TWI682909B - 玻璃基板之製造方法、及玻璃基板製造裝置 - Google Patents

玻璃基板之製造方法、及玻璃基板製造裝置 Download PDF

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Abstract

本發明能夠抑制形成熔融玻璃之流路之管之變形、彎曲、破損等。 於本發明之玻璃基板之製造方法中,為了形成熔解爐之端部與成形裝置之間之熔融玻璃之流路,熔融玻璃處理裝置係藉由使複數根管於管之間及與熔解爐之端部之間被連接而構成。第1管包含:管本體;及法蘭狀之電極,其向管本體外突出,對管本體進行通電加熱。法蘭狀之電極以被管本體與連接於第1管之第2管夾持之方式設置於管本體之端。法蘭狀之電極至少於被管本體與第2管夾持之部分具有沿著流路之延伸方向鼓出之凸部及凹陷之凹部相鄰之凹凸形狀。於本方法中,於熔解步驟之前,對第1管及第2管進行加熱使其等熱膨脹,利用管本體與第2管夾持凹凸形狀使其變形,從而將第1管與第2管連接。

Description

玻璃基板之製造方法、及玻璃基板製造裝置
本發明係關於一種玻璃基板之製造方法、及玻璃基板製造裝置。
於製造玻璃基板時,利用熔解爐將玻璃原料熔融而製作熔融玻璃,其後利用澄清管使熔融玻璃澄清,將澄清後之熔融玻璃例如使用成形體成形為玻璃片。於熔解爐中製作之熔融玻璃係經由移送管送至澄清管。 關於上述移送管及澄清管,已知有包含鉑或鉑合金之移送管及澄清管(專利文獻1)。
此處,於玻璃基板之製造方法中,將熔解爐、移送管、及澄清管相連,進而確保於澄清管後至用以由熔融玻璃製作玻璃片之成形裝置之熔融玻璃之流路,然後開始玻璃基板之製造。此時,包含鉑或鉑合金之移送管及澄清管因被升溫至一千幾百度而熱膨脹。又,移送管及澄清管係固定於熔解爐與成形裝置之間進行組裝,因此移送管及澄清管欲向熔融玻璃之流動方向延伸之熱膨脹受到約束,對移送管及澄清管施加壓縮應力。其結果,有移送管及澄清管變形彎曲甚至破損之情況。
又,近年來,為了降低環境負荷,多數情況下使用SnO2 作為澄清劑來代替一直用作澄清劑之有害之As2 O3 。SnO2 於降低環境負荷之方面有效,但為了有效地發揮澄清功能,必須與As2 O3 相比將熔融玻璃之溫度設定得較高。因此,為了將熔融玻璃加熱至高溫,移送管及澄清管之加熱溫度亦變高,移送管及澄清管之熱膨脹比以往大。 因此,越來越期望能夠防止於製造開始後移送管與澄清管因熱膨脹而破損。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特表2008-539162號公報
[發明所欲解決之問題]
因此,本發明之目的在於提供一種玻璃基板之製造方法及玻璃基板製造裝置,能夠抑制形成熔融玻璃之流路之管之變形、彎曲、破損等變形、彎曲、破損等,上述形成熔融玻璃之流路之管更具體而言為具有形成熔融玻璃之流路且相互連接之複數根管之熔融玻璃處理裝置中之該管。 [解決問題之技術手段]
本發明包含下述(1)~(7)之形態之玻璃基板之製造方法、及玻璃基板製造裝置。
(1)一種玻璃基板之製造方法,其特徵在於具備: 熔解步驟,其利用熔解爐將玻璃原料熔解而製作熔融玻璃; 處理步驟,其使用熔融玻璃處理裝置對上述熔融玻璃進行處理;及 成形步驟,其使用成形裝置將經處理之上述熔融玻璃成形為玻璃片; 為了形成上述熔解爐之端部與上述成形裝置之間之熔融玻璃之流路,上述熔融玻璃處理裝置係藉由使複數根管於上述管之間及與上述熔解爐之端部之間被連接而構成; 上述管中之第1管具備: 管本體; 法蘭狀之電極,其向上述管本體外突出,對上述管本體進行通電加熱; 上述法蘭狀之電極以被上述管本體與連接於上述第1管之第2管及上述熔解爐之上述端部之任一者夾持之方式設置於上述管本體之端; 上述法蘭狀之電極至少於被上述管本體與上述第2管及上述熔解爐之上述端部中之上述一者夾持之部分具有沿著上述流路之延伸方向鼓出之凸部及凹陷之凹部相鄰之凹凸形狀;且 於上述熔解步驟之前,對上述第1管進行加熱而使其熱膨脹,利用上述管本體與上述第2管及上述熔解爐之上述端部中之上述一者夾持上述凹凸形狀使其變形,從而將上述第1管與上述第2管及上述熔解爐之上述端部中之上述一者連接。 於上述(1)之方法中,於加熱上述第1管前,於上述管本體與上述第2管及上述熔解爐之上述端部中之上述一者之間設置有間隙。
於上述(1)之方法中,較佳為上述第1管與上述第2管及上述熔解爐之上述端部中之上述一者之各進行抵接之端部自外部被冷卻,藉由由該端部使經過該端部進入至位於該端部之間之空隙之熔融玻璃冷卻固化,從而形成上述流路。
於上述(1)之方法中,較佳為加熱上述第1管時,亦加熱上述第2管及上述熔解爐之上述端部中之至少上述一者。
(2)如上述(1)記載之玻璃基板之製造方法,其中上述熔融玻璃處理裝置進而具有配置於上述管各自之周圍之隔熱構件; 上述法蘭狀之電極以被上述第1管之周圍之第1隔熱構件與上述第2管之周圍之第2隔熱構件夾持之方式設置; 上述法蘭狀之電極於被上述第1隔熱構件與上述第2隔熱構件夾持之上述法蘭狀電極之外周部亦具有上述凹凸形狀;且 對上述第1管進行加熱時,對上述第1隔熱構件進行加熱而使其熱膨脹,利用上述第1隔熱構件與上述第2隔熱構件夾持位於上述法蘭狀電極之外周部之上述凹凸形狀之部分使其變形。
(3)如上述(1)或上述(2)記載之玻璃基板之製造方法,其中上述法蘭狀之電極具有上述凹凸形狀於上述法蘭狀電極之延伸方向上重複出現之形狀;且 上述凸部及上述凹部排列之方向之上述凹凸形狀之重複單元之長度小於上述管本體之直徑。
(4)如上述(1)至上述(3)中任一項記載之玻璃基板之製造方法,其中上述法蘭狀之電極以被上述管本體與上述第2管夾持之方式配置; 於將上述管本體、上述法蘭狀之電極、上述凸部、上述凹部、上述凹凸形狀分別稱為第1管本體、第1法蘭狀之電極、第1凸部、第1凹部、第1凹凸形狀時, 上述第2管具備: 第2管本體;及 第2法蘭狀之電極,其向上述第2管本體外突出; 上述第2法蘭狀之電極以被上述第2管本體與上述第1管之上述第1法蘭狀之電極夾持之方式設置於上述第2管本體之端; 上述第2法蘭狀之電極至少於被上述第2管本體與上述第1法蘭狀之電極夾持之部分具有第2凸部及第2凹部相鄰之第2凹凸形狀,上述第2凸部向上述流路之延伸方向鼓出,上述第2凹部相對於上述第2凸部向上述第2管本體側凹陷;且 對上述第1管進行加熱時,利用上述第2管本體與上述第1法蘭狀之電極夾持上述第2凹凸形狀使其變形,從而將上述第1管與上述第2管連接。
