KR102126169B1 - 윤곽 형태 제어 방법 - Google Patents

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크리스토퍼 와일드스미스
미첼 에프. 위드만
조나단 피. 아담스
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존슨 앤드 존슨 비젼 케어, 인코포레이티드
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Abstract

본 발명은 렌즈 설계를 수렴하기 위한 수렴 프로세스를 이행하기 위한 방법 및 장치를 기재하며, 이전의 DMD 쇼는 이후의 반복을 위해 변경될 수 있다. 바람직한 실시형태에서, 반복 루프는 수렴 프로세스 중에 개시될 수 있으며, 하나 이상의 다양한 기술, 양식 및 두께 교정 방법이 이행될 수 있다.

Description

윤곽 형태 제어 방법{CONTOUR FORM CONTROL}
본 발명은 윤곽 형성 장치를 통하여 용품의 제조를 제어하는 방법 및 장치를 기재한다. 더욱 구체적으로, 윤곽 형성 장치는 렌즈 설계(Lens Design)가 허용 기준(Acceptance Criteria)을 만족시킬 때까지 일련의 윤곽 형태 렌즈를 제조하기 위한 수렴 프로세스(Convergence Process)에 기초하여 제어될 수 있다.
발명의 요약
따라서, 본 발명의 일 태양은 렌즈 설계의 허용 기준을 만족시키는 윤곽 형태 콘택트 렌즈를 생성하기 위한 수렴 프로세스의 이행을 가능하게 한다. 예를 들어, DMD 쇼(Show)가 허용 기준을 만족시키지 못하는 렌즈를 생성할 수 있으며, 여기서, 수렴 프로세스가 이후의 반복(Iteration)을 위해 개시될 수 있다. 다양한 마스킹(masking) 기술, 수렴 양식 및 수렴 프로세스 동안 사용되는 두께 교정 방법 중 하나 이상이 존재할 수 있다.
마스킹 기술은 반경(radial) 마스킹 기술, 섹터(sector) 마스킹 기술, 세그먼트 마스킹 기술 및 영역 마스킹 기술 중 하나 이상을 포함할 수 있으며, 여기서, 필요에 따라 블렌드 구역(Blend Zone)이 존재할 수 있다. 양식(modality)은 일방형(one-sided) 수렴 양식 및 양방형(two-sided) 수렴 양식 중 하나 이상을 포함할 수 있다. 따라서, 일방형 수렴 양식 및 양방형 수렴 양식 중 하나 또는 둘 모두를 수행하는 경우, 정점-로킹(apex-locking) 기술 및 피스톤-이동(piston-shifting) 기술 중 하나 또는 둘 모두가 사용될 수 있다.
추가로, 두께 교정 방법은 백분율 두께 교정 방법, 산술적 두께 교정 방법 및 시컨트(secant) 두께 교정 방법 중 하나 이상을 포함할 수 있다. 두께 교정 방법을 사용하는 경우, 균일 공간 이득(spatial gain) 방법 및 불균일 공간 이득 방법의 어느 하나를 적용할 수 있다. 함수-기반의 불균일 공간 이득 방법 및 직접 맵핑(direct mapping) 불균일 공간 이득 방법을 비롯한 다수의 유형의 불균일 공간 이득 방법이 존재할 수 있다.
본 발명은 (a) 안과용 장치(ophthalmic device)를 제조하기 위해 윤곽 형성 장치에 명령을 내리는 단계;
(b) 명령에 기초하여 윤곽 형성 장치를 사용하여 안과용 장치를 제조하는 단계;
(c) 안과용 장치를 측정하는 단계;
(d) 안과용 장치가 렌즈 설계의 허용 기준을 따르는지를 결정하는 단계를 포함하며;
(e) 안과용 장치가 허용 기준을 따르지 않는다는 결정 후에,
(f) 안과용 장치가 렌즈 설계를 수렴하도록 수렴 프로세스를 수행하는 단계를 추가로 포함하는, 윤곽 형성 장치를 통한 안과용 장치의 제조의 제어 방법을 제공한다.
수렴 프로세스는 (g) 이전의 명령을 변경하여, 이후의 안과용 장치를 생성할 수 있는 이후의 명령을 생성하는 단계를 포함할 수 있다.
상기 방법은 (h) 이후의 명령에 기초하여, 윤곽 형성 장치를 사용하여 이후의 안과용 장치를 제조하는 단계를 추가로 포함할 수 있다.
상기 방법은 안과용 장치가 렌즈 설계의 허용 기준에 따르는 것으로 결정될 때까지 단계 (g) 및 (h)를 반복하는 것을 추가로 포함할 수 있다.
윤곽 형성 장치를 디지털 마이크로미러 소자(DMD)를 포함할 수 있으며, 상기 명령 또는 각각의 명령은 DMD 쇼 명령일 수 있다.
수렴 프로세스는 수렴 마스킹 기술을 포함할 수 있다.
수렴 마스킹 기술은 선택된 마스킹 영역을 한정하고, 선택된 마스킹 영역 내에서 수렴 프로세스를 선택적으로 수행하는 것을 포함할 수 있다.
수렴 마스킹 기술은 선택된 마스킹 영역을 한정하고, 선택된 마스킹 영역의 외측에서 수렴 프로세스를 선택적으로 수행하는 것을 포함할 수 있다.
선택된 마스킹 영역은 반경, 섹터, 세그먼트 및 영역 중 하나 이상을 포함할 수 있다.
수렴 마스킹 기술은 하나 이상의 블렌드 구역을 포함할 수 있다.
블렌드 구역은 상기 선택된 마스킹 영역을 하나 이상의 비-마스킹 영역과 연결하는 하나 이상의 특정 구역을 포함할 수 있다.
수렴 프로세스는 수렴 양식을 포함할 수 있다.
수렴 양식은 표적 두께에 비하여 너무 두꺼운, 측정된 안과용 장치의 영역에서 이전의 명령을 변경하고, 표적 두께에 비하여 너무 얇은, 측정된 안과용 장치의 영역에서 이전의 명령을 변경하는 것을 포함할 수 있다.
수렴 양식은 표적 두께에 비하여 너무 얇은, 측정된 안과용 장치의 영역에서만 이전의 명령을 변경하는 것을 포함할 수 있다.
이전의 명령의 변경은 표적 두께에 비하여 너무 얇은, 측정된 안과용 장치의 영역에서 증가를 명령하는 것을 포함할 수 있다.
수렴 양식은 표적 두께에 비하여 너무 두꺼운, 측정된 안과용 장치의 영역에서만 이전의 명령을 변경하는 것을 포함할 수 있다.
이전의 명령의 변경은 표적 두께에 비하여 너무 얇은, 측정된 안과용 장치의 영역에서 감소를 명령하는 것을 포함할 수 있다.
수렴 양식은 피스톤-이동 기술을 포함할 수 있다.
피스톤-이동 기술은 이전의 DMD 쇼 명령의 선택된 부분의 하나 이상의 동량의 균일한 이동을 수행하는 것을 포함할 수 있다.
수렴 양식은 정점-로킹 기술을 포함할 수 있다.
정점-로킹 기술은 로킹된 ICT를 포함할 수 있으며, 여기서, 상기 ICT는 이후의 반복 동안 불변 유지되는 특정 값으로 설정된다.
수렴 프로세스는 두께 교정 방법을 포함할 수 있다.
두께 교정 방법은 백분율 방법, 산술적 방법 및 시컨트 방법 중 하나 이상을 포함할 수 있다.
두께 교정 방법은 하나 이상의 데이터 포인트(data point)의 필터링 프로세스를 포함할 수 있다.
필터링 프로세스는 주어진 데이터에서의 오차의 한정, 검출, 제거, 교정 중 하나 이상을 포함할 수 있다.
두께 교정 방법은 하나 이상의 상기 데이터 포인트의 표면 핏팅(Surface Fitting) 프로세스를 포함할 수 있다.
표면 핏팅 프로세스는 보간법 및 평활화 중 어느 하나를 이행함으로써 일련의 상기 데이터 포인트에 최적의 핏팅을 갖는 표면 및 수학 함수 중 하나 또는 둘 모두를 구축하는 것을 포함할 수 있다.
두께 교정 방법은 균일 공간 이득 방법을 포함할 수 있다.
균일 공간 이득 방법은 상기 동일한 두께 교정 방법 중 하나 이상이 상기 트레이닝 영역(Training Region)에 걸쳐 적용되게 할 수 있으며, 여기서, 이득 세기 인자(gain magnitude factor)는 각 픽셀 위치에서 동일하다.
두께 교정 방법은 불균일 공간 이득 방법을 포함할 수 있다.
불균일 공간 이득 방법은 상기 트레이닝 영역에 걸쳐 적용되는 상기 동일한 두께 교정 방법 중 하나 이상을 포함할 수 있으며, 여기서, 상기 이득 세기 인자는 각 픽셀 위치에서 상이할 수 있다.
불균일 공간 이득 방법은 함수 기반의 불균일 공간 이득 방법을 포함할 수 있다.
함수 기반의 불균일 공간 이득 방법은 상기 이득 세기 인자를 상기 픽셀의 반경 위치와 연관시키는 것을 포함할 수 있다.
불균일 공간 이득 방법은 직접 맵핑 불균일 공간 이득 방법을 포함할 수 있다.
직접 맵핑 불균일 공간 이득 방법은 상기 이전의 DMD 쇼, 상기 측정된 렌즈 및 상기 렌즈 설계 중 하나 이상으로부터 유래된 트레이닝 영역으로부터 해당하는 데이터가 레버리징(leveraged)되는 것을 포함할 수 있으며, 상기 원하는 이득 세기 인자는 각 픽셀 위치에서 계산할 수 있다.
본 발명은 윤곽 형성 장치와 디지털 통신하는 컴퓨터 프로세서; 및
컴퓨터 프로세서와 통신하는 디지털 매체 저장 장치를 포함하는, 디지털 마이크로미러 소자 쇼를 변경하여, 렌즈 설계를 수렴하는 윤곽 형태 안과용 렌즈를 생성하는 장치를 추가로 제공하며, 본 명세서에 기재된 방법의 이행의 요구시에 실행가능한, 실행 소프트웨어 코드(software code)가 디지털 매체 저장 장치상에 저장된다.
임의로, 데이터 목록을 설명하는 디지털 데이터가 디지털 매체 저장 장치상에 저장되며, 상기 데이터는 렌즈 설계 데이터 및 DMD 쇼 데이터 중 하나 또는 둘 모두를 포함한다.
도 1은 본 발명을 이행하는 데 사용될 수 있는 예시적인 방법 단계.
도 2a는 본 발명을 이행하는 데 사용될 수 있는 반경 마스킹 기술의 일 예.
도 2b는 본 발명을 이행하는 데 사용될 수 있는 섹터 마스킹 기술의 일 예.
도 2c는 본 발명을 이행하는 데 사용될 수 있는 세그먼트 마스킹 기술의 일 예.
