TWI633392B - 用於電子設備的櫃子 - Google Patents

用於電子設備的櫃子 Download PDF

Info

Publication number
TWI633392B
TWI633392B TW103112953A TW103112953A TWI633392B TW I633392 B TWI633392 B TW I633392B TW 103112953 A TW103112953 A TW 103112953A TW 103112953 A TW103112953 A TW 103112953A TW I633392 B TWI633392 B TW I633392B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
cabinet
bracket
wall
patent application
scope
Prior art date
Application number
TW103112953A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201516576A (zh
Inventor
迪 伯根 大衛 喬漢娜斯 凡
Original Assignee
瑪波微影Ｉｐ公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 瑪波微影Ｉｐ公司 filed Critical 瑪波微影Ｉｐ公司
Publication of TW201516576A publication Critical patent/TW201516576A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI633392B publication Critical patent/TWI633392B/zh

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K7/00—Constructional details common to different types of electric apparatus
    • H05K7/20—Modifications to facilitate cooling, ventilating, or heating
    • H05K7/20709—Modifications to facilitate cooling, ventilating, or heating for server racks or cabinets; for data centers, e.g. 19-inch computer racks
    • H05K7/20754—Air circulating in closed loop within cabinets
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70991—Connection with other apparatus, e.g. multiple exposure stations, particular arrangement of exposure apparatus and pre-exposure and/or post-exposure apparatus; Shared apparatus, e.g. having shared radiation source, shared mask or workpiece stage, shared base-plate; Utilities, e.g. cable, pipe or wireless arrangements for data, power, fluids or vacuum
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/317—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation
    • H01J37/3174—Particle-beam lithography, e.g. electron beam lithography
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K7/00—Constructional details common to different types of electric apparatus
    • H05K7/20—Modifications to facilitate cooling, ventilating, or heating
    • H05K7/20009—Modifications to facilitate cooling, ventilating, or heating using a gaseous coolant in electronic enclosures
    • H05K7/20136—Forced ventilation, e.g. by fans
    • H05K7/20145—Means for directing air flow, e.g. ducts, deflectors, plenum or guides
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K7/00—Constructional details common to different types of electric apparatus
    • H05K7/20—Modifications to facilitate cooling, ventilating, or heating
    • H05K7/20709—Modifications to facilitate cooling, ventilating, or heating for server racks or cabinets; for data centers, e.g. 19-inch computer racks
    • H05K7/20763—Liquid cooling without phase change
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/30—Electron or ion beam tubes for processing objects
    • H01J2237/317—Processing objects on a microscale
    • H01J2237/3175—Lithography
    • H01J2237/31793—Problems associated with lithography

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Computer Networks & Wireless Communication (AREA)
  • Cooling Or The Like Of Electrical Apparatus (AREA)
  • Insertion, Bundling And Securing Of Wires For Electric Apparatuses (AREA)
  • Casings For Electric Apparatus (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

一種用於容置電子設備(46)的櫃子(10)。該櫃子包括一具有一開口(24)在一通行側(23)及一相對於該通行側之第二側(17)的罩殼(12)、一電子設備支架(40a)、一介於該通行側及該支架之間的第一充氣空間(35)、及一和該第二側及該第一充氣空間流體式連結的通道(36)。該櫃子包覆一和該電子設備熱式連結的第一冷卻介質(27)。一冷卻配置(29)被設置在該第二側，其包括一用於產生從該第一充氣空間橫越過該電子設備朝向該第二側(17)之該第一冷卻介質之一流量(Φ f)的流量產生器(30)、及一用於從該第一冷卻介質抽出熱量的熱交換器(31)。該第一冷卻介質接著經由通道再循環至該第一充氣空間。

