氣流對平板玻璃G進行冷卻，因此，較佳為存在抑制該氣流之隔熱構件40a、40b、...、40h。例如，如圖2所示，隔熱構件40a形成下部空間42a與緩冷空間42b，隔熱構件40b形成緩冷空間42b與緩冷空間42c。隔熱構件40a、40b、...、40h抑制上下之空間之空間的熱移動。例如，隔熱構件40a抑制下部空間42a與緩冷空間42b之間的熱移動及上升氣流，隔熱構件40b抑制緩冷空間42b與緩冷空間42c之間的熱移動及上升氣流。
進給輥50a、50b、...、50h於緩冷區420中，於鉛垂方向上以特定間隔於平板玻璃G之厚度方向之兩側配置複數個。進給輥50a、50b、...、50g分別配置於緩冷空間42b、42c、...、42h，且向下方搬送平板玻璃G。
溫度控制單元60a、60b、...、60h例如包含藉由電阻加熱、感應加熱、微波加熱而發熱之護套加熱器、匣式加熱器、陶瓷加熱器、及溫度感測器等，且分別沿平板玻璃G之寬度方向而配置於下部空間42a及緩冷空間42b、42c、...、42h，對下部空間42a及緩冷空間42b、42c、...、42h之環境溫度進行測定、控制。又，溫度控制單元60a、60b、...、60h係以形成特定之溫度分佈(以下稱為「溫度分佈」)之方式，對下部空間42a及緩冷空間42b、42c、...、42h之環境溫度進行控制，該特定之溫度分佈(以下稱為「溫度分佈」)經設計，不會使平板玻璃G產生翹曲、應變。於對溫度控制單元60a、60b、...、60h進行總稱之情形時，記載為溫度控制單元60。再者，所謂上游側，係指與平板玻璃G之搬送方向相反之方向側，於本實施形態中，係指自緩冷區420觀察之成形體10側。
檢測裝置70為測定玻璃板厚度之裝置，例如包含光學感測器，且按特定寬度(例如1mm之寬度)，對自緩冷區搬送而來之平板玻璃之 板厚度進行測定。檢測裝置70對測定出之玻璃板厚度中的超過基準值且板厚度較厚或較薄之部分(凸部或凹部)進行檢測，將該位置設為厚度偏差之產生位置。根據該厚度偏差之寬度及程度(凸部之高度或凹部之深度)，使遮蔽構件80接近或分離，從而對玻璃片材或熔解玻璃之寬度方向之溫度分佈進行調節。
於板厚度較薄之部分之溫度分佈之調整中，使遮蔽構件80接近板厚度較薄之部分，從而遮蔽來自加熱器之熱。藉此，當板厚度較薄之部分之黏度局部地上升，玻璃於寬度方向上被拉伸時，玻璃之流動受到抑制。
於板厚度較厚之部分之溫度分佈之調整中，使遮蔽構件80接近與板厚度較厚之部分相鄰接之部分，從而阻斷來自加熱器之熱。藉此，與板厚度較厚之部分相鄰接之部分之黏度上升，玻璃之流動受到抑制，由於板厚度較厚之部分之玻璃流向兩側，故而可抑制厚度偏差。
藉由反覆地進行上述溫度分佈之調整，將玻璃寬度方向之每特定間隔之厚度偏差調整為特定值以下。
關於厚度偏差，可使用上述檢測裝置，根據玻璃板厚度之測定值，按玻璃寬度方向之每特定間隔(例如20mm、100mm、300mm)，檢測最大玻璃板厚度(tmax)與最小玻璃板厚度(tmax)，計算最大玻璃板厚度(tmax)與最小玻璃板厚度(tmax)之差即厚度偏差(tmax-tmax)。即，根據特定間隔之資料而檢測最大玻璃板厚度(tmax)與最小玻璃板厚度(tmax)，從而計算最大玻璃板厚度(tmax)與最小玻璃板厚度(tmax)之差即厚度偏差(tmax-tmax)。藉此，可獲得每特定間隔之厚度偏差(tmax-tmax)。
