TWI680529B - 夾頭機構及夾頭部 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種構造單純、能夠確實夾住晶圓且具有優秀耐腐蝕性的夾頭機構。夾頭機構，包括：圓板狀的平台3，可在面方向旋轉；3個以上的夾頭部5，以平台3的旋轉軸為中心均等地配置於圓周上，以可在平台3的徑方向上轉動的方式包圍晶圓10的端面103設置；以及保持部7，設置於平台上3，以可轉動的方式保持夾頭部5，其中夾頭部5的重心G位於比轉動中心軸C更靠平台3的徑方向的外側且比轉動中心軸C更靠下側。

Description

夾頭機構及夾頭部

本發明係有關於夾頭機構及夾頭部。

做為將半導體晶圓等的基板洗淨以及洗淨後乾燥的裝置，習知技術使用了批次式，將複數片的基板浸漬於洗淨層洗淨，之後從洗淨層拉起並乾燥。

批次式能夠同時處理複數片的基板，因此作業效率優秀，但為了進一步提高基板的洗淨度，將基板一片一片放在平台上旋轉並噴上洗淨液洗淨，之後再乾燥的片葉式較為有利。

片葉式的洗淨．乾燥裝置中，需要保持基板的夾頭部。專利文獻1揭露了構成基板支持部的複數的夾臂與移動於垂直方向的圓筒裝置透過連接線連接的構造。這個構造中，藉由圓筒裝置上升，線會拉動夾臂來夾住基板，藉由圓筒裝置下降來解除夾持動作。

片葉式的洗淨．乾燥裝置中，因為旋轉時的離心力，平台的外周附近可能會往旋轉軸方向變形造成夾頭脫落。專利文獻2揭露了將可移動於徑方向的配重塊設置於平台之下，並以伸縮於徑方向的彈簧保持的構造。在這個構造中，旋轉時配重塊克服彈簧的彈力而靠離心力移動到外周側，藉此防 止平台的外周附近變形，使夾頭不脫落。

片葉式的洗淨．乾燥裝置中，夾頭部在洗淨時一直接觸晶圓的話，接觸部份沒有被洗淨而可能發生洗淨殘留。專利文獻3中，作為夾頭部，揭露了僅在高速旋轉時支持基板的支持棒。支持棒以樞軸為中心旋轉，藉此比樞軸上側的部份會接觸並保持基板。支持棒中比樞軸更上側的部份的質量會比下側的部份的質量小，且下側的部份會被彈簧推壓到平台側。支持棒在低速旋轉時不夾持基板，但在高速旋轉時，藉由下側的部份克服彈簧的推壓力而以離心力移動到平台側的相反側，藉此接觸並保持基板。洗淨後，離心力下降支持棒脫離時，洗淨液流到接觸部，因此不會發生洗淨液殘留。

【先行技術文獻】

專利文獻1：日本特開2001-223198號公報

專利文獻2：日本特開2010-10221號公報

專利文獻3：日本特開2001-110771號公報

然而，專利文獻1到專利文獻3所記載的構造存在以下的問題。

專利文獻1的構造中，夾頭機構需要圓筒及線，會有構造複雜成本提高的問題。當這些零件以金屬構成的情況下，也會有可能被洗淨液、或洗淨液噴霧所產生的腐蝕性氣體腐蝕的問題。

專利文獻2的構造是比較單純的構造，但為了確實 地夾住晶圓，需要對複數的配重塊與彈簧做細微的調整，有作業性不佳的問題，以及一般彈簧是金屬製，會有被腐蝕的問題。

專利文獻3的構造是比較單純的構造，但還是需要彈簧，仍會有被腐蝕的問題。

本發明有鑑於上述的問題，而已提出一種構造單純、能夠夾住晶圓且耐腐蝕性佳的夾頭機構及夾頭部。

本發明的夾頭機構，以片葉式保持晶圓，包括：圓板狀的平台，可在面方向旋轉；3個以上的夾頭部，以該平台的旋轉軸為中心均等地配置於圓周上，以可在該平台的徑方向上轉動的方式包圍該晶圓的端面設置；以及保持部，設置於該平台上，以可轉動的方式保持該夾頭部，其中該夾頭部的重心位於比轉動中心軸更靠該平台的徑方向的外側且比轉動中心軸更靠下側。根據本發明，因為夾頭部的重心位於比旋轉中心夠更外側且下側，所以平台旋轉的離心力越小，夾頭部就會朝離開晶圓的方向轉動，平台旋轉的離心力越大，夾頭部就會朝接近晶圓的方向轉動。因此，平台的旋轉速度在一定以下會確實地放開晶圓，在一定以上則確實地夾住晶圓。這個機構，能夠只規定轉動中心軸與重心位置的關係，不需要彈簧或配重塊等，以單純的構造來實現。構造單純的話，能夠不使用彈簧或複雜的構件而以樹脂射出成型品等來形成夾頭部，因而能夠提昇耐腐蝕性。

