TWI637224B - 窗口基板、製造該窗口基板之方法及包含該窗口基板之影像顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明係關於一種窗口基板及其製造方法。更具體而言，本發明係關於一種包含以下之窗口基板及其製造方法：一基底基板，包含一顯示區及一非顯示區；一光遮蔽圖案，設置於該基底基板之一表面上的該非顯示區中以界定該顯示區及該非顯示區；一第一黏合層，沿該光遮蔽圖案之一表面及該基底基板之該表面形成；一偏振層，位於該第一黏合層上；以及一觸控感測器層，位於該偏振層上，其中該光遮蔽圖案相對於該第一黏合層之黏彈性比係75,000或更小，且該光遮蔽圖案相對於該第一黏合層之厚度比係0.6或更小，以防止在台階部處出現氣泡且改良撓性性質。

Description

窗口基板、製造該窗口基板之方法及包含該窗口基板之影像顯示裝置
本發明係關於一種窗口基板、一種製造該窗口基板之方法及一種包含該窗口基板之影像顯示裝置。更具體而言，本發明係關於一種包含複數個功能層之窗口基板、一種製造該窗口基板之方法及一種包含該窗口基板之影像顯示裝置。
近來，能夠顯示包含顯示影像之資訊的顯示裝置已被大力地開發。該顯示裝置包含液晶顯示(liquid crystal display；LCD)裝置、有機發光顯示(organic light emitting display；OLED)裝置、電漿顯示面板(plasma display panel；PDP)裝置、場發射顯示(field emission display；FED)裝置等。
在顯示裝置中，窗口基板可設置於顯示面板(例如，液晶顯示面板及有機發光顯示面板)上，以保護顯示面板免受外部環境之影響。該窗口基板可包含由玻璃形成之基底基板(base substrate)。在最近之撓性顯示裝置中，透明塑膠材料被用作基底基板。
顯示裝置之其他部件(例如，偏振板、觸控螢幕面板等)可設置於基底基板與顯示面板之間。舉例而言，自顯示面板之電極圖案反射之周圍光可被偏振板阻擋。可經由觸控螢幕面板來輸入使用者之指令。
然而，當將包含偏振板、觸控螢幕面板、窗口基板等在內之複數個層或結構堆疊於顯示面板上時，最近顯示裝置中之需求(例如撓性性質、薄層結構等)可能不能充分實現。此外，在對該等層或結構進行層壓期間可能會引起實體缺陷、機械缺陷或化學缺陷，且亦可增加製程成本。
舉例而言，韓國早期專利公開案第2012-0076026號揭露一種包含觸控螢幕面板及偏振層之透明基板。
根據本發明之一態樣，提供一種具有改良之機械可靠性及撓性性質之窗口基板。
根據本發明之一態樣，提供一種製造具有改良之機械可靠性及撓性性質之窗口基板之方法。
根據本發明之一態樣，提供一種包含具有改良之機械可靠性及撓性性質之窗口基板之影像顯示裝置。
本發明概念之上述態樣將藉由以下特性來達成：
(1)一種窗口基板，包含：一基底基板，包含一顯示區及一非顯示區；一光遮蔽圖案(light-shielding pattern)，設置於該基底基板之一表面上的該非顯示區中以界定該顯示區及該非顯示區；一第一黏合層，沿該光遮蔽圖案之一表面及該基底基板之該表面形成；一偏振層，位於該第一黏合層上；以及一觸控感測器層，位於該偏振層上，其中該光遮蔽圖 案相對於該第一黏合層之黏彈性比(viscoelasticity ratio)係75,000或更小，且該光遮蔽圖案相對於該第一黏合層之厚度比係0.6或更小。
(2)如上述(1)所述之窗口基板，其中該黏彈性比係在自3,000至約75,000之範圍中。
(3)如上述(1)所述之窗口基板，其中該厚度比係在自0.1至0.6之範圍中。
(4)如上述(1)所述之窗口基板，其中該光遮蔽圖案之一側壁相對於該基底基板之該表面所成的錐角(taper angle)係在自5°至30°之範圍中。
