TWI650856B - 有機發光顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明之例示性實施例涉及一種有機發光顯示裝置，其包含第一基板、像素陣列、金屬圖樣、第二基板、以及玻璃料。像素陣列設置於第一基板上。金屬圖樣排列於第一基板上，以圍繞像素陣列。第二基板設置於第一基板上。玻璃料設置於第一基板與第二基板之間，玻璃料覆蓋金屬圖樣。

Description

有機發光顯示裝置
本申請案主張於2013年07月22日向韓國智慧財產局提出之韓國專利申請號第10-2013-0085854號之優先權，為了如同在本文中充分闡述的所有目的而於此併入作為參考。
本發明之例示性實施例涉及一種有機發光顯示裝置。更具體而言，本發明之例示性實施例涉及一種有機發光顯示裝置，其中以玻璃料密封基板。
有機發光顯示裝置係具有自體發光特性的下一代顯示裝置。通常，有機發光顯示裝置就視角、對比度、反應速度、功耗等而言是具有優越的特性。由於其自體發光的特性，使有機發光顯示裝置不需要背光；因此可製作出相對輕且薄的有機發光顯示裝置。
通常，有機發光顯示裝置包含其上有像素陣列形成的基板、以及與基板相對設置且藉由諸如環氧樹脂之密封劑而黏合至基板以封裝像素陣列的容器或密封基板。
像素陣列包含掃描線、數據線、以及以矩陣形式連接在掃描線與數據線之間的複數個像素。各像素可包含有機發光二極體。有機發光二極 體包含陽極、陰極、以及形成於陽極與陰極之間的有機薄膜層。有機薄膜層可包含有機材料，例如電洞傳輸層、有機發射層、以及電子傳輸層。
本發明之例示性實施例提供一種有機發光顯示裝置，其設計以改善玻璃料與基板之間的黏合力。
本發明之例示性實施例亦提供一種製造有機發光顯示裝置的方法，其設計以改善玻璃料與基板之間的黏合力。
將於下文的描述中闡述本發明額外的特徵，且部分將自描述而顯而易見，或可藉由本發明之實踐而得知。
本發明之例示性實施例揭露一種有機發光顯示裝置，其包含：第一基板；設置於第一基板上的像素陣列；設置於第一基板上以圍繞像素陣列的金屬圖樣；設置於第一基板上的第二基板；以及設置於第一基板與第二基板之間的玻璃料，玻璃料是覆蓋金屬圖樣。
本發明之例示性實施例亦揭露一種製造有機發光顯示裝置的方法，其方法包含：形成像素陣列於第一基板上；形成金屬圖樣於第一基板上以圍繞像素陣列；設置玻璃料於第一基板上，玻璃料覆蓋金屬圖樣；設置成相對於第一基板且與像素陣列、金屬圖樣以及玻璃料重疊的第二基板；黏合玻璃料至第一基板及第二基板以密封像素陣列。
應理解的是，上述大致的敘述與下文詳細的敘述均為例示性及說明性，且意在進一步提供如所主張之本發明的解釋。
100‧‧‧第一基板
200‧‧‧像素陣列
210‧‧‧掃描線
220‧‧‧數據線
230‧‧‧像素
240‧‧‧有機發光二極體
241‧‧‧第一電極
242‧‧‧像素定義層
243‧‧‧有機薄膜層
244‧‧‧第二電極
250‧‧‧薄膜電晶體
251‧‧‧緩衝層
252‧‧‧半導體層
253‧‧‧閘極絕緣層
254‧‧‧閘極電極
255‧‧‧絕緣層
256‧‧‧源極電極或汲極電極
257‧‧‧平坦化絕緣層
260‧‧‧保護層
270‧‧‧孔洞
270a‧‧‧凹槽
280‧‧‧絕緣層
300‧‧‧金屬圖樣
400‧‧‧第二基板
500‧‧‧玻璃料
600‧‧‧驅動電路
600a‧‧‧掃描驅動電路
600b‧‧‧數據驅動電路
700‧‧‧焊電部分
d1‧‧‧金屬圖樣之間的距離
d2‧‧‧線之間的距離
所包含以提供對本發明作進一步的理解且併入本說明書中並構成本說明書之一部分的附圖係示出本發明之例示性實施 例，且與描述一同用於解釋本發明之原理。
第1圖係示出根據本發明之實施例的有機發光顯示裝置的平面圖。
第2圖係沿著第1圖之線I1-I2截取的剖面圖。
第3圖係第1圖之像素陣列的平面圖。
第4圖係第1圖之像素陣列的剖面圖。
第5A圖係第1圖之A部分的放大平面圖。