Description

用於電子設備的櫃子
本案發明係有關一種用於容置電子設備的櫃子、一種用於冷卻電子設備的電子設備櫃子、及一種具有此種櫃子的蝕刻單元、及一種蝕刻系統。此外，本案發明係有關一種用於冷卻在一櫃子內之電子設備的方法。
電子設備在操作期間會產生相當大量的熱。如果熱量產生速率超過該系統熱量消散的能力，則超出的熱量會快速地導致構件失效及/或系統停機。隨後便需要冷卻設備來防止設備燒毀。由於設備內的空間受限，電子設備通常被堆疊在相鄰成列配置的支架內。此些支架通常係被保護該設備避開灰塵、溼度及其他環境作用的櫃子包覆。不幸地是，該櫃子的隔離作用亦降低了被包覆之電子設備可允許的熱量產生率。因此，在一已知的電子櫃子結構中，該櫃子的內部提供有一封閉迴路冷卻系統，用於在操作期間冷卻該等電子構件。在此冷卻系統中，一像是空氣的冷卻媒介在一大致為水平之平面循環的一封閉迴路空氣流中被內部地循環。此已知的系統包括一側面裝設的風扇及熱交換器配置，用以循環及冷卻空氣。該風扇可轉動來產生沿著及/或通過該等電子構件的循環氣流。由該設備所產生之熱量的一部分被傳送到通過的氣流。該氣流吸收某些熱量，並將此些熱量 從該設備傳送離開，造成該設備被冷卻。該熱交換器使部分的熱能可從該氣流被抽出，藉此將多餘的能量從櫃子抽出，並避免熱量累積及造成溫度在櫃子內部上增加。一第二冷卻流體(例如是一種具有高熱容量的液體)在該熱交換器內提供之流體迴路裡循環，此第二流體和該流動空氣熱交流。介於該空氣及該第二冷卻流體之間的熱能傳遞造成加熱空氣的冷卻。導致被加熱的第二冷卻流體可接著從該熱交換器被排放出，並在該櫃子外部的位置被冷卻，同時被冷卻的氣流重新被循環回到該電子設備。不幸地是，此類櫃子之相鄰成列的配置會有相當大的周邊。
可能會想要提供一種冷卻櫃子，其中電子構件及冷卻機構的內部配置被最佳化為一相鄰的櫃子配置具有最小的佔地面積。
因此，依據一第一觀點，於此提出一種用於容置電子設備的櫃子，其中該櫃子包括：-一罩殼，其包括一具有一開口用於通達該罩殼之內部的通行側，及一相對於該通行側的第二側；-一支架，其用於容置在該罩殼內的該電子設備，且被設置在該罩殼中，用以界定一介於該通行側及該支架之間的第一充氣空間；其中，該櫃子被配置成包覆一和該電子設備熱式連結的第一冷卻介質；-一流量產生器，用於產生從該第一充氣空間橫越過該電子設備朝向該第二側之該第一冷卻介質的一流量；-一熱交換器，用於從該第一冷卻介質抽出熱能；其中該熱交換器及該流量產生器被設置在或靠近該罩殼的該第二側，及其中該罩殼包括一通道，其和該第二側及該第一充氣空間流體式連結，用以將該第一冷卻介質從該第二側再循環至該第一充氣空間。
對本文中所使用的某些用詞做一些界定，可能對了解本案發明是會有幫助的。該用詞〝電子設備〞係指任何包括有一或多個熱產生構件的設備(例如是電腦系統、光電系統、光系統等等)。
該用詞〝(電子)支架〞於本文中係指任何框架、底架或被裝設在直立的支撐件上用於裝設數個電子設備單元的承架組合。電子設備的高度被標準化以確保一整數之所謂的〝支架單元〞。一支架單元被縮寫為〝U〞，且具有一44.45mm(1.75吋)的數值。在罩殼中之該支架或多個支架可被選擇以符合國際19吋支架標準IEC60297-3-100。一19吋的支架是一種用於裝設電子設備單元之標準化的框架或罩殼，各具有一為19吋(482.6mm)全寬度的前面板。在罩殼中的該支架或多個支架可大體上沿著該罩殼內部的整個高度延伸。
環繞該支架的〝罩殼〞或封殼可有不同的尺寸及形狀。該〝通道開口〞(或〝前開口〞)使被容置在該櫃子內部的電子設備可有容易通的通道。該罩殼可包括有一或多個用於關閉該通道開口的門。較佳地是，在該櫃子的一操作位置處僅有單一個通道開口可通行。
用詞〝熱交換器〞或〝該熱交換裝置〞於本文中係指一熱交換器機構，其被配置成由至少一種冷卻介質(例如是一流體)以如下的方式通過，該方式為此冷卻介質會將熱能傳送到該熱交換器的一表面而不會有化學反應或被吸收。一熱交換器亦可被配置成至少由二種冷卻介質(例如是一氣體及一流體))以如下的方式操作，該方式為此些冷卻介質會保持物理式分隔開(即不會混合)，同時使他們之間可有熱能的傳送。該熱交換器可包括有一或數個串聯或並聯連結的熱交換單元。各熱交換器可包括有用於該第一 冷卻介質的第一流動路徑，及用於該第二冷卻介質(由對該第一冷卻介質是不可滲透的壁部界限)的第二流動路徑。本文中所說明之該熱交換器的配置及結構可在不脫離本案發明的範圍下變化。該熱交換器及流量產生器於本文中一起被稱為〝冷卻配置〞。
用詞〝縱向通道〞或〝通道〞於本文中係指一在該罩殼內部的廊道或流體通道，其提供介於該第一充氣空間及在該罩殼之第二側的該冷卻配置之間的流體連接。該第一冷卻介質可在介於該罩殼的第二側(背側)及通行側(前側)之間以一縱向流通過此通道，而不會越過電子設備及和其實質地交換熱能。所建議的縱向冷卻配置可使該罩殼的一寬度為最小的，其特徵在於該背後被裝設的流量產生器及熱交換器組合，用於引起一封閉迴路水平地循環該第一冷卻介質流動通過該通道，進入該第一充氣空間，然後橫越過該電子設備背部，朝向該流量產生器及該熱交換器。此外，針對相鄰配置而形成一櫃子列的多個此等櫃子，用於鄰接櫃子的熱交換器排放機構可沿著其等的第二側(例如是至一用於一第二冷卻介質的歧管)被簡單地互相連接，而不需要相當數量的管道及連接器。針對不須從背部通過的櫃子，二個此類的櫃子列可有效益地不會增加維護需求地背對背配置成具有一最小周邊的櫃子組。該縱向冷卻配置的另一優點為該櫃子的高度不須延伸來併合該冷卻配置，其在介於該櫃子及一設置在上面的一結構之間的空間是有限(不論是實際受限於一天花板，或是受限於一離照明設備、自動灑水滅火系統等之規定的最小距離)的情況下是有利的。依據本案之此觀點的櫃子因此能有一緊密聚集之側向鄰接配置，其減少針對一給定數目之櫃子所需的周邊或佔地面積。
依據一實施例，該支架包括相對的側支架壁，其中至少一側支架壁包括一界定該通道之一直立邊界的大體上為閉合的面板。依據另一實施例，該側支架壁包括一面向該通道的一外壁部分及一面離該通道的內壁部分，且包括一凹陷廓形。該凹陷廓形可包括一頭壁部分及一凹陷壁部分，該凹陷壁部分和該頭壁部分平行及相對齊平，且被配置成容置一用於將一承架固定至該內壁部分的承架裝設件。所產生的支架壁在一壁側界定出一冷卻流體通道邊界，及有效地容置設備(以標準的尺寸)於一相對的壁側，同時最小化由該櫃子做為一整體所佔取之需求的側向空間。
較佳地是，該熱交換器及該流量產生器大體上地延伸覆蓋該罩殼的整個第二側。此結構可有一分隔開之冷卻及流量產生模組的構造，其係可例如藉由使用一冷卻器框架適切地裝設在該罩殼之該第二側內部或在該櫃子上，該冷卻器框架覆蓋在該第二側上的一開口，並跨越該櫃子的後壁部。此種模組構造降低了維護需求。完全延伸覆蓋該第二側的一熱交換器及流量產生器最大化了可達成的冷卻及流量率，並允許產生一相當均勻之被冷卻的空氣流分配。
在某些實施例中，該通道界定出一具有一通道高度的直立間隙，其中該直立間隙從該櫃子之該第二側延伸至在該通行側之該通氣空間。此一直立及縱向的通道使該第一冷卻介質的該閉迴路水平循環流量可僅稍微地變動，亦即以沿著該直立方向保持相當均勻。
在另一實施例中，該櫃子具有一沿著一直立方向被界定在該頂壁及該底板的內部表面之間的內部高度，且其中該通道高度係相等於該罩殼的該內部高度。在另一實施例中，該第一通氣空間具有一相等於該櫃 子的該內部高度的通氣空間高度。較佳地是，該內部罩殼高度、該通氣空間高度、及該通道高度全皆相等。
依據一實施例，該櫃子包括被配置在該櫃子內側且係和該支架側向地分隔開的另一支架，藉此沿著該櫃子之一縱向中心線界定介於該支架及該另一支架之間的該通道。較佳地是，該支架及該另一支架的鄰接側壁包括界定該通道之直立及縱向邊界的閉合面板。
依據一實施例，該櫃子包括沿著該通道之一前通孔被配置在該第一充氣空間中的一流量引導樑，用以將該第一冷卻介質的該再循環的流量引導進入該第一充氣空間中。
該流量引導樑亦可容置用於該電子設備的電力及/或信號電纜線。藉由結合該等引導空氣流及導引電纜線至設備上的個別連接插座之該等功能，在該罩殼中可取得的空間被最佳地應用。此流量引導樑將所需要的電纜線導引至對應的設備位置，該等電纜線在該處離開該樑，並被連接至該電子設備的一前側。藉由配置該等電纜線及在該櫃子之前側之用該設備的連接件，用於從該櫃子之第二側通達該設備(例如在維護期間)的需求被避免或至少被降低。該引導樑有效地整合導引電纜線至個別的電子設備及降低在進入該第一通氣空間之空氣流中的紊流之兩種功能。
依據一實施例，該第一冷卻介質為一氣體，其中該熱交換器為一氣體對流體的熱交換器，被配置用於將該熱能傳送至一包括一流體的第二冷卻介質。較佳地是，該氣體為空氣，及該第二冷卻介質為水。
依據一實施例，該氣體對流體的熱交換器被連結至一用於將該第二冷卻介質輸送出該櫃子的流體迴路。
就多個櫃子而言，各具有一被設置在一背側的熱交換器，一緊密組合之背對背配置可有該熱交換器對一冷卻流體迴路歧管之一有效率的連接。較佳地是，該流體迴路循環一冷卻劑及水其中之一。
依據一實施例，該氣體對流體的熱交換器為一管類型的熱交換器，被設置在該櫃子中靠近該第二側，以界定一介於該熱交換器及該櫃子的一後壁之間的第二充氣空間，且其中該流量產生器包括至少一被設置在該第二充氣空間中的風扇。
替代性地或額外地，該熱交換器可包括一熱電式裝置，例如是一帕耳帖(Peltier)元件。
依據一實施例，該支架包括相對的側壁，其中至少一側壁包括一界定該通道之一邊界的大體上為閉合的面板。
該閉合的面板不需其他的構造元件來界定該通道之一邊界，並將流越過在該支架內部的該電子設備之被加熱的空氣保持和通過該通道流回之被冷卻的空氣分隔開。該等相對的側壁可由包括一金屬之實心的面板片形成，該金屬較佳地是不銹鋼、鍍鋅鋼、及粉末塗覆鋼中的一種。
依據一實施例，該第一充氣空間包括一在該罩殼的一側壁之直立凹槽，用以沿著一直立方向容置用於電子設備的電纜佈線。
該側向的直立凹槽將所需要的電力及/或信號電纜線導引至對應的設備，而不會阻擾在該罩殼中的流體流，且特別是不會引發在該第一充氣空間中之空氣流中的紊流。在個別的設備位置，該等電纜線離開將被連接至一對應之電子設備單元的一前側的該直立凹槽。藉由將用於該設備的該等電纜線配置在該櫃子的前面，使得從該櫃子之該第二側通達該設 備(例如在維護期間)的需求被避免或至少被降低。
在另一實施例中，該櫃子可具有至少一從該直立凹槽岔離開的電纜線管道，其中該至少一電纜線管道係由被裝設在該罩殼之一外側的該側壁上的一管道所形成的。
依據另一實施例，該櫃子包括一底板通孔，用以將被容置在該直立凹槽中的電纜佈線引導至該櫃子的一下部外側。
依據一實施例，該櫃子包括至少一沿著該櫃子之底板於一縱行方向被配置的軌道及線性軸承件。
藉由提供在該櫃子之底板上的軌道及/或軸承件，該櫃子可容易地被定位在一下面的單元(例如是一蝕刻系統的真空單元)上及從該下面的單元被移除，以助於裝設及維護。
此外，該熱交換器及流量產生器可被組合入一冷卻器框架中，該冷卻器框架亦包括沿著一下面的框架沿著一縱行方向被配置的線性軸承件。此冷卻器框架可因而被分隔開地定位在該下面的單元上及從該下面的單元被移除，以助於該櫃子的裝設及維護，而不必將該冷卻器框架從該下面的單元移除。
依據一實施例，該櫃子包括一溫度感測器，該溫度感測器被配置用於量測一在該罩殼中的溫度，及用於產生一代表該溫度的溫度量測信號。
替代性地或額外地，該櫃子可包括一流量感測器，該流量感測器被配置用於局部地量測在該罩殼中的該流體流量，及用於產生一代表該流體流量的流量量測信號。
該櫃子可進一步具有一用於控制一流量產生器產率(例如是一風扇轉動速度)的控制單元。依據由該溫度感測器所產生的該溫度量測信號，或是由該流量感測器所產生的該流量量測信號二者擇一，或是二者，一流量產生器產率(例如是該等風扇的轉動速度)可被調整，以便控制在該罩殼內部之該第一冷卻介質(例如是空氣)的循環。一溫度增加及/或一流量減低的量測可造成該控制單元啟動在該罩殼內部之該流量產生器產率的一補償式調整。如果在該罩殼內部的溫度或流體流量分別地升高過一預定的臨界溫度值，或低於一預定的臨界流體流量值，則隨後該控制單元可產生一警告一操作者的臨界指示信號。該臨界指示信號可例如是一聲響警告、一在該罩殼之一前面板上的視覺指示、或可引起一對該蝕刻單元自動的關機程序。
依據一第二觀點，及依據本文先前所說明的優點及作用，於此提出一種蝕刻單元，其包括：-一真空腔室，及-一依據該第一觀點之諸實施例之用於容置電子設備的櫃子。較佳地是，該櫃子係被設置在該真空腔室的頂側。該櫃子可例如是被固定式地或可移動式地設置在該真空腔室的頂部。
