TWI685684B - 附黏著劑層的偏光板 - Google Patents

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日商日東電工股份有限公司
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Abstract

本發明涉及附黏著劑層的偏光板。提供了一種幾乎不翹曲的附黏著劑層的薄型偏光板。本發明的附黏著劑層的偏光板依次包括第一黏著劑層、保護薄膜及偏光膜，其中：所述偏光膜的厚度為13μm以下；所述保護薄膜與所述偏光膜的厚度之比(所述保護薄膜的厚度/所述偏光膜的厚度)為1.5至9.0；且當將500g的負荷施加至所述第一黏著劑層1小時時的潛變量為20μm/h至300μm/h。

Description

附黏著劑層的偏光板
本發明涉及一種附黏著劑層的偏光板。
背景技術
近年來，影像顯示裝置，特別是用於移動應用的影像顯示裝置的薄型化一直在發展，因此存在對要用於影像顯示裝置中的偏光板的薄型化不斷增長的要求。已經提出下列構成的偏光板作為薄型偏光板(例如，專利文獻1)：沒有設置用於保護偏光膜的保護薄膜，並且黏著劑層直接形成在偏光膜上，使得偏光板能夠黏著到任何其他構件。
同時，已經要求改進要用於偏光板的黏著的黏著劑層的高功能化。例如，已知含有離子性化合物與具有抗靜電功能的黏著劑層以及含有表面活性劑與具有再剝離性的黏著劑層。然而，如上所述包括直接設置在偏光膜上的黏著劑層的偏光板涉及一個問題，即偏光膜由於在黏著劑層中的添加劑而劣化。此外，包括直接設置在偏光膜上的黏著劑層的偏光板涉及一個問題，即偏光膜中的物質(如碘)污染作為被黏物的任何其他構件。
取決於待使用的黏著劑，涉及僅在偏光膜的一側 上設置保護薄膜的方法作為解決所述問題的方法是可想到的。然而，當如此構成的偏光板黏著到任何其他構件時，例如出現以下問題。如圖5中所示，發生翹曲，從而造成偏光膜與保護薄膜不必要的剝離，或者造成在偏光膜的端部的外觀異常。此種現象，特別是在當前與其中裝置使用包括用於移動應用的影像顯示裝置的室外使用的環境的多樣化相關的影像顯示裝置頻繁地在嚴酷環境中(例如高溫及高濕度下)使用的情況下，成為問題。
特許文獻1：國際公開第2009/069799號小冊子
發明概要
進行本發明以解決傳統的問題，並且本發明的主要目的是提供一種附黏著劑層的薄型偏光板(更具體地，其中保護薄膜僅設置在偏光膜的一側上的偏光板)，附黏著劑層的偏光板幾乎不翹曲。
本發明的附黏著劑層的偏光板依次包括第一黏著劑層、保護薄膜及偏光膜，其中：所述偏光膜的厚度為13μm以下；所述保護薄膜與所述偏光膜的厚度之比(保護薄膜的厚度/偏光膜的厚度)為1.5至9.0；並且當將500g的負荷施加至所述第一黏著劑層1小時時的潛變量為20μm/h至300μm/h。
在本發明的一個實施方式中，保護薄膜的厚度為5μm至60μm。
在本發明的一個實施方式中，第一黏著劑層包含丙烯酸系黏著劑。
在本發明的一個實施方式中，丙烯酸系黏著劑包含丙烯酸系聚合物作為基礎聚合物，並且丙烯酸系聚合物實質上不含有具有羧基的構成單元。
在本發明的一個實施方式中，丙烯酸系黏著劑包含丙烯酸系聚合物作為基礎聚合物，並且丙烯酸系聚合物包含衍生自(甲基)丙烯酸烷基酯的構成單元及衍生自含有羥基的單體的構成單元。
在本發明的一個實施方式中，含羥基的單體包括丙烯酸4-羥基丁酯。
在本發明的一個實施方式中，丙烯酸系黏著劑包含酚系抗氧化劑。
在本發明的一個實施方式中，丙烯酸系黏著劑包含基礎聚合物及多種交聯劑；且該多種交聯劑為過氧化物系交聯劑、環氧系交聯劑或異氰酸酯系交聯劑。
根據本發明的另一方面，提供了一種光學積層體。該光學積層體依次包括所述附黏著劑層的偏光板、第二黏著劑層及光學薄膜，其中所述第二黏著劑層設置在與附黏著劑層的偏光板的偏光膜的所述保護薄膜相反側的面上。
在本發明的一個實施方式中，第二黏著劑層的厚度為3μm至18μm。
在本發明的一個實施方式中，光學薄膜的厚度為10μm至30μm。
在本發明的一個實施方式中，光學薄膜包括亮度提升薄膜。
在本發明的一個實施方式中，光學積層體的厚度為100μm以下。
在本發明的一個實施方式中，當光學積層體的保護薄膜側表面與無鹼玻璃經由黏著劑彼此黏合，且所述光學積層體在70℃環境下放置200小時時，偏光膜的吸收軸方向中的該積層體的收縮率為0.4%以下。
根據本發明的另一方面，提供了一種該光學積層體的製備方法。該光學積層體的製備方法包括：分別製備所述附黏著劑層的偏光板、及偏光膜與第二黏著劑層的積層體I；並且將所述附黏著劑層的偏光板和所述積層體I積層。
根據本發明，依次積層顯示出特定的潛變量的第一黏著劑層、保護薄膜及薄型偏光膜，且保護薄膜與偏光膜的厚度之比(保護薄膜的厚度/偏光膜的厚度)設定為1.5至9.0，由此獲得僅使用一個保護薄膜的薄型的附黏著劑層的偏光板，並且可以獲得附黏著劑層的偏光板，儘管是如此的構成但其在高溫或高溫高濕下都幾乎沒有翹曲。本發明的附黏著劑層的偏光板幾乎不翹曲，因此可以防止不必要的層間剝離(第一黏著劑層及保護薄膜之間的剝離)及起泡，並且可以防止在偏光板的端部發生外觀異常。
10‧‧‧第一黏著劑層
20‧‧‧保護薄膜
30‧‧‧偏光膜
40‧‧‧第二黏著劑層
50‧‧‧光學薄膜
100‧‧‧偏光板
200‧‧‧光學積層體
A‧‧‧積層體
B‧‧‧保護薄膜
a‧‧‧部分
x‧‧‧中心面
圖1是根據本發明一個實施方式的附黏著劑層的 偏光板的示意性截面圖。
圖2是用於說明在一側保護偏光板中的翹曲趨勢的示意性截面圖。
圖3是根據本發明一個實施方式的光學積層體的示意性截面圖。
圖4是用於說明在本發明光學積層體中所用的線性偏光分離薄膜的實例的示意性透視圖。
圖5是用於說明在一側保護的偏光板中的翹曲趨勢的示意圖。
圖6(a)是實施例1的偏光板的端部的顯微照片及圖6(b)是比較例1的偏光板的端部的顯微照片。
用以實施發明的形態
A.附黏著劑層的偏光板的整體構成
圖1是根據本發明一個實施方式的附黏著劑層的偏光板的示意性截面圖。圖1的附黏著劑層的偏光板100依次包括第一黏著劑層10、保護薄膜20及偏光膜30。偏光膜30的厚度為13μm以下。此外，保護薄膜20與偏光膜30的厚度之比(保護薄膜/偏光膜)為1.5至9.0。本發明的附黏著劑層的偏光板包括僅一個保護薄膜。應當注意的是，本發明的附黏著劑層的偏光板可以包括任何適當的其他層，雖然該層未示出。例如，所述板可在第一黏著劑層與保護薄膜之間包括錨固層。
在本發明中，在第一黏著劑層10與偏光膜30之間 設置保護薄膜20防止了第一黏著劑層中的組分向偏光膜移動，所述組分如增黏劑、抗靜電材料、表面活性劑或單體組分，因此防止了偏光膜的劣化(如其透過率的降低)。此外，所述設置防止偏光膜中的組分(如碘或鉀)向被黏物移動，因此防止了被黏物的污染。
同時，在偏光膜的一側上包括保護薄膜的積層體易於引起如下的翹曲：因為在高溫下保護薄膜起到作為熱膨脹的層的作用及偏光膜起到作為熱收縮的層的作用，所以其保護薄膜側成為凸面。在如圖1所示的附黏著劑層的偏光板100中，包括保護薄膜20及偏光膜30的積層體A趨於朝向圖面的上方翹曲，但在本發明中，可以藉由以下抑制翹曲：設置第一黏著劑層10；將偏光膜的厚度設定為13μm以下；及將保護薄膜20與偏光膜30的厚度之比(保護薄膜/偏光膜)設定為1.5以上。更具體地，如圖2中所示，當保護薄膜與偏光膜的厚度之比(保護薄膜/偏光膜)小於1.5時，積層體A中偏光膜30(熱收縮的層)與施加壓縮應力的部分a(積層體A的厚度方向中心面x上方的部分)的比率增大。結果，存在的風險在於：在高溫下，待施加到積層體A的彎曲矩增加，因此不能防止積層體A的翹曲。即，在本發明中，可以藉由將保護薄膜與偏光膜的厚度之比(保護薄膜/偏光膜)設定為1.5以上而降低待施加到積層體A的彎曲矩，並且協同第一黏著劑層的存在及偏光膜的薄型化(收縮應力的降低)，可以得到翹曲程度非常小的附黏著劑層的偏光板。在此種附黏著劑層的偏光板中，可以防止層間剝離(第一黏著劑層與保 護薄膜之間的剝離)及起泡，並且可以防止在偏光板的端部產生外觀異常。
