TWI632412B - 經由一輪廓成形裝置控制一眼用裝置之製造的方法及產生輪廓形式眼用鏡片的裝置 - Google Patents

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TWI632412B
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克里斯多夫 威德史密斯
麥可 威德曼
喬納森 亞當斯
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壯生和壯生視覺關懷公司
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Abstract

本發明描述用於實施一收斂過程以收斂至一鏡片設計的方法與裝置，其中一先前DMD展示可經修改以用於後續疊代。在較佳實施例中，一疊代迴圈可在一收斂過程期間啟動，其中可實施一或多種各式：技術、模態與厚度修正法。

Description

經由一輪廓成形裝置控制一眼用裝置之製造的方法及產生輪廓形式眼用鏡片的裝置
本發明描述用來控制經由輪廓成形裝置製造物品之方法與裝置。更具體而言，一輪廓成形裝置可基於一收斂過程來製造一系列輪廓形式鏡片，直到到鏡片設計符合合格準則。
習知技術對於鏡片之輪廓成形控制仍有有許多進步空間。
因此，本發明的一個態樣提供用來實施一收斂過程，以產生一符合鏡片設計之合格準則的輪廓形式隱形眼鏡。例如，一DMD展示可產生一不符合合格準則之鏡片，其中一收斂過程可經啟動以進行一後續疊代。在收斂過程期間可能使用遮罩技術、收斂模態(Convergence modality)與厚度修正法之其中一者或多者的各式變化。
遮罩技術可包括徑向遮罩技術、扇形遮罩技術、弓形遮罩技術與區域遮罩技術之其中一或多者，其中必要時可應用融接區(Blend Zone)。模態可包括單側收斂模態與雙側收斂模態之其中一者或多者。因此，在執行單側收斂模態與雙側收斂模態之其中一者 或兩者時，可使用頂點鎖定(apex-locking)技術與活塞移位(piston-shifting)技術。
此外，厚度修正法可包括百分比厚度修正法、算術厚度修正法與割線厚度修正法之其中一者或多者。在使用厚度修正法時，可應用均勻空間增益法(uniform spatial gain method)與非均勻空間增益法(non-uniform spatial gain method)之其中一者。非均勻空間增益法可有多種類型，包括以函數為基礎之非均勻空間增益法與直接對映非均勻空間增益法。
本發明提供一種控制一眼用裝置經由一輪廓成形裝置之製造的方法，其包含：(a)向該輪廓成形裝置發出指令以製造一眼用裝置；(b)基於該指令以該輪廓成形裝置製造該眼用裝置；(c)測量該眼用裝置；(d)判定該眼用裝置是否符合一鏡片設計之一合格準則；以及其中(e)在判定該眼用裝置不符合該合格準則後，該方法進一步包含(f)進行一收斂過程以使該眼用裝置朝向該鏡片設計收斂。
該收斂過程可包含(g)修改該先前指令以產生一能夠產生一後續眼用裝置之後續指令。
該方法可進一步包含(h)基於該後續指令以該輪廓成形裝置製造一後續眼用裝置。
該方法可進一步包含重複步驟(g)與(h)，直到判定該眼用裝置符合該鏡片設計之合格準則。
該輪廓成形裝置可包含一數位微鏡裝置(DMD)，並且該指令或各指令可為一DMD展示指令。
該收斂過程可包含一收斂遮罩技術。
該收斂遮罩技術可包含界定一選定遮罩區域，並且選擇性地在該選定遮罩區域內進行該收斂過程。
該收斂遮罩技術可包含界定一選定遮罩區域，並且選擇性地在該選定遮罩區域外進行該收斂過程。
該選定遮罩區域可包含一半徑、一扇形、一弓形與一區域之其中一者或多者。
該收斂遮罩技術可包含一或多個融接區。
該融接區可包含一或多個連接該選定遮罩區域與一或多個非經遮罩區域之指定區。
該收斂過程可包含一收斂模態。
該收斂模態可包含修改相較於一目標厚度為太厚之所測量眼用裝置之區域中的先前指令，以及修改相較於一目標厚度為太薄之所測量眼用裝置之區域中的先前指令。
該收斂模態可包含僅修改相較於該目標厚度為太薄之所測量眼用裝置之區域中的先前指令。
修改該先前指令可包含增加相較於該目標厚度為太薄之所測量眼用裝置之區域中的指令。
該收斂模態可包含僅修改相較於該目標厚度為太厚之所測量眼用裝置之區域中的先前指令。
修改該先前指令可包含減少相較於該目標厚度為太厚之所測量眼用裝置之區域中的指令。
該收斂模態可包含一活塞移位技術。
該活塞移位技術可包含執行一先前DMD展示指令之一或多個選定部分的一等量均勻移位。
該收斂模態可包含一頂點鎖定技術。
該頂點鎖定技術可包含一經鎖定之ICT，其中該ICT係設定為一指定值，其在一後續疊代期間會維持恆定。
該收斂過程可包含一厚度修正法。
該厚度修正法可包括一百分比法、一算術法與一割線法之其中一者或多者。
該厚度修正法可包括一或多個資料點的濾除過程。
該濾除過程可包含界定、偵測、移除、與修正給定資料中之錯誤的其中一者或多者。
該厚度修正法可包括一或多個該資料點的表面適配過程。
該表面適配過程可包含藉由實施內插與平滑之其中一者，以建構對於一系列該資料點具有最佳適配之一表面與一數學函數的其中一者或兩者。
該厚度修正法可包含一均勻空間增益法。
該均勻空間增益法可提供一或多個應用在整個該整形區之相同所述厚度修正法，其中一增益強度因子在各像素位置均為相等。
該厚度修正法可包含一非均勻空間增益法。
該非均勻空間增益法可包含一或多個應用在整個該整形區之相同所述厚度修正法，其中該增益強度因子在各像素位置可為不同。
該非均勻空間增益法可包含一以函數為基礎之非均勻空間增益法。
該以函數為基礎之非均勻空間增益法可包含使該增益強度因子關聯至該像素之一徑向位置。
該非均勻空間增益法可包含一直接對映非均勻空間增益法。
該直接對映非均勻空間增益法可包含利用來自一整形區之相關資料，此相關資料係得自先前DMD展示、所測量之鏡片與該鏡片設計之其中一者或多者，其中可在各像素位置計算出所欲之增益強度因子。
本發明進一步提供一種用於修改一數位微鏡裝置展示以產生一收斂至一鏡片設計之輪廓形式眼用鏡片，該裝置包含：一與一輪廓成形裝置進行數位通訊之電腦處理器；以及 一與該電腦處理器通訊之數位媒體儲存裝置，並且其中儲存於該數位媒體儲存裝置上者為可執行軟體程式碼，其可在收到要求時執行以實施本說明書中所述之方法。
可選擇地，儲存於該數位媒體儲存裝置上者為描述一資料庫存之數位資料，其中該資料包含鏡片設計資料與DMD展示資料之其中一者或兩者。
101‧‧‧步驟
102‧‧‧步驟
103‧‧‧步驟
104‧‧‧步驟
105‧‧‧步驟
106‧‧‧步驟
107‧‧‧步驟
201‧‧‧半徑
202‧‧‧扇形
203‧‧‧弓形
204‧‧‧弓形
205‧‧‧區域
206‧‧‧融接區
