TWI674309B - 光學層疊物及使用其的顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本申請案是關於一種光學層疊物。本申請案可提供一種光 學層疊物，其即使在高溫下、特定言之在約100℃或更高的超高溫下仍確保穩定耐久性，光學層疊物所需的其他物理特性亦極佳，且即使在鄰近於電極而安置的情況下，也不會引起相關電極或類似者的腐蝕。

Description

光學層疊物及使用其的顯示裝置
本申請案主張2017年9月13日申請的韓國專利申請案第10-2017-0117008號的申請日期的權益，其揭露內容以全文引用的方式併入本文中。
本申請案是關於一種光學層疊物。
諸如偏光板的各種光學膜應用於諸如液晶顯示器(liquid crystal display；LCD)或有機發光二極體(organic light emitting diode；OLED)的各種顯示元件。此光學膜通常藉由壓敏黏著劑附接至顯示元件。
隨著顯示元件的應用的擴展，光學膜及壓敏黏著劑需要高可靠性。舉例而言，用於導航或汽車顯示器以及類似者的光學膜及壓敏黏著劑即使當其在極高溫下保持較長時間段時亦需要穩定地維持其效能。
本申請案是關於一種光學層疊物。
本申請案的光學層疊物包括光學膜及形成於光學膜的一側或兩側上的壓敏黏著層。必要時，離型膜可形成在形成於光學膜的一側或兩側上的壓敏黏著層上。
本申請案的光學層疊物中包含的光學膜的類型不受特定限制，且可包含用於各種顯示裝置中的各種類型。舉例而言，光學膜可由偏光板、偏光片、偏光片保護膜、延遲膜、可視角度補償膜或亮度增強膜以及類似者例示。在本說明書中，術語偏光片與偏光板指代彼此不同的物件。偏光片指代呈現偏光功能的膜、薄片或元件自身，且偏光板意謂包含連同偏光片一起的其他元件的光學元件。可與偏光片一起包含於光學元件中的其他元件可由偏光片保護膜或延遲層及類似者例示，但不限於此。
基本上，可包含於本申請案的光學膜中的偏光片不受特定限制。舉例而言，作為偏光片，可使用聚乙烯醇偏光片。術語聚乙烯醇偏光片可意謂(例如)含有諸如碘或二向色染料的各向異性吸收材料的聚乙烯醇(下文中可被稱作PVA)系的樹脂膜。此種膜可藉由將各向異性吸收材料併入至基於聚乙烯醇的樹脂膜中且藉由拉伸或類似操作將其定向來產生。此處，基於聚乙烯醇的樹脂可包含聚乙烯醇、聚乙烯甲醛、聚乙烯縮醛或乙烯-乙酸乙烯酯共聚物的皂化產物以及類似物。基於聚乙烯醇的樹脂的聚合度可為100至5,000或1,400至4,000等，但不限於此。
可(例如)藉由對基於PVA的膜執行至少一種染色製程、交聯製程以及拉伸製程來產生此類聚乙烯醇偏光片。在染色步驟中，使用交聯步驟及拉伸步驟、染色浴液的各別處理槽、交聯浴液 及拉伸浴液，其中可藉由根據每一製程處理溶液來使用此等各別處理槽。
在染色製程中，各向異性吸收材料可吸附及/或定向在基於PVA的膜上。此染色製程可與拉伸製程一起執行。可藉由將膜浸沒於包含各向異性吸收材料的溶液中來執行染色，所述溶液例如碘溶液。舉例而言，作為碘溶液，可使用包含碘及碘化化合物的碘離子作為助溶劑的水溶液或類似物。舉例而言，作為碘化化合物，可使用碘化鉀、碘化鋰、碘化鈉、碘化鋅、碘化鋁、碘化鉛、碘化銅、碘化鋇、碘化鈣、碘化錫或碘化鈦以及類似物。可考慮偏光片的所要光學特性來調整碘及/或碘離子於碘溶液中的濃度，且此種調節方法為已知的。在染色製程中，碘溶液的溫度通常為20℃至50℃或25℃至40℃左右，且浸沒時間通常為10秒至300秒或20秒至240秒左右，但不限於此。
在偏光片的製造製程期間執行的交聯製程可(例如)使用諸如硼化合物的交聯劑來執行。交聯製程的次序不受特定限制，所述交聯製程可(例如)連同染色及/或繪圖製程一起執行，或可單獨進行。交聯製程亦可執行若干次。作為硼化合物，可使用硼酸或硼砂以及類似物。硼化合物一般可以水溶液或水與有機溶劑的混合溶液的形式使用，且通常使用硼酸的水溶液。可考慮交聯度及所得耐熱性以及類似物以適當範圍來選擇硼酸水溶液中的硼酸濃度。諸如碘化鉀的碘化化合物亦可包含於硼酸水溶液或類似物中。
可藉由將基於PVA的膜浸沒於硼酸水溶液或類似物中來執行交聯製程，其中在此製程中，處理溫度通常在25℃或高於25℃、30℃至85℃或30℃至60℃左右的範圍內，且處理時間通常 為5秒至800秒或8秒至500秒左右。
拉伸製程一般藉由單軸拉伸執行。此拉伸亦可連同染色及/或交聯製程一起執行。拉伸方法不受特別限制，且例如可應用濕式拉伸方法。在此濕式拉伸方法中，例如拉伸一般在染色之後執行，但拉伸可與交聯一起執行，且亦可執行若干次或在多個階段中執行。
諸如碘化鉀的碘化化合物可包含於應用於濕式拉伸方法的處理液體中，且在此製程中，亦可經由調整比率來控制遮光率(light blocking rate)。在拉伸中，處理溫度通常在25℃或高於25℃、30℃至85℃或50℃至70℃的範圍內，且處理時間通常為10秒至800秒或30秒至500秒，而不限於此。
在拉伸製程中，可考慮定向特徵及類似者來控制總拉伸比，且按基於PVA膜的初始長度計，總拉伸比可為約3倍至10倍、4倍至8倍或5倍至7倍左右，但不限於此。此處，在涉及拉伸的情況下，除拉伸製程之外的泡脹製程或類似製程，總拉伸比可意謂包含每一製程中的拉伸的累計拉伸比。可考慮偏光片的定向特性、可工作性或拉伸可切割性以及類似者而將此總拉伸比調整至適當範圍。
在偏光片的製造製程中，除染色、交聯以及拉伸以外，泡脹製程亦可在執行以上製程之前執行。可藉由泡脹清除基於PVA的膜表面的污染物或抗結塊劑，藉此亦存在能夠降低諸如染色偏差的不均勻度的效果。
在泡脹製程中，通常可使用水、蒸餾水或純水及類似者。相關處理液體的主要成分為水，且視需要，可以較少的量包含諸如 碘化鉀的碘化化合物或諸如表面活性劑的添加劑或乙醇以及類似物。在此製程中，亦可經由對製程變量的控制來控制上述遮光率。
泡脹製程中的處理溫度通常為20℃至45℃或20℃至40℃左右，但不限於此。因為泡脹偏差可能導致染色偏差，所以可調整製程變量，以使得儘可能地抑制此類泡脹偏差的發生。