本發明的夾頭機構中，該夾頭部包括：夾頭本體，具有棒狀的形狀，被該保持部保持成一側的端面做為上端朝上；晶圓保持部，具備下面保持部及端面夾持部，該下面保持 部設置於該夾頭本體的上端且具有接觸及支持該晶圓的下面的支持面，該端面夾持部具有接觸及保持該晶圓的端面的保持面；轉動中心孔，以垂直於該平台的徑方向及該夾頭本體的軸方向的方式形成於該夾頭本體；以及曲折部，設置於該夾頭本體的下端，在該平台的徑方向上，曲折至該夾頭本體的外側。該保持部包括：貫通軸，貫通該轉動中心孔而設置；以及基部，設置於該平台上，固定該貫通軸。根據本發明，將往夾頭本體的外側曲折的曲折部設置到夾頭本體的下端，藉此能夠做成夾頭部的重心位於比轉動中心軸更外側且下側的位置，因此構造單純。構造單純的話，能夠不使用彈簧或複雜的構件而以樹脂射出成型品等來形成夾頭部，因而能夠提昇耐腐蝕性。

本發明的夾頭機構中，更包括：長孔，在該平台的徑方向上貫通比該夾頭本體的該轉動中心孔更下側而設置；以及圓棒形狀的導引桿，貫通該長孔而設置。該長孔以在該平台的圓周方向上能夠與該導引桿滑動接觸的方式設置，且上下方向的徑長比該導引桿的徑長更大。根據本發明，因為平台的旋轉而產生於貫通軸的旋轉力矩，能夠透過導引桿接觸長孔的側面來緩和，因此能夠防止平台旋轉時夾頭機構因為旋轉力矩而變形

本發明的夾頭機構中，該夾頭本體、該晶圓保持部、該曲折部是一體構造。根據這個構造，夾頭部能夠以樹脂成型等的一體成形來製造，因此能夠提昇耐腐蝕性。

本發明的夾頭機構中，該端面夾持部包括：突出部，從該夾頭本體立起設置，且具有與該晶圓的端面抵接的抵 接面；以及排水溝，沿著該平台的徑方向設置於該突出部。根據這個發明，夾持時抵接面會與晶圓的端面接觸，因此能夠確實夾住。又，根據這個構造，一邊旋轉晶圓一邊洗淨的話，洗淨液會因為離心力而從排水溝排出，能夠防止洗淨液殘留於端面夾持部與晶圓的端面之間而污染晶圓。

本發明的夾頭機構中，該下面保持部包括：錐部，從該平台的徑方向的內側朝向外側向上傾斜，其中該支持面是該錐部的上面。根據本發明，當平台的旋轉速度在一定以下，夾頭部朝向離開晶圓的方向旋轉的狀態下，能夠使晶圓的下面與錐部的上面的接觸角度變小，能夠防止接觸時損傷晶圓。

本發明的夾頭機構中，該夾頭部是以聚氯乙烯或聚醚醚酮構成。根據本發明，能夠以輕量、便宜且耐腐蝕性高的材料來構成夾頭部，能夠提昇夾頭機構的耐腐蝕性

本發明的夾頭部，是藉由轉動以片葉式保持晶圓的夾頭機構，包括：夾頭本體，具有棒狀的形狀；轉動中心孔，以垂直於該夾頭本體的軸方向的方式形成於該夾頭本體；晶圓保持部，具有設置於該夾頭本體的一側的端部上，且朝向與該夾頭本體及該轉動中心孔都垂直的夾入方向的面。在該夾入方向，重心位於比該轉動中心孔更靠夾住該晶圓的方向的外側，且在該夾頭本體的軸方向上，重心位於相對於該轉動中心孔更靠該晶圓保持部的相反側。根據本發明，因為夾頭部的重心位於比旋轉中心夠更外側且下側，所以平台旋轉的離心力越小，夾頭部就會朝離開晶圓的方向轉動，平台旋轉的離心力越大，夾頭部就會朝接近晶圓的方向轉動。因此，平台的旋轉速度在 一定以下會確實地放開晶圓，在一定以上則確實地夾住晶圓。這個機構，能夠只規定轉動中心軸與重心的關係，不需要彈簧或配重塊等，以單純的構造來實現。構造單純的話，能夠不使用彈簧或複雜的構件而以樹脂射出成型品等來形成夾頭部，因而能夠提昇耐腐蝕性。