207‧‧‧部分
208‧‧‧部分
1100‧‧‧控制器
1101‧‧‧處理器單元
1102‧‧‧通訊裝置
1103‧‧‧儲存裝置
1104‧‧‧可執行軟體程式
1105‧‧‧資料庫
1106‧‧‧資料庫
300‧‧‧雙側收斂模態之平坦空間圖解表示
301‧‧‧先前DMD指令
302‧‧‧目標厚度
303‧‧‧所測量之鏡片
304‧‧‧後續DMD指令
305‧‧‧區域
306‧‧‧區域
307‧‧‧區域
308‧‧‧區域
400‧‧‧單側收斂模態之平坦空間圖解表示
401‧‧‧先前DMD指令
402‧‧‧目標厚度
403‧‧‧所測量之鏡片
404‧‧‧後續DMD指令
405‧‧‧加厚漸進程序
406‧‧‧地區
407‧‧‧地區
408‧‧‧區域
409‧‧‧區域
500‧‧‧單側收斂模態之平坦空間圖解表示
501‧‧‧先前DMD指令
502‧‧‧目標厚度
503‧‧‧所測量之鏡片
504‧‧‧後續DMD指令
505‧‧‧減薄漸進程序
506‧‧‧地區
507‧‧‧地區
508‧‧‧區域
509‧‧‧區域
600‧‧‧頂點鎖定技術之平坦空間圖解表示
601‧‧‧先前展示指令
602‧‧‧目標厚度
603‧‧‧所測量之鏡片
604‧‧‧頂點鎖定指令
605‧‧‧經暫時調整之所測量鏡片剖面
606‧‧‧後續未經鎖定頂點DMD指令
700‧‧‧頂點鎖定技術之平坦空間圖解表示
701‧‧‧先前展示指令
702‧‧‧目標厚度
703‧‧‧所測量之鏡片
704‧‧‧頂點鎖定指令
705‧‧‧經暫時調整之所測量鏡片剖面
706‧‧‧一後續未經鎖定頂點DMD指令
800‧‧‧活塞移位技術之平坦空間圖解表示
801‧‧‧先前DMD指令
802‧‧‧目標厚度
803‧‧‧所測量之鏡片
804‧‧‧後續非經平移位移DMD指令
805‧‧‧後續經活塞移位之DMD指令
圖1說明可用來實施本發明之方法步驟。
圖2a說明可用來實施本發明之徑向遮罩技術實例。
圖2b說明可用來實施本發明之扇形遮罩技術實例。
圖2c說明可用來實施本發明之弓形遮罩技術實例。
圖2d說明可用來實施本發明之區域遮罩技術實例。
圖2e說明可用來實施本發明之融接區實例。
圖3說明一雙側收斂模態之平坦空間圖解表示，該雙側收斂模態可用來實施本發明。
圖4說明一單側收斂模態之平坦空間圖解表示，該單側收斂模態使用一加厚漸進程序(thickening ratchet procedure)並且可用來實施本發明。
圖5說明一單側收斂模態之平坦空間圖解表示，該單側收斂模態使用一減薄漸進程序(thinning ratchet procedure)並且可用來實施本發明。
圖6與圖7說明一頂點鎖定技術之平坦空間圖解表示，該頂點鎖定技術可用來實施本發明。
圖8說明一活塞移位技術之平坦空間圖解表示，該活塞移位技術可用來實施本發明。
圖9說明可用來實施本發明之處理器。
本發明提供用於產生與修改一DMD展示之其中一者或兩者的方法與裝置，以產生一收斂至一鏡片設計之鏡片。在下列段落中將給出本發明實施例之詳細說明。較佳實施例與替代實施例之說明皆僅為例示性實施例，並且熟習該項技術者可理解的是，各種變化、修改及變更皆為明顯可知。因此，可理解該些例示性實施例並不限制以下發明態樣之範圍。本說明書中所述之方法步驟在本討論中係以一邏輯順序列出，然而此順序不以任何方式限制這些方法步驟可實施之次序，除非另有具體陳述。
名詞解釋
在有關本發明之說明與申請專利範圍中，各式用語將應用如下定義：「合格準則」如本說明書中所用者，係指指定參數範圍與指定參數值之其中一者或兩者，而使如果所製成鏡片或鏡片前驅物測得之參數落入一範圍，或者符合一鏡片設計與一所欲目標檔案之其中一者或兩者的值，則所製成產品可視為合格。
「融接區」如本說明書中所用者，意指下列其中一者或兩者，即融接一鏡片之一部分與一鏡片之另一毗連部分的一相連區域，以及融接一DMD展示之一部分與一DMD展示之另一毗連部分的一相連區域。該融接區為一鏡片之一部分的特性與該鏡片之另一毗連部分的特性融合之區域。
「目錄項目」如本說明書中所用者，係指一檔案、特徵、組件、設計、資料或描述符，其例如可暫時或永久儲存於程式館或資料庫中，並且可被再呼叫以供使用而無須重新產生。
「輪廓成形裝置」如本說明書中所用者，係指用於製造一鏡片前驅物形式、一鏡片前驅物與一鏡片之其中一者或多者的設備與方法，其中該裝置可涉及例如光化輻射、反應性混合物與DMD裝置之使用。
「收斂」(有時在本說明書中亦稱為：「收斂過程」或者「使收斂」具有如同「收斂過程」之意義)如本說明書中所用者，係指修改一指令並且使用該經修改指令於一疊代迴圈中之過程。該疊代可持續直到後續所製成鏡片之參數滿足一指定合格準則與一所欲目標檔案之其中一者或兩者。該指令可為一DMD檔案或多個DMD檔案。
「彎曲空間」如本說明書中所用者，係指一座標對映空間(例如卡氏座標、極座標、球座標等)，並且其中一設計之彎曲尚未被移除。
「定製產品」如本說明書中所用者，係指一包括可用增量步驟以外方式取得之一或多種參數的產品。定製產品參數比起標準產品參數容許更精準之球面焦度、柱面焦度與柱軸(例如-3.125D/-0.47D×18°)，並且可基於所提供產品之特定用途而包括基弧、直徑與穩定化分布曲線及厚度分布曲線。
「所欲目標檔案」如本說明書中所用者，「所欲目標檔案」或「目標檔案」係指可代表鏡片設計、厚度地圖、鏡片前驅物設計、鏡片前驅物形式設計、鏡片前驅物特徵設計之其中一者或多者，以及上述者之組合。一所欲目標檔案可表示於一水化或非水化狀態、於平坦或彎曲空間、於2維或3維空間，並且藉由包括但不限於幾何繪圖、焦度分布曲線、形狀、特徵、厚度等之方法來表示。所欲目標檔案可包含在規則或不規則間隔網格上之資料。
「數位核心中斷」如本說明書中所用者，係指一產品範圍，在其中選定之鏡片前驅物特徵或控制參數或其他特徵可為相同並且可在一指定產品範圍中保持恆定。
「DMD」如本說明書中所用者，係指一為雙穩態空間光調節器之數位微鏡裝置，其由設置於一CMOS SRAM上方之可動微鏡陣列所組成。可藉由將資料載入各鏡下方之記憶單元而獨立控制各鏡以轉向反射光，從而將一視訊資料像素空間對映至顯示器上之一像素。該資料以二進位方式靜電控制該鏡之傾角，在此二進位方式中該鏡狀態為+X度(「開」)或-X度(「關」)之其中一者。例如，在現有裝置中，X可為10度或12度(額定)之其中一者；未 來裝置可具有不同之傾角。由「開」微鏡反射之光係通過一投射鏡片並投射於一螢幕上。由「關」微鏡反射之光會產生一暗場，並且界定影像之黑階底層。影像係透過「開」與「關」階段間之灰階調節而產生，並且其速率快到足以使觀察者將其統合。各鏡可接收來自一個或多個DMD展示或非來自DMD展示之多個指令。選定之鏡可在鏡片製造過程中打「開」。DMD(數位微鏡裝置)可在DLP投射系統中發現。