(5)一種玻璃基板之製造方法,其特徵在於具備: 熔解步驟,其利用熔解爐熔解玻璃原料而製作熔融玻璃; 處理步驟,其使用熔融玻璃處理裝置對上述熔融玻璃進行處理;及 成形步驟,其使用成形裝置將經處理之上述熔融玻璃成形為玻璃片; 為了形成連接於上述熔解爐之處理槽之端部與上述成形裝置之間之熔融玻璃之流路,上述熔融玻璃處理裝置係藉由使複數根管於上述管之間及與上述處理槽之端部之間被連接而構成; 上述管中之第1管具備: 管本體;及 法蘭狀之電極,其向上述管本體外突出,對上述管本體進行通電加熱; 上述法蘭狀之電極以被上述管本體與連接於上述第1管之第2管及上述處理槽之上述端部之任一者夾持之方式設置於上述管本體之端; 上述法蘭狀之電極至少於被上述管本體與上述第2管及上述處理槽之上述端部中之上述一者夾持之部分具有沿著上述流路之延伸方向鼓出之凸部及凹陷之凹部相鄰之凹凸形狀;且 於上述熔解步驟之前,對上述第1管進行加熱而使其熱膨脹,利用上述管本體與上述第2管及上述處理槽之上述端部中之上述一者夾持上述凹凸形狀使其變形,從而將上述第1管與上述第2管及上述處理槽之上述端部中之上述一者連接。 於上述(5)之方法中,於加熱上述第1管前,於上述管本體與上述第2管及上述處理槽之上述端部中之上述一者之間設置有間隙。
於上述(5)之方法中,較佳為上述第1管與上述第2管及上述處理槽之上述端部中之上述一者之各進行抵接之端部自外部被冷卻,藉由由該端部使經過該端部進入至位於該端部之間之空隙之熔融玻璃冷卻固化,從而形成上述流路。
於上述(5)之方法中,較佳為加熱上述第1管時,亦加熱上述第2管及上述處理槽之上述端部中之至少上述一者。
(6)一種玻璃基板製造裝置,其特徵在於具備: 熔解爐,其將玻璃原料熔解而製作熔融玻璃; 熔融玻璃處理裝置,其對上述熔融玻璃進行處理;及 成形裝置,其將經處理之上述熔融玻璃成形為玻璃片; 為了形成上述熔解爐之端部與上述成形裝置之間之上述熔融玻璃之流路,上述熔融玻璃處理裝置係藉由使複數根管於上述管之間及與上述熔解爐之端部之間被連接而構成; 上述管中之第1管具備: 管本體;及 法蘭狀之電極,其向上述管本體外突出; 上述法蘭狀之電極以被上述管本體與連接於上述第1管之第2管及上述熔解爐之上述端部之任一者夾持之方式設置於上述管本體之端; 上述法蘭狀之電極至少於被上述管本體與上述第2管及上述熔解爐之上述端部中之上述一者夾持之部分具有沿著上述流路之延伸方向鼓出之凸部及凹陷之凹部相鄰之凹凸形狀;且 於上述第1管熱膨脹之狀態下,上述凹凸形狀被上述管本體與上述第2管及上述熔解爐之上述端部中之上述一者夾持而變形,藉此將上述第1管與上述第2管及上述熔解爐之上述端部中之上述一者連接。 於上述(6)之裝置中,於使上述第1管熱膨脹前,於上述管本體與上述第2管及上述熔解爐之上述端部中之上述一者之間設置有間隙。上述第1管係預先進行加熱而熱膨脹。
於上述(6)之裝置中,較佳為上述第1管與上述第2管及上述熔解爐之上述端部中之上述一者之各進行抵接之端部自外部被冷卻,藉由由該端部使經過該端部進入至位於該端部之間之空隙之熔融玻璃冷卻固化,從而形成上述流路。
於上述(6)之裝置中,較佳為使上述第1管熱膨脹時,亦使上述第2管及上述熔解爐之上述端部中之至少上述一者熱膨脹。
(7)一種玻璃基板製造裝置,其特徵在於具備: 熔解爐,其將玻璃原料熔解而製作熔融玻璃; 熔融玻璃處理裝置,其對上述熔融玻璃進行處理;及 成形裝置,其將經處理之上述熔融玻璃成形為玻璃片; 為了形成連接於上述熔解爐之處理槽之端部與上述成形裝置之間之上述熔融玻璃之流路,上述熔融玻璃處理裝置係藉由使複數根管於上述管之間及與上述處理槽之端部之間被連接而構成; 上述管中之第1管具備: 管本體;及 法蘭狀之電極,其向上述管本體外突出; 上述法蘭狀之電極以被上述管本體與連接於上述第1管之第2管及上述處理槽之上述端部之任一者夾持之方式設置於上述管本體之端; 上述法蘭狀之電極至少於被上述管本體與上述第2管及上述處理槽之上述端部中之上述一者夾持之部分具有沿著上述流路之延伸方向鼓出之凸部及凹陷之凹部相鄰之凹凸形狀;且 於上述第1管熱膨脹之狀態下,上述凹凸形狀被上述管本體與上述第2管及上述處理槽之上述端部中之上述一者夾持而變形,藉此將上述第1管與上述第2管及上述處理槽之上述端部中之上述一者連接。 於上述(7)之裝置中,於使上述第1管熱膨脹前,於上述管本體與上述第2管及上述處理槽之上述端部中之上述一者之間設置有間隙。上述第1管係預先進行加熱而熱膨脹。
於上述(7)之裝置中,較佳為上述第1管與上述第2管及上述處理槽之上述端部中之上述一者之各進行抵接之端部自外部被冷卻,藉由由該端部使經過該端部進入至位於該端部之間之空隙之熔融玻璃冷卻固化,從而形成上述流路。
於上述(7)之裝置中,較佳為使上述第1管熱膨脹時,亦使上述第2管及上述處理槽之上述端部中之至少上述一者熱膨脹。 [發明之效果]
根據本發明,能夠抑制形成熔融玻璃之流路之管之變形、彎曲、破損等,更具體而言,抑制具有形成熔融玻璃之流路且相互連接之複數根管之熔融玻璃處理裝置中之該管之變形、彎曲、破損等。
以下,對本實施形態之玻璃基板之製造方法及玻璃基板製造裝置進行說明。
以下,對本發明之玻璃基板之製造方法進行詳細說明。圖1係表示本實施形態之玻璃基板之製造方法之步驟之一例之圖。
(玻璃基板之製造方法之整體概要) 玻璃基板之製造方法主要具有熔解步驟(ST1)、澄清步驟(ST2)、均質化步驟(ST3)、供給步驟(ST4)、成形步驟(ST5)、緩冷步驟(ST6)、及切斷步驟(ST7)。玻璃基板之製造方法具有對熔融玻璃實施特定之處理(澄清、均質化、供給等)之熔融玻璃處理步驟,上述步驟之中,澄清步驟(ST2)、均質化步驟(ST3)、供給步驟(ST4)分別包含於熔融玻璃處理步驟中。此外,具有研削步驟、研磨步驟、洗淨步驟、檢查步驟、捆包步驟等,捆包步驟中積層之複數片玻璃基板被搬送至客戶方之業者。