1‧‧‧夾頭機構

3‧‧‧平台

5‧‧‧夾頭部

7‧‧‧保持部

9‧‧‧導引桿

11‧‧‧鍵板

13‧‧‧夾頭部插入孔

15‧‧‧凸部插入孔

17‧‧‧導引桿插入孔

19‧‧‧保持部固定孔

20‧‧‧旋轉中心孔

21‧‧‧鍵板固定孔

31‧‧‧夾頭本體

33‧‧‧晶圓保持部

34‧‧‧上端

35‧‧‧下面保持部

36‧‧‧下端

37‧‧‧抵接面

39‧‧‧排水溝

41‧‧‧端面夾持部

43‧‧‧轉動中心孔

45‧‧‧曲折部

47‧‧‧長孔

51‧‧‧基部

53‧‧‧插入孔

55‧‧‧貫通軸保持部

57‧‧‧貫通軸保持部

59‧‧‧貫通軸

61‧‧‧頭部

63‧‧‧C環

65‧‧‧保持部側貫通孔

71‧‧‧主軸

73‧‧‧固定銷

75‧‧‧環

77‧‧‧前端部

81‧‧‧板本體

83‧‧‧導引桿貫通孔

85‧‧‧凸部

87‧‧‧板固定用貫通孔

100‧‧‧晶圓

103‧‧‧端面

105‧‧‧下面

C‧‧‧轉動中心軸

G‧‧‧重心

第1圖係本發明實施型態的夾頭機構的立體圖。

第2圖係上述實施型態的平台的立體圖。

第3圖係上述實施型態的第1圖的領域A的夾頭部的立體圖。

第4圖係上述實施型態的夾頭部的側視圖。

第5圖係上述實施型態的保持部的立體圖。

第6圖係上述實施型態的導引桿的立體圖。

第7圖係上述實施型態的鍵板的立體圖。

第8圖係顯示搭載晶圓於上述實施型態的夾頭機構的狀態的立體圖。

第9圖係顯示上述實施型態中，停止平台的旋轉的狀態下搭載晶圓的狀態的側視圖。

第10圖係顯示上述實施型態中，平台旋轉的狀態下搭載晶圓的狀態的側視圖

以下根據圖式詳細說明適合本發明的實施型態。首先，參照第1~7圖來說明本實施型態的夾頭機構1的構造。 在此，做為夾頭機構，會以晶圓洗淨時及洗淨後乾燥時的保持機構來例示。

如第1圖所示，夾頭機構1是以片葉式保持後述的晶圓100(參照第8圖)的裝置，具有平台3、夾頭部5、保持部7。夾頭機構1也具有導引桿9及鍵板11。

平台3是搭載夾頭機構1的各構成構件的圓板狀構件。如第2圖所示，平台3能夠以旋轉中心O為中心在面方向上旋轉。平台3以對洗淨液具有耐腐蝕性的材料構成為佳，例如以聚氯乙烯或聚醚醚酮構成。平台3如第2圖所示在旋轉中心O形成旋轉中心孔20。旋轉中心孔20是未圖示的旋轉用馬達的旋轉軸所安裝的孔。

如第2圖所示，平台3在上面的外周設置有夾頭部插入孔13、保持部固定孔19。平台3具有從外周端面朝向夾頭部插入孔13形成於平台3的徑方向的凸部插入孔15。平台3也具有設置於外周端面的凸部插入孔15的兩側的鍵板固定孔21。

夾頭部插入孔13是夾頭部5插入的孔，以旋轉中心O為中心設置於圓周上。在此，沿著平台3的外周的6個位置均等地配置。夾頭部插入孔13的內周形成有朝向旋轉中心O，讓導引桿9的前端插入的導引桿插入孔17。