「DMD控制軟體」如本說明書中所用者，係指組織並利用DMD檔案(DMD File)與DMD展示(DMD Show)之軟體，其可用來製造鏡片前驅物或鏡片前驅物特徵。
「DMD展示」如本說明書中所用者，「DMD展示」或「DMD檔案」係指基於時間之指令資料點與基於厚度之指令資料點的其中一者或兩者之集成，其可以用來啟動一DMD上之鏡，並且使一鏡片或鏡片前驅物或鏡片前驅物形式或鏡片前驅物特徵得以被製造。一DMD展示可具有各種格式，而(x,y,t)與(r,θ,t)為最常見者，其中例如「x」與「y」為DMD鏡之卡式座標位置，「r」與「θ」為DMD鏡之極座標位置，而「t」表示控制DMD鏡狀態之時間指令。DMD展示可包含在規則或不規則間隔網格上之資料。
「製程條件」如本說明書中所用者，係指用於製造一鏡片前驅物、一鏡片前驅物形式與一鏡片之其中一者或多者的設定、條件、方法與程序。
「濾除」如本說明書中所用者，係指包括界定、偵測、移除、與修正給定資料中之錯誤的程序，以將輸入資料中之錯誤對於接下來的分析所造成之衝擊減至最低。
「平坦空間」如本說明書中所用者，係指一座標對映空間(例如卡氏座標、極座標、球座標等)，並且其中將一設計之彎曲視為已被移除。
「流動鏡片反應性介質」如本說明書中所用者，意指在其原生態、反應態或部分反應態之任一狀態下可流動之一反應性混合物，並且在進一步處理後，該反應性介質便可形成為一眼用鏡片的一部分。
「自由形式」如本說明書中所用者，「經自由成形」或「自由形式」(有時在本說明書中亦稱為：「經輪廓成形」或「輪廓形式」，並且其意義如同「經輪廓成形」)係指一藉由交聯一反應性混合物而形成之表面，其交聯係在三維像素對三維像素(voxel by voxel)之基準上經由曝露於光化輻射而進行，無論是否有一流動介質層，並且未依照一鑄模、車床或雷射剝蝕來成形。自由形式方法與裝置之詳細說明係揭露於美國專利公開第US2009/0053351號與美國專利公開第US2009/0051059號。
「疊代」如本說明書中所用者，係指產生一後續DMD檔案/DMD展示，其隨後用於該收斂過程以滿足合格準則。
「疊代迴圈」如本說明書中所用者，係指一個或一系列過程步驟，其可使一鏡片、一鏡片前驅物與一鏡片前驅物特徵製 造之其中一者或多者能夠實現，從而每次經過一個迴圈，一鏡片、一鏡片前驅物與一鏡片前驅物特徵之其中一者或多者即可較其前身更貼近所欲之鏡片設計。一收斂過程可包含一或多個疊代迴圈，其中DMD展示與製程條件之其中一者或兩者可經修改。
「鏡片」如本說明書中所用者，「鏡片」係指任何存在於眼睛中或上之眼用裝置。該等裝置可提供視覺矯正或具妝飾效果。例如，用語鏡片可指一隱形眼鏡、人工水晶體(intraocular Lens)、覆蓋鏡片(overlay Lens)、眼嵌入物(ocular insert)、光學嵌入物(optical insert)或其他之類似裝置，透過鏡片可矯正或修正視覺，或在不阻礙視覺的情，況下可妝飾性地改善(例如虹膜顏色)眼睛生理外觀。較佳鏡片可為軟式隱形眼鏡，並且可由聚矽氧彈性體或水凝膠製成，其包括但不限於聚矽氧水凝膠與含氟水凝膠。
「鏡片設計」如本說明書中所用者，係指形成或作用為(或者形成與作用為)一所欲鏡片，其若經製成則可提供光焦度矯正、合格鏡片配合(例如角膜覆蓋與移動)、合格鏡片旋轉穩定性等。鏡片設計可表示於一水化或非水化狀態、於平坦或彎曲空間、於2維或3維空間中，並且可藉由包括一或多種下列方法來表示，即幾何繪圖、焦度分布曲線、形狀、特徵、厚度等。鏡片設計可包含於規則或不規則間隔網格上之資料。
「鏡片前驅物」如本說明書中所用者，意指一複合物件，其由一鏡片前驅物形式以及與該鏡片前驅物形式接觸之一流動鏡片反應性介質所組成，其可為旋轉對稱或非旋轉對稱。例如，流 動鏡片反應性介質可在生產一鏡片前驅物形式之過程中形成於一體積的反應性混合物內。將一鏡片前驅物形式與流動鏡片反應性介質從用來生產一鏡片前驅物形式之一體積反應性混合物中分離出來，可產生一鏡片前驅物。此外，可藉由移除一定量的流動鏡片反應性介質，或者將一定量的流動鏡片反應性介質轉換為非流動之合併材料，來將一鏡片前驅物轉換為不同的實體。
「鏡片前驅物特徵」(亦稱為「特徵」)如本說明書中所用者，係指一鏡片前驅物形式之非流動次結構，並且作為一鏡片前驅物之基礎結構。鏡片前驅物特徵可藉由控制參數(高度、寬度、長度、形狀、位置等)而加以經驗性地界定或以數學方式描述，並且可經由DMD展示指令來製造。鏡片前驅物特徵之實例可包括一或多個下列者：鏡片邊緣特徵、穩定化區特徵、智慧型底面體積計(Smart Floor Volumator)特徵、光學區特徵、壕溝(Moat)特徵、排放通道(Drain Channel)特徵等。鏡片前驅物特徵可使用光化輻射三維像素(Actinic Radiation Voxel)來製造，並且在進一步處理後可結合至一眼用鏡片中。
「鏡片前驅物形式」如本說明書中所用者，係指一非流動物件，其在進一步處理而結合至一眼用鏡片中後仍可保持一致。
「眼用裝置」或「產品」如本說明書中所用者，係指鏡片、鏡片前驅物與鏡片前驅物形式之其中一者或多者，並且可包括「標準產品」或「定製產品」。
「PV」(峰谷差(Peak to Valley))如本說明書中所用者，係指下列一者或多者之表面的最高點與最低點間之差值，包括所測量之鏡片前驅物、所測量之鏡片前驅物形式與所測量之鏡片，其測量係針對全部表面或指定區域(例如光學區)之其中一者或兩者，並且可為合格準則之一部分。
「RMS」(均方根(Root Mean Square))如本說明書中所用者，係指下列一者或多者之平滑度，包括所測量之鏡片前驅物、所測量之鏡片前驅物形式與所測量之鏡片，其測量係針對全部表面或指定區域(例如光學區)之其中一者或兩者，並且可為合格準則之一部分。
「標準產品」如本說明書中所用者，係指產品參數可用性有限之產品，例如以分級方式所提供者。例如，球面焦度參數只能以0.25D之級距提供(例如-3.00D、3.25D、-3.50D等)；柱面焦度參數只能以0.50D之級距提供(例如-0.75D、-1.25D、-1.75D等；而柱軸參數只能以10°之級距提供(例如10°、20°、30°等)。其他分級提供之標準產品參數與特徵包括但不限於基弧半徑、直徑、穩定化分布曲線與厚度分布曲線。
「基材」如本說明書中所用者，係指一物理實體，其他實體可放置或形成於其上。
「表面適配」如本說明書中所用者，係指建構一表面或數學函數之過程，並且其最佳適配於一系列的資料點，而且有可能受到限制。表面適配可包括內插，其中需要對於該資料進行精確 適配(exact fit)，或者包括平滑，在其中會建構一概略適配該資料之「平滑」函數。
「厚度地圖」如本說明書中所用者，係指所欲之產品、鏡片前驅物形式或鏡片前驅物之2維或3維厚度分布曲線表示。厚度地圖可在平坦或彎曲空間座標空間中，並且可包含在規則或不規則間隔網格上之資料。