도 2d는 본 발명을 이행하는 데 사용될 수 있는 영역 마스킹 기술의 일 예.
도 2e는 본 발명을 이행하는 데 사용될 수 있는 블렌드 구역의 일 예.
도 3은 본 발명을 이행하는 데 사용될 수 있는 양방형 수렴 양식의 평편한 공간의 그래프 표현.
도 4는 본 발명을 이행하는 데 사용될 수 있는 시크닝 래칫(thickening ratchet) 절차를 사용한 일방형 수렴 양식의 평편한 공간의 그래프 표현.
도 5는 본 발명을 이행하는 데 사용될 수 있는 시닝(thinning ratchet) 래칫 절차를 사용한 일방형 수렴 양식의 평편한 공간의 그래프 표현.
도 6 및 도 7은 본 발명을 이행하는 데 사용될 수 있는 정점 로킹 기술의 평편한 공간의 그래프 표현.
도 8은 본 발명을 이행하는 데 사용될 수 있는 피스톤-이동 기술의 평편한 공간의 그래프 표현.
도 9는 본 발명을 이행하는 데 사용될 수 있는 프로세서.
본 발명은 렌즈 설계를 수렴하는 렌즈를 생성하기 위해 DMD 쇼를 생성하는 것과 변경하는 것 중 하나 또는 둘 모두를 위한 방법 및 장치를 제공한다. 하기의 단락에서, 본 발명의 실시형태의 상세한 설명이 주어질 것이다. 바람직한 및 대안적인 실시형태 둘 모두의 설명은 완전할지라도 단지 예시적인 실시형태이며, 당업자에게는 변형, 수정 및 변경이 명백할 수 있을 것으로 이해된다. 따라서 상기 예시적인 실시형태는 근본적인 본 발명의 태양의 넓은 범위를 제한하지 않는다는 것이 이해되어야 한다. 본 명세서에 기재된 방법 단계는 본 명세서에서 논리적 시퀀스로 열거되나, 이러한 시퀀스는 달리 특정되지 않는 한 이행될 수 있는 순서를 제한하지 않는다.
용어
본 발명에 관한 이러한 상세한 설명 및 특허청구범위에서, 하기의 정의가 적용될 다양한 용어가 사용될 수 있다:
본 명세서에서 사용되는 "허용 기준"은 특정 파라미터 범위 및 특정 파라미터 값 중 하나 또는 둘 모두를 지칭하여, 제작된 렌즈 또는 렌즈 전구체의 측정 파라미터가 렌즈 설계 및 원하는 표적 파일 중 하나 또는 둘 모두의 범위 내에 있거나 그 값을 만족시킨다면 제작된 제품은 허용가능한 것으로 여겨질 수 있게 한다.
본 명세서에서 사용되는 "블렌드 구역"은 렌즈의 한 부분과 렌즈의 다른 인접 부분, 및 DMD 쇼의 한 부분과 DMD 쇼의 다른 인접 부분 중 하나 또는 둘 모두가 섞인 연속 영역을 의미한다. 블렌드 구역은 렌즈의 한 부분의 특성과 렌즈의 다른 인접 부분의 특성이 섞인 영역이다.
본 명세서에서 사용되는 "카달로그 품목"은 예를 들어, 라이브러리 또는 데이터베이스에 영구적으로 또는 일시적으로 저장될 수 있으며, 사용하기 위하여 그들을 재생성하지 않고 리콜(recall)할 수 있는 파일, 특징부, 구성요소, 설계, 데이터 또는 기술어를 지칭한다.
본 명세서에서 사용되는 "윤곽 형성 장치"는 렌즈 전구체 폼, 렌즈 전구체 및 렌즈 중 하나 이상을 제작하는 장비 및 방법을 지칭하며, 이 장치는 예를 들어, 화학 방사선, 반응성 혼합물 및 DMD 소자의 사용을 수반할 수 있다.
본 명세서에서 사용되는 "수렴"(본 명세서에서 때때로 "수렴 프로세스" 또는 "수렴 프로세스"와 동일한 의미를 갖는 "수렴하다"로도 지칭)은 명령을 변경시키고, 반복 루프(Iterative Loop)에서 변경된 명령을 사용하는 프로세스를 지칭한다. 반복은 이후 제작된 렌즈 파라미터가 특정 허용 기준 및 원하는 표적 파일 중 하나 또는 둘 모두를 만족시킬 때까지 계속될 수 있다. 명령은 DMD 파일(들)일 수 있다.
본 명세서에서 사용되는 "굽은 공간(Curved Space)"은 설계의 곡률이 제거되지 않은 좌표 맵핑 공간(예컨대 직교(Cartesian), 극선, 구형 등)을 지칭한다.
본 명세서에서 사용되는 "맞춤형 상품"은 증분식이 아닌 단계로 이용할 수 있는 하나 이상의 파라미터를 포함하는 상품을 말한다. 주문 상품 파라미터는 표준 제품 파라미터보다 더욱 정밀한 구면 도수(sphere power), 난시 도수(cylinder power) 및 난시 축(예컨대, -3.125D/-0.47D x 18˚)을 가능하게 하며, 제공되는 제품의 특정 용도를 기반으로 한 베이스 커브(base curve), 직경 및 안정화 프로파일 및 두께 프로파일을 포함할 수 있다.
본 명세서에서 "원하는 표적 파일", 또는 "표적 파일"로 사용되는 "원하는 표적 파일"은 렌즈 설계, 두께 맵, 렌즈 전구체 설계, 렌즈 전구체 폼 설계, 렌즈 전구제 특징부 설계 및 상술된 것의 조합 중 하나 이상을 나타낼 수 있는 데이터를 말한다. 원하는 표적 파일은 수화 또는 비-수화 상태 중 어느 하나로, 평편한 또는 굽은 공간에서, 2-차원 또는 3-차원 공간에서, 그리고 가하학적 도면, 도수 프로파일, 형상, 특징부, 두께 등을 포함하나 이에 한정되지 않는 방법에 의해 나타낼 수 있다. 원하는 표적 파일은 규칙적으로 또는 불규칙적으로 이격된 그리드(grid) 상의 데이터를 포함할 수 있다.
본 명세서에서 사용되는 "디지털 코어 브레이크(Digital Core Break)"는 일련의 제품을 지칭하며, 여기서, 선택 렌즈 전구체 특징부 또는 제어 파라미터 또는 다른 특징부는 동일할 수 있으며, 특정 제품 범위 내에서 불변 유지될 수 있다.
본 명세서에 사용되는 "DMD"는 CMOS SRAM 위에 장착된 이동가능한 마이크로미러들의 어레이로 이루어진 쌍안정 공간 광 변조기(bistable spatial light modulator)인 디지털 마이크로미러 소자(digital micromirror device)를 말한다. 각각의 미러는 반사되는 광을 조종하도록 미러 아래의 메모리 셀 내로 데이터를 로딩하고, 비디오 데이터의 픽셀을 디스플레이 상의 픽셀에 공간적으로 맵핑함으로써 독립적으로 제어될 수 있다. 데이터는 2진 방식(binary fashion)으로 미러의 경사각을 정전기적으로 제어하고, 여기서 미러 상태는 +X도(온(on)) 또는 -X도(오프(off)) 중 어느 하나이다. 예를 들어, 현재의 소자의 경우, X는 10도 또는 12도(공칭) 중 어느 하나일 수 있으며; 장래의 소자는 상이한 경사각을 가질 수 있다. "온" 미러에 의해 반사된 광은 투사 렌즈를 통과하여 스크린 상에 이른다. "오프" 미러에 의해 반사된 광은 다크 필드(dark field)를 생성하고 이미지를 위한 블랙-레벨 플로어(black-level floor)를 한정한다. 이미지는 관찰자에 의해 통합되기에 충분히 빠른 속도로 "온" 레벨과 "오프" 레벨 사이의 그레이-스케일 변조(gray-scale modulation)에 의해 생성된다. 각각의 미러는 하나 또는 다수의 DMD 쇼로부터 많은 명령을 수신하거나, DMD 쇼 중 어느 것으로부터도 많은 명령을 수신할 수 없다. 선택 미러는 렌즈 제작 프로세스 동안 "온"이 될 수 있다. DMD(디지털 마이크로미러 소자)는 DLP 프로젝션 시스템에서 찾을 수 있다.
본 명세서에서 사용되는 "DMD 제어 소프트웨어"는 렌즈 전구체 또는 렌즈 전구체 특징부의 제작을 가능하게 할 수 있는 DMD 쇼 및 DMD 파일을 조직하고 사용하는 소프트웨어를 말한다.
본 명세서에서 "DMD 쇼" 또는 "DMD 파일"로 사용되는 "DMD 쇼"는 렌즈 또는 렌즈 전구체 또는 렌즈 전구체 폼 또는 렌즈 전구체 특징부(들)가 제작되게 하며 DMD 상의 미러를 활성화하는데 사용될 수 있는 시간 기반의 명령 데이터 포인트 및 두께 기반의 명령 데이터 포인트 중 하나 또는 둘 모두의 컬렉션(collection)을 말한다. DMD 쇼는 다양한 형식을 가질 수 있으며, (x,y,t) 및 (r,θ,t)가 가장 통상적이며, 여기서, 예를 들어, "x" 및 "y"는 DMD 미러의 직교 좌표 위치이며, "r" 및 "θ"는 DMD 미러의 극선 좌표 위치이며, "t"는 DMD 미러 상태를 제어하는 시간 명령을 나타낸다. DMD 쇼는 규칙적으로 또는 불규칙적으로 이격된 그리드 상의 데이터를 포함할 수 있다.
본 명세서에서 사용되는 "제작 프로세스 조건"은 렌즈 전구체, 렌즈 전구체 폼 및 렌즈 중 하나 이상의 제작에 사용되는 셋팅, 조건, 방법, 장비 및 프로세스를 말한다.
본 명세서에서 사용되는 "필터링"은 주어진 데이터에서의 오차를 한정하고, 검출하고, 제거하고, 교정하는 것 중 하나 이상을 포함하여, 후속 분석에 대한 입력 데이터에서 오차의 영향을 최소화하는 프로세스를 말한다.
본 명세서에서 사용되는 "평편한 공간"은 설계 곡률이 제거된 것으로 여겨지는 좌표 맵핑 공간(예컨대, 직교, 극선, 구형 등)을 말한다.
본 명세서에서 사용되는 "유동성 렌즈 반응성 매체(Fluent Lens Reactive Media)"는 그의 본래 형태, 반응된 형태 또는 부분적으로 반응된 형태 중 어느 하나에서 유동가능한 반응성 혼합물을 의미하고, 추가 처리시에 안과용 렌즈의 일부로 형성될 수 있다.