保持部固定孔19是固定住保持部7的未圖示的螺絲等的插入孔，在此設置於夾頭部插入孔13的周圍4個位置。凸部插入孔15是鍵板11插入的孔。鍵板固定孔21是固定鍵板11的未圖示的螺絲等插入的孔。

夾頭部5是可旋轉於平台3的徑方向的構件，是藉 由旋轉來夾持晶圓100的構件。夾頭部5以具有對洗淨液耐腐蝕性的材料構成為佳，例如以聚氯乙烯或聚醚醚酮構成。夾頭部5均等地配置於第1圖中以平台3的旋轉中心O為中心的圓周，在此是沿著平台3的外周，設置6個包圍住晶圓100的端面103(參照第9圖)。夾頭部5的數量並不限定於6個。然而，保持、夾持晶圓100時，為了不讓產生於晶圓100的應力偏移，至少具有3個為佳。如第3圖所示，夾頭部5具有夾頭本體31、晶圓保持部33。夾頭部5也具有轉動中心孔43、曲折部45、長孔47。

夾頭本體31是具有棒狀的形狀的構件，一側的端部做為上端34，被保持部7朝上保持。晶圓保持部33是從夾頭本體31的上端34往上側(正Z方向)立起的構件。具有下面保持部35及端面夾持部41。

下面保持部35是接觸並支持晶圓100的下面105(參照第9圖)的構件，在第3圖中是從平台3的徑方向內側朝外側往上方傾斜的錐狀部。在這個構造中，錐狀部的上面形成支持晶圓100的下面105的支持面。

端面夾持部41是藉由與晶圓100的端面103(參照第9圖)，而與其他的夾頭5共同作用，夾入並保持晶圓100的構件。端面夾持部41設置於相對下面保持部35的平台3的徑方向外側，是朝向夾頭方向(平台3的徑方向)的一對的突出部。

一對的端面夾持部41之間，沿著平台3的徑方向設置了排水溝39。排水溝39是在保持晶圓100於夾頭機構1且旋轉並洗淨晶圓100時，為了防止洗淨液殘留於端面夾持部41與晶圓100的端面103之間，而將洗淨液排出的溝。

端面夾持部41具有與晶圓100接觸的做為保持面的一對的抵接面37。抵接面37包括彼此透過排水溝39相向的面，而且是在平台3的徑方向的內側的角部附近形成有曲面的表面。

轉動中心孔43是形成夾頭部本體31旋轉時的中心的貫通孔，設置於晶圓保持部33的下側。轉動中心孔43形成於與平台3的徑方向(夾頭部5夾住晶圓100的方向)及夾頭本體31的軸方向雙方都垂直的方向(第3圖的Y方向)上。

曲折部45是用來將夾頭部5的重心位置設置在希望的位置的部位。曲折部45是設置在夾頭本體31的下端36的棒狀的構件。曲折部45在平台3的徑方向上，朝向夾頭本體31的外側曲折。

長孔47是導引桿9插入的貫通孔。長孔47形成於比轉動中心孔43的下側(曲折部45側)，貫通於平台3的徑方向，也就是與轉動中心孔43垂直的方向。長孔47的上下方向(夾頭本體31的軸方向，在此是Z方向)的高度h會比導引桿9的主軸71的徑DL(參照第6圖)更大。長孔47的平台3的圓周方向(Y方向)的寬度W是與導引桿9的主軸71接觸可滑動的長度(與主軸71的徑DL相同程度的長度)。

夾頭部5是一體構造為佳。具體來說，夾頭本體31、晶圓保持部33、曲折部45是一體構造為佳。這是因為一體構造的話，能夠以樹脂成型等一體形成夾頭部5，提昇耐腐蝕性。

如第4圖所示，夾頭部5的重心G必須位於比轉動中心軸C更靠平台3的徑方向(夾住晶圓100的朝向)的外側，且比轉動中心軸C更下側(晶圓保持部33相對於轉動中心軸C的相反側)。

保持部7是可轉動地保持夾頭部5的構件。如第1圖所示，設置於平台3上。如第5圖所示，保持部7具有貫通軸59、基部51、貫通軸保持部55、57、C環63。

貫通軸59是保持夾頭部5的軸，形成一側的端部擴徑的頭部61。另一端部雖省略圖示，但外周面形成有繞著軸的凹溝。基部51是固定於平台3的板狀的構件，中央形成讓夾頭部5插入的插入孔53。基部51的插入孔53的周圍4個位置，形成有對應第2圖的保持固定孔19的保持部側貫通孔65。保持部側貫通孔65會以用來將保持部7固定於平台3的未圖示的螺絲等插入。