「整形區」(Training Region)如本說明書中所用者，係指全部鏡片或鏡片之一或多個部分的其中一者或兩者，並且其在收斂過程期間可進行疊代。
「三維像素」如本說明書中所用者，亦稱為「光化輻射三維像素」是一種空間元素，代表3維空間中之規則或不規則網格上的一值。不過，三維像素可視為三度空間像素，然而其中像素代表2D影像資料，三維像素則包括第三維。此外，三維像素經常使用於醫學和科學資料的視覺化及分析，在本發明中，三維像素係用來界定一到達一特定體積之反應性混合物的光化輻射量邊界，藉以控制特定體積之反應混合物的交聯或聚合速率。以下作為實例，將三維像素視為存在於一保形於一2-D模具層的單獨層中，其中可導引光化輻射使其正交於該2-D表面並且位於各三維像素之共同軸向維度中。以下作為實例，特定體積的反應性混合物可依據768×768三維像素來進行交聯或聚合。
鏡片可經由使用DMD展示而基於所欲之鏡片設計製造。此外，製成之鏡片可能不符合鏡片設計之合格準則，其中可能 必須進行先前DMD展示之疊代。例如，一先前DMD展示之疊代可促成更接近所欲鏡片設計之收斂。
現請參照圖1，一流程圖說明可進行來實施本發明之方法步驟。在101，在某些實施例中，可檢驗鏡片表面以找出可能存在於鏡片表面上之表面異常(例如斑點、灰塵等)。在102，在判定表面異常係存在於鏡片表面上後，可拋棄鏡片並且例如藉由利用先前DMD展示之相同設定來重新製造新鏡片。在103，在判定表面異常不存在於鏡片表面上後，可測定PV值。如果PV不合格，則在104，可產生用於DMD展示之後續疊代的參數並且製造新鏡片。如果PV合格，則在105，可測定RMS是否位於所欲之光學區中。如果RMS不合格，則在104，可產生用於後續DMD展示的參數並且製造新鏡片。如果RMS合格，則在106，可判定所製成之鏡片是否符合其他厚度規格(例如周邊幾何)。如果其他厚度規格不合格，則在104，可產生用於DMD展示之後續疊代的參數並且製造鏡片疊代。如果其他厚度規格合格，則在107，可釋放鏡片以進行後處理。
如上述方法步驟中所討論者，可能會有以下情況，即先前DMD展示產生不符合鏡片設計之合格準則並且可能需要進行後續疊代。
下列一者或多者可能會有變化：在收斂過程期間所利用之技術、模態與方法。在執行收斂過程時，用於後續疊代之後續DMD展示指令可為經修改先前DMD展示指令、先前展示指令與一或多個其他DMD展示指令之組合的其中一者或兩者，以及兩或多 個DMD展示之組合。例如，來自一或多個DMD展示之兩或多個部分可組合在一起以用於後續疊代。因此，收斂過程之疊代迴圈可持續重複，直到鏡片符合鏡片設計之合格準則。
在本發明之某些態樣中，可在收斂過程期間實施遮罩技術。在某些實施例中，遮罩技術可包括徑向遮罩技術、扇形遮罩技術、弓形遮罩技術與區域遮罩技術之其中一者或多者。在某些相關實施例中，可將一或多種遮罩技術應用於下列其中一者：可用於後續疊代中之一個DMD展示以及兩或多個DMD展示。此外，一或多個遮罩技術可應用於鏡片之整形區中，該整形區可包括整個鏡片與鏡片之一或多個部分的其中一者或兩者。
再者，執行遮罩技術可用來進一步收斂至鏡片設計，即使所測量之鏡片已經符合所欲之合格準則。例如，所測量鏡片之PV可為合格，但在後續疊代中執行遮罩技術可使鏡片設計之收斂更加接近，並且因而使鏡片有較佳性能(例如改善視力)，並且較未使用遮罩技術時更為精準。
現請參照圖2a-2d，其說明不同遮罩技術在平坦空間中之各種實例。在執行遮罩技術時，使用者可指定一或多個邊界，DMD展示可在其內使用，並且不同之DMD展示可在其外使用。
現請參照圖2a說明，其說明應用於DMD展示之徑向遮罩技術實例。在將徑向遮罩技術用於後續疊代時，可指定一或多個DMD展示之一或多個部分，以使其發生於特定半徑201內。此外，可指定一或多個不同DMD展示之一或多個部分，以使其發生 於鏡片設計之一半徑或鏡片設計之整個剩餘部分的其中一者或兩者內。
現請參照圖2b，其說明應用於DMD展示之扇形遮罩技術實例。在將扇形遮罩技術用於後續疊代時，可指定一或多個DMD展示之一或多個部分，以使其發生於特定扇形202內。此外，可指定一或多個不同DMD展示之一或多個部分，以使其發生於鏡片設計之一或多個扇形或鏡片設計之整個剩餘部分的其中一者或兩者內。
現請參照圖2c，其說明應用於DMD展示之弓形遮罩技術實例。在將弓形遮罩技術用於後續疊代時，可指定一或多個DMD展示之一或多個部分，以使其發生於特定弓形203、204內。此外，可指定一或多個不同DMD展示之一或多個部分，以使其發生於鏡片設計之一或多個弓形或鏡片設計之整個剩餘部分的其中一者或兩者內。
現請參照圖2d，其說明應用於DMD展示之區域遮罩技術實例。在將區域遮罩技術用於後續疊代時，可指定一或多個DMD展示之一或多個部分，以使其發生於特定區域205內。此外，可指定一或多個不同DMD展示之一或多個部分，以使其發生於鏡片設計之一或多個區域或鏡片設計之整個剩餘部分的其中一者或兩者內。
在使用遮罩技術時，可指定一或多個融接區206。例如，在執行遮罩技術時可應用一或多個融接區206，並且取自一個 DMD展示或者兩或多個DMD展示之兩或多個部分207、208，當其在後續DMD展示中組合在一起時不會互相連接，如圖2e中所示。一融接區206存在於鏡片之一部分207與該鏡片之毗連部分208間。在各融接區中，該部分207的特性與毗連部分208的特性係經融合。
在本發明之某些其他態樣中，在收斂過程期間可能實施不同之收斂模態，並且可能藉由單側收斂模態與雙側收斂模態之其中一者或兩者來實施。在某些實施例中，在執行一先前DMD展示之疊代時，可使用雙側收斂模態以在後續DMD展示中收斂至鏡片設計。例如，一先前展示可產生一鏡片之部分，其可能較鏡片設計為厚或薄，或者有些部分較厚而有些部分較薄。在執行雙側收斂模態，一後續DMD展示之疊代可藉由調整一或多個參數而發生，該一或多個參數可為導致鏡片同時具有一或多個較厚區域與一或多個較薄區域之指令，這些較厚區域與較薄區域係相較於針對鏡片設計中所呼叫者。調整可發生在一先前展示之各像素以用於後續展示。
亦可實施單側收斂模態以在後續DMD展示中收斂至鏡片設計。在執行一先前DMD展示之疊代時，可藉由利用加厚漸進指令(thickening ratchet instruction)與減薄漸進指令(thinning ratchet instruction)之其中一者或兩者來執行單側收斂模態。例如，一先前DMD展示可產生鏡片之多個區域，這些區域可能較鏡片設計為厚或薄，或者有些區域較厚而有些區域較薄。一後續展示指令之疊代可藉由下列其中一者而發生，即調整一或多個需要在數值上 有所減少之指令參數，以及調整一或多個需要在數值上有所增加的指令參數。因此，調整可發生在用於一後續展示指令之選定區域的各像素。