關於與熔融玻璃MG或平板玻璃G之搬送方向正交之寬度方向之溫度分佈的調整，較佳為以使冷卻步驟中所獲得之平板玻璃之玻璃寬 度方向每20mm之最大玻璃板厚度(tmax)與最小玻璃板厚度(tmin)之間的厚度偏差(tmax-tmin)分別為15μm以下之方式而進行調整。進而，較佳為以使玻璃寬度方向每100mm之最大玻璃板厚度(tmax)與最小玻璃板厚度(tmin)之間的厚度偏差(tmax-tmin)分別為20μm以下之方式而進行調整。進而，較佳為以使玻璃寬度方向每300mm之最大玻璃板厚度(tmax)與最小玻璃板厚度(tmin)之間的厚度偏差(tmax-tmin)分別為25μm之方式而進行調整。進而，較佳為以使玻璃寬度方向之最大玻璃板厚度(tmax)與最小玻璃板厚度(tmin)之差(tmax-tmin)為25μm以下之方式而進行調整。
遮蔽構件80只要為遮蔽爐壁412之熱之棒狀構件，則並無特別限定，但遮蔽構件80之材質較佳為例如以鋁或二氧化矽為原料之陶瓷。於將平板玻璃G設為遮蔽對象之情形時，遮蔽構件80係以夾持平板玻璃G之方式，相對於平板玻璃G之面而設置於兩側。又，於將沿成形體10之兩側面流下之熔融玻璃MG設為遮蔽對象之情形時，遮蔽構件80設置於熔融玻璃MG之朝向上部空間410之面側。
遮蔽構件80貫通爐壁412而自爐壁412之外部空間延伸至上部空間410內。以於平板玻璃G或熔融玻璃MG之寬度方向上排列為一行之方式而連續地配置有複數個作為棒狀構件之遮蔽構件80。遮蔽構件80各自係以可相對於平板玻璃G或熔融玻璃MG之表面前進、後退之方式構成。一個遮蔽構件80之沿著平板玻璃G之寬度方向之長度例如為8mm~12mm。
上述遮蔽構件80例如係以將熱阻斷之方式構成，使得平板玻璃G或熔融玻璃MG不會接受加熱器414之輻射熱、或上部空間410內之氣體之熱而被加熱。即，以使平板玻璃G或熔融玻璃MG於平板玻璃G或熔融玻璃MG之寬度方向之一部分不會自上部空間410受熱之方式，使遮蔽構件80靠近平板玻璃G或熔融玻璃MG之表面。如此，遮蔽構件 80部分地將熱阻斷，藉此，可對平板玻璃G或熔融玻璃MG之寬度方向之溫度分佈進行調整。
如上所述，檢查裝置70可特定產生有厚度偏差之凹部或凸部於平板玻璃G之寬度方向上之位置，因此，基於該寬度方向之位置，使選自複數個遮蔽構件80中之棒狀之遮蔽構件80靠近平板玻璃G或熔融玻璃MG之表面，藉此，可對寬度方向之溫度分佈進行調整。
具體而言，檢測裝置70於檢測出板厚度局部地變薄之板厚度偏差之情形時，特定板厚度變薄之平板玻璃G或熔融玻璃MG之寬度方向之位置。使用未圖示之驅動機構而使遮蔽構件80前進，使得棒狀之遮蔽構件80靠近與上述位置相對應之平板玻璃G或熔融玻璃MG之寬度方向之對應位置。圖5係對使用有遮蔽構件之平板玻璃G之溫度分佈之調整的一例進行說明之圖。圖5係自平板玻璃G之搬送方向上游側觀察之圖。圖5所示之例子為如下例子，即，於寬度方向之位置A，板厚度沿寬度方向局部地變薄而產生了凹部，從而產生了應抑制之板厚度偏差。此時，使複數個遮蔽構件80中之對應於位置A之棒狀構件80a自平板玻璃G之兩側靠近平板玻璃G之表面。藉此，於位置A，來自上部空間410之熱被阻斷，因此，位置A之溫度局部地降低，位置A之玻璃黏度上升。因此，當熔融玻璃MG離開成形體10，平板玻璃G因表面張力而向寬度方向收縮，且平板玻璃G於寬度方向上受到拉伸時，於位置A，與未利用遮蔽構件80a而將熱阻斷之情形相比較，可抑制因局部上升之玻璃黏度而導致位置A處之平板玻璃G之板厚度局部地變薄。即，可抑制板厚度偏差。於圖5所示之例子中，將平板玻璃G設為溫度分佈之調整對象，但較佳亦為將流經成形體10之熔融玻璃MG設為溫度分佈之調整對象。