視需要，亦可在泡脹製程中執行適當拉伸。按基於PVA的膜的初始長度計，拉伸比可為6.5倍或小於6.5倍、1.2倍至6.5倍、2倍至4倍或2倍至3倍。泡脹製程中的拉伸可將在泡脹製程之後所執行的拉伸製程中的拉伸控制為較小，且可控制以使得不出現膜的拉伸失敗。
在偏光片的製造製程中，可執行金屬離子處理。此處理例如藉由將基於PVA的膜浸沒於含有金屬鹽的水溶液中來執行。此使得金屬離子包含於偏光片中，且在此製程中，可藉由控制金屬離子的種類或比率來控制基於PVA的偏光片的色調。可應用的金屬離子可藉由諸如鈷、鎳、鋅、鉻、鋁、銅、錳或鐵的過渡金屬的金屬離子來例示，且有可能藉由選擇此等的適當類型來控制色調。
在偏光片的製造製程中，清潔製程可在染色、交聯以及拉伸之後進行。此清潔製程可藉由諸如碘化鉀的碘化化合物的溶液來執行，且在此製程中，上述遮光率可經由碘化化合物於溶液中的濃度或清潔製程的處理時間以及類似者來控制。因此，可考慮遮光率來調整碘化化合物的濃度及使用溶液的處理時間。然而，清潔製程亦可使用水來執行。
此使用水的清潔亦可與使用碘化化合物溶液的清潔組合，或亦可使用摻混液體醇的溶液，所述液體醇諸如甲醇、乙醇、 異丙醇、丁醇或丙醇。
在此等製程之後，可藉由執行乾燥製程來製造偏光片。例如考慮偏光片所需的水分含量以及類似者，乾燥製程可在適當溫度下執行持續適當的時間，其中此類條件不受特別限制。
在一個實例中，作為偏光片，可使用包括諸如鉀離子的鉀組分及諸如鋅離子的鋅組分的聚乙烯醇偏光片來確保光學層疊物的耐久性，尤其是高溫可靠性。若使用含有此類組分的偏光片，則有可能提供即使在高溫條件(特定言之在100℃或更高的超高溫條件)下仍穩定維持耐久性的光學層疊物。
可更控制鉀組分與鋅組分的比率。舉例而言，在一個實例中，包含於聚乙烯醇偏光片中的鉀組分(K)與鋅組分(Zn)的比率(K/Zn)可在0.2至20的範圍內。在另一實例中，比率(K/Zn)可為約0.4或大於0.4、0.6或大於0.6、0.8或大於0.8、1或大於1、1.5或大於1.5、2或大於2、或2.5或大於2.5，且可為19.5或小於19.5、19或小於19、18.5或小於18.5、18或小於18、17.5或小於17.5、17或小於17、16.5或小於16.5、16或小於16、15.5或小於15.5、15或小於15、14.5或小於14.5、14或小於14、13.5或小於13.5、13或小於13、12.5或小於12.5、12或小於12、11.5或小於11.5、11或小於11、10.5或小於10.5、10或小於10、9.5或小於9.5、9或小於9、8.5或小於8.5、8或小於8、7.5或小於7.5、7或小於7、6.5或小於6.5、6或小於6、5.5或小於5.5、約5或小於5、約4.5或小於4.5，或約4或小於4。包含於聚乙烯醇偏光片中的鉀組分(K)與鋅組分(Zn)的比率(K/Zn)可意謂重量份。
另外，包含於聚乙烯醇偏光片中的鉀組分的比率可為約0.1重量%至2重量%。在另一實例中，鉀組分的比率可為約0.15重量%或大於0.15重量%、約0.2重量%或大於0.2重量%、約0.25重量%或大於0.25重量%、約0.3重量%或大於0.3重量%、約0.35重量%或大於0.35重量%、0.4重量%或大於0.4重量%，或約0.45重量%或大於0.45重量%，且可為約1.95重量%或小於1.95重量%、約1.9重量%或小於1.9重量%、約1.85重量%或小於1.85重量%、約1.8重量%或小於1.8重量%、約1.75重量%或小於1.75重量%、約1.7重量%或小於1.7重量%、約1.65重量%或小於1.65重量%、約1.6重量%或小於1.6重量%、約1.55重量%或小於1.55重量%、約1.5重量%或小於1.5重量%、約1.45重量%或小於1.45重量%、約1.4重量%或小於1.4重量%、約1.35重量%或小於1.35重量%、約1.3重量%或小於1.3重量%、約1.25重量%或小於1.25重量%、約1.2重量%或小於1.2重量%、約1.15重量%或小於1.15重量%、約1.1重量%或小於1.1重量%、約1.05重量%或小於1.05重量%、約1重量%或小於1重量%、約0.95重量%或小於0.95重量%、約0.9重量%或小於0.9重量%，或約0.85重量%或小於0.85重量%等。
在一個實例中，可包含鉀組分與鋅組分的比率以滿足以下等式A。
[等式A]0.70至0.95=1/(1+QXd/R)
在等式A中，Q為包含於聚乙烯醇偏光片中的鉀組分的莫耳質量(K，39.098公克/莫耳)與鋅組分的莫耳質量(Zn，65.39 公克/莫耳)的比率(K/Zn)，d為聚乙烯醇偏光片在拉伸之前的厚度(微米)/60微米，R為包含於聚乙烯醇偏光片中的鉀組分的重量比(K，單位：重量%)與鋅組分的重量比(Zn，單位：重量%)的比率(K/Zn)。
藉由以上述方式在偏光片中包括鉀組分及鋅組分，有可能提供在高溫下具有極佳可靠性的偏光片。
此偏光片的厚度不受特定限制，其中取決於目的，偏光片可形成為具有適當厚度。典型地，偏光片的厚度可在5微米至80微米的範圍內，但不限於此。
本申請案的光學層疊物包括形成於光學膜的一側或兩側上的壓敏黏著層。此壓敏黏著層包括壓敏黏著劑聚合物。壓敏黏著層可包括壓敏黏著劑聚合物作為主要組分。亦即，壓敏黏著劑聚合物相對於壓敏黏著層的總重量的含量比率可為55重量%或大於55重量%、60重量%或大於60重量%、65重量%或大於65重量%、70重量%或大於70重量%、75重量%或大於75重量%、80重量%或大於80重量%、85重量%或大於85重量%，或90重量%或大於90重量%。比率的上限不受特定限制，所述上限可為(例如)約98重量%或小於98重量%，或95重量%或小於95重量%。此壓敏黏著劑聚合物可以藉由交聯劑交聯的狀態包含於壓敏黏著層中，如下文所描述。