現請參照圖3，其說明實施雙側收斂模態之平坦空間圖解表示。在此實例中，先前DMD指令301產生所測量之鏡片303，並且該鏡片具有較所欲鏡片設計之目標厚度302為薄的區域306，以及較目標厚度302為厚的區域305。
在300，說明將雙側收斂模態應用於後續DMD指令304。後續DMD展示指令304會導致先前DMD展示指令301之區域307中的指令減少，而這些區域係產生太厚(相較於目標厚度值302)之所測量鏡片303地區者。在區域307，後續指令較先前指令為少。此外，後續DMD展示指令會導致先前DMD展示指令301之區域308中的指令增加，而這些區域係產生太薄(相較於目標厚度值302)之所測量鏡片303地區者。
現請參照圖4，說明實施一單側收斂模態之平坦空間圖解表示，並且此實施係藉由利用加厚漸進程序。在此實例中，先前DMD指令401產生所測量之鏡片403，並且該鏡片具有較該鏡片設計之目標厚度402為厚的區域406，以及較目標厚度為薄的區域407。
在400，說明藉由在後續DMD展示指令404中利用加厚漸進程序405來應用單側收斂模態。後續DMD展示指令404會僅導致先前DMD展示指令401之區域408中的指令增加，而這 些區域係產生太薄(相較於目標厚度值402)之所測量鏡片403地區407者。此外，對於產生太厚(相較於目標厚度值402)之所測量鏡片403地區406的先前展示指令401，後續DMD展示指令404即保持不變因此，對於後續疊代，調整僅會發生在導致太薄之所測量鏡片403地區407的先前展示部分，而其他區域409在後續DMD指令404中則保持不變。將先前指令用於產生太厚(相較於目標厚度值402)之所測量鏡片403地區406的先前指令地區409。
現請參照圖5，說明實施單側收斂模態之平坦空間圖解表示，並且此實施係藉由利用減薄漸進程序。在此實例中，先前DMD指令501產生所測量之鏡片503，並且該鏡片同時具有較該鏡片設計之目標厚度502為厚之區域506與為薄之區域507。
在500，說明藉由在後續DMD展示指令504中利用減薄漸進程序505來應用單側收斂模態。後續DMD展示指令504會僅導致產生太厚(相較於目標厚度值502)之所測量鏡片503地區506的先前DMD展示指令501指令減少。此外，對於產生太薄(相較於目標厚度值502)之所測量鏡片503區域507的先前展示指令504，後續DMD展示指令504即保持不變因此，對於後續疊代，調整僅會發生在導致太厚之所測量鏡片503地區506的先前展示部分，而其他區域在後續DMD指令504中則保持不變。在509，後續指令較先前指令為少。在508，使用先前指令。
在本發明之進一步態樣中，在執行一或多種上述收斂模態時，可應用包括頂點鎖定(Apex locking)技術與活塞移位 (piston-shifting)技術之各式技術。在執行頂點鎖定技術時，可依據目標厚度值來調整在先前DMD展示之頂點的指令。此外，可依據如同頂點值之量均勻向上調整先前指令之其他選定區域，並且可鎖定頂點所以其對於其他DMD展示可保持恆定。
例如，在鎖定頂點控制時，可依據目標厚度頂點值來調整在頂點(ICT)的指令並使其保持相同；此在ICT與目標厚度頂點間測得之差距為一鎖定CT值。鎖定CT值(△th)可藉由擷取一先前展示ICT與相同展示之目標厚度頂點值間之差距而計算得到。之後，△th可加到整個所測量鏡片表面的每一個點，並且可成為用於後續DMD展示之「經修改」鏡片厚度檔案。因此，一後續DMD展示指令可產生「經修改」之所測量鏡片，並且之後與鏡片設計比較。
此外，執行頂點鎖定技術可用來進一步收斂至鏡片設計，即使所測量之鏡片已經符合所欲之合格準則。例如，所測量鏡片之PV可為合格，但在後續疊代中執行頂點鎖定技術可使鏡片設計之收斂更加接近，並且因而使鏡片有較佳性能(例如改善視力)，並且較未使用頂點鎖定技術時更為精準。
現請參照圖6與圖7，圖6說明當鏡片中央太薄時使用頂點鎖定技術的平坦空間圖解表示，而圖7說明當鏡片中央太厚時使用頂點鎖定技術的平坦空間圖解表示。此外，圖6與圖7皆為下列比較之平坦空間實例，即一後續經鎖定頂點DMD指令(其中ICT保持與先前展示指令601及701相同)與一後續未經鎖定頂點DMD指令606及706(其中ICT可不保持與先前展示指令601及701 相同)間之比較。目標厚度602、702係分別示於圖6與7中。現請再次參照圖6，在此實例中，先前DMD指令601產生所測量之鏡片603，其中ICT係較所欲鏡片設計之目標厚度602頂點值為薄。現請再次參照圖7，在此實例中，先前DMD指令701產生所測量之鏡片703，其中ICT係較所欲鏡片設計之目標厚度702頂點值為厚。
現請再次同時參照圖6(在605)與圖7(在705)，經暫時調整之所測量鏡片剖面係藉由下列方式產生，即比較所測量鏡片603及703之ICT值間的差值與目標厚度頂點值602及702，並且依據△th來調整後續指令。在606以及在706，後續未經鎖定頂點指令係藉由下列方式計算得到，即將△th加到整個所測量鏡片603及703(經暫時調整之所測量鏡片剖面605及705的表面)上的每一個點，再加上任何選用的額外數值，藉以依據此總數來調整後續指令。在604及704，頂點鎖定指令係藉由下列方式計算得到，即擷取非經鎖定頂點指令606及706與△th間之差值，並且之後，將此差值加到所測量鏡片603及703(除了ICT外之表面)上的每一個點。因此，ICT會保持與先前DMD指令601及701中者相同，並且當進行收斂過程之疊代迴圈時，其在後續疊代期間係保持恆定。
在本發明之某些其他額外態樣中，在執行活塞移位技術時，可依據選用之量來進行先前DMD展示指令的均勻移位，並且此移位可針對先前指令的一或多個部分。此外，在某些其他實施例中，執行活塞移位技術可用來進一步收斂至鏡片設計，即使所測量之鏡片已經符合所欲之合格準則。例如，所測量鏡片之PV可為 合格，但在後續疊代中執行活塞移位技術可使鏡片設計之收斂更加接近，並且因而使鏡片有較佳性能(例如改善視力)，並且較未使用活塞移位技術時更為精準。
現請參照圖8，說明使用活塞移位技術之平坦空間圖解表示。此外，在800，為下列比較之平坦空間實例，即一後續經活塞移位之DMD指令805(其中依據相同之量來調整先前展示指令之一或多個選定部分的均勻移位)與一後續非經平移位移DMD指令804間之比較。在此實例中，先前DMD指令801產生所測量之鏡片803，並且該鏡片同時具有較所欲鏡片設計之目標厚度802為厚之區域與為薄之區域。在804，藉由依據一或多個各式選用之量來非均勻調整先前DMD指令801的一或多個選定部分而產生後續非活塞移位指令。在805，藉由依據相同選用之量來均勻調整先前DMD展示指令801的一或多個選定部分而產生後續活塞移位指令。
各式厚度修正法可用於收斂過程以計算出後續DMD展示指令，包括算術厚度修正法、百分比厚度修正法與割線厚度修正法之其中一者或多者。在鏡片可能不符合合格準則之情況中，可基於熟習該項技術領域人士所作出的觀察來選擇厚度修正法。