依據一實施例，其中該櫃子係被設置在該真空腔室的頂側，該真空腔室沿著一縱行方向具有在一頂側的線性軸承構件或軌道。
依據一第三觀點，於此提出一種蝕刻系統，其包括至少二個依據本案發明之該第二觀點的蝕刻單元，其中該等蝕刻單元被背對背配置，以被背對背配置之蝕刻單元之個別櫃子的該等第二側面向彼此。
依據一第四觀點，於此提出一種用於冷卻電子設備的方法， 其包括：-提供在被容置於一櫃子內側之一支架中的電子構件，該櫃子包覆一和該電子設備熱式連結的氣體式第一冷卻介質；-將該第一冷卻介質從該櫃子的一通行側循環橫越過該電子設備，藉此將熱能從該電子設備傳送至該第一冷卻介質；-以一被設置在該櫃子之一第二側的熱交換器冷卻該第一冷卻介質，藉此從該第一冷卻介質將熱能傳送出該熱交換器及該櫃子；-從該第二側將該第一冷卻介質經由在該櫃子之內側的一通道再循環至一被設置於該支架及該通行側之間的第一充氣空間，藉此在該通行側提供被冷卻的第一冷卻介質。
依據一實施例，該熱交換器包括有一第二冷卻介質，其中以該熱交換器冷卻該第一冷卻介質的作用包括：-將熱能從該第一冷卻介質傳送至該第二冷卻介質，及-將該第二冷卻介質運送出該熱交換器及該櫃子。
依據一可為另一申請標的之觀點，提出一種容置電子設備的櫃子，其中該櫃子包括：-一罩殼，其包括一具有一開口用於通達該罩殼之內部的通行側，及一相對於該通行側的第二側；-一支架，其用於容置在該罩殼內的該電子設備，且被設置在該罩殼中，用以界定一介於該通行側及該支架之間的第一充氣空間；其中，該第一充氣空間包括一位在該罩殼的一側壁之直立凹槽，用以沿著一直立方向容置用於該電子設備的電纜佈線。
1‧‧‧蝕刻系統
2a-e‧‧‧蝕刻單元
4a-e‧‧‧真空腔室
5‧‧‧頂側
6‧‧‧介面壁
7‧‧‧凹陷區段
8‧‧‧線性軸承構件(軌道)
10a-e‧‧‧櫃子
12‧‧‧罩殼(封殼)
14‧‧‧腔室
16a-b‧‧‧側壁
17‧‧‧第二側(後側)
18a-b‧‧‧後壁
20‧‧‧頂壁
22‧‧‧底板
23‧‧‧通行側
24‧‧‧開口
26a-b‧‧‧櫃門
27‧‧‧第一冷卻介質(例如氣體/空氣)
28‧‧‧流量引導樑(電力條)
29a-b‧‧‧冷卻器框架
30‧‧‧流量產生器
31‧‧‧熱交換器
32‧‧‧氣通孔
33‧‧‧第二冷卻介質(例如流體)
34‧‧‧流體管道
35‧‧‧第一充氣空間(前充氣空間)
36‧‧‧通道(廊道、中央空隙)
37‧‧‧櫃通道通孔
38‧‧‧直立凹槽(電纜線溝槽)
39‧‧‧第二充氣空間(後充氣空間)
40a-b‧‧‧支架
41‧‧‧冷卻器框架通道通孔
42a-b‧‧‧支架壁
43a-b‧‧‧相對支架壁
44‧‧‧承架
45‧‧‧底板通孔
46‧‧‧電子設備
47‧‧‧電子構件
48‧‧‧前入口
49‧‧‧盲板
50‧‧‧後出口
51‧‧‧空氣供應開口
52‧‧‧溫度感測器
53a-b‧‧‧風扇裝設板
54‧‧‧流量感測器
56‧‧‧控制單元
58‧‧‧第一彎曲電纜線管道
59‧‧‧第二彎曲電纜線管道
60‧‧‧第三彎曲電纜線管道
62‧‧‧管道通孔
63‧‧‧底板管道通孔
64‧‧‧彎曲引導壁(金屬條)
66a-c‧‧‧電纜佈線
70a-e‧‧‧負載鎖定系統
72‧‧‧基板供應系統
74a-e‧‧‧腔室門
76a-e‧‧‧基板傳送系統
70a-d‧‧‧風扇裝設架
78‧‧‧流體供應管道
79‧‧‧流體排放管道
80‧‧‧冷卻歧管
81‧‧‧通道壁部分
82‧‧‧壁頭
84‧‧‧頭壁部分
86‧‧‧後縮壁部分
88‧‧‧凹陷壁部分
90‧‧‧承架裝設件(裝設條)
92‧‧‧承架連接件(螺栓)
93‧‧‧另一承架連接件(螺孔或螺帽)
94‧‧‧設備面板
96‧‧‧面板連接件(螺栓)
97‧‧‧另一面板連接件(螺孔或螺帽)
98‧‧‧設備側壁
110‧‧‧電源供應插座
112‧‧‧電源插座
114‧‧‧保險絲
116‧‧‧電源監測指示器
120‧‧‧習知技術支架
122‧‧‧支柱
124‧‧‧L形裝設托架
126‧‧‧裝設托架連接件
128‧‧‧支撐托架
130‧‧‧直立凸緣
132‧‧‧支撐托架連接件
Φf‧‧‧氣體流量
Φ1‧‧‧液體流量
T‧‧‧櫃子內部溫度
X‧‧‧縱行方向
Y‧‧‧橫行方向
Z‧‧‧直立方向
Q‧‧‧熱能(熱)
Hr‧‧‧支架高度
Hc‧‧‧通道高度
Hp‧‧‧充氣空間高度
Hi‧‧‧櫃子內部高度
W1‧‧‧設備寬度
W1*‧‧‧頭內寬度
W2‧‧‧空間寬度
W3‧‧‧凸緣寬度
W3*‧‧‧頭寬度
W4‧‧‧面板寬度
W5‧‧‧額外寬度
僅藉由範例，參考隨附概略圖式，現將說明諸實施例，於圖中相似的參考符號標示相似的部件，且其中：圖1概略地顯示依據一實施例之一蝕刻系統的一立體視圖；圖2展現依據一實施例之一櫃子的一俯視橫斷面視圖； 圖3顯示依據一實施例之一櫃子的前視圖；圖4顯示依據一實施例之一櫃子的一冷卻器框架的一立體視圖；圖5a及5b概略地顯示依據一實施例之一複合式蝕刻系統或群組的一俯視圖及一橫斷面側視圖；圖6概略地顯示依據一替代實施例之一櫃子的一立體視圖；圖7概略地顯示依據又一實施例之一櫃子的一立體視圖；圖8顯示依據另一實施例之一櫃子的一前立體視圖；圖9顯示依據顯示於圖8中之該實施例之一櫃子的一部分前立體視圖；圖10a顯示依據該19吋標準之一習知技術設備支架的一俯視橫斷面視圖；圖10b顯示依據本案發明之一實施例之一設備支架的一俯視橫斷面視圖；圖11顯示依據一實施例之一櫃子的一流量引導樑的一前立體視圖；圖12顯示依據一實施例之一櫃子的立體視圖；該等圖式僅係用於圖示說明的目的，且並不做為如申請專利範圍所呈現之範圍或保護的限制。
圖1概略地顯示二蝕刻單元2a、2b(通常係以參考符號2標示)之一串聯配置的一立體視圖，其等係以一鄰接的方式被相鄰配置。
於該等圖中，不同的方向被標示用於界定被說明之物件的位置、定向及運動。於該等圖示中被顯示及本文中被說明的範例實施例中，X被用於標示一縱行方向。介係詞〝前面〞及〝後面〞相關此縱行方向X。此外，Y被用於標示一垂直於X的橫行方向。在該等範例蝕刻單元2及櫃 子10的使用期間，該縱行方向X及橫行方向Y延展成一較佳地係大體上平行於水平面的平面。Z被用於標示一垂直於X及Y的直立方向。介係詞〝上面〞及〝下面〞相關此直立方向Z。可瞭解到本文中所談論之本案發明的觀念並不受限於此些方向性的定義及較佳的定向。
各蝕刻單元2包括一位在一下側的真空腔室4a、4b(通常係以參考符號4標示)及一被設置在各真空腔室4上方的櫃子10a、10b(通常係以參考符號10標示)。線性軸承構件或軌道8被設置在各真空腔室4的頂部，其等形成用於協助方便將對應之櫃子10設置在該真空腔室4之頂部上，或將該櫃子10移開至一(如在圖1中以朝前被移位之櫃子10b所圖示說明之)維修位置的引導機構。各櫃子10包括有一可閉合的罩殼或封殼12，其界定一內部，並容置一對側向分隔開的支架或框架40a、40b(通常係以參考符號40標示)。各支架40攜載多個用於容置電子設備46的承架44a至44d(通常係以參考符號44標示)。電子設備46可因而被容置在該櫃子10中。各櫃子10在該櫃子10之一第二側或後側的一區域中具有一空氣對流體的冷卻機構，該冷卻機構包括有一空氣循環器30及一熱交換器配置31。該熱交換器31及該流量產生器30延伸越過該整個後側或第二側17，並被裝設在被定位於該後側17之一個別的冷卻器框架29a、29b(通常係以29標示)中。該罩殼12及該冷卻器框架29係可分開地安裝在該等軌道8上，且係可沿著該等軌道8被重新定位的。所得到的模組結構改善了個別構件的通達性，及降低維護需求。
櫃子
圖2及3概略地顯示依據一實施例之一櫃子10的一俯視橫 斷面視圖及一前視圖。該櫃子10包括用於容置該電子設備46的該罩殼12。如被顯示於圖2及3中的，該櫃子10具有一通行側或前側23、一後壁18、一第一側壁16a、一相對於該第一側壁16a的第二側壁16b、一頂壁20、及一底板22。該櫃子10的該前側或通行側23界定有一開口24，其提供通達該櫃子10內部的通道，並包括有二個用於以一密封方式覆蓋該開口24的櫃門26a、26b。該櫃子10的該等側壁16至22及櫃門26係由實體面板所形成的，其等防止空氣從周圍環境進入該櫃子10中。一串聯之側向分隔開的支架40a、40b被提供在該櫃子10的內部中。各支架40被具有承架44，其等在該櫃子10的使用期間，被駐填有各種電子設備46a、46b。各支架40具有被設置在各支架40之側向側面上及延伸於縱行及直立方向X、Z的支架壁42a、42b。該等承架44係水平地懸吊於該等支架壁42之間，且可以任何想要的配置方式被直立地重新定位，以致各種不同高度的電子設備46可以任何想要的配置方式被裝設在該罩殼內部。該電子設備46包括有其操作涉及電荷載體之運動的電子構件47。該等電子構件47產生熱，且典型地需要冷卻來防止構件及系統失效。該等電子構件47可不受限地包括任意數量的電源供應設備、積體電路、記憶模組、磁性或光性、固態儲存媒體、音訊硬體及/或視訊硬體。該等支架40可例如支撐典型地包括有一或多個處理器、記憶模組、資料儲存機構、及網路控制器的伺服器。
該等罩殼壁16至22及櫃門26被配置用於將該罩殼12保持大體上是氣密的。沿著該縱行方向X觀看，各支架40界定有介於和該支架40之一前側及一後側相連結之該等承架44之間的前入口48及後出口50。此些前入口48及後出口50初始時是打開的，但是在設置有各種不同的電子 設備46之後，便成為大體上是關閉的。各電子設備46可具有他們自己的空氣供應及排放開口(於圖3中以參考符號51標示)，以抽入及排出冷卻該等內部之電子構件47所需要的空氣27。任何未被一電子設備46設置的承架44可在前及/或後支架上以盲板(於圖3中以參考符號49標示)被覆蓋，以便阻擋在該支架40內部的縱向部分通道，並避免空氣27流通過此等通道。
具有空氣通孔32的二個熱交換器31被設置在於該氣體流量Φf中之該櫃子10的一後側17，從而並做為吸收及因而從自該後出口50散發及進入該氣通孔32之該流動的空氣27中移除熱能或熱Q。該等熱交換器31延伸覆蓋幾乎該罩殼12的整個後側17，以提供一允許一係相當均勻分布之高冷卻率的大型熱交換器區域。各熱交換器31提供有沿著該橫行方向Y之一線性網狀的流體管道34，其等界定介於各對相鄰接管道34之間的氣通孔32。一在該流體管道34內部流動的第二冷卻介質33包括水，且該等熱交換器31為空氣對水之類型的熱交換器。該熱交換器31被連結至一封閉迴路的流體迴路(未被顯示出)。該等管道類型的熱交換器31被裝設在該冷卻器框架29內部，該冷卻器框架29係被設置抵靠該罩殼12的後側17。該冷卻器框架29的背部界定該櫃子10的一後壁18。一第二充氣空間(或〝後充氣空間〞)39係界定在該熱交換器31及該後壁18之間。該第二充氣空間39可具有漏斗結構。
多個風扇30被提供在該冷卻器框架29之該後充氣空間39的內部，並靠近該後壁18。該等風扇30被配置用於以一方式產生一在該罩殼12中的空氣27流量Φf，該方式為該空氣27循環橫越過在該等支架40中的一或多個電子構件47。該等風扇30被設置在該等熱交換器單元31的 該等空氣通孔32及管道34後面。該第二充氣空間39可包括將空氣流從該等空氣通孔32引導進入各風扇30之作用流產生區域的漏斗結構或由該等漏斗結構所界定的。
一縱向空氣返回通道36(在此範例實例中)係由一介於該第一支架40a的該第二支架壁42a及該第二支架40b的該附近的第一支架壁42b之間的空間所形成的。支架壁42a、42b係由沿著縱行及直立方向X、Z界定該通道36的邊界之大體上為閉合的面板所形成的。
在圖2及3的實施例中，該通道36界定一具有一矩形水平的橫剖斷面的空隙，其於縱行方向X從該第二充氣空間39延伸至該第一充氣空間35。該空隙36亦具有一界定一通道高度Hc之矩形直立的橫剖斷面，該通道高度Hc大體上是等於被界定介於該頂壁20及該底板22的內表面之間之該罩殼12的內部高度Hi。該第一充氣空間35具有一亦等於該櫃子12之內部高度Hi的充氣空間高度Hp。
一流量引導樑28被提供在靠近該前櫃門26之該第一充氣空間(或前充氣空間)35的中心，其於直立方向Z延伸介於該底板22至該頂壁20的內表面之間。該流量引導樑28具有一用於容置用於該電子設備46的電力及/或信號電纜佈線66b的內部空間。該流量引導樑28將該等所需要的電纜線66b導引至相對應的設備位置，於該處該等電纜線脫離該樑28，且被連接至該電子設備46之被選定的前側。因此，該樑28有效率地結合引導氣體流量Φf及導引電纜線66b至在該設備46上之個別的連接插座的功用。