第5B圖係第1圖之A部分的放大剖面圖。
第6A圖係第1圖之A部分的放大平面圖。
第6B圖係第1圖之A部分的放大剖面圖。
第7A圖係示出根據本發明之一實施例的有機發光顯示裝置的平面圖。
第7B圖係沿著第7A圖之線I11-I12截取的剖面圖。
第8A圖係示出根據本發明之一實施例的有機發光顯示裝置的平面圖。
第8B圖係沿著第8A圖之線I21-I22截取的剖面圖。
於下列詳細描述中，僅本發明之特定例示性實施例係簡單藉由說明方式而繪示及描述。所屬技術領域具有通常知識者將了解的是，所描述之實施例可以各種不同方式修改，而全不脫離本發明之精神或範疇。因而，附圖及描述是視為說明性的性質而 非限制性。
應理解的是，當一個元件或層被指為「上(on)」、或「連接(connected to)」另一個元件或另一層時，其可直接地位於其他元件或其他層之上、或直接地連接至其他元件或其他層，或者可存在中介元件或中介層。相反的，當一個元件被指為「直接...上(directly on)」另一元件或另一層時、或「直接連接(directly connected to)」另一個元件或另一層時，則不存在中介元件或中介層。本揭露的用意亦可被理解的是，「至少一X、Y及Z(at least one of X,Y,and Z)」可解釋為只有X、只有Y、只有Z、或兩個或多個X、Y及Z的任意組合(例如，XYZ、XYY、YZ、ZZ)。
第1圖係示出根據本發明之實施例的有機發光顯示裝置的平面圖。第2圖係沿著第1圖之線I1-I2截取的剖面圖。
參照第1圖及第2圖，有機發光顯示裝置包含第一基板100，第一基板100具有形成於其上的像素陣列200、排列於第一基板100上以圍繞像素陣列200的金屬圖樣300、設置於第一基板100上以與像素陣列200及金屬圖樣300重疊的第二基板400、以及設置於第一基板100與第二基板400之間的玻璃料500，玻璃料500覆蓋金屬圖樣300。
驅動電路600及焊墊部分700可形成在由玻璃料500圍繞之區域之外側的第一基板100上。驅動電路600可配置以驅動像素陣列200。焊墊部分700可電連接至外部電路，以傳送輸入訊號至驅動電路600。
第一基板100是形成為薄膜狀，且可由例如玻璃、塑膠或金屬所製成。
像素陣列200可構成配置以顯示圖像的顯示單元。
第二基板400設置為與第一基板100相對，並配置以密封像素陣列200。於前發光結構中，第二基板400可由例如玻璃或塑膠的透明材料所製成。於後發光結構中，第二基板400可由不透明材料所製成。
玻璃料500設置於第一基板100與第二基板400之間以圍繞像素陣列200。玻璃料500可黏合第一基板100及第二基板400，使包含像素陣列200的內部空間被密封。
金屬圖樣300設置於第一基板100上以圍繞像素陣列200。金屬圖樣300彼此間隔分開。金屬圖樣300介入於玻璃料500與第一基板100之間。
參照第3圖，像素陣列200包含在一方向上排列的複數條掃描線210、排列成與掃描線210相交的複數條數據線220、以及與掃描線210及數據線220連接的複數個像素230。像素230是可包含有機發光二極體的發光裝置。
驅動電路600可包含連接至複數條掃描線210之掃描驅動電路600a，以及連接至複數條數據線220之數據驅動電路600b。掃描驅動電路600a及數據驅動電路600b可藉由例如積體電路(IC)來實現。
參照第4圖，有機發光二極體240包含第一電極241、第二電極244、以及介入第一電極241與第二電極244之間的有機薄膜層243。有機薄膜層243形成於藉由像素定義層242的開口定義之發光區域中的第一電極241上。有機薄膜層243可包含電洞注入層、電洞傳輸層、有機發射層、電子傳輸層以及電子注 入層。
有機發光二極體240可進一步連接至配置以傳送訊號的薄膜電晶體250、以及配置以維持傳送之訊號的電容器。