可使用選定之厚度修正法在先前DMD展示的各像素進行調整，以計算出用於一後續疊代之DMD展示指令。在應用厚度修正法前，選用之先前展示資料點可進行濾除過程與表面適配過程之其中一者或兩者以用於後續DMD展示。一DMD展示可經疊代以影響鏡片的某些或特定區域。因此，例如，一先前DMD展示的 後續疊代可導致下列一者或多者，包括改變整個鏡片、降低鏡片之某些孔徑與增加鏡片之某些孔徑(例如光學區、周邊區)的其中一者或兩者，以及改變鏡片之選定地區。
此外，可將各式增益強度因子應用於後續DMD展示指令之計算。再者，可在後續疊代期間的中間流程改變增益強度因子。例如，應用於疊代3的200%增益因子可在疊代5降低為150%。
如果DMD展示產生不符合合格準則的鏡片，則可使用算術厚度修正法來計算用於疊代DMD展示的指令。表1至4說明藉由下列方式而產生的資料展示，即利用算術厚度修正法來計算不同疊代之後續DMD展示指令並且應用各式增益強度因子。所說明的資料係藉由利用算術厚度修正法以及應用可用來實施本發明之各式增益強度因子而產生。
關於表1至4：關於資料組中之各個、任何或所有點，點之位置係於卡式座標空間指定為(Xij,Yij)：指令係以mm給出關於所測量鏡片資料組中之各個、任何或所有點，係於(x,y)位置給出：所測量鏡片厚度係以mm給出關於目標厚度資料組中之各個、任何或所有點，係於(x,y)位置給出：目標厚度係以mm給出 一般而言：差量厚度(Delta_Thickness)=目標厚度-所測量鏡片厚度經比例調整之差量厚度值=(DeltaT_* A)/100
要使用算術厚度修正法來計算用於一後續DMD展示之疊代值，則可能必須要計算出差量厚度值。例如，差量厚度值可能等於目標設計之目標厚度值減去所測量鏡片厚度值(由一先前DMD展示所產生)。在計算差量厚度值之後，可將差量厚度值乘以選用之適當增益強度因子並除以100，以決定經比例調整之差量厚度值。可將經比例調整之差量厚度值加到先前展示指令之值。上述算式之使用可發生在先前展示之各像素，以針對各像素計算出用於後續DMD展示之新值。
用於算術法之算式為：△th值=(目標厚度-所測量鏡片之厚度)
後續DMD展示指令=先前指令+經比例調整之△th值
表2為利用算術厚度修正法並將200%增益強度因子應用於先前展示之後續疊代的實例，其中鏡片設計之目標厚度值為.0900 mm而測得之鏡片厚度為.0750 mm。在此實例中，差量厚度值為0.0150 mm，此係藉由使目標厚度值0.0900 mm減去測得之鏡片厚度0.0750 mm而計算得到。再者，經比例調整之差量厚度值為0.0300 mm，此係藉由將差量厚度值0.0150 mm乘以增益強度因子200%，然後除以值100而計算得到。之後，將經比例調整之差量厚度值0.0300 mm加到先前展示值0.1250 mm，給出後續展示指令值0.1550 mm。
如果DMD展示產生不符合合格準則的鏡片，則可使用百分比厚度修正法來計算用於疊代DMD展示的指令。現請參照表5至7，其說明藉由下列方式而產生的資料展示，即利用百分比厚度修正法來計算不同疊代之後續DMD展示指令並且應用各式增 益強度因子。所說明的資料係藉由利用百分比厚度修正法以及應用可用來實施本發明之各式增益強度因子而產生。
關於表5至7：Initial_Instruction_0(起始展示，不必然與目標標題相同)
一般而言：讓PREV=先前指令
讓GF=GFression等級
讓TARGET=目標厚度
讓MEASURED=所測量鏡片之厚度
然後：下一指令=PREV+(((PREV×GF)×(TARGET-MEASURED))/(MEASURED×100))
Instruction_1=PREV_0+(((PREV_0×GF)×(TARGET-MEASURED_0))/(MEASURED_0×100))
Instruction_2=PREV_1+(((PREV_1×GF)×(TARGET-MEASURED_1))/(MEASURED_1×100))
lnstruction_3=PREV_2+(((PREV_2×GF)×(TARGET-MEASURED_2))/(MEASURED_2×100))
Instruction_4=PREV_3+(((PREV_3×GF)×(TARGET-MEASURED_3))/(MEASURED_3×100))
要使用百分比厚度修正法來計算用於後續DMD展示指令集之疊代值，則可能必須要計算出差量指令值。例如，差量指令值可等於擷取先前展示值並將其乘以適當增益強度因子，接著將所得值乘以目標厚度值減去所測量鏡片之值。再者，將前述值除以所測量鏡片之值，接著將所得值乘以100，之後將該值加到先前展示值。上述算式之使用可發生在先前展示之各像素，以針對各像素計算出用於後續DMD展示之新值。用於百分比方法之算式如下：
表6為利用百分比厚度修正法計算並將200%增益強度因子應用於初始展示之後續疊代實例，其中該初始展示為0.125 mm，目標厚度為0.090 mm，而所測量鏡片厚度為.0750 mm。在此實例中，後續DMD展示指令係藉由下列方式計算得到，即將初始 展示值0.125 mm乘以200%，接著將此值乘以0.015 mm(其為目標厚度值0.090 mm與所測量鏡片值0.075 mm之差值)，等於值0.00375 mm。之後，差量指令值0.05 mm係藉由將值0.00375 mm除以所測量鏡片值0.075 mm而計算得到。再者，之後將先前展示值0.125 mm加到差量指令值0.05 mm，得到後續DMD展示指令值0.175 mm。
用於後續DMD展示指令集之疊代值可藉由利用割線厚度改正法而決定，其可藉由使用割線法演算法而計算得到。割線法是一種勘根演算法，其使用一系列的割線根來較佳近似函數f之根，並且對於熟悉該項技術領域者而言係為習知者。
在使用一或多種前述厚度修正法時，可應用各式空間增益法。空間增益法可包括均勻空間增益法與非均勻空間增益法之其中一者或兩者。再者，非均勻空間增益法可由兩種類型所組成，包括以函數為基礎之非均勻空間增益法與直接對映空間增益法的其中一者或兩者。
在應用均勻(線性)空間增益法時，可將相同厚度修正法應用於整個指定之整形區，其中增益強度因子在各像素位置均為相等。例如，所有於光學區內之像素皆可藉由使用100%增益強度因子之算術法來修改。在應用非均勻空間增益法時，可將相同厚度修正法應用於整個指定之整形區，其中增益強度因子在各像素位置可為不同。例如，位於直徑4 mm範圍內之像素可具有增益強度因子200%，而位於直徑2 mm範圍內之像素可具有增益強度因子150%。
在應用以函數為基礎之非均勻空間增益法時，可使增益強度因子關聯至像素之徑向位置。在某些其他相關實施例中，在應用直接對映非均勻空間增益法時，可利用來自整形區之相關資料，此相關資料係來自先前DMD展示、所測量之鏡片與鏡片設計之其中一者或多者，以在各像素位置計算出所欲增益強度因子。