該前充氣空間35包括有一在該罩殼12之一側壁16b的直立凹槽38，用於沿著該直立方向Z容置用於該電子設備46的其他電纜佈線 66c。如圖1至3中所顯示的，該直立凹槽38界定一形成靠近側壁16b之該前充氣空間35的一側向部分之立方形孔穴。該直立凹槽38大體上沿著該罩殼12的整個側壁16b直立地延伸，且具有一大體上是等於該前充氣空間35的該充氣空間高度Hp的高度。此直立凹槽38的上及下凹壁以及一前凹壁及一後凹陷壁68係在該第一充氣空間35的突出部中，同時一側向的凹壁隔離介於其前及後壁之間的空間。該側向的直立凹槽38可將信號及/或電力電纜線66c導引至該電子設備46，及自該電子設備46導引出信號及/或電力電纜線66c，而不會阻擋到在該罩殼12的氣體流量Φf，且特別是不會引發在該前充氣空間35中之該氣體流量Φf中的紊流。在個別的設備位置，該等電纜線66c脫離該直立凹槽38，以形成和一對應之電子設備單元46之一前側的連接。藉由配置在該櫃子10之該前側之用於該電子設備46的該等電纜線66a、66c及連接，用於(例如在維修期間)從該櫃子10之後側17通達該電子設備46的需求被排除了。較佳地係僅被包括在該櫃子10的一側向側，但可被包括在該櫃子10之各側向側的該凹槽38，係設置有電纜線固緊機構。
靠近該凹槽38的一底部，該櫃子10包括有一在該底板22的底板通孔45，用於引導該電纜佈線66c離開該櫃子10。此等使該等電纜線66c及類似者，可如在不同的應用中所要求的，在該櫃子10的下面被引導，例如用於導引電纜線66c至該櫃子10的後側。該等底板通孔45僅被包括在該前空間35的側向側，藉以保持通暢及用於在該櫃子10中之最下面的設備46的完全自由度。若該櫃子10形成一蝕刻系統的部分(例如是參考圖5a及5b所說明的)，該等電纜線66c可以側朝內的方向被引導在該櫃子10的下面及頂靠該櫃子10，以岔離至一蝕刻真空腔室的一相關通達端口。
多條彎曲電纜線管道或溝槽58、59在不同的高度岔離該直立凹槽38。在圖1的實施例中，各該等彎曲電纜線管道58、59係由被裝設至在該罩殼12之外側上的該側壁16b的金屬板片所形成的，藉以界定一具有一矩形橫剖斷面的彎曲通道。該等彎曲電纜線管道58、59使該等電纜線66c的一被要求的部分能被引導至在該櫃子10之下面及外面的位置，該等位置係相對該底板通孔45被分佈於該縱行方向X。該直立凹槽38及該等彎曲電纜線管道58、59形成一用於一櫃子10之有效率的電纜線分布配置，該櫃子10係可裝設在一下面結構的頂部，該等電纜線66c係被用來在不同的位置被連接至該結構，該結構例如是被顯示在圖1中之該蝕刻單元2中的該真空腔室4。
被顯示在圖2中的該櫃子10包括有一溫度感測器52，該溫度感測器52被配置用於量測一在該罩殼12中的溫度T，並用於產生一代表該溫度T的溫度量測信號。依據該溫度量測信號，一高溫指示可被提供，其在該罩殼12中之溫度升高的情況下警告該操作者。該高溫指示可例如是採用一聲響警告或一在該罩殼12之一前面板上的視覺指示的形式。此外，被顯示在圖2中的該櫃子10包括有一流量感測器54，該流量感測器54被配置用於局部地量測在該罩殼12中的該空氣流量Φf，及用於產生一代表該流體流量Φf的流量量測信號。該溫度感測器52及該流量感測器54和一控制單元CU信號相連結。該控制單元CU進一步和該等風扇30信號相連結，且被配置用於控制風扇轉動速度。依據該溫度量測信號或該流量量測信號(或二者)，該風扇轉動速度可被調整，以調整在該罩殼12中之該空氣流量Φf的大小。
冷卻器框架
圖4顯示依據參考圖1至3所說明之實施例的一櫃子10之一模組式冷卻器框架29的一立體後視圖。該流量產生器30及該熱交換器31被整合入該冷卻器框架29，該冷卻器框架29係可相對該罩殼12被可分離式地重新定位的。該可重新定位的冷卻器框架29大體上延伸過該罩殼12的該整個後側17，以覆蓋該後側17，並形成該櫃子的一後壁18。
該冷卻器框架29被顯示成該後壁18被移開，以顯露出被該流量產生器30之直立風扇裝設板53a、53b包圍出的後充氣空間39。該等直立風扇裝設板53a、53b包括有四個用於裝設相當數量之氣體循環風扇30a至30d(未被顯示出)的風扇安裝區域70a至70d。具有徑向朝外彎曲之風扇葉片的範例式氣體循環風扇30a至30d被顯示在接著圖11之後的附加圖式中。具有氣通孔32a、32b及流體管道34的該熱交換器31被提供在該等風扇裝設板53a、53b面向該正縱行方向+X的一側上(在圖4中看不見)。該等風扇安裝區域70a至70d包括有被適當地構形的流體運送通孔，其等使該等氣體循環風扇30a至30d能將該氣體(第一冷卻介質)27，沿著該等流體管道34運送通過氣通孔32，進入該後充氣空間39。該等流體管道34被連接至一流體供應管道78及一流體排放管道79。該等流體供應及排放管道78、79可被連接至一用於該第二冷卻介質33之遠方的供應/排放及抽吸機構(例如是一冷卻歧管)，其使該第二冷卻介質33能被供應至、循環通過該流體管道34，及接著從該流體管道34被排放。一具有於該直立方向Z之一細長矩形的冷卻器框架通道通孔41被側向地提供在該等直立風扇裝設板53a、53b及風扇安裝區域70a至70d之間。
該冷卻器框架29例如藉由軌道8，相對該櫃子罩殼12係可被重新定位式地裝設。該冷卻器框架29面向該正縱行方向+X的側面被配置成定位抵靠該罩殼12的該後側17，以該等氣通孔32a、32b被定位抵靠該等支架40a、40b的後側，及以該冷卻器框架通道通孔41的一邊緣被定位抵靠鉤勒出該通道36的廓形之對應的側支架壁42a、42b。密封構件可被提供環繞該冷卻器框架通道通孔41、該等氣通孔32a、32b、及在該罩殼12上之該等的互補接合表面中的任一個(或全部)。例如，矩形狀的O形環或C形環可被提供環繞該冷卻器框架通道通孔41及該等氣通孔32a、32b。
圖12顯示類似於顯示於圖4之一櫃子之一實施例的立體視圖；
冷卻方法
由依據本案發明之第一觀點的該櫃子10所執行之各種不同的功能可被理解為，一種對應本案發明之第四觀點(的各種實施例)之用於冷卻該電子設備的方法。因此，該方法的一實施例包括：-在該櫃子10內循環一和熱產生電子設備46熱式連結的氣體式第一冷卻介質27，藉此加熱該第一冷卻介質27；-藉由從該被加熱的第一冷卻介質27將熱量Q傳送至一第二冷卻介質33，及-再循環該被冷卻的第一冷卻介質27通過一通道36，回到一被提供在該櫃子10之一通行側23的第一充氣空間35。
櫃子10的操作及所提出之冷卻方法的執行，是以一在該罩殼12中之大體上是封閉的再循環空氣流為基礎，其中該空氣係做為一在該 櫃子10中循環的第一冷卻介質27。由該等風扇30所產生的該空氣流量Φf係大體上在該罩殼12中被再循環。
該冷卻方法進一步參考在圖2中被顯示的該範例實施例被解說，其中在該罩殼12中的該空氣流量Φf流過二條在一水平面上的封閉迴路。初始時，冷卻空氣27在靠近於該等支架40之前面的通行側或前側23的該充氣空間35中循環。具有熱產生電子構件47(或其他熱產生裝置)的電子設備46被容置在該支架40中，並由該等承架44攜載。在使用期間，在該罩殼12之該第二側(後側)17的該等風扇30引起橫越過該電子設備46之該空氣27的該流量Φf。該冷卻空氣27經由該等前入口48被抽入該電子設備46。隨後該空氣流量Φf，在從各支架40的一前側至一後側之該(水平的)縱行方向X上，從該等前入口48朝向該等後出口50橫越過該等熱產生電子構件47。為了適當地導引該空氣流量Φf橫越過該等電子構件47，任意數目的流量引導機構(例如是空氣偏向裝置、遮罩、歧管)可被應用。由該等電子構件47所產生的熱能或熱Q在該空氣流量Φf通過該支架40時，被傳送至該循環中的空氣流量Φf，藉此冷卻該等電子構件47。受該等風扇30推動，被加熱的空氣27經由該等後出口50被排放出。
被設置在該空氣流量Φf中位於該櫃子10的該第二側或後側17上之具有氣通孔32的該二個熱交換器31，被用於吸收熱Q，並藉以將熱Q從由後出口50散出及進入到該等氣通孔32的該流動空氣27移除。被界定介於該等流體管道34之間的該等空氣通孔32，使該空氣流量Φf能橫越過該熱交換器31，以便將儲存在該循環的空氣流量Φf中的熱Q傳送至被運送通過該等流體管道34的該第二冷卻介質33。該等流體管道34的 線性網格係和流通過該等空氣通孔32的空氣29熱式連結。該第二冷卻介質33經由該等流體管道34被主動地抽汲進入及離開在該罩殼12中的該等熱交換器31。該熱交換器31係靠近該等風扇30之將該空氣流量Φf強迫通過該等空氣通孔32的一輸入區域被設置，以使該空氣流量Φf可在被重新循環通過該通道36回到該電子設備46之該等前入口48之前，能被該熱交換器31最大量地冷卻。被冷卻的水33通過該等熱交換器單元31的該等管道34，並從該空氣27吸收該熱Q。藉由供應低於室溫的水，同樣的組合可被用於降低在該封閉迴路中之冷卻空氣的溫度，並以空氣冷卻容納甚至更高的能量消散。
由該等熱交換器31所冷卻的空氣27由該等風扇30通過該通道36被重新導回進入該充氣空間35及至該等支架40的前面。一當離開該中央通道36，該被冷卻的空氣流量Φf分叉進入該第一充氣空間或前充氣空間35，因而完成該封閉迴路之空氣流量Φf。該流量分流由被設置在該等前櫃門26之中央的流量引導樑28所促進。
在圖2之該實施例中的一單獨水平地配置之封閉迴路的空氣流路徑包括有四個90度的轉彎，一在離開該通道36進入該充氣空間35之後轉彎，一從該充氣空間35轉彎進入該電子設備46的該等前入口48，一在離開該等熱交換器單元31之後轉彎，及一在進入該通道36時轉彎。
蝕刻系統
圖5a及5b概略地顯示多個蝕刻單元2a至2j(通常係以參考符號2標示)的一較佳的配置，該等蝕刻單元2a至2j形成一複合式蝕刻系統(或〝群組〞)1。
在此蝕刻系統1中的該等蝕刻單元2各設置有一真空腔室4，在其頂部上有一如先前在本文中所說明的櫃子10。未被裝設在頂部之電子設備櫃子之蝕刻單元的一背對背配置已由目前之受讓人揭示在國際申請案WO2012/080278中。
該等蝕刻單元2可被側對側地配置，以形成一列沿著該橫行方向Y觀看的單元。此外，該等單元列2可背對背(於縱行方向X)被對齊，以形成單元塊。此些單元列及/或單元塊可共同地形成在一蝕刻設備或製造廠之一設備室中的該蝕刻系統1。該等蝕刻單元2的背對背配置產生一種具有一受限之佔地面積的蝕刻系統1，該受限的佔地面積係相當一有效率使用之製造廠地板空間。
圖5a顯示該蝕刻系統1的一俯視圖，該蝕刻系統1在此特別的實施例中包括一組十個蝕刻單元2a至2j，被背對背配置成兩列5個單元，其中各對縱向鄰接之蝕刻單元2之該櫃子10的該等第二側或後側17(在該縱行方向X)面向彼此。
該蝕刻系統1進一步包括一基板供應系統72。該基板供應系統72被配置成接受由該蝕刻系統1處理的基板，且用於將此些基板提供給該等蝕刻單元2處理。一基板供應系統72的該使用使該蝕刻系統1能有效率地和在該製造廠中之其他設備組合，因其允許現有被使用的蝕刻系統1可相當容易的更換。
二縱向鄰接之蝕刻單元2a、2f的背對背配置由在圖5b中之側視圖被圖示說明。各蝕刻單元2a、2f包括有其本身的真空腔室4a、4f，以各真空腔室4的一背側面對一在另一列中的蝕刻單元2(亦即在該縱行方 向X的蝕刻單元2)。如先前在本文中所說明的電子設備櫃子10a、10f被設置在個別真空腔室4a、4f的頂部上。各櫃子10a、10f被提供有一冷卻器框架29a、29f，其包括有在該等個別之櫃子10a、10f的第二側或後側17a、17f的一熱交換器及一流量產生器，此些第二側17a、17f各相對於各櫃子10a、10f之該個別的通行側或前側23a、23f。由個別之冷卻配置29a、29f所界定的該等後壁18a、18f在該縱行方向X面對彼此。一冷卻流體循環歧管80被提供在該等後壁18a、18fb之間。用於在該熱交換器中之該第二冷卻介質33(見圖2)的該等流體管道34係和該冷卻歧管80流體式連接。該歧管80的流體回路被配置用於將該第二冷卻流體33循環通過在該櫃子10中之該等被連接之熱交換器的該等流體管道34。
若有一帶電粒子蝕刻系統，該真空腔室4較佳地是包括有可致能蝕刻處理、引發一帶電粒子源、一用於投射帶電粒子束至一待被圖案化之基板的投射器系統、及一可移動之基板台的所有元件。該蝕刻單元2面對一為維護目的被提供的未被佔用區域側包括有一用於將基板轉移進入及出該真空腔室4的負載鎖定系統70。