(5)如上述(1)所述之窗口基板，其中該偏振層包含一液晶層。
(6)如上述(1)所述之窗口基板，其中該第一黏合層在該顯示區上相對更厚。
(7)如上述(6)所述之窗口基板，其中該厚度比被定義為該光遮蔽圖案之厚度相對於在該顯示區上該第一黏合層之厚度的比率。
(8)如上述(6)所述之窗口基板，其中該第一黏合層具有一平面頂表面。
(9)如上述(1)所述之窗口基板，更包含夾置於該偏振層與該觸控感測器層間之一第二黏合層。
(10)如上述(9)所述之窗口基板，其中該第二黏合層具有一平面頂表面。
(11)如上述(1)所述之窗口基板，其中該基底基板包含選自由以下組成之群組之至少一者：聚醚碸、聚丙烯酸酯、聚醚醯亞胺、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚苯硫醚、聚烯丙酸酯、聚醯亞胺、聚碳酸酯、三乙酸纖維素、及乙酸丙酸纖維素。
(12)一種製造窗口基板之方法，包含：在一第一基板層及一第二基板層上分別形成一偏振層及一觸控感測器層；對該第一基板層及該第二基板層進行層壓，因而使該偏振層與該觸控感測器層彼此面對，以形成一第一疊層體(laminate)；在一基底基板上形成一光遮蔽圖案及一第一黏合層，以形成一第二疊層體；以及對該第一疊層體及該第二疊層體進行層壓，因而使該第一黏合層與該偏振層彼此面對。
(13)如上述(12)所述之方法，更包含在形成該第一疊層體之後，移除該第一基板層。
(14)如上述(13)所述之方法，更包含在形成該第一疊層體之後或在對該第一疊層體及該第二疊層體進行層壓之後，移除該第二基板層。
(15)如上述(12)所述之方法，其中該光遮蔽圖案係形成於該基底基板之一表面之一周邊部(peripheral portion)上，且該第一黏合層係形成於該基底基板之該表面上以覆蓋該光遮蔽圖案。
(16)如上述(15)所述之方法，其中該光遮蔽圖案相對於該第一黏合層之黏彈性比係在自3,000至75,000之範圍中，且該光遮蔽圖案相對於該第一黏合層之厚度比係在自0.1至0.6之範圍中。
(17)一種影像顯示裝置，包含如上述(1)至(11)中任 一項所述之窗口基板。
本發明之窗口基板可包含被形成為具有預定黏彈性比及厚度比的光遮蔽圖案及黏合層，如此在形成黏合層時可抑制因由光遮蔽圖案所造成之台階部而產生氣泡。因此，黏合層之黏附性質及機械可靠性可得以改良，且撓性性質亦可得以改良。
本發明之窗口基板可包含藉由轉移製程(transfer process)及附著製程(attachment process)形成之偏振層及觸控感測器層。因此，可在防止或減少製程故障發生的同時達成整合有偏振層及觸控感測器層之窗口基板。
100‧‧‧窗口基板
105‧‧‧第二疊層體
110‧‧‧基底基板
110a‧‧‧第一表面
110b‧‧‧第二表面
120‧‧‧光遮蔽圖案
130‧‧‧第一黏合層
140‧‧‧偏振層
145‧‧‧第一基板層
150‧‧‧第二黏合層
160‧‧‧觸控感測器層
170‧‧‧第二基板層
180‧‧‧第一疊層體
200‧‧‧窗口基板
225‧‧‧開口
230‧‧‧第一黏合層
240‧‧‧偏振層
250‧‧‧第二黏合層
260‧‧‧觸控感測器層
300‧‧‧窗口基板
350‧‧‧第二黏合層
360‧‧‧觸控感測器層
400‧‧‧窗口基板
430‧‧‧第一黏合層
430a‧‧‧第一部分
430b‧‧‧第二部分
440‧‧‧偏振層
450‧‧‧第二黏合層
460‧‧‧觸控感測器層
I‧‧‧顯示區
II‧‧‧非顯示區