본 명세서에서 "자유-형성된(free-formed)" 또는 "자유-형태(free-form)"(본 명세서에서 때때로 "윤곽 형성된(Contour formed)" 또는 "윤곽 형성된"과 동일한 의미를 갖는 "윤곽 형태(Contour form)"로도 지칭됨)로 사용되는 바와 같은 "자유-형태"는 복셀 대 복셀 기준으로, 유동성 매체 층과 함께 또는 이것 없이, 화학 방사선에 대한 노출을 통한 반응성 혼합물의 가교결합에 의해 형성되고, 캐스트 성형, 레스(lathe) 또는 레이저 어블레이션(laser ablation)에 따라 형상화되지 않은 표면을 지칭한다. 자유-형성 방법 및 장치의 상세한 설명은 미국 특허 공개 제US2009/0053351호 및 미국 특허 공개 제US2009/0051059호에 개시되어 있다.
본 명세서에서 사용되는 "반복"은 이후의 DMD 파일/DMD 쇼의 생성을 지칭하며, 이는 이후에 수렴 프로세스에서 사용되어 허용 기준을 만족시킨다.
본 명세서에서 사용되는 "반복 루프"는 루프를 통한 각 시간에, 렌즈, 렌즈 전구체 및 렌즈 전구체 특징부 중 하나 이상이 그의 선행자보다 원하는 렌즈 설계에 대해 더욱 정각이도록 하는 렌즈, 렌즈 전구체 및 렌즈 전구체 특징부 중 하나 이상의 제작을 가능하게 할 수 있는 하나 또는 일련의 프로세스 단계를 지칭한다. 수렴 프로세스는 하나 이상의 반복 루프를 포함할 수 있으며, 여기서, DMD 쇼 및 제작 프로세스 조건 중 하나 또는 둘 모두가 변경될 수 있다.
본 명세서에서 "렌즈"로 사용되는 바와 같은 "렌즈"는 눈 내에 또는 눈 상에 있게 되는 임의의 안과용 장치를 지칭한다. 이들 장치는 광학적 교정을 제공할 수 있거나 미용을 위한 것일 수 있다. 예를 들어, 렌즈라는 용어는 콘택트 렌즈, 안내 렌즈(intraocular lens), 오버레이 렌즈(overlay lens), 안구 삽입체(ocular insert), 광학적 삽입체, 또는 시력이 교정되거나 변경되게 하는, 또는 시력을 방해함이 없이 눈 생리 기능이 미용적으로 향상되게 하는(예를 들어, 홍채 색상) 다른 유사한 장치를 지칭할 수 있다. 바람직한 렌즈는 소프트 콘택트 렌즈일 수 있고, 실리콘 하이드로겔 및 플루오로하이드로겔을 포함하지만 이에 제한되지 않는 실리콘 탄성중합체 또는 하이드로겔로부터 제조될 수 있다.
본 명세서에서 사용되는 "렌즈 설계"는 제작된다면, 광학 도수 교정, 허용가능한 렌즈 핏팅(예컨대, 각막 커버리지 및 이동), 허용가능한 렌즈 회전 안정성 등을 제공할 수 있는 원하는 렌즈의 형태, 기능 또는 둘 모두를 지칭한다. 렌즈 설계는 수화 또는 비수화 상태 중 어느 하나로, 평편한 또는 굽은 공간에서, 2-차원 또는 3-차원 공간에서, 그리고 가하학적 도면, 도수 프로파일, 형상, 특징부, 두께 등 중 하나 이상을 포함하는 방법에 의해 나타낼 수 있다. 렌즈 설계는 규칙적으로 또는 불규칙적으로 이격된 그리드 상의 데이터를 포함할 수 있다.
본 명세서에 사용되는 "렌즈 전구체"는 렌즈 전구체 폼 및 회전 대칭이거나 비-회전 대칭일 수 있는 렌즈 전구체 폼과 접촉하는 유동성 렌즈 반응성 매체로 이루어진 복합 물체를 의미한다. 예를 들어, 유동성 렌즈 반응성 매체는 소정 체적의 반응성 혼합물 내에서 렌즈 전구체 폼을 제조하는 중에 형성될 수 있다. 렌즈 전구체 폼을 제조하기 위해 사용된 소정의 체적의 반응성 혼합물로부터 렌즈 전구체 폼 및 유동성 렌즈 반응성 매체를 분리하는 것이 렌즈 전구체를 형성할 수 있다. 또한, 렌즈 전구체는 소정량의 유동성 렌즈 반응성 매체의 제거 또는 소정량의 유동성 렌즈 반응성 매체의 비-유동성 혼입 물질로의 변환 중 어느 하나에 의해 상이한 실재물(entity)로 변환될 수 있다.
"특징부"로도 지칭되는 본 명세서에서 사용되는 "렌즈 전구체 특징부"는 렌즈 전구체 폼의 비-유동성 하부구조를 지칭하며, 렌즈 전구체를 위한 기반으로 작용한다. 렌즈 전구체 특징부는 제어 파라미터(높이, 폭, 길이, 형상, 위치 등)에 의하여 실험적으로 정의되거나 수학적으로 기재될 수 있으며, DMD 쇼 명령을 통해 제작될 수 있다. 렌즈 전구체 특징부의 예는 하기의 것 중 하나 이상을 포함할 수 있다: 렌즈 에지(Edge) 특징부, 안정화 구역 특징부, 스마트 플로어 볼루메이터(Smart Floor Volumator) 특징부, 광학 구역 특징부, 모우트(Moat) 특징부, 드레인 채널(Drain Channel) 특징부 등. 렌즈 전구체 특징부는 화학 방사선 복셀을 사용하여 제작될 수 있으며, 추가의 처리 시에 안과용 렌즈 내로 혼입될 수 있다.
본 명세서에서 사용되는 "렌즈 전구체 폼"은 안과용 렌즈로의 추가 처리 시에 혼입되는 것과 양립할 수 있는 비-유동성 물체를 말한다.
본 명세서에서 사용되는 "안과용 장치" 또는 "제품"은 렌즈, 렌즈 전구체 및 렌즈 전구체 폼 중 하나 이상을 지칭하며, "표준 제품" 또는 "맞춤 제품" 중 어느 하나를 포함할 수 있다.
본 명세서에서 사용되는 "PV"(피크 대 밸리)는 전체 영역 및 특정 영역(예컨대, 광학 구역) 중 하나 또는 둘 모두에 대한 측정된 렌즈 전구체, 측정된 렌즈 전구체 폼 및 측정된 렌즈 중 하나 이상의 표면 상의 가장 높은 지점과 가장 낮은 지점 간의 차이를 말하며, 허용 기준의 일부일 수 있다.
본 명세서에서 사용되는 "RMS"(제곱 평균 제곱근)는 전체 영역 및 특정 영역(예컨대, 광학 구역) 중 하나 또는 둘 모두에 대한 측정된 렌즈 전구체, 측정된 렌즈 전구체 폼 및 측정된 렌즈 중 하나 이상의 평활도를 말하며, 허용 기준의 일부일 수 있다.
본 명세서에서 사용되는 "표준 제품"은 제한된 제품 파라미터 이용가능성을 갖는 제품, 예컨대 이산식 단계로 제공된 것을 말한다. 예를 들어, 구면 도수 파라미터는 오직 0.25D 단계(예컨대, -3.00D, 3.25D, -3.50D 등)로 이용가능할 수 있으며; 난시 도수 파라미터는 오직 0.50D 단계(예컨대, -0.75D, -1.25D, -1.75D 등)로 이용가능할 수 있으며; 난시 축 파라미터는 오직 10°(예컨대, 10°, 20°, 30° 등) 단계로 이용가능할 수 있다. 이산식 단계로 제공되는 다른 표준 제품 파라미터 및 특징부는 베이스 곡선 반경(base curve radii), 직경, 안정화 프로파일 및 두께 프로파일을 포함하나 이에 한정되지 않는다.
본 명세서에서 사용되는 "기재"는 그 상에 다른 실재물이 배치 또는 형성되는 물리적 실재물을 말한다.
본 명세서에서 사용되는 "표면 핏팅"은 아마도 제약을 겪는 일련의 데이터 포인트에 대하여 최적의 핏팅을 갖는 수학적 함수 또는 표면을 구축하는 프로세스를 지칭한다. 표면 핏팅은 데이터에 대한 정확한 핏팅이 필요한 보간법 또는 "평활" 함수가 데이터와 거의 핏팅되게 구축하는 평활화 중 어느 하나를 수반할 수 있다.
본 명세서에서 사용되는 "두께 맵"은 원하는 제품, 렌즈 전구체 폼 또는 렌즈 전구체의 2-차원 또는 3-차원 두께 프로파일 표현을 말한다. 두께 맵은 평편한 또는 굽은 공간 좌표 공간 중 어느 하나에 존재할 수 있으며, 규칙적으로 또는 불규칙적으로 이격된 그리드 상의 데이터를 포함할 수 있다.
본 명세서에서 사용되는 "트레이닝 영역"은 수렴 프로세스 중에 반복될 수 있는 전체 렌즈 중 하나 또는 둘 모두 및 렌즈의 하나 이상의 부분을 지칭한다.
본 명세서에서 "화학 방사선 복셀(Voxel)"로 사용되는 바와 같은 "복셀"은 3차원 공간에서의 규칙적 또는 불규칙적 그리드 상의 값을 나타내는 체적 요소이다. 복셀은 3차원 픽셀로서 고려될 수 있지만, 여기서 픽셀은 2D 이미지 데이터를 나타내고 복셀은 제3 차원을 포함한다. 또한, 복셀은 흔히 의학적 및 과학적 데이터의 시각화 및 분석에 사용되며, 본 발명에서 복셀은 반응성 혼합물의 특정 체적에 도달하는 화학 방사선의 양의 경계를 한정하기 위해 사용되고, 그에 따라 그러한 특정 체적의 반응성 혼합물의 가교결합 또는 중합의 속도를 제어한다. 예로서, 복셀은 화학 방사선이 2D 표면에 수직하게 지향될 수 있는 2D 금형 표면에 등각인 단일 층 내에 그리고 각각의 복셀의 공통 축 차원 내에 존재하는 것으로 고려된다. 예로서, 특정 체적의 반응성 혼합물은 768×768 복셀에 따라 가교결합 또는 중합될 수 있다.
렌즈는 DMD 쇼의 이용을 통하여 원하는 렌즈 설계에 기초하여 제작될 수 있다. 추가로, 제작된 렌즈는 렌즈 설계의 허용 기준에 따르지 않을 수 있으며, 여기서, 이전의 DMD 쇼의 반복이 발생해야 될 수 있다. 예를 들어, 이전의 DMD 쇼의 반복은 원하는 렌즈 설계의 더 가까운 수렴을 가능하게 할 수 있다.
