TWI627504B - 彩色濾光片用感光性樹脂組成物及其應用 - Google Patents

彩色濾光片用感光性樹脂組成物及其應用 Download PDF

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Abstract

本發明係有關一種彩色濾光片用感光性樹脂組成物,其製得之彩色濾光片具有無泡狀顯示缺陷且圖案平滑性佳之優點。本發明亦提供一種彩色濾光片之製造方法、彩色濾光片及液晶顯示裝置。

Description

彩色濾光片用感光性樹脂組成物及其應用
本發明係有關一種液晶顯示器之彩色濾光片用感光性樹脂組成物。特別是有關一種具有無泡狀顯示缺陷且圖案平滑性佳之彩色濾光片用感光性樹脂組成物。
目前,彩色濾光片已被廣泛地應用在彩色液晶顯示器、彩色傳真機、彩色攝影機等辦公器材之領域。隨著市場需求日漸擴大,彩色濾光片之製作技術亦趨向多樣化,目前已開發染色法、印刷法、電鍍法以及分散法等製造方法,其中以分散法為主流製程。
分散法之製程係先將著色顏料分散於感光性樹脂中,再將該感光性樹脂塗佈於玻璃基板上,經過曝光、顯像等步驟,即可製得特定圖案。經重複三次操作,即可製得紅色(R),綠色(G)及藍色(B)之畫素著色層之圖案,之後視需要可於畫素著色層之圖案上施加保護膜。
用於分散法製程中之感光性樹脂如日本特開平6-95211號公報及特開平8-183819號公報所揭示者,例如以(甲基)丙烯酸為單體成分所聚合而成之共聚物,其係作為感光性樹脂之鹼可溶性樹脂。
然而,彩色濾光片之製造過程中,需經歷多次熱處理步 驟,如紅色(R),綠色(G)及藍色(B)等畫素著色層圖案形成後之後烤(post-bake)步驟及透明導電膜(ITO膜)之形成步驟等,該等步驟一般皆需於200℃以上之高溫下操作,但上述習知之感光性樹脂若於180℃條件下加熱1小時左右,易於其畫素著色層中產生顏料凝集粒子(一般顏料凝集粒子之粒徑介於1至10μm),且該畫素著色層之耐熱性亦不佳。
為改善上述之問題,日本特開2001-075273中揭示之感光性樹脂組成物,其包含羧酸基之不飽和單體與含有環氧丙基之單體所聚合而得之聚合物作為感光性樹脂之鹼可溶性樹脂。然而,此習知技術之感光性樹脂組成物製得之彩色濾光片卻具有泡狀顯示缺陷與圖案平滑性不佳的問題。
因此,如何同時克服泡狀顯示缺陷與圖案平滑性不佳之問題以達到目前業界的要求,為本發明所屬技術領域中努力研究之目標。
本發明利用提供特殊鹼可溶性樹脂及光起始劑之成分,而得到無泡狀顯示缺陷且圖案平滑性佳之彩色濾光片用感光性樹脂組成物。
因此,本發明提供一種感光性樹脂組成物,包含:顏料(A);染料(B);鹼可溶性樹脂(C);含乙烯性不飽和基之化合物(D);光起始劑(E);及有機溶劑(F);其中: 該鹼可溶性樹脂(C)包含一第一鹼可溶性樹脂(C-1),該第一鹼可溶性樹脂(C-1)具有如式(I)所示之結構單元:
式(I)中:Z1及Z2分別獨立地代表氫原子或鹵素原子;其中,Z1及Z2為相同或不同;Z3、Z4及Z5分別獨立地代表氫原子、鹵素原子或烷基;其中,Z3、Z4及Z5為相同或不同;Z6及Z7分別獨立地代表氫原子或烷基;其中,Z6及Z7為相同或不同;及s表示1至2之整數;及該光起始劑(E)包含一具有式(II)所示結構之光起始劑(E-1):
式(II)中:R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及R8彼此獨立地為氫、C1-C20烷基、、COR16、OR17、鹵素、NO2;或R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8 彼此獨立地為經取代之C2-C10烯基;或R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8彼此獨立地共同為-(CH2)p-Y-(CH2)q-;或R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8 彼此獨立地共同為;但條件為R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8中之至少一對係,R9、R10、R11及R12彼此獨立地為氫、C1-C20烷基,該C1-C20烷基係未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、苯基、CN、OH、SH、C1-C4-烷氧基、(CO)OH或(CO)O(C1-C4烷基);或R9、R10、R11及R12彼此獨立地為未經取代之苯基或經一或多個以下基團取代之苯基:C1-C6烷基、鹵素、CN、OR17、SR18或NR19R20;或R9、R10、R11及R12彼此獨立地為鹵素、CN、OR17、SR18、SOR18、SO2R18或NR19R20,其中該等取代基OR17、SR18或NR19R20視情況經由該等基團R17、R18、R19及/或R20與萘基環中一個碳原子形成5員或6員環;或R9、R10、R11及R12彼此獨立地為、COR16或NO2;Y係O、S、NR26或直接鍵;p係整數0、1、2或3; q係整數1、2或3;X係CO或直接鍵;R13係C1-C20烷基,其係未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、R17、COOR17、OR17、SR18、CONR19R20、NR19R20、PO(OCkH2k+1)2;或R13係C2-C20烷基,其間雜有一或多個O、S、SO、SO2、NR26或CO,或係C2-C12烯基,其係未經間雜或間雜有一或多個O、CO或NR26,其中該經間雜之C2-C20烷基及該未經間雜或經間雜之C2-C12烯基係未經取代或經一或多個鹵素取代;或R13係C4-C8環烯基、C2-C12炔基或未經間雜或間雜有一或多個O、S、CO或NR26之C3-C10環烷基;或R13係苯基或萘基,其各為未經取代或經一或多個以下基團取代:OR17、SR18、NR19R20、COR16、CN、NO2、鹵素、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、間雜有一或多個O、S、CO或NR26之C2-C20烷基;或其各經C3-C10環烷基或間雜有一或多個O、S、CO或NR26之C3-C10環烷基取代;k係整數1至10;R14係氫、C3-C8環烷基、C2-C5烯基、C1-C20烷氧基或C1-C20烷基,其係未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、苯基、C1-C20烷基苯基或CN;或R14係苯基或萘基,其各未經取代或經一或多個以下基團取代:C1-C6烷基、C1-C4鹵代烷基、鹵素、CN、OR17、SR18及/或NR19R20; 或R14係C3-C20雜芳基、C1-C8烷氧基、苄氧基或苯氧基,該苄氧基及苯氧基係未經取代或經一或多個以下基團取代:C1-C6烷基、C1-C4鹵代烷基及/或鹵素;R15係C6-C20芳基或C3-C20雜芳基,其各係未經取代或經一或多個以下基團取代:苯基、鹵素、C1-C4鹵代烷基、CN、NO2、OR17、SR18、NR19R20、PO(OCkH2k+1)2、SO-C1-C10烷基、SO2-C1-C10烷基、間雜有一或多個O、S或NR26之C2-C20烷基;或其各經C1-C20烷基取代,該C1-C20烷基係未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、COOR17、CONR19R20、苯基、C3-C8環烷基、C3-C20雜芳基、C6-C20芳氧基羰基、C3-C20雜芳氧基羰基、OR17、SR18或NR19R20;或R15係氫、C2-C12烯基、未經間雜或間雜有一或多個O、CO或NR26之C3-C8環烷基;或R15係C1-C20烷基,其係未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、OR17、SR18、C3-C8環烷基、C3-C20雜芳基、C6-C20芳氧基羰基、C3-C20雜芳氧基羰基、NR19R20、COOR17、CONR19R20、PO(OCkH2k+1)2、苯基;或該C1-C20烷基係經苯基取代,該苯基係經鹵素、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、OR17、SR18或NR19R20取代;或R15係C2-C20烷基,其間雜有一或多個O、SO或SO2,且該經間雜之C2-C20烷基係未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、OR17、COOR17、CONR19R20、苯基或經OR17、SR18或NR19R20取代之苯基; 或R15係C2-C20烷醯基或苯甲醯基,其係未經取代或經一或多個以下基團取代:C1-C6烷基、鹵素、苯基、OR17、SR18或NR19R20;或R15係未經取代或經一或多個OR17取代之萘甲醯基或係C3-C14雜芳基羰基;或R15係C2-C12烷氧基羰基,其係未經間雜或間雜有一或多個O且該經間雜或未經間雜之C2-C12烷氧基羰基係未經取代或經一或多個羥基取代;或R15係苯氧基羰基,其係未經取代或經一或多個以下基團取代:C1-C6烷基、鹵素、C1-C4鹵代烷基、苯基、OR17、SR18或NR19R20;或R15係CN、CONR19R20、NO2、C1-C4鹵代烷基、S(O)m-C1-C6烷基、未經取代或經C1-C12烷基或SO2-C1-C6烷基取代之S(O)m-苯基;或R15係SO2O-苯基,其係未經取代或經C1-C12烷基取代;或係二苯基膦醯基或二(C1-C4烷氧基)-膦醯基;m係1或2;R'14具有針對R14所給出含義中之一者;R'15具有針對R15所給出含義中之一者;X1係O、S、SO或SO2;X2係O、CO、S或直接鍵;R16係C6-C20芳基或C3-C20雜芳基,其各係未經取代或經一或多個以下基團取代:苯基、鹵素、C1-C4鹵代烷基、CN、NO2、OR17、SR18、NR19R20或間雜有一或多個O、S或NR26之C1-C20烷基;或其各經一或多個C1-C20烷基取代,該C1-C20烷基係未經取代或經一或多個以下基團取 代:鹵素、COOR17、CONR19R20、苯基、C3-C8環烷基、C3-C20雜芳基、C6-C20芳氧基羰基、C3-C20雜芳氧基羰基、OR17、SR18或NR19R20;或R16係氫、C1-C20烷基,該C1-C20烷基係未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、苯基、OH、SH、CN、C3-C6烯氧基、OCH2CH2CN、OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-苯基、(CO)OH或(CO)O(C1-C4烷基);或R16係C2-C12烷基,其間雜有一或多個O、S或NR26;或R16係(CH2CH2O)n+1H、(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)、C2-C12烯基或C3-C8環烷基;或R16係經SR18取代之苯基,其中該基團R18表示鍵結至該COR16基團所附接之該咔唑部分之該苯基或萘基環的直接鍵;n係1至20;R17係氫、苯基-C1-C3烷基、C1-C20烷基,其係未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、OH、SH、CN、C3-C6烯氧基、OCH2CH2CN、OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-(C2-C4)烯基、O(CO)-苯基、(CO)OH、(CO)O(C1-C4烷基)、C3-C20環烷基、SO2-(C1-C4鹵代烷基)、O(C1-C4鹵代烷基)或間雜有一或多個O之C3-C20環烷基;或R17係C2-C20烷基,其間雜有一或多個O、S或NR26;或R17係(CH2CH2O)n+1H、(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)、C1-C8烷醯基、C2-C12烯基、C3-C6烯醯基或未經間雜或間雜有一或多個O、S、CO或NR26之C3-C20環烷基; 或R17係C1-C8烷基-C3-C10環烷基,其係未經間雜或間雜有一或多個O;或R17係苯甲醯基,其係未經取代或經一或多個C1-C6烷基、鹵素、OH或C1-C3烷氧基取代;或R17係苯基、萘基或C3-C20雜芳基,其各係未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、OH、C1-C12烷基、C1-C12烷氧基、CN、NO2、苯基-C1-C3烷氧基、苯氧基、C1-C12烷基硫基、苯基硫基、N(C1-C12烷基)2、二苯基-胺基 或; 或R17形成鍵結至該基團所處之苯基或萘基環之其中一個碳原子的直接鍵;R18係氫、C2-C12烯基、C3-C20環烷基或苯基-C1-C3烷基,其中該C2-C12烯基、C3-C20環烷基或苯基-C1-C3烷基係未經間雜或間雜有一或多個O、S、CO、NR26或COOR17;或R18係C1-C20烷基,其係未經取代或經一或多個以下基團取代:OH、SH、CN、C3-C6烯氧基、OCH2CH2CN、OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(CO)-(C2-C4)烯基、O(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-苯基或(CO)OR17;或R18係C2-C20烷基,其間雜有一或多個O、S、CO、NR26或COOR17;或R18係(CH2CH2O)nH、(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)、C2-C8烷醯基或C3-C6烯醯基;或R18係苯甲醯基,其係未經取代或經一或多個以下基團取代:C1-C6烷基、鹵素、OH、C1-C4烷氧基或C1-C4烷基硫基; 