第1圖係例示根據本發明一實例性實施態樣之窗口基板的示意性剖視圖；第2圖係例示根據本發明一實例性實施態樣之窗口基板的示意性剖視圖；第3圖係例示根據本發明一實例性實施態樣之窗口基板的示意性剖視圖；第4圖係例示根據本發明一實例性實施態樣之窗口基板的示意性剖視圖；以及第5圖至第7圖係例示根據本發明一實例性實施態樣之一種製造窗口基板之方法的示意性剖視圖。
本發明係關於一種窗口基板，包含：一基底基板；一光遮蔽圖案，界定一顯示區及一非顯示區，該光遮蔽圖案對應於該非顯示區而設置於該基底基板之一表面上；一第一黏合層，沿該光遮蔽圖案之一表面及該基底基板之該表面形成；一偏振層，位於該第一黏合層上；以及一觸控感測器層，位於該偏振層上。該窗口基板中的該光遮蔽圖案相對於該第一黏合層之黏彈性比及厚度比處於預定範圍內，以在防止因台階部而出現氣泡的同時具有高可靠性且具有撓性性質。
在下文中，將參照附圖詳細地闡述本發明。然而，熟習此項技術者應瞭解，提供參照附圖所述之此等實施態樣係為了進一步理解本發明之精神，而並非限制如在詳細說明及隨附申請專利範圍中所揭露之欲受保護的標的。
參照第1圖，根據本發明實施態樣之窗口基板100包含基底基板110、光遮蔽圖案120、第一黏合層130、偏振層140、第二黏合層150、及觸控感測器層160。
基底基板110可包含對可能施加至液晶顯示裝置、有機發光顯示裝置、觸控螢幕面板(touch screen panel；TSP)之外部衝擊具有耐久性之透明材料。基底基板110可包含具有撓性性質之撓性塑膠材料。在此種情形中，使用基底基板100之顯示裝置可為撓性顯示裝置。
舉例而言，基底基板110可包含聚醚碸(polyethersulphone；PES)、聚丙烯酸酯(polyacrylate；PAR)、聚醚醯亞胺(polyetherimide；PEI)、聚萘二甲酸乙二醇酯(polyethylene naphthalate；PEN)、聚對苯二甲酸乙二醇酯(polyethylene terephthalate；PET)、聚苯硫醚(polyphenylene sulfide；PPS)、聚烯丙酸酯、聚醯亞胺、聚碳酸酯(polycarbonate；PC)、三乙酸纖 維素(cellulose triacetate；TAC)、乙酸丙酸纖維素(cellulose acetate propionate；CAP)等。此等材料可單獨使用或以其組合形式使用。
如第1圖所示，基底基板110可包含彼此面對的第一表面110a及第二表面110b。窗口基板100之多個層或結構可堆疊於第一表面110a上。可藉由第二表面110b向使用者顯示影像，且可經由第二表面110b輸入(例如，藉由使用者之觸控)使用者之指令。
光遮蔽圖案120可設置於基底基板110之第一表面110a上，且可形成於基底基板110之周邊部上。舉例而言，光遮蔽圖案120可劃分出窗口基板100及/或基底基板110之顯示區I及非顯示區II。
顯示區I可被定義為窗口基板100及/或基底基板110的自光遮蔽圖案120暴露出之一區。非顯示區II可被定義為窗口基板100及/或基底基板110的與光遮蔽圖案120交疊之一區。
光遮蔽圖案120可被設置為窗口基板100或包含窗口基板100之顯示裝置之邊框(bezel)或殼體之至少一部分。舉例而言，顯示裝置之佈線可由光遮蔽圖案120覆蓋，以使使用者看不到。光遮蔽圖案120之顏色及/或材料可不受具體限制，且可由具有各種顏色(例如黑色、白色、金色等)之樹脂材料形成。舉例而言，光遮蔽圖案120可由其中可混合有用於實施顏色之顏料的樹脂材料(例如丙烯酸系樹脂、環氧系樹脂、聚胺基甲酸酯、聚矽氧樹脂等)形成。光遮蔽圖案120可被形成為單層式結構或多層式結構。