如上所述，保護薄膜與偏光膜的厚度之比(保護薄膜/偏光膜)為1.5至9.0，較佳為2.0至6.5，更佳為2.5至5.0。當保護薄膜與偏光膜的厚度之比(保護薄膜/偏光膜)大於9.0時，未獲得薄型的附黏著劑層的偏光板。
B.偏光膜
偏光膜的厚度為13μm以下，較佳為10μm以下，更佳為7μm以下，進一步更佳為6μm以下。使用此種薄型偏光膜可以提供薄型的附黏著劑層的偏光板。此外，抑制偏光膜的收縮應力可以獲得翹曲程度小的附黏著劑層的偏光板。同時，偏光膜的厚度較佳為1μm以上，更佳為2μm以上。
偏光膜在25℃下的彈性模量較佳為1,000MPa至10,000MPa，更佳為2,000MPa至7,000MPa，進一步更佳為2,500MPa至4,000MPa。當彈性模量落在此範圍內時，可以得到翹曲程度小的附黏著劑層的偏光板。例如藉由構成偏光膜的材料的選擇及在製造偏光膜時的拉伸比，可以調節偏光膜的彈性模量。應當注意的是，可按照JIS K 7127的拉伸試驗方法測量彈性模量。具體而言，可以在以下條件下測量彈性模量。
在測定彈性模量(圖的斜率)時的橫坐標軸：應變(%)
在測定彈性模量(圖的斜率)時的縱坐標軸：拉伸應力σ(MPa=N/mm2)=F/試驗片的初始截面積A(mm2)
在測定彈性模量(圖的斜率)時的範圍：在0.05%至 0.25%的應變範圍內的線性回歸
試驗片形狀：帶狀(長度：100mm，寬度：50mm)
卡盤間距(Chuck-to-chuck distance)：100mm
偏光膜沿其吸收軸方向的線性膨脹係數較佳為-50×10-5/℃以上，更佳為-10×10-5/℃以上。偏光膜顯示負的線性膨脹係數(即，收縮與溫度上升相關)，因為該膜是如後所述的拉伸形成的。偏光膜的線性膨脹係數的絕對值較佳盡可能小，但對於偏光膜沿其吸收軸方向的線性膨脹係數的上限例如為-1.0×10-5/℃以下，並且在一個實施方式中為-4.0×10-5/℃以下。應當注意的是，線性膨脹係數是按照JIS K 7197測定的。
偏光膜較佳在380nm至780nm波長範圍內的任何波長處顯示吸收二色性。偏光膜的單片透過率較佳為40.0%以上，更佳為41.0%以上，進一步更佳為42.0%以上，特佳為43.0%以上。偏光膜的偏亮度較佳為99.8%以上，更佳為99.9%以上，進一步更佳為99.95%以上。
偏光膜較佳為碘系偏光膜。更具體地，偏光膜可以由含碘聚乙烯醇系樹脂(以下簡稱為“PVA系樹脂”)膜形成。
可以採用任何適當的樹脂作為用於形成PVA系樹脂膜的PVA系樹脂。所述樹脂的實例包括聚乙烯醇及乙烯-乙烯醇共聚物。聚乙烯醇是藉由將聚乙酸乙烯酯皂化獲得的。乙烯-乙烯醇共聚物是藉由將乙烯-乙酸乙烯酯共聚物皂化獲得的。PVA系樹脂的皂化度典型地為85mol%至 100mol%，較佳為95.0mol%至99.95mol%，更佳為99.0mol%至99.93mol%。皂化度可以按照JIS K 6726-1994測定。使用具有此種皂化度的PVA系樹脂可以提供耐久性優異的偏光膜。當皂化程度過高時，可能發生凝膠化(gelling)。
可以根據目的適當選擇PVA系樹脂的平均聚合度。平均聚合度典型地為1,000至10,000，較佳為1,200至5,000，更佳為1,500至4,500。應當注意的是，平均聚合度可以按照JIS K 6726-1994測定。
偏光膜的製備方法為，例如，包括將PVA系樹脂膜單獨拉伸及染色的方法(I)，或包括將具有樹脂基材及聚乙烯醇系樹脂層的積層體(i)拉伸及染色的方法(II)。省略方法(I)的詳細說明，因為該方法是公知的並在本領域中常規使用。製備方法(II)較佳包括將具有樹脂基材及在樹脂基材的一側上形成的聚乙烯醇系樹脂層的積層體(i)拉伸及染色，從而在樹脂基材上製備偏光膜的步驟。積層體(i)可以藉由將含有聚乙烯醇系樹脂的塗布液施塗到樹脂基材上並乾燥該施塗的液體而形成。此外，積層體(i)可以藉由將聚乙烯醇系樹脂膜轉印到樹脂基材上而形成。例如，日本專利申請特開2012-73580號公報描述了關於製造方法(II)的細節，並在此援用作為參考。
C.保護薄膜
可以採用任何適當的樹脂膜作為保護薄膜。作為用於形成保護薄膜的材料，例如給出：纖維素系樹脂，如三乙醯基纖維素(TAC)；環烯烴系樹脂，如降冰片烯系樹脂；烯 烴系樹脂，如聚乙烯或聚丙烯；聚酯系樹脂；及(甲基)丙烯酸系樹脂。應當注意的是，所謂“(甲基)丙烯酸系樹脂”是指丙烯酸系樹脂及/或甲基丙烯酸系樹脂。
在一個實施方式中，使用具有戊二醯亞胺結構的(甲基)丙烯酸系樹脂作為所述(甲基)丙烯酸系樹脂。具有戊二醯亞胺結構的(甲基)丙烯酸系樹脂(以下有時也稱為戊二醯亞胺樹脂)例如描述在日本專利申請特開2006-309033號公報，日本專利申請特開2006-317560號公報，日本專利申請特開2006-328329號公報，日本專利申請特開2006-328334號公報，日本專利申請特開2006-337491號公報，日本專利申請特開2006-337492號公報，日本專利申請特開2006-337493號公報，日本專利申請特開2006-337569號公報，日本專利申請特開2007-009182號公報，日本專利申請特開2009-161744號公報，及日本專利申請特開2010-284840號公報中。其等援用作為參考。
藉由任何適當的方法形成該樹脂膜。膜形成方法的實例包括熔融擠出法、溶液流延法、壓延法及壓縮成形法。其中，熔融擠出法是較佳的。此外，樹脂膜可以進行拉伸處理。
藉由任何適當的黏合劑層將保護薄膜及偏光膜積層。在製備偏光膜時所使用的樹脂基材可以在保護薄膜及偏光膜的積層之前或者積層之後剝離。
保護薄膜的厚度較佳為5μm至60μm，更佳為6μm至40μm，進一步更佳為10μm至30μm。當厚度落在此範圍 內時，可以得到翹曲程度小的附黏著劑層的偏光板。應當注意的是，可以對保護薄膜進行各種表面處理。
保護薄膜在25℃下的彈性模量較佳為1,000MPa至10,000MPa，更佳為1,200MPa至5,000MPa，進一步更佳為1,300MPa至4,000MPa。當彈性模量落在此範圍內時，可以得到翹曲程度小的附黏著劑層的偏光板。
保護薄膜的線性膨脹係數較佳大於0/℃，更佳為1.0×10-6/℃至50×10-6/℃，進一步更佳為4.0×10-6/℃至10×10-6/℃。當線性膨脹係數落在此範圍內時，可以得到翹曲程度小的附黏著劑層的偏光板。應當注意的是，當保護薄膜具有各向異性時，所謂“保護薄膜的線性膨脹係數”是指在製備保護薄膜時在機械加工方向(MD)上的線性膨脹係數。
保護薄膜的透濕度較佳為1,000g/m2/24h以下，更佳為100g/m2/24h以下，進一步更佳為90g/m2/24h以下。當透濕度落在此範圍內時，可以防止偏光膜由於水分而造成的劣化。應當注意的是，“透濕度”是按照JIS Z 0208的透濕度試驗(杯法)，藉由在具有40℃的溫度及92%RH的濕度的氣體環境中測量在24小時內通過面積為1m2的樣品的水蒸氣的量而測定的值。
D.第一壓敏黏著劑層
本發明的附黏著劑層的偏光板包括在與保護薄膜的偏光膜相反側的面，即該附黏著劑層的偏光板的最外側上的第一黏著劑層，並且可以經由第一黏著劑層黏著到任何其 他構件。
當將500g的負荷施加至第一黏著劑層1小時時的潛變量為20μm/h至300μm/h，較佳為30μm/h至300μm/h，更佳40μm/h至260μm/h。將潛變量設定為如此的範圍緩解了包括保護薄膜及偏光膜的積層體(圖1中的積層體A)由於溫度變化而造成的變形，並能夠形成可追隨變形的第一黏著劑層。在本發明的包括此種第一黏著劑層的附黏著劑層的偏光板中，可以防止在偏光板的端部發生外觀異常。當潛變量小於20μm/h時，則存在的風險在於該層不能充分地追隨積層體A的變形，進而不必要的應力施加到積層體A；在更不欲的情況下，積層體A及第一黏著劑層可以彼此分離。另外，當潛變量大於300μm/h時，存在的風險在於不能充分抑制積層體A的變形，進而積層體A及第一黏著劑層彼此分離。測量潛變量的具體方法在後面描述。