或R18係苯基、萘基或C3-C20雜芳基,其各係未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、C1-C12烷基、C1-C4鹵代烷基、C1-C12烷氧基、CN、NO2、苯基-C1-C3烷氧基、苯氧基、C1-C12烷基硫基、苯基硫基、N(C1-C12烷基)2、二苯基胺基、(CO)O(C1-C8烷基)、(CO)-C1-C8烷基、 (CO)N(C1-C8烷基)2;R19及R20彼此獨立地為氫、C1-C20烷基、C2-C4羥基烷基、C2-C10烷氧基烷基、C2-C5烯基、C3-C20環烷基、苯基-C1-C3烷基、C1-C8烷醯基、C1-C8烷醯基氧基、C3-C12烯醯基、SO2-(C1-C4鹵代烷基)或苯甲醯基;或R19及R20係苯基、萘基或C3-C20雜芳基,其各係未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、C1-C4鹵代烷基、C1-C20烷氧基、C1-C12烷基、苯甲醯基或C1-C12烷氧基;或R19及R20與其所附接之N原子一起形成未經間雜或間雜有O、S或NR17之5員或6員飽和或不飽和環,且該5員或6員飽和或不飽和環係未經取代或經一或多個以下基團取代:C1-C20烷基、C1-C20烷氧基、=O、OR17、SR18、NR21R22、(CO)R23、NO2、鹵素、C1-C4-鹵代烷基、CN、 苯基、或未經間雜或間雜有一或多個O、S、CO或NR17之C3-C20環烷基;或R19及R20與其所附接之N原子一起形成雜芳香族環系統,該環系統係未經取代或經一或多個以下基團取代:C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、C1-C20烷氧基、=O、 OR17、SR18、NR21R22、(CO)R23、鹵素、NO2、CN、苯基或未經間雜或間雜有一或多個O、S、CO 或NR17之C3-C20環烷基;R21及R22彼此獨立地為氫、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、C3-C10環烷基或苯基;或R21及R22與其所附接之N原子一起形成未經間雜或間雜有O、S或NR26之5員或6員飽和或不飽和環,且該5員或6員飽和或不飽和環係未稠合或該5員或6員飽和或不飽和環與苯環稠合;R23係氫、OH、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、間雜有一或多個O、CO或NR26之C2-C20烷基、未經間雜或間雜有O、S、CO或NR26之C3-C20環烷基,或R23係苯基、萘基、苯基-C1-C4烷基、OR17、SR18或NR21R22;R24係(CO)OR17、CONR19R20、(CO)R17;或R24具有針對R19及R20所給出含義中之一者;R25係COOR17、CONR19R20、(CO)R17;或R25具有針對R17所給出含義中之一者;R26係氫、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、C2-C20烷基,其間雜有一或多個O或CO;或係苯基-C1-C4烷基、C3-C8環烷基,其係未經間雜或間雜有一或多個O或CO;或係(CO)R19;或係苯基,其係未經取代或經一或多個以下基團取代:C1-C20烷基、鹵素、C1-C4鹵代烷基、OR17、 SR18、NR19R20; 但條件為在該分子中存在至少一個基團
本發明亦提供一種彩色濾光片之製造方法,其係使用前 述之感光性樹脂組成物形成一畫素層。
本發明又提供一種彩色濾光片,其係由前述之方法所製得。
本發明再提供一種液晶顯示裝置,其特徵在於包含前述之彩色濾光片。
1‧‧‧感光性樹脂層
2‧‧‧偏光板
3‧‧‧偏光板
4‧‧‧光源
5‧‧‧輝度計
圖1為感光性樹脂層對比測定狀態(一)之示意圖。
圖2為感光性樹脂層對比測定狀態(二)之示意圖。
本發明提供一種感光性樹脂組成物,包含:顏料(A);染料(B);鹼可溶性樹脂(C);含乙烯性不飽和基之化合物(D);光起始劑(E);及有機溶劑(F);其中:該鹼可溶性樹脂(C)包含一第一鹼可溶性樹脂(C-1),該第一鹼可溶性樹脂(C-1)具有如式(I)所示之結構單元: 式(I)中:Z1及Z2分別獨立地代表氫原子或鹵素原子;其中,Z1及Z2為相同或不同;Z3、Z4及Z5分別獨立地代表氫原子、鹵素原子或烷基;其中,Z3、Z4及Z5為相同或不同;Z6及Z7分別獨立地代表氫原子或烷基;其中,Z6及Z7為相同或不同;及s表示1至2之整數;及該光起始劑(E)包含一具有式(II)所示結構之光起始劑(E-1): 式(II)中:R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及R8彼此獨立地為氫、C1-C20烷基、、COR16、OR17、鹵素、NO2;或R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8彼此獨立地為經取代之C2-C10烯基;或R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8彼此獨立地共同為-(CH2)p-Y-(CH2)q-;或R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8 彼此獨立地共同為;但條件為R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或 R7及R8中之至少一對係,R9、R10、R11及R12彼此獨立地為氫、C1-C20烷基,該C1-C20烷基係未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、苯基、CN、OH、SH、C1-C4-烷氧基、(CO)OH或(CO)O(C1-C4烷基);或R9、R10、R11及R12彼此獨立地為未經取代之苯基或經一或多個以下基團取代之苯基:C1-C6烷基、鹵素、CN、OR17、SR18或NR19R20;或R9、R10、R11及R12彼此獨立地為鹵素、CN、OR17、SR18、SOR18、SO2R18或NR19R20,其中該等取代基OR17、SR18或NR19R20視情況經由該等基團R17、R18、R19及/或R20與萘基環中一個碳原子形成5員或6員環; 或R9、R10、R11及R12彼此獨立地為、COR16或NO2;Y係O、S、NR26或直接鍵;p係整數0、1、2或3;q係整數1、2或3;X係CO或直接鍵;R13係C1-C20烷基,其係未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、R17、COOR17、OR17、SR18、CONR19R20、NR19R20、PO(OCkH2k+1)2;或R13係C2-C20烷基,其間雜有一或多個O、S、SO、SO2、NR26或CO,或係C2-C12烯基,其係未經間雜或間雜有一或多個O、CO或NR26,其中該經間雜之C2-C20烷基及該未經間雜或經間雜之C2-C12烯基係未經取代或經一或多個鹵素取代; 或R13係C4-C8環烯基、C2-C12炔基或未經間雜或間雜有一或多個O、S、CO或NR26之C3-C10環烷基;或R13係苯基或萘基,其各為未經取代或經一或多個以下基團取代:OR17、SR18、NR19R20、COR16、CN、NO2、鹵素、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、間雜有一或多個O、S、CO或NR26之C2-C20烷基;或其各經C3-C10環烷基或間雜有一或多個O、S、CO或NR26之C3-C10環烷基取代;k係整數1至10;R14係氫、C3-C8環烷基、C2-C5烯基、C1-C20烷氧基或C1-C20烷基,其係未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、苯基、C1-C20烷基苯基或CN;或R14係苯基或萘基,其各未經取代或經一或多個以下基團取代:C1-C6烷基、C1-C4鹵代烷基、鹵素、CN、OR17、SR18及/或NR19R20;或R14係C3-C20雜芳基、C1-C8烷氧基、苄氧基或苯氧基,該苄氧基及苯氧基係未經取代或經一或多個以下基團取代:C1-C6烷基、C1-C4鹵代烷基及/或鹵素;R15係C6-C20芳基或C3-C20雜芳基,其各係未經取代或經一或多個以下基團取代:苯基、鹵素、C1-C4鹵代烷基、CN、NO2、OR17、SR18、NR19R20、PO(OCkH2k+1)2、SO-C1-C10烷基、SO2-C1-C10烷基、間雜有一或多個O、S或NR26之C2-C20烷基;或其各經C1-C20烷基取代,該C1-C20烷基係未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、COOR17、CONR19R20、苯基、C3-C8環烷基、C3-C20雜芳 基、C6-C20芳氧基羰基、C3-C20雜芳氧基羰基、OR17、SR18或NR19R20;或R15係氫、C2-C12烯基、未經間雜或間雜有一或多個O、CO或NR26之C3-C8環烷基;或R15係C1-C20烷基,其係未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、OR17、SR18、C3-C8環烷基、C3-C20雜芳基、C6-C20芳氧基羰基、C3-C20雜芳氧基羰基、NR19R20、 COOR17、CONR19R20、PO(OCkH2k+1)2、苯基;或該C1-C20烷基係經苯基取代,該苯基係經鹵素、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、OR17、SR18或NR19R20取代;或R15係C2-C20烷基,其間雜有一或多個O、SO或SO2,且該經間雜之C2-C20烷基係未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、OR17、COOR17、CONR19R20、苯基或經OR17、SR18或NR19R20取代之苯基;或R15係C2-C20烷醯基或苯甲醯基,其係未經取代或經一或多個以下基團取代:C1-C6烷基、鹵素、苯基、OR17、SR18或NR19R20;或R15係未經取代或經一或多個OR17取代之萘甲醯基或係C3-C14雜芳基羰基;或R15係C2-C12烷氧基羰基,其係未經間雜或間雜有一或多個O且該經間雜或未經間雜之C2-C12烷氧基羰基係未經取代或經一或多個羥基取代;或R15係苯氧基羰基,其係未經取代或經一或多個以下基團取代:C1-C6烷基、鹵素、C1-C4鹵代烷基、苯基、 OR17、SR18或NR19R20;或R15係CN、CONR19R20、NO2、C1-C4鹵代烷基、S(O)m-C1-C6烷基、未經取代或經C1-C12烷基或SO2-C1-C6烷基取代之S(O)m-苯基;或R15係SO2O-苯基,其係未經取代或經C1-C12烷基取代;或係二苯基膦醯基或二(C1-C4烷氧基)-膦醯基;m係1或2;R'14具有針對R14所給出含義中之一者;R'15具有針對R15所給出含義中之一者;X1係O、S、SO或SO2;X2係O、CO、S或直接鍵;R16係C6-C20芳基或C3-C20雜芳基,其各係未經取代或經一或多個以下基團取代:苯基、鹵素、C1-C4鹵代烷基、CN、NO2、OR17、SR18、NR19R20或間雜有一或多個O、S或NR26之C1-C20烷基;或其各經一或多個C1-C20烷基取代,該C1-C20烷基係未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、COOR17、CONR19R20、苯基、C3-C8環烷基、C3-C20雜芳基、C6-C20芳氧基羰基、C3-C20雜芳氧基羰基、OR17、SR18或NR19R20;或R16係氫、C1-C20烷基,該C1-C20烷基係未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、苯基、OH、SH、CN、C3-C6烯氧基、OCH2CH2CN、OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-苯基、(CO)OH或(CO)O(C1-C4烷基);或R16係C2-C12烷基,其間雜有一或多個O、S或NR26;或R16係(CH2CH2O)n+1H、(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)、 C2-C12烯基或C3-C8環烷基;或R16係經SR18取代之苯基,其中該基團R18表示鍵結至該COR16基團所附接之該咔唑部分之該苯基或萘基環的直接鍵;n係1至20;R17係氫、苯基-C1-C3烷基、C1-C20烷基,其係未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、OH、SH、CN、C3-C6烯氧基、OCH2CH2CN、OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-(C2-C4)烯基、O(CO)-苯基、(CO)OH、(CO)O(C1-C4烷基)、C3-C20環烷基、SO2-(C1-C4鹵代烷基)、O(C1-C4鹵代烷基)或間雜有一或多個O之C3-C20環烷基;或R17係C2-C20烷基,其間雜有一或多個O、S或NR26;或R17係(CH2CH2O)n+1H、(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)、C1-C8烷醯基、C2-C12烯基、C3-C6烯醯基或未經間雜或間雜有一或多個O、S、CO或NR26之C3-C20環烷基;或R17係C1-C8烷基-C3-C10環烷基,其係未經間雜或間雜有一或多個O;或R17係苯甲醯基,其係未經取代或經一或多個C1-C6烷基、鹵素、OH或C1-C3烷氧基取代;或R17係苯基、萘基或C3-C20雜芳基,其各係未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、OH、C1-C12烷基、C1-C12烷氧基、CN、NO2、苯基-C1-C3烷氧基、苯氧基、C1-C12烷基硫基、苯基硫基、N(C1-C12烷基)2、二苯基-胺基 