作為壓敏黏著劑聚合物，可使用重量平均分子量(Mw)為500,000或大於500,000的的聚合物。在本申請案中，除非另外規定，否則術語「重量平均分子量」為就藉由凝膠滲透層析儀(gel permeation chromatograph；GPC)量測的標準聚苯乙烯而言的數值， 其亦可簡稱為分子量。在另一實例中，分子量(Mw)可為約600,000或大於600,000、約700,000或大於700,000、約800,000或大於800,000、約900,000或大於900,000、約1,000,000或大於1,000,000、約1,100,000或大於1,100,000、約1,200,000或大於1,200,000、約1,300,000或大於1,300,000、約1,400,000或大於1，400,000，或約1,500，000或大於1,500,000，或可為約3,000,000或小於3,000,000、約2,800,000或小於2,800,000、約2,600,000或小於2,600,000、約2,400,000或小於2,400,000、約2,200,000或小於2,200，000，或約2,000,000或小於2,000,000。
壓敏黏著劑聚合物可為丙烯酸壓敏黏著劑聚合物。術語丙烯酸黏著劑聚合物可意謂具有能夠形成壓敏黏著劑的特性的丙烯酸黏著劑聚合物，包括丙烯酸單體單元作為主要組分的聚合物。術語丙烯酸單體可意謂丙烯酸、甲基丙烯酸或丙烯酸或甲基丙烯酸的衍生物，諸如(甲基)丙烯酸酯。此處，包含作為主要組分的片語亦可意謂一種情況，其中相關組分的比率基於重量計為55%或大於55%、60%或大於60%、65%或大於65%、70%或大於70%、75%或大於75%、80%或大於80%、85%或大於85%、90%或大於90%，或95%或大於95%。比率的上限可為100%。另外，包含於聚合物中的單元意謂其中單體經由聚合反應形成聚合物的主鏈及/或側鏈的狀態。
壓敏黏著劑聚合物包括(1)具有含4個或大於4個碳原子的烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯單元，(2)具有含3個或少於3個碳原子的烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯單元，(3)含芳族基的單體單元以及(4)含極性官能基的單體單元。另外，單元(2)以相 對於100重量份的單元(1)約30重量份至65重量份的比率包含於壓敏黏著劑聚合物中。在另一實例中，比率可為約60重量份或小於60重量份，或58重量份或小於58重量份。
此單體組成物與壓敏黏著層的物理特性(諸如凝膠分率及剝離力)相關聯，其在下文描述，從而使得壓敏黏著層可極好地維持可再次加工性、切割能力、提昇(lifting)及泡沫抑制能力及類似者，以及呈現極佳高溫耐久性。
此處，作為單元(1)，考慮到壓敏黏著劑的黏性力、玻璃轉化溫度或黏著性及類似者，可使用具有含4個或大於4個碳原子的烷基(例如含4至14個碳原子的烷基)的(甲基)丙烯酸烷基酯單元。此(甲基)丙烯酸烷基酯可藉由以下例示：正丁基(甲基)丙烯酸酯、三級丁基(甲基)丙烯酸酯、二級丁基(甲基)丙烯酸酯、戊基(甲基)丙烯酸酯、2-乙基己基(甲基)丙烯酸酯、2-乙基丁基(甲基)丙烯酸酯、正辛基(甲基)丙烯酸酯、異辛基(甲基)丙烯酸酯、異辛基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸月桂酯及十四基(甲基)丙烯酸酯以及類似者，且可應用前述內容中的一種或兩種或大於兩種。一般而言，使用丙烯酸正丁酯或丙烯酸2-乙基己酯以及類似物。
聚合物中的單元(1)的比率不受特定限制，但可在約50重量%至70重量%的範圍內。在另一實例中，比率可為約65重量%或小於65重量%。
作為單元(2)，使用具有含3個或小於3個碳原子的烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯單元。此單元使得壓敏黏著劑有可能在高溫下確保良好耐久可靠性。能夠形成單元的單體可由以下例示： 甲基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸乙酯、正丙基(甲基)丙烯酸酯或異丙基(甲基)丙烯酸酯以及類似者，且適合的實例為丙烯酸甲酯。
作為單元(3)，使用含芳族基單體的單元，例如具有芳基的(甲基)丙烯酸酯類單體的單元。
能夠形成此類單元的含芳族基單體的種類不受特定限制，且舉例而言，可例示以下式1的單體。
在式1中，R6表示氫或烷基，A表示伸烷基，n表示0至3範圍內的整數，Q表示單鍵、-O-、-S-或伸烷基，且P表示芳基。
在式1中，單鍵意謂兩側上的原子團直接彼此鍵合而未介入分離原子的情況。
在式1中，R6可為例如氫或1至4個碳原子的烷基，或可為氫、甲基或乙基。
在式1的定義中，A可為具有1至12個碳原子或1至8個碳原子的伸烷基，且可為例如亞甲基、伸乙基、伸己基或伸辛基。
在式1中，n可為例如在0至2範圍內的數目，或可為0或1。
在式1中，Q可為單鍵、-O-或-S-。
在式1中，P為芳基，亦即衍生自芳族化合物的取代基， 其可為例如衍生自具有6至20個碳原子的芳環的官能基，例如苯基、聯苯基、萘基或蒽基。
在式1中，芳基可視情況經一個或多個取代基取代，其中取代基的具體實例可包含鹵素或烷基，或鹵素或1至12個碳原子的烷基，或氯、溴、甲基、乙基、丙基、丁基、壬基或十二烷基，但不限於此。
式1的化合物的具體實例可包含以下中的一種或兩種或多於兩種的混合物：苯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸苯甲酯、2-苯硫基-1-乙基(甲基)丙烯酸酯、6-(4,6-二溴-2-異丙基苯氧基)-1-己基(甲基)丙烯酸酯、6-(4,6-二溴-2-二級丁基苯氧基)-1-己基(甲基)丙烯酸酯、2,6-二溴-4-壬基苯基(甲基)丙烯酸酯、2,6-二溴-4-十二烷基苯基(甲基)丙烯酸酯、2-(1-萘氧基)-1-乙基(甲基)丙烯酸酯、2-(2-萘氧基)-1-乙基(甲基)丙烯酸酯、6-(1-萘氧基)-1-己基(甲基)丙烯酸酯、6-(2-萘氧基)-1-己基(甲基)丙烯酸酯、8-(1-萘氧基)-1-辛基(甲基)丙烯酸酯以及8-(2-萘氧基)-1-辛基(甲基)丙烯酸酯，但不限於此。