第一黏著劑層可以由含有壓敏黏合性基礎聚合物及交聯劑的黏著劑形成。可以藉由例如黏著劑中基礎聚合物的分子量及黏著劑中交聯劑的添加量調節第一黏著劑層的潛變量。更具體地，可以藉由使用具有高分子量的聚合物作為基礎聚合物及/或增加交聯劑的添加量而降低第一黏著劑層的潛變量。此外，可以藉由使用具有低分子量的聚合物作為基礎聚合物及/或降低交聯劑的添加量而增加第一黏著劑層的潛變量。
第一黏著劑層的厚度較佳為1μm至50μm，更佳為3μm至30μm。
第一黏著劑層在25℃下的儲能模量較佳為0.01MPa至0.5MPa，更佳為0.05MPa至0.3MPa，進一步更佳為0.08MPa至0.13MPa。當儲能模量落在此範圍內時，可以防止附黏著劑層的偏光板例如剝離及起泡，並且可以得到優異的耐久性。應當注意的是，可以藉由使尺寸為2mm厚×8mm直徑的黏著劑層樣品進行動態黏彈性測量(例如，用由Rheometric Scientific製造的“高級流變擴展系統(ARES)”，變形模式：畸變，測量頻率：1Hz，升溫速度：5℃/min，測量溫度：-50℃至150℃)而測定儲能模量。
黏著劑的實例包括丙烯酸系黏著劑，丙烯酸聚胺酯系黏著劑，聚胺酯系黏著劑，矽酮系黏著劑，及有機-無機混合黏著劑。其中，從透明性及耐久性的觀點，丙烯酸系黏著劑是較佳的。
丙烯酸系黏著劑的實例是如下丙烯酸系黏著劑：其基礎聚合物為使用一種或兩種以上的(甲基)丙烯酸烷基酯作為單體組分的丙烯酸系聚合物(均聚物或共聚物)，即具有衍生自(甲基)丙烯酸烷基酯的構成單元的聚合物。(甲基)丙烯酸烷基酯的具體實例包括(甲基)丙烯酸C1-20烷基酯如(甲基)丙烯酸甲酯，(甲基)丙烯酸乙酯，(甲基)丙烯酸丙酯，(甲基)丙烯酸異丙酯，(甲基)丙烯酸丁酯，(甲基)丙烯酸異丁酯，(甲基)丙烯酸第二丁酯，(甲基)丙烯酸第三丁酯，(甲基)丙烯酸戊酯，(甲基)丙烯酸己酯，(甲基)丙烯酸庚酯，(甲基)丙烯酸辛酯，(甲基)丙烯酸2-乙基己酯，(甲基)丙烯酸異辛酯，(甲基)丙烯酸壬酯，(甲基)丙烯酸異壬酯， (甲基)丙烯酸癸酯，(甲基)丙烯酸異癸酯，(甲基)丙烯酸十一烷酯，(甲基)丙烯酸十二烷酯，(甲基)丙烯酸十三烷酯，(甲基)丙烯酸十四烷酯，(甲基)丙烯酸十五烷酯，(甲基)丙烯酸十六烷酯，(甲基)丙烯酸十七烷酯，(甲基)丙烯酸十八烷酯，(甲基)丙烯酸十九烷酯，及(甲基)丙烯酸二十烷酯。其中，可以較佳使用具有4至18個碳原子的直鏈或支鏈烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯。衍生自(甲基)丙烯酸烷基酯的構成單元的含量較佳為60重量份以上，更佳為80重量份以上，相對於100重量份的基礎聚合物。
丙烯酸系聚合物如用於內聚強度、耐熱性、或交聯性等改性的目的所需可以含有衍生自可與(甲基)丙烯酸烷基酯共聚的任何其他單體組分的構成單元。此種單體組分的實例包括：含有羧基的單體如丙烯酸，甲基丙烯酸，丙烯酸羧乙酯，丙烯酸羧戊酯，衣康酸，馬來酸，富馬酸，及巴豆酸；酸酐單體如馬來酸酐及衣康酸酐；及含有磺酸基的單體如苯乙烯磺酸，烯丙基磺酸，2-(甲基)丙烯醯胺基-2-甲基丙磺酸，(甲基)丙烯醯胺基丙磺酸，(甲基)丙烯酸磺丙酯，及(甲基)丙烯醯氧基萘磺酸。
在一個實施方式中，使用含有羥基的單體作為單體組分。含有羥基的單體的實例包括(甲基)丙烯酸2-羥乙酯，(甲基)丙烯酸3-羥丙酯，(甲基)丙烯酸4-羥丁酯，(甲基)丙烯酸6-羥己酯，(甲基)丙烯酸8-羥辛酯，(甲基)丙烯酸10-羥癸酯，(甲基)丙烯酸12-羥基月桂酯，及(4-羥甲基環己基)-甲基丙烯酸酯。其中，當使用異氰酸酯系交聯劑作為所述 交聯劑時，從有效地確保與異氰酸酯基的交聯點的觀點，丙烯酸4-羥丁酯是合適的。衍生自含有羥基的單體的構成單元的含量較佳為0.1重量份至10重量份，更佳為0.5重量份至2重量份，相對於100重量份的基礎聚合物。
此外，從黏著劑性能、耐久性、相位差的控制、及折射率的控制等的觀點，可以使用含有芳環的烷基(甲基)丙烯酸酯如(甲基)丙烯酸苯氧酯或(甲基)丙烯酸苄酯。聚合含有芳環的烷基(甲基)丙烯酸酯得到的聚合物可以與以上例舉的(甲基)丙烯酸系聚合物混合來使用。從透明性的觀點，含有芳環的烷基(甲基)丙烯酸酯較佳與(甲基)丙烯酸烷基酯共聚來使用。
此外，作為用於性能改性的單體，例如給出：(N-取代)醯胺系單體如(甲基)丙烯醯胺，N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺，N-丁基(甲基)丙烯醯胺，N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺，或N-羥甲基丙烷(甲基)丙烯醯胺；(甲基)丙烯酸烷基胺基烷基酯系單體如(甲基)丙烯酸胺基乙酯，(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯，或(甲基)丙烯酸第三丁基胺基乙酯；(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯系單體如(甲基)丙烯酸甲氧基乙酯或(甲基)丙烯酸乙氧基乙酯；琥珀醯亞胺系單體如N-(甲基)丙烯醯氧基亞甲基琥珀醯亞胺，N-(甲基)丙烯醯基-6-氧六亞甲基琥珀醯亞胺，N-(甲基)丙烯醯基-8-氧八亞甲基琥珀醯亞胺，或N-丙烯醯嗎啉；馬來醯亞胺系單體如N-環己基馬來醯亞胺，N-異丙基馬來醯亞胺，N-月桂基馬來醯亞胺或N-苯基馬來醯亞胺；及衣康醯亞胺系單體如N-甲 基衣康醯亞胺，N-乙基衣康醯亞胺，N-丁基衣康醯亞胺，N-辛基衣康醯亞胺，N-2-乙基己基衣康醯亞胺，N-環己基衣康醯亞胺，或N-月桂基衣康醯亞胺。
另外，作為用於性能改性的單體，也可使用，例如：乙烯基系單體如乙酸乙烯酯，丙酸乙烯酯，N-乙烯基吡咯烷酮，甲基乙烯基吡咯烷酮，乙烯基吡啶，乙烯基呱啶酮，乙烯基嘧啶，乙烯基呱嗪，乙烯基吡嗪，乙烯基吡咯，乙烯基咪唑，乙烯基惡唑，乙烯基嗎啉，N-乙烯基羧酸醯胺，苯乙烯，α-甲基苯乙烯，及N-乙烯基己內醯胺；氰基丙烯酸酯系單體，如丙烯腈及甲基丙烯腈；含環氧基的丙烯酸系單體，如(甲基)丙烯酸縮水甘油酯；二醇系丙烯酸酯單體，如聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯，聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯，甲氧基乙二醇(甲基)丙烯酸酯，及甲氧基聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯；及丙烯酸酯系單體，如(甲基)丙烯酸四氫糠酯，氟代(甲基)丙烯酸酯，矽酮(甲基)丙烯酸酯，及丙烯酸2-甲氧基乙酯。另外，還給出了例如，異戊二烯，丁二烯，異丁烯，及乙烯基醚。
另外，作為除了上述該等之外的共聚性單體，給出例如，含有矽原子的矽烷系單體。該矽烷系單體的實例包括3-丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷，乙烯基三甲氧基矽烷，乙烯基三乙氧基矽烷，4-乙烯基丁基三甲氧基矽烷，4-乙烯基丁基三乙氧基矽烷，8-乙烯基辛基三甲氧基矽烷，8-乙烯基辛基三乙氧基矽烷，10-甲基丙烯醯氧基癸基三甲氧基矽烷，10-丙烯醯氧基癸基三甲氧基矽烷，10-甲基丙烯 氧基癸基三乙氧基矽烷，及10-丙烯醯氧基癸基三乙氧基矽烷。