이제 도 1을 참조하면, 흐름도에 의해 본 발명을 이행하기 위해 따를 수 있는 방법 단계가 예시된다. 일부 실시형태에서, 단계(101)에서, 렌즈 표면은 렌즈 표면 상에 존재할 수 있는 표면 이상(예컨대, 블로브(blob), 먼지 등)에 대하여 시험할 수 있다. 단계(102)에서, 표면 이상이 렌즈 표면 상에 존재한다는 결정 시에, 렌즈가 폐기될 수 있고, 예를 들어, 이전의 DMD 쇼의 동일한 설정을 사용함으로써 새로운 렌즈가 다시 제조된다. 단계(103)에서, 표면 이상이 렌즈 표면 상에 존재하지 않는다는 결정 시에, PV 값이 결정될 수 있다. PV가 허용가능하지 않다면, 단계(104)에서, 이후의 DMD 쇼의 반복을 위한 파라미터가 생성될 수 있으며, 새로운 렌즈가 제조된다. PV가 허용가능하다면, 단계(105)에서, RMS가 원하는 광학 구역 내에 존재하는지 여부의 결정이 이루어질 수 있다. RMS가 허용가능하지 않다면, 단계(104)에서, 이후의 DMD 쇼를 위한 파라미터가 생성될 수 있고, 새로운 렌즈가 제조된다. RMS가 허용가능하다면, 단계(106)에서, 측정된 렌즈가 다른 두께 상세사항(예컨대, 주변 기하형상)을 만족시키는지 여부의 결정이 이루어질 수 있다. 다른 두께 상세사항이 허용가능하지 않다면, 단계(104)에서, 이후의 DMD 쇼의 반복을 위한 파라미터가 생성될 수 있으며, 렌즈의 반복이 이루어진다. 다른 두께 상세사항이 허용가능하다면, 단계(107)에서, 렌즈는 후처리를 위해 이형될 수 있다.
상술된 방법 단계에서 논의된 바와 같이, 이전의 DMD 쇼가 렌즈 설계의 허용 기준에 따르지 않는 렌즈를 생성하는 경우가 존재할 수 있으며, 이후의 반복이 필요할 수 있다.
수렴 프로세스 중에 사용되는 다양한 기술, 양식 및 방법 중 하나 이상이 존재할 수 있다. 수렴 프로세스를 수행하는 경우, 이후의 반복을 위한 이후의 DMD 쇼 명령은 변경된 이전 DMD 쇼 명령, 이전의 쇼 명령 및 하나 이상의 다른 DMD 쇼 명령의 조합, 및 둘 이상의 DMD 쇼의 조합 중 하나 또는 모두일 수 있다. 예를 들어, 하나 또는 다수의 DMD 쇼로부터의 둘 이상의 부분이 이후의 반복을 위해 함께 조합될 수 있다. 따라서, 수렴 프로세스의 반복 루프는 렌즈가 렌즈 설계의 허용 기준을 만족시킬 때까지 지속적으로 반복될 수 있다.
본 발명의 일부 태양에서, 마스킹 기술은 수렴 프로세스 중에 이행될 수 있다. 일부 실시형태에서, 마스킹 기술은 반경 마스킹 기술, 섹터 마스킹 기술, 세그먼트 마스킹 기술 및 영역 마스킹 기술 중 하나 이상을 포함할 수 있다. 일부 관련된 실시형태에서, 하나 이상의 마스킹 기술은 이후의 반복에 사용될 수 있는 하나의 DMD 쇼 및 둘 이상의 DMD 쇼 중 어느 하나에 적용될 수 있다. 추가로, 하나 이상의 마스킹 기술은 전체 렌즈 및 하나 이상의 렌즈의 일부분 중 하나 또는 둘 모두를 포함할 수 있는 렌즈의 트레이닝 영역에 적용될 수 있다.
또한, 심지어 측정된 렌즈가 이미 원하는 허용 기준을 만족시키더라도, 마스킹 기술의 수행을 사용하여 추가로 렌즈 설계를 수렴할 수 있다. 예를 들어, 측정된 렌즈의 PV가 허용가능할 수 있으나, 이후의 반복에서 마스킹 기술의 수행은 렌즈 설계의 수렴을 심지어 더 근접하게 야기할 수 있으며, 이에 따라, 더 나은 렌즈의 성능, 예컨대, 마스킹 기술을 사용하지 않고 이루어질 수 있는 것보다 훨씬 더 정밀함을 갖는 향상된 시력을 가능하게 한다.
이제 도 2a 내지 2d를 참조하면, 평편한 공간에서의 상이한 마스킹 기술의 다양한 예가 예시되어 있다. 마스킹 기술을 이행하는 경우, 사용자는 DMD 쇼가 사용될 수 있는 내측의 경계 및 상이한 DMD 쇼가 사용될 수 있는 외측의 경계 중 하나 이상을 특정할 수 있다.
이제 도 2a를 참조하면, DMD 쇼에 적용되는 반경 마스킹 기술의 일 예가 예시되어 있다. 이후의 반복을 위한 반경 마스킹 기술을 사용하는 경우, 하나 이상의 DMD 쇼의 하나 이상의 부분은 소정의 반경(201) 내에서 발생하도록 특정될 수 있다. 또한, 하나 이상의 상이한 DMD 쇼의 하나 이상의 부분은 렌즈 설계의 하나 이상의 반경 및 렌즈 설계의 나머지 전체 부분 중 하나 또는 둘 모두 내에서 발생하도록 특정될 수 있다.
이제 도 2b를 참조하면, DMD 쇼에 적용되는 섹터 마스킹 기술의 일 예가 예시되어 있다. 이후의 반복을 위한 섹터 마스킹 기술을 사용하는 경우, 하나 이상의 DMD 쇼의 하나 이상의 부분은 소정의 섹터(202) 내에서 발생하도록 특정될 수 있다. 또한, 하나 이상의 상이한 DMD 쇼의 하나 이상의 부분은 렌즈 설계의 하나 이상의 섹터 및 렌즈 설계의 나머지 전체 부분 중 하나 또는 둘 모두 내에서 발생하도록 특정될 수 있다.
이제 도 2c를 참조하면, DMD 쇼에 적용되는 세그먼트 마스킹 기술의 일 예가 예시되어 있다. 이후의 반복을 위한 세그먼트 마스킹 기술을 사용하는 경우, 하나 이상의 DMD 쇼의 하나 이상의 부분은 특정 세그먼트(203, 204) 내에서 발생하도록 특정될 수 있다. 또한, 하나 이상의 상이한 DMD 쇼의 하나 이상의 부분은 렌즈 설계의 하나 이상의 세그먼트 및 렌즈 설계의 나머지 전체 부분 중 하나 또는 둘 모두 내에서 발생하도록 특정될 수 있다.
이제 도 2d를 참조하면, DMD 쇼에 적용되는 영역 마스킹 기술의 일 예가 예시되어 있다. 이후의 반복을 위한 영역 마스킹 기술을 사용하는 경우, 하나 이상의 DMD 쇼의 하나 이상의 부분은 특정 영역(205) 내에서 발생하도록 특정될 수 있다. 또한, 하나 이상의 상이한 DMD 쇼의 하나 이상의 부분은 렌즈 설계의 하나 이상의 영역 및 렌즈 설계의 나머지 전체 부분 중 하나 또는 둘 모두 내에서 발생하도록 특정될 수 있다.
마스킹 기술을 사용하는 경우에 하나 이상의 블렌드 구역(206)이 특정될 수 있다. 예를 들어, 하나 이상의 블렌드 구역(206)은 마스킹 기술을 이행하는 경우에 적용될 수 있으며, 도 2e에 예시된 바와 같이, 하나의 DMD 쇼 또는 둘 이상의 DMD 쇼 중 어느 하나로부터 취한 둘 이상의 부분(207, 208)은 그들이 이후의 DMD 쇼에서 함께 조합되는 경우에 서로 연결되지 않는다. 블렌드 구역(206)은 렌즈의 일부분(207)과 렌즈의 인접 부분(208) 사이에 존재한다. 각 블렌드 구역에서, 렌즈의 부분(207)의 특성과 렌즈의 인접 부분(208)의 특성이 섞여 있다.
본 발명의 일부 추가의 태양에서, 일방형 수렴 양식 및 양방형 수렴 양식 중 하나 또는 둘 모두에 의하여 수렴 프로세스 중에 이행되는 상이한 수렴 양식이 존재할 수 있다. 일부 실시형태에서, 이전의 DMD 쇼의 반복을 수행하는 경우에 양방형 수렴 양식이 사용되어, 이후의 DMD 쇼에서 렌즈 설계를 수렴할 수 있다. 예를 들어, 이전의 쇼는 렌즈 설계보다 두꺼운 렌즈의 부분 및 렌즈 설계보다 얇은 렌즈의 부분 중 하나 또는 둘 모두일 수 있는 렌즈의 부분을 생성할 수 있다. 양방형 수렴 양식을 수행하는 경우, 렌즈 설계에서 필요로 하는 것보다 더 두꺼운 하나 이상의 영역 및 더 얇은 하나 이상의 영역 둘 모두를 갖는 렌즈를 야기하는 명령의 둘 모두의 파라미터 중 하나 이상을 조정함으로써 이후의 DMD 쇼에 대한 반복이 발생할 수 있다. 이후의 쇼를 위하여, 이전의 쇼의 각 픽셀에서 조정이 발생할 수 있다.
또한, 일방형 수렴 양식이 이행되어, 이후의 DMD 쇼에서 렌즈 설계를 수렴할 수 있다. 이전의 DMD 쇼의 반복을 수행하는 경우, 시크닝 래칫 명령 및 시닝 래칫 명령 중 하나 또는 둘 모두를 사용함으로써 일방형 수렴 양식이 수행될 수 있다. 예를 들어, 이전의 DMD 쇼는 렌즈 설계보다 더 두꺼운 렌즈의 영역 및 렌즈 설계보다 더 얇은 렌즈의 영역 중 하나 또는 둘 모두일 수 있는 렌즈의 영역을 생성할 수 있다. 값이 감소될 필요가 있는 명령 및 값이 증가될 필요가 있는 명령 중 하나 이상의 파라미터를 조정하는 것에 의해 이후의 쇼 명령을 위한 반복이 발생할 수 있다. 따라서, 이후의 쇼 명령을 위해 선택된 영역의 각 픽셀에서 조정이 발생할 수 있다.
이제 도 3을 참조하면, 양방형 수렴 양식의 이행의 평편한 공간에서의 그래프 표현이 예시된다. 이러한 예에서, 이전의 DMD 명령(301)에 의해 표적 두께(302)보다 더 얇은 렌즈의 영역(306) 및 원하는 렌즈 설계의 표적 두께(302)보다 더 두꺼운 렌즈의 영역(305)을 갖는 측정된 렌즈(303)가 생성된다.
그래프(300)에서, 양방형 수렴 양식을 이후의 DMD 명령(304)에 적용하는 것이 예시된다. 이후의 DMD 쇼 명령(304)은 표적 두께 값(302)에 비하여 측정된 렌즈(303)에서 너무 두꺼웠던 영역을 생성하는 이전의 DMD 쇼 명령(301)의 영역(307)에서 감소를 명령하게 한다. 영역(307)에서, 이후의 명령은 이전의 명령에 비하여 값이 감소된다. 또한, 이후의 DMD 쇼 명령은 표적 두께 값(302)에 비하여 측정된 렌즈(303)에서 너무 얇았던 영역을 생성하는 이전의 DMD 쇼 명령(301)의 영역(308)에서 증가를 명령하게 한다.