圖6係對使用有遮蔽構件80之平板玻璃G之溫度分佈之調整的其他例子進行說明之圖。圖6係自平板玻璃G之搬送方向上游側觀察之 圖。圖6所示之例子為如下例子，即，於寬度方向之位置B，板厚度沿寬度方向局部地變厚而產生了凸部，從而產生了應抑制之板厚度偏差。此時，以於複數個遮蔽構件80中的夾持板厚度偏差之寬度方向之產生位置即位置B之兩側的位置，使平板玻璃G不接受上部空間410之熱之方式，於該兩側之位置，使遮蔽構件80b、80c靠近平板玻璃G之表面。藉此，於位置B之兩側，來自上部空間410之熱被阻斷，因此，位置B兩側之位置之溫度局部地降低，玻璃黏度上升。因此，當熔融玻璃MG離開成形體10，平板玻璃G因表面張力而向寬度方向收縮，且平板玻璃G於寬度方向上受到拉伸時，於夾持位置B之兩側之位置，與未利用遮蔽構件80b、80c而將熱阻斷之情形相比較，玻璃之流動因局部上升之玻璃黏度而受到抑制，另一方面，由於位置B之玻璃容易流向兩側，故而可抑制位置B處之平板玻璃G之板厚度局部地變厚。即，可抑制板厚度偏差。於圖6所示之例子中，將平板玻璃G設為溫度分佈之調整對象，但較佳亦為將流經成形體10之熔融玻璃MG設為溫度分佈之調整對象。
再者，於圖5、圖6所示之例子中，於位置A、位置B兩側之位置，使遮蔽構件80a、遮蔽構件80b、80c靠近平板玻璃G之表面，但較佳為將平板玻璃G之表面與遮蔽構件80a、遮蔽構件80b、80c之前端之間的分離距離設定於1mm~15mm之範圍。尤其，較佳為根據位置A、B之板厚度偏差之程度例如平板玻璃G之凹凸之深度或高度之程度(厚度偏差之程度)，對遮蔽構件80a或遮蔽構件80b、80c與平板玻璃G之表面之分離距離進行調整。例如，板厚度偏差之程度越大，則較佳為減小上述分離距離。於板厚度偏差之程度大之情形時，寬度方向之溫度分佈之變動亦大，因此，為了增大阻斷之程度，以使平板玻璃G難以自上部空間410受熱，較佳為進一步減小上述分離距離。
又，於圖5、圖6所示之例子中，於位置A、位置B兩側之位置， 僅使遮蔽構件80a、遮蔽構件80b、80c靠近平板玻璃G之表面，但雖不及遮蔽構件80a、遮蔽構件80b、80c，亦可使與遮蔽構件80a、遮蔽構件80b、遮蔽構件80c相鄰之遮蔽構件80靠近平板玻璃G之表面。
於本實施形態中，熔融玻璃MG或平板玻璃G於處於軟化點(玻璃黏度相當於107.6泊時之玻璃之溫度)以上之溫度之區域中進行。即，使用遮蔽構件80進行之熔融玻璃MG或平板玻璃G之溫度分佈之調整係於熔融玻璃MG或平板玻璃G之黏度處於107.6泊以下時進行。根據可效率良好地減少板厚度偏差之觀點，較佳為例如於玻璃黏度為104.3泊~107.5泊之區域中，使用遮蔽構件80而對熔融玻璃MG或平板玻璃G之溫度分佈進行調整。玻璃黏度為104.3泊~105.5泊之區域更佳。又，根據可效率良好地減少板厚度偏差之觀點，較佳為於成形體10之下端11或較該下端11更靠搬送方向上游側處，使用遮蔽構件80而調整溫度分佈。於上述黏度之區域中，使溫度分佈局部地發生變化，藉此，可有效果地抑制產生板厚度偏差。