在一個實施方式中，基礎聚合物實質上不含有衍生自含有羧基的單體的構成單元。使用如此的基礎聚合物可以提供能夠抑制被黏物劣化的附黏著劑層的偏光板。應當注意的是，短語“實質上不含有”是指衍生自含羧基的單體的構成單元的含量為0.7wt%以下，相對於構成基礎聚合物的所有構成單元。衍生自含羧基的單體的構成單元的含量較佳為0.5wt%以下，更佳為0.3wt%以下，進一步更佳為0.1wt%以下，相對於構成基礎聚合物的所有構成單元，及最佳基礎聚合物不含有衍生自含羧基的單體的構成單元。
基礎聚合物的重均分子量較佳為800,000至3,000,000，更佳為1,000,000至2,500,000，進一步更佳為1,400,000至2,000,000。當重均分子量落在此範圍內時，可以形成顯示適當的潛變量的第一黏著劑層。應當注意的是，重均分子量是由藉由凝膠滲透色譜(GPC；溶劑：THF)測量並且以聚苯乙烯換算的值來測定的。
交聯劑的實例包括異氰酸酯系交聯劑，環氧系交聯劑，過氧化物系交聯劑，三聚氰胺系交聯劑，尿素系交聯劑，金屬醇鹽系交聯劑，金屬螯合物系交聯劑，金屬鹽系交聯劑，碳二亞胺系交聯劑，惡唑啉系交聯劑，氮丙啶系交聯劑及胺系交聯劑。其中，較佳使用異氰酸酯系交聯劑、環氧系交聯劑及/或過氧化物系交聯劑。交聯劑可以單獨或組合使用。
較佳的是黏著劑含有多種交聯劑作為所述交聯劑。更佳為多種交聯劑選自由過氧化物系交聯劑、環氧系交聯劑以及異氰酸酯系交聯劑組成的組。組合使用如剛才所述的多種交聯劑允許黏著劑層的三維交聯網路的有效形成。結果，可以格外有效地防止在偏光板的端部發生外觀異常。
任何適當的交聯劑可以用作異氰酸酯系交聯劑。異氰酸酯系交聯劑的實例包括：異氰酸酯單體，如甲苯二異氰酸酯，氯亞苯基二異氰酸酯，四亞甲基二異氰酸酯，苯二甲撐二異氰酸酯，二苯基甲烷二異氰酸酯，及氫化二苯基甲烷二異氰酸酯；及藉由將多元醇如三羥甲基丙烷加成至任一種異氰酸酯單體獲得的異氰酸酯化合物。
任何適當的交聯劑可以用作環氧系交聯劑。例如，使用在其分子中具有兩個以上環氧基團的環氧系樹脂作為環氧系交聯劑。其具體實例包括二縮水甘油基苯胺，1,3-雙(N,N-縮水甘油基胺基甲基)環己烷，N,N,N',N'-四縮水甘油基-間二甲苯二胺，1,6-己二醇二縮水甘油醚，新戊二醇二縮水甘油醚，乙二醇二縮水甘油基醚，及丙二醇二縮水甘油基醚。
任何適當的交聯劑可以用作過氧化物系交聯劑。過氧化物系交聯劑的實例包括過氧化二苯甲醯，過氧化二碳酸二(2-乙基己基)酯，過氧化二碳酸二(4-第三丁基環己基)酯，過氧化二碳酸二-第二丁酯，過氧化新癸酸第三丁酯，過氧化新戊酸第三丁基己酯，及過氧化新戊酸第三丁 酯。
交聯劑的添加量較佳為0.01重量份至5重量份，更佳為0.02重量份至3重量份，進一步更佳為0.1重量份至2.5重量份，特佳為0.4重量份至1重量份，相對於100重量份的基礎聚合物。當添加量落在此範圍內時，可以形成顯示適當的潛變量的第一黏著劑層。
在一個實施方式中，用於形成第一黏著劑層的黏著劑可進一步含有離子性化合物。離子性化合物具有陰離子組分及陽離子組分。加入離子性化合物允許形成具有抗靜電功能的黏著劑層。
陰離子組分的實例包括雙(七氟丙磺醯)亞胺陰離子，雙(九氟丁烷磺醯)亞胺陰離子，雙(十一氟戊烷磺醯)亞胺陰離子，雙(十三氟己烷磺醯)亞胺陰離子，雙(十五氟庚烷磺醯)亞胺陰離子，環六氟丙烷-1,3-雙(磺醯)亞胺陰離子，六氟丙烷-1,3-二磺酸根陰離子，雙(三氟甲磺醯)亞胺陰離子，三氟甲磺醯陰離子，及五氟乙烷磺醯陰離子。其中，雙(三氟甲磺醯)亞胺陰離子是較佳的。
陽離子組分的實例包括鋰、鈉及鉀的鹼金屬離子。其中，鋰離子是較佳的。鹼金屬鹽作為離子性化合物可以由所述陰離子組分及所述陽離子組分形成。
有機陽離子可以用作所述陽離子組分。有機陽離子的具體實例包括吡啶鎓陽離子，呱啶鎓陽離子，吡咯烷鎓陽離子，具有吡咯啉骨架的陽離子，具有吡咯骨架的陽離子，咪唑鎓陽離子，四氫嘧啶鎓陽離子，二氫嘧啶鎓陽 離子，吡唑鎓陽離子，二氫化吡唑鎓陽離子，四烷基銨陽離子，三烷基鋶陽離子，及四烷基鏻陽離子。此等有機陽離子中，吡咯烷陽離子是較佳的。
離子性化合物的添加量較佳為0.1重量份至5重量份，更優選為0.5重量份至3重量份，相對於100重量份的基礎聚合物。
在一個實施方式中，用於形成第一黏著劑層的黏著劑可進一步含有抗氧化劑。抗氧化劑的實例包括酚系、磷系、硫系及胺系抗氧化劑。其中，酚系抗氧化劑是較佳的。抗氧化劑可以單獨或組合使用。
使用含有抗氧化劑的黏著劑可以防止在偏光板的端部的外觀異常。此外，當過氧化物系交聯劑及抗氧化劑組合使用時，藉由抗氧化劑有效地抑制由氧引起的自由基交聯的阻礙，由此有效地形成黏著劑層的三維交聯網路。結果，可以以格外有效的方式防止在偏光板的端部的外觀異常。
抗氧化劑的添加量較佳為0.005重量份至2重量份，更佳為0.1重量份至1重量份，相對於100重量份的基礎聚合物。當添加量落入此範圍內時，可以防止在偏光板的端部的外觀異常。
在一個實施方式中，用於形成第一黏著劑層的黏著劑可進一步含有矽烷偶聯劑。矽烷偶聯劑的實例包括：含環氧基的矽烷偶聯劑，如3-環氧丙氧丙基三甲氧基矽烷，3-環氧丙氧丙基三乙氧基矽烷，3-環氧丙氧丙基甲基二 乙氧基矽烷，及2-(3,4-環氧化環己基)乙基三甲氧基矽烷；含胺基的矽烷偶聯劑，如3-胺基丙基三甲氧基矽烷，N-2-(胺基乙基)-3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷，3-三乙氧基甲矽烷基-N-(1,3-二甲基亞丁)丙胺，N-苯基-γ-胺基丙基三甲氧基矽烷；含(甲基)丙烯酸基的矽烷偶聯劑；及含異氰酸酯基的矽烷偶聯劑。
矽烷偶聯劑的添加量較佳為0.01重量份至1重量份，更佳為0.05重量份至0.5重量份，相對於100重量份的基礎聚合物。
黏著劑根據需要可以進一步含有任何適當的添加劑。所述添加劑的實例包括增黏劑、增塑劑、顏料、染料、填料、防老劑、導電材料、紫外線吸收劑、光穩定劑、剝離調節劑、軟化劑、表面活性劑，及阻燃劑。
E.附黏著劑層的偏光板的製備方法
可以藉由任何適當的製備方法製備附黏著劑層的偏光板。附黏著劑層的偏光板的製備方法包括例如，以下步驟：將偏光膜及保護薄膜積層；及在保護薄膜上形成第一壓敏黏合劑層。在一個實施方式中，附黏著劑層的偏光板可以形成為長條狀(例如，300m以上)。
在一個實施方式中，藉由輥對輥方法(roll-to-roll process)進行偏光膜及保護薄膜的積層。較佳的是將長條狀偏光膜(其是在待在部分B-1中描述的偏光膜的製備方法中藉由MD拉伸步驟獲得的並具有沿長度方向的吸收軸)及長條狀保護薄膜藉由黏合劑層積層從而提供偏光膜及保護薄 膜的積層體。偏光膜及保護薄膜的積層體較佳在加熱下進行。當構成黏合劑層的黏合劑(之後描述)是水性黏合劑或溶劑系黏合劑時，加熱溫度是黏合劑乾燥時的溫度，並且當黏合劑是活性能量射線固化型黏合劑時，加熱溫度是黏合劑固化時的溫度。加熱溫度較佳為50℃以上，更佳為55℃以上，進一步更佳為60℃以上。同時，加熱溫度較佳為80℃以下。應當注意的是，在保護薄膜積層時所進行的加熱也可以當作積層體的乾燥處理。黏合劑層的厚度較佳為0.01μm至7μm，更佳為0.01至5μm，進一步更佳為0.01μm至2μm，最佳為0.01μm至1μm。
用於黏著偏光膜及保護薄膜的黏合劑層是由任何適當的黏合劑形成。黏合劑可以是水性黏合劑，可以是溶劑系黏合劑，或者可以是活性能量射線固化型黏合劑。
任何適當的黏合劑可用作活性能量射線固化型黏合劑，只要該黏合劑可以藉由使用活性能量射線照射而固化即可。活性能量射線固化型黏合劑的實例包括UV固化型黏合劑及電子束固化型黏合劑。活性能量射線固化型黏合劑的固化類型的具體實例包括自由基固化型，陽離子固化型，陰離子固化型，以及其等的組合(例如，自由基固化型及陽離子固化型的混合)。
活性能量射線固化型黏合劑的實例包括含有各自具有自由基聚合性基團如(甲基)丙烯酸酯基或(甲基)丙烯醯胺基的化合物(如單體及/或低聚物)作為固化性組分的黏合劑。
活性能量射線固化型黏合劑及固化黏合劑的方法的具體實例描述於，例如，日本專利申請特開2012-144690號公報中。其於此援用作為參考。