이제 도 4를 참조하면, 시크닝 래칫 명령을 사용함으로써 일방형 수렴 양식의 이행의 평편한 공간에서의 그래프 표현이 예시되어 있다. 이러한 예에서, 이전의 DMD 명령(401)은 표적 두께보다 더 두꺼웠던 렌즈의 영역(406) 및 렌즈 설계의 표적 두께(402)보다 더 얇았던 렌즈의 영역(407)을 갖는 측정된 렌즈(403)를 생성하였다.
그래프(400)에서, 이후의 DMD 쇼 명령(404)에서 시크닝 래칫 명령(405)을 사용함으로써 일방형 수렴 양식을 적용하는 것이 예시되어 있다. 이후의 DMD 명령(404)은 표적 두께 값(402)에 비하여 측정된 렌즈(403) 상에서 너무 얇았던 영역(407)을 생성하는 이전의 DMD 쇼 명령(401)의 영역(408)에서만 증가를 명령하게 한다. 또한, 이후의 DMD 명령(404)은 표적 두께 값(402)에 비하여, 너무 두꺼웠던 측정된 렌즈(403)의 영역(406)을 생성하는 이전의 쇼 명령(401)으로부터 변하지 않고 유지된다. 따라서, 이후의 반복을 위하여, 측정된 렌즈(403) 상에서 너무 얇았던 영역(407)을 야기하였던 이전의 쇼의 부분에만 조정이 일어난 한편, 다른 영역(409)은 이후의 DMD 명령(404)에서 변하지 않고 유지된다. 이전의 명령은 표적 두께 값(402)에 비하여 너무 두꺼웠던 측정된 렌즈(403)의 영역(406)을 생성하였던 이전의 명령의 영역(409)에서 사용될 것이다.
이제 도 5를 참조하면, 시닝 래칫 명령을 사용함에 의한 일방형 수렴 기술의 평편한 공간에서의 그래프 표현이 예시되어 있다. 이러한 예에서, 이전의 DMD 명령(501)은 렌즈 설계의 표적 두께(502)보다 더 두꺼운 영역(506) 및 더 얇은 영역(507) 둘 모두를 갖는 측정된 렌즈(503)를 생성하였다.
그래프(500)에서, 이후의 DMD 쇼 명령(504)에서 시닝 래칫 명령(505)을 사용함으로써 일방형 수렴 양식을 적용하는 것이 예시되어 있다. 이후의 DMD 명령(504)은 표적 두께(502)에 비하여 측정된 렌즈(503) 상에서 너무 두꺼웠던 영역(506)을 생성하는 이전의 DMD 쇼 명령(501)의 감소를 명령하게 한다. 또한, 이후의 DMD 명령(504)은 표적 두께 값(502)에 비하여, 너무 얇았던 측정된 렌즈(503)의 영역(507)을 생성하는 이전의 쇼 명령(504)으로부터 변하지 않고 유지된다. 따라서, 이후의 반복을 위하여, 측정된 렌즈(503) 상에서 너무 두꺼웠던 영역(506)을 야기하였던 이전의 쇼의 부분에만 조정이 일어난 한편, 다른 영역은 이후의 DMD 명령(504)에서 변하지 않고 유지된다. 영역(509)에서, 이후의 명령은 이전의 명령에 비하여 값이 감소된다. 영역(508)에서, 이전의 명령이 사용된다.
본 발명의 일부 추가의 태양에서, 하나 이상의 상기 언급된 수렴 양식을 이행하는 경우 정점 로킹 기술 및 피스톤-이동 기술 중 하나 또는 둘 모두를 포함하는 다양한 기술이 적용될 수 있다. 정점 로킹 기술을 수행하는 경우, 이전의 DMD 쇼로부터 정점에서의 명령은 표적 두께 값까지 조정될 수 있다. 또한, 이전의 명령의 다른 선택된 영역은 정점 값과 동량으로 균일하게 상향 조정될 수 있으며, 정점은 그것이 다른 이후의 DMD 쇼에 대하여 변함없이 유지될 수 있도록 로킹될 수 있다.
예를 들어, 정점 제어를 로킹하는 경우, 정점(ICT)에서의 명령은 표적 두께 정점 값까지 상향 조정되고 동일하게 유지될 수 있으며; ICT와 표적 두께 정점 간의 측정된 이러한 거리는 록(lock) CT 값이다. 록 CT 값(Δth)은 이전의 쇼의 ICT와, 동일한 쇼의 표적 두께 정점 값 간의 차이를 취함으로써 계산할 수 있다. 이후에, Δth는 전체 측정된 렌즈 표면의 모든 지점에 더해 수 있으며, 이후의 DMD 쇼를 위해 "변경된" 렌즈 두께 파일이 될 수 있다. 결과적으로, 이후의 DMD 쇼 명령은 "변경된" 측정된 렌즈를 생성할 수 있으며, 이후에 렌즈 설계와 비교할 수 있다.
또한, 정점 로킹 기술의 수행을 사용하여 심지어 측정된 렌즈가 이미 원하는 허용 기준을 만족시킬 지라도 렌즈 설계를 추가로 수렴할 수 있다. 예를 들어, 측정된 렌즈의 PV는 허용가능할 수 있으나, 이후의 반복에서의 정점 로킹 기술의 수행은 훨씬 더 근접한 렌즈 설계의 수렴을 야기할 수 있으며, 이에 따라, 더 나은 렌즈의 성능, 예컨대 정점 로킹 기술을 사용하지 않고 이루어질 수 있는 것보다 훨씬 더 정밀함을 갖는 향상된 시력을 가능하게 한다.
이제 도 6 및 도 7을 참조하면, 도 6은 렌즈 중심 두께가 너무 얇은 경우 정점 로킹 기술을 사용하는 것의 평편한 공간에서의 그래프 표현을 예시한 것이며, 도 7은 렌즈 중심 두께가 너무 두꺼운 경우 정점 로킹 기술을 사용하는 것의 평편한 공간에서의 그래프 표현을 예시한 것이다. 또한, 도 6 및 도 7 둘 모두는 평편한 공간에서의 이후의 로킹된 정점 DMD 명령 간의 비교의 예이며, 여기서, ICT는 이전의 쇼 명령(601, 701) 및 이후의 비-로킹 정점 DMD 명령(606, 706)에서와 같이 동일하게 유지되며, 여기서, ICT는 이전의 쇼 명령(601, 701)과 동일하게 유지되지 않을 수 있다. 표적 두께(602, 702)는 각각 도 6 및 도 7에 나타나 있다. 이제 다시 도 6을 참조하면, 이러한 예에서, 이전의 DMD 명령(601)은 측정된 렌즈(603)를 생성하였으며, 여기서, ICT는 원하는 렌즈 설계의 표적 두께(602) 정점 값보다 더 얇다. 이제 다시 도 7을 참조하면, 이러한 예에서, 이전의 DMD 명령(701)은 측정된 렌즈(703)를 생성하였으며, 여기서, ICT는 원하는 렌즈 설계의 표적 두께(702) 정점 값보다 더 두껍다.
이제 다시 도 6, 영역(605) 및 도 7, 영역(705)를 참조하면, 측정된 렌즈(603, 703)의 ICT 값과 표적 두께 정점 값(602, 702) 간의 차이를 비교하고, Δth에 의해 이후의 명령을 조정함으로써 일시적인 조정된, 측정된 렌즈 프로파일이 생성된다. 영역(606) 및 영역(706)에서, Δth를 전체 측정된 렌즈(603, 703), 일시적인 조정된, 측정된 렌즈 프로파일(605, 705)의 표면 + 임의의 선택된 추가의 양에 더하고, 이에 의해 그 총량에 의해 이후의 명령을 조정함으로써 이후의 비-로킹 정점 명령이 계산된다. 영역(604) 및 영역(704)에서, 정점 록 명령은 비-로킹 정점 명령(606, 706)과 Δth의 차이를 취하고, 이후에 이러한 차이를 측정된 렌즈(603, 703) 상의 모든 지점, ICT를 제외한 표면에 더함으로써 계산된다. 따라서, ICT는 이전의 DMD 명령(601, 701)에서와 동일하게 유지되며, 수렴 프로세스의 반복 루프를 통해 진행되는 경우 이후의 반복 중에 변하지 않고 유지된다.
본 발명의 일부 다른 추가의 태양에서, 피스톤-이동 기술을 수행하는 경우, 이전의 DMD 쇼 명령의 균일한 이동이 선택된 양으로, 이전의 명령의 하나 이상의 선택된 부분에 대해 행해질 수 있다. 또한, 일부 다른 실시형태에서, 피스톤 이동 기술의 수행을 사용하여, 심지어 측정된 렌즈가 이미 원하는 허용 기준을 만족시킬지라도 렌즈 설계를 추가로 수렴할 수 있다. 예를 들어, 측정된 렌즈의 PV가 허용가능할 수 있으나, 이후의 반복에서 피스톤 이동 기술의 수행은 렌즈 설계의 수렴을 훨씬 더 근접하게 야기할 수 있으며, 이에 따라, 렌즈의 더 나은 성능, 예컨대 피스톤 이동 기술을 사용하지 않고 이루어질 수 있는 것보다 훨씬 더 정밀함을 갖는 향상된 시력을 가능하게 한다.
이제 도 8을 참조하면, 피스톤-이동 기술의 사용의 평편한 공간에서의 그래프 표현이 예시된다. 또한, 그래프(800)에서, 이후의 피스톤 이동된 DMD 명령(805) - 여기서, 이전의 쇼의 명령의 하나 이상의 선택된 부분의 균일한 이동이 동일한 양으로 조정된다 - 과, 이후의 비-피스톤 이동 DMD 명령(804) 간의 평편한 공간에서의 비교의 일 예이다. 이러한 예에서, 이전의 DMD 명령(801)에 의해 원하는 렌즈 설계의 표적 두께(802)보다 더 두꺼운 렌즈의 영역 및 더 얇은 렌즈의 영역 둘 모두가 있는 측정된 렌즈(803)가 생성된다. 그래프(804)에서는 하나 이상의 다양한 선택된 양으로, 이전의 DMD 명령(801)의 하나 이상의 선택된 부분을 불균일하게 조정함에 의한 이후의 비-피스톤 이동 명령 결과이다. 그래프(805)에서는 이전의 DMD 쇼 명령(801)의 하나 이상의 선택된 부분을 동일한 선택된 양만큼 균일하게 이동시킴에 의한 이후의 피스톤-이동 명령 결과이다.
산술적 두께 교정 방법, 백분율 두께 교정 방법 및 시컨트 두께 교정 방법 중 하나 이상을 포함하는 다양한 두께 교정 방법을 수렴 프로세스에서 사용하여 이후의 DMD 쇼 명령을 계산할 수 있다. 렌즈가 허용 기준을 만족시키지 않을 경우에, 두께 교정 방법은 당업자에 의해 이루어진 관찰에 기초하여 선택될 수 있다.