單元(3)可以相對於100重量份的單元(1)約20重量份至45重量份的比率包含於壓敏黏著劑聚合物中。在另一實例中，比率可為約40重量份或小於40重量份、約35重量份或小於35重量份或約30重量份或小於30重量份。
作為單元(4)，可使用具有羥基或羧基作為極性官能基的單體的單元。必要時，此單元可用以經由下文描述的與交聯劑或其類似者進行反應來施加黏性力或其類似者。作為具有極性官能基 的單體，可使用具有含3至6範圍內的烷基碳數的羥基烷基的羥烷基(甲基)丙烯酸酯或含羧基單體，來保證足夠的高溫可靠性及類似者。
具有含3至6範圍內的烷基碳原子的羥基烷基的羥烷基(甲基)丙烯酸酯可由3-羥丙基(甲基)丙烯酸酯、4-羥丁基(甲基)丙烯酸酯或6-羥己基(甲基)丙烯酸酯以及類似者例示，且在一個實例中，可使用4-羥丁基(甲基)丙烯酸酯。
含羧基的單體可由以下例示：(甲基)丙烯酸、2-(甲基)丙烯醯基氧基乙酸、3-(甲基)丙烯醯基氧基丙酸、4-(甲基)丙烯醯基氧基丁酸、丙烯酸二聚體、伊康酸、順丁烯二酸及順丁烯二酸酐以及類似者，且一般而言，可應用丙烯酸。
然而，在壓敏黏著層與諸如氧化銦錫(indium tin oxide；ITO)的電極鄰近使用時，若大量羧基包含於壓敏黏著層中，則其可能導致電極腐蝕而不利地影響裝置的效能，從而不可應用具有羧基的組分，或者可能有必要限制應用比率。
單元(4)可以相對於100重量份的單元(1)約1重量份至4.5重量份的比率包含於壓敏黏著劑聚合物中。在另一實例中，比率可為約1.5重量份或大於1.5重量份，或可為約4重量份或小於4重量份或約3.5重量份或小於3.5重量份。特定言之，當單元(4)為含羧基單體單元時，比率可為相對於100重量份的單元(1)約1重量份或大於1重量份，或約1.5重量份或大於1.5重量份，或可為約4.5重量份或小於4.5重量份、約4重量份或小於4重量份、約3.5重量份或小於3.5重量份、約3重量份或小於3重量份、約2.5重量份或小於2.5重量份，或約2重量份或小於2重量 份。
由於壓敏黏著劑聚合物含有上文所提及的單體單元且在必要時調整其比率，因此確保壓敏黏著層在高溫下的穩定耐久性，並且亦穩定地維持壓敏黏著層所需的其他物理特性，其中即使在鄰近於電極而安置的情況下，也不會引起相關電極或其類似者的腐蝕。特定言之，上述效果可在單元(2)的含量範圍內最大化。另一方面，當單元(2)的含量低於以上範圍時，存在黏著體在高溫條件下由於較低附著力而提昇的問題。另外，當單元(2)的含量超過以上範圍時，壓敏黏著層與黏著體之間的黏著性降低，且因此壓敏黏著劑在切割及加工光學層疊物期間流出，從而使得存在光學層疊物被污染的問題。
視需要，壓敏黏著劑聚合物可更包括除上述單元以外的其他已知單元。
此壓敏黏著劑聚合物可藉由應用上述單體的已知聚合方法來製備。
壓敏黏著層可更包括交聯劑，其中交聯劑可與壓敏黏著劑聚合物交聯。
作為交聯劑，可不受任何特定限制地使用已知交聯劑，且舉例而言，可使用異氰酸酯交聯劑、環氧樹脂交聯劑、氮丙啶交聯劑及金屬螯合交聯劑，以及類似者。
作為異氰酸酯交聯劑，可使用諸如2,4-二異氰酸甲苯酯(tolylcne diisocyanate)、二甲苯二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、二異氰酸己二酯、異佛爾酮二異氰酸酯、四甲基二甲苯二異氰酸酯或萘二異氰酸酯的二異氰酸酯，或所述二異氰酸酯中的一或 多者與多元醇(例如三羥甲基丙烷)的反應產物以及類似者。
作為環氧樹脂交聯劑，可使用由下列所構成的族群中選出的一或多者：乙二醇二縮水甘油醚、三縮水甘油醚、三羥甲基丙烷三縮水甘油醚、N,N,N,N'-四縮水甘油乙二胺以及丙三醇二縮水甘油醚；作為氮丙啶交聯劑，可使用由下列所構成的族群中選出的一或多者：N,N-甲苯-2,4-雙(1-氮丙啶甲醯胺)、N,N'-二苯基甲烷-4,4'-雙(1-氮丙啶甲醯胺)、曲他胺(triethylenemelamine)、雙異鄰苯二甲醯-1-(2-甲基氮丙啶)以及三-1-吖丙啶基膦氧化物；以及作為金屬螯合交聯劑，可使用其中諸如鋁、鐵、鋅、錫、鈦、銻、鎂及/或釩的多價金屬配位至乙醯基丙酮或乙醯乙酸乙酯的化合物，但不限於此。
交聯劑可以相對於100重量份的壓敏黏著劑聚合物(特定言之為100重量份的黏著劑聚合物的固體含量)的0.001重量份至10重量份的量使用，且在此比率下，有可能防止耐久性可靠性劣化，諸如出現層間剝落或提昇現象以及類似者，同時恰當地維持壓敏黏著劑的黏性力。
在另一實例中，比率可為約0.005重量份或大於0.005重量份、0.01重量份或大於0.01重量份、0.05重量份或大於0.05重量份、或0.1重量份或大於0.1重量份，且可為約9重量份或小於9重量份、8重量份或小於8重量份、7重量份或小於7重量份、6重量份或小於6重量份、5重量份或小於5重量份、4重量份或小於4重量份、3重量份或小於3重量份、2重量份或小於2重量份，或1.5重量份或小於1.5重量份。
壓敏黏著層可更含有離子化合物。另外，離子化合物可使 壓敏黏著層具有適當抗靜電特性。
作為離子化合物，可使用有機鹽或離子液體。在本申請案中，術語離子液體可意謂在室溫下處於液態的離子化合物。此處，室溫為不經加熱或冷卻的自然溫度，其可意謂約10℃至30℃、約15℃至30℃、約20℃至30℃、約25℃或約23℃左右的溫度。
當將無機鹽應用作為離子化合物時，作為無機鹽，可使用含有鹼金屬陽離子或鹼土金屬陽離子的鹽。此類陽離子可由以下中的一者或兩者或多於兩者例示：鋰離子(Li+)、鈉離子(Na+)、鉀離子(K+)、銣離子(Rb+)、銫離子(Cs+)、鈹離子(Be2+)、鎂離子(Mg2+)、鈣離子(Ca2+)、鍶離子(Sr2+)及鋇離子(Ba2+)以及類似物，且舉例而言，考慮到離子穩定性及遷移率，可使用以下中的一者或兩者或多於兩者：鋰離子、鈉離子、鉀離子、鎂離子、鈣離子以及鋇離子或鋰離子。