任何適當的水性黏合劑可以用作所述水性黏合劑。較佳使用含有PVA系樹脂的水性黏合劑。鑒於黏合性，待引入水性黏合劑中的PVA系樹脂的平均聚合度較佳為約100至5,500，更佳為1,000至4,500。鑒於黏合性，PVA系樹脂的平均皂化度較佳為約85mol%至100mol%，更佳為90mol%至100mol%。
待引入水性黏合劑中的PVA系樹脂較佳含有乙醯乙醯基。此乃因為，PVA系樹脂層與保護薄膜之間的密合性優異，並且偏光板的耐久性可以說優異的。含乙醯乙醯基的PVA系樹脂例如可以根據任何適當的方法藉由使PVA系樹脂及雙烯酮相互反應而獲得。含乙醯乙醯基的PVA系樹脂的乙醯乙醯基改性度典型地為0.1mol%以上，較佳為約0.1mol%至40mol%，更佳為1mol%至20mol%，進一步更佳為1mol%至7mol%。應當注意的是，乙醯乙醯基改性度是藉由NMR測量的值。
水性黏合劑的樹脂濃度較佳為0.1wt%至15wt%，更佳為0.5wt%至10wt%。
在保護薄膜上形成第一黏著劑層的步驟中，第一黏著劑層例如是藉由將在部分D中所述的黏著劑施塗到保護薄膜上然後交聯(聚合)黏著劑而形成的。可以採用任何適當的方法作為用於交聯的方法。另外，可以將在另一基材 上形成的第一黏著劑層轉印到保護薄膜上。
在一個實施方式中，錨固層設置在保護薄膜與第一黏著劑層之間。設置錨固層可改進保護薄膜與第一黏著劑層之間的密合性。錨固層形成用材料沒有特別限制，並且可以使用各種聚合物、金屬氧化物的凝膠、或矽溶膠等。其中，聚合物是較佳的。聚合物各自的形式可以是溶劑可溶型、水分散型或水溶型的任一個。
錨固層根據需要可進一步含有任何適當的添加劑。所述添加劑的實例包括抗靜電劑，抗氧化劑，紫外線吸收劑，pH調節劑，劣化抑制劑，及表面活性劑。
抗靜電劑沒有特別限制，只要其是可以賦予導電性的材料即可，並且其實例包括離子性表面活性劑，導電性聚合物，金屬氧化物，炭黑，及碳納米材料。其中，導電性聚合物是較佳的，並且水分散性導電性聚合物是更佳的。
可以採用任何適當的方法作為形成錨固層的方法。另外，在形成錨固層之前，可以對保護薄膜進行活化處理。活化處理的實例包括電暈處理，低壓UV處理，及等離子體處理。
從薄型化的角度，錨固層的厚度較佳為5nm至300nm。
F.光學積層體
圖3是根據本發明一個實施方式的光學積層體的示意性截面圖。圖3的光學積層體200包括附黏著劑層的偏光板 100，第二黏著劑層40，以及光學薄膜50。在部分A至D中所述的附黏著劑層的偏光板可以用作附黏著劑層的偏光板100。即，附黏著劑層的偏光板100依次包括第一黏著劑層10、保護薄膜20及偏光膜30。第二黏著劑層40設置在與偏光膜30的保護薄膜20相反側的面上。當藉由組合附黏著劑層的偏光板及光學薄膜(具有正線性膨脹係數)而構成光學積層體時，附黏著劑層的偏光板的翹曲被光學薄膜抑制，因而本發明的效果變得額外顯著。
光學積層體的厚度較佳為100μm以下，更佳為90μm以下，進一步更佳為40μm至80μm。
當光學積層體的保護薄膜側表面與無鹼玻璃經由黏著劑彼此黏合，且該光學積層體在70℃氣體環境下放置200小時時，偏光膜的吸收軸方向的收縮率較佳為0.4%以下，更佳為0.3%以下，進一步更佳為0.2%以下。當收縮率落在此範圍內時，獲得翹曲程度小的光學積層體，並且在光學積層體中可以防止在偏光板的端部發生外觀異常。可以使用任何適當的黏著劑作為所述黏著劑。
G.光學薄膜
根據光學積層體的應用，可以使用任何適當的光學薄膜作為所述光學薄膜。光學薄膜的實例包括：亮度提升薄膜，相位差膜，及具有各種表面處理的層如硬塗層、防眩層及防反射層的具有表面處理層的膜。其中，亮度提升薄膜是較佳的。
光學薄膜的厚度較佳為10μm至30μm，更佳為 10μm至25μm，進一步更佳為12μm至22μm。
光學薄膜的透濕度較佳為500g/m2/24h以下，更佳為300g/m2/24h以下，進一步更佳為1g/m2/24h至100g/m2/24h。當透濕度落在此範圍內時，可以防止偏光膜由於水分而造成的劣化。
在一個實施方式中，使用線性偏光分離薄膜作為亮度提升薄膜。圖4是用於說明線性偏光分離薄膜的實例的示意性透視圖。線性偏光分離薄膜較佳為多層積層體，其中具有雙折射的層A及實質上不具有雙折射的層B交替積層。例如，在圖示的實例中，層A沿X軸方向的折射率n(X)大於其沿Y軸方向的折射率n(Y)，並且層B沿X軸方向的折射率n(X)與其沿Y軸方向的折射率n(Y)實質上相同。因此，層A及層B之間沿X軸方向的折射率之差大，而沿Y軸方向的折射率之差實質為零。結果，X軸方向作為反射軸而Y軸方向作為透射軸。層A及層B之間沿X軸方向的折射率之差較佳為0.2至0.3。
層A較佳由藉由拉伸展現雙折射性的材料形成。此種材料的典型實例包括萘二羧酸聚酯(如聚萘二甲酸乙二醇酯)，聚碳酸酯，及丙烯酸系樹脂(如聚甲基丙烯酸甲酯)。其中，鑒於低透濕度，聚萘二甲酸乙二醇酯或聚碳酸酯是較佳的。層B較佳由即使當拉伸時也實質上不表現雙折射性的材料形成。如此的材料典型地是例如萘二羧酸及對苯二甲酸的共聚酯。
在層A與層B之間的介面處，線性偏光分離薄膜 透射具有第一偏光方向的光(如p-波)，並反射具有垂直於第一偏光方向的第二偏光方向的光(如s-波)。在層A與層B之間的介面處，部分反射光作為具有第一偏光方向的光被透射，而其他部分作為具有第二偏光方向的光被反射。如此的反射及透射在線性偏光分離薄膜中反復多次，因此可改進光的利用效率。
線性偏光分離薄膜較佳包括如圖4中所示的作為與偏光膜相對的最外層的反射層R。設置反射層R，能夠使最終未被利用而返回到線性偏光分離薄膜的最外部分的光額外的利用，因此可以額外改進光的利用效率。反射層R借助於聚酯樹脂層的多層結構而典型地表現其反射功能。
較佳積層線性偏光分離薄膜及偏光膜，使得線性偏光分離薄膜的透射軸及偏光膜的吸收軸可以彼此實質上垂直。本文所用的短語“實質上垂直”理解為兩個光軸之間形成的角度為90°±2°的情況，並且該角度較佳為90°±1°。
線性偏光分離薄膜的整個厚度可根據例如目的及線性偏光分離薄膜中的總層數適當設定。線性偏光分離薄膜的整個厚度較佳為30μm以下，更佳為10μm至30μm，進一步更佳為20μm至30μm。
例如，在日本專利翻譯公開號Hei 9-507308中描述的膜可以用作線性偏光分離薄膜。
可以使用市售產品直接作為線性偏光分離薄膜，或者可以使用藉由對市售產品進行二次加工(如拉伸)而獲得的產品。市售產品的實例包括購自3M公司的商品名 “DBEF”的產品及購自3M公司的商品名“APF”的產品。
H.第二黏著劑層
偏光膜及線性偏光分離薄膜藉由第二黏著劑層積層。
第二黏著劑層是由任何適當的黏著劑形成的。其較佳實例包括丙烯酸系黏著劑，丙烯酸聚胺酯系黏著劑，聚胺酯系黏著劑，矽酮系黏著劑，有機-無機混合黏著劑，及橡膠系黏著劑。其中，丙烯酸系黏著劑是較佳的。丙烯酸系黏著劑的透明性及耐熱性是優異的。此外，丙烯酸系黏著劑對水的親和性可以容易地藉由其配製組成來調節，因而藉由丙烯酸系黏著劑可以容易地獲得疏水性黏著劑。使用高疏水性丙烯酸系黏著劑能夠形成具有低透濕度的黏著劑層，並且能夠防止偏光膜的劣化。
較佳使用水不溶性黏著劑作為用於形成第二黏著劑層的黏著劑。使用水不溶性黏著劑能夠形成具有低透濕度的黏著劑層，並可以防止偏光膜由於水而造成的劣化。
第二黏著劑層的厚度較佳為3μm至18μm，更佳為3μm至15μm，進一步更佳為4μm至12μm。