可依據對窗口基板100或顯示裝置之保護及撓性來確定光遮蔽圖案120之材料及厚度。在本發明之一實施方案中，光遮蔽圖案120之材 料可被選擇成使光遮蔽圖案120之儲存模數(storage modulus)可在自約2,000百萬帕(Mpa)至約5,000百萬帕之範圍中。光遮蔽圖案120之厚度可在自約6微米(μm)至約15微米之範圍中。
光遮蔽圖案120可包含相對於基底基板110之第一表面110a以預定角度成錐形之側壁。舉例而言，光遮蔽圖案120的鄰近顯示區I之側壁可具有在自約5°至約30°之範圍中之錐角。若該錐角小於約5°，則光遮蔽圖案120可能不能獲得充足厚度。若該錐角超過約30°，則可能會在顯示區I處造成第一黏合層130之脫層(delamination)。
第一黏合層130可設置於光遮蔽圖案120及基底基板110上。在本發明之一實施方案中，第一黏合層130可直接形成於光遮蔽圖案120之頂表面上及側壁上、以及基底基板110之第一表面110a上。此外，第一黏合層130可遍及顯示區I及非顯示區II連續地延伸。遍及顯示區I及非顯示區II之第一黏合層130可具有實質上均勻之厚度。
然而，第一黏合層130之材料並不受具體限制，而是可依據對光遮蔽圖案120之黏附性及第一黏合層130之黏彈性來加以選擇。舉例而言，第一黏合層130可包含丙烯酸酯系壓敏黏合劑(pressure sensitive adhesive；PSA)或光學透明黏合劑(optically clear adhesive；OCA)。
根據本發明之實施態樣，第一黏合層130之儲存模數可在自約0.04百萬帕至約0.6百萬帕之範圍中。此外，第一黏合層130之厚度可被控制於約25微米至約50微米內。
舉例而言，光遮蔽圖案120與第一黏合層130間之黏彈性比及厚度比可根據光遮蔽圖案120及第一黏合層130之儲存模數及厚度之上述範 圍來定義。
根據本發明，光遮蔽圖案120相對於第一黏合層130之黏彈性比(例如，儲存模數比)可係約75,000或更小。若該黏彈性比超過約75,000，則第一黏合層130與光遮蔽圖案120間之儲存模數差距(storage modulus gap)會過度增加。因此，舉例而言，當彎折或折疊具有撓性性質之窗口基板100或顯示裝置時，可造成剝離或脫層。在某些實施態樣中，該黏彈性比可在自約3,000至約75,000之範圍中。
光遮蔽圖案120相對於第一黏合層130之厚度比可係約0.6或更小。若該厚度比超過約0.6，則光遮蔽圖案120之厚度會過度增加而不利於獲得一薄尺寸結構及撓性性質。此外，亦可能造成第一黏合層130之剝離或脫層。在某些實施態樣中，該厚度比可在自約0.1至約0.6之範圍中。
在黏彈性比及厚度比之該等範圍內，可在附著第一黏合層時防止於第一黏合層130與基底基板110之間及/或第一黏合層130與光遮蔽圖案120之側壁之間產生氣泡。另外，可在折疊或彎折窗口基板100或顯示裝置時防止第一黏合層130或第一黏合層130上之層受損壞或發生脫層。
偏振層140可設置於第一黏合層130上。舉例而言，偏振層140可遍及顯示區I及非顯示區II連續地延伸。根據本發明之實施態樣，偏振層140可替代傳統之偏振板，傳統之偏振板包含偏振器(例如，聚乙烯醇系偏振器)及複數個保護膜(例如，三乙醯基纖維素膜)，該等複數個保護膜附著至該偏振器之二個面。在某些實施態樣中，偏振層140可包含液晶化合物。偏振層140可包含含有液晶化合物之液晶層，且可更包含為液晶層提供定向之配向層。
觸控感測器層160可設置於偏振層140上。觸控感測器層160可包含複數個電極圖案，該等電極圖案用以將來自使用者之觸控訊號經由基底基板110之第二表面110b轉換成電性訊號。舉例而言，該等電極圖案可包含沿彼此交叉之方向配置之複數個第一感測電極及複數個第二感測電極。
觸控感測器層160可更包含用於使第一感測電極與第二感測電極彼此絕緣之絕緣層。觸控感測器層160中可更形成有連接至第一感測電極及第二感測電極之周邊佈線。該等周邊佈線可配置於非顯示區II中，且可與光遮蔽圖案120交疊。