선택된 두께 교정 방법을 사용하여 이전의 DMD 쇼의 각 픽셀에서 조정이 이루어져서, 이후의 반복을 위한 DMD 쇼 명령을 계산할 수 있다. 이전의 쇼의 선택된 데이터 포인트는 두께 교정 방법을 적용하기 전에 이후의 DMD 쇼를 위한 필터링 프로세스 및 표면 핏팅 프로세스 중 하나 또는 둘 모두를 통하여 진행될 수 있다. DMD 쇼를 반복하여, 렌즈의 소정의 영역 또는 특정 영역에 영향을 미칠 수 있다. 따라서, 예를 들어, 이전의 DMD 쇼의 이후의 반복은 전체 렌즈의 변경, 렌즈의 소정의 구경(aperture)의 감소 및 렌즈의 소정의 구경(예컨대, 광학 구역, 주변 구역)의 증가 중 하나 또는 둘 모두, 및 렌즈의 선택 영역의 변경 중 하나 이상을 야기할 수 있다.
또한, 다양한 이득 세기 인자를 이후의 DMD 쇼 명령의 계산에 적용할 수 있다. 추가로, 이득 세기 인자가 이후의 반복 중에 중간에 변경될 수 있다. 예를 들어, 반복 3에 적용되는 200%의 이득 인자는 반복 5에서 150%로 저하될 수 있다.
DMD 쇼가 허용 기준을 만족시키지 않는 렌즈를 생성한다면, 산술적 두께 교정 방법을 사용하여 반복 DMD 쇼에 대한 명령을 계산할 수 있다. 표 1 내지 4는 산술적 두께 교정 방법을 사용하여, 상이한 반복에서 이후의 DMD 쇼 명령을 계산하고, 다양한 이득 세기 인자를 적용함으로써 생성되는 데이터의 디스플레이를 예시한다. 예시된 데이터는 본 발명을 이행하는데 사용될 수 있는 다양한 이득 세기 인자의 적용과 함께 산술적 두께 교정 방법을 사용함으로써 생성된다.
표 1 내지 4에 대하여:
데이터 세트 내의 각각의, 임의의 또는 모든 포인트에 대하여, 포인트의 위치는 (Xij, Yij)로서 직교 좌표 공간에서 특정된다:
㎜ 단위로 제공되는 명령
(x, y) 위치로 주어진, 측정된 렌즈 데이터 세트 내의 각각의, 임의의 또는 모든 포인트에 대하여:
㎜ 단위로 제공되는 측정된 렌즈 두께
(x, y) 위치로 주어진, 표적 두께 데이터 세트 내의 각각의, 임의의 또는 모든 점에 대하여:
㎜ 단위로 제공되는 표적 두께
일반적으로: 델타_두께 = 표적 두께 - 측정된 렌즈 두께
스케일드(scaled) 델타 두께 값 = (델타T_*A)/100
Figure 112013028197443-pat00001
Figure 112013028197443-pat00002
Figure 112013028197443-pat00003
Figure 112013028197443-pat00004
산술적 두께 교정 방법을 사용하여 이후의 DMD 쇼 명령 설정을 위한 반복 값을 계산하기 위하여, 델타 두께 값을 계산해야 할 수 있다. 예를 들어, 델타 두께 값은 표적 설계의 표적 두께 값 - 이전의 DMD 쇼로부터 생성된 측정된 렌즈 두께 값과 동일할 수 있다. 델타 두께 값의 계산 후에, 델타 두께 값을 선택된 적용가능한 이득 세기 인자의 양과 곱하고, 100으로 나누어, 스케일드 델타 두께 값을 결정할 수 있다. 스케일드 델타 두께 값이 이전의 쇼 명령의 값에 더해질 수 있다. 이후의 DMD 쇼를 위한 각 픽셀에 대한 새로운 값을 계산하기 위하여 상기 언급된 식의 사용은 이전의 쇼의 각 픽셀에서 발생할 수 있다.
산술적 방법을 위한 식은 하기와 같다:
Figure 112013028197443-pat00005
Figure 112013028197443-pat00006
Figure 112013028197443-pat00007
표 2는 산술적 두께 교정 방법을 사용하고 이전의 쇼의 이후의 반복에 대하여 200% 이득 세기 인자를 적용하는 것의 일 예이며, 여기서, 렌즈 설계의 표적 두께 값은 .0900㎜이며, 측정된 렌즈 두께는 .0750㎜이다. 이러한 예에서, 델타 두께 값은 0.0150㎜이며, 이는 0.0900㎜의 표적 두께 값으로부터 0.0750㎜의 측정된 렌즈 두께를 감산함으로써 계산한다. 추가로, 스케일드 델타 두께 값은 0.0300㎜이며, 이는 0.0150㎜의 델타 두께 값과 200%의 이득 세기 인자를 곱하고, 그 값을 100으로 나눔으로써 계산한다. 이후에, 0.0300㎜의 스케일드 델타 두께 값과 0.1250㎜의 이전의 쇼 값을 더하여, 0.1550㎜의 이후의 쇼 명령 값을 제공한다.
DMD 쇼가 원하는 허용 기준을 만족시키지 않는 렌즈를 생성한다면, 백분율 두께 교정 방법을 사용하여 반복 DMD 쇼에 대한 명령을 계산할 수 있다. 이제 표 5 내지 7을 참조하여, 백분율 두께 교정 방법을 사용하여 상이한 반복에서 이후의 DMD 쇼 명령을 계산하고 다양한 이득 세기 인자를 적용함으로써 생성되는 데이터의 디스플레이를 예시한다. 예시된 데이터는 본 발명을 이행하기 위해 사용될 수 있는 다양한 이득 세기 인자의 적용과 함께 백분율 두께 교정 방법을 사용함으로써 생성된다.
Figure 112013028197443-pat00008
Figure 112013028197443-pat00009
Figure 112013028197443-pat00010
표 5 내지 7에 대하여:
초기_명령_0(쇼 시작, 표적 파일과 동일할 필요가 없음)
일반적으로:
PREV = 이전의 명령
GF = GF(GFression) 수준
TARGET = 표적 두께
MEASURED = 측정된 렌즈 두께로 한다.
이어서: 다음의 명령 = PREV + (((PREV × GF) × (TARGET - MEASURED)) / (MEASURED × 100))
명령_1 = PREV_0 + (((PREV_0 × GF) × (TARGET - MEASURED_0)) / (MEASURED_0 × 100))
명령_2 = PREV_1 + (((PREV_1 × GF) × (TARGET - MEASURED_1)) / (MEASURED_1 × 100))
명령_3 = PREV_2 + (((PREV_2 × GF) × (TARGET - MEASURED_2)) / (MEASURED_2 × 100))
명령_4 = PREV_3 + (((PREV_3 × GF) × (TARGET - MEASURED_3)) / (MEASURED_3 × 100)).
백분율 교정 방법을 사용하여 이후의 DMD 쇼 명령 설정에 대한 반복 값을 계산하기 위하여, 델타 명령 값을 계산해야 할 수 있다. 예를 들어, 델타 명령 값은 이전의 쇼 값을 취하고, 그를 적용가능한 이득 세기 인자와 곱하고, 이어서, 생성된 값을 (표적 두께 값 - 측정된 렌즈 값)과 곱한 것과 동일할 수 있다. 또한, 이전의 값을 측정된 렌즈 값으로 나누고, 이어서, 생성된 값을 100과 곱하고, 이후에, 이 값을 이전의 쇼 값과 더한다. 전술된 식의 이용은 이후의 DMD 쇼를 위한 각 픽셀에 대한 새로운 값을 계산하기 위하여 이전의 쇼의 각각의 픽셀에서 발생할 수 있다. 백분율 방법을 위한 식은 하기와 같다:
Figure 112013028197443-pat00011
표 6은 백분율 두께 교정 방법 계산을 사용하고 초기 쇼의 이후의 반복에 대하여 200% 이득 인자를 적용하는 것의 일 예이며, 여기서, 초기 쇼는 0.125㎜이며, 표적 두께는 0.090㎜이고, 측정된 렌즈 두께는 .0750㎜이다. 이러한 예에서, 이후의 DMD 쇼 명령은 0.125㎜의 초기 쇼 값을 200%와 곱하고, 이어서, 이러한 값을 0.015㎜(이는 0.090㎜의 표적 두께 값과 0.00375㎜의 값과 동등한 0.075㎜의 측정된 렌즈 값의 차이의 값임)와 곱함으로써 계산한다. 이후에, 0.00375㎜의 값을 0.075㎜의 측정된 렌즈 값으로 나눔으로써 0.05㎜의 델타 명령 값을 계산한다. 또한, 0.125㎜의 이전의 쇼 값은 이후에 0.05㎜의 델타 명령 값에 더하여, 0.175㎜의 이후의 DMD 쇼 명령 값을 야기한다.
이후의 DMD 쇼 명령 설정에 대한 반복 값은 시컨트 방법 알고리듬을 사용함으로써 계산할 수 있는 시컨트 두께 교정 방법을 사용함으로써 결정될 수 있다. 시컨트 방법은 함수 f의 근의 더 나은 근사치를 얻기 위하여 일련의 할선의 근을 사용하는 근-찾기 알고리듬이며, 당업자에게 공지되어 있다.
전술된 두께 교정 방법 중 하나 이상을 사용하는 경우, 다양한 공간 이득 방법을 적용할 수 있다. 공간 이득 방법은 균일(선형) 공간 이득 방법 및 불균일 공간 이득 방법 중 하나 또는 둘 모두를 포함할 수 있다. 또한, 불균일 공간 이득 방법은 함수 기반의 불균일 공간 이득 방법 및 직접 맵핑 공간 이득 방법 중 하나 또는 둘 모두를 포함하는 2가지 유형으로 이루어질 수 있다.
균일(선형) 공간 이득 방법을 적용하는 경우, 동일한 두께 교정 방법이 지정된 트레이닝 영역에 걸쳐 적용되고, 여기서, 이득 세기 인자는 각 픽셀 위치에서 동일하다. 예를 들어, 광학 구역 내의 모든 픽셀은 100% 이득 세기 인자를 사용하여 산술적 방법으로 변경될 수 있다. 불균일 공간 이득 방법을 적용하는 경우, 동일한 두께 교정 방법이 지정된 트레이닝 영역에 걸쳐 적용될 수 있으며, 이득 세기 인자는 각 픽셀 위치에서 상이할 수 있다. 예를 들어, 4㎜의 직경에 놓인 픽셀은 200%의 이득 세기 인자를 가질 수 있는 한편, 2㎜의 직경에 놓인 픽셀은 150%의 이득 세기 인자를 가질 수 있다.
함수 기반의 불균일 공간 이득 방법을 적용하는 경우, 이득 세기 인자는 픽셀의 반경 위치와 관련이 있을 수 있다. 다른 관련된 일부 실시형태에서, 직접 맵핑 불균일 공간 이득 방법을 적용하는 경우, 해당하는 데이터는 하나 이상의 이전의 DMD 쇼, 측정된 렌즈 및 렌즈 설계의 트레이닝 영역으로부터 레버리징되어, 각 픽셀 위치에서 원하는 이득 세기를 계산할 수 있다.