或; 或R17形成鍵結至該基團所處之苯基或萘基環之其中一個碳原子的直接鍵;R18係氫、C2-C12烯基、C3-C20環烷基或苯基-C1-C3烷基,其中該C2-C12烯基、C3-C20環烷基或苯基-C1-C3烷基係未經間雜或間雜有一或多個O、S、CO、NR26或COOR17;或R18係C1-C20烷基,其係未經取代或經一或多個以下基團取代:OH、SH、CN、C3-C6烯氧基、OCH2CH2CN、OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(CO)-(C2-C4)烯基、O(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-苯基或(CO)OR17;或R18係C2-C20烷基,其間雜有一或多個O、S、CO、NR26或COOR17;或R18係(CH2CH2O)nH、(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)、C2-C8烷醯基或C3-C6烯醯基;或R18係苯甲醯基,其係未經取代或經一或多個以下基團取代:C1-C6烷基、鹵素、OH、C1-C4烷氧基或C1-C4烷基硫基;或R18係苯基、萘基或C3-C20雜芳基,其各係未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、C1-C12烷基、C1-C4鹵代烷基、C1-C12烷氧基、CN、NO2、苯基-C1-C3烷氧基、苯氧基、C1-C12烷基硫基、苯基硫基、N(C1-C12烷基)2、二苯基胺基、(CO)O(C1-C8烷基)、(CO)-C1-C8烷基、 (CO)N(C1-C8烷基)2;R19及R20彼此獨立地為氫、C1-C20烷基、C2-C4羥基烷基、C2-C10烷氧基烷基、C2-C5烯基、C3-C20環烷基、苯基-C1-C3烷基、C1-C8烷醯基、C1-C8烷醯基氧基、C3-C12烯醯 基、SO2-(C1-C4鹵代烷基)或苯甲醯基;或R19及R20係苯基、萘基或C3-C20雜芳基,其各係未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、C1-C4鹵代烷基、C1-C20烷氧基、C1-C12烷基、苯甲醯基或C1-C12烷氧基;或R19及R20與其所附接之N原子一起形成未經間雜或間雜有O、S或NR17之5員或6員飽和或不飽和環,且該5員或6員飽和或不飽和環係未經取代或經一或多個以下基團取代:C1-C20烷基、C1-C20烷氧基、=O、OR17、SR18、NR21R22、(CO)R23、NO2、鹵素、C1-C4-鹵代烷基、CN、苯基、或未經間雜或間雜有一或多個O、S、CO或NR17之C3-C20環烷基;或R19及R20與其所附接之N原子一起形成雜芳香族環系統,該環系統係未經取代或經一或多個以下基團取代:C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、C1-C20烷氧基、=O、OR17、SR18、NR21R22、(CO)R23、鹵素、NO2、CN、苯基或未經間雜或間雜有一或多個O、S、CO或NR17之C3-C20環烷基;R21及R22彼此獨立地為氫、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、C3-C10環烷基或苯基;或R21及R22與其所附接之N原子一起形成未經間雜或間雜有O、S或NR26之5員或6員飽和或不飽和環,且該5員或6員飽和或不飽和環係未稠合或該5員或6員飽和或不飽和環與苯環稠合;R23係氫、OH、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、間雜有一或多個O、CO或NR26之C2-C20烷基、未經間雜或間雜有O、 S、CO或NR26之C3-C20環烷基,或R23係苯基、萘基、苯基-C1-C4烷基、OR17、SR18或NR21R22;R24係(CO)OR17、CONR19R20、(CO)R17;或R24具有針對R19及R20所給出含義中之一者;R25係COOR17、CONR19R20、(CO)R17;或R25具有針對R17所給出含義中之一者;R26係氫、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、C2-C20烷基,其間雜有一或多個O或CO;或係苯基-C1-C4烷基、C3-C8環烷基,其係未經間雜或間雜有一或多個O或CO;或係(CO)R19;或係苯基,其係未經取代或經一或多個以下基團取代:C1-C20烷基、鹵素、C1-C4鹵代烷基、OR17、 SR18、NR19R20; 但條件為在該分子中存在至少一個基團
根據本發明之顏料(A)可為無機顏料、有機顏料或此等之一組合。
上述之無機顏料可為金屬氧化物、金屬錯鹽等金屬化合物,其可選自於鐵、鈷、鋁、鎘、鉛、銅、鈦、鎂、鉻、亞鉛、銻等金屬的氧化物以及前述金屬的複合氧化物。
上述之有機顏料係選自於C.I.顏料黃1、3、11、12、13、14、15、16、17、20、24、31、53、55、60、61、65、71、73、74、81、83、93、95、97、98、99、100、101、104、106、108、109、110、113、114、116、117、119、120、126、127、128、129、138、139、150、151、152、153、154、155、156、166、167、168、 175;C.I.顏料橙1、5、13、14、16、17、24、34、36、38、40、43、46、49、51、61、63、64、71、73;C.I.顏料紅1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、14、15、16、17、18、19、21、22、23、30、31、32、37、38、40、41、42、48:1、48:2、48:3、48:4、49:1、49:2、50:1、52:1、53:1、57、57:1、57:2、58:2、58:4、60:1、63:1、63:2、64:1、81:1、83、88、90:1、97、101、102、104、105、106、108、112、113、114、122、123、144、146、149、150、151、155、166、168、170、171、172、174、175、176、177、178、179、180、185、187、188、190、193、194、202、206、207、208、209、215、216、220、224、226、242、243、245、254、255、264、265;C.I.顏料紫1、14、19、23、29、32、33、36、37、38、39、40、50;C.I.顏料藍1、2、15、15:1、15:2、15:3、15:4、15:5、15:6、16、21、22、60、61、64、66;C.I.顏料綠7、36、37、42、58;C.I.顏料棕23、25、28;以及C.I.顏料黑1、7。該有機顏料可單獨一種或混合複數種使用。
該顏料(A)的一次粒子之平均粒子徑較佳為10nm至200nm,更佳為20nm至150nm,最佳為30nm至130nm。
基於該鹼可溶性樹脂(C)之總使用量為100重量份,該顏料(A)的使用量為30重量份至300重量份,較佳為40重量份至250重量份,更佳為50重量份至200重量份。
必要時,該顏料(A)也能選擇性地使用分散劑,例如:陽離子系、陰離子系、非離子系、兩性、聚矽氧烷系、氟系等之界面活性劑。
該界面活性劑可包含但不限於聚環氧乙烷十二烷基醚、聚環氧乙烷硬脂醯醚、聚環氧乙烷油醚等之聚環氧乙烷烷基醚類;聚環氧乙烷辛基苯醚、聚環氧乙烷壬基苯醚等之聚環氧乙烷烷基苯醚類 界面活性劑;聚乙二醇二月桂酸酯、聚乙二醇二硬脂酸酯等之聚乙二醇二酯類界面活性劑;山梨糖醇酐脂肪酸酯類界面活性劑;脂肪酸改質的聚酯類界面活性劑;三級胺改質的聚胺基甲酸酯類界面活性劑;信越化學工業製造,型號為KP之商品、Toray Dow Corning Silicon製造,型號為SF-8427之商品、共榮社油脂化學工業製造,型號為Polyflow之商品、得克姆公司(Tochem Products Co.,Ltd.)製造,型號為F-Top之商品、大日本印墨化學工業製造,型號為Megafac之產品、住友3M製造,型號為Fluorad之產品、旭硝子製造,型號為Asahi Guard及Surflon之商品。該界面活性劑可單獨一種或混合複數種使用。
根據本發明之染料(B)包含一具有式(III)結構之紅色染料(B-1):
於式(III)中:L1至L4各自獨立表示氫、-L6、C6至C10之芳香烴基、或經鹵素原子、-L6、-OH、-OL6、-SO3 -、-SO3H、-SO3M、-COOH、-COOL6、-SO3L6、-SO2NHL8或-SO2NL8L9取代之C6至C10之芳香烴基;L5表示-SO3 -、-SO3H、-SO3M、-COOH、-COOL6、-SO3L6、-SO2NHL8或-SO2NL8L9;u表示0至5之整數;當u表示2至5時,複數個L5為相同或不同; W表示鹵素原子;a表示0或1;L6表示C1至C10之烷基或經鹵素原子取代之C1至C10之烷基,其中該C1至C10之烷基或經鹵素原子取代之C1至C10之烷基中之-CH2-係未經置換或經置換為-O-、羰基或-NL7-;L7表示C1至C10之烷基或經鹵素原子取代之C1至C10之烷基;L8及L9各自獨立表示C1至C10之直鏈烷基、C1至C10之支鏈烷基、C3至C30之環烷基、或-Q;其中,C1至C10之直鏈烷基、C1至C10之支鏈烷基或C3至C30之環烷基中之氫原子係未經取代或經一取代基所取代,該取代基係選自由羥基、鹵素原子、-Q、-CH=CH2及-CH=CH-L6所組成之群;C1至C10之直鏈烷基、C1至C10之支鏈烷基或C3至C30之環烷基中之-CH2-係未經置換或經置換為-O-、羰基或-NL7-;或L8和L9結合形成C1至C10之雜環基,其中C1至C10之雜環基中之氫原子係未經取代或經L6、-OH、或-Q所取代;Q表示C6至C10之芳香烴基、C5至C10之雜芳香基、經鹵素原子、-L6、-OH、-OL6、-NO2、-CH=CH2或-CH=CH-L6取代之C6至C10之芳香烴基、或經鹵素原子、-L6、-OH、-OL6、-NO2、-CH=CH2及-CH=CH-L6取代之C5至C10之雜芳香基;及M表示鉀或鈉。
較佳地,L6包含但不限於甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、戊基、異戊基、新戊基(neopentyl)、環戊基、己基、環己基、庚基、環庚烷、辛基、環辛基、2-乙基己基、壬基、癸基、三環[5.3.0.03,10]癸基[tricycle(5.3.0.03,10)decanyl]、甲氧基丙基、己氧基丙基、2-乙基己氧基丙基、甲氧基己基、或環氧基丙基。
較佳地,C6至C10之芳香烴基包含但不限於苯基或萘基 等。
較佳地,-SO3L6包含但不限於甲基磺醯基(methanesulfonyl)、乙基磺醯基(ethanesulfonyl)、己基磺醯基(hexanesulfonyl)、或癸基磺醯基(decanesulfonyl)。
較佳地,-COOL6包含但不限於甲氧基羰基(methyloxycarbonyl)、乙氧基羰基(ethyloxycarbonyl)、丙氧基羰基、異丙氧基羰基、丁氧基羰基、異丁氧基羰基、戊氧基羰基、異戊氧基羰基、新戊氧基羰基、環戊氧基羰基、己氧基羰基、環己氧基羰基、庚氧基羰基、環庚氧基羰基、辛氧基羰基、環辛氧基羰基、2-乙基己氧基羰基、壬氧基羰基、癸氧基羰基、三環[5.3.0.03,10]癸基羰基、甲氧基丙氧基羰基、己氧基丙氧基羰基、2-乙基己氧基丙氧基羰基、或甲氧基己氧基羰基。
較佳地,-SO2NHL8包含但不限於胺磺醯基(sulfamoyl)、甲基胺磺醯基、乙基胺磺醯基、丙基胺磺醯基、異丙基胺磺醯基、丁基胺磺醯基、異丁基胺磺醯基、戊基胺磺醯基、異戊基胺磺醯基、新戊基胺磺醯基、環戊基胺磺醯基、己基胺磺醯基、環己基胺磺醯基、庚基胺磺醯基、環庚烷胺磺醯基、辛基胺磺醯基、環辛基胺磺醯基、2-乙基己基胺磺醯基、壬基胺磺醯基、癸基胺磺醯基、三環[5.3.0.03,10]癸基胺磺醯基、甲氧基丙基胺磺醯基、己氧基丙基胺磺醯基、2-乙基己氧基丙基胺磺醯基、甲氧基己基胺磺醯基、環氧基丙基胺磺醯基、1,5-二甲基己基胺磺醯基、丙氧基丙基胺磺醯基、異丙氧 基丙基胺磺醯基、3-苯基-1-甲基丙基胺磺醯基、 (Ra表示C1至C3之烷基、C1至C3之烷氧基、經鹵素原子取代之C1至C3之烷基或經鹵素原 子取代之C1至C3之烷氧基)、 (Rb表示C1至C3之烷基、C1至C3之烷氧基、經鹵素原子取代之C1至C3之烷基 或經鹵素原子取代之C1至C3之烷氧基)、 、或
較佳地,-SO2NL8L9包含但不限於 (Rb表示C1至C3之烷基、C1至C3之烷氧基、經鹵素原子取代之C1至C3之烷基或經鹵素原子取代之C1至C3之烷 氧基)、 、或
較佳地,該染料(B)包括一具有式(III-1)所示結構之紅色染料:
於式(III-1)中:L11至L14各自獨立表示氫、-L6、C6至C10之芳香烴基、或經鹵素原子、-L6、-OH、-OL6、-SO3 -、-SO3H、-SO3Na、-COOH、-COOL6、-SO3L6、-SO2NHL8或-SO2NL8L9取代之C6至 C10之芳香烴基;L15表示氫、-SO3 -、-SO3H、-SO2NHL8或-SO2NL8L9;L16表示-SO3 -、-SO3H、-SO2NHL8或-SO2NL8L9;W1表示鹵素原子;a1表示0或1。
較佳地,該染料(B)包括一具有式(III-2)所示結構之紅色染料:
於式(III-2)中:L21至L24各自獨立表示氫、-L26、C6至C10之芳香烴基、或經鹵素原子、-L26、-OH、-OL26、-SO3 -、-SO3H、-SO3Na、-COOH、-COOL26、-SO3L26、或-SO2NHL28取代之C6至C10之芳香烴基;L25表示-SO3 -、-SO3Na、-COOH、-COOL26、-SO3H、或-SO2NHL28;u1表示0至5之整數;當u1表示2至5時,複數個L25為相同或不同;W2表示鹵素原子;a2表示0或1;L26表示C1至C10之烷基、或經鹵素原子或-OL27取代之C1至C10之烷基; L27表示C1至C10之烷基;及L28表示氫、-L26、-COOL26、C6至C10之芳香烴基、或經-L26或-OL26取代之C6至C10之芳香烴基。