第二黏著劑層的飽和水含量較佳為3.5wt%以下，更佳為0wt%至2wt%，進一步更佳為0wt%至1.5wt%，特佳選為0wt%至1wt%，最佳為0wt%至0.5wt%。當第二黏著劑層的飽和水含量超過3.5wt%時，存在的風險在於水向保護薄膜移動的程度擴大，從而保護薄膜的膨脹或收縮擴大。飽和水含量可以由藉由將約50mg黏著劑層在100℃下乾燥1小時以上除去水之後的重量(W1)及黏著劑層處於所述 層中的水是飽和的狀態時的重量(W2)藉由使用下列等式測定。應當注意的是，測量可以例如用水吸附-脫附測量裝置(例如，Hiden Isochema Ltd.製造的IGA-Sorp)進行。此外，黏著劑層處於所述層中的水是飽和的狀態時的重量是指，處於藉由將黏著劑層在濕度下放置預定時間消除其重量隨時間改變的狀態下的黏著劑層的重量。例如，在將乾燥之後的黏著劑層在23℃/0%RH環境下放置2小時、在23℃/55%RH環境下放置5小時、在60℃/90%RH環境下放置5小時及在23℃/55%RH環境下放置5小時消除重量隨時間改變的狀態下，黏著劑層的重量可被定義為重量W2。
飽和水含量(wt%)=(B-A)/A×100
I.光學積層體的製備方法
可以藉由任何適當的製備方法來製備光學積層體。光學積層體的製備方法包括：形成附黏著劑層的偏光板的步驟a；在光學薄膜上形成第二黏著劑層以提供積層體I的步驟b；及將附黏著劑層的偏光板及積層體I積層的步驟c。
附黏著劑層的偏光板可例如藉由在部分E中所述的方法來製備。
在步驟b中，藉由將黏著劑施塗到光學薄膜，在光學薄膜上形成第二黏著劑層。採用其中黏著劑層(第一黏著劑層)設置在光學薄膜與偏光膜之間的構成，可以在製備附黏著劑層的偏光板時，製備輥形狀的附黏著劑層的光學薄膜(積層體I)。當製備輥形狀的積層體I時，可以藉由輥對輥方法進行附黏著劑層的偏光板及積層體I的黏合(步驟c)。
在步驟c中，藉由第二黏著劑層將附黏著劑層的偏光板的偏光膜與積層體I的光學薄膜彼此黏合。
實施例
藉由實施例的方式具體描述本發明。然而，本發明並不限於以下實施例。
[製造例1]保護薄膜(丙烯酸系膜的製備)
將具有戊二醯亞胺環單元的甲基丙烯酸系樹脂粒料在100.5KPa及100℃下乾燥12小時，並藉由使用單軸擠出機在270℃的模具溫度下從T模擠出，從而成形為膜狀。此外，在具有比樹脂的Tg高10℃的溫度的氣體環境下將該膜沿其輸送方向拉伸，然後在具有比樹脂的Tg高7℃的溫度的氣體環境下將其沿與膜輸送方向垂直的方向拉伸，從而提供由丙烯酸系樹脂構成的保護薄膜A(厚度：20μm，彈性模量：2,000MPa)。
類似地，獲得厚度為30μm的保護薄膜B，厚度為40μm的保護薄膜C，厚度為50μm的保護薄膜D，及厚度為25μm的保護膜E。
[製造例2]積層體(A-1)的製備
使用吸水係數為0.75%及Tg為75℃的長條狀的無定形間苯二甲酸共聚的聚對苯二甲酸乙二醇酯(IPA共聚的PET)膜(厚度：100μm)作為熱塑性樹脂基材。
對樹脂基材的一個表面進行電暈處理。在25℃下將以9：1的比例含有聚乙烯醇(聚合度：4,200，皂化度：99.2mol%)及乙醯乙醯基改性的PVA(聚合度：1,200，乙醯乙醯基改性 度：4.6%，皂化度：99.0mol%以上，由The Nippon Synthetic Chemical Industry Co.,Ltd.製造，商品名：“GOHSEFIMER Z-200”)的水溶液施塗到電暈處理的表面上，並且乾燥從而形成厚度為11μm的PVA系樹脂層。因而，製備了積層體a。
在120℃的烘箱中，在具有不同圓周速度的輥之間，將所得積層體a沿其縱向(長度方向)以2.0倍的拉伸倍率進行自由端單軸拉伸(空中輔助拉伸)。
接下來，將積層體a浸入液溫為30℃的不溶化浴(藉由將100重量份水與4重量份硼酸配混得到的硼酸水溶液)30秒(不溶化處理)。
接下來，將積層體a浸入液溫為30℃的染色浴，同時調節其碘濃度及浸漬時間，以使偏光膜具有預定的透過率。在該實施例中，積層體浸入將100重量份水與0.2重量份碘及1.0重量份碘化鉀配混得到的碘的水溶液60秒(染色處理)。
接下來，將積層體a浸入液溫為30℃的交聯浴(將100重量份水與3重量份碘化鉀及3重量份硼酸配混得到的硼酸水溶液)30秒(交聯處理)。
之後，在具有不同圓周速度的輥之間將積層體a進行單軸拉伸，從而實現沿縱向(長度方向)的5.5倍的總拉伸倍率，同時將其浸入液溫為70℃的硼酸水溶液(將100重量份水與4重量份硼酸及5重量份碘化鉀配混得到的水溶液)(水中拉伸)。
之後，將積層體a浸入液溫為30℃的洗滌浴(將100重量 份水與4重量份碘化鉀配混得到的水溶液)(洗滌處理)。
然後，將PVA系樹脂的水溶液(由The Nippon Synthetic Chemical Industry Co.,Ltd.製造，商品名：“GOHSEFIMER(商標)Z-200”，樹脂濃度：3wt%)施塗到積層體a的PVA系樹脂層的表面，並將製造例1中得到的保護薄膜A(厚度：20μm)積層在施塗的溶液上。之後，於維持在60℃下的烘箱中加熱5分鐘。因而，製備了具有厚度為5μm的偏光膜的積層體A-1(保護薄膜(20μm)/偏光膜(5μm)/熱塑性樹脂基材)。
[製造例3]積層體(A-2)的製備
除了使用保護薄膜B(厚度：30μm)代替保護薄膜A(厚度：20μm)之外，按照與製造例2中相同的方式製備積層體A-2(保護薄膜(30μm)/偏光膜(5μm)/熱塑性樹脂基材)。
[製造例4]積層體(A-3)的製備
除了使用保護薄膜C(厚度：40μm)代替保護薄膜A(厚度：20μm)之外，按照與製造例2中相同的方式製備積層體A-3(保護薄膜(40μm)/偏光膜(5μm)/熱塑性樹脂基材)。
[製造例5]積層體(A-4)的製備
除了使用保護薄膜D(厚度：50μm)代替保護薄膜A(厚度：20μm)之外，按照與製造例2中相同的方式製備積層體A-4(保護薄膜(50μm)/偏光膜(5μm)/熱塑性樹脂基材)。
[製造例6]積層體(A-5)的製備
除了：製備厚度為20μm的偏光膜；並使用保護薄膜E(厚度：25μm)代替保護薄膜A(厚度：20μm)以外，按照與製造 例2中相同的方式製備積層體A-5(保護薄膜(25μm)/偏光膜(20μm)/熱塑性樹脂基材)。
[製造例7]積層體(A-6)的製備
除了製備厚度為20μm的偏光膜；並使用保護薄膜C(厚度：40μm)代替保護薄膜A(厚度：20μm)以外，按照與製造例2中相同的方式製備積層體a-6(熱塑性樹脂基材/偏光膜(20μm)/保護薄膜(40μm))。
在將熱塑性樹脂基材從積層體a-6剝離之後，藉由與製造例2中所述的相同的方法將保護薄膜A(厚度：20μm)作為另一保護薄膜積層在偏光膜上。因而，製備來積層體A-6(保護薄膜(40μm)/偏光膜(20μm)/另一保護薄膜(20μm))。
[製造例8](甲基)丙烯酸系聚合物(B-1)的調製
將99重量份丙烯酸丁酯、1重量份丙烯酸4-羥丁酯及1重量份作為引發劑的AIBN與乙酸乙酯一起裝入安裝有冷卻管、氮氣導入管、溫度計及攪拌設備的反應容器中，並將該混合物在60℃下在氮氣流中進行反應7小時。之後，將乙酸乙酯加入反應液中。因而，獲得了含有重均分子量為1,600,000的(甲基)丙烯酸系聚合物(B-1)的溶液(固體成分濃度：30wt%)。
[製造例9](甲基)丙烯酸系聚合物(B-2)的調製
將98.5重量份丙烯酸丁酯、1重量份丙烯酸4-羥丁酯、0.5重量份丙烯酸及1重量份作為引發劑的AIBN與乙酸乙酯一起裝入安裝有冷卻管、氮氣導入管、溫度計及攪拌設備的反應容器中，並將該混合物在60℃下在氮氣流中進行反 應7小時。之後，將乙酸乙酯加入反應液中。因而，獲得了含有重均分子量為1,650,000的(甲基)丙烯酸系聚合物(B-2)的溶液(固體成分濃度：30wt%)。
[製造例10](甲基)丙烯酸系聚合物(B-3)的調製
將95重量份丙烯酸丁酯、1重量份丙烯酸4-羥丁酯、4重量份丙烯酸及1重量份作為引發劑的AIBN與乙酸乙酯一起裝入安裝有冷卻管、氮氣導入管、溫度計及攪拌設備的反應容器中，並將該混合物在60℃下在氮氣流中進行反應7小時。之後，將乙酸乙酯加入反應液中。因而，獲得了含有重均分子量為1,700,000的(甲基)丙烯酸系聚合物(B-3)的溶液(固體成分濃度：30wt%)。
[製造例11](甲基)丙烯酸系聚合物(B-4)的調製