現請參照圖9，說明可用於實施本發明之某些態樣的控制器1100。一可包括一或多個處理器的處理器單元1101係耦合至一通訊裝置1102，該通訊裝置係配置用來經由一通訊網路進行通訊。該通訊裝置1102可用來例如與一或多個控制器裝置或製造設備組件進行通訊。
一處理器1101亦可用於與一儲存裝置1103進行通訊。一儲存裝置1103可包含任何適當之資訊儲存裝置，包括磁性儲存裝置(如，磁帶及硬碟機)、光學儲存裝置與/或半導體記憶體裝置如隨機存取記憶體(RAM)裝置及唯讀記憶體(ROM)裝置之組合。
一儲存裝置1103可儲存一用於控制一處理器1101的可執行軟體程式1104。一處理器1101執行一軟體程式1104的指令，從而依據本發明操作例如前述方法步驟。例如，一處理器1101可接收描述一所欲鏡片設計之資訊。一儲存設備1103亦可將眼用相關資料儲存在一或多個資料庫1105與1106中。一資料庫可包括一或多個含有下列者之檔案，包括DMD展示指令資料、定製鏡片設計資料、計量學資料、用於特定鏡片設計已定義鏡片參數資料。
結論
如上所述以及如以下申請專利範圍所進一步界定之本發明，提供一種用於實施一收斂過程之裝置。
下列未盡臚列之清單為本發明之多種態樣：
態樣1 一種用於修改一DMD展示以產生一收斂至一鏡片設計之輪廓形式眼用鏡片的裝置，該裝置包含：一與一輪廓成形裝置進行數位通訊之電腦處理器；一與該電腦處理器進行通訊並且儲存可執行軟體程式碼之數位媒體儲存裝置，該可執行軟體程式碼可在收到要求時執行並且與該處理器與該輪廓成形裝置共同操作以：儲存描述一資料庫存之數位資料，其中該資料包含鏡片設計資料與DMD展示資料之其中一者或兩者；接收一描述該資料之數位資料；產生該DMD展示，其中一DMD展示指令係基於該鏡片設計；判定該鏡片是否符合該鏡片設計之一合格準則；以及產生一後續DMD展示指令，其中該後續DMD展示指令包含一或多種收斂遮罩技術。
態樣2 態樣1之裝置，其中該收斂遮罩技術包含一或多個該涵蓋一或多個選定遮罩區域之DMD展示。
態樣3 態樣2之裝置，其中該選定遮罩區域包含一半徑、一扇形、一弓形、與一區域之其中一者或多者。
態樣4 態樣1之裝置，其中一或多種該收斂遮罩技術包含一或多個融接區。
態樣5 態樣4之裝置，其中該融接區包含一或多個連接該選定經遮罩區域與一或多個非經遮罩區域之指定區。
態樣6 一種用於修改一DMD展示以產生一收斂至一鏡片設計之輪廓形式眼用鏡片的裝置，該裝置包含：一與一輪廓成形裝置進行數位通訊之電腦處理器；一與該電腦處理器進行通訊並且儲存可執行軟體程式碼之數位媒體儲存裝置，該可執行軟體程式碼可在收到要求時執行並且與該處理器與該輪廓成形裝置共同操作以：儲存描述一資料庫存之數位資料，其中該資料包含鏡片設計資料與DMD展示資料之其中一者或兩者；接收一描述該資料之數位資料；產生該DMD展示，其中一DMD展示指令係基於該鏡片設計；判定該鏡片是否符合該鏡片設計之一合格準則；以及產生一後續DMD展示指令，其中該後續DMD展示指令包含一或多種收斂模態。
態樣7 態樣6之裝置，其中該收斂模態包含一單側模態。
態樣8 態樣7之裝置，其中該單側模態包含藉由減少該指令之一值與增加該指令之該值的其中一者，以調整該先前DMD展示之一或多個指令的一或多個參數。
態樣9 態樣7之裝置，其中該單側模態包含一加厚漸進指令。
態樣10 態樣9之裝置，其中該加厚漸進指令包含一在該先前DMD展示之一或多個部分中的該指令之一經增加該值。
態樣11 態樣7之裝置，其中該單側模態包含一減薄漸進指令。
態樣12 態樣11之裝置，其中該減薄漸進指令包含一在該先前DMD展示之一或多個部分中的該指令之一經減少該值。
態樣13 態樣7之裝置，其中該單側模態包含一活塞移位技術。
態樣14 態樣13之裝置，其中該活塞移位技術包含執行該先前DMD展示指令之一或多個選定部分的一等量均勻移位。
態樣15 態樣7之裝置，其中該單側模態包含一頂點鎖定技術。
態樣16 態樣15之裝置，其中該頂點鎖定技術包含一經鎖定之ICT，其中該ICT係設定為一指定值，其在一後續疊代期間會維持恆定。
態樣17 態樣6之裝置，其中該收斂模態包含一雙側模態。
態樣18 態樣17之裝置，其中該雙側模態包含藉由同時減少該指令之該值與增加該指令之該值，以調整該先前DMD展示之一或多個該指令的一或多個參數。
態樣19 態樣17之裝置，其中該雙側模態包含一活塞移位技術。
態樣20 態樣19之裝置，其中該活塞移位技術包含執行該先前DMD展示指令之一或多個該選定部分的一等量均勻移位。
態樣21 態樣17之裝置，其中該雙側模態包含一頂點鎖定技術。
態樣22 態樣21之裝置，其中該頂點鎖定技術包含一經鎖定之ICT，其中該ICT係設定為一指定值，其在一後續疊代期間會維持恆定。
態樣23 一種用於修改一DMD展示以產生一收斂至一鏡片設計之輪廓形式眼用鏡片的裝置，該裝置包含：一與一輪廓鏡片成形裝置進行數位通訊之電腦處理器；一與該電腦處理器進行通訊並且儲存可執行軟體程式碼之數位媒體儲存裝置，該可執行軟體程式碼可在收到要求時執行並且與該處理器與該輪廓成形裝置共同操作以：儲存描述一資料庫存之數位資料，其中該資料包含鏡片設計資料與DMD展示資料之其中一者或兩者；接收一描述該資料之數位資料；產生該DMD展示，其中一DMD展示指令係基於該鏡片設計；判定該鏡片是否符合該鏡片設計之一合格準則；以及產生一後續DMD展示指令，其中該後續DMD展示指令包含一或多種厚度修正法。
態樣24 態樣23之裝置，其中該厚度修正法包含一百分比法、一算術法與一割線法之其中一者或多者。
態樣25 態樣23之裝置，其中該厚度修正法包含一或多個資料點之濾除過程。
態樣26 態樣25之裝置，其中該濾除過程包含界定、偵測、移除、與修正給定資料中之錯誤的其中一者或多者。
態樣27 態樣23之裝置，其中該厚度修正法包含一或多個資料點之表面適配過程。
態樣28 態樣27之裝置，其中該表面適配過程包含藉由實施內插與平滑之其中一者，以建構對於一系列該資料點具有最佳適配之一表面與一數學函數的其中一者或兩者。
態樣29 態樣23之裝置，其中該厚度修正法包含一均勻空間增益法。
態樣30 態樣29之裝置，其中該均勻空間增益法提供一或多個應用在整個該整形區之相同所述厚度修正法，其中一增益強度因子在各像素位置均為相等。
態樣31 態樣23之裝置，其中該厚度修正法包含一非均勻空間增益法。
態樣32 態樣31之裝置，其中該非均勻空間增益法包含一或多個應用在整個該整形區之相同所述厚度修正法，其中一增益強度因子在各像素位置可為不同。
態樣33 態樣31之裝置，其中該非均勻空間增益法包含一以函數為基礎之非均勻空間增益法。
態樣34 態樣33之裝置，其中該以函數為基礎之非均勻空間增益法包含使該增益強度因子關聯至該像素之一徑向位置。