另一方面，作為離子液體，可使用具有包含氮、硫或磷作為陽離子組分的鎓鹽。此類陽離子可由以下例示：諸如N-乙基-N,N-二甲基-N-丙基銨、N,N,N-三甲基-N-丙基銨、N-甲基-N,N,N-三丁銨、N-乙基-N,N,N-三丁銨、N-甲基-N,N,N-三己銨、N-乙基-N,N,N-三己銨、N-甲基-N,N,N-三辛銨或N-乙基-N,N,N-三辛銨；鏻或其衍生物，例如四烷基鏻；吡啶鎓或其衍生物；四氫吡啶鎓或其衍生物；二氫吡啶鎓或其衍生物；咪唑鎓或其衍生物；含有吡咯啉構架的化合物或其衍生物；含有吡咯構架的化合物或其衍生物；咪唑啉鎓或其衍生物，例如1-乙基-3-甲基咪唑啉鎓；吡唑啉鎓或其衍生物；三烷基鋶或其衍生物；吡咯啶鎓或其衍生物，例如1-甲基-1-丙基吡咯啶鎓或其衍生物；或哌啶鎓或其衍生物，例如1- 甲基-1-丙基哌啶鎓，以及類似者。在本申請案中，亦可使用含有上文所提及陽離子中的陽離子的化合物，其中包含於陽離子中的烷基經烷氧基、羥基、炔基或環氧基以及類似者取代。
在一個實例中，作為離子液體的陽離子，可應用由式A表示的陽離子。
在式A中，R1至R4各自獨立地表示氫，烷基、烷氧基、烯基或炔基。
在式A中，烷基或烷氧基可為具有1至20個碳原子、1至12個碳原子、1至8個碳原子或1至4個碳原子的烷基或烷氧基。另外，烷基或烷氧基可為直鏈、支鏈或環狀烷基或烷氧基，其可視情況經一個或多個取代基取代。
在式A中，烯基或炔基可為具有2至20個碳原子、2至12個碳原子、2至8個碳原子或2至4個碳原子的烯基或炔基。另外，烯基或炔基可為直鏈、支鏈或環狀烯基或炔基，其可視情況經一個或多個取代基取代。
在式A的定義中，當烷基、烷氧基、烯基或炔基經一個或多個取代基取代時，取代基的實例可包含羥基、烷基、烷氧基、烯基、炔基、氰基、硫醇、胺基、芳基或雜芳基，以及類似者，但不限於此。
在一個實例中，式A的R1至R4可各自獨立地為烷基，且例如為具有1至12個碳原子的直鏈或支鏈烷基。在式A中，R1 至R4各自獨立地表示具有1至12個碳原子的直鏈或支鏈烷基，但R1至R4可並非同時對應於具有相同碳數的烷基。在此情況下，R1至R4均為具有相同碳數的烷基的情況被排除在式A的範圍以外。當R1至R4均為具有相同碳數的烷基時，化合物在室溫下以固相存在的機率可能提高。
在式A中，R1可為具有1至3個碳原子的烷基，且R2至R4可各自獨立地為具有4至20個碳原子、4至15個碳原子或4至10個碳原子的烷基。藉由使用此陽離子，有可能提供具有更佳光學特性、壓敏黏著特性、可加工性以及抗靜電特性、對基板具有增加的黏著性且對於諸如固化的穩定物理特性需要較短時間的壓敏黏著劑。
包含於離子化合物中的陰離子可由以下例示：PF6 -、AsF-、NO2 -、氟離子(F-)、氯離子(Cl-)、溴離子(Br-)、碘離子、(I-)、過氯酸根離子(ClO4 -)、氫氧根離子(OH-)、碳酸根離子(CO3 2-)、硝酸根離子(NO3 -)、三氟甲烷磺酸根離子(CF3SO3 -)、磺酸根離子(SO4 -)、六氟磷酸根離子(PF6 -)、甲基苯磺酸根離子(CH3(C6H4)SO3 -)、對甲苯基磺酸根離子(CH3C6H4SO3 -)、四硼酸根離子(B4O7 2-)、羧基苯磺酸根離子(COOH(C6H4)SO3 -)、三氟甲烷磺酸根離子(CF3SO2 -)、苯甲酸根離子(C6H5COO-)、乙酸根離子(CH3COO-)、三氟乙酸根離子(CF3COO-)、四氟硼酸根離子(BF4 -)、四苯基硼酸根離子(B(C6H5)4 -)或參五氟苯基三氟磷酸根離子(P(C2F5)3F3 -)以及類似物。
在另一實例中，作為陰離子，亦可使用由式B表示的陰離子或二氟磺醯基醯亞胺(bifluorosulfonylimide)及類似者。
[式B][X(YOmRf)n]-
在式B中，X為氮原子或碳原子，Y為碳原子或硫原子，Rf為全氟烷基，m為1或2，且n為2或3。
在式B中，當Y為碳時，m可為1；當Y為硫時，m可為2；當X為氮時，n可為2；且當X為碳時，n可為3。
式B的陰離子或雙(氟磺醯基)醯亞胺歸因於全氟烷基(Rf)或氟基呈現高電負性，且亦含有獨特共振結構以在與陽離子形成弱鍵結時具有疏水性。因此，離子化合物可呈現與組成物的其他組分(諸如聚合物)極佳的相容性，以及即使以較小量也產生高抗靜電特性。
式B中的Rf可為具有1至20個碳原子、1至12個碳原子、1至8個碳原子或1至4個碳原子的全氟烷基，其中全氟烷基可具有直鏈、支鏈或環狀結構。式B的陰離子可為基於磺醯基甲基化物、基於磺醯基醯亞胺、基於羰基甲基化物或基於羰基醯亞胺的陰離子，且特定言之，可為以下的一種或兩種或多於兩種的混合物：參三氟甲烷磺醯基甲基化物、雙三氟甲烷磺醯基醯亞胺、雙全氟丁烷磺醯基醯亞胺、雙五氟乙烷磺醯基醯亞胺、參三氟甲烷羰基甲基化物、雙全氟丁烷磺醯基醯亞胺或雙五氟乙烷羰基亞胺以及類似物。
離子化合物可以相對於100重量份的壓敏黏著劑聚合物的0.01重量份至15重量份的比率存在於壓敏黏著層中。特定言之，離子化合物可以相對於100重量份的壓敏黏著劑聚合物的固體含量的0.1重量份或大於0.1重量份、0.5重量份或大於0.5重 量份、1重量份或大於1重量份，或1.5重量份或大於1.5重量份的比率存在於壓敏黏著層中，且可以10重量份或小於10重量份、5重量份或小於5重量份、2重量份或小於2重量份，或1.5重量份或小於1.5重量份的比率存在。在此比率下，當確保期望抗靜電特性時，可穩定地維持諸如與光學膜的黏著性的其他所需特性。
除上文所提及的組分之外，壓敏黏著層可按需要更包括其他已知添加劑。此類添加劑可由選自由以下組成的群組中的一或多種來例示：偶合劑，諸如矽烷偶合劑；抗靜電劑；增黏劑；紫外穩定劑；抗氧化劑；著色劑；增強劑；填充劑；消泡劑；表面活性劑；光可聚合化合物，諸如多功能丙烯酸酯；以及塑化劑，但不限於此。
此類壓敏黏著層可經調整以呈現預定凝膠分率同時呈現特定範圍中的剝離力。
舉例而言，壓敏黏著層可具有約700公克力(gf)/25毫米或大於700公克力/25毫米的室溫剝離力，如在玻璃基板上以300毫米/分鐘的剝離速率及90度的剝離角度下量測。剝離力可為約750公克力/25毫米或大於750公克力/25毫米、約800公克力/25毫米或大於800公克力/25毫米、約850公克力/25毫米或大於850公克力/25毫米、約900公克力/25毫米或大於900公克力/25毫米，或約950公克力/25毫米。剝離力的上限不受特定限制，且舉例而言，剝離力可為約2,000公克力/25毫米或小於2,000公克力/25毫米、約1,800公克力/25毫米或小於1,800公克力/25毫米，或約1,500公克力/25毫米或小於1,500公克力/25毫米。