如第1圖中所示，第二黏合層150可形成於觸控感測器層160與偏振層140之間。第二黏合層150可包含與第一黏合層130實質上相同或類似之壓敏黏合劑系材料或光學透明黏合劑系材料。
在本發明之某些實施態樣中，可更包含用於改良窗口基板100之實體性質及光學性質的其他層結構。舉例而言，在基底基板110之第二表面110b上可形成有用於保護窗口基板100之硬塗層。在偏振層140上可更形成有延遲膜、折射率調整層等。
參照第2圖，窗口基板200可包含如參照第1圖所述的基底基板110、光遮蔽圖案120、第一黏合層230、偏振層240、第二黏合層250、及觸控感測器層260。
光遮蔽圖案120可界定顯示區I及非顯示區II。在顯示區I處可由光遮蔽圖案120之側壁及基底基板110之第一表面110a界定暴露出顯示區I之開口225。
第一黏合層230可附著至光遮蔽圖案120以及基底基板110之第一表面110a，且可充分地填充開口225。第一黏合層230可具有實質上平面表面，且可充當整平層(leveling layer)。
第一黏合層230可提供平整之堆疊面或附著面，如此偏振層240及觸控感測器層260亦可具有平面結構，且可在製作窗口基板200時防止因彎曲或彎折之區域而使偏振層240及觸控感測器層260受損壞。
如參照第1圖所示窗口基板100所述，可調整光遮蔽圖案120與第一黏合層230之黏彈性比及厚度比。在厚度比中，第一黏合層230之厚度可被定義為顯示區I上之厚度。
參照第3圖，窗口基板300可包含基底基板110、光遮蔽圖案120、第一黏合層130、偏振層140、第二黏合層350、及觸控感測器層360。如參照第1圖所示窗口基板100所述，可調整光遮蔽圖案120與第一黏合層130之黏彈性比及厚度比。
第二黏合層350可附著至偏振層140，以具有一實質上平面頂表面。在一實施方案中，第二黏合層350可在顯示區I上具有相對大的厚度，且可充當整平層。
第二黏合層350可提供一平整的堆疊面或附著面，如此觸控感測器層360亦可具有平面結構，且可在製作窗口基板300時防止因彎曲或彎折之區域而使觸控感測器層360受損壞。
參照第4圖，窗口基板400可包含基底基板110、光遮蔽圖案120、第一黏合層430、偏振層440、第二黏合層450、及觸控感測器層460。如參照第1圖所述，可調整光遮蔽圖案120與第一黏合層430之黏彈性比及厚 度比。
所形成第一黏合層430在顯示區I上可較在非顯示區II上更厚。舉例而言，在光遮蔽圖案120之頂表面上，第一黏合層430之厚度可相對減小。
根據本發明之一實施方案，第一黏合層430可包含形成於顯示區I上之第一部分430a及形成於非顯示區II上(例如，光遮蔽圖案120之頂表面上)之第二部分430b，且第一部分430a之厚度可大於第二部分430b之厚度。如上所述，光遮蔽圖案120與第一黏合層430之厚度比可被控制於一預定範圍內。在厚度比中，第一黏合層430之厚度可被定義為第一部分430a之厚度。
偏振層440、第二黏合層450及觸控感測器層460可沿第一黏合層430之表面輪廓保形地形成。
在下文中，參照第5圖至第7圖詳細地闡述根據本發明實施態樣之一種製造窗口基板之方法。本文中不再對與參照第1圖所述之材料相同之材料予以詳述。
參照第5圖，可在第一基板層145及第二基板層170上分別形成偏振層140及觸控感測器層160。可在觸控感測器層160上形成第二黏合層150。