貫通軸保持部55、57是挾著插入孔53相向地設置的半圓形的板狀構件。貫通軸59以通過插入孔53的上方貫通過貫通軸保持部55、57而設置。

C環63藉由嵌入形成於貫通軸59的另一端部的未圖示的凹溝，而阻止貫通軸從貫通軸保持部55、57脫落。C環63以具有可承受嵌入貫通軸59時的變形的程度的彈性、以及對洗淨液等的耐腐蝕性的材料構成為佳。這種材料例如氟樹脂。C環63以外的保持部7的構件具有對洗淨液等的耐腐蝕性，且以比C環63更高強度的材料構成為佳。這種材料例如聚氯乙烯或聚醚醚酮構成所構成。將保持部7固定於平台3的未圖示的螺絲，與保持部7同樣地以具有對洗淨液的耐腐蝕性的材料構成 為佳。

導引桿9是用來緩和平台3旋轉時產生於貫通軸59的Y-Z平面上的旋轉力矩的圓棒狀的構件。導引桿9以具有對洗淨液等的耐腐蝕性的材料構成為佳。這種材料例如聚氯乙烯或聚醚醚酮構成所構成。如第6圖所示，導引桿9具備主軸71、環75、固定銷73。

主軸71是貫通第3圖所示的長孔47的圓棒狀的軸。主軸71藉由平台3旋轉時與長孔47的側面接觸並滑動，負擔產生於夾頭部5的旋轉力矩的一部分，防止旋轉力矩集中於貫通軸59而變形。

主軸71的一側的端部是插入第2圖的導引桿插入孔17的前端部77。環75是設置於主軸71的另一端部的構件，比主軸71更大徑的環狀。環75是固定導引桿9的位置，且同時使夾頭部5可旋轉的構件。具體來說，導引桿9插入導引桿插入孔17，前端部77抵接時，藉由第1圖的鍵板11抵住環75，導引桿9的位置固定，形成夾頭部5可轉動的間隙。

固定銷73是從環75的端部朝向與主軸71反向延伸的圓棒狀的構件。固定銷73是藉由貫通第1圖的鍵板11，而決定導引桿9的位置的構件，比主軸71及環75的徑小。

鍵板11是將導引桿9固定於平台3的構件。鍵板11以具有對洗淨液等的耐腐蝕性的材料構成為佳。這種材料例如聚氯乙烯或聚醚醚酮構成所構成。

如第7圖所示，鍵板11具備板本體81、凸部85、導引桿貫通孔83、板固定用貫通孔87。

板本體81是接觸平台3的外周的板狀的構件。凸部85是從板本體81的內面(與平台3接觸的面)突出的構件，具有對應於第2圖的凸部插入孔15的形狀。

導引桿貫通孔83是第6圖的固定銷73插入的孔，貫通板本體81及凸部85於平台3的徑方向。

板固定用貫通孔87是對應到第2圖的鍵板固定孔21的孔，讓將板本體81固定到平台3的未圖示的螺絲等插入。這個未圖示的螺絲也與鍵板11同樣地，以具有對於洗淨液耐腐蝕性的材料構成為佳。

以上是夾頭機構1的構造的說明。

接著，簡單說明夾頭機構1的組裝方法的一例。

首先，將保持部7的基部51安裝到平台3。具體來說，使第5圖所示的基板51的保持部側貫通孔65與第1圖所示的平台3的保持部固定孔19的位置對齊，插入未圖示的螺絲等將保持部7固定到平台3。

接著，將夾頭部5從下方插入第2圖所示的平台3的夾頭部插入孔13。在這個狀態將保持部7的貫通軸59插入第3圖所示的轉動中心孔43，將C環63嵌入未圖示的凹溝，藉此將夾頭部5固定於基部51。

接著，將第6圖所示的導引桿9的主軸71插入第3圖所示的夾頭部5的長孔47，將前端部77插入第2圖所示的導引桿插入孔17。最後，如第1圖所示，將鍵板11安裝到平台3，使固定銷73插入導引桿貫通孔83。具體來說，將第7圖所示的凸部85插入第2圖所示的凸部插入孔15，將未圖示的螺絲等插入第7 圖所示的板固定用貫通孔87與第2圖所示的鍵板固定孔21。藉由以上的步驟組裝夾頭機構1。