態樣35 態樣31之裝置，其中該非均勻空間增益法包含一直接對映非均勻空間增益法。
態樣36 態樣35之裝置，其中該直接對映非均勻空間增益法包含利用來自一整形區之相關資料，此相關資料係得自先前DMD展示、所測量之鏡片與該鏡片設計之其中一者或多者，其中可在各像素位置計算出所欲增益強度因子。

Claims (37)

  1. 一種經由一輪廓成形裝置控制一眼用裝置之製造的方法，其包含：(a)向該輪廓成形裝置發出指令以製造一眼用裝置；(b)基於該指令以該輪廓成形裝置製造該眼用裝置；(c)測量該眼用裝置；(d)判定該眼用裝置是否符合一鏡片設計之一合格準則；以及其中(e)在判定該眼用裝置不符合該合格準則後，該方法進一步包含(f)進行一收斂過程以使該眼用裝置朝向該鏡片設計收斂。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之方法，其中該收斂過程包含(g)修改該先前指令以產生能夠產生一後續眼用裝置之後續指令。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之方法，其進一步包含(h)基於該後續指令以該輪廓成形裝置製造一後續眼用裝置。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之方法，其進一步包含重複步驟(g)與(h)，直到判定該眼用裝置符合該鏡片設計之合格準則。
  5. 如申請專利範圍第4項所述之方法，其中該輪廓成形裝置包含一數位微鏡裝置(DMD)，並且其中該指令或各指令為一DMD展示指令。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之方法，其中該收斂過程包含一收斂遮罩技術。
  7. 如申請專利範圍第6項所述之方法，其中該收斂遮罩技術包含界定一選定遮罩區域，並且選擇性地在該選定遮罩區域內進行該收斂過程。
  8. 如申請專利範圍第6項所述之方法，其中該收斂遮罩技術包含界定一選定遮罩區域，並且選擇性地在該選定遮罩區域外進行該收斂過程。
  9. 如申請專利範圍第7或8項所述之方法，其中該選定遮罩區域包含一半徑、一扇形、一弓形、與一區域之其中一者或多者。
  10. 如申請專利範圍第9項所述之方法，其中該收斂遮罩技術包含一或多個融接區。
  11. 如申請專利範圍第10項所述之方法，其中該融接區包含一或多個連接該選定經遮罩區域與一或多個非經遮罩區域之指定區。
  12. 如申請專利範圍第5項所述之方法，其中該收斂過程包含一收斂模態。
  13. 如申請專利範圍第12項所述之方法，其中該收斂模態包含修改相較於一目標厚度為太厚之所測量眼用裝置之區域中的先前指令，以及修改相較於一目標厚度為太薄之所測量眼用裝置之區域中的先前指令。
  14. 如申請專利範圍第12項所述之方法，其中該收斂模態包含僅修改相較於該目標厚度為太薄之所測量眼用裝置之區域中的先前指令。
  15. 如申請專利範圍第13或14項所述之方法，其中修改該先前指令包含增加相較於該目標厚度為太薄之所測量眼用裝置之區域中的指令。
  16. 如申請專利範圍第12項所述之方法，其中該收斂模態包含僅修改相較於該目標厚度為太厚之所測量眼用裝置之區域中的先前指令。
  17. 如申請專利範圍第13或16項所述之方法，其中修改該先前指令包含減少相較於該目標厚度為太厚之所測量眼用裝置之區域中的指令。
  18. 如申請專利範圍第12至14項及第16項中任一項所述之方法，其中該收斂模態包含一活塞移位技術。
  19. 如申請專利範圍第18項所述之方法，其中該活塞移位技術包含執行一先前DMD展示指令之一或多個選定部分的一等量均勻移位。
  20. 如申請專利範圍第12至14項及第16項中任一項所述之方法，其中該收斂模態包含一頂點鎖定技術。
  21. 如申請專利範圍第20項所述之方法，其中該頂點鎖定技術包含一經鎖定之ICT，其中該ICT係設定為一指定值，其在一後續疊代期間會維持恆定。
  22. 如申請專利範圍第12至14項及第16項中任一項所述之方法，其中該收斂過程包含一厚度修正法。
  23. 如申請專利範圍第22項所述之方法，其中該厚度修正法包含一百分比法、一算術法與一割線法之其中一者或多者。
  24. 如申請專利範圍第22項所述之方法，其中該厚度修正法包含一或多個資料點之濾除過程。
  25. 如申請專利範圍第24項所述之方法，其中該濾除過程包含界定、偵測、移除、與修正給定資料中之錯誤的其中一者或多者。
  26. 如申請專利範圍第22項所述之方法，其中該厚度修正法包含一或多個資料點之表面適配過程。
  27. 如申請專利範圍第26項所述之方法，其中該表面適配過程包含藉由實施內插與平滑之其中一者，以建構對於一系列該資料點具有最佳適配之一表面與一數學函數的其中一者或兩者。
  28. 如申請專利範圍第22項所述之方法，其中該厚度修正法包含一均勻空間增益法。
  29. 如申請專利範圍第28項所述之方法，其中該均勻空間增益法提供一或多個應用在整個整形區之相同所述厚度修正法，其中一增益強度因子在各像素位置均為相等。
  30. 如申請專利範圍第22項所述之方法，其中該厚度修正法包含一非均勻空間增益法。
  31. 如申請專利範圍第30項所述之方法，其中該非均勻空間增益法包含一或多個應用在整個整形區之相同所述厚度修正法，其中一增益強度因子在各像素位置可為不同。
  32. 如申請專利範圍第30項所述之方法，其中該非均勻空間增益法包含一以函數為基礎之非均勻空間增益法。
  33. 如申請專利範圍第32項所述之方法，其中該以函數為基礎之非均勻空間增益法包含使該增益強度因子關聯至該像素之一徑向位置。
  34. 如申請專利範圍第30項所述之方法，其中該非均勻空間增益法包含一直接對映非均勻空間增益法。
  35. 如申請專利範圍第34項所述之方法，其中該直接對映非均勻空間增益法包含利用來自一整形區之相關資料，此相關資料係得自先前DMD展示指令、所測量之鏡片與該鏡片設計之其中一者或多者，其中可在各像素位置計算出所欲之增益強度因子。
  36. 一種用於修改一數位微鏡裝置展示以產生一收斂至一鏡片設計之輪廓形式眼用鏡片的裝置，該裝置包含：與一輪廓成形裝置進行數位通訊之一電腦處理器；以及與該電腦處理器進行通訊之一數位媒體儲存裝置，並且其中儲存於該數位媒體儲存裝置上者為可執行軟體程式碼，其可在收到要求時執行以實施如前述申請專利範圍中任一項所述之方法。
  37. 如申請專利範圍第36項所述之裝置，其中儲存於該數位媒體儲存裝置上者為描述一資料庫存之數位資料，其中該資料包含鏡片設計資料與DMD展示資料之其中一者或兩者。
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