舉例而言，可藉由塗佈包含液晶化合物之液晶層來形成偏振層140。在某些實施態樣中，可在形成液晶層之前形成配向層，並且可塗佈該液晶層，且可執行固化製程。可藉由一塗佈製程及/或印刷製程(例如狹縫塗佈(slit coating)、刮刀塗佈(knife coating)、旋轉塗佈(spin coating)、 澆注(casting)、微凹版塗佈(micro gravure coating)、凹版塗佈、棒式塗佈(bar coating)、輥式塗佈(roll coating)、線棒式塗佈(wire bar coating)、浸漬塗佈(dip coating)、噴塗(spray coating)、網版印刷(screen printing)、凹版印刷(gravure printing)、柔版印刷(flexo printing)、平版印刷(offset printing)、噴墨塗佈(inkjet coating)、施配器印刷(dispenser printing)、噴嘴塗佈(nozzle coating)、毛細管塗佈(capillary coating)等)來形成液晶層及配向層。
觸控感測器層160可包含用於觸控感測之複數個電極圖案及用於使該等電極圖案絕緣之絕緣層。舉例而言，可在第二基板層170上形成包含金屬或透明導電氧化物(例如，氧化銦錫(ITO)、氧化銦鋅(IZO)等)之第一導電層，且可將該第一導電層圖案化以形成複數個第一感測電極。該絕緣層可被形成為至少局部地覆蓋第一感測電極。可在絕緣層上形成第二導電層，且可將該第二導電層圖案化以形成複數個第二感測電極。
隨後，可將第一基板層145及第二基板層170彼此進行層壓，以使偏振層140與第二黏合層150可彼此面對。因此，第二黏合層150可附著至偏振層140，以形成其中可組合偏振層140與觸控感測器層160之一第一疊層體180。在形成第一疊層體180之後，可自偏振層140剝離或移除第一基板層145。在某些實施態樣中，亦可在形成第一疊層體180之後移除第二基板層170。
用於第一基板層145及第二基板層170之材料可不受具體限制，且可使用具有改良之脫層性質之塑膠基板。
參照第6圖，可形成包含基底基板110、光遮蔽圖案120及第一黏合層130之第二疊層體105。
舉例而言，光遮蔽圖案120可形成於基底基板110之第一表面110a上，如此可劃分出窗口基板之顯示區及非顯示區。可藉由沈積製程、塗佈製程、印刷製程、或其組合選擇性地在非顯示區中形成為浮凸圖案(embossed pattern)之光遮蔽圖案120。光遮蔽圖案120之側壁相對於第一表面110a所成的錐角可在自約5°至約30°之範圍中。
第一黏合層130可沿光遮蔽圖案120之各表面及基底基板110之第一表面110a保形地形成。可藉由上述塗佈製程及/或印刷製程來形成第一黏合層130。
如上所述，光遮蔽圖案120相對於第一黏合層130之黏彈性比可係約75,000或更小。在某些實施態樣中，該黏彈性比可在自約3,000至約75,000之範圍中。光遮蔽圖案120相對於第一黏合層130之厚度比可係約0.6或更小。在某些實施態樣中，該厚度比可在自約0.1至約0.6之範圍中。
當在黏彈性比及厚度比之該等範圍內且更在錐角之該範圍內附著第一黏合層130時，可抑制在第一黏合層130與基底基板110之間出現氣泡，如此顯示區中之光學可靠性可得以增強。
如參照第2圖所述，第一黏合層130可被形成為具有一實質上平面暴露的表面。
參照第7圖，可將第一疊層體180與第二疊層體105彼此組合，以獲得窗口基板100。舉例而言，可將第一疊層體180及第二疊層體105彼此進行層壓，以使第一黏合層130與偏振層140可彼此面對以形成窗口基板100。隨後，可自觸控感測器層160剝離或移除第二基板層170。