如第9圖所示，夾頭部5的重心G位於比轉動中心軸C更靠平台3的徑方向外側且比轉動中心軸C更下側。因此，夾頭機構1組立的狀態下，平台3不旋轉的情況下，夾頭部5的主軸71會保持成軸方向水平於鉛直方向(Z方向)的狀態朝向R1旋轉的狀態。

這個時候的平台3的旋轉中心O與夾頭部5的抵接面37的距離DC會比晶圓100的半徑DW更大。以上是夾頭機構1的組裝方法的一例的說明。

接著，參照第9、10圖說明夾頭機構1夾住晶圓100時的動作。

首先，在平台3靜止的狀態下，如第8圖所示，將晶圓100搭載於夾頭機構1。具體來說，如第9圖所示，將晶圓100以下面105與下面保持部35相接的方式搭載。

這個狀態下，如第9圖所示，晶圓100的端面103不接觸夾頭部5的抵接面37，因此不被夾於夾頭部5。接著，在這個狀態下驅動連結到平台3的未圖示的馬達等，使平台3旋轉。夾頭部5的重心G位於比轉動中心軸C更靠平台3的徑方向外側，且比轉動中心軸C更靠下側，因此旋轉所產生的離心力會往第9圖的R2方向施加。當旋轉速度達到一定以上，夾頭部5會因為離心力而如第10圖所示以轉動中心軸C為中心朝R2方向旋轉，抵接面37會接觸晶圓100的端面103並推壓。這個狀態下，晶圓100被夾於夾頭部5，因此固定於夾頭部5。當從第10 圖所示的狀態降低平台3的旋轉速度，產生於R2方向的離心力會減弱，當到達一定的旋轉速度以下，抵接面37會從晶圓100分離，解除固定。以上就是夾頭機構1夾住晶圓100時的動作的說明。

像這樣，根據本實施型態，夾頭部5的重心G位於轉動中心軸C的外側且下側。在這個構造下，當平台3的旋轉所產生的離心力越小，夾頭部5朝向離開晶圓100的方向轉動，當離心力越大，夾頭部5朝向靠近晶圓100的方向轉動。

在這個實施型態中，平台3的旋轉速度在一定以下會確實地放開晶圓100，在一定以上則確實地夾住晶圓100。這個機構，能夠只規定轉動中心軸C與重心G的關係，而不需要彈簧或配重塊等，以單純的構造來實現。構造單純的話，能夠不使用彈簧或複雜的構件而以樹脂射出成型品等來形成夾頭部5，因而能夠提昇耐腐蝕性。

根據本實施型態，將往夾頭本體31的外側曲折的曲折部45設置到夾頭本體31的下端36，藉此做成夾頭部5的重心G位於比轉動中心軸C更外側且下側的位置。在這個實施型態中，夾頭部5的構造單純，構造單純的話，能夠不使用彈簧或複雜的構件而以樹脂射出成型品等來形成夾頭部5，因而能夠提昇耐腐蝕性。

根據本實施型態，夾頭部5具備在平台3的徑方向貫通比夾頭本體31的轉動中心孔43更下側的長孔47、以及設置成貫通長孔47的圓棒形狀的導引桿9。長孔47以可在平台3的圓周方向上與導引桿9滑動接觸的方式設置，且上下方向的徑長 (高度h)比導引桿的徑長DL更大。這個實施型態中，因為平台3的旋轉而產生於貫通軸59的旋轉力矩，能夠透過導引桿9接觸長孔47的側面來緩和，因此能夠防止平台3旋轉時夾頭機構1因為旋轉力矩而變形。

根據本實施型態，夾頭本體31、晶圓保持部33、曲折部45是一體構造。這個實施型態中，夾頭部5能夠以樹脂成型等的一體成形來製造，能夠提昇耐腐蝕性。

根據本實施型態，端面夾持部41是從以夾頭本體31立起的方式設置，並且具有與晶圓100的端面103抵接的抵接面37的突出部，具備沿著平台3的徑方向設置的排水溝39。這個實施型態中，夾持時抵接面37會與晶圓100的端面103接觸，因此能夠確實夾住。又，一邊旋轉晶圓3一邊洗淨的話，洗淨液會因為離心力而從排水溝39排出，能夠防止洗淨液殘留於端面夾持部41與晶圓100的端面之間而污染晶圓100。