熔解步驟(ST1)係利用熔解爐進行。於熔解爐中,藉由將玻璃原料投入至儲存於熔解爐中之熔融玻璃之液面並進行加熱而製作熔融玻璃。進而,自設置於熔解爐之內側側壁之一個底部之流出口101a向下游步驟通入熔融玻璃。 關於熔解爐之熔融玻璃之加熱,除了對熔融玻璃自身通入電氣,自身發熱而進行加熱之方法以外,亦可輔助地施予由燃燒器產生之火焰來將玻璃原料熔解。再者,於玻璃原料中添加有澄清劑。作為澄清劑,已知有SnO2 、As2 O3 、Sb2 O3 等,但無特別限制。但就降低環境負荷之方面而言,較佳為使用SnO2 (氧化錫)作為澄清劑。
澄清步驟(ST2)至少係於澄清管中進行。於澄清步驟中,藉由使澄清管內之熔融玻璃升溫,而使包含熔融玻璃中所含之O2 、CO2 或SO2 在內之泡吸收由澄清劑之還原反應所產生之O2 進行生長,上浮至熔融玻璃之液面並被釋放。進而,於澄清步驟中,藉由降低熔融玻璃之溫度,由澄清劑之還原反應所獲得之還原物質進行氧化反應。藉此,熔融玻璃中殘存之泡中之O2 等氣體成分被再次吸收至熔融玻璃中,泡消失。由澄清劑引起之氧化反應及還原反應係藉由控制熔融玻璃之溫度進行。再者,澄清步驟亦可使用於澄清管中製造減壓氣氛之空間,使熔融玻璃中存在之泡於減壓氣氛下生長並消泡之減壓消泡方式。此時,於不使用澄清劑之方面而言有效。再者,於澄清步驟中,使用將氧化錫用作澄清劑之澄清方法。
於均質化步驟(ST3)中,藉由使用攪拌器攪拌經過自澄清管延伸之配管所供給之攪拌槽內之熔融玻璃,從而進行玻璃成分之均質化。藉此,能夠降低作為條紋等之成因之玻璃之組成不均。 於供給步驟(ST4)中,經過自攪拌槽延伸之配管將熔融玻璃供給至成形裝置。
於成形裝置中,進行成形步驟(ST5)及緩冷步驟(ST6)。 於成形步驟(ST5)中,將熔融玻璃成形為玻璃片,製作流動之玻璃片。成形係使用溢流下拉法。 於緩冷步驟(ST6)中,以成形且流動之玻璃片成為所需之厚度且不產生內部應變之方式、進而以不產生翹曲之方式進行冷卻。 於切斷步驟(ST7)中,藉由於切斷裝置中將自成形裝置供給之玻璃片切斷成特定之長度,從而獲得板狀之玻璃基板。被切斷之玻璃基板進而被切斷成特定之尺寸,從而製作目標尺寸之玻璃基板。其後,進行玻璃基板之端面之研削、研磨,並進行玻璃基板之洗淨,進而,檢查有無氣泡等異常缺陷後,將檢查合格品之玻璃基板捆包成最終製品。
圖2係示意性地表示進行本實施形態中之熔解步驟(ST1)~切斷步驟(ST7)之玻璃基板製造裝置之一例之圖。該裝置如圖2所示,主要具有熔解裝置100、成形裝置200、及切斷裝置300。熔解裝置100具有熔解爐101、澄清管102、攪拌槽103、及玻璃供給管104、105、106。玻璃基板製造裝置具有對熔融玻璃實施特定之處理之熔融玻璃處理裝置,上述澄清管102、攪拌槽103、玻璃供給管104、105、106分別包含於熔融玻璃處理裝置。 於圖2所示之熔解裝置100中,玻璃原料之投入係使用吊桶101d進行。於澄清管102中,調整熔融玻璃MG之溫度,利用澄清劑之氧化還原反應進行熔融玻璃MG之澄清。澄清管102包含1根管或係由複數根管相互連接而構成。進而,於攪拌槽103中,利用攪拌器103a攪拌熔融玻璃MG而使其均質化。於成形裝置200中,藉由使用成形體210之溢流下拉法,由熔融玻璃MG成形玻璃片SG。 再者,於圖2中,玻璃供給管104係將熔解爐101與澄清管102連接之移送管,但玻璃供給管104亦可為將連接於熔解爐101之處理槽與澄清管102連接之移送管。作為處理槽,例如可列舉一面將氧氣供給至熔融玻璃一面使熔融玻璃MG之溫度降低而使上述氧氣之一部分吸收至澄清劑之處理槽。
(熔融玻璃處理裝置之管) 為了形成熔解爐101之端部與成形裝置200之間之熔融玻璃之流路,熔融玻璃處理裝置係藉由使複數根管於管之間及與熔解爐101之端部之間被連接而構成。作為此種管,可列舉上述澄清管102、攪拌槽103、玻璃供給管104、105、106。該等管包含鉑或鉑合金,但亦可包含強化鉑或強化鉑合金。強化鉑或強化鉑合金係於鉑或鉑合金中分散Al2 O3 、ZrO2 或Y2 O3 等金屬氧化物粒子而成之材料。 又,於澄清管包含複數根管之情形時,構成澄清管之各管亦可作為形成熔融玻璃之流路之上述管列舉。
熔融玻璃處理裝置之管中之至少一部分管具備:管本體、及向管本體外突出且對管本體進行通電加熱之法蘭狀之電極。作為此種管,例如可列舉澄清管102、及玻璃供給管104、105,但攪拌槽103、玻璃供給管106亦可包含具備管本體及法蘭狀電極之管。
以下,作為具備管本體及法蘭狀電極之管,以澄清管102為例進行說明。 圖3(a)係表示具備澄清管本體及法蘭狀電極之組裝前之澄清管102之側視圖,圖3(b)係表示組裝後之圖3(a)之澄清管120之側視圖。
澄清管102具備:澄清管本體102c、及電極102a、102b。電極102a、102b藉由焊接等安裝於澄清管本體102c之延伸方向之兩端。其中,電極102a以被澄清管本體102c與玻璃供給管104夾持之方式設置於澄清管本體102c之一端。又,電極102b以被澄清管本體102c與玻璃供給管105夾持之方式設置於澄清管本體102c之另一端。澄清管本體102c係具有圓筒形狀或者角形柱狀之構件。澄清管本體102c之上述一端及上述另一端具體而言係朝向澄清管本體102c之延伸方向之端面。 電極102a、102b與未圖示之電源裝置連接,對澄清管本體102c進行通電加熱。電極102a、102b具有向澄清管本體102c外(外周側)突出之法蘭形狀,自管外部被冷卻。 再者,雖然未圖示,但澄清管102設置有將澄清管102內部空間中之氣相與管外部連通之開口。