該等蝕刻單元2各被提供有一在和該負載鎖定系統70同側的腔室門74。該腔室門74可為可移除附接式的，且是可整個被移除的。在該負載鎖定系統70及該通行腔室門74被設置側之未被佔用的區域，較佳地係足夠大到能容納該腔室門74及該負載鎖定70的佔地面積。該蝕刻系統1因此包括多個蝕刻單元2，其等具有面對一環繞該蝕刻系統1之維護區域的一負載鎖定系統70及一腔室門74。由於該等負載鎖定系統70及腔室門74之〝朝向外〞的定向，該等蝕刻單元2係可從該環繞的維護區域直接通達 的。直達通道簡化該蝕刻系統1的維護工作，且縮短該蝕刻系統1或其部件的停機維護時間。一用於維護工作之單一特定的真空腔室4可被打開，而不會影響到在該蝕刻系統1內之其他蝕刻單元2的處理量。
在該被顯示的實施例中，該蝕刻系統1進一步包括有一基板傳送系統76，用於從該基板供應系統72接收基板或將基板送至該基板供應系統72。該基板傳送系統76可採用一適當之輸送機系統的形式，例如是在一大體上為水平方向被配置在該等蝕刻單元2a、2f之該等負載鎖定系統70a、70f上方的一輸送機系統。結果，該基板傳送系統76不會和該等蝕刻單元2a、2f的該等腔室門74a、74f干涉，且該等腔室門74a、74f可為維護的目地被打開，同時該基板傳送系統76可繼續介於該基板供應系統72及另一蝕刻單元2之間之基板的傳送。
在圖5b中所顯示的該等蝕刻單元2a、2f中，該等真空腔室4a、4f各在一頂側5a、5f提供一具有一介面壁6a、6f的凹陷區段7a、7f。各介面壁6a、6f延伸覆蓋該個別真空腔室4a、4f之該頂側5a、5f的整個寬度，且係定向於該直立方向Z。該介面壁6a、6f被設置有用於套接及通過管道及/或電纜線的通行端口，該等管道及/或電纜線被連接至在該櫃子10a、10f內部的電子設備，該櫃子10a、10f係被設置在該個別的真空腔室4a、4f的上方。
各蝕刻單元2a、2f可同樣地被設置有在該個別之真空腔室4a、4f之該頂側5a、5f的一後面的另一介面壁(未被標示出)。同樣地，該另一介面壁可具有其他用於套接及通過管道及/或電纜線的通行端口。
一具有蝕刻單元之背對背的配置，各包括有一具有一在一第 二或後側之冷卻配置的電子設備櫃子，且其中面對彼此之鄰接櫃子的後側，其本身在本文中被認為是創新的，並可為一獨立之專利申請案的標的。
具有側向電纜線管道的櫃子
圖6顯示相似於被顯示在圖1至3中之該櫃子10之一櫃子10’的一替代實施例的一立體視圖。在該櫃子10中已於先前參考圖1至3被說明的大部分特徵件，亦可出現在被顯示於圖6中的該櫃子10’中，且文中將不會再次討論。對參考圖6被討論的特徵件，相似的參考符號會被用於相似的特徵件，但會加上一上標，以區別實施例。
再次，在該罩殼12’中的該第一充氣空間或前充氣空間35’包括有一在該罩殼12’之一側壁16b’的直立凹槽38’，用於沿著該直立方向Z容置用於該電子設備46’的電纜佈線66c’。於此，為該前充氣空間35’之部分的該直立凹槽38’，界定一大體上沿著該罩殼12’之該整個側壁16b’直立地延伸的長方體空隙。該直立凹槽38’將信號及/或電力電纜線66c’(僅部分地被顯示出)導引至一被選定之電子設備單元46’的一前側。在圖6中，一冷卻器框架29’再次被繪製在離該第二側或後側17’(在一維修位置)的一縱向距離處，雖然其被認為在操作期間，該冷卻器配置29’需要被固定抵靠該後側17’。
先前被說明之櫃子實施例及在圖6中被顯示之櫃子實施例之間的重大不同為，在圖6中之該側壁16b’及該直立凹槽38’被配置成被一額外的側板(其未被顯示在圖6中)覆蓋。如同在先前之櫃子實施例中的，多條彎曲的電纜線管道或溝槽58’、59’、60’在不同的高度上從該直立凹槽38’岔離。圖6中顯示，該直立凹槽38’(部分)係由一直立的凹 陷壁68’界定出，該凹陷壁68’包括有多個沿著該直立方向Z被提供的管道通孔62’。該等彎曲的電纜線管道或溝槽58’、59’、60’在沿著該罩殼12’之該底板22’邊緣的不同位置開通至底板管道通孔63’。此種結構使該等電纜線66c’被引導朝向在該罩殼12’外部之預定較低的位置，該等位置係相對該底板通孔45’沿著該縱行方向X被分佈。
各彎曲的電纜線管道58’、59’、60’係由二片例如是彎曲金屬條64’的細長壁構件被界限出，該等彎曲金屬條64’被固定至該罩殼12’的該側壁16b’。被裝設在該側壁16b’之一外側上的該等彎曲的管道58’、59’、60’，將該等電纜線66c’保持成和該罩殼12’之內容物空間上分隔開及電磁式屏蔽開。該等金屬條64’可例如是以一大體上為垂直的定向及沿著一彎曲的軌跡被熔接至該側壁16b’的一外表面上。各彎曲金屬條64’沿著從一管道通孔62’至一底板管道通孔63’的一個別的彎曲軌跡延伸。二條鄰接的彎曲金屬條64’，該側壁16b’及共同地界定一電纜線管道58’、59’、60’的側板(未被顯示出)，形成具有一矩形橫斷面且一電纜線66c可被容置於其中的一朝下彎曲的通道。
在顯示於圖6的實施例中，開通至一較高之管道通孔62’(亦即沿著該凹陷壁68’在該直立方向Z上較高)的一上電纜線管道58’終止於一遠離的底板管道通孔63’(亦即在該縱行方向X更遠離該底板通孔45’)。相反地，開通至一較低之管道通孔62’的一下電纜線管道60’終止於一較近的底板管道通孔63’。
一般而言，一壁構件64’可限定至少一電纜線管道58’、59’、60’。在某些情況中，一單一的壁構件64’可同時地界定二條鄰接 的電纜線管道58’、59’、60’於其各側上。此減少用於形成鄰接之電纜線管道58’、59’、60’所需要的壁材料量。例如，被顯示在圖6中的三條上電纜線管道58’僅由四片金屬條64’(亦即二片外金屬條及二片中間的金屬條)被界限出。
較佳地，如圖6中所顯示的，各彎曲的電纜線管道58’、59’、60’之該金屬板軌跡的彎曲率是平滑的。一平滑的軌跡使任何電纜線66c可在一管道端部(亦即該等通孔62’、63’之一)被手動地插入，且被和緩地輸送通過該電纜線管道58’、59’、60’，及在另一管道端部(管道通孔62’、63’)離開而不會受到阻擋。
在其他實施例中，另一以電纜線管道從此另一直立的凹槽岔離之直立的凹槽(類似參考圖6被說明的結構)，可替代式地或額外地被提供在該罩殼之相對的側壁。此外，在任一該等櫃子實施例中，至少該等電纜線管道之一可經由一在任何直立凹槽中的管道通孔被岔離，以彎進一朝上的方向，朝向沿著該罩殼之該頂壁的一縱向邊緣被提供的一頂部管道通孔。相似的是，細長的壁構件或金屬條可沿著一朝上彎曲的軌跡，以一大體上垂直的定向，被熔接至個別的側壁上。
具有電纜線管道從該直立凹槽中的岔離之該至少一直立凹槽，產生一用於一櫃子之有效率的前電纜線附接，及側向電纜線分布配置，該櫃子係可被堆疊在(另一)其他結構的上方及/或下方。以該被說明之電纜線附接及分配配置，該等電纜線可被保持和該罩殼之內容物為電磁式遮蔽以及空間上分隔開。該空間上的分隔開確保由在該罩殼內部之該循環冷卻流體的該等電纜線造成的任何阻擋被最小化。
此種附接及分配配置通常減少或甚至可排除從該櫃子的第二側或後側通達該設備的需求，例如在維修期間，甚至不存在任何在該櫃子內部的冷卻配置。因此，用於一被提供有側向電纜線引導通道之櫃子的結構，並不需要有該冷卻配置，並可為一獨立之專利申請案的標的，該等側向電纜線引導通道係由在一第一充氣空間中之一直立凹槽及/或由一或多條被裝設在該罩殼之一側壁中或上的電纜線管道所界定的，如於先前文中已被說明的。
單一支架及側向廊道
那些熟習相關技術者及由本文中教導被告知者會了解到，本案發明亦可被應用到任何容置構件的櫃子(其罩殼、封殼、或群組)，為該等構件由該等構件所產生之熱的冷卻是被要求的，例如是一電腦資料中心、或電信中央辦公室。例如，圖7提出用於一櫃子10”的一〝非設置〞的結構，該櫃子10”包括一界定有一內部之可關閉的罩殼12”，該罩殼12”容置一單一的電子設備支架40”。該支架40”支撐用於在該罩殼12”內部之不同的高度容置電子設備46”的承架44”。該櫃子10”被提供有一個別的冷卻器框架29”，其可被裝設在該罩殼12”的一第二側或後側17”。該冷卻器框架29”包括多個空氣循環器30”及一延伸覆蓋該罩殼12”的整個後側17”的該熱交換器31”。一通道36”沿著該縱行方向X沿著該罩殼12”的一側壁被界定。該通道36”從被界定在該支架40”之一前側的一第一充氣空間或前充氣空間35”延伸至該罩殼12”的該後側17”，且由一支架壁42”被側向及直立地限定。在圖7中的該櫃子10”提供有一類似的縱向冷卻配置，用於如同本文先前已說明的引發一第一冷卻介質的一封閉迴路水 平循環流量(流通過該通道36”，進入該前充氣空間35”，及橫越過該電子設備46”回向該空氣循環器30”及該熱交換器31”)，且係高度適合被用在一電腦資料中心。一類似被顯示在圖7中之該櫃子10”的一〝非機頂〞的櫃子亦可涉及一串聯支架結構以及其他參考圖1至4已被說明的其他特徵件。
在支架壁面板中的凹陷壁廓形
在任一個前述的櫃子實施例中，一縱向的流體返回通道係由一介於至少一側向支架壁及一鄰近壁(例如一鄰接支架的一支架壁)之間的空間所形成的。該等支架壁的任一個可由一大體上關閉的面板所形成的，該面板沿著該縱行及直立方向界定該通道的一界限。
圖8、9、10b圖示說明具有優點之支架壁的改版，該支架壁的改版係被實施在相似於參考圖6被說明之該實施例的實施例中，但其可被應用在本文先前被說明之該等實施例中的任一個。大部分的元件是相似的，且文中將不會再次說明。相似的參考符號會被用於標示相似的元件。
圖8、9、10b顯示該櫃子10’’’的一實施例，其包括具有一凹陷廓形84b’’’至88b’’’的一支架壁42b’’’。在圖8中，一壁頭82b’’’被設置在該櫃子10’’’的一前側上，以便面對該前充氣空間35’’’。該支架壁42b’’’包括有在側向地面離該通道36’’’之一側上的一凹陷廓形84b’’’至88b’’’。對應之立體及橫斷面俯視圖係分別的顯示在圖9及10b中(但於此上標從參考符號被省略)。該凹陷廓形84b’’’至88b’’’包括一頭壁部分84b’’’、一凹陷壁部分88b’’’、及一後縮壁部分86b’’’，其以一線性、彎曲或相似的方式 連接該凹陷廓形84b’’’及該對應之後縮壁部分86b’’’，該方式通常是不會側向地凸超出由該頭壁部分84b’’’所界定的界限。該頭壁部分84b’’’被設置在該側向支架壁42b’’’的一個別的壁頭82b’’’，且以離該同樣的支架40’’’之一側向相對支架壁43b’’’之一足夠大的頭內寬度W1*被定位，以使具有一寬度W1(從一設備側壁98被量測至同一設備單元的一相對壁)的電子設備46能被容置於相同支架40的該等壁之間。較佳地，該頭內寬度W1*是最小的，且大體上是等於該設備的寬度W1(具有一在毫米或較小等級上的差異)，造成介於該(等)頭壁部分84b’’’及定位在該支架壁42b中之電子設備46的一鄰近的設備側壁98之間的一(幾乎)觸及的配置。該壁頭82b’’’具有一頭寬度W3*。該凹陷壁部分88b’’’相對該對應的頭壁部分84b’’’係大體上平行但齊平的。因此，該支架壁42b’’’在由該凹陷壁部分88b’’’展開的區域係側向地較薄，並在對應的支架壁42b’’’、43b’’’之間界定一側向空間。介於該凹陷壁部分88b’’’及該設備側壁98之該對應的頭壁部分84b’’’之間的側向空間界定一用於容置一或多個承架裝設件90的空間寬度W2。需要該等承架裝設件90用於將一承架44b’’’固定至該對應之支架壁42b’’’的一內側。該承架裝設件90可例如包括一裝設條(例如是該承架44b’’’之一向上或向下的彎折凸緣)，該裝設條具有一(幾乎)相當該空間寬度W2的寬度。結果，在一方面之該裝設條被固定至該凹陷壁部分88b’’的一被露出的側向表面及在另一方面之頭壁部分84b’’’二者在同一平面擴展(沿著該縱行方向及直立方向X、Z)。(幾乎)觸及該頭壁部分84b’’’的該設備側壁98會因而亦(幾乎)觸及該承架裝設件90的此側表面。該承架裝設件90 可藉由承架連接件92(例如是被提供穿過該裝設條之通孔的螺栓)及另一承架連接件93(例如是被提供在該凹陷壁部分中的螺孔或螺帽)被連接至該支架壁42b’’’之該對應的凹陷壁部分88b’’’。
該電子設備46具有擴展成一預定之面板寬度W4的設備面板94’’’，該面板寬度W4較該設備寬度W1大。該面板寬度W4較佳地係具有一標準化的數值，例如是19吋的標準化寬度。該設備面板94’’’包括有諸側向凸緣，其等各具有一大體上等於一頭寬度W3*的面板寬度W3。該壁頭82b’’’被配置成在該等側向面板凸緣的後側抵靠該設備面板94’’’。結果，被裝設在該支架40b’’’中之一電子設備46的面板凸緣會形成該通道壁部分81的一延伸，藉此將所需要的側向空間縮減到最小，同時保持一流通過該通道36之最大的氣流量。面板連接件96(例如是螺栓)可被用於可移除式地將設備面板94’’’固定至被提供在該壁頭82b’’’中的另一面板連接件97(例如是具有螺紋的裝設孔)。