較佳地,該染料(B)包括一具有式(III-3)結構之紅色染料:
於式(III-3)中:L31及L32各自獨立表示苯基、或經鹵素原子、-L26、-OL26、-COOL26、-SO3L26、或-SO2NHL28取代之苯基;L33表示-SO3 -、或-SO2NHL28;L34表示氫、-SO3 -、或-SO2NHL28;W3表示鹵素原子;a3表示0或1;L26表示C1至C10之烷基、或經鹵素原子或-OL27取代之C1至C10之烷基;L27表示C1至C10之烷基;及L28表示氫、-L26、-COOL26、C6至C10之芳香烴基、或經-L26或-OL26取代之C6至C10之芳香烴基。
較佳地,該染料(B)包括一具有式(III-4)結構之紅色染料:
於式(III-4)中:L41及L42各自獨立表示苯基、或經-L26或-SO2NHL28取代之苯基;L43表示-SO3 -、或-SO2NHL28;W4表示鹵素原子;a4表示0或1;L26表示C1至C10之烷基、或經鹵素原子或-OL27取代之C1至C10之烷基;L27表示C1至C10之烷基;及L28表示氫、-L26、-COOL26、C6至C10之芳香烴基、或經-L26或-OL26取代之C6至C10之芳香烴基。
於本發明之具體例中,該染料(B)包含但不限於如下式(1)至式(31):
Rc及Rd各自獨立表示氫、-SO3 -、-COOH或-SO2NHL81; L81表示2-乙基己基;W表示鹵素原子;a表示0或1。
Re表示氫、-SO3 -、-COOH或-SO2NHL81;L81表示2-乙基己基;W表示鹵素原子;a表示0或1。
Re表示氫、-SO3 -、-COOH或-SO2NHL81;L81表示2-乙基己基;W表示鹵素原子;a表示0或1。
Rf、Rg及Rh各自獨立表示-SO3 -、-SO3Na或-SO2NHL81;L81表示2-乙基己基。
Rf、Rg及Rh各自獨立表示-SO3 -、-SO3Na或-SO2NHL81;L81表示2-乙基己基。
Ri、Rj及Rk各自獨立表示氫、-SO3 -、-SO3H或-SO2NHL81;L81表示2-乙基己基。
Ri、Rj及Rk各自獨立表示氫、-SO3 -、-SO3H或-SO2NHL81; L81表示2-乙基己基。
Rl、Rm及Rn各自獨立表示-SO3 -、-SO3Na或-SO2NHL81;L81表示2-乙基己基。
Rl、Rm及Rn各自獨立表示-SO3 -、-SO3Na或-SO2NHL81;L81表示2-乙基己基。
Rp、Rq及Rr各自獨立表示氫、-SO3 -、-SO3H或-SO2NHL81;L81表示2-乙基己基。
Rp、Rq及Rr各自獨立表示氫、-SO3 -、-SO3H或-SO2NHL81; L81表示2-乙基己基。
本發明該染料(B-1)之較佳具體例為式(1)(Rc與Rd為-SO3 -,a為0)[C.I.酸性紅色染料52]、式(22)[C.I.酸性紅色染料289]、式(28)、式(31)、或此等之組合。
於本發明之具體例中,基於該鹼可溶性樹脂(C)之使用量總和為100重量份,該染料(B-1)之使用量為3重量份至50重量份;較佳為5重量份至45重量份;更佳為10重量份至40重量份。當使用染料(B-1)時,該感光性樹脂組成物之對比度較佳。
於本發明之較佳具體例中,該染料(B)可進一步包含其它染料(B-2)。
較佳地,該其它染料(B-2)包含但不限於偶氮系染料、蒽醌系染料、酞菁系染料、醌亞胺系染料、喹啉系染料或硝基系染料。偶氮系染料包含但不限於C.I.酸性黃11、酸性橙7、酸性紅37、酸性紅180、酸性藍29、直接紅28、直接紅83、直接黃12、直接橙26、直接綠28、直接綠59、活性黃2、活性紅17、活性紅120、活性黑5、分散橙5、分散紅58、分散藍165、鹼性藍41、鹼性紅18、媒介紅7、媒介黃5、媒介黑7等;蒽醌系染料包含但不限於C.I.巴德藍4(Batblue 4)、酸性藍40、酸性綠25、活性藍19、活性藍49、分散紅60、分散藍56、分散藍60等;酞菁系染料包含但不限於C.I.鹼性藍5等;醌亞胺系染料包含但不限於C.I.鹼性藍3、鹼性藍9等;喹啉系染料C.I.溶劑黃33、酸性黃3、分散黃64等;硝基系染料包含但不限於C.I.酸性黃1、酸性橙3、分散黃42等。上述其它染料一般可單獨或混合多種使用。
於本發明之具體例中,基於該鹼可溶性樹脂(C)之使用量總和為100重量份,該染料(B-2)之使用量為0重量份至47重量份;較佳為0重量份至40重量份;更佳為0重量份至30重量份。
基於該鹼可溶性樹脂(C)之使用量總和為100重量份,該染料(B)之使用量為5重量份至50重量份;較佳為10重量份至45重量份;更佳為15重量份至40重量份。
根據本發明之鹼可溶性樹脂(C)包含一第一鹼可溶性樹脂(C-1),其係為具有乙烯性不飽和基之樹脂,該第一鹼可溶性樹脂(C-1)具有如式(I)所示之結構單元:
式(I)中:Z1及Z2分別獨立地代表氫原子或鹵素原子;其中,Z1及Z2為相同或不同;Z3、Z4及Z5分別獨立地代表氫原子、鹵素原子或烷基;其中,Z3、Z4及Z5為相同或不同;Z6及Z7分別獨立地代表氫原子或烷基;其中,Z6及Z7為相同或不同;及s表示1至2之整數。
該第一鹼可溶性樹脂(C-1)係由具有式(i)所示結構之乙烯性不飽和單體(c-1-1)、具有一個或一個以上羧酸或羧酸酐之乙烯性不飽和單體(c-1-2)以及其他可共聚合之乙烯性不飽和單體(c-1-3)共聚合後,與具有環氧基之乙烯性不飽和單體(c-1-4)反應而得;
在上式(i)中,Z1至Z7以及s的定義分別與式(I)中的Z1至Z7以及s的定義相同,在此不另贅述。
在一實施例中,此第一鹼可溶性樹脂(C-1)係先將具有式(i)所示結構之乙烯性不飽和單體(c-1-1)、具有一個或一個以上羧酸或羧酸酐之乙烯性不飽和單體(c-1-2)與其他可共聚合之乙烯性不飽和單體(c-1-3)進行雙鍵共聚合反應,以形成一聚合物,其中此聚合物之側鏈具有羧酸基。然後,此聚合物之側鏈中的羧酸基與具有環氧基之乙烯性不飽和單體(c-1-4)進行加成反應,而製得該第一鹼可溶性樹脂(C-1)。
在另一實施例中,此第一鹼可溶性樹脂(C-1)係先將具有式(i)所示結構之乙烯性不飽和單體(c-1-1)、其他可共聚合之乙烯性不飽和單體(c-1-3)與具有環氧基之乙烯性不飽和單體(c-1-4)進行雙鍵共聚合反應,以形成一聚合物,其中此聚合物之側鏈具有環氧基。然後,此聚合物之側鏈中的環氧基與具有一個或一個以上羧酸或羧酸酐之乙烯性不飽和單體(c-1-2)進行加成反應,而製得該第一鹼可溶性樹脂(C-1)。
在又一實施例中,該第一鹼可溶性樹脂(C-1)係先將具有式(i)所示結構之乙烯性不飽和單體(c-1-1)、其他可共聚合之乙烯性不飽和單體(c-1-3)與具有環氧基之乙烯性不飽和單體(c-1-4)進行雙鍵共聚合反應,以形成一聚合物,其中此聚合物之側鏈具有環氧基。然後,此聚合物之側鏈中的環氧基與具有一個或一個以上羧酸或羧酸酐之乙烯性不飽和單體(c-1-2)進行加成反應後,進一步與酸酐類化合物進行半酯化反應而製得該第一鹼可溶性樹脂(C-1)。
該具有式(i)所示結構之乙烯性不飽和單體(c-1-1)可包含但不限於N-苄基馬來醯亞胺(N-benzyl maleimide)、N-(1-苯基乙基)馬來醯亞胺(N-(1-phenylethyl)maleimide)、N-(2-苯基乙基)馬 來醯亞胺(N-(2-phenylethyl)maleimide)、2,3-二氯-N-苄基馬來醯亞胺、2,3-二氯-N-(1-苯基乙基)馬來醯亞胺、2,3-二氯-N-(2-苯基乙基)馬來醯亞胺、2,3-二氯-N-(2-氯芐基)馬來醯亞胺、2,3-二氯-N-(4-氯芐基)馬來醯亞胺、2,3-二氯-N-(2-甲基芐基)馬來醯亞胺、2,3-二氯-N-(4-甲基芐基)馬來醯亞胺、2,3-二氯-N-(2,4-二甲基芐基)馬來醯亞胺、2,3-二氯-N-(3,4-二甲基芐基)馬來醯亞胺、2,3-二氯-N-(2,4-二氯芐基)馬來醯亞胺或2,3-二氯-N-(2,4,6-三甲基芐基)馬來醯亞胺。
較佳地,具有式(i)所示結構之乙烯性不飽和單體(c-1-1)是選自於N-苄基馬來醯亞胺、N-(1-苯基乙基)馬來醯亞胺、N-(2-苯基乙基)馬來醯亞胺、2,3-二氯-N-(2-苯基乙基)馬來醯亞胺、2,3-二氯-N-(2,4-二甲基芐基)馬來醯亞胺、2,3-二氯-N-(2,4-二氯芐基)馬來醯亞胺或2,3-二氯-N-(2,4,6-三甲基芐基)馬來醯亞胺。
於本發明之具體例中,基於該鹼可溶性樹脂(C-1)之該具有式(i)所示結構之乙烯性不飽和單體(c-1-1)、具有一個或一個以上羧酸或羧酸酐之乙烯性不飽和單體(c-1-2)及其他可共聚合之乙烯性不飽和單體(c-1-3)共聚合用單體之使用量總和為100重量份,該具有式(i)所示結構之乙烯性不飽和單體(c-1-1)之使用量範圍為5重量份至50重量份;較佳為10重量份至45重量份;更佳為15重量份至40重量份。當未使用具有式(i)所示結構之乙烯性不飽和單體(c-1-1)時,該感光性樹脂組成物會有泡狀顯示缺陷之問題。當該具有式(i)所示結構之乙烯性不飽和單體(c-1-1)之使用量介於上述範圍時,該感光性樹脂組成物在經由微影製程後,所形成的畫素著色層具有耐濺鍍性佳且無泡狀顯示缺陷之優點。
該具有一個或一個以上羧酸或羧酸酐之乙烯性不飽和單體(c-1-2),其中,該具有一個或一個以上羧酸之乙烯性不飽和單體可 包含但不限於不飽和單羧酸化合物、不飽和多羧酸化合物、具有不飽和基及一個羧酸基之多環化合物,或具有不飽和基及多個羧酸基之多環化合物。
該不飽和單羧酸化合物可包含但不限於(甲基)丙烯酸、丁烯酸、α-氯丙烯酸、乙基丙烯酸、肉桂酸、2-(甲基)丙烯醯乙氧基丁二酸酯(2-methacryloyloxyethyl succinate monoester)、2-(甲基)丙烯醯乙氧基六氫化苯二甲酸酯、2-(甲基)丙烯醯乙氧基苯二甲酸酯或omega-羧酸基聚己內酯多元醇單丙烯酸酯等。該omega-羧酸基聚己內酯多元醇單丙烯酸酯可為東亞合成製造,型號為ARONIX M-5300之商品。
該不飽和多羧酸化合物可包含但不限於馬來酸、富馬酸、甲基富馬酸、衣康酸或檸康酸等。
該具有不飽和基及一個羧酸基之多環化合物可包含但不限於5-羧酸基雙環[2.2.1]庚-2-烯、5-羧酸基-5-甲基雙環[2.2.1]庚-2-烯、5-羧酸基-5-乙基雙環[2.2.1]庚-2-烯、5-羧酸基-6-甲基雙環[2.2.1]庚-2-烯或5-羧酸基-6-乙基雙環[2.2.1]庚-2-烯等。
該具有不飽和基及多個羧酸基的多環化合物可例如5,6-二羧酸基二環[2.2.1]庚-2-烯等。
較佳地,該具有一個或一個以上羧酸之乙烯性不飽和單體是選自於丙烯酸、甲基丙烯酸、2-甲基丙烯醯乙氧基丁二酸酯、2-甲基丙烯醯基乙氧基六氫化苯二甲酸酯,或上述化合物之任意組合。
該具有一個或一個以上羧酸或羧酸酐之乙烯性不飽和單體(c-1-2),其中,該具有一個或一個以上羧酸酐之乙烯性不飽和單體可包含但不限於不飽和羧酸酐化合物或具有不飽和基與羧酸酐的多環化合物。
該不飽和羧酸酐化合物可包含但不限於馬來酸酐、富馬 酸酐、甲基富馬酸酐、衣康酸酐或檸康酸酐等。該具有不飽和基及羧酸酐的多環化合物可包含但不限於5,6-二羧酸酐二環[2.2.1]庚-2-烯等。
較佳地,該具有一個或一個以上羧酸酐之乙烯性不飽和單體為馬來酸酐。
上述之具有一個或一個以上羧酸或羧酸酐之乙烯性不飽和單體(c-1-2)可單獨一種或混合複數種使用。
於本發明之具體例中,基於該鹼可溶性樹脂(C-1)之該具有式(i)所示結構之乙烯性不飽和單體(c-1-1)、具有一個或一個以上羧酸或羧酸酐之乙烯性不飽和單體(c-1-2)及其他可共聚合之乙烯性不飽和單體(c-1-3)共聚合用單體之使用量總和為100重量份,該具有一個或一個以上羧酸或羧酸酐之乙烯性不飽和單體(c-1-2)之使用量範圍為5重量份至40重量份;較佳為10重量份至35重量份;更佳為15重量份至30重量份。
該其他可共聚合之乙烯性不飽和單體(c-1-3)可包含但不限於(甲基)丙烯酸烷基酯、(甲基)丙烯酸脂環族酯、(甲基)丙烯酸芳基酯、不飽和二羧酸酯、(甲基)丙烯酸羥烷酯、具有(甲基)丙烯酸酯基的聚醚、苯乙烯化合物或上述化合物以外的不飽和化合物。
上述之(甲基)丙烯酸烷基酯可包含但不限於(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第二丁基酯或(甲基)丙烯酸第三丁基酯等。
上述之(甲基)丙烯酸脂環族酯可包含但不限於(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸-2-甲基環己酯、(甲基)丙烯酸雙環戊酯{或稱三環[5.2.1.02,6]癸-8-基(甲基)丙烯酸酯}、(甲基)丙烯酸二環戊氧基乙酯、(甲基)丙烯酸異冰片酯或(甲基)丙烯酸四氫呋喃酯等。
上述(甲基)丙烯酸芳基酯可包含但不限於(甲基)丙烯酸苯基酯或甲基丙烯酸苯甲酯等。
該不飽和二羧酸酯可包含但不限於馬來酸二乙酯、富馬酸二乙酯或衣康酸二乙酯等。
該(甲基)丙烯酸羥烷酯可包含但不限於(甲基)丙烯酸-2-羥基乙酯或(甲基)丙烯酸-2-羥基丙酯等。
該具有(甲基)丙烯酸酯基的聚醚可包含但不限於聚乙二醇單(甲基)丙烯酸酯或聚丙二醇單(甲基)丙烯酸酯等。
該苯乙烯系化合物可包含但不限於苯乙烯、α-甲基苯乙烯、間-甲基苯乙烯,對-甲基苯乙烯或對-甲氧基苯乙烯等。
上述化合物以外之不飽和化合物可包含但不限於丙烯腈、甲基丙烯腈、氯乙烯、偏二氯乙烯、丙烯醯胺、甲基丙烯醯胺、乙烯乙酯、1,3-丁二烯、異戊二烯、2,3-二甲基1,3-丁二烯、N-丁二醯亞胺基-3-馬來醯亞胺苯甲酸酯、N-丁二醯亞胺基-4-馬來醯亞胺丁酸酯、N-丁二醯亞胺基-6-馬來醯亞胺己酸酯、N-丁二醯亞胺基-3-馬來醯亞胺丙酸酯、N-(9-吖啶基)馬來醯亞胺、N-辛基馬來醯亞胺(N-octylmaleimide)、N-環己基馬來醯亞胺(N-cyclohexylmaleimide)或N-苯基馬來醯亞胺(N-phenylmaleimide)等。
該其他可共聚合之乙烯性不飽和單體(c-1-3)可單獨一種或混合複數種使用。