電極102a、102b具有凹凸形狀124。凹凸形狀124係凸部124a及凹部124b相鄰之形狀。凸部124a係自澄清管本體102c之端沿著熔融玻璃之流路之延伸方向(圖3中為澄清管本體102c之延伸方向)鼓出之部分。凹部124b係相對於凸部124a向澄清管本體102c側(沿著延伸方向)凹陷之部分。於圖3所示之例中,凹凸形狀124形成於電極102a、102b之所有部分,但只要至少形成於被澄清管本體102c與玻璃供給管104、105夾持之部分即可。圖3以後之附圖中,下述凹凸之重複單元之長度、凹凸之高低差、及板狀構件之厚度係誇張地進行表示以便易於理解所進行之說明。
圖4(a)係表示圖3所示之電極102a之前視圖,圖4(b)係表示電極102a之變化例之前視圖。 於圖3所示之例中,電極102a、102b之凹凸形狀124如圖4(a)所示為細直線所表示之凸部124a之最大突出位置與粗直線所表示之凹部124b之最大凹陷位置相互平行地延伸,在圖4之上下方向上交替排列的形狀,但亦可如圖4(b)所示為最大突出位置與最大凹陷位置呈放射狀延伸,在電極102a、102b之周向上交替排列的形狀。
又,於圖3(a)所示之例中,凹凸形狀124係凸部124a及凹部124b彎曲之波浪形狀,但不限於此種形態,例如亦可如圖5(a)所示為凸部124a及凹部124b彎折之鋸齒形狀,亦可如圖5(b)所示為矩形波形狀。圖5(a)係表示電極102a之另一變化例之側視圖,圖5(b)係表示電極102a之又一變化例之側視圖。
具有凹凸形狀124之電極102a、102b係藉由對板狀構件以表現上述說明之凹凸形狀124之方式實施例如彎曲加工而製作。板狀構件例如包含鉑或鉑合金,例如厚度為數mm左右。若對凹凸形狀124自電極102a、102b之厚度方向之兩側進行壓接,則能夠以凸部124a之鼓出及凹部124b之凹陷變小之方式進行塑性變形。例如,於圖3(b)所示之例中,凹凸形狀124被夾持於澄清管本體102c與玻璃供給管104、105之間,以沿著上下方向延伸之方式塑性變形。
以上,對澄清管102之兩個電極102a、102b具有凹凸形狀124之例進行了說明,但凹凸形狀124亦可僅設置於任一個電極。 又,作為具備管本體及法蘭狀電極之管,以澄清管102為例進行了說明,但此種管不限於澄清管102,例如亦可為玻璃供給管104、105。例如,於玻璃供給管104中,於與熔解爐101之端部連接側之端設置有具有凹凸形狀之電極之情形時,該凹凸形狀如下所述,被玻璃供給管本體與熔解爐101之端部夾持而變形。
(玻璃基板製造裝置之組裝) 其次,對玻璃基板製造裝置之組裝、尤其是熔解爐101、玻璃供給管104、及澄清管102之組裝進行說明。 圖6係說明本實施形態中之玻璃供給管104及澄清管102對熔解爐101之組裝之圖。再者,於對處理槽110組裝玻璃供給管104及澄清管102之情形時,亦進行同樣之處理,因此省略說明。
熔解爐101可利用耐火物磚等耐火物材來貯留熔融玻璃MG,以具有下槽與上槽之方式,於製造現場進行築造,上述下槽設置有對熔融玻璃進行通電加熱之電極,上述上槽利用燃燒器等加熱氣相而形成高溫氣氛。
與此相對,玻璃供給管104係於工廠等中進行製作並被搬入至製造現場。同樣地,澄清管102係於工廠等中進行製作並被搬入至製造現場。此時,玻璃供給管104及澄清管102之配置係考慮將玻璃供給管104、澄清管102加熱至特定之溫度(例如1000℃以上)時之熱膨脹,如圖6所示,以熔解爐101之端部、玻璃供給管104之兩端部、澄清管102之端部相互不抵接之方式預先空出間隙而配置。熱膨脹係指管之延伸方向(長度方向)之熱膨脹。再者,圖6中,於玻璃供給管104之兩端部配置有電極104a、104b,於與玻璃供給管104對向之澄清管102之端部配置有電極102a。
於圖6中表示熔解爐101之底部與側壁之一部分。以玻璃供給管104之電極104a不抵接於該熔解爐101之流出口之端部、具體而言側壁之熔融玻璃MG之流出口101a之端部101b之方式留有間隙。 玻璃供給管104被高鋁水泥114a被覆,於其外側堆疊有耐火物磚等隔熱構件114b。藉此,形成移送管單元114。同樣地,澄清管102被高鋁水泥112a被覆,於其外側堆疊有耐火物磚等隔熱構件112b。藉此,形成澄清管單元112。 移送管單元114及澄清管單元112如上所述,以利用由特定溫度之加熱所引起之熱膨脹方才將熔解爐101、玻璃供給管104、及澄清管102之端部彼此連接之方式配置於製造現場。即,於熔解爐101之熔融玻璃MG之流出口101a之端部101b與玻璃供給管104之電極104a之間、及玻璃供給管104之電極104b與澄清管102之電極102a之間空出考慮到上述熱膨脹量之間隙進行配置。
於該狀態下,熔解爐101、移送管單元114及澄清管單元112係藉由自外部對未圖示之加熱裝置或設置於玻璃供給管104及澄清管102之周圍之未圖示之加熱器電極進行通電,從而將熔解爐101、玻璃供給管104、澄清管102加熱至特定之溫度。此時,因玻璃供給管104、澄清管102所產生之熱膨脹(圖6中之橫向之箭頭),玻璃供給管104及澄清管102之相互對向之電極104b、102a彼此接觸,電極104b與電極102a之間之間隙消失,進而,電極104b及電極102a被玻璃供給管本體104c與澄清管本體102c夾持,以凹凸形狀之凹部及凸部被壓扁之方式變形,將澄清管102與玻璃供給管104連接。又,熔解爐101及玻璃供給管104之相互對向之電極101b、104a彼此接觸,端部101b與電極104a之間之間隙消失,進而,電極104a被端部101b與玻璃供給管本體104c夾持,以凹凸形狀之凹部及凸部被壓扁之方式變形,將端部101b與玻璃供給管104連接。 又,隔熱構件114b、112b可如上所述被來自經加熱之玻璃供給管104、澄清管102之熱導加熱。隔熱構件114b、112b亦可被設置於隔熱構件114b、112a之周圍之未圖示之加熱器加熱。
於本實施形態中,將熔解爐101、玻璃供給管104、澄清管102進行加熱來組裝,但亦可單獨加熱玻璃供給管104或加熱玻璃供給管104及澄清管102,使熱膨脹之玻璃供給管104(第1管)之兩端部抵接於熔解爐101之端部及澄清管102(第2管)之端部進行組裝。上述加熱可如上所述單獨對包含玻璃供給管104之移送管單元114進行加熱,或者亦可對包含玻璃供給管104之移送管單元114及包含澄清管102之澄清管單元112進行加熱。