根據上述方法，偏振層140可不直接形成於由光遮蔽圖案120 產生之台階部上，而是可形成於第一基板層145上且隨後被附著至第一黏合層130。因此，可防止因台階部而出現定向故障。此外，觸控感測器層160可形成於第二基板層170上，且然後可被轉移至偏振層140上。因此，在觸控感測器層160直接形成於偏振層140上或偏振層140直接形成於觸控感測器層160上時對偏振層140或觸控感測器層160造成之缺陷或損壞可得以避免。
另外，在藉由轉移製程形成包含偏振層140及觸控感測器層160之第一疊層體180之後，可將第一疊層體180黏附至包含第一黏合層130及基底基板110之第二疊層體105。因此，與針對各該層執行塗佈製程相較，可改良製程方便性，且因此，可降低生產成本。
此外，可在形成窗口基板之後移除第二基板層170，且可省略用於觸控感測器層160之其他基板，如此可達成一薄層結構。
另外，本發明提供一種包含上述窗口基板之影像顯示裝置。該窗口基板可與有機發光顯示裝置、液晶顯示裝置中所包含之顯示面板組合。該顯示面板可包含：畫素電路，其包含配置於一基板上之薄膜電晶體(thin film transistor；TFT)；畫素部或發光部，其電性連接至該畫素電路。舉例而言，窗口基板之觸控感測器層可附著於顯示面板上，且在觸控感測器層與顯示面板之間可包含其他黏合層及/或整平層。顯示面板之基板可包含樹脂，例如聚醯亞胺或塑膠。在此種情形中，可實施與窗口基板組合之撓性顯示裝置。窗口基板亦可應用於各種影像顯示裝置，例如場發射顯示裝置、電漿顯示面板裝置等。
在下文中，提出較佳實施態樣來更具體地闡述本發明。然而，以下實例僅係為了例示本發明而給出，且熟習相關技術者顯然應理解， 此等實例並非限制隨附申請專利範圍，而是在本發明之範圍及精神內存在各種變更及潤飾。此等變更及潤飾被充分包含於隨附申請專利範圍中。
實驗例1：根據黏彈性比對台階部處之氣泡產生進行評估
藉由網版印刷製程在包含聚甲基丙烯酸甲酯(polymethylmethacrylate；PMMA)之基底基板之周邊部上形成厚度為10微米之光遮蔽圖案。塗佈光學透明黏合劑材料，以形成厚度為25微米之黏合層來覆蓋由光遮蔽圖案產生之台階部。如以下表1中所列示，改變光遮蔽圖案及黏合層之儲存模數值以形成實例及比較例之樣品，且在塗佈黏合層時評估台階部處之氣泡產生。使用動態機械分析儀(dynamic mechanical analyzer；DMA)及流變儀(rheometer)來分別量測光遮蔽圖案及黏合層各自之模數。
參照表1，在黏彈性比為75,000或更小之實例中，在附著黏合層期間或之後未因光遮蔽圖案之台階部而觀察到氣泡。然而，在黏彈性比超過75,000(具體而言，80,000或更大)之比較例中，在台階部處產生氣泡而造成黏合層與基底基板間或黏合層與光遮蔽圖案間之脫層。
實驗例2：根據厚度比對台階部處之氣泡產生進行評估
藉由與實驗例1實質上相同之方法形成光遮蔽圖案及黏合層。光遮蔽圖案及黏合層之儲存模數值分別被固定為3,000百萬帕及0.04百萬帕。如以下表2中所列示，改變光遮蔽圖案及黏合層之厚度，以形成實例及比較例之樣品，且在塗佈黏合層時評估台階部處之氣泡產生。
參照表2，在厚度比為0.6或更小之實例中，在附著黏合層期間或之後未因光遮蔽圖案之台階部而觀察到氣泡。然而，在厚度比超過0.6之比較例中，在台階部處產生氣泡而造成黏合層與基底基板間或黏合層與 光遮蔽圖案間之脫層。
實驗例3：根據光遮蔽圖案之錐角對台階部處之氣泡產生進行評估
藉由與實驗例1實質上相同之方法形成光遮蔽圖案及黏合層。具體而言，光遮蔽圖案及黏合層之厚度分別被固定為10微米及25微米，且光遮蔽圖案及黏合層之儲存模數值分別被固定為3,000百萬帕及0.04百萬帕。如以下表3中所列示，藉由增加光遮蔽圖案之側壁之錐角而獲得實例及比較例之樣品，且在塗佈黏合層時評估台階部處之氣泡產生。