較佳地,該其他可共聚合之乙烯性不飽和單體(c-1-3)是選自於(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸第三丁基酯、(甲基)丙烯酸苯甲酯、(甲基)丙烯酸雙環戊酯、甲基丙烯酸異冰片酯、(甲基)丙烯酸二環戊氧基乙酯、苯乙烯、對-甲氧基苯乙烯或上述化合物之任意組合。
於本發明之具體例中,基於該鹼可溶性樹脂(C-1)之該 具有式(i)所示結構之乙烯性不飽和單體(c-1-1)、具有一個或一個以上羧酸或羧酸酐之乙烯性不飽和單體(c-1-2)及其他可共聚合之乙烯性不飽和單體(c-1-3)共聚合用單體之使用量總和為100重量份,該其他可共聚合之乙烯性不飽和單體(c-1-3)之使用量範圍為10重量份至90重量份;較佳為20重量份至80重量份;更佳為30重量份至70重量份。
該具有環氧基之乙烯性不飽和單體(c-1-4)可包含但不限於具有環氧基的(甲基)丙烯酸酯化合物、具有環氧基的α-烷基丙烯酸酯化合物或環氧丙醚化合物等。
該具有環氧基的(甲基)丙烯酸酯化合物可包含但不限於(甲基)丙烯酸環氧丙酯、(甲基)丙烯酸2-甲基環氧丙酯、(甲基)丙烯酸3,4-環氧丁酯、(甲基)丙烯酸6,7-環氧庚酯、(甲基)丙烯酸3,4-環氧環己酯或(甲基)丙烯酸3,4-環氧環己基甲酯等。
該具有環氧基的α-烷基丙烯酸酯化合物可包含但不限於α-乙基丙烯酸環氧丙酯、α-正丙基丙烯酸環氧丙酯、α-正丁基丙烯酸環氧丙酯或α-乙基丙烯酸-6,7-環氧庚酯等。
該環氧丙醚化合物可包含但不限於鄰-乙烯基苯甲基環氧丙醚(o-vinylbenzylglycidylether)、間-乙烯基苯甲基環氧丙醚(m-vinylbenzylglycidylether)或對-乙烯基苯甲基環氧丙醚(p-vinylbenzylglycidylether)等。
該具有環氧基之乙烯性不飽和單體(c-1-4)可單獨一種或混合複數種使用。
較佳地,該具有環氧基之乙烯性不飽和單體(c-1-4)是選自於甲基丙烯酸環氧丙酯、甲基丙烯酸2-甲基環氧丙酯、甲基丙烯酸3,4-環氧環己基甲酯、甲基丙烯酸6,7-環氧庚酯、鄰-乙烯基苯甲基環氧丙醚、間-乙烯基苯甲基環氧丙醚、對-乙烯基苯甲基環氧丙醚或上述化合物之任意組合。
於本發明之具體例中,基於該鹼可溶性樹脂(C-1)之該具有式(i)所示結構之乙烯性不飽和單體(c-1-1)、具有一個或一個以上羧酸或羧酸酐之乙烯性不飽和單體(c-1-2)及其他可共聚合之乙烯性不飽和單體(c-1-3)共聚合用單體之使用量總和為100重量份,該具有環氧基之乙烯性不飽和單體(c-1-4)之使用量範圍為1重量份至35重量份;較佳為3重量份至30重量份;更佳為5重量份至25重量份。
另外,上述第一鹼可溶性樹脂(C-1)藉由膠體滲透層析儀(Gel Permeation Chromatography,GPC)測定之聚苯乙烯換算的數目平均分子量一般為1000至35000,較佳為3,000至30,000,更佳為5,000至25,000。
於本發明之具體例中,基於該鹼可溶性樹脂(C)之使用量總和為100重量份,該第一鹼可溶性樹脂(C-1)之使用量為10重量份至100重量份;較佳為15重量份至90重量份;更佳為20重量份至80重量份。
根據本發明之鹼可溶性樹脂(C)可另包含一第二鹼可溶性樹脂(C-2),該第二鹼可溶性樹脂(C-2)是由一混合物進行聚合反應所製得,而該混合物含有一具有至少二個環氧基的環氧化合物(c-2-1),以及一具有至少一個羧酸基及至少一個乙烯性不飽和基的化合物(c-2-2)。除此之外,上述混合物更可選擇性地包含羧酸酐化合物(c-2-3)及/或含環氧基的化合物(c-2-4)。
該具有至少二個環氧基的環氧化合物(c-2-1)可具有如下式(C-I)或下式(C-II)所示之結構。在此處,「環氧化合物(c-2-1)可具有如下式(C-I)或下式(C-II)所示之結構」的敘述亦涵蓋了具有如下式(C-I)所示之結構的化合物及具有如下式(C-II)所示之結構的化合物同時存在而作為環氧化合物(c-2-1)的情形。具體而言,前述具有至少二個環氧基的環氧化合物(c-2-1)例如是具有如下式(C-I)所示之結構:
式(C-I)中,R61、R62、R63與R64分別為相同或不同,且表示氫原子、鹵素原子、C1至C5的烷基、C1至C5的烷氧基、C6至C12的芳基或C6至C12的芳烷基。
前述式(C-I)之具有至少二個環氧基的環氧化合物(c-2-1)可包括由雙酚芴型化合物(bisphenol fluorene)與鹵化環氧丙烷(epihalohydrin)反應而得之含環氧基之雙酚芴型化合物,但並不限於此。
作為上述雙酚芴型化合物的具體例,可列舉:9,9-雙(4-羥基苯基)芴[9,9-bis(4-hydroxyphenyl)fluorene]、9,9-雙(4-羥基-3-甲基苯基)芴[9,9-bis(4-hydroxy-3-methylphenyl)fluorene]、9,9-雙(4-羥基-3-氯苯基)芴[9,9-bis(4-hydroxy-3-chlorophenyl)fluorene]、9,9-雙(4-羥基-3-溴苯基)芴[9,9-bis(4-hydroxy-3-bromophenyl)fluorene]、9,9-雙(4-羥基-3-氟苯基)芴[9,9-bis(4-hydroxy-3-fluorophenyl)fluorene]、9,9-雙(4-羥基-3-甲氧基苯基)芴[9,9-bis(4-hydroxy-3-methoxyphenyl)fluorene]、9,9-雙(4-羥基-3,5-二甲基苯基)芴[9,9-bis(4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)fluorene]、9,9-雙(4-羥基-3,5-二氯苯基)芴[9,9-bis(4-hydroxy-3,5-dichlorophenyl)fluorene]、9,9-雙(4-羥基-3,5-二溴苯基)芴[9,9-bis(4-hydroxy-3,5-dibromophenyl)fluorene]等化合物。
上述鹵化環氧丙烷(epihalohydrin)可包括但不限於3-氯-1,2-環氧丙烷(epichlorohydrin)或3-溴-1,2-環氧丙烷(epibromohydrin)等。
上述由雙酚芴型化合物與鹵化環氧丙烷反應所得之含環氧基之雙酚芴型化合物包含但不限於:(1)新日鐵化學(Nippon Steel Chemical Co.,Ltd)所製造之商品:例如ESF-300等;(2)大阪瓦斯(Osaka Gas Co.,Ltd)所製造之商品:例如PG-100、EG-210等;(3)短信科技(S.M.S Technology Co.,Ltd)所製造之商品:例如SMS-F9PhPG、SMS-F9CrG、SMS-F914PG等。
其次,上述具有至少二個環氧基的環氧化合物(c-2-1)亦可具有如下式(C-II)所示之結構:
式(C-II)中,R65至R78分別為相同或不同,且表示氫原子、鹵素原子、C1至C8的烷基或C6至C15的芳香基,且t表示0至10之整數。
前述式(C-II)之具有至少二個環氧基的環氧化合物(c-2-1)例如是藉由在鹼金屬氫氧化物存在下,使具有下式(C-II-1)結構之化合物與鹵化環氧丙烷進行反應而得:
在上式(C-II-1)中,R65至R78以及t的定義分別與式(C-II)中的R65至R78以及t的定義相同,在此不另贅述。
再者,前述式(C-II)之具有至少二個環氧基的環氧化合物(c-2-1)例如是在酸觸媒存在下,使用具有下式(C-II-2)結構之化合 物與酚(phenol)類進行縮合反應後,形成具有式(C-II-1)結構之化合物。接著,藉由加入過量的鹵化環氧丙烷進行脫鹵化氫反應(dehydrohalogenation),而獲得如式(C-II)所示之具有至少二個環氧基的環氧化合物(c-2-1)。
在上式(C-II-2)中,R79與R80分別為相同或不同之氫原子、鹵素原子、C1至C8的烷基或C6至C15的芳香基;T1及T2分別為相同或不同之鹵素原子、C1至C6的烷基或C1至C6的烷氧基。較佳地,上述鹵素原子可例如氯或溴,上述烷基可例如甲基、乙基或第三丁基,上述烷氧基可例如甲氧基或乙氧基。
作為上述酚類的具體例,可列舉如:酚(phenol)、甲酚(cresol)、乙酚(ethylphenol)、n-丙酚(n-propylphenol)、異丁酚(isobutylphenol)、t-丁酚(t-butylphenol)、辛酚(octylphenol)、壬基苯酚(nonylphenol)、茬酚(xylenol)、甲基丁基苯酚(methylbutylphenol)、二第三丁基酚(di-t-butylphenol)、乙烯苯酚(vinylphenol)、丙烯苯酚(propenylphenol)、乙炔苯酚(ethinylphenol)、環戊苯酚(cyclopentylphenol)、環己基酚(cyclohexylphenol)或環己基甲酚(cyclohexylcresol)等。上述酚類一般可單獨或混合多種使用。
基於上述具有式(C-II-2)結構之化合物的使用量為1莫耳,酚類的使用量為0.5莫耳至20莫耳,其中以2莫耳至15莫耳較佳。
作為上述酸觸媒的具體例,可列舉:鹽酸、硫酸、對甲苯磺酸(p-toluenesulfonic acid)、草酸(oxalic acid)、三氟化硼(boron trifluoride)、無水氯化鋁(aluminium chloride anhydrous)、氯化鋅(zinc chloride)等,其中以對甲苯磺酸、硫酸或鹽酸較佳。上述酸觸媒可單獨或混合多種使用。
另外,上述酸觸媒之使用量雖無特別之限制,但基於上述具有式(C-II-2)結構之化合物的使用量為100重量百分比(wt%),酸觸媒的使用量較佳為0.1wt%至30wt%。
上述縮合反應可在無溶劑或是在有機溶劑存在下進行。其次,上述有機溶劑的具體例可列舉:甲苯(toluene)、二甲苯(xylene)或甲基異丁基酮(methyl isobutyl ketone)等。上述有機溶劑可單獨或混合多種使用。
基於具有式(C-II-2)結構之化合物及酚類的使用量總和為100wt%,上述有機溶劑的使用量為50wt%至300wt%,其中以100wt%至250wt%較佳。另外,上述縮合反應的操作溫度為40℃至180℃,且縮合反應的操作時間為1小時至8小時。
在完成上述縮合反應後,可進行中和處理或水洗處理。上述中和處理是將反應後的溶液之pH值調整為pH 3至pH 7,其中以pH 5至pH 7較佳。上述水洗處理可使用中和劑來進行,此中和劑為鹼性物質,且其具體例可列舉:氫氧化鈉(sodium hydroxide)、氫氧化鉀(potassium hydroxide)等鹼金屬氫氧化物;氫氧化鈣(calcium hydroxide)、氫氧化鎂(magnesium hydroxide)等鹼土類金屬氫氧化物;二伸乙三胺(diethylene triamine)、三伸乙四胺(triethylenetetramine)、苯胺(aniline)、苯二胺(phenylene diamine)等有機胺;以及氨(ammonia)、磷酸二氫鈉(sodium dihydrogen phosphate)等。上述水洗處理可採用習知方法進行,例如,在反應後的溶液中,加入含中和劑的水溶液,反覆進行萃取即可。經中和處理或水洗處理後,經減壓加熱處理,將未反應的酚類及溶劑予以餾除,並進行濃 縮,即可獲得具有式(C-II-1)結構之化合物。
作為上述鹵化環氧丙烷的具體例,可例舉:3-氯-1,2-環氧丙烷(3-chloro-1,2-epoxypropane)、3-溴-1,2-環氧丙烷(3-bromo-1,2-epoxypropane)或上述任意組合。在進行上述脫鹵化氫反應之前,可預先添加或於反應過程中添加氫氧化鈉、氫氧化鉀等鹼金屬氫氧化物。上述脫鹵化氫反應的操作溫度為20℃至120℃,其操作時間範圍為1小時至10小時。
於本發明之具體例中,上述脫鹵化氫反應中所添加之鹼金屬氫氧化物亦可使用其水溶液。在此具體例中,將上述鹼金屬氫氧化物水溶液連續添加至脫鹵化氫反應系統內的同時,可於減壓或常壓下,連續蒸餾出水及鹵化環氧丙烷,藉此分離並除去水,同時可將鹵化環氧丙烷連續地回流至反應系統內。
上述脫鹵化氫反應進行前,亦可添加氯化四甲銨(tetramethyl ammonium chloride)、溴化四甲銨(tetramethyl ammonium bromide)、三甲基苄基氯化銨(trimethyl benzyl ammonium chloride)等的四級銨鹽作為觸媒,並在50℃至150℃下,反應1小時至5小時,再加入鹼金屬氫氧化物或其水溶液,於20℃至120℃的溫度下,使其反應1小時至10小時,以進行脫鹵化氫反應。
基於上述具有式(C-II-1)結構之化合物中的羥基總當量為1當量,上述鹵化環氧丙烷的使用量可為1當量至20當量,其中以2當量至10當量較佳。基於上述具有式(C-II-1)結構之化合物中的羥基總當量為1當量,上述脫鹵化氫反應中添加的鹼金屬氫氧化物的使用量可為0.8當量至15當量,其中以0.9當量至11當量較佳。
此外,為了使上述脫鹵化氫反應順利進行,除了可添加甲醇、乙醇等醇類之外,亦可添加二甲碸(dimethyl sulfone)、二甲亞碸(dimethyl sulfoxide)等非質子性(aprotic)的極性溶媒等來進行反應。 在使用醇類的情況下,基於上述鹵化環氧丙烷的總量為100wt%,醇類的使用量可為2wt%至20wt%,較佳為4wt%至15wt%。在使用非質子性的極性溶媒的例子中,基於鹵化環氧丙烷的總量為100wt%,非質子性的極性溶媒的使用量可為5wt%至100wt%,其中,以10wt%至90wt%較佳。
在完成脫鹵化氫反應後,可選擇性地進行水洗處理。之後,利用加熱減壓的方式除去鹵化環氧丙烷、醇類及非質子性的極性溶媒等。上述加熱減壓例如是於溫度為110℃至250℃,且壓力為1.3kPa(10mmHg)以下的環境下進行。
為了避免形成之環氧樹脂含有加水分解性鹵素,可將脫鹵化氫反應後的溶液加入甲苯、甲基異丁基酮(methyl isobutyl ketone)等溶劑,並加入氫氧化鈉、氫氧化鉀等鹼金屬氫氧化物水溶液,再次進行脫鹵化氫反應。在脫鹵化氫反應中,基於上述具有式(C-II-1)結構之化合物中的羥基總當量為1當量,鹼金屬氫氧化物的使用量為0.01莫耳至0.3莫耳,其中,以0.05莫耳至0.2莫耳較佳。另外,上述脫鹵化氫反應的操作溫度範圍為50℃至120℃,且其操作時間範圍為0.5小時至2小時。