如此,如圖7所示,熔解爐101之端部與玻璃供給管104連接,玻璃供給管104與澄清管102連接。此時,熔解爐101之端部101b及玻璃供給管本體與變形之電極104a之間存在小空隙。同樣地,玻璃供給管本體及澄清管本體與變形之電極104b、102a之間存在小空隙。 熔解爐101之端部、玻璃供給管104及澄清管102連接後,於保持熔解爐101、移送管單元114及澄清管單元112之高溫狀態之狀態下,將玻璃原料投入至熔解爐101,利用未圖示之燃燒器及電極熔解玻璃原料而製作熔融玻璃MG。 於該狀態下,流出口101a開放,貯留於熔解爐101中之熔融玻璃MG自流出口101a開始流向玻璃供給管104,進而開始流向澄清管102。熔融玻璃MG利用設置於玻璃供給管104及澄清管102之未圖示之加熱器例如升溫至1500~1700℃。然後,熔融玻璃MG經過抵接之端部時,熔融玻璃MG進入至上述空隙。電極104a、104b、102a由於成為法蘭形狀,故而容易自管外部冷卻,因此進入至上述空隙之熔融玻璃MG容易地冷卻固化而填埋上述空隙。如此,形成自熔解爐101至玻璃供給管104、進而至澄清管102之流路,即熔融玻璃MG不會漏出之流路。
先前,於組裝熔解爐、移送管、澄清管之方法中,例如有以該等被加熱而熱膨脹時相互無間隙地抵接之方式考慮移送管、澄清管之熱膨脹,於組裝前相互空出間隙進行配置之情況。但是,熔解爐、移送管、澄清管之熱膨脹量視熔融玻璃之溫度等操作條件而變化,難以正確地預測。又,亦難以依照考慮到熱膨脹而定之間隙正確地配置熔解爐、移送管、澄清管。因此,於實際地進行組裝時,多數情況下於移送管、澄清管之熱膨脹量與組裝前設置於熔解爐、移送管、澄清管之間之間隙之間會產生偏差。特別是於移送管、澄清管之熱膨脹量不足而無法填補組裝前設置之間隙之情形時,有熔融玻璃漏出之可能性,故而為了避免此種事態,多數情況下將熔解爐、移送管、澄清管之間之間隙設定得略短。因此,移送管、澄清管之熱膨脹受到約束,對移送管、澄清管施加壓縮應力,有移送管、澄清管變形、彎曲、甚至破損之情況。 於本實施形態中,如上所述,電極104a、104b、102b之凹凸形狀124能夠向沿著流路之方向變形,故而能夠考慮到該等凹凸形狀124之變形量(變形裕度),將設置於熔解爐101、玻璃供給管本體104c、澄清管本體102c之間之間隙設定為大於玻璃供給管本體104c之熱膨脹量、澄清管本體102c之熱膨脹量、及不具有凹凸形狀之電極(板狀構件)之厚度之合計之有餘裕之長度。因此,能夠避免玻璃供給管104、澄清管102之熱膨脹受到約束而對玻璃供給管104、澄清管102施加壓縮應力,能夠抑制玻璃供給管104及澄清管102之變形、彎曲、破損等。 特別是如電極104b、102a般,於相互對向之玻璃供給管本體104c之端、及澄清管本體102c之端兩處配置具有凹凸形狀124之電極之情形時,凹凸形狀124之合計變形量大,故而能夠將組裝前所設置之上述間隙設定成進一步有餘裕之長度,能夠更簡單地進行裝置之組裝。
於本實施形態中,玻璃供給管104之周圍之隔熱構件114b(第1隔熱構件)及澄清管102之周圍之隔熱構件112b(第2隔熱構件)係以將電極102a、104b夾持於其間之方式配置。此時,電極102a、104b之凹凸形狀124亦形成於被隔熱構件114b與隔熱構件112b夾持之電極102a、104b之外周部,故而即便隔熱構件114b、112b之熱膨脹量小於玻璃供給管104、澄清管102之熱膨脹量,亦能夠利用隔熱構件114b、112b夾持電極104b、102a之凹凸形狀124而使其略微變形,從而自兩側支持電極104b、102a。 若於位於電極104b、102a之外周部之隔熱構件114b與隔熱構件112b之間有間隙,則例如於澄清管102、玻璃供給管104因維持為高溫而產生損傷之情形時,有熔融玻璃MG會自澄清管102、玻璃供給管104損傷之部分經過該間隙而向外部漏出之擔憂。於本實施形態中,藉由於電極104b、102a之外周部亦設置凹凸形狀124,並利用隔熱構件114b、112b自兩側進行支持,能夠消除隔熱構件114b與隔熱構件112b之間隙,防止熔融玻璃MG之漏出。 又,為了增大藉由隔熱構件114b、112b自兩側支持電極104b、102a之效果,被隔熱構件114b、112b夾持之電極104b、102a之部分之凹凸形狀亦較佳為後述凹凸之重複單元之長度L(凹凸之週期)及凹凸之高低差(凹凸之振幅)之至少一者大於被玻璃供給管本體104c與澄清管本體102c夾持之部分之凹凸形狀。
電極104a、104b、102a較佳為如圖3~圖5所示之例,具有凹凸形狀124於電極之延伸方向上重複出現之形狀。藉由此種形態,能夠於熔解爐101與玻璃供給管104之間、及玻璃供給管104與澄清管102之間被均等地夾持而變形。與此相對,除了被夾持於熔解爐101與玻璃供給管104之間之部分、及被夾持於玻璃供給管104與澄清管102之間之部分以外之電極104a、104b、102a之部分若為平坦形狀,則有平坦形狀之部分以追隨上述被夾持之部分之凹凸形狀之變形之方式變形、破裂、破損等之擔憂。 於電極104a、104b、102a具有凹凸形狀124重複出現之形狀時,凸部124a及凹部124b排列之方向之凹凸形狀124之重複單元(凹凸之週期)之長度L(參照圖4(a)及圖4(b))較佳為小於設置有電極之管本體之直徑。藉由使重複單元之長度L小於直徑,能夠於連接管彼此後縮小管本體與電極之間殘留之空隙。重複單元之長度L較佳為管本體之直徑之0.5倍之長度以下。 再者,關於凹凸形狀124非直線狀地重複之情形時,重複單元之長度L係其最小長度與最大長度之平均值。例如,如圖4(b)所示之例,凹凸形狀124於周向上重複之情形時,重複單元之長度L係電極102a之內周側之端上之周向長度與電極102a之外周側之端上之周向長度之平均值。