在本申請案中，術語室溫為不經加熱或冷卻的自然溫度， 其可意謂例如約10℃至30℃的範圍內的任一個溫度，或約25℃或23℃左右的溫度。
另外，在本說明書中所提及的物理性質中，除非另外說明，否則在所量測溫度影響物理特性時，相關物理特性意謂在室溫下量測的物理特性。
此外，壓敏黏著層可呈現預定範圍中的凝膠分率。舉例而言，壓敏黏著層可具有約70重量%或大於70重量%的凝膠分率，如藉由以下等式1所計算。
[等式1] 凝膠分率=B/A×100
在等式1中，A為壓敏黏著層在其浸沒於乙酸乙酯中之前的質量(單位：公克)，且B表示在室溫下將壓敏黏著層浸沒於乙酸乙酯中持續24小時之後回收的不可溶部分的乾燥質量(單位：公克)。此時，不可溶部分意謂經由200目篩過濾的組分，且不可溶部分的乾燥質量意謂以其中藉由在適當條件下將採集的不可溶部分乾燥而使溶劑實質上不包含於相關不可溶部分中的狀態下量測的質量，舉例而言，在溶劑含量為約1重量%或小於1重量%、0.5重量%或小於0.5重量%，或0.1重量%或小於0.1重量%的狀態下。此處，乾燥條件不受特定限制，只要包含於不可溶部分中的溶劑的比率可控制於以上範圍內，且其可在適當條件下進行。
在另一實例中，凝膠分率可為約75重量%或大於75重量%，或80重量%或大於80重量%，且亦可為約95重量%或小於95重量%、90重量%或小於90重量%，或約85重量%或小於85重量%。
凝膠分率取決於壓敏黏著劑中使用的壓敏黏著劑聚合物的分子量或交聯程度，以及類似者，且鑒於此可實現適當範圍。
壓敏黏著層亦可具有約0.06MPa或大於0.06MPa的儲存彈性模數。在另一實例中，彈性模數可為0.065MPa MPa或大於0.065MPa、0.07MPa或大於0.07MPa、0.075MPa或大於0.075MPa、0.08MPa或大於0.08MPa、0.085MPa或大於0.085MPa、0.09MPa或大於0.09MPa，或0.095MPa或大於0.095MPa，且可為0.2MPa或小於0.2MPa、0.15MPa或小於0.15MPa，或0.12MPa或小於0.12MPa。壓敏黏著層的彈性模數亦受聚合物的分子量或成分、交聯劑的比率、交聯程度以及類似者控制，且鑒於此可設定適當範圍。
上文所提及的物理特性中的一者或兩者或多於兩者可能與上文所提及的聚合物的成分或其類似者相關，以使得能夠形成本申請案中所期望的壓敏黏著層。
本申請案的光學層疊物可更包括保護膜。保護膜可經由上述壓敏黏著層附接至光學膜。可使用的保護膜的種類不受特定限制，其中可使用本領域中已知的常見膜，舉例而言，諸如三乙醯纖維素(triacetyl cellulose；TAC)、聚對苯甲二酸乙二醇酯(polyethylene terephthalate；PET)的聚合物膜。
本申請案亦是關於一種包括此光學層疊物的顯示裝置。所述裝置可包括例如顯示面板，光學層疊物經由上述壓敏黏著層附接至所述顯示面板。此處，顯示面板的類型不受特定限制，其可例如為已知LCD面板或OLED面板以及類似物。此外，光學層疊物附接至面板的位置或類似者亦可遵循已知方式。
本申請案是關於一種光學層疊物。本申請案可提供一種光學層疊物，其即使在高溫下、特定言之在約100℃或更高的高溫下仍確保穩定耐久性，光學層疊物所需的其他物理特性亦極佳，且即使在鄰近於電極而安置的情況下，也不會引起相關電極或類似者的腐蝕。
在下文中，本申請案將藉助於實例專門描述，但本申請案的範疇不受以下實例限制。
1.量測剝離力的方法
將在實例或比較實例中製備的壓敏黏著偏光板各切割至25毫米的寬度及200毫米的高度以製備樣品，經由樣品的壓敏黏著層將樣品附接至玻璃板。在附接樣品之後，量測室溫下的剝離力，同時以90度的剝離角度及1小時的經過時間下以300毫米/分鐘的剝離速率剝離壓敏黏著偏光板。
2.量測凝膠分率的方法
在將實例或比較實例中製備的壓敏黏著層中的每一者保持在恆定溫度及濕度房間內(23℃，50%相對濕度)持續7天之後，採集0.2公克(=凝膠分率量測等式中的A)。將採集的壓敏黏著層完全浸沒於50毫升的乙酸乙酯中，並接著在室溫下在暗室中 儲存1天。隨後，將未溶解於乙酸乙酯中的部分(不可溶部分)採集於#200不鏽鋼線網中並在150℃下乾燥30分鐘以量測質量(不可溶部分的乾燥質量=凝膠分率測量等式中的B)。隨後，藉由將量測結果代入至以下等式中來量測凝膠分率(單位：%)。
<凝膠分率量測等式>
凝膠分率=B/A×100
A：壓敏黏著劑的質量(0.2公克)
B：不可溶部分的乾燥質量(單位：公克)
3.量測彈性模數的方法
實例或比較實例中製備的壓敏黏著劑組成物各塗佈於兩個離型膜之間且在恆定溫度及濕度條件(23℃，50%相對濕度)下老化7天以製備厚度為約22微米的壓敏黏著層。隨後，將離型膜之間的壓敏黏著劑切割以製備8毫米×1毫米(=直徑×厚度)的環形樣品，並接著使用動態變流儀(ARES，RDA，TA儀器公司)在23℃下量測儲存彈性模數，同時以1赫茲的頻率在平行板之間施加剪應力。
4.ITO腐蝕測試
將實例或比較實例中製備的壓敏黏著劑組成物各層疊於厚度為40微米的的三乙醯纖維素(TAC)膜上並在恆定溫度及濕度條件(23℃，50%相對濕度)下老化7天以製備壓敏黏著層。將典型氧化銦錫(indium tin oxide；ITO)膜切割為具有約50毫米的寬度左右及約30毫米左右的高度以製備樣品，以橫向方向在10毫米左右的寬度下將銀膏分別塗覆至其兩端上。隨後，將壓敏黏著層切割至具有約40毫米左右的寬度及約30毫米左右的高度，並 以5毫米左右的間隔附接至銀膏的末端以製備樣品。將製備的氧化銦錫(ITO)膜在高溫度及濕度條件(85℃，85%相對濕度)下儲存250小時，並接著藉由線性電阻計(Hioki 3244-60 card hitester)評估如與開始引入之前相比電阻的變化速率。
5.高溫耐久性