在完成脫鹵化氫反應後,藉由過濾及水洗等步驟去除鹽類。此外,亦可利用加熱減壓的方式,將甲苯、甲基異丁基酮等溶劑予以餾除,而可獲得如式(C-II)所示之具有至少二個環氧基的環氧化合物(c-2-1)。上述式(C-II)之具有至少二個環氧基的環氧化合物(c-2-1)可包含但不限於如商品名為NC-3000、NC-3000H、NC-3000S及NC-3000P等日本化藥(Nippon Kayaku Co.Ltd.)所製造之商品。
前述具有至少一個羧酸基及至少一個乙烯性不飽和基的化合物(c-2-2)例如是選自於由以下(1)至(3)所組成之群組:(1)丙烯酸、甲基丙烯酸、2-甲基丙烯醯氧乙基丁二酸(2- methacryloyloxyethylbutanedioic acid)、2-甲基丙烯醯氧丁基丁二酸、2-甲基丙烯醯氧乙基己二酸、2-甲基丙烯醯氧丁基己二酸、2-甲基丙烯醯氧乙基六氫鄰苯二甲酸、2-甲基丙烯醯氧乙基馬來酸、2-甲基丙烯醯氧丙基馬來酸、2-甲基丙烯醯氧丁基馬來酸、2-甲基丙烯醯氧丙基丁二酸、2-甲基丙烯醯氧丙基己二酸、2-甲基丙烯醯氧丙基四氫鄰苯二甲酸、2-甲基丙烯醯氧丙基鄰苯二甲酸、2-甲基丙烯醯氧丁基鄰苯二甲酸、或2-甲基丙烯醯氧丁基氫鄰苯二甲酸;(2)由含羥基之(甲基)丙烯酸酯與二元羧酸化合物反應而得之化合物,其中二元羧酸化合物包含但不限於己二酸、丁二酸、馬來酸、鄰苯二甲酸;(3)由含羥基之(甲基)丙烯酸酯與羧酸酐化合物反應而得之半酯化合物,其中含羥基之(甲基)丙烯酸酯包含但不限於2-羥基乙基丙烯酸酯[(2-hydroxyethyl)acrylate]、2-羥基乙基甲基丙烯酸酯[(2-hydroxyethyl)methacrylate]、2-羥基丙基丙烯酸酯[(2-hydroxypropyl)acrylate]、2-羥基丙基甲基丙烯酸酯[(2-hydroxypropyl)methacrylate]、4-羥基丁基丙烯酸酯[(4-hydroxybutyl)acrylate]、4-羥基丁基甲基丙烯酸酯[(4-hydroxybutyl)methacrylate]、或季戊四醇三甲基丙烯酸酯等。另外,此處所述之羧酸酐化合物可與下述第二鹼可溶性樹脂(C-2)之混合物所含的羧酸酐化合物(c-2-3)相同,故於此不再贅述。
上述第二鹼可溶性樹脂(C-2)之混合物更可選擇性地包含羧酸酐化合物(-c-2-3)及/或含環氧基的化合物(c-2-4)。上述羧酸酐化合物(c-2-3)可選自由以下(1)至(2)所組成之群組:(1)丁二酸酐(butanedioic anhydride)、順丁烯二酸酐(maleic anhydride)、衣康酸酐(Itaconic anhydride)、鄰苯二甲酸酐(phthalic anhydride)、四氫鄰苯二甲酸酐(tetrahydrophthalic anhydride)、六氫鄰苯二甲酸酐(hexahydrophthalic anhydride)、甲基四氫鄰苯二甲酸酐、甲基六氫鄰苯二甲酸酐、甲基橋亞甲基四氫鄰苯二甲酸酐(methyl endo-methylene tetrahydro phthalic anhydride)、氯茵酸酐(chlorendic anhydride)、戊二酸酐或偏三苯甲酸酐(1,3-dioxoisobenzofuran-5-carboxylic anhydride)等二元羧酸酐化合物;以及(2)二苯甲酮四甲酸二酐(benzophenone tetracarboxylic dianhydride,簡稱BTDA)、雙苯四甲酸二酐或雙苯醚四甲酸二酐等四元羧酸酐化合物。
上述含環氧基的化合物(c-2-4)例如是選自甲基丙烯酸環氧丙酯、3,4-環氧基環己基甲基丙烯酸酯、含不飽和基的縮水甘油醚化合物、含環氧基的不飽和化合物或上述之任意組合所組成的群組。前述含不飽和基的縮水甘油醚化合物包含但不限於商品名Denacol EX-111、EX-121 Denacol、Denacol EX-141、Denacol EX-145、Denacol EX-146、Denacol EX-171、Denacol EX-192等的化合物(以上為長瀨化成工業株式會社之商品)。
前述第二鹼可溶性樹脂(C-2)可由式(C-I)之具有至少二個環氧基的環氧化合物(c-2-1)與具有至少一個羧酸基及至少一個乙烯性不飽和基的化合物(c-2-2)進行聚合反應,形成含羥基的反應產物,接著,再添加羧酸酐化合物(c-2-3)進行反應所製得。基於上述含羥基的反應產物的羥基總當量為1當量,羧酸酐化合物(c-2-3)所含有的酸酐基的當量較佳為0.4當量至1當量,更佳為0.75當量至1當量。當使用多個羧酸酐化合物(c-2-3)時,可於反應中依序添加或同時添加。當使用二元羧酸酐化合物及四元羧酸酐化合物作為羧酸酐化合物(c-2-3)時,二元羧酸酐化合物及四元羧酸酐化合物的莫耳比例較佳為1/99至90/10,更佳為5/95至80/20。另外,上述反應的操作溫度範圍例如是在50℃至130℃的範圍。
前述第二鹼可溶性樹脂(C-2)可由式(C-II)之具有至少二個環氧基的環氧化合物(c-2-1)與具有至少一個羧酸基及至少一個乙烯性不飽和基的化合物(c-2-2)進行反應,形成含羥基的反應產物,接 著,再藉由添加羧酸酐化合物(c-2-3)及/或含環氧基的化合物(c-2-4)進行聚合反應所製得。基於式(C-II)之具有至少二個環氧基的環氧化合物(c-2-1)上的環氧基總當量為1當量,上述具有至少一個羧酸基及至少一個乙烯性不飽和基的化合物(c-2-2)的酸價當量較佳為0.8當量至1.5當量,更佳為0.9當量至1.1當量。基於上述含羥基的反應產物的羥基總量為100莫耳百分比(莫耳%),羧酸酐化合物(c-2-3)的使用量較佳為10莫耳%至100莫耳%,更佳為20莫耳%至100莫耳%,特佳為30莫耳%至100莫耳%。
在製備上述第二鹼可溶性樹脂(C-2)時,為了加速反應,通常會於反應溶液中添加鹼性化合物作為反應觸媒。上述反應觸媒可單獨或混合使用,且上述反應觸媒包含但不限於:三苯基膦(triphenyl phosphine)、三苯基銻(triphenyl stibine)、三乙胺(triethylamine)、三乙醇胺(triethanolamine)、氯化四甲基銨(tetramethylammonium chloride)、氯化苄基三乙基銨(benzyltriethylammonium chloride)等。基於上述具有至少二個環氧基的環氧化合物(c-2-1)與具有至少一個羧酸基及至少一個乙烯性不飽和基的化合物(c-2-2)的使用量總和為100重量份,反應觸媒的使用量較佳為0.01重量份至10重量份,更佳為0.3重量份至5重量份。
此外,為了控制聚合度,通常還會於反應溶液中添加聚合抑制劑(polymerization inhibitor)。上述聚合抑制劑可包含但不限於:甲氧基酚(methoxyphenol)、甲基氫醌(methylhydroquinone)、氫醌(hydroquinone)、2,6-二第三丁基對甲酚(2,6-di-t-butyl-p-cresol)或吩噻嗪(phenothiazine)等。一般而言,上述聚合抑制劑可單獨或混合多種使用。基於上述具有至少二個環氧基的環氧化合物(c-2-1)與具有至少一個羧酸基及至少一個乙烯性不飽和基的化合物(c-2-2)的使用量總和為100重量份,聚合抑制劑的使用量較佳為0.01重量份至10重量份, 更佳為0.1重量份至5重量份。
在製備該第二鹼可溶性樹脂(C-2)時,必要時可使用聚合反應溶劑。作為上述聚合反應溶劑的具體例,可列舉如:乙醇、丙醇、異丙醇、丁醇、異丁醇、2-丁醇、己醇或乙二醇等醇類化合物;甲乙酮或環己酮等酮類化合物;甲苯或二甲苯等芳香族烴類化合物;賽珞素(cellosolve)或丁基賽珞素(butyl cellosolve)等賽珞素類化合物;卡必妥(carbitol)或丁基卡必妥(butyl carbitol)等卡必妥類化合物;丙二醇單甲醚(propylene glycol monomethyl ether)等丙二醇烷基醚類化合物;二丙二醇單甲醚[di(propylene glycol)methyl ether]等多丙二醇烷基醚[poly(propylene glycol)alkyl ether]類化合物;醋酸乙酯、醋酸丁酯、乙二醇乙醚醋酸酯(ethylene glycol monoethyl ether acetate)或丙二醇甲醚醋酸酯(propylene glycol methyl ether acetate)等醋酸酯類化合物;乳酸乙酯(ethyl lactate)或乳酸丁酯(butyl lactate)等乳酸烷酯(alkyl lactate)類化合物;或二烷基二醇醚類。上述聚合反應溶劑一般可單獨或混合多種使用。另外,上述第二鹼可溶性樹脂(C-2)的酸價較佳為50mgKOH/g至200mgKOH/g,更佳為60mgKOH/g至150mgKOH/g。
另外,上述第二鹼可溶性樹脂(C-2)藉由膠體滲透層析儀(Gel Permeation Chromatography,GPC)測定之聚苯乙烯換算的數目平均分子量一般為500至10000,較佳為800至8,000,更佳為1,000至6,000。
於本發明之具體例中,基於該鹼可溶性樹脂(C)之使用量總和為100重量份,該第二鹼可溶性樹脂(C-2)之使用量範圍為0重量份至90重量份;較佳為10重量份至85重量份;更佳為20重量份至80重量份。當使用第二鹼可溶性樹脂(C-2)時,該感光性樹脂組成物具有更佳之無泡狀顯示缺陷之優點。
根據本發明之含乙烯性不飽和基之化合物(D)包含具有羧酸基之乙烯性不飽和基之化合物(D-1)、其它乙烯性不飽和基之化合物(D-2)或此等之一組合。
上述該具有羧酸基之乙烯性不飽和基之化合物(D-1)具有至少1個羧酸基;較佳地,具有1至4個羧酸基;更佳地,具有1至3個羧酸基;另一方面,該具有羧酸基之乙烯性不飽和基之化合物(D-1)具有2個以上之聚合性不飽和雙鍵,較佳為2至12個,更佳為3至6個。
具體而言,上述該具有羧酸基之乙烯性不飽和基之化合物(D-1)係由2價以上之多元醇及具有2個以上羧酸基之聚合性不飽和羧酸反應而形成具有羧酸基之多官能性酯類化合物;在一實施例中,此具有羧酸基之乙烯性不飽和基之化合物(D-1)係先將3價以上之多元醇(d1)及具有1個以上羧酸基之聚合性不飽和羧酸(d2)反應而形成具有羥基之多官能性酯類(T1),再將該具有羥基之多官能性酯類(T1)與二羧酸類(d3)進行反應而製得具有羧酸基之多官能性酯類化合物(以下稱d-1-1);在另一實施例中,此具有羧酸基之乙烯性不飽和基之化合物(D-1)係將3價以上之多元羧酸類(d4)與具有1個以上羥基之聚合性不飽和化合物(d5)進行反應而製得具有羧酸基之多官能性酯類化合物(以下稱d-1-2)。
根據本發明之具有羧酸基之多官能性單體較佳係為該具有羧酸基之多官能性酯類化合物(d-1-1)及具有羧酸基之多官能性酯類化合物(d-1-2)。
上述該3價以上之多元醇(d1)的具體例:甘油、三羥甲基丙烷、季戊四醇或二季戊四醇等。
上述該具有1個以上羧酸基之聚合性不飽和羧酸(d2)的具體例:(甲基)丙烯酸、巴豆酸(crotonic acid)、α-氯丙烯酸、肉桂 酸、馬來酸、富馬酸、衣康酸、檸康酸或中康酸(mesaconic acid)等。
上述該二羧酸類(d3)的具體例如:草酸、丙二酸、琥珀酸、戊二酸、己二酸、庚二酸、辛二酸、壬二酸、癸二酸、十三烷二酸、甲基丙二酸、乙基丙二酸、二甲基丙二酸、、甲基琥珀酸、四甲基琥珀酸、環己烷-1,2-二甲酸、環己烷-1,3-二甲酸、環己烷-1,4-二甲酸、鄰苯二甲酸、間苯二甲酸或對苯二甲酸。
上述該3價以上之多元羧酸類(d4)的具體例:丙烷-1,2,3-三甲酸(丙三羧酸)、丁烷-1,2,4-三甲酸、烏頭酸(aconitic acid)、樟腦三酸(camphoronic acid)、環己烷-1,2,3-三甲酸、環己烷-1,2,4-三甲酸、環己烷-1,3,5-三甲酸、苯-1,2,3-三甲酸、偏苯三甲酸(trimellitic acid)、均苯三酸(trimesic acid)、偏苯四甲酸(mellophanic acid)或苯均四酸(pyromellitic acid)。
上述該具有1個以上羥基之聚合性不飽和化合物(d5)的具體例如:(甲基)烯丙基醇、2-羥乙基(甲基)丙烯酸酯、2-羥丙基(甲基)丙烯酸酯或3-羥丙基(甲基)丙烯酸酯。
該具有羧酸基之多官能性酯類化合物(d-1-1)及具有羧酸基之多官能性酯類化合物(d-1-2)的較佳具體例包含但不限於具有單羥基之(甲基)丙烯酸酯寡聚物,例如:三羥甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯或二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯等和二羧酸類,例如:丙二酸、琥珀酸、戊二酸、鄰苯二甲酸或對苯二甲酸等進行反應形成具有羧酸基之單酯類化合物;三羧酸類,例如:丙烷-1,2,3-三甲酸、丁烷-1,2,4-三甲酸、苯-1,2,3-三甲酸、偏苯三甲酸(trimellitic acid)或均苯三酸(trimesic acid)等和單羥基烷基(甲基)丙烯酸酯,例如:2-羥乙基(甲基)丙烯酸酯或2-羥丙基(甲基)丙烯酸酯等,進行反應形成具有羧酸基之聚酯寡聚物(oligoester)等。
於本發明之具體例中,該具有羧酸基之乙烯性不飽和基之化合物(D-1)包含但不限於如下式(M-1)至式(M-4),較佳為式(M-1)或(M-2),更佳為式(M-1)。
上述具有羧酸基之乙烯性不飽和基之化合物(D-1)的酸價較佳為10mgKOH/g至150mgKOH/g,更佳為20mgKOH/g至120 mgKOH/g,尤佳為25mgKOH/g至100mgKOH/g(上述酸價之測定係根據JIS K 0070:1992所記載方式進行)。
上述具有羧酸基之乙烯性不飽和基之化合物(D-1)可單獨一種或混合複數種使用。