凹凸形狀124之凹凸之高度(沿著熔融玻璃之流路之延伸方向上之凹凸之高低差)能夠適當設定。若凹凸之高低差(最大突出位置與最大凹陷位置之距離)過小,則電極104a、104b、102a之變形量會變少,無法增大設置於熔解爐101、玻璃供給管本體104c、澄清管本體102c之間之上述間隙。因此,玻璃供給管104、澄清管102之熱膨脹受到約束而對玻璃供給管104、澄清管102施加壓縮應力,有玻璃供給管104、澄清管102變形、彎曲、甚至破損之情況。另一方面,若凹凸之高低差過大,則難以於電極104a、104b、102a之周圍設置冷卻管,因此無法充分地進行電極104a、104b、102a之冷卻,有電極104a、104b、102a破損之擔憂。再者,冷卻管以管狀之構件抵接於電極104a、104b、102a之外周緣而環狀地進行包圍之方式構成,且連接於冷媒供給裝置,藉由使自冷媒供給裝置供給之水等冷媒經過冷卻管內,從而將與冷卻管接觸之電極冷卻。 又,能夠適當設定壓接力自電極104a、104b、102a之兩側作用時之電極104a、104b、102a之變形性(電極之硬度)。電極之硬度影響電極104a、104b、102a之變形量、或緩和相鄰之管相互壓抵之力之緩衝作用、電極104a、104b、102a對維持為高溫而產生損傷之耐久性。能夠考慮該等方面適當設定電極104a、104b、102a之長度L、高低差、硬度。特別是就確保緩衝作用之觀點而言,上述長度L及上述凹凸之高低差分別設定為安裝具有該凹凸形狀之電極之管本體之長度之0.05~5%之長度,較佳為設定為0.1~2%之長度。電極之硬度例如能夠藉由適當選定成為電極之板狀構件之材質、厚度、形狀等來進行設定。其中,較佳為板狀構件之厚度為安裝由該板狀構件形成之電極之管本體之長度之0.001~0.5%、較佳為0.005~0.3%之長度。
(變化例) 圖8係說明玻璃基板製造裝置之組裝變化例之圖。圖8所示之熔解爐101、移送管單元114、及澄清管單元112之構成與上述實施形態之構成相同。此處,關注與上述實施形態之不同處進行說明。
於變化例中,於加熱熔解爐101、玻璃供給管104、澄清管102前,與上述實施形態中說明之組裝前之間隙相比,於玻璃供給管104之一電極104a與熔解爐101之端部101b之間、及玻璃供給管104之另一電極104b與澄清管102之電極102a之間設置有寬間隙。 並且,移送管單元114及澄清管單元112具備能夠相對於熔解爐101移動之構成。具體而言,於移送管單元114及澄清管單元112各自之底部設置有能夠於製造現場之地面移動之滾輪114c及滾輪112c。
於圖8所示之狀態下,熔解爐101、移送管單元114及澄清管單元112中,玻璃供給管104及澄清管102被加熱至特定之溫度(例如1000℃以上)。但是,加熱前之上述間隙寬為加熱玻璃供給管104及澄清管102後殘存之程度。圖9係說明變化例之玻璃供給管104及澄清管102之加熱後之狀態之圖。於圖9中,殘存間隙Z1 、Z2 。 包含因加熱而熱膨脹之玻璃供給管104之移送管單元114藉由使用未圖示之驅動機構滾動滾輪114c朝向熔解爐101移動,從而使電極102a與電極104b接觸,電極102a及電極104b被澄清管本體102c與玻璃供給管本體104c夾持,以凹凸形狀之凹部及凸部被壓扁之方式變形,將澄清管102與玻璃供給管104連接。進而,包含澄清管102之澄清管單元112藉由經由未圖示之驅動機構滾動滾輪112c朝向玻璃供給管104移動,從而使端部101b與電極104a接觸,電極104a被熔解爐101與玻璃供給管本體104c夾持,以凹凸形狀之凹部及凸部被壓扁之方式變形,將端部101b與電極104a連接。
熔解爐101之端部、玻璃供給管104、澄清管102連接後,與上述實施形態同樣地於熔解爐101中製作熔融玻璃MG,開始流經玻璃供給管104及澄清管102。並且,於熔融玻璃MG經過熔解爐101、移送管單元114、澄清管單元112之相互抵接之端部時,熔融玻璃MG進入至抵接之端部間存在之空隙中進行冷卻固化而填埋上述空隙。如此形成自熔解爐101至玻璃供給管104、進而至澄清管102之熔融玻璃MG不會漏出之流路。
於變化例中,無需考慮玻璃供給管104及澄清管102之熱膨脹而於熔解爐101、玻璃供給管104及澄清管102之端部間設置間隙,因此能夠更簡單地進行裝置之組裝。另外,於變化例中,至少玻璃供給管104於因加熱而充分地熱膨脹之狀態下使端部彼此抵接,因此於玻璃基板之製造中,能夠與上述實施形態相比更有效地抑制玻璃供給管104及澄清管102之變形、彎曲、破損等。
以上,說明了對熔解爐101組裝玻璃供給管104及澄清管102之例,但例如於組裝澄清管102、玻璃供給管105、攪拌槽103、玻璃供給管106、成形體210之情形時,或組裝包含複數根管之澄清管102之情形時,亦可進行同樣之連接。另一方面,於組裝澄清管102、玻璃供給管105、攪拌槽103、玻璃供給管106、成形體210或組裝包含複數根管之澄清管102時,亦可使用焊接或者特殊之焊接進行連接。
(玻璃基板) 本實施形態中製造之玻璃基板之大小無特別限制,例如縱尺寸及橫尺寸分別為500 mm~3500 mm、1500 mm~3500 mm、1800~3500 mm、2000 mm~3500 mm,較佳為2000 mm~3500 mm。 玻璃基板之厚度例如為0.1~1.1 mm,更佳為0.75 mm以下之極薄之矩形形狀之板,例如更佳為0.55 mm以下、進而更佳為0.45 mm以下之厚度。玻璃基板之厚度之下限值較佳為0.15 mm,更佳為0.25 mm。
<玻璃組成> 作為此種玻璃基板,例示以下之玻璃組成之玻璃基板。即,以製造以下之玻璃組成之玻璃基板之方式調製熔融玻璃之原料。 SiO2 55~80莫耳%、 Al2 O3 8~20莫耳%、 B2 O3 0~12莫耳%、 RO 0~17莫耳%(RO為MgO、CaO、SrO及BaO之總量)。
就縮小熱收縮率之觀點而言,SiO2 較佳為60~75莫耳%,進而較佳為63~72莫耳%。 RO之中,較佳為MgO為0~10莫耳%、CaO為0~15莫耳%、SrO為0~10%、BaO為0~10%。