如在圖10b中所顯示的，一近似的凹陷廓形可被提供在形成該櫃子10’’’的側壁16b’’’之邊緣的該相對支架壁43b’’’上。取代式或額外地，近似的凹陷廓形可被提供在位於該櫃子10’’’的鄰接支架40a’’’中的該等支架壁42a’’’、43a’’’上。
如已被標示的，具有該凹陷廓形的支架壁結構可被有利地實施在先前文中已被說明的任一實施例中。一般而言，藉由有效率地整合該等設備承架連接件、該等支架壁面板、及用於再循環一冷卻流體的流體通道，該具有凹陷廓形的支架壁結構有助於有效率地將電子設備容置在該櫃子內部。這樣造成一種整合式櫃子結構，該種櫃子結構將由櫃子整體佔用 所需求的側向空間縮減到最小，同時將在該櫃子中的冷卻流體循環最佳化。會理解到，前述的整合亦可在一支架裝設配置中達成，該種配置係符合國際19吋支架標準IEC60297-3-100中的尺寸。該櫃子空間及標準化設備尺寸的有效率使用在蝕刻應用中是高度有利的。其中，模組化及有限的製造廠地板空間使用皆顯著地縮減該處理系統的操作成本。
習知技術支架
在圖10a中，依據該19吋標準之一習知技術支架120的一俯視橫斷面視圖被顯示，以圖示說明依據先前文中已被說明之實施例之具有該凹陷廓形的支架壁所有的差異。該習知技術支架120包括有四個在該支架120角落的C形支柱122。一L形裝設托架124由裝設托架連接件126(例如是螺栓)沿著支柱122的長度被固定至各支柱122。各L形裝設托架124包括有一具有在標準化直立距離處的諸裝設孔之朝內導向的凸緣。一電子設備單元46的前面板94藉由諸面板連接件96(例如是螺栓)被固定至該L形裝設托架124。各對支柱122藉由形成一設備支撐托架128之部分的一直立凸緣130沿著一縱行方向被互相連接，該支撐托架128被用於在一直立方向上支撐該電子設備46。各直立凸緣130藉由諸托架連接件132(例如是螺栓)被連接至二個支柱122。該裝設托架124及對應的支柱122在該設備面板94的各側帶有一額外寬度W5，並造成一整體習知技術支架的寬度大於依據本案發明之實施例之該凹陷廓形可達成的寬度。
流量引導樑
圖11顯示依據一實施例之一櫃子10的一流量引導樑28的一前立體視圖。該流量引導樑28以圖1至3中所顯示的方式，沿著一直立 方向被導引及在該櫃子10之該通行側23的該前充氣空間35中被調整裝設。該流量引導樑28被提供有一用於連接至一電源供應設備(未被顯示出)的電源供應插座110，該插座可被設置該櫃子10之該(等)支架40中的一精緻的承架44上。在一側上，該流量引導樑28提供有一用於容置電纜線66b的空間，該等電纜線66b從該電源供應插座110被引導朝向沿著該引導樑28的長度被設置的電源插座112，以對各種不同的設備單元46提供電力連接，該等設備單元46可被設置在該櫃子10之該(等)支架40中的各種不同的其他承架44上。保險絲114及/或電源監測指示器116可沿著該引導樑28針對數個或全部電源插座112被提供。
前述的說明是要做為解說用的，而非限制性的。對熟習相關技術者而言，顯然地，該櫃子10及冷卻方法的替代性及相當的實施例，是可在不脫離以下所闡述之申請專利範圍的範疇下，被構想及歸納出來施行。
整體而言，前述文中對被儲存在支架中之特別的電子設備的任何提及，是要被廣大地解釋為是指任何包括有熱產生構件(電、光、電腦工作、等等)之類型的設備。
在先前提出之解說型實施例中，空氣代表再循環通過一櫃子的該第一冷卻介質。然而，在其他實施例中，其他種的氣體可用做為再循環冷卻介質。任何具有一熱容量相似於或大於一般空氣之熱容量的氣體可被用於此目的。此些其他的氣體可例如包括氦氣。
相似地，被該熱交換器使用的該第二冷卻介質可包括一單相的流體或一蒸發/冷凝流體及爭氣的混合。因此在該櫃子中的該熱交換器配置可包括一種內部氣體對液體或一氣體對液體及對蒸氣類型的熱交換器。
該第二流體介質亦可包含一相改變的材料(PCM)，例如是聚合物封裝之相改變材料(例如是一散佈在例如是水之流體中的雙相蠟)。藉由運用被傳送之熱能的一部分於引發該PCM的一相改變(例如是融化)，該相改變可由在該櫃子外部他處的其他冷卻被再次反轉，一PCM的使用會增加該第二流體介質的熱容量。
一外部冷卻裝置可被設置在該罩殼的外部，例如是在一不同於圖5a至5b中之該蝕刻系統1所處的容室中。該外部冷卻裝置協助熱能從該第二流體介質發散，且可包括另一熱交換器、冷卻器、壓縮機、或類似者。
在其他的實施例中，其他類型的熱交換器可被提供做為前述之氣體對液體熱交換器的替代或外加。該熱交換器可例如包括一熱電式裝置，如一種帕耳帖效應冷卻裝置。一帕耳帖冷卻元件典型地係包括有一冷卻表面及一散熱表面，其等典型地係由陶瓷所做成的。依據一帕耳帖元件的已知操作，藉由施加一DC電壓至一被設置介於該等表面之間的半導體，熱可從該冷卻表面被傳送到該散熱表面。該帕耳帖元件的該冷卻表面被設置在靠近該罩殼的後壁處，使得空氣流量會通過它。相對的，該散熱表面被隔離且被設置成遠離該空氣流。該散熱表面可進一步被附接至一熱導體，該熱導體有利地將熱傳送至一在該櫃子外部的位子，於該處熱可方便被散發。
以下，條項被提出來界定可為一分割申請案之標的之實施例。
條項
c1.一種用於容置電子設備(46)的櫃子(10)，其中該櫃子包括：-一罩殼(12)，其包括一設置有一開口(24)用於通達該罩殼之內部的通行側(23)，及一相對於該通行側(23)的第二側(17)；-一支架(40a)，其用於容置在該罩殼內的該電子設備(46)，且被設置在該罩殼中，用以界定一介於該通行側及該支架之間的第一充氣空間(35)；其特徵在於該第一充氣空間(35)包括一在該罩殼(12)的一側壁(16)之直立凹槽(38)，用以沿著一直立方向(Z)容置用於電子設備(46)的電纜佈線(66c)。
c2.根據條項c1的櫃子(10)，其中該直立凹槽(38)界定一形成該第一充氣空間(35)靠近該側壁(16)之一側向部分的長方體孔穴。
c3.根據條項c1或c2的櫃子(10)，其中該直立凹槽(38)沿著該整個側壁(16)直立地延伸，且具有一沿著該直立方向(Z)的高度，其大體上相當於該前充氣空間(35)的一充氣高度(Hp)。
c4.根據條項c1至c3中任一項的櫃子(10)，其包括一底板通孔(45)，用以將被容置在該直立凹槽(38)中的電纜佈線(66c)引導至該櫃子的一下部外側。
c5.根據條項c4的櫃子(10)，其中該底板通孔(45)係被設置在該第一充氣空間(35)的一側向端部上。
c6.根據條項c1至c5中任一項的櫃子(10)，其包括至少一從該直立凹槽(38)岔離開的電纜線管道(58、59、60)，其中該至少一電纜線管道係由被裝設在該罩殼(12)之一外側的該側壁(16)上的一管道所形成的。
c7.根據條項c6的櫃子(10)，其中該至少一電纜線管道(58、59、60)係 被彎曲地成形，較佳地係具有一平滑的彎曲率。
c8.根據條項c6或c7的櫃子(10)，其中該至少一電纜線管道(58、59、60)於該直立方向(Z)被導向下。
c9.根據條項c6至c8中任一項的櫃子(10)，其中該至少一電纜線管道(58、59、60)係由被包括在該側壁(16)的一內壁嵌板及一外壁嵌板之間的彎曲的上及下壁(64)所形的。
c10.根據條項c9的櫃子(10)，其中該至少一電纜線管道(58、59、60)的該等彎曲的上及下壁(64)終止於一直立方向(Z)。
c11.根據條項c1至c10中任一項的櫃子(10)，其中該直立凹槽(38)的一側壁被設置有至少一電纜線裝設件。
c12.根據條項c11的櫃子(10)，其中該至少一電纜線裝設件被設置在或靠近一用於一預定的電子設備單元(46)的高度範圍中，以使電纜佈線(66c)可以該元件設備單元是被容置在該櫃子內之高度範圍的一側向(Y)被岔離開該直立凹槽(38)。
c13.根據條項c1至c12中任一項的櫃子(10)，其中該櫃子(10)被配置成包覆一和該電子設備(46)熱式連結的第一冷卻介質(27)；且其中該櫃子包括：-一流量產生器(30)，用於產生從該第一充氣空間(35)橫越過該電子設備(46)朝向該第二側(17)之該第一冷卻介質(27)的一流量(Φf)；-一熱交換器(31)，用於從該第一冷卻介質(27)抽出熱能(Q)；其中該熱交換器(31)及該流量產生器(30)被設置在或靠近該罩殼(12)的該第二側(17)，及其中該罩殼(12)包括一通道(36)，其和該第二側(17)及該第一充氣空間(35)流體式連結，用以將該第一冷卻介質(27)從該第二側(17)再循 環至該第一充氣空間(35)。
c14.根據條項c13的櫃子(10)，其中該支架(40)包括相對的側壁(42)，其中至少一側壁包括一界定該通道(36)之一直立邊界的大體上為閉合的面板。
c15.根據條項c13或c14的櫃子(10)，其中該櫃子包括被配置在該櫃子內側且係和該支架(40a)側向地分隔開的另一支架(40b)，藉此沿著該櫃子之一縱向中心線界定介於該支架及該另一支架之間的該通道(36)。
c16.根據條項c13至c15中任一項的櫃子(10)，其中該櫃子具有一被界定在該罩殼(12)之一頂壁(20)及一底板(22)的內部表面之間的內部高度(Hi)，且其中該通道(36)界定一具有相等於該內部高度(Hi)之一通道高度(Hc)的直立間隙。
c17.根據條項c13至c16中任一項的櫃子(10)，其包括沿著該通道(36)之一前通孔(37)被配置在該第一充氣空間(35)中的一流量引導樑(28)，用以將該第一冷卻介質(27)的該再循環的流量(Φf)規導進入該第一充氣空間中。
c18.根據條項c17的櫃子(10)，其中該流量引導樑(28)延伸介於該罩殼(12)之該頂壁(20)及該底板(22)之間，其中該流量引導樑被形成如一用於容置及引導介於該頂壁(20)及該底板(22)之間之至少一電纜線(66b)的中空構件。
c19.根據條項c13至c18中任一項的櫃子(10)，其中該第一冷卻介質(27)為一氣體，其中該熱交換器(31)為一氣體對流體的熱交換器，被配置用於將該熱能(Q)傳送至一包括一流體的第二冷卻介質(33)。
c20.根據條項c19的櫃子(10)，其中該氣體對流體的熱交換器被連結至一用於將該第二冷卻介質(33)運送至該櫃子外部的流體管道(34)。
c21.根據條項c19或c20中任一項的櫃子(10)，其中該氣體對流體的熱 交換器(31)為一管類型的熱交換器，被設置在該櫃子中靠近該第二側(17)，藉以界定一介於該熱交換器(31)及該櫃子的一後壁(18)之間的第二充氣空間(39)，且其中該流量產生器(30)包括至少一被設置在該第二充氣空間中的風扇。
c22.根據條項c1至c21中任一項的櫃子(10)，其包括沿著該櫃子的該底板(22)於一縱行方向(X)被配置之軌道及線性軸承構件(8)中的至少一個。
c23.根據條項c1至c22中任一項的櫃子(10)，其包括一溫度感測器(52)及一流量感測器(54)中的至少一個，該溫度感測器(52)被配置用於量測一在該罩殼(12)中的溫度，及用於產生一代表該溫度的溫度量測信號，及該流量感測器(54)被配置用於局部地量測在該罩殼(12)中的該流體流量(Φf)，及用於產生一代表該流體流量的流量量測信號。
c24.一種蝕刻單元(2)，其包括：-一真空腔室(4)；-一櫃子(10)，其係根據條項c1至c23中任一項之用於容置電子設備(46)的櫃子(10)。
c25.根據條項c24的蝕刻單元(2)，其中該真空腔室(4)設置有在一頂側(5)及沿著一縱行方向(X)的線性支承構件(8)，且其中該櫃子(10)係被設置在該真空腔室的頂側。
c26.根據條項c25的蝕刻單元(2)，其中該真空腔室(4)在該頂側(5)的一凹陷區段(7)設置有一介面壁(6)，該介面壁(6)具有通行孔，用於套接及穿過管道及/或被連接至在該櫃子(10)內部之電子設備(46)的電纜線(66)。
c27.根據條項c26的蝕刻單元(2)，其中該介面壁(6)延伸覆蓋該真空腔 室(4)之該頂側(5)的整個寬度，且較佳地係以直立方向(Z)被定向。
c28.根據條項c26或c27的蝕刻單元(2)，其中該凹陷區段(7)係凹陷在該真空腔室(4)的後側，其中該後凹陷側被設置有另一介面壁，該介面壁具有其他用於套接及穿過管道及/或電纜線(66)的通行孔。
c29.一種蝕刻系統(1)，其包括至少二個根據條項c24至c28中任一項的蝕刻單元(2)，其中該等蝕刻單元被背對背配置，以被背對背配置之蝕刻單元(2)之個別櫃子(10)的該等第二側(17)面向彼此。