根據本實施型態，下面保持部35是從平台3的徑方向的內側朝向外側往上方傾斜的錐部，支持晶圓100的面105。在這個實施型態中，當平台3的旋轉速度在一定以下，夾頭部5朝向離開晶圓100的方向旋轉的狀態下，能夠使晶圓100的下面105與下面保持部35的上面的接觸角度變小，能夠防止接觸時損傷晶圓100。

根據本實施型態，夾頭5能夠以聚氯乙烯或聚醚醚酮構成。在這個實施型態下，能夠以輕量、便宜且耐腐蝕性高的材料來構成夾頭部5，能夠提昇夾頭機構1的耐腐蝕性。

以上，參照實施型態說明本發明，但本發明並不 限定於上述的實施型態。該領域業者在本發明的技術思想的範圍內，理所當然地能夠想到各種變形例及改良例，而這些變形例及改良例也包含於本發明的範圍內。

Claims (11)

1. 一種夾頭機構，以片葉式保持晶圓，包括：圓板狀的平台，可在面方向旋轉；3個以上的夾頭部，以該平台的旋轉軸為中心均等地配置於圓周上，以可在該平台的徑方向上轉動的方式包圍該晶圓的端面設置；以及保持部，設置於該平台上，以可轉動的方式保持該夾頭部，其中該夾頭部包括：夾頭本體，具有棒狀的形狀，被該保持部保持成一側的端面做為上端朝上；轉動中心孔，以垂直於該平台的徑方向及該夾頭本體的軸方向的方式形成於該夾頭本體；以及長孔，在比該夾頭本體的該轉動中心孔更下側貫通於該平台的徑方向而設置；其中該夾頭部的重心位於比該夾頭部的轉動中心軸更靠該平台的徑方向的外側且比該夾頭部的轉動中心軸更靠下側；其中該保持部包括：貫通軸，貫通該轉動中心孔而設置；其中該夾頭機構更包括：圓棒形狀的導引桿，貫通該長孔而設置；其中該長孔以在該平台的圓周方向上能夠與該導引桿滑動接觸的方式設置，且上下方向的徑長比該導引桿的徑長更大。
2. 如申請專利範圍第1項所述之夾頭機構，其中該夾頭部包括：晶圓保持部，具備下面保持部及端面夾持部，該下面保持部設置於該夾頭本體的上端且具有接觸及支持該晶圓的下面的支持面，該端面夾持部具有接觸及保持該晶圓的端面的保持面；以及曲折部，設置於該夾頭本體的下端，在該平台的徑方向上，曲折至該夾頭本體的外側，其中該保持部包括：基部，設置於該平台上，固定該貫通軸。
3. 如申請專利範圍第2項所述之夾頭機構，其中該夾頭本體、該晶圓保持部、該曲折部是一體構造。
4. 如申請專利範圍第2或3項所述之夾頭機構，其中該端面夾持部包括：突出部，從該夾頭本體立起設置，且具有與該晶圓的端面抵接的抵接面；以及排水溝，沿著該平台的徑方向設置於該突出部。
5. 如申請專利範圍第2或3項所述之夾頭機構，其中該下面保持部包括：錐部，從該平台的徑方向的內側朝向外側向上傾斜，其中該支持面是該錐部的上面。
6. 如申請專利範圍第1至3項任一項所述之夾頭機構，其中該夾頭部是以聚氯乙烯或聚醚醚酮構成。
7. 如申請專利範圍第1項所述之夾頭機構，其中該夾頭本體、該晶圓保持部、該曲折部是一體構造。
8. 如申請專利範圍第7項所述之夾頭機構，其中該端面夾持部包括：突出部，從該夾頭本體立起設置，且具有與該晶圓的端面抵接的抵接面；以及排水溝，沿著該平台的徑方向設置於該突出部。
9. 如申請專利範圍第7項所述之夾頭機構，其中該下面保持部包括：錐部，從該平台的徑方向的內側朝向外側向上傾斜，其中該支持面是該錐部的上面。
10. 如申請專利範圍第8項所述之夾頭機構，其中該下面保持部包括：錐部，從該平台的徑方向的內側朝向外側向上傾斜，其中該支持面是該錐部的上面。
11. 如申請專利範圍第7至10項任一項所述之夾頭機構，其中該夾頭部是以聚氯乙烯或聚醚醚酮構成。