又,亦可為至少包含SiO2 、Al2 O3 、B2 O3 及RO且莫耳比((2×SiO2 )+Al2 O3 )/((2×B2 O3 )+RO)為4.5以上之玻璃。又,較佳為包含MgO、CaO、SrO、及BaO之至少一種且莫耳比(BaO+SrO)/RO為0.1以上。
又,以莫耳%表示之B2 O3 之含有率之2倍與以莫耳%表示之RO之含有率之合計為30莫耳%以下,較佳為10~30莫耳%。 又,上述玻璃組成之玻璃基板中之鹼金屬氧化物之含有率亦可為0莫耳%以上且0.4莫耳%以下。 又,玻璃中合計包含0.05~1.5莫耳%之價數變動之金屬之氧化物(氧化錫、氧化鐵),實質上不含As2 O3 、Sb2 O3 及PbO,但並非必須而為任意。
又,藉由本實施形態所製造之玻璃基板較佳為使用無鹼之硼鋁矽酸鹽玻璃或含微量鹼之玻璃。 藉由本實施形態所製造之玻璃基板例如較佳為包含含有以下組成之無鹼玻璃。 作為藉由本實施形態所製造之玻璃基板之玻璃組成,例如可列舉以下(以質量%表示)。 包含SiO2 :50~70%(較佳為57~64%)、Al2 O3 :5~25%(較佳為12~18%)、B2 O3 :0~15%(較佳為6~13%),亦可進而任意包含以下所示之組成。作為任意包含之成分,可列舉MgO:0~10%(較佳為0.5~4%)、CaO:0~20%(較佳為3~7%)、SrO:0~20%(較佳為0.5~8%、更佳為3~7%)、BaO:0~10%(較佳為0~3%、更佳為0~1%)、ZrO2 :0~10%(較佳為0~4%,更佳為0~1%)。進而,更佳為包含R'2 O:超過0.10%且2.0%以下(其中,R'為選自Li、Na及K之至少一種)。
或者較佳為含有SiO2 :50~70%(較佳為55~65%)、B2 O3 :0~10%(較佳為0~5%、1.3~5%)、Al2 O3 :10~25%(較佳為16~22%)、MgO:0~10%(較佳為0.5~4%)、CaO:0~20%(較佳為2~10%、2~6%)、SrO:0~20%(較佳為0~4%、0.4~3%)、BaO:0~15%(較佳為4~11%)、RO:5~20%(較佳為8~20%、14~19%)(其中,R為選自Mg、Ca、Sr及Ba之至少一種)。進而,更佳為包含R'2 O超過0.10%且2.0%以下(其中,R'為選自Li、Na及K之至少一種)。
<楊氏模數> 作為藉由本實施形態所製造之玻璃基板之楊氏模數,例如較佳為72 GPa以上,更佳為75 GPa以上,進而更佳為77 GPa以上。
<應變點> 作為藉由本實施形態所製造之玻璃基板之應變率,例如較佳為650℃以上,更佳為680℃以上,進而更佳為700℃以上、720℃以上。
<熱收縮率> 藉由本實施形態所製造之玻璃基板之熱收縮率例如為50 ppm以下,較佳為40 ppm以下,更佳為30 ppm以下,進而更佳為20 ppm以下。
本實施形態中所製造之玻璃基板適合作為包括平板顯示器用玻璃基板、曲面顯示器用玻璃基板在內之顯示器用玻璃基板,例如適合作為液晶顯示器用玻璃基板或有機EL顯示器用之玻璃基板。進而,本實施形態中所製造之玻璃基板適合於用於高精細顯示器之使用IGZO(Indium Gallium Zinc Oxide,銦鎵鋅氧化物)等氧化物半導體之氧化物半導體顯示器用玻璃基板、及使用LTPS(Low-Temperature Polycrystalline Silicon,低溫多晶矽)半導體之LTPS顯示器用玻璃基板。 又,本實施形態中所製造之玻璃基板亦能夠應用於覆蓋玻璃、磁碟用玻璃、太陽電池用玻璃基板等。
以上,對本發明之玻璃基板製造裝置及玻璃基板之製造方法進行了詳細說明,但本發明並不限定於上述實施形態,當然亦可於不脫離本發明之主旨之範圍內加以各種改良或變更。
100‧‧‧熔解裝置101‧‧‧熔解爐101a‧‧‧流出口101b‧‧‧端部101d‧‧‧吊桶102‧‧‧澄清管102a、102b‧‧‧電極102c‧‧‧澄清管本體103‧‧‧攪拌槽103a‧‧‧攪拌器104、105、106‧‧‧玻璃供給管104a、104b‧‧‧電極104c‧‧‧管延長部110‧‧‧處理槽112‧‧‧澄清管單元112a‧‧‧高鋁水泥112b‧‧‧隔熱構件112c‧‧‧滾輪114‧‧‧移送管單元114a‧‧‧高鋁水泥114b‧‧‧隔熱構件114c‧‧‧滾輪124‧‧‧凹凸形狀124a‧‧‧凸部124b‧‧‧凹部200‧‧‧成形裝置210‧‧‧成形體300‧‧‧切斷裝置L‧‧‧長度MG‧‧‧熔融玻璃SG‧‧‧玻璃片Z1、Z2‧‧‧間隙
圖1係表示本實施形態之玻璃基板之製造方法之步驟之一例之圖。 圖2係示意性地表示進行本實施形態中之熔解步驟~切斷步驟之裝置之一例之圖。 圖3(a)係具備管本體及法蘭狀電極之組裝前之管之側視圖,(b)係表示組裝後之(a)之管之側視圖。 圖4(a)係表示圖3所示之法蘭狀電極之前視圖,(b)係表示法蘭狀電極之變化例之前視圖。 圖5(a)係表示法蘭狀電極之另一變化例之側視圖,(b)係表示法蘭狀電極之又一變化例之側視圖。 圖6係說明本實施形態之玻璃板之製造方法中之組裝玻璃供給管及澄清管時之加熱前之狀態之圖。 圖7係說明圖6所示之玻璃供給管及澄清管之加熱後之狀態之圖。 圖8係說明變化例之玻璃板之製造方法中之組裝玻璃供給管及澄清管時之加熱前之狀態之圖。 圖9係說明圖8所示之組裝中之玻璃供給管及澄清管之加熱後之狀態之圖。
101‧‧‧熔解爐
101a‧‧‧流出口
101b‧‧‧端部
102‧‧‧澄清管
102a‧‧‧電極
102c‧‧‧澄清管本體
104‧‧‧玻璃供給管
104a、104b‧‧‧電極
104c‧‧‧管延長部
110‧‧‧處理槽
112‧‧‧澄清管單元
112a‧‧‧高鋁水泥
112b‧‧‧隔熱構件
114‧‧‧移送管單元
114a‧‧‧高鋁水泥
114b‧‧‧隔熱構件

Claims (8)