將實例或比較實例的壓敏黏著偏光板各切割至具有約140毫米左右的寬度及約90毫米左右的高度以製備樣品，在5公斤/平方厘米的壓力下將樣品附接至玻璃基板。附接在潔淨室內進行，從而使得不產生氣泡或異物。隨後，在50℃及5公斤/平方厘米的條件下將製備樣本保持在高壓下持續15分鐘。
在將樣本維持在約100℃的溫度下持續500小時之後，根據以下標準評估耐久性。
<評估標準>
O：無氣泡及剝落出現
△：出現氣泡及/或剝落
X：出現嚴重氣泡及/或剝落
6.量測重量平均分子量的方法
使用凝膠滲透層析法(gel permeation chromatography；GPC)在以下條件下量測製備實例中製備的壓敏黏著劑聚合物的重量平均分子量。對於產生校準曲線，使用安捷倫(Agilent)系統的標準聚苯乙烯轉換量測結果。
計量器：安捷倫GPC(安捷倫1200系列，美國)
管柱：兩個PL Mixed B組合
管柱溫度：40℃
溶離劑：四氫呋喃(tetrahydrofuran；THF)
流動速率：1.0毫升/分鐘
濃度：約2毫克/毫升(100微升注射)
7.壓敏黏著劑缺失的評估
實例中製備的壓敏黏著層各層疊於所製備的偏光片上，在23℃的溫度及50 RH%的相對濕度的恆定溫度及濕度條件下老化持續約7天，並切割至200毫米X200毫米(寬度X高度)的大小，以製備偏光板樣品。
將具有約50毫米的寬度的用於評估的壓敏黏著帶附接於樣品的壓敏黏著層的一側上，且藉由向其施加5公斤/平方厘米的壓力來將用於評估的壓敏黏著帶層疊於樣品上。接著，在將用於評估的黏著帶自黏著偏光板的樣品脫離之後，基於以下標準目測評估偏光片的殘留在表面上的壓敏黏著層的殘餘程度。
<壓敏黏著劑缺失的評估標準>
O：具有1毫米或小於1毫米的直徑的空隙的數目為5或小於5的情況，所述空隙隨著將壓敏黏著層自偏光片的表面剝離而在偏光片表面觀察到
△：具有1毫米或小於1毫米的直徑的空隙的數目超過5的情況，所述空隙隨著將壓敏黏著層自偏光片的表面剝離而在偏光片表面觀察到
X：具有1毫米或小於1毫米的直徑的空隙的總面積大於其餘壓敏黏著層的面積的情況，所述空隙隨著將壓敏黏著層自偏光片的表面剝離而在偏光片表面觀察到
8.表面電阻的評估
將實例及比較實例中製備的壓敏黏著偏光板各切割至50毫米X50毫米(寬度X高度)的大小以製備表面電阻評估樣品。藉由在23℃的溫度及50RH%的相對濕度的恆定溫度及濕度環境中施加500伏的電壓持續10秒，來使用電阻測定器(三菱化學分析技術公司(Mitsubishi Chemical Analytech)，Hiresta-ux(MCP-HT800型))量測樣品的壓敏黏著層的表面電阻。
製備實例1。製備壓敏黏著劑聚合物(A)
以64：15：20：1(n-BA：BzA：MA：4-HBA)的重量比將丙烯酸正丁酯(n-Butyl acrylate；n-BA)、丙烯酸苯甲酯(benzyl acrylate；BzA)、丙烯酸甲酯(methyl acrylate；MA)以及丙烯酸羥丁酯(4-HBA)引入至配備有用於氮氣回流及簡單溫度控制的冷卻元件的1升反應器中，並引入100重量份的乙酸乙酯(ethyl acetate；EAc)作為溶劑。隨後，將氮氣淨化1小時以移除氧氣，且接著將在乙酸乙酯中稀釋至50重量%的濃度的0.03重量份偶氮二異丁腈(azobisisobutyronitrile；AIBN)引入作為反應引發劑並反應8小時以製備呈具有約1,900,000左右的分子量(Mw)的共聚物的壓敏黏著劑聚合物(A)。
製備實例2。製備壓敏黏著劑聚合物B至壓敏黏著劑聚合物I
除了採用以下表1及表2中所示的成分之外，以與製備實例1相同的方式製備共聚物。
實例1
製備壓敏膠材組成物及壓敏黏著層
以相對於100重量份的共聚物(A)的固體含量的約0.08重量份的量將異氰酸酯交聯劑(T-39M，日本綜研株式會社(Japan Soken Co.,Ltd.))合併至製備實例1的共聚物(A)，並以相對於100重量份的共聚物(A)的固體含量的約1.5重量份的量將離子液體(FC-4400，3M公司)與其合併，並將混合物稀釋至適當濃度並均一地混合以製備壓敏黏著劑組成物。接著，將壓敏黏著劑組成物塗佈於離型紙上並乾燥以製造具有22微米的厚度的均一壓敏黏著層。
製造偏光片
將具有約60微米的厚度的聚乙烯醇(polyvinyl alcohol；PVA)膜(日本合成化學公司(Japan Synthetic Co.)，M2004)浸沒於30℃下的含有0.05重量%的碘及1.5重量%的碘化鉀的染色 溶液中持續60秒以進行染色。隨後，將染色聚乙烯醇膜浸沒於30℃下的含有0.05重量%的硼及3.0重量%的碘化鉀的交聯溶液中持續60秒以進行交聯。之後，使用卷對卷拉伸方法以5.5倍的拉伸比將經交聯的聚乙烯醇膜拉伸。藉由將經拉伸的聚乙烯醇膜浸沒於30℃下的離子交換水中持續20秒並浸沒於30℃下的含有2.0重量%的硝酸鋅及5.5重量%的碘化鉀的溶液中持續10秒來用水洗滌經拉伸的聚乙烯醇膜。之後，在80℃的溫度下將聚乙烯醇膜乾燥200秒以製造偏光片。製造的偏光片中的鉀含量為約0.8重量%，且鋅含量為約0.17重量%。
製造光學層疊物(壓敏黏著偏光板)
將製造的壓敏黏著層附接至偏光板的一側以製造壓敏偏光板(光學層疊物)。
實例2
除了以相對於100重量份的共聚物(A)的固體含量的約0.12重量份的量將交聯劑(T-39M，日本綜研株式會社)合併至製備實例1的共聚物(A)之外，以與實例1中相同的方式製造壓敏黏著劑組成物、壓敏黏著層以及壓敏黏著偏光板。
實例3
除了以相對於100重量份的共聚物(B)的固體含量的約0.12重量份的量將交聯劑(T-39M，日本綜研株式會社)合併至製備實例2的共聚物(B)之外，以與實例1中相同的方式製造壓敏黏著劑組成物、壓敏黏著層以及壓敏黏著偏光板。
實例4
除了以相對於100重量份的共聚物(C)的固體含量的約 0.12重量份的量將交聯劑(T-39M，日本綜研株式會社)合併至製備實例3的共聚物(C)之外，以與實例1中相同的方式製造壓敏黏著劑組成物、壓敏黏著層以及壓敏黏著偏光板。
實例5