Claims (29)

  1. 一種用於容置電子設備(46)的櫃子(10)，其中該櫃子包括：-一罩殼(12)，其包括一設置有一開口(24)用於通達該罩殼之內部的通行側(23)，及一相對於該通行側的第二側(17)；-一支架(40a)，其用於容置在該罩殼內的該電子設備(46)，且被設置在該罩殼中，用以界定一介於該通行側及該支架之間的第一充氣空間(35)；其中，該櫃子(10)被配置成包覆一和該電子設備(46)熱式連結的第一冷卻介質(27)；-一流量產生器(30)，用於產生從該第一充氣空間(35)橫越過該電子設備(46)朝向該第二側(17)之該第一冷卻介質(27)的一流量(Φf)；-一熱交換器(31)，用於從該第一冷卻介質(27)抽出熱能(Q)；其特徵在於該熱交換器(31)及該流量產生器(30)被設置在或靠近該罩殼(12)的該第二側(17)，及在於該罩殼(12)包括一通道(36)，其沿著該支架的一側壁(42)被設置，並和該第二側(17)及該第一充氣空間(35)流體式連結，用以將該第一冷卻介質(27)從該第二側(17)再循環至該第一充氣空間(35)。
  2. 根據申請專利範圍第1項的櫃子(10)，其中該支架(40)包括相對的側支架壁(42、43)，其中至少一側支架壁包括一界定該通道(36)之一直立邊界的大體上為閉合的面板。
  3. 根據申請專利範圍第2項的櫃子(10)，其中該側支架壁(42)包括一面向該通道(36)的一外壁部分(81)及一面離該通道(36)的內壁部分，且包括一凹陷廓形(84、86、88)，其中該凹陷廓形包括一頭壁部分(84)及一凹陷壁部分(88)，該凹陷壁部分和該頭壁部分平行及相對齊平，且被配置成容置一用於將一承架(44)固定至該內壁部分的承架裝設件(90)。
  4. 根據申請專利範圍第1項的櫃子(10)，其中該熱交換器(31)及該流量產生器(30)被整合入一相對該罩殼(12)被分隔開可重新定位的冷卻器框架(29)中。
  5. 根據申請專利範圍第4項的櫃子(10)，其中該可重新定位的冷卻器框架(29)大體上延伸覆蓋該罩殼(12)的該整個第二側(17)，藉以覆蓋一在該第二側上的開口，並形成該櫃子的一後壁(18)。
  6. 根據申請專利範圍第1項的櫃子(10)，其中該櫃子包括被配置在該櫃子內側且係和該支架(40a)側向地分隔開的另一支架(40b)，藉此沿著該櫃子之一縱向中心線界定介於該支架及該另一支架之間的該通道(36)。
  7. 根據申請專利範圍第1項的櫃子(10)，其中該櫃子具有一被界定在該罩殼(12)之一頂壁(20)及一底板(22)的內部表面之間的內部高度(Hi)，且其中該通道(36)界定一具有相等於該內部高度(Hi)之一通道高度(Hc)的直立間隙。
  8. 根據申請專利範圍第1項的櫃子(10)，其包括沿著該通道(36)之一前通孔(37)被配置在該第一充氣空間(35)中的一流量引導樑(28)，用以將該第一冷卻介質(27)的該再循環的流量(Φf)規導進入該第一充氣空間中。
  9. 根據申請專利範圍第8項的櫃子(10)，其中該流量引導樑(28)延伸介於該罩殼(12)之該頂壁(20)及該底板(22)之間，其中該流量引導樑被形成如一用於容置及引導介於該頂壁(20)及該底板(22)之間之至少一電纜線(66b)的中空構件。
  10. 根據申請專利範圍第1項的櫃子(10)，其中該第一冷卻介質(27)為一氣體，其中該熱交換器(31)為一氣體對流體的熱交換器，被配置用於將該熱能(Q)傳送至一包括一流體的第二冷卻介質(33)。
  11. 根據申請專利範圍第10項的櫃子(10)，其中該氣體對流體的熱交換器(31)為一管類型的熱交換器，被設置在該櫃子中靠近該第二側(17)，藉以界定一介於該熱交換器(31)及該櫃子的一後壁(18)之間的第二充氣空間(39)，且其中該流量產生器(30)包括至少一被設置在該第二充氣空間中的風扇。
  12. 根據申請專利範圍第1項的櫃子(10)，其中該第一充氣空間(35)包括一位在該罩殼(12)的一側壁(16)之直立凹槽(38)，用以沿著一直立方向(Z)容置用於該電子設備(46)的電纜佈線。
  13. 特別是根據申請專利範圍第1至12項中任一項之用於容置電子設備(46)的櫃子(10)，其中該櫃子包括：-一罩殼(12)，其包括一具有一開口(24)用於通達該罩殼之內部的通行側(23)，及一相對於該通行側的第二側(17)；-一支架(40a)，其用於容置在該罩殼內的該電子設備(46)，且被設置在該罩殼中，用以界定一介於該通行側及該支架之間的第一充氣空間(35)；其中，該第一充氣空間(35)包括一位在該罩殼(12)的一側壁(16)之直立凹槽(38)，用以沿著一直立方向(Z)容置用於該電子設備(46)的電纜佈線(66c)。
  14. 根據申請專利範圍第12項的櫃子(10)，其中該直立凹槽(38)的一側壁具有至少一電纜線裝設件。
  15. 根據申請專利範圍第14項的櫃子(10)，其中該至少一電纜線裝設件被設置在或靠近一用於一預定的電子設備單元(46)的高度範圍中，以使電纜佈線(66c)可以該元件係被包含在該櫃子內之高度範圍的一側向被岔離開該直立凹槽(38)。
  16. 根據申請專利範圍第12項的櫃子(10)，其包括一底板通孔(45)，用以將被容置在該直立凹槽(38)中的電纜佈線(66c)引導至該櫃子的一下部外側。
  17. 根據申請專利範圍第16項的櫃子(10)，其中該底板通孔(45)係被設置在該第一充氣空間(35)的一側向端部。
  18. 根據申請專利範圍第12項的櫃子(10)，其包括至少一從該直立凹槽(38)岔離開的電纜線管道(58、59、60)，其中該至少一電纜線管道係由被裝設在該罩殼(12)之一外側的該側壁(16)上的一管道所形成的。
  19. 根據申請專利範圍第18項的櫃子(10)，其中該至少一電纜線管道(58、59、60)係由被包括在該側壁(16)的一內壁嵌板及一外壁嵌板之間的彎曲的上及下壁(64)所形的。
  20. 根據申請專利範圍第19項的櫃子(10)，其中該至少一電纜線管道(58、59、60)係彎曲形狀的，較佳地是具有一平滑的曲率。
  21. 根據申請專利範圍第19項的櫃子(10)，其中該至少一電纜線管道(58、59、60)的該等彎曲的上及下壁(64)終止於一直立方向(Z)。
  22. 根據申請專利範圍第21項的櫃子(10)，其中該至少一電纜線管道(58、59、60)於該直立方向(Z)被導向下。
  23. 根據申請專利範圍第1至12項中任一項的櫃子(10)，其包括一溫度感測器(52)及一流量感測器(54)中的至少一個，該溫度感測器(52)被配置用於量測一在該罩殼(12)中的溫度，及用於產生一代表該溫度的溫度量測信號，及該流量感測器(54)被配置用於局部地量測在該罩殼(12)中的該流體流量(Φf)，及用於產生一代表該流體流量的流量量測信號。
  24. 一種蝕刻單元(2)，其包括：-一真空腔室(4)；-一櫃子(10)，其係根據申請專利範圍第1至23項中任一項之用於容置電子設備(46)的櫃子(10)。
  25. 根據申請專利範圍第24項的蝕刻單元(2)，其中該真空腔室(4)具有在一頂側(5)及沿著一縱行方向(X)的線性軸承構件(8)，且其中該櫃子(10)係被設置在該真空腔室的頂側。
  26. 根據申請專利範圍第25項的蝕刻單元(2)，其中該真空腔室(4)在該頂側(5)的一凹陷區段(7)設置有一介面壁(6)，該介面壁(6)具有通存取端口，用於接收及穿過管道及/或被連接至在該櫃子(10)內部之電子設備(46)的電纜線(66)。
  27. 根據申請專利範圍第26項的蝕刻單元(2)，其中該介面壁(6)延伸覆蓋該真空腔室(4)之該頂側(5)的整個寬度，且較佳地係以直立方向(Z)被定向。
  28. 根據申請專利範圍第26項的蝕刻單元(2)，其中該凹陷區段(7)係凹陷在該真空腔室(4)的後側，其中該後凹陷側被設置有另一介面壁，該介面壁具有其他用於套接及穿過管道及/或電纜線(66)的存取端口。
  29. 一種蝕刻系統(1)，其包括至少二個根據申請專利範圍第24項的蝕刻單元(2)，其中該等蝕刻單元被背對背配置，以被背對背配置之蝕刻單元(2)之個別櫃子(10)的該等第二側(17)面向彼此。
TW103112953A 2013-04-08 2014-04-08 用於電子設備的櫃子 TWI633392B (zh)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL2010589 2013-04-08
??NL2010589 2013-04-08
NL2010624A NL2010624C2 (en) 2013-04-08 2013-04-11 Cabinet for electronic equipment.
??NL2010624 2013-04-11