  1. 一種玻璃基板之製造方法,其特徵在於包括:熔解步驟,其利用熔解爐熔解玻璃原料而製作熔融玻璃;處理步驟,其使用熔融玻璃處理裝置對上述熔融玻璃進行處理;及成形步驟,其使用成形裝置將經處理之上述熔融玻璃成形為玻璃片;為了在上述熔解爐之端部與上述成形裝置之間形成上述熔融玻璃之流路,上述熔融玻璃處理裝置具有相互連接之複數根管,上述管包含與上述熔解爐之上述端部連接之管,及與上述成形裝置連接之管;上述管中之第1管包含:管本體;及法蘭狀之電極,其向上述管本體外突出,對上述管本體進行通電加熱;上述法蘭狀之電極以被上述管本體與連接於上述第1管之第2管及上述熔解爐之上述端部之任一者夾持之方式設置於上述管本體之端;上述法蘭狀之電極至少於被上述管本體與上述第2管及上述熔解爐之上述端部中之上述一者夾持之部分具有沿著上述流路之延伸方向鼓出之凸部及凹陷之凹部相鄰之凹凸形狀;且於上述熔解步驟之前,對上述第1管進行加熱而使其熱膨脹,利用上述管本體與上述第2管及上述熔解爐之上述端部中之上述一者夾持上述凹凸形狀使其變形,從而將上述第1管與上述第2管及上述熔解爐之上述端部中之上述一者連接。
  2. 如請求項1之玻璃基板之製造方法,其中上述熔融玻璃處理裝置進而具有配置於上述管各自之周圍之隔熱構件;上述法蘭狀之電極以被上述第1管之周圍之第1隔熱構件與上述第2管之周圍之第2隔熱構件夾持之方式設置;上述法蘭狀之電極於被上述第1隔熱構件與上述第2隔熱構件夾持之上述法蘭狀電極之外周部亦具有上述凹凸形狀;且對上述第1管進行加熱時,對上述第1隔熱構件進行加熱而使其熱膨脹,利用上述第1隔熱構件與上述第2隔熱構件夾持位於上述法蘭狀電極之外周部之上述凹凸形狀之部分使其變形。
  3. 如請求項1之玻璃基板之製造方法,其中上述法蘭狀之電極具有上述凹凸形狀於上述法蘭狀電極之延伸方向上重複出現之形狀;且上述凸部及上述凹部排列之方向之上述凹凸形狀之重複單元之長度小於上述管本體之直徑。
  4. 如請求項2之玻璃基板之製造方法,其中上述法蘭狀之電極具有上述凹凸形狀於上述法蘭狀電極之延伸方向上重複出現之形狀;且上述凸部及上述凹部排列之方向之上述凹凸形狀之重複單元之長度小於上述管本體之直徑。
  5. 如請求項1至4中任一項之玻璃基板之製造方法,其中上述法蘭狀之電極以被上述管本體與上述第2管夾持之方式配置; 於將上述管本體、上述法蘭狀之電極、上述凸部、上述凹部、上述凹凸形狀分別稱為第1管本體、第1法蘭狀之電極、第1凸部、第1凹部、第1凹凸形狀時,上述第2管包含:第2管本體;及第2法蘭狀之電極,其向上述第2管本體外突出;上述第2法蘭狀之電極以被上述第2管本體與上述第1管之上述第1法蘭狀之電極夾持之方式設置於上述第2管本體之端;上述第2法蘭狀之電極至少於被上述第2管本體與上述第1法蘭狀之電極夾持之部分具有沿著上述流路之延伸方向鼓出之第2凸部及凹陷之第2凹部相鄰之第2凹凸形狀;且對上述第1管進行加熱時,利用上述第2管本體與上述第1法蘭狀之電極夾持上述第2凹凸形狀使其變形,從而將上述第1管與上述第2管連接。
  6. 一種玻璃基板之製造方法,其特徵在於包括:熔解步驟,其利用熔解爐熔解玻璃原料而製作熔融玻璃;處理步驟,其使用熔融玻璃處理裝置對上述熔融玻璃進行處理;及成形步驟,其使用成形裝置將經處理之上述熔融玻璃成形為玻璃片;為了在連接於上述熔解爐之處理槽之端部與上述成形裝置之間形成上述熔融玻璃之流路,上述熔融玻璃處理裝置具有相互連接之複數根管,上述管包含與上述處理槽之上述端部連接之管,及與上述成形裝置連接之管; 上述管中之第1管包含:管本體;及法蘭狀之電極,其向上述管本體外突出,對上述管本體進行通電加熱;上述法蘭狀之電極以被上述管本體與連接於上述第1管之第2管及上述處理槽之上述端部之任一者夾持之方式設置於上述管本體之端;上述法蘭狀之電極至少於被上述管本體與上述第2管及上述處理槽之上述端部中之上述一者夾持之部分具有沿著上述流路之延伸方向鼓出之凸部及凹陷之凹部相鄰之凹凸形狀;且於上述熔解步驟之前,對上述第1管進行加熱而使其熱膨脹,利用上述管本體與上述第2管及上述處理槽之上述端部中之上述一者夾持上述凹凸形狀使其變形,從而將上述第1管與上述第2管及上述處理槽之上述端部中之上述一者連接。
  7. 一種玻璃基板製造裝置,其特徵在於包含:熔解爐,其熔解玻璃原料而製作熔融玻璃;熔融玻璃處理裝置,其對上述熔融玻璃進行處理;及成形裝置,其將經處理之上述熔融玻璃成形為玻璃片;為了在上述熔解爐之端部與上述成形裝置之間形成上述熔融玻璃之流路,上述熔融玻璃處理裝置具有相互連接之複數根管,上述管包含與上述熔解爐之上述端部連接之管,及與上述成形裝置連接之管;上述管中之第1管包含:管本體;及 法蘭狀之電極,其向上述管本體外突出;上述法蘭狀之電極以被上述管本體與連接於上述第1管之第2管及上述熔解爐之上述端部之任一者夾持之方式設置於上述管本體之端;上述法蘭狀之電極至少於被上述管本體與上述第2管及上述熔解爐之上述端部中之上述一者夾持之部分具有沿著上述流路之延伸方向鼓出之凸部及凹陷之凹部相鄰之凹凸形狀;且於上述第1管熱膨脹之狀態下,上述凹凸形狀被上述第1管與上述第2管及上述熔解爐之上述端部中之上述一者夾持而變形,藉此將上述第1管與上述第2管及上述熔解爐之上述端部中之上述一者連接。
  8. 一種玻璃基板製造裝置,其特徵在於包含:熔解爐,其將玻璃原料熔解而製作熔融玻璃;熔融玻璃處理裝置,其對上述熔融玻璃進行處理;及成形裝置,其將經處理之上述熔融玻璃成形為玻璃片;為了在連接於上述熔解爐之處理槽之端部與上述成形裝置之間形成上述熔融玻璃之流路,上述熔融玻璃處理裝置具有相互連接之複數根管,上述管包含與上述處理槽之上述端部連接之管,及與上述成形裝置連接之管;上述管中之第1管包含:管本體;及法蘭狀之電極,其向上述管本體外突出;上述法蘭狀之電極以被上述管本體與連接於上述第1管之第2管及上述處理槽之上述端部之任一者夾持之方式設置於上述管本體之端; 上述法蘭狀之電極至少於被上述管本體與上述第2管及上述處理槽之上述端部中之上述一者夾持之部分具有沿著上述流路之延伸方向鼓出之凸部及凹陷之凹部相鄰之凹凸形狀;且於上述第1管熱膨脹之狀態下,上述凹凸形狀被上述第1管與上述第2管及上述處理槽之上述端部中之上述一者夾持而變形,藉此將上述第1管與上述第2管及上述處理槽之上述端部中之上述一者連接。
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