除了以相對於100重量份的共聚物(D)的固體含量的約1.0重量份的量將異氰酸酯交聯劑(T-706BB，日本綜研株式會社)合併至製備實例4的共聚物(D)並以相對於100重量份的共聚物(D)的固體含量的約0.005重量份的量將環氧樹脂交聯劑(T-743L，日本綜研株式會社)合併至製備實例4的共聚物(D)之外，以與實例1中相同的方式製造壓敏黏著劑組成物、壓敏黏著層以及壓敏黏著偏光板。
實例6
除了分別以相對於100重量份的共聚物(E)的固體含量的約1.0重量份的量及相對於100重量份的共聚物(E)的固體含量的約0.005重量份的量將異氰酸酯交聯劑(T-706BB，日本綜研株式會社)及環氧樹脂交聯劑(T-743L，日本綜研株式會社)合併至製備實例5的共聚物(E)之外，以與實例1中相同的方式製造壓敏黏著劑組成物、壓敏黏著層以及壓敏黏著偏光板。
比較實例1
除了以相對於100重量份的共聚物(F)的固體含量的約1.0重量份的量將異氰酸酯交聯劑(T-706BB，日本綜研株式會社)合併至製備實例6的共聚物(F)並亦以相對於100重量份的共聚物(F)的固體含量的約0.005重量份的量將環氧樹脂交聯劑(T-743L，日本綜研株式會社)合併至製備實例6的共聚物(F)之外， 以與實例1中相同的方式製造壓敏黏著劑組成物、壓敏黏著層以及壓敏黏著偏光板。
比較實例2
除了以相對於100重量份的共聚物(G)的固體含量的約0.08重量份的量將交聯劑(T-39M，日本綜研株式會社)合併至製備實例7的共聚物(G)之外，以與實例1中相同的方式製造壓敏黏著劑組成物、壓敏黏著層以及壓敏黏著偏光板。
比較實例3
除了以相對於100重量份的共聚物(H)的固體含量的約1.7重量份的量將交聯劑(二異氰酸甲苯酯型，T-706BB，日本綜研株式會社)及亦以相對於100重量份的共聚物(H)的固體含量的約0.005重量份的量將另一種交聯劑(環氧樹脂交聯劑，T-743L，日本綜研株式會社)合併至製備實例8的共聚物(H)之外，以與實例1中相同的方式製造壓敏黏著劑組成物、壓敏黏著層以及壓敏黏著偏光板。
比較實例4
除了分別以相對於100重量份的共聚物(I)的固體含量的約1.0重量份的量及約0.005重量份的量將異氰酸酯交聯劑(T-706BB，日本綜研株式會社)及環氧樹脂交聯劑(T-743L，日本綜研株式會社)合併至製備實例9的共聚物(I)之外，以與實例1中相同的方式製造壓敏黏著劑組成物、壓敏黏著層以及壓敏黏著偏光板。
以上實例及比較實例的評估結果經概述且描述於以下表3及表4中。

Claims (13)

  1. 一種光學層疊物，包括：光學膜；以及形成於所述光學膜的一側上的壓敏黏著層，其中所述壓敏黏著層包括壓敏黏著劑聚合物，所述壓敏黏著劑聚合物具有：具有含4個或大於4個碳原子的烷基的(甲基)丙烯酸烷酯單元、具有含3個或小於3個碳原子的烷基的(甲基)丙烯酸烷酯單元、含芳族基單體單元以及含極性官能基單體單元，具有含3個或小於3個碳原子的烷基的所述(甲基)丙烯酸烷酯單元以相對於100重量份的具有含4個或大於4個碳原子的烷基的所述(甲基)丙烯酸烷酯單元的30重量份至65重量份的量包含於所述壓敏黏著劑聚合物中，以及其中所述含芳族基單體由下式1表示：
    Figure TWI674309B_C0001
    其中，R6表示氫或烷基，A表示伸烷基，n表示0至3範圍內的整數，Q表示單鍵，以及P表示芳基，其中所述含芳族基單體單元以相對於100重量份的具有含4個或大於4個碳原子的烷基的所述(甲基)丙烯酸烷酯單元的20重量份至45重量份的量包含於所述壓敏黏著劑聚合物中，根據以下等式1，所述壓敏黏著層在玻璃基板上具有以300毫米/分鐘的剝離速率以及70重量%或大於70重量%的凝膠分率下量測的700公克力/25毫米或大於700公克力/25毫米的90度室溫剝離力，[等式1]凝膠分率=B/A×100其中，A為所述壓敏黏著層在其浸沒於乙酸乙酯中之前的質量(單位：公克)，且B表示在室溫下將所述壓敏黏著層浸沒於乙酸乙酯中持續24小時之後回收的不可溶部分的乾燥質量(單位：公克)。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的光學層疊物，其中所述光學膜為偏光片。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的光學層疊物，其中所述光學膜為含鉀及鋅的聚乙烯醇偏光片。
  4. 如申請專利範圍第3項所述的光學層疊物，其中包含於所述聚乙烯醇偏光片中的鉀(K)及鋅(Zn)的比率(K/Zn)在0.2至20的範圍內。
  5. 如申請專利範圍第1項所述的光學層疊物，其中所述壓敏黏著劑聚合物中具有含4個或大於4個碳原子的烷基的所述(甲基)丙烯酸烷酯的比率在50重量%至70重量%的範圍內。
  6. 如申請專利範圍第1項所述的光學層疊物，其中具有含3個或小於3個碳原子的烷基的所述(甲基)丙烯酸烷酯為丙烯酸甲酯單元。
  7. 如申請專利範圍第1項所述的光學層疊物，其中所述含極性官能基單體為具有含3至6的範圍內的碳數的烷基的(甲基)丙烯酸羥烷酯或含羧基單體。
  8. 如申請專利範圍第1項所述的光學層疊物，其中所述含極性官能基單體單元以相對於100重量份的具有含4個或大於4個碳原子的烷基的所述(甲基)丙烯酸烷酯單元的1重量份至4.5重量份的量包含於所述壓敏黏著劑聚合物中。
  9. 如申請專利範圍第1項所述的光學層疊物，其中所述壓敏黏著層具有0.06MPa或大於0.06MPa的室溫儲存彈性模數。
  10. 如申請專利範圍第1項所述的光學層疊物，其中所述壓敏黏著層更包括用於交聯所述壓敏黏著劑聚合物的交聯劑。
  11. 如申請專利範圍第1項所述的光學層疊物，其中所述壓敏黏著層更包括離子化合物。
  12. 如申請專利範圍第1項所述的光學層疊物，更包括附接至所述壓敏黏著層的離型膜。
  13. 一種顯示裝置，包括顯示面板，所述顯示面板附接至如申請專利範圍第1項所述的光學層疊物，所述顯示面板經由所述壓敏黏著層附接至所述光學層疊物。
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