參照第4圖，薄膜電晶體250包含配有源極區域、汲極區域、通道區域的半導體層252、藉由閘極絕緣層253來與半導體層252絕緣的閘極電極254、以及通過形成於絕緣層255與閘極絕緣層253中之接觸孔電連接至半導體層252中之源極區域或汲極區域的源極電極或汲極電極256。平坦化絕緣層257設置於薄膜電晶體250與有機發光二極體240之間。緩衝層251可設置於薄膜電晶體250與第一基板100之間。
保護層260可形成於包含像素陣列200的第一基板100上，以保護有機發光二極體240。保護層260可由無機材料所形成，以避免濕氣或氧氣滲入，並承受對抗物理性的壓力。保護層260亦可為單層結構或者多層結構。
第5A圖及第5B圖是示出放大之第1圖的A部分所顯示的金屬圖樣300之實施例的平面圖及剖面圖。
參照第5A圖及第5B圖，金屬圖樣300可在一線上排列且彼此等間隔分開。例如，在金屬圖樣300之間的距離d1可設定成約為20μm或以上。根據例示性實施例，金屬圖樣300彼此可以約30μm至100μm的間隔分開。
第6A圖及第6B圖是示出放大之第1圖的A部分所顯示的金屬圖樣300之另一例示性實施例的平面圖及剖面圖。
參照第6A圖及第6B圖，金屬圖樣300可排列在三條線 上且彼此間隔分開。例如，金屬圖樣300之間的距離d1及線之間的距離d2可設定成約為20μm或以上。根據例示性實施例，距離d1及距離d2可各在約30μm至100μm的範圍內。距離d1及距離d2不需要彼此相等。
本發明並不限制於上述金屬圖樣300之例示性實施例。複數個金屬圖樣300可根據由玻璃料500密封之區域的尺寸而排列在任何數量的多條線上。金屬圖樣300可形成為，例如三角形、四邊形或五邊形的多邊形形狀，但不限於此。金屬圖樣300亦可形成圓形形狀。
在例示性實施例中，藉由從第二基板400之後表面照射雷射或紅外光至玻璃料500上，使像素陣列200可以玻璃料500密封於第一基板100與第二基板400之間。當玻璃料500吸收所照射的雷射或紅外光時，玻璃料500可由源自於雷射或紅外光所產生的熱而熔化且黏合至第一基板100及第二基板400。
在例示性實施例中，照射在玻璃料500上的雷射或紅外光可於金屬圖樣300上被反射及漫射。所照射之雷射或紅外光的反射或漫射可均勻地增加玻璃料500之整體部分的溫度，使玻璃料500的整體部分可均勻地黏合至第一基板100及第二基板400。
一般而言，雷射或紅外光的能量具有高斯分布。因此，雷射或紅外光對玻璃料500的直接照射將於玻璃料500上是產生不一致的熱分布，而造成第一基板100及第二基板400的黏合不良。熱分布不一致所導致的基板黏合不良可藉由例示性實施例中以雷射或紅外光的反射及漫射熔化玻璃料500並均勻地黏合基板的金屬圖樣300來克服。
可藉由線性金屬條的設計替代本發明之當前例示性實施例的金屬圖樣300來得到相似的效果。然而，線性金屬條的設計可能對於抗靜電放電的能力是差的。由於有機發光顯示裝置之基板是由玻璃或類似物所製成；因此在有機發光顯示裝置之製造或應用期間可能會經常產生靜電放電。因為金屬圖樣300係外圍地設置為圍繞第一基板100及第二基板400，所以金屬圖樣300可直接地受靜電放電所影響，而可能使金屬圖樣300脫落或破壞玻璃料500的密封。靜電放電的問題可藉由金屬圖樣300設計成獨立孤島的形式來克服，以避免可能的靜電放電沿著金屬圖樣300而導電，因而對使像素陣列的焦耳熱及靜電放電達最小化。
於一例示性實施例中，金屬圖樣300之間的距離d1及線之間的距離d2可設定成約為20μm或以上，例如約30μm至100μm。在距離d1及距離d2設定成小於30μm的情況中，其可能難以避免由於靜電放電所引起的損壞。在距離d1及距離d2設定成大於100μm的情況中，其可能難以得到由雷射或紅外光之反射及漫射所引起的效果。
第7A圖及第7B圖係示出根據本發明之例示性實施例之有機發光顯示裝置的平面圖及剖面圖。
參照第7A圖及第7B圖，絕緣層280介入於包含金屬圖樣300的第一基板100與玻璃料500之間。孔洞270形成於絕緣層280中以圍繞每個金屬圖樣300。