參照表3，在錐角為5°至30°之實例中，在附著黏合層期間或之後未因光遮蔽圖案之台階部而觀察到氣泡。然而，在錐角超過30°之比較例中，在台階部處產生氣泡而造成黏合層與基底基板間或黏合層與光遮蔽圖案間之脫層。

Claims (17)

  1. 一種窗口基板，包含：一基底基板(base substrate)，包含一顯示區及一非顯示區；一光遮蔽圖案(light-shielding pattern)，設置於該基底基板之一表面上的該非顯示區中以界定該顯示區及該非顯示區；一第一黏合層，沿該光遮蔽圖案之一表面及該基底基板之該表面形成；一偏振層，位於該第一黏合層上；以及一觸控感測器層，位於該偏振層上，其中該光遮蔽圖案之儲存模數相對於該第一黏合層之儲存模數的比值係75,000或更小，且該光遮蔽圖案相對於該第一黏合層之厚度比係0.6或更小。
  2. 如請求項1所述之窗口基板，其中該光遮蔽圖案之儲存模數相對於該第一黏合層之儲存模數的比值係在自3,000至約75,000之範圍中。
  3. 如請求項1所述之窗口基板，其中該厚度比係在自0.1至0.6之範圍中。
  4. 如請求項1所述之窗口基板，其中該光遮蔽圖案之一側壁相對於該基底基板之該表面所成的錐角(taper angle)係在自5°至30°之範圍中。
  5. 如請求項1所述之窗口基板，其中該偏振層包含一液晶層。
  6. 如請求項1所述之窗口基板，其中該第一黏合層在該顯示區上相對更厚。
  7. 如請求項6所述之窗口基板，其中該厚度比被定義為該光遮蔽圖案之厚度相對於在該顯示區上該第一黏合層之厚度的比率。
  8. 如請求項6所述之窗口基板，其中該第一黏合層具有一平面頂表面。
  9. 如請求項1所述之窗口基板，更包含夾置於該偏振層與該觸控感測器層間之一第二黏合層。
  10. 如請求項9所述之窗口基板，其中該第二黏合層具有一平面頂表面。
  11. 如請求項1所述之窗口基板，其中該基底基板包含選自由以下組成之群組之至少一者：聚醚碸、聚丙烯酸酯、聚醚醯亞胺、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚苯硫醚、聚烯丙酸酯、聚醯亞胺、聚碳酸酯、三乙酸纖維素、及乙酸丙酸纖維素。
  12. 一種製造窗口基板之方法，包含：在一第一基板層及一第二基板層上分別形成一偏振層及一觸控感測器層；對該第一基板層及該第二基板層進行層壓，因而使該偏振層與該觸控感測器層彼此面對，以形成一第一疊層體(laminate)；在一基底基板上形成一光遮蔽圖案及一第一黏合層，以形成一第二疊層體；以及對該第一疊層體及該第二疊層體進行層壓，因而使該第一黏合層與該偏振層彼此面對，其中該光遮蔽圖案之儲存模數相對於該第一黏合層之儲存模數的比值係75,000或更小，且該光遮蔽圖案相對於該第一黏合層之厚度比係0.6或更小。
  13. 如請求項12所述之方法，更包含在形成該第一疊層體之後，移除該第一基板層。
  14. 如請求項13所述之方法，更包含在形成該第一疊層體之後或在對該第一疊層體及該第二疊層體進行層壓之後，移除該第二基板層。
  15. 如請求項12所述之方法，其中該光遮蔽圖案係形成於該基底基板之一表面之一周邊部(peripheral portion)上，且該第一黏合層係形成於該基底基板之該表面上以覆蓋該光遮蔽圖案。
  16. 如請求項12所述之方法，其中該光遮蔽圖案之儲存模數相對於該第一黏合層之儲存模數的比值係在自3,000至75,000之範圍中，且該光遮蔽圖案相對於該第一黏合層之厚度比係在自0.1至0.6之範圍中。
  17. 一種影像顯示裝置，包含如請求項1至11中任一項所述之窗口基板。
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