이제 도 9를 참조하면, 본 발명의 일부 태양을 이행하기 위해 사용될 수 있는 컨트롤러(1100)가 예시된다. 하나 이상의 프로세서를 포함할 수 있는 프로세서 유닛(1101)은 통신 네트워크를 통해 통신하도록 구성된 통신 장치(1102)에 결합된다. 통신 장치(1102)는 예를 들어, 하나 이상의 컨트롤러 장치 또는 제작 장비 구성요소와 통신하기 위하여 사용될 수 있다.
또한, 프로세서(1101)는 저장 장치(1103)와 통신하여 사용될 수 있다. 저장 장치(1103)는 자기 저장 장치(예를 들어, 자기 테이프 및 하드 디스크 드라이브), 광학적 저장 장치, 및/또는 반도체 메모리 장치, 예를 들어 랜덤 액세스 메모리(Random Access Memory; RAM) 장치 및 판독 전용 메모리(Read Only Memory; ROM) 장치의 조합을 비롯한 임의의 적절한 정보 저장 장치를 포함할 수 있다.
저장 장치(1103)는 프로세서(1101)를 제어하기 위한 실행가능한 소프트웨어 프로그램(1104)을 저장할 수 있다. 프로세서(1101)는 소프트웨어 프로그램(1104)의 명령을 수행하며, 따라서 본 발명에 따라, 예컨대 전술된 방법 단계와 같이 작동한다. 예를 들어, 프로세서(1101)는 원하는 렌즈 설계를 설명하는 정보를 수신할 수 있다. 또한, 저장 장치(1103)는 하나 이상의 데이터베이스(1105, 1106)에 눈 관련 데이터를 저장할 수 있다. 데이터베이스는 DMD 쇼 명령 데이터, 맞춤 렌즈 설계 데이터, 도량형 데이터, 특정 렌즈 설계를 위한 정의된 렌즈 파라미터 데이터를 포함하는 하나 이상의 파일을 포함할 수 있다.
결론
상술되고 하기의 특허청구범위에 추가로 한정된 바와 같은 본 발명은 수렴 프로세스를 이행하기 위한 장치를 제공한다.
하기의 완전하지 않은 목록은 본 발명의 태양이다:
태양 1. 렌즈 설계를 수렴하는 윤곽 형태 안과용 렌즈를 생성하기 위하여 DMD 쇼를 변경하는 장치로서,
윤곽 형성 장치와 디지털 통신하는 컴퓨터 프로세서;
컴퓨터 프로세서와 통신하고, 요청에 따라 실행가능하며 프로세서 및 윤곽 렌즈 형성 장치와 함께 작동되는, 실행 소프트웨어 코드를 저장하는 디지털 매체 저장 장치를 포함하여,
렌즈 설계 데이터 및 DMD 쇼 데이터 중 하나 또는 둘 모두를 포함하는 데이터의 목록을 설명하는 디지털 데이터를 저장하고;
상기 데이터를 설명하는 디지털 데이터 입력을 수신하고;
상기 DMD 쇼를 생성하고 - DMD 쇼 명령은 상기 렌즈 설계에 기초한다 - ;
상기 렌즈가 상기 렌즈 설계의 허용 기준에 따르는지를 결정하고;
이후의 DMD 쇼 명령을 생성하기 위한 - 상기 이후의 DMD 쇼 명령은 하나 이상의 수렴 마스킹 기술을 포함한다 - 장치.
태양 2. 상기 수렴 마스킹 기술이 하나 이상의 선택된 마스킹 영역을 커버하는 상기 DMD 쇼 중 하나 이상을 포함하는 태양 1의 장치.
태양 3. 상기 선택된 마스킹 영역이 반경, 섹터, 세그먼트 및 영역 중 하나 이상을 포함하는 태양 2의 장치.
태양 4. 상기 수렴 마스킹 기술 중 하나 이상이 하나 이상의 블렌드 구역을 포함하는 태양 1의 장치.
태양 5. 상기 블렌드 구역이 상기 선택된 마스킹 영역을 하나 이상의 비-마스킹 영역과 연결하는 하나 이상의 특정 구역을 포함하는 태양 4의 장치.
태양 6. 렌즈 설계를 수렴하는 윤곽 형태 안과용 렌즈를 생성하기 위하여 DMD 쇼를 변경하는 장치로서,
윤곽 형성 장치와 디지털 통신하는 컴퓨터 프로세서;
컴퓨터 프로세서와 통신하고, 요청에 따라 실행가능하며 프로세서 및 윤곽 렌즈 형성 장치와 함께 작동되는, 실행 소프트웨어 코드를 저장하는 디지털 매체 저장 장치를 포함하여,
렌즈 설계 데이터 및 DMD 쇼 데이터 중 하나 또는 둘 모두를 포함하는 데이터의 목록을 설명하는 디지털 데이터를 저장하고;
상기 데이터를 설명하는 디지털 데이터 입력을 수신하고;
상기 DMD 쇼를 생성하고 - DMD 쇼 명령은 상기 렌즈 설계에 기초한다 - ;
상기 렌즈가 상기 렌즈 설계의 허용 기준에 따르는지를 결정하고;
이후의 DMD 쇼 명령을 생성하기 위한 - 상기 이후의 DMD 쇼 명령은 하나 이상의 수렴 양식을 포함한다 - 장치.
태양 7. 상기 수렴 양식이 일방형 양식을 포함하는 태양 6의 장치.
태양 8. 상기 일방형 양식이 상기 명령의 값을 감소시키거나 상기 명령의 상기 값을 증가시키는 것 중 어느 하나에 의해 상기 이전의 DMD 쇼의 하나 이상의 명령의 하나 이상의 파라미터를 조정하는 것을 포함하는 태양 7의 장치.
태양 9. 상기 일방형 양식이 시크닝 래칫 명령을 포함하는 태양 7의 장치.
태양 10. 상기 시크닝 래킷 명령이 상기 이전의 DMD 쇼의 하나 이상의 부분에서 상기 명령의 증가된 상기 값을 포함하는 태양 9의 장치.
태양 11. 상기 일방형 양식이 시닝 래칫 명령을 포함하는 태양 7의 장치.
태양 12. 상기 시닝 래칫 명령이 상기 이전의 DMD 쇼의 상기 부분 중 하나 이상에서 상기 명령의 감소된 상기 값을 포함하는 태양 11의 장치.
태양 13. 상기 일방형 양식이 피스톤-이동 기술을 포함하는 태양 7의 장치.
태양 14. 상기 피스톤-이동 기술이 상기 이전의 DMD 쇼 명령의 선택된 부분 중 하나 이상의 동량의 균일한 이동을 수행하는 것을 포함하는 태양 13의 장치.
태양 15. 상기 일방형 양식이 정점-로킹 기술을 포함하는 태양 7의 장치.
태양 16. 상기 정점-로킹 기술이 로킹된 ICT를 포함하며, 상기 ICT가 상기 이후의 반복 동안 불변 유지되는 특정 값으로 설정되는 태양 15의 장치.
태양 17. 상기 수렴 양식이 양방형 양식을 포함하는 태양 6의 장치.
태양 18. 상기 양방형 양식이 상기 명령의 상기 값을 감소시키고, 상기 명령의 상기 값을 증가시키는 것 둘 모두에 의하여 상기 이전의 DMD 쇼의 하나 이상의 상기 명령의 하나 이상의 상기 파라미터를 조정하는 것을 포함하는 태양 17의 장치.
태양 19. 상기 양방형 양식이 피스톤-이동 기술을 포함하는 태양 17의 장치.
태양 20. 상기 이전의 DMD 쇼 명령의 상기 선택된 부분 중 하나 이상의 동량의 균일한 이동을 수행하는 것을 포함하는 태양 19의 장치.
태양 21. 상기 양방형 양식이 정점-로킹 기술을 포함하는 태양 17의 장치.
태양 22. 상기 정점-로킹 기술이 로킹된 ICT를 포함하며, 상기 ICT가 이후의 반복 동안 불변 유지되는 특정 값으로 설정되는 태양 21의 장치.
태양 23. 렌즈 설계를 수렴하는 윤곽 형태 안과용 렌즈를 생성하기 위하여 DMD 쇼를 변경하는 장치로서,
윤곽 렌즈 형성 장치와 디지털 통신하는 컴퓨터 프로세서;
컴퓨터 프로세서와 통신하고, 요구시에 실행가능하며 프로세서 및 윤곽 렌즈 형성 장치와 함께 작동되는, 실행 소프트웨어 코드를 저장하는 디지털 매체 저장 장치를 포함하여,
렌즈 설계 데이터 및 DMD 쇼 데이터 중 하나 또는 둘 모두를 포함하는 데이터의 목록을 설명하는 디지털 데이터를 저장하고;
상기 데이터를 설명하는 디지털 데이터 입력을 수신하고;
상기 DMD 쇼를 생성하고 - DMD 쇼 명령은 상기 렌즈 설계에 기초한다 - ;
상기 렌즈가 상기 렌즈 설계의 허용 기준에 따르는지를 결정하고;
이후의 DMD 쇼 명령을 생성하기 위한 - 상기 이후의 DMD 쇼 명령은 하나 이상의 두께 교정 방법을 포함한다 - 장치.
태양 24. 상기 두께 교정 방법이 백분율 방법, 산술적 방법 및 시컨트 방법 중 하나 이상을 포함하는 태양 23의 장치.
태양 25. 상기 두께 교정 방법이 하나 이상의 데이터 포인트의 필터링 프로세스를 포함하는 태양 23의 장치.
태양 26. 상기 필터링 프로세스가 주어진 데이터 내의 오차의 한정, 검출, 제거 및 교정 중 하나 이상을 포함하는 태양 25의 장치.
태양 27. 상기 두께 교정 방법이 상기 데이터 포인트의 하나 이상의 표면 핏팅 프로세스를 포함하는 태양 23의 장치.
태양 28. 상기 표면 핏팅 프로세스가 보간법 및 평활화 중 어느 하나를 이행함으로써 일련의 상기 데이터 포인트에 최적의 핏팅을 갖는 표면 및 수학 함수 중 하나 또는 둘 모두를 구축하는 것을 포함하는 태양 27의 장치.
태양 29. 상기 두께 교정 방법이 균일 공간 이득 방법을 포함하는 태양 23의 장치.
태양 30. 상기 균일 공간 이득 방법이 상기 동일한 두께 교정 방법 중 하나 이상이 상기 트레이닝 영역(Training Region)에 걸쳐 적용되게 할 수 있으며, 이득 세기 인자가 각 픽셀 위치에서 동일한 태양 29의 장치.
태양 31. 상기 두께 교정 방법이 불균일 공간 이득 방법을 포함하는 태양 23의 장치.