在藉由雷射或紅外光熔化玻璃料500的製程期間，玻璃料500可流至孔洞270中，且直接黏合至第一基板100。孔洞270可增加玻璃料500與絕緣層280及第一基板100之黏合的表面面 積。
參照第4圖、第7A圖及第7B圖，當製造薄膜電晶體250的過程中形成閘極電極254、或源極或汲極電極256時，金屬圖樣300可由相同的材料，例如鋁(Al)、鈦(Ti)及鉬(Mo)中的至少一種所形成。在形成閘極絕緣層253、絕緣層255及保護層260的過程中，絕緣層280可形成為單層結構或多層結構。
在例示性實施例中，緩衝層251可形成於第一基板100上，且金屬圖樣300可接著形成於緩衝層251上，而以電絕緣該金屬圖樣300與另一金屬圖樣300。緩衝層251可由氧化矽層(SiO2)、氮化矽層(SiNx)或其層狀結構所形成。
第8A圖及第8B圖示出根據本發明之例示性實施例之有機發光顯示裝置之平面圖及剖面圖。
參照第8A圖及第8B圖，絕緣層280介入包含金屬圖樣300的第一基板100與玻璃料500之間。凹槽270a形成於絕緣層280中以圍繞每個金屬圖樣300。
與第7A圖及第7B圖之結構相比，凹槽270a具有第7A圖及第7B圖中所顯示之孔洞270與另一孔洞270相連接的結構，而進一步增加玻璃料500與絕緣層280及第一基板100之黏合的表面面積。
於一例示性實施例中，緩衝層251可形成於第一基板100上以電絕緣第一基板100與金屬圖樣300。緩衝層251可由氧化矽層(SiO2)、氮化矽層(SiNx)或其層狀結構所形成。
儘管上述所討論的例示性實施例揭露設置於第一基板100上的金 屬圖樣300，但第5A圖至第8B圖的金屬圖樣300可替換地設置於第二基板400上。此外，於其他例示性實施例，金屬圖樣300可設置於第一基板100及第二基板400兩者之上。
本技術領域中具有通常知識者將明瞭在未脫離本發明之精神或範疇下可對本發明進行各種修改及變化。因此，本發明意在涵蓋此發明提供之所附申請專利範圍之範疇內的各種修改和變化及其等效配置。

Claims (8)

  1. 一種有機發光顯示裝置，其包含：一第一基板；一像素陣列，設置於該第一基板上；複數個金屬圖樣，設置於該第一基板上以圍繞該像素陣列；一第二基板，設置於該第一基板上；一玻璃料，設置於該第一基板與該第二基板之間，該玻璃料覆蓋該複數個金屬圖樣；以及一絕緣層，設置於該玻璃料與該第一基板之間，該絕緣層包含圍繞每一該金屬圖樣的複數個孔洞。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之有機發光顯示裝置，其中該複數個金屬圖樣係排列在複數條線中。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之有機發光顯示裝置，其中該複數個金屬圖樣之間的距離及該複數條線之間的距離每一個是在約30μm至100μm的範圍內。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之有機發光顯示裝置，其中該複數個金屬圖樣具有一多邊形形狀。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之有機發光顯示裝置，其中該絕緣層包含一多層結構。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之有機發光顯示裝置，其進一步包含在該絕緣層中圍繞每一該金屬圖樣的凹槽。
  7. 如申請專利範圍第1項所述之有機發光顯示裝置，其中該複數個金屬圖樣包含鋁、鈦及鉬中的至少之一。
  8. 如申請專利範圍第1項所述之有機發光顯示裝置，其進一步包含設置於該複數個金屬圖樣與該第一基板之間的一緩衝層。
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