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201516576A TW201516576A (zh) 2015-05-01
TWI633392B true TWI633392B (zh) 2018-08-21

Family

ID=50478834

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW103112953A TWI633392B (zh) 2013-04-08 2014-04-08 用於電子設備的櫃子

Country Status (6)

Country Link
US (1) US10631441B2 (zh)
EP (1) EP3022604A1 (zh)
JP (2) JP6337089B2 (zh)
NL (2) NL2010624C2 (zh)
TW (1) TWI633392B (zh)
WO (1) WO2014166970A1 (zh)

Families Citing this family (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10133320B2 (en) 2008-02-14 2018-11-20 Chatsworth Products, Inc. Air directing device
CN104081310B (zh) 2012-02-09 2019-03-22 慧与发展有限责任合伙企业 散热系统
CN104081886B (zh) * 2012-03-12 2016-10-12 慧与发展有限责任合伙企业 带有冷却区段的机架冷却系统
US9529395B2 (en) 2012-03-12 2016-12-27 Hewlett Packard Enterprise Development Lp Liquid temperature control cooling
US9927187B2 (en) 2012-09-28 2018-03-27 Hewlett Packard Enterprise Development Lp Cooling assembly
BR112015018354A2 (pt) 2013-01-31 2017-07-18 Hewlett Packard Development Co resfriamento de líquido
US9351427B2 (en) * 2013-12-17 2016-05-24 Chatsworth Products, Inc. Electronic equipment enclosure
US10506735B2 (en) 2014-08-25 2019-12-10 Hamilton Sundstrand Corporation Heat exchange device in directed flow system
WO2016116410A1 (en) * 2015-01-20 2016-07-28 Abb Technology Ag Switchgear cooling system comprising a heat pipe, fan and thermoelectric generation
JP6613665B2 (ja) * 2015-07-10 2019-12-04 富士通株式会社 電子機器
US11106145B2 (en) * 2016-10-17 2021-08-31 Nikon Corporation Exposure system and lithography system
US10878654B2 (en) * 2018-06-28 2020-12-29 Ags Llc Closed loop cabinet cooling
US11013151B1 (en) * 2019-12-31 2021-05-18 Quanta Computer Inc. Electronic component housing cooling system
CN111587043B (zh) * 2020-05-26 2022-05-17 邯郸学院 一种基于局部温度变化自动调节冷媒进量的服务器机柜
JP7469997B2 (ja) * 2020-09-08 2024-04-17 株式会社日立ハイテク 半導体処理装置
IT202000021583A1 (it) * 2020-09-11 2022-03-11 Mitsubishi Electric Hydronics & It Cooling Systems S P A Disposizione di mezzi di ventilazione migliorata per un sistema di raffreddamento ad aria
KR102413297B1 (ko) * 2020-09-17 2022-06-27 엘아이지넥스원 주식회사 비상공랭부를 갖는 수랭식 장치
KR102413088B1 (ko) * 2020-09-17 2022-06-24 엘아이지넥스원 주식회사 수랭식 장치의 고장진단 및 운용방법
AU2021381563A1 (en) * 2020-11-17 2023-06-15 Tritium Power Solutions Pty Ltd An assembly for an electric vehicle charger
CN215819125U (zh) * 2021-01-15 2022-02-11 华为数字能源技术有限公司 一种温控机柜及通信系统
CN113993349A (zh) * 2021-05-27 2022-01-28 Ers集团控股有限公司 服务器机架的排热系统
CN113556917B (zh) * 2021-05-28 2024-08-09 浙江华云电力工程设计咨询有限公司 一种带精准送风系统的控制柜及控制方法
CN113438845A (zh) * 2021-06-25 2021-09-24 浪潮商用机器有限公司 一种内部温度调控的服务器机柜
CN113495436B (zh) * 2021-07-13 2023-12-29 江门市和盈新材料科技有限公司 一种光电子元件智能制造的光刻机
US20230154766A1 (en) * 2021-11-18 2023-05-18 Applied Materials, Inc. Pre-clean chamber assembly architecture for improved serviceability
EP4373231A1 (fr) * 2022-11-17 2024-05-22 Bull Sas Extension d'armoire de supercalculateur
CN115915681B (zh) * 2023-03-09 2023-05-09 联通（山东）产业互联网有限公司 一种防尘散热机柜

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6407933B1 (en) * 2000-10-18 2002-06-18 Compaq Computer Corporation Cable management system for use with rack mounted devices
WO2003083631A1 (en) * 2002-03-28 2003-10-09 American Power Conversion Corporation Improvements in cooling of a data centre
US20050057912A1 (en) * 2003-09-15 2005-03-17 Hardt Thomas T. Cable management system and method of installation and operation thereof
US20080049396A1 (en) * 2006-08-25 2008-02-28 International Business Machines Corporation Cooled electronics system and method employing air-to-liquid head exchange and bifurcated air flow

Family Cites Families (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4679123A (en) * 1986-03-10 1987-07-07 T-Bar Incorporated Cable organizing and protection system and method
US5216579A (en) * 1992-01-29 1993-06-01 International Business Machines Corporation Rack based packaging system for computers with cable, cooling and power management module
JPH0729892A (ja) 1993-07-14 1995-01-31 Nissin Electric Co Ltd 電極温調機構
JPH083032Y2 (ja) * 1993-10-26 1996-01-29 日東工業株式会社 電子機器用ラックのレール取付装置
JP3529977B2 (ja) 1997-05-15 2004-05-24 富士通株式会社 屋外設置用キャビネット型通信装置
CA2210122C (en) 1997-07-09 2003-09-23 Husky Injection Molding Systems Ltd. Power electrical enclosure
FI108962B (fi) 1999-08-20 2002-04-30 Nokia Corp Laitekaapin jäähdytysjärjestelmä
JP2002124790A (ja) * 2000-10-17 2002-04-26 Systage Co Ltd 情報配線ラック用縦型配線収納ケース
DE10210417B4 (de) * 2002-03-09 2004-02-05 Rittal Gmbh & Co. Kg Anordnung zur Kühlung eines Schaltschrankes mit im Innenraum angeordneten, wärmeerzeugenden Einbauten
JP3977767B2 (ja) 2003-04-10 2007-09-19 住友重機械工業株式会社 基板処理装置
US7737360B2 (en) * 2005-05-24 2010-06-15 Panduit Corp. Enclosure apparatus, system and method
US7724516B2 (en) 2005-08-26 2010-05-25 The Boeing Company Cooling enclosure for maintaining commercial-off-the-shelf (COTS) equipment in vehicles
WO2008039773A2 (en) * 2006-09-25 2008-04-03 Rackable Systems, Inc. Container-based data center
US8408356B2 (en) 2007-04-17 2013-04-02 Fujitsu Limited Storage box for electronic apparatus
JP2008269112A (ja) * 2007-04-17 2008-11-06 Fujitsu Ltd 電子機器収納箱
US7764495B2 (en) 2007-04-30 2010-07-27 Adc Telecommunications, Inc. Telecommunication cabinet with airflow ducting
US7688578B2 (en) * 2007-07-19 2010-03-30 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Modular high-density computer system
US20090086432A1 (en) * 2007-09-27 2009-04-02 International Business Machines Corporation Docking station with closed loop airlfow path for facilitating cooling of an electronics rack
JP5004301B2 (ja) 2008-04-23 2012-08-22 日東工業株式会社 電気電子機器収納用キャビネットの冷却構造
WO2010059909A1 (en) * 2008-11-21 2010-05-27 Vette Corp. Sidecar in-row cooling apparatus and method for equipment within an enclosure
US20110049393A1 (en) 2009-02-22 2011-03-03 Mapper Lithography Ip B.V. Lithography Machine and Substrate Handling Arrangement
JP5680557B2 (ja) 2009-02-22 2015-03-04 マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー．ブイ． 荷電粒子リソグラフィ装置
US8127562B2 (en) * 2009-03-11 2012-03-06 Verizon Patent And Licensing Inc. Cover assembly for air conditioner opening
RU2579533C2 (ru) 2010-12-14 2016-04-10 МЭППЕР ЛИТОГРАФИ АйПи Б. В. Литографическая система и способ обработки подложек в такой литографической системе
WO2012083166A2 (en) * 2010-12-16 2012-06-21 Smartcube, Llc Portable computer server enclosure
CN102541222A (zh) 2010-12-31 2012-07-04 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 机架式服务器系统
TW201243545A (en) * 2011-04-27 2012-11-01 Hon Hai Prec Ind Co Ltd Container data center group
US9176397B2 (en) 2011-04-28 2015-11-03 Mapper Lithography Ip B.V. Apparatus for transferring a substrate in a lithography system
JP5777933B2 (ja) 2011-05-09 2015-09-09 河村電器産業株式会社 機器収納用ラックの補助レール及び機器収納用ラック
US9204576B2 (en) * 2012-09-14 2015-12-01 Cisco Technolgy, Inc. Apparatus, system, and method for configuring a system of electronic chassis

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6407933B1 (en) * 2000-10-18 2002-06-18 Compaq Computer Corporation Cable management system for use with rack mounted devices
WO2003083631A1 (en) * 2002-03-28 2003-10-09 American Power Conversion Corporation Improvements in cooling of a data centre
US20050057912A1 (en) * 2003-09-15 2005-03-17 Hardt Thomas T. Cable management system and method of installation and operation thereof
US20080049396A1 (en) * 2006-08-25 2008-02-28 International Business Machines Corporation Cooled electronics system and method employing air-to-liquid head exchange and bifurcated air flow

Also Published As

Publication number Publication date
NL2012592C2 (en) 2015-01-06
NL2012592A (en) 2014-10-09
JP6337089B2 (ja) 2018-06-06
WO2014166970A1 (en) 2014-10-16
JP6656295B2 (ja) 2020-03-04
TW201516576A (zh) 2015-05-01
US20160066478A1 (en) 2016-03-03
NL2010624C2 (en) 2014-10-09
JP2016521000A (ja) 2016-07-14
EP3022604A1 (en) 2016-05-25
JP2018152580A (ja) 2018-09-27
US10631441B2 (en) 2020-04-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI633392B (zh) 用於電子設備的櫃子
JP5209802B2 (ja) ホットアイル封じ込め型の冷房システム及び方法
JP5488934B2 (ja) コンピュータベイ冷却装置及びその装置を備えるコンピュータ装置。
US7660121B2 (en) System of facilitating cooling of electronics racks of a data center employing multiple cooling stations
US9321136B2 (en) Multi-rack, door-mounted heat exchanger
JP5301009B2 (ja) データセンタの冷却
US6351381B1 (en) Heat management system
US20090086432A1 (en) Docking station with closed loop airlfow path for facilitating cooling of an electronics rack
US20090086428A1 (en) Docking station with hybrid air and liquid cooling of an electronics rack
CN106576436B (zh) 多模式冷却设备
US9192077B2 (en) Baffle for air flow redirection
JP2020154360A (ja) サーバ冷却装置、サーバシステム及びサーバの冷却方法
KR20190000669A (ko) 외함구조체