又，於本實施形態中，較佳為根據產生於熔融玻璃MG或平板玻璃G之凹部或凸部之寬度方向之尺寸，對靠近熔融玻璃MG或平板玻璃G之表面之遮蔽構件80之搬送方向之位置進行調整。於已於熔融玻璃MG或平板玻璃G產生凹部或凸部之情形時，較佳為於成形體10之下端11與向搬送方向下游側或上游側離開下端11達50mm之位置之間調整溫度分佈。又，更佳為於成形體10之下端11與向搬送方向下游側或上游側離開該下端11達20mm之位置之間調整溫度分佈。進而較佳為於成形體10之下端11之高度位置(搬送方向之位置)調整溫度分佈。為了抑制板厚度偏差而進行溫度調整之搬送方向之位置、與使遮蔽構件80靠近平板玻璃G或熔融玻璃MG之表面之分離距離係根據上述凹部或凸部之程度(凹凸之程度)與寬度而預先被決定，可根據檢測出之凹部或凸部之程度(凹凸之程度)與寬度，設定進行溫度調整之搬送方 向之位置與分離距離。
於本實施形態中，成形爐室藉由分隔板20而分隔(劃分)上部空間410與下部空間42a，使平板玻璃G經由分隔板20之間的狹縫孔而進入至下部空間42a，對平板玻璃G進行冷卻。
此時，遮蔽構件80較佳為由分隔板20支持。上部空間410之環境溫度極高，因此，棒狀之遮蔽構件80由於細長，故而容易因自重而彎曲。因此，若以不使遮蔽構件80發生變形之方式，由分隔板20自下方支持遮蔽構件80，則可於平板玻璃G或熔融玻璃MG之搬送方向之特定位置調整溫度分佈。若對溫度分佈進行調整之搬送方向之位置因遮蔽構件80之熱變形而稍微偏離目標位置，則欲調整溫度分佈之玻璃黏度容易不同，因此，難以正確地抑制板厚度偏差。
搬送方向上之溫度調整位置會因產生於熔融玻璃MG或平板玻璃G之凹部或凸部之寬度而有所不同。因此，於變更溫度調整位置之情形時，較佳為例如藉由使分隔板20之厚度發生變化而改變支持於分隔板20之遮蔽構件80之搬送方向之位置，藉此，對欲調整溫度分佈之搬送方向之位置進行調整。
又，較佳亦為設置兩個分隔板20，且以夾持於分隔板20之間的方式而設置遮蔽構件80。
於爐壁412中，包含玻璃纖維之玻璃絨塞入至開口部而堵塞開口部，但可向熔融玻璃MG或平板玻璃G之方向，將分隔板20及遮蔽板80插入至該部分。因此，於使遮蔽構件80之搬送方向之位置位於搬送方向上游側之情形時，可藉由使分隔板20之板厚變厚而對遮蔽板80之位置進行調整。
如此，於本實施形態中，於與自成形體10流下之熔融玻璃MG或平板玻璃G之搬送方向正交之寬度方向上，利用遮蔽構件80而部分地阻斷熔融玻璃MG或平板玻璃G接受來自上部空間410之熱，藉此，可 對熔融玻璃MG或平板玻璃G之寬度方向之溫度分佈進行調整，因此，可抑制容易產生於玻璃板之搬送方向之板厚度偏差。
以上，詳細地對本發明之玻璃板之製造方法及玻璃板製造裝置進行了說明，但本發明並不限定於上述實施形態，當然亦可於不脫離本發明宗旨之範圍內進行各種改變或變更。
80、80a‧‧‧遮蔽構件
A‧‧‧位置
G‧‧‧熔融玻璃

Claims (11)

  1. 一種玻璃基板之製造方法，其特徵在於包括：成形步驟，其使自處於經加熱之成形爐室之上部空間內的成形體上部溢流之熔融玻璃沿上述成形體之兩側面流下之後，使熔融玻璃於上述成形體之下端合流，而製造被搬送之平板玻璃；冷卻步驟，其對上述平板玻璃進行冷卻；及調整步驟，其於與上述熔融玻璃或上述平板玻璃之搬送方向正交之寬度方向上，利用遮蔽構件而部分地阻斷上述熔融玻璃或上述平板玻璃接受來自上述上部空間之熱，藉此，對上述熔融玻璃或上述平板玻璃之上述寬度方向之溫度分佈進行調整；當於上述熔融玻璃或上述平板玻璃中產生凸部而產生厚度偏差時，於上述調整步驟中，使上述遮蔽構件靠近夾持上述凸部之上述寬度方向之產生位置的上述寬度方向之兩側之位置而調整上述溫度分佈，使得於上述兩側之位置，上述熔融玻璃或上述平板玻璃不會接受上述上部空間之熱。