於本發明之具體例中,基於該鹼可溶性樹脂(C)之使用量總和為100重量份,該具有羧酸基之乙烯性不飽和基之化合物(D-1)之使用量範圍為3重量份至30重量份;較佳為4重量份至25重量份;更佳為5重量份至20重量份。當使用具有羧酸基之乙烯性不飽和基之化合物(D-1)時,該感光性樹脂組成物具有圖案平滑性佳之優點。
上述該其它乙烯性不飽和基之化合物(D-2)為具有2個或2個以上乙烯性不飽和基之不飽和化合物,該具體例包含但不限於乙二醇二丙烯酸酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯、二丙烯酸二環戊烯酯、二甲基丙烯酸二環戊烯酯、三甘醇二丙烯酸酯、四甘醇二丙烯酸酯、四甘醇二甲基丙烯酸酯、三(2-羥乙基)異氰酸酯二丙烯酸酯、三(2-羥乙基)異氰酸酯二甲基丙烯酸酯、三(2-羥乙基)異氰酸酯三丙烯酸酯、三(2-羥乙基)異氰酸酯三甲基丙烯酸酯、己內酯改質之三(2-羥乙基)異氰酸酯三丙烯酸酯、己內酯改質之三(2-羥乙基)異氰酸酯三甲基丙烯酸酯、三丙烯酸三羥甲基丙酯、三甲基丙烯酸三羥甲基丙酯、環氧乙烷(以下簡稱EO)改質之三丙烯酸三羥甲基丙酯、EO改質之三甲基丙烯酸三羥甲基丙酯、環氧丙烷(以下簡稱PO)改質之三丙烯酸三羥甲基丙酯、PO改質之三甲基丙烯酸三羥甲基丙酯、三甘醇二丙烯酸酯、三甘醇二甲基丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、新戊二醇二甲基丙烯酸酯、1,4-丁二醇二丙烯酸酯、1,4-丁二醇二甲基丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯、1,6-己二醇二甲基丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇三甲基丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、季戊四醇四甲基丙烯酸酯、聚酯二丙烯酸酯、聚酯二甲基丙烯酸酯、聚乙二醇二丙烯酸 酯、聚乙二醇二甲基丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯(dipentaerythritol hexaacrylate,簡稱DPHA)、二季戊四醇六甲基丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇五甲基丙烯酸酯、二季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇四甲基丙烯酸酯、己內酯改質之二季戊四醇六丙烯酸酯、己內酯改質之二季戊四醇六甲基丙烯酸酯、己內酯改質之二季戊四醇五丙烯酸酯、己內酯改質之二季戊四醇五甲基丙烯酸酯、四丙烯酸二三羥甲基丙酯、四甲基丙烯酸二三羥甲基丙酯、EO改質之雙酚A二丙烯酸酯、EO改質之雙酚A二甲基丙烯酸酯、PO改質之雙酚A二丙烯酸酯、PO改質之雙酚A二甲基丙烯酸酯、EO改質之氫化雙酚A二丙烯酸酯、EO改質之氫化雙酚A二甲基丙烯酸酯、PO改質之氫化雙酚A二丙烯酸酯、PO改質之氫化雙酚A二甲基丙烯酸酯、PO改質之甘油三丙酸酯、EO改質之雙酚F二丙烯酸酯、EO改質之雙酚F二甲基丙烯酸酯、酚醛聚縮水甘油醚丙烯酸酯、酚醛聚縮水甘油醚甲基丙烯酸酯,或TO-1382(日本東亞合成株式會社製造)等。其中,該具有2個或2個以上乙烯性不飽和基之不飽和化合物可單獨或混合使用。
較佳地,該其它乙烯性不飽和基之化合物(D-2)是擇自於三丙烯酸三羥甲基丙酯、EO改質之三丙烯酸三羥甲基丙酯、PO改質之三丙烯酸三羥甲基丙酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇四丙烯酸酯、己內酯改質之二季戊四醇六丙烯酸酯、四丙烯酸二三羥甲基丙酯、PO改質之甘油三丙酸酯,或此等組合。
上述其它乙烯性不飽和基之化合物(D-2)可單獨一種或混合複數種使用。
於本發明之具體例中,基於該鹼可溶性樹脂(C)之使用量總和為100重量份,該其它乙烯性不飽和基之化合物(D-2)之使用量 範圍為17重量份至170重量份;較佳為26重量份至155重量份;更佳為45重量份至130重量份。
基於該鹼可溶性樹脂(C)之使用量總和為100重量份,該含乙烯性不飽和基之化合物(D)之使用量為20重量份至200重量份;較佳為30重量份至180重量份;更佳為50重量份至150重量份。
根據本發明之光起始劑(E)包含一具有式(II)所示結構之光起始劑(E-1):
其中,R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及R8彼此獨立地為氫、C1-C20烷基、、COR16、OR17、鹵素、NO2,或R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6 及R7或R7及R8彼此獨立地為經取代之C2-C10烯基或R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8彼此獨立地共同為-(CH2)P-Y-(CH2)q-;或R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8彼此獨立地共同為;但條件為R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8中至少一對係;R9、R10、R11及R12彼此獨立地為氫、C1-C20烷基,該C1-C20烷基未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、苯基、CN、OH、SH、C1-C4-烷氧基、(CO)OH或(CO)O(C1-C4烷 基);或R9、R10、R11及R12彼此獨立地為未經取代之苯基或經一或多個以下基團取代之苯基:C1-C6烷基、鹵素、CN、OR17、SR18或NR19R20;或R9、R10、R11及R12彼此獨立地為鹵素、CN、OR17、SR18、SOR18、SO2R18或NR19R20,其中該等取代基OR17、SR18或NR19R20視情況經由基團R17、R18、R19及/或R20與萘基環中一個碳原子形成5員或6員環; 或R9、R10、R11及R12彼此獨立地為、COR16或NO2;Y係O、S、NR26或直接鍵;p係整數0、1、2或3;q係整數1、2或3;X係CO或直接鍵;R13係C1-C20烷基,其未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、R17、COOR17、OR17、SR18、CONR19R20、 NR19R20、PO(OCkH2k+1)2;或R13係C2-C20烷基,其間雜有一或多個O、S、SO、SO2、NR26或CO,或係C2-C12烯基,其未經間雜或間雜有一或多個O、CO或NR26,其中經間雜之C2-C20烷基及未經間雜或經間雜之C2-C12烯基未經取代或經一或多個鹵素取代;或R13係C4-C8環烯基、C2-C12炔基或未經間雜或間雜有一或多個O、S、CO或NR26之C3-C10環烷基;或R13係苯基或萘基,其各未經取代或經一或多個以下基團取 代:OR17、SR18、NR19R20、COR16、CN、NO2、鹵素、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、間雜有一或多個O、S、CO或NR26之C2-C20烷基;或其各經C3-C10環烷基或間雜有一或多個O、S、CO或NR26之C3-C10環烷基取代;k係整數1至10;R14係氫、C3-C8環烷基、C2-C5烯基、C1-C20烷氧基或C1-C20烷基,其未經取代或經一或多個鹵素、苯基、C1-C20烷基苯基或CN取代;或R14係苯基或萘基,其各未經取代或經一或多個以下基團取代:C1-C6烷基、C1-C4鹵代烷基、鹵素、CN、OR17、SR18及/或NR19R20;或R14係C3-C20雜芳基、C1-C8烷氧基、苄氧基或苯氧基,該苄氧基及苯氧基未經取代或經一或多個C1-C6烷基、C1-C4鹵代烷基及/或鹵素取代;R15係C6-C20芳基或C3-C20雜芳基,其各未經取代或經一或多個以下基團取代:苯基、鹵素、C1-C4鹵代烷基、CN、NO2、OR17、SR18、NR19R20、PO(OCkH2k+1)2、SO-C1-C10烷基、SO2-C1-C10烷基、間雜有一或多個O、S或NR26之C2-C20烷基;或其各經C1-C20烷基取代,該C1-C20烷基未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、COOR17、CONR19R20、苯基、C3-C8環烷基、C3-C20雜芳基、C6-C20芳氧基羰基、C3-C20雜芳氧基羰基、OR17、SR18或NR19R20;或R15係氫、C2-C12烯基、未經間雜或間雜有一或多個O、CO或NR26之C3-C8環烷基;或R15係C1-C20烷基,其未經取代或經一或多個以下基團取 代:鹵素、OR17、SR18、C3-C8環烷基、C3-C20雜芳基、C6-C20芳氧基羰基、C3-C20雜芳氧基羰基、NR19R20、 COOR17、CONR19R20、PO(OCkH2k+1)2、苯基;或該C1-C20烷基經苯基取代,該苯基經鹵素、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、OR17、SR18或NR19R20取代;或R15係C2-C20烷基,其間雜有一或多個O、SO或SO2,且該經間雜之C2-C20烷基未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、OR17、COOR17、CONR19R20、苯基或經OR17、SR18或NR19R20取代之苯基;或R15係C2-C20烷醯基或苯甲醯基,其未經取代或經一或多個以下基團取代:C1-C6烷基、鹵素、苯基、OR17、SR18或NR19R20;或R15係未經取代或經一或多個OR17取代之萘甲醯基或係C3-C14雜芳基羰基;或R15係C2-C12烷氧基羰基,其未經間雜或間雜有一或多個O且該經間雜或未經間雜之C2-C12烷氧基羰基未經取代或經一或多個羥基取代;或R15係苯氧基羰基,其未經取代或經一或多個以下基團取代:C1-C6烷基、鹵素、C1-C4鹵代烷基、苯基、OR17、SR18或NR19R20;或R15係CN、CONR19R20、NO2、C1-C4鹵代烷基、S(O)m-C1-C6烷基、未經取代或經C1-C12烷基或SO2-C1-C6烷基取代之S(O)m-苯基;或R15係SO2O-苯基,其未經取代或經C1-C12烷基取代;或係 二苯基膦醯基或二(C1-C4烷氧基)-膦醯基;m係1或2;R'14具有針對R14所給出含義中之一者;R'15具有針對R15所給出含義中之一者;X1係O、S、SO或SO2;X2係O、CO、S或直接鍵;R16係C6-C20芳基或C3-C20雜芳基,其各未經取代或經一或多個以下基團取代:苯基、鹵素、C1-C4鹵代烷基、CN、NO2、OR17、SR18、NR19R20或間雜有一或多個O、S或NR26之C1-C20烷基;或其各經一或多個C1-C20烷基取代,該C1-C20烷基未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、COOR17、CONR19R20、苯基、C3-C8環烷基、C3-C20雜芳基、C6-C20芳氧基羰基、C3-C20雜芳氧基羰基、OR17、SR18或NR19R20;或R16係氫、C1-C20烷基,該C1-C20烷基未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、苯基、OH、SH、CN、C3-C6烯氧基、OCH2CH2CN、OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-苯基、(CO)OH或(CO)O(C1-C4烷基);或R16係C2-C12烷基,其間雜有一或多個O、S或NR26;或R16係(CH2CH2O)n+1H、(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)、C2-C12烯基或C3-C8環烷基;或R16係經SR18取代之苯基,其中基團R18表示鍵結至其中附接有COR16之咔唑部分之苯基或萘基環的直接鍵;n係1至20;R17係氫、苯基-C1-C3烷基、C1-C20烷基,其未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、OH、SH、CN、C3-C6烯氧基、OCH2CH2CN、OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(CO)- (C1-C4烷基)、OCO)-(C2-C4)烯基、O(CO)-苯基、(CO)OH、(CO)O(C1-C4烷基)、C3-C20環烷基、SO2-(C1-C4鹵代烷基)、O(C1-C4鹵代烷基)或間雜有一或多個O之C3-C20環烷基;或R17係C2-C20烷基,其間雜有一或多個O、S或NR26;或R17係(CH2CH2O)n+1H、(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)、C1-C8烷醯基、C2-C12烯基、C3-C6烯醯基或未經間雜或間雜有一或多個O、S、CO或NR26之C3-C20環烷基;或R17係C1-C8烷基-C3-C10環烷基,其未經間雜或間雜有一或多個O;或R17係苯甲醯基,其未經取代或經一或多個C1-C6烷基、鹵素、OH或C1-C3烷氧基取代;或R17係苯基、萘基或C3-C20雜芳基,其各未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、OH、C1-C12烷基、C1-C12烷氧基、CN、NO2、苯基-C1-C3烷氧基、苯氧基、C1-C12烷基硫基、苯基硫基、N(C1-C12烷基)2、二苯基-胺基或 ; 