將99重量份丙烯酸丁酯、1重量份丙烯酸2-羥乙酯及1重量份作為引發劑的AIBN與乙酸乙酯一起裝入安裝有冷卻管、氮氣導入管、溫度計及攪拌設備的反應容器中，並將該混合物在60℃下在氮氣流中進行反應7小時。之後，將乙酸乙酯加入反應液中。因而，獲得了含有重均分子量為1,600,000的(甲基)丙烯酸系聚合物(B-4)的溶液(固體成分濃度：30wt%)。
[實施例1]光學積層體的製備
(黏著劑的調製)
將製造例8中獲得的含有(甲基)丙烯酸系聚合物(B-1)的溶液與基於每100重量份該溶液的固含量的0.1重量份三羥甲基丙烷苯二甲撐二異氰酸酯(Mitsui Chemicals,Inc.製 造，商品名：“TAKENATE D110N”)及0.3重量份過氧化二苯甲醯作為交聯劑、0.1重量份γ-環氧丙氧丙基甲氧基矽烷(由Shin-Etsu Chemical Co.,Ltd.製造，商品名：“KBM-403”)作為矽烷偶聯劑、1重量份三氟甲磺醯亞胺鋰(由Morita Chemical Industries Co.,Ltd.製造)作為抗靜電劑以及0.3重量份季戊四醇四[3-(3,5-二第三丁基-4-羥苯基)丙酸酯](由BASF Japan Ltd.製造，商品名：“IRGANOX 1010”)作為酚系抗氧化劑配混。因而，獲得黏著劑溶液。
(附黏著劑層的偏光板的製備)
藉由使用噴注式塗布機(fountain coater)將所得黏著劑溶液均勻地施塗到用矽酮系剝離劑處理的聚對苯二甲酸乙二醇酯膜(基材)的表面上，並在155℃下在空氣循環式恆溫爐中乾燥2分鐘。因此，在基材的表面上形成厚度為20μm的黏著劑層。接下來，將黏著劑層(第一黏著劑層)轉印到積層體A-1(熱塑性樹脂基材/偏光膜/保護薄膜)的保護薄膜上，然後將熱塑性樹脂基材剝離。因而，獲得了附黏著劑層的偏光板(第一黏著劑層(20μm)/保護薄膜/偏光膜)。
(光學積層體的製備)
藉由由丙烯酸系黏著劑構成的第二黏著劑層(厚度：10μm)將厚度為20μm的亮度提升薄膜(Nitto Denko Corporation製造，商品名：“PCF350”)黏著到所得的附黏著劑層的偏光板的偏光膜上。因而，獲得光學積層體(第一黏著劑層/保護薄膜/偏光膜/第二黏著劑層/亮度提升薄膜)。
光學積層體的製備
[實施例2至16及19，以及比較例1至3]
除了：使用表1中示出的該等作為包括偏光膜及保護薄膜的積層體，(甲基)丙烯酸系聚合物，及交聯劑；並將第一黏著劑層的厚度設定為表1中所示的厚度以外，按照與實施例1相同的方式各自獲得光學積層體。應當注意的是，使用1,3-雙(N,N-縮水甘油基胺基甲基)環己烷(Mitsubishi Gas Chemical Company,Inc.製造，商品名：“TETRAD-C”)作為環氧系交聯劑。
Figure 104127924-A0202-12-0036-1
[實施例17]附黏著劑層的偏光板的製備
(黏著劑的調製)
將製造例8中獲得的含有(甲基)丙烯酸系聚合物(B-1)的溶液與基於每100重量份該溶液的固含量的0.1重量份三羥甲基丙烷苯二甲撐二異氰酸酯(Mitsui Chemicals,Inc.製造，商品名：“TAKENATE D110N”)及0.3重量份過氧化二苯甲醯作為交聯劑、0.1重量份γ-環氧丙氧丙基甲氧基矽烷(由Shin-Etsu Chemical Co.,Ltd.製造，商品名：“KBM-403”)作為矽烷偶聯劑、1重量份三氟甲磺醯亞胺鋰(Morita Chemical Industries Co.,Ltd.製造)作為抗靜電劑以及0.3重量份季戊四醇四[3-(3,5-二第三丁基-4-羥苯基)丙酸酯](BASF Japan Ltd.製造，商品名：“IRGANOX 1010”)作為酚系抗氧化劑配混。因而，獲得黏著劑溶液。
(附黏著劑層的偏光板的製備)
藉由使用噴注式塗布機將所得黏著劑溶液均勻地施塗到用矽酮系剝離劑處理的聚對苯二甲酸乙二醇酯膜(基材)的表面上，並在155℃下在空氣循環式恆溫爐中乾燥2分鐘。因而，在基材的表面上形成厚度為20μm的黏著劑層。接下來，將黏著劑層(第一黏著劑層)轉印到積層體A-2(熱塑性樹脂基材/偏光膜/保護薄膜)的保護薄膜上，然後將熱塑性樹脂基材剝離。因而，獲得附黏著劑層的偏光板(第一黏著劑層(20μm)/保護薄膜/偏光膜)。
[實施例18]附黏著劑層的偏光板的製備
除了使用積層體A-3代替積層體A-2以外，按照與實施例16中相同的方式獲得附黏著劑層的偏光板。
[比較例4]光學積層體的製備
(黏著劑的調製)
將製造例8中獲得的含有(甲基)丙烯酸系聚合物(B-1)的溶液與基於每100重量份該溶液的固含量的0.1重量份三羥甲基丙烷苯二甲撐二異氰酸酯(Mitsui Chemicals,Inc.製造，商品名：“TAKENATE D110N”)及0.3重量份過氧化二苯甲醯作為交聯劑、0.1重量份γ-環氧丙氧丙基甲氧基矽烷(由Shin-Etsu Chemical Co.,Ltd.製造，商品名：“KBM-403”)作為矽烷偶聯劑、1重量份三氟甲磺醯亞胺鋰(Morita Chemical Industries Co.,Ltd.製造)作為抗靜電劑以及0.3重量份季戊四醇四[3-(3,5-二第三丁基-4-羥苯基)丙酸酯](BASF Japan Ltd.製造，商品名：“IRGANOX 1010”)作為酚系抗氧化劑配混。因而，獲得黏著劑溶液。
(附黏著劑層的偏光板的製備)
藉由使用噴注式塗布機將所得黏著劑溶液均勻地施塗到用矽酮系剝離劑處理的聚對苯二甲酸乙二醇酯膜(基材)的表面上，並在155℃下在空氣循環式恆溫爐中乾燥2分鐘。因而，在基材的表面上形成厚度為20μm的黏著劑層。接下來，在將熱塑性樹脂基材從積層體A-1(熱塑性樹脂基材/偏光膜/保護薄膜)剝離之後，將黏著劑層(第一黏著劑層)轉印到偏光膜上。因而，獲得附黏著劑層的偏光板(第一黏著劑層(20μm)/偏光膜/保護薄膜)。
(光學積層體的製備)
藉由由丙烯酸系黏著劑構成的第二黏著劑層(厚度：10μm)將厚度為20μm的亮度提升薄膜(Nitto Denko Corporation製造，商品名：“PCF350”)黏著到所得的附黏著劑層的偏光板的偏光膜上。因而，獲得光學積層體(第一黏著劑層/偏光膜/保護薄膜/第二黏著劑層/亮度提升薄膜)。
[比較例5]光學積層體的製備
除了：使用製造例10中獲得的(甲基)丙烯酸系聚合物(B-3)代替在製造例8中獲得的含有(甲基)丙烯酸系聚合物(B-1)的溶液；並且不使用三氟甲磺醯亞胺鋰(Morita Chemical Industries Co.,Ltd.製造)以外，以與比較例4相同的方式獲得黏著劑溶液。
除了使用由此獲得的黏著劑溶液以外，以與比較例4相同的方式獲得附黏著劑層的偏光板及光學積層體。
[參考例1]光學積層體的製備
除了使用積層體A-6代替積層體A-1以外，以與實施例1相同的方式獲得附黏著劑層的偏光板(第一黏著劑層/保護薄膜/偏光膜/另一保護薄膜)。
藉由由丙烯酸系黏著劑構成的第二黏著劑層(厚度：10μm)將厚度為20μm的亮度提升薄膜(Nitto Denko Corporation製造，商品名：“PCF350”)黏著到所得的附黏著劑層的偏光板的另一保護薄膜上。因而，獲得光學積層體(第一黏著劑層/保護薄膜/偏光膜/另一保護薄膜/第二黏著劑層/亮度提升薄膜)。
<評價>
對在實施例、比較例及參考例中獲得的光學積層體或附黏著劑層的偏光板進行以下評價。結果示於表2中。
(第一黏著劑層的潛變量)
將以尺寸為10mm寬×50mm長的方式切斷的樣品(光學積層體或附黏著劑層的偏光板)的端部(尺寸為10mm寬×10mm長)經由第一黏著劑層黏著至不銹鋼板，並在高壓釜中在50℃及5個大氣壓下處理15分鐘，接著在室溫下放置1小時。之後，測量當將500g的負荷(拉伸負荷)在23℃下施加到與黏著至不銹鋼板的端部相對的端部1小時時的第一黏著劑層的位移量(變形量)，並將測量值定義為第一黏著劑層的潛變量(鐳射型潛變測試儀)。