태양 32. 상기 불균일 공간 이득 방법이 상기 트레이닝 영역에 걸쳐 적용되는 동일한 상기 두께 교정 방법 중 하나 이상을 포함하며, 상기 이득 세기 인자가 각 픽셀 위치에서 상이할 수 있는 태양 31의 장치.
태양 33. 상기 불균일 공간 이득 방법이 함수 기반의 불균일 공간 이득 방법을 포함하는 태양 31의 장치.
태양 34. 상기 함수 기반의 불균일 공간 이득 방법이 상기 이득 세기 인자를 상기 픽셀의 반경 위치와 연관시키는 것을 포함하는 태양 33의 장치.
태양 35. 상기 불균일 공간 이득 방법이 직접 맵핑 불균일 공간 이득 방법을 포함하는 태양 31의 장치.
태양 36. 상기 직접 맵핑 불균일 공간 이득 방법이 상기 이전의 DMD 쇼, 상기 측정된 렌즈 및 상기 렌즈 설계 중 하나 이상으로부터 유래된 트레이닝 영역으로부터 해당하는 데이터를 레버리징하는 것을 포함하며, 상기 원하는 이득 세기 인자는 각 픽셀 위치에서 계산할 수 있는 태양 35의 장치.

Claims (37)

  1. 윤곽 형성 장치를 통한 안과용 장치의 제조의 제어 방법으로서,
    상기 방법은,
    (a) 안과용 장치(ophthalmic device)를 제조하기 위해 윤곽 형성 장치(contour forming device)에 명령을 내리는 단계;
    (b) 상기 명령에 기초하여 상기 윤곽 형성 장치를 사용하여 상기 안과용 장치를 제조하는 단계;
    (c) 상기 안과용 장치를 측정하는 단계;
    (d) 상기 안과용 장치가 렌즈 설계(Lens Design)의 허용 기준을 따르는지를 결정하는 단계;를 구비하며;
    (e) 상기 안과용 장치가 상기 허용 기준을 따르지 않는다는 결정 후에,
    (f) 상기 안과용 장치가 상기 렌즈 설계에 대해 수렴하도록 수렴 프로세스(convergence process)를 수행하는 단계;를 더 구비하고,
    상기 윤곽 형성 장치는 디지털 마이크로미러 소자(digital micromirror device, DMD)를 구비하고,
    상기 안과용 장치는 렌즈, 렌즈 전구체, 및 렌즈 전구체 폼 중 적어도 하나를 구비하고,
    상기 수렴 프로세스는, 선택된 마스킹 영역을 한정하는 단계 및 상기 선택된 마스킹 영역 내에서 또는 상기 선택된 마스킹 영역 외측에서 상기 수렴 프로세스를 선택적으로 수행하는 단계를 구비하는 수렴 마스킹 기술을 구비하고,
    상기 수렴 프로세스는, 표적 두께보다 두꺼운 측정된 안과용 장치의 영역들에서 제1 명령을 변경하고, 표적 두께보다 얇은 상기 측정된 안과용 장치의 영역들에서 제1 명령을 변경하는 단계를 구비하는 수렴 양식(modality)을 구비하는, 방법.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 수렴 프로세스는 (g) 제1 명령을 변경하여 상기 제1 명령에 후속하되 이후의 안과용 장치를 생성할 수 있는 제2 명령을 생성하는 단계를 구비하는, 방법.
  3. 제 2 항에 있어서, (h) 상기 제2 명령에 기초하여, 상기 윤곽 형성 장치를 사용하여 이후의 안과용 장치를 제조하는 단계를 더 구비하는, 방법.
  4. 제 3 항에 있어서, 상기 안과용 장치가 상기 렌즈 설계의 상기 허용 기준에 따르는 것으로 결정될 때까지 단계 (g) 및 (h)를 반복하는 것을 더 구비하는, 방법.
  5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 명령 또는 각각의 명령이 DMD 쇼 명령(DMD show instruction)인, 방법.
  6. 삭제
  7. 삭제
  8. 삭제
  9. ◈청구항 9은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.◈
    제 1 항에 있어서, 상기 선택된 마스킹 영역이 반경(radius), 섹터(sector), 세그먼트(segment) 및 영역(area) 중 하나 이상을 구비하는, 방법.
  10. ◈청구항 10은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.◈
    제 1 항에 있어서, 상기 수렴 마스킹 기술이 하나 이상의 블렌드 구역(Blend Zone)을 구비하는, 방법.
  11. ◈청구항 11은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.◈
    제 10 항에 있어서, 상기 블렌드 구역이 상기 선택된 마스킹 영역을 하나 이상의 비-마스킹 영역과 연결하는 하나 이상의 특정 구역을 구비하는, 방법.
  12. 삭제
  13. 삭제
  14. 제 1 항에 있어서, 상기 수렴 양식은 표적 두께보다 얇은 측정된 안과용 장치의 영역들에서만 제1 명령을 변경하는 단계를 구비하는, 방법.
  15. 제 1 항에 있어서, 상기 제1 명령을 변경하는 단계는 상기 표적 두께보다 얇은 상기 측정된 안과용 장치의 영역들의 두께를 증가시키기 위한 명령을 내리는 단계를 구비하는, 방법.
  16. 제 1 항에 있어서, 상기 수렴 양식은 표적 두께보다 두꺼운 측정된 안과용 장치의 영역들에서만 제1 명령을 변경하는 단계를 구비하는, 방법.
  17. 제 1 항에 있어서, 상기 제1 명령을 변경하는 단계는 상기 표적 두께보다 두꺼운 상기 측정된 안과용 장치의 영역들의 두께를 감소시키기 위한 명령을 내리는 단계를 구비하는, 방법.
  18. ◈청구항 18은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.◈
    제 1 항에 있어서, 상기 수렴 양식이 피스톤-이동 기술(piston-shifting technique)을 구비하는, 방법.
  19. ◈청구항 19은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.◈
    제 18 항에 있어서, 상기 명령 또는 각각의 명령이 DMD 쇼 명령(DMD show instruction)이고,
    상기 피스톤-이동 기술이 이전의 DMD 쇼 명령의 하나 이상의 선택된 부분의 동량의 균일한 이동을 수행하는 것을 구비하는, 방법.
  20. ◈청구항 20은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.◈
    제 1 항에 있어서, 상기 수렴 양식이 정점-로킹 기술(apex-locking technique)을 구비하는, 방법.
  21. ◈청구항 21은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.◈
    제 20 항에 있어서, 상기 정점-로킹 기술이 로킹된 정점(ICT)을 구비하며, 상기 정점(ICT)이 이후의 반복동안 불변 유지되는 특정 값으로 설정되는, 방법.
  22. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 수렴 프로세스가 두께 교정(thickness correction) 방법을 구비하는, 방법.
  23. ◈청구항 23은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.◈
    제 22 항에 있어서, 상기 두께 교정 방법이 백분율 방법, 산술적 방법 및 시컨트 방법(secant method) 중 하나 이상을 구비하는, 방법.
  24. ◈청구항 24은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.◈
    제 22 항에 있어서, 상기 두께 교정 방법이 하나 이상의 데이터 포인트(data point)의 필터링 프로세스(Filtering process)를 구비하는, 방법.
  25. ◈청구항 25은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.◈
    제 24 항에 있어서, 상기 필터링 프로세스가 주어진 데이터에서의 오차의 한정, 검출, 제거 및 교정 중 하나 이상을 구비하는, 방법.
  26. ◈청구항 26은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.◈
    제 22 항에 있어서, 상기 두께 교정 방법이 하나 이상의 데이터 포인트의 표면 핏팅(Surface Fitting) 프로세스를 구비하는, 방법.
  27. ◈청구항 27은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.◈
    제 26 항에 있어서, 상기 표면 핏팅 프로세스가 보간법 및 평활화 중 어느 하나를 이행함으로써 일련의 상기 데이터 포인트에 피팅되는 표면 및 수학 함수 중 하나 또는 둘 모두를 구축하는 단계를 구비하는, 방법,
  28. ◈청구항 28은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.◈
    제 22 항에 있어서, 상기 두께 교정 방법이 균일 공간 이득 방법(uniform spatial gain method)을 구비하는, 방법.
  29. ◈청구항 29은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.◈
    제 28 항에 있어서, 상기 균일 공간 이득 방법이 이득 세기 인자(gain magnitude factor)가 각 픽셀 위치에서 동일한 트레이닝 영역(Training Region)에 걸쳐 적용될 하나 이상의 동일한 상기 두께 교정 방법을 가능하게 하는, 방법.
  30. ◈청구항 30은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.◈
    제 22 항에 있어서, 상기 두께 교정 방법이 불균일 공간 이득 방법(non-uniform spatial gain method)을 구비하는, 방법.
  31. ◈청구항 31은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.◈
    제 30 항에 있어서, 상기 불균일 공간 이득 방법이 이득 세기 인자가 각 픽셀 위치에서 상이할 수 있는 트레이닝 영역에 걸쳐 적용되는 하나 이상의 동일한 상기 두께 교정 방법을 구비하는, 방법.
  32. ◈청구항 32은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.◈
    제 30 항에 있어서, 상기 불균일 공간 이득 방법이 함수 기반의 불균일 공간 이득 방법을 구비하는, 방법.
  33. ◈청구항 33은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.◈
    제 32 항에 있어서, 상기 함수 기반의 불균일 공간 이득 방법이 이득 세기 인자를 픽셀의 반경 위치와 연관시키는 단계를 구비하는, 방법.
  34. ◈청구항 34은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.◈
    제 30 항에 있어서, 상기 불균일 공간 이득 방법이 직접 맵핑(direct mapping) 불균일 공간 이득 방법을 구비하는, 방법.
  35. ◈청구항 35은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.◈
    제 34 항에 있어서, 상기 직접 맵핑 불균일 공간 이득 방법이 이전의 DMD 쇼, 측정된 렌즈 및 렌즈 설계 중 하나 이상으로부터 유래된 트레이닝 영역으로부터 해당하는 데이터를 레버리징(leveraging)하는 단계를 구비하며, 원하는 이득 세기 인자가 각 픽셀 위치에서 계산될 수 있는, 방법.
  36. 디지털 마이크로미러 소자 쇼를 변경하여 렌즈 설계가 수렴하는 윤곽 형태 안과용 렌즈를 생성하는 장치로서, 상기 장치는,
    윤곽 형성 장치와 디지털 통신하는 컴퓨터 프로세서; 및
    상기 컴퓨터 프로세서와 통신하는 디지털 매체 저장 장치를 구비하고,
    제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항의 방법의 이행의 요구에 따라 실행 가능한, 실행 소프트웨어 코드(executable software code)가 상기 디지털 매체 저장 장치 상에 저장되는, 장치.
  37. 제 36 항에 있어서, 데이터 목록을 설명하는 디지털 데이터가 상기 디지털 매체 저장 장치 상에 저장되며, 상기 데이터가 렌즈 설계 데이터 및 DMD 쇼 데이터 중 하나 또는 둘 모두를 구비하는, 장치.
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