  2. 如請求項1之玻璃基板之製造方法，其中於上述調整步驟中，利用遮蔽構件而部分地阻斷上述熔融玻璃或上述平板玻璃接受來自上述上部空間之熱，藉此，對上述熔融玻璃或上述平板玻璃之上述寬度方向之溫度分佈進行調整，使得於上述冷卻步驟中獲得之平板玻璃之玻璃寬度方向每20mm所獲得的最大玻璃板厚度tmax與最小玻璃板厚度tmin之差tmax-tmin分別為15μm以下。
  3. 如請求項1或2之玻璃基板之製造方法，其中於上述調整步驟中，對上述熔融玻璃或上述平板玻璃之上述寬度方向之溫度分佈進行調整，使得於上述冷卻步驟中獲得之平板玻璃之玻璃寬 度方向每100mm所獲得的最大玻璃板厚度tmax與最小玻璃板厚度tmin之差tmax-tmin分別為20μm以下。
  4. 如請求項1或2之玻璃基板之製造方法，其中當於上述熔融玻璃或上述平板玻璃中產生凹部而產生厚度偏差時，於上述調整步驟中，使上述遮蔽構件靠近上述凹部之寬度方向之產生位置而調整上述溫度分佈，使得於上述凹部之產生位置，上述熔融玻璃或上述平板玻璃不會接受上述上部空間之熱。
  5. 如請求項1或2之玻璃基板之製造方法，其中根據上述厚度偏差之程度，對上述遮蔽構件與上述平板玻璃之表面之分離距離進行調整。
  6. 如請求項1或2之玻璃基板之製造方法，其中上述調整步驟於上述熔融玻璃或上述平板玻璃之黏度為107.6泊以下時進行。
  7. 如請求項1或2之玻璃基板之製造方法，其中於上述成形體之上述下端與向上述熔融玻璃或上述平板玻璃之搬送方向下游側或上游側離開上述下端達50mm之位置之間，進行上述調整步驟。
  8. 如請求項1或2之玻璃基板之製造方法，其中上述冷卻步驟包含為了防止上述平板玻璃向上述平板玻璃之寬度方向收縮而利用冷卻輥對上述平板玻璃之兩側之端部進行冷卻的步驟，上述上部空間相對於與設置上述冷卻輥之下部空間分隔之分隔板，位於上述平板玻璃之搬送方向上游側，上述遮蔽構件設置於上述上部空間。
  9. 如請求項8之玻璃基板之製造方法，其中上述成形爐室使上述平板玻璃經由上述分隔板之間的狹縫孔而進入至上述下部空間，上述遮蔽構件由上述分隔板支持。
  10. 如請求項9之玻璃基板之製造方法，其中使上述分隔板之厚度或高度發生變化，藉此，調整使用上述遮蔽構件而調整上述溫度 分佈之搬送方向之位置。
  11. 一種玻璃基板製造裝置，其特徵在於包括：成形爐室；成形體，其設置於上述成形爐室之上部空間內，使熔融玻璃溢流而沿兩側面流下之後，使熔融玻璃於下端合流而製造被搬送之平板玻璃；熱源，其對上述上部空間之壁及上述上部空間內之環境進行加熱；及遮蔽構件，其於與上述熔融玻璃或上述平板玻璃之搬送方向正交之寬度方向上，部分地阻斷上述熔融玻璃或上述平板玻璃接受來自上述上部空間之熱，藉此，對上述熔融玻璃或上述平板玻璃之上述寬度方向之溫度分佈進行調整；當於上述熔融玻璃或上述平板玻璃中產生凸部而產生厚度偏差時，使上述遮蔽構件靠近夾持上述凸部之上述寬度方向之產生位置的上述寬度方向之兩側之位置，使得於上述兩側之位置，上述熔融玻璃或上述平板玻璃不會接受上述上部空間之熱。
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