(耐久性評價1-1)
藉由將光學積層體或附黏著劑層的偏光板的第一黏著劑層側黏合至無鹼玻璃(Corning Incorporated製造，商品名：“EG-XG”，厚度：0.7mm)來製備評價樣品。將評價樣品在高壓釜中在50℃及5個大氣壓下處理15分鐘，然後裝入80℃的烘箱中且放置500小時。
500小時過去後，目視觀察光學積層體或附黏著劑層的偏光板中有無剝離及起泡。
在表中，將其中既沒有觀察到剝離也沒有觀察到起泡的產品評價為◎，將其中觀察到不能目視察覺的剝離或起泡的產品評價為○，將其中觀察到能夠目視察覺的輕微的剝離或起泡的產品評價為△，並將其中觀察到明顯的剝離 或起泡的產品評價為×。
此外，將樣品裝入60℃/90%RH的恆溫恆濕器中，放置500小時，接著藉由與上述相同的標準評價其耐久性。
(耐久性評價1-2)
除了藉由將光學積層體或附黏著劑層的偏光板的第一黏著劑層側黏合至具有ITO層的玻璃基板的ITO層來製備評價樣品以外，藉由與耐久性評價1-1相同的方法及標準來進行耐久性的評價。應當注意的是，具有ITO層的玻璃基板是根據濺射法藉由在無機玻璃的一個表面上形成ITO層製備的。此外，在將光學積層體或附黏著劑層的偏光板及基板彼此黏合之前，將具有ITO層的玻璃基板在140℃下進行熱處理30分鐘。ITO層的Sn比例(Sn原子的重量/(Sn原子的重量+In原子的重量))為3wt%。
(耐久性評價2-1)
藉由將光學積層體或附黏著劑層的偏光板的第一黏著劑層側黏合至無鹼玻璃(Corning Incorporated製造，商品名：“EG-XG”，厚度：0.7mm)來製備評價樣品。將評價樣品在高壓釜中在50℃及5個大氣壓下處理15分鐘，然後裝入80℃的烘箱中，放置500小時。
對於500小時過去之後的光學積層體或附黏著劑層的偏光板，觀察藉由因正交偏光鏡的光洩漏引起的偏光板的端部的亮度差。
在表中，將其中不存在由於亮度差而引起的端部的外觀異常的產品評價為○，並將其中存在外觀異常的產品評 價為×。
此外，將樣品裝入60℃/90%RH的恆溫恆濕器中，放置500小時，接著藉由與上述相同的標準評價其耐久性。
此外，實施例1的偏光板的端部的顯微鏡照片示於圖6(a)，比較例1的偏光板的端部的顯微鏡照片示於圖6(b)。
(耐久性評價2-2)
除了藉由將光學積層體或附黏著劑層的偏光板的第一黏著劑層側黏合至具有ITO層的玻璃基板的ITO層來製備評價樣品以外，藉由與耐久性評價2-1相同的方法及標準進行耐久性的評價。具有ITO層的玻璃基板與在(耐久性評價1-2)中使用的基板相同。
(第一黏著劑層的劣化)
作為第一黏著劑層的初始表面電阻值，用由Mitsubishi Chemical Analytech Co.,Ltd.製造的MCP-HT450測量製備之後即刻的光學積層體或附黏著劑層的偏光板的第一黏著劑層的表面電阻值(Ω/□)，並將測量值定義為“初始電阻值”。
之後，將測量用樣品裝入具有60℃溫度及90%濕度的環境中500小時，然後類似地測量其電阻值。將測量值定義為“經歷濕熱後的電阻值”。
藉由使用以下等式由“初始電阻值”及“經歷濕熱後的電阻值”計算電阻值變化率，並且藉由以下評價標準進行評價。
電阻值變化率(%)=((經歷濕熱後的電阻值)/(初始電阻 值))×100
(評價標準)
○：表面電阻值變化率小於500%(黏著劑層的表面電阻值因熱及濕度增加的百分比小，因此黏著劑層劣化的程度小)。
×：表面電阻值變化率為500%以上(黏著劑層的表面電阻值因熱及濕度增加的百分比大，因此黏著劑層劣化的程度大)。
(被黏物的劣化)
以尺寸為15mm×15mm的方式切斷在其表面上形成無定形ITO層的導電性膜(Nitto Denko Corporation製造，商品名："ELECRYSTA(P400L)")，並將在實施例等任一個中得到的光學積層體或附黏著劑層的偏光板(尺寸為8mm×8mm)黏合到導電性膜上的中央部分。之後，在高壓釜中在50℃及5個大氣壓下處理15分鐘。因而，製備了評價樣品。
用由Accent Optical Technologies Inc.製造的HL5500PC測量其上形成ITO層的，並且已黏合在實施例等任一個中得到的光學積層體或附黏著劑層的偏光板的導電性膜的表面電阻值，並將測量值定義為“初始電阻值”。
之後，將測量用樣品裝入具有60℃溫度及90%濕度的環境中500小時，然後類似地測量其電阻值。將測量值定義為“經歷濕熱後的電阻值”。
藉由使用以下等式由“初始電阻值”及“經歷濕熱後的電阻值”計算電阻值變化率，並且藉由以下評價標準進行評 價。
電阻值變化率(%)=((經歷濕熱後的電阻值)/(初始電阻值))×100
(評價標準)
○：電阻值變化率小於200%(電阻值因熱及濕度增加的百分比小，因此被黏物劣化的程度大)。
×：電阻值變化率為200%以上(電阻值因熱及濕度增加的百分比大，因此被黏物劣化的程度小)。
Figure 104127924-A0202-12-0045-2
本發明附黏著劑層的偏光板適合用於液晶電視機，液晶顯示器，例如行動電話、數位相機、攝影機、可攜式遊戲機、汽車導航系統、影印機、印表機、傳真機、時鐘及微波爐等的液晶面板，以及有機EL元件的防反射板。
10‧‧‧第一黏著劑層
20‧‧‧保護薄膜
30‧‧‧偏光膜
100‧‧‧偏光板
A‧‧‧積層體

Claims (15)

  1. 一種附黏著劑層的偏光板，其依次包含第一黏著劑層、一片保護薄膜及偏光膜，其中：該偏光膜的厚度為13μm以下；該保護薄膜與該偏光膜的厚度之比(保護薄膜的厚度/偏光膜的厚度)為4.0至9.0；且當將500g的負荷施加至該第一黏著劑層1小時時的潛變量為20μm/h至300μm/h。
  2. 如請求項1之附黏著劑層的偏光板，其中前述保護薄膜的厚度為5μm至60μm。
  3. 如請求項1之附黏著劑層的偏光板，其中前述第一黏著劑層包含丙烯酸系黏著劑。
  4. 如請求項3之附黏著劑層的偏光板，其中前述丙烯酸系黏著劑包含丙烯酸系聚合物作為基礎聚合物，且該丙烯酸系聚合物實質上不含有具有羧基的構成單元。
  5. 如請求項3之附黏著劑層的偏光板，其中前述丙烯酸系黏著劑包含丙烯酸系聚合物作為基礎聚合物，且該丙烯酸系聚合物包含衍生自(甲基)丙烯酸烷基酯的構成單元及衍生自含有羥基的單體的構成單元。
  6. 如請求項5之附黏著劑層的偏光板，其中前述含有羥基的單體包含丙烯酸4-羥基下酯。
  7. 如請求項3之附黏著劑層的偏光板，其中前述丙烯酸系黏著劑包含酚系抗氧化劑。
  8. 如請求項3之附黏著劑層的偏光板，其中前述丙烯酸系黏著劑包含基礎聚合物及多種交聯劑；且該多種交聯劑為過氧化物系交聯劑、環氧系交聯劑或異氰酸酯系交聯劑。
  9. 一種光學積層體，其依次包括如請求項1之附黏著劑層的偏光板、第二黏著劑層及光學薄膜，其中該第二黏著劑層設置在與該附黏著劑層的偏光板的前述偏光膜的前述保護薄膜相反側的面上。
  10. 如請求項9之光學積層體，其中前述第二黏著劑層的厚度為3μm至18μm。
  11. 如請求項9之光學積層體，其中前述光學薄膜的厚度為10μm至30μm。
  12. 如請求項9之光學積層體，其中前述光學薄膜包含亮度提升薄膜。
  13. 如請求項9之光學積層體，其中前述光學積層體的厚度為100μm以下。
  14. 如請求項9之光學積層體，其中當前述光學積層體的保護薄膜側表面與無鹼玻璃經由黏著劑彼此黏合，且在70℃環境下放置200小時時，偏光膜的吸收軸方向中的該積層體的收縮率為0.4%以下。
  15. 一種如請求項9之光學積層體的製備方法，其包括：分別製備如請求項1之附黏著劑層的偏光板、及前述偏光膜與前述第二黏著劑層的積層體I；及將該附黏著劑層的偏光板與該積層體I積層。
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