或R17形成鍵結至其上具有基團之苯基或萘基環之一個碳原子之直接鍵;R18係氫、C2-C12烯基、C3-C20環烷基或苯基-C1-C3烷基,其中C2-C12烯基、C3-C20環烷基或苯基-C1-C3烷基未經間雜或間雜有一或多個O、S、CO、NR26或COOR17;或R18係C1-C20烷基,其未經取代或經一或多個以下基團取代:OH、SH、CN、C3-C6烯氧基、OCH2CH2CN、OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(CO)-(C2-C4)烯基、O(CO)- (C1-C4烷基)、O(CO)-苯基或(CO)OR17;或R18係C2-C20烷基,其間雜有一或多個O、S、CO、NR26或COOR17;或R18係(CH2CH2O)nH、(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)、C2-C8烷醯基或C3-C6烯醯基;或R18係苯甲醯基,其未經取代或經一或多個以下基團取代:C1-C6烷基、鹵素、OH、C1-C4烷氧基或C1-C4烷基硫基;或R18係苯基、萘基或C3-C20雜芳基,其各未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、C1-C12烷基、C1-C4鹵代烷基、C1-C12烷氧基、CN、NO2、苯基-C1-C3烷氧基、苯氧基、C1-C12烷基硫基、苯基硫基、N(C1-C12烷基)2、二苯基胺基、(CO)O(C1-C8烷基)、(CO)-C1-C8烷基、(CO)N(C1-C8烷基)2;R19及R20彼此獨立地為氫、C1-C20烷基、C2-C4羥基烷基、C2-C10烷氧基烷基、C2-C5烯基、C3-C20環烷基、苯基-C1-C3烷基、C1-C8烷醯基、C1-C8烷醯基氧基、C3-C12烯醯基、SO2-(C1-C4鹵代烷基)或苯甲醯基;或R19及R20係苯基、萘基或C3-C20雜芳基,其各未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、C1-C4鹵代烷基、C1-C20烷氧基、C1-C12烷基、苯甲醯基或C1-C12烷氧基;或R19及R20與其所附接之N原子一起形成未經間雜或間雜有O、S或NR17之5員或6員飽和或不飽和環,且該5員或6員飽和或不飽和環未經取代或經一或多個以下基團取代:C1-C20烷基、C1-C20烷氧基、=O、OR17、SR18、NR21R22、(CO)R23、NO2、鹵素、C1-C4-鹵代烷基、CN、苯基、 或C3-C20環烷基,該C3-C20環烷基未經間雜或間雜有一或多個O、S、CO或NR17;或R19及R20與其所附接之N原子一起形成雜芳香族環系統,該環系統未經取代或經一或多個以下基團取代:C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、C1-C20烷氧基、=O、OR17、SR18、 NR21R22、(CO)R23、鹵素、NO2、CN、苯基或C3-C20環烷基,該C3-C20環烷基未經間雜或間雜有一或多個O、S、CO或NR17;R21及R22彼此獨立地為氫、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、C3-C10環烷基或苯基;或R21及R22與其所附接之N原子一起形成未經間雜或間雜有O、S或NR26之5員或6員飽和或不飽和環,且該5員或6員飽和或不飽和環未稠合或該5員或6員飽和或不飽和環係與苯環稠合;R23係氫、OH、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、間雜有一或多個O、CO或NR26之C2-C20烷基、未經間雜或間雜有O、S、CO或NR26之C3-C20環烷基,或R23係苯基、萘基、苯基-C1-C4烷基、OR17、SR18或NR21R22;R24係(CO)OR17、CONR19R20、(CO)R17;或R24具有針對R19及R20所給出含義中之一者;R25係COOR17、CONR19R20、(CO)R17;或R25具有針對R17所給出含義中之一者;R26係氫、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、間雜有一或多個O或CO之C2-C20烷基;或係苯基-C1-C4烷基、未經間雜或間雜有一或多個O或CO之C3-C8環烷基;或係(CO)R19;或係苯基,其未經取代或經一或多個以下基團取 代:C1-C20烷基、鹵素、C1-C4鹵代烷基、OR17、SR18、 NR19R20; 但條件為在該分子中存在至少一個基團
該具有式(II)所示結構之光起始劑(E-1)之特徵在於其在咔唑部分上包含一或多個成環(annelated)不飽和環。換言之,R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8中至少一對係
在一具體例中,該具有式(II)所示結構之光起始劑(E-1),該C1-C20烷基係直鏈或支鏈且係(例如)C1-C18-、C1-C4-、C1-C12-、C1-C8-、C1-C8-或C1-C4烷基或C4-C12-或C4-C8烷基。實例係甲基、乙基、丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、異丁基、第三丁基、戊基、己基、庚基、2,4,4-三甲基戊基、2-乙基己基、辛基、壬基、癸基、十二基、十四基、十五基、十六基、十八基及二十基。C1-C6烷基具有與上文針對C1-C20烷基所給出相同之含義且具有最高相應C原子數。
該含有一或多個C-C多重鍵之未經取代或經取代之C1-C20烷基係指如下文所解釋之烯基。
該C1-C4鹵代烷基係如下文所定義經鹵素取代之如上文所定義C1-C4烷基。烷基基團係(例如)單-或多鹵化,直至所有H-原子替換為鹵素。其係(例如)CnHxHaly,其中x+y=2n+1且Hal係鹵素,較佳為F。具體實例係氯甲基、三氯甲基、三氟甲基或2-溴丙基,尤其為三氟甲基或三氯甲基。C2-C4羥基烷基意指經一或兩個O原子取代之C2-C4烷基。烷基基團係直鏈或支鏈。實例係2-羥基乙基、1-羥基 乙基、1-羥基丙基、2-羥基丙基、3-羥基丙基、1-羥基丁基、4-羥基丁基、2-羥基丁基、3-羥基丁基、2,3-二羥基丙基或2,4-二羥基丁基。C2-C10烷氧基烷基係間雜有一個O原子之C2-C10烷基。C2-C10烷基具有與上文針對C1-C20烷基所給出相同之含義且具有最高相應C原子數。實例係甲氧基甲基、甲氧基乙基、甲氧基丙基、乙氧基甲基、乙氧基乙基、乙氧基丙基、丙氧基甲基、丙氧基乙基、丙氧基丙基。
該間雜有一或多個O、S、NR26或CO之C2-C20烷基經O、S、NR26或CO間雜(例如)1至9次、1至5次、1至3次或1次或2次。若存在一個以上間雜基團,則其為相同種類或不同。該兩個O原子由至少一個亞甲基、較佳至少兩個亞甲基(即伸乙基)隔開。該等烷基係直鏈或支鏈。舉例而言,將存在以下結構單元:-CH2-CH2-O-CH2CH3、-[CH2CH2O]y-CH3(其中y=1至9)、-(CH2-CH2O)7-CH2CH3、-CH2-CH(CH3)-O-CH2-CH2CH3、-CH2-CH(CH3)-O-CH2-CH3、-CH2-CH2-S-CH2CH3、-CH2-CH(CH3)-NR26-CH2-CH3、-CH2-CH2-COO-CH2CH3或-CH2-CH(CH3)-OCO-CH2-CH2CH3
該C3-C10環烷基、C3-C10環烷基及C3-C8環烷基在本申請案上下文中應理解為至少包含一個環之烷基。其係(例如)環丙基、環丁基、環戊基、環己基、環辛基、戊基環戊基及環己基。C3-C10環烷基在本發明上下文中亦意欲涵蓋二環,換言之,橋聯環,例 如及相應環。其他實例係諸如(例如)或等結構、以及橋 聯或稠合環系統,舉例而言,該術語亦意欲涵蓋等。
該間雜有O、S、CO、NR26之C3-C20環烷基具有上文 給出之含義,其中烷基中至少一個CH2-基團替換為O、S、CO或 NR26。實例係諸如(例如 )、等結構。
該C1-C8烷基-C3-C10環烷基係經一或多個具有最多8個碳原子之烷基取代的如上文所定義之C3-C10環烷基。實例係等。
該間雜有一或多個O之C1-C8烷基-C3-C10環烷基係經一或多個具有最多8個碳原子之烷基取代的如上文所定義之O間雜C3-C10環烷基。實例係等。
該C1-C12烷氧基係經一個O原子取代之C1-C12烷基。C1-C12烷基具有與上文針對C1-C20烷基所給出相同之含義且具有最高相應C原子數。該C1-C4烷氧基係直鏈或支鏈,例如甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基、正丁氧基、第二丁氧基、異丁氧基或第三丁氧基。C1-C8烷氧基及C1-C4-烷氧基具有與上文所述相同之含義且具有最高相應C原子數。
該C1-C12烷基硫基係經一個S原子取代之C1-C12烷基。C1-C20烷基具有與上文針對C1-C20烷基所給出相同之含義且具有最高相應C原子數。該C1-C4烷基硫基係直鏈或支鏈,例如甲基硫基、乙基硫基、丙基硫基、異丙基硫基、正丁基硫基、第二丁基硫基、異丁基硫基、第三丁基硫基。
該苯基-C1-C3烷基係(例如)苄基、苯基乙基、α-甲基苄 基或α,α-二甲基-苄基,尤其為苄基。
該苯基-C1-C3烷氧基係(例如)苄氧基、苯基乙氧基、α-甲基苄氧基或α,α-二甲基苄氧基,尤其為苄氧基。
該C2-C12烯基係單-或多不飽和且係(例如)C2-C10-、C2-C8-、C2-C5-烯基,例如乙烯基、烯丙基、甲基烯丙基、1,1-二甲基烯丙基、1-丁烯基、3-丁烯基、2-丁烯基、1,3-戊二烯基、5-己烯基、7-辛烯基或十二烯基,尤其為烯丙基。C2-C5烯基具有與上文針對C2-C12烯基所給出相同之含義且具有最高相應C原子數。
該間雜有一或多個O、CO或NR26之C2-C12烯基經O、S、NR26或CO間雜(例如)1至9次、1至5次、1至3次或1次或2次。若存在一個以上間雜基團,則其為相同種類或不同。該兩個O原子由至少一個亞甲基、較佳至少兩個亞甲基(即伸乙基)隔開。該烯基係直鏈或支鏈且如上文所定義。舉例而言,可形成以下結構單元:-CH=CH-O-CH2CH3、-CH=CH-O-CH=CH2等。
該C4-C8環烯基具有一或多個雙鍵且係(例如)C4-C6-環烯基或C6-C8-環烯基。實例係環丁烯基、環戊烯基、環己烯基或環辛烯基,尤其為環戊烯基及環己烯基,較佳為環己烯基。
該C3-C6烯氧基係單或多不飽和且具有上文針對烯基所給出含義中之一者,且附接氧基具有最高相應C原子數。實例係烯丙氧基、甲基烯丙氧基、丁烯氧基、戊烯氧基、1,3-戊二烯氧基、5-己烯氧基。
該C2-C12炔基係單或多不飽和直鏈或支鏈且係(例如)C2-C8-、C2-C6-或C2-C4炔基。實例係乙炔基、丙炔基、丁炔基、1-丁炔基、3-丁炔基、2-丁炔基、戊炔基己炔基、2-己炔基、5-己炔基、辛炔基等。
該C2-C20烷醯基係直鏈或支鏈且係(例如)C2-C18-、 C2-C14-、C2-C12-、C2-C8-、C2-C6-或C2-C4烷醯基或C4-C12-或C4-C8烷醯基。實例係乙醯基、丙醯基、丁醯基、異丁醯基、戊醯基、己醯基、庚醯基、辛醯基、壬醯基、癸醯基、十二醯基、十四醯基、十五醯基、十六醯基、十八醯基、二十醯基,較佳為乙醯基。C1-C8烷醯基具有與上文針對C2-C20烷醯基所給出相同之含義且具有最高相應C原子數。
該C2-C12烷氧基羰基係直鏈或支鏈且係(例如)甲氧基羰基、乙氧基羰基、丙氧基羰基、正丁氧基羰基、異丁氧基羰基、1,1-二甲基丙氧基羰基、戊氧基羰基、己氧基羰基、庚氧基羰基、辛氧基羰基、壬氧基羰基、癸氧基羰基或十二氧基羰基,尤其為甲氧基羰基、乙氧基羰基、丙氧基羰基、正丁氧基羰基或異丁氧基羰基,較佳為甲氧基羰基。
該間雜有一或多個O之C2-C12烷氧基羰基係直鏈或支鏈。兩個O原子由至少兩個亞甲基(即伸乙基)隔開。該經間雜之烷氧基羰基未經取代或經一或多個羥基取代。該C6-C20芳氧基羰基係(例如)苯基氧基羰基[=苯基-O-(CO)-]、萘氧基羰基、蒽氧基羰基等。C5-C20雜芳氧基羰基係C5-C20雜芳基-O-CO-。
該C3-C10環烷基羰基係C3-C10環烷基-CO-,其中環烷基具有上文所示含義中之一者且具有最高相應C原子數。該間雜有一或多個O、S、CO、NR26之C3-C10環烷基羰基係指經間雜環烷基-CO-,其中經間雜環烷基係如上文所述所定義。
該C3-C10環烷氧基羰基係C3-C10環烷基-O-(CO)-,其中環烷基具有上文所示含義中之一者且具有最高相應C原子數。間雜有一或多個O、S、CO、NR26之C3-C10環烷氧基羰基係指經間雜環烷基-O-(CO)-,其中經間雜環烷基係如上文所述所定義。
該C1-C20烷基苯基係指經一或多個烷基取代之苯基,其 中C原子之總和最多為20。
該C6-C20芳基係(例如)苯基、萘基、蒽基、菲基、芘基、基、并四苯基、聯伸三苯基等,尤其為苯基或萘基,較佳為苯基。萘基係1-萘基或2-萘基。
在本發明上下文中,該C3-C20雜芳基意欲包含單環或多環系統,例如稠合環系統。實例係噻吩基、苯并[b]噻吩基、萘并[2,3-b]噻吩基、噻蒽基、呋喃基、二苯并呋喃基、唏基、呫噸基、噻噸基、啡噁噻基、吡咯基、咪唑基、吡唑基、吡嗪基、嘧啶基、噠嗪基、中氮茚基、異吲哚基、吲哚基、吲唑基、嘌呤基、喹嗪基、異喹啉基、喹啉基、酞嗪基、萘啶基、喹噁啉基、喹唑啉基、啉基、喋啶基、咔唑基、β-哢啉基、菲啶基、吖啶基、萘嵌間二氮苯基、菲咯啉基、吩嗪基、異噻唑基、吩噻嗪基、異噁唑基、呋呫基、吩噁基、7-菲基、蒽醌-2-基(=9,10-二側氧基-9,10-二氫蒽-2-基)、3-苯并[b]噻吩基、5-苯并[b]噻吩基、2-苯并[b]噻吩基、4-二苯并呋喃基、4,7-二苯并呋喃基、4-甲基-7-二苯并呋喃基、2-呫噸基、8-甲基-2-呫噸基、3-呫噸基、2-啡噁噻基、2,7-啡噁噻基、2-吡咯基、3-吡咯基、5-甲基-3-吡咯基、2-咪唑基、4-咪唑基、5-咪唑基、2-甲基-4-咪唑基、2-乙基-4-咪唑基、2-乙基-5-咪唑基、1H-四唑-5-基、3-吡唑基、1-甲基-3-吡唑基、1-丙基-4-吡唑基、2-吡嗪基、5,6-二甲基-2-吡嗪基、2-中氮茚基、2-甲基-3-異吲哚基、2-甲基-1-異吲哚基、1-甲基-2-吲哚基、1-甲基-3-吲哚基、1,5-二甲基-2-吲哚基、1-甲基-3-吲唑基、2,7-二甲基-8-嘌呤基、2-甲氧基-7-甲基-8-嘌呤基、2-喹嗪基、3-異喹啉基、6-異喹啉基、7-異喹啉基、3-甲氧基-6-異喹啉基、2-喹啉基、6-喹啉基、7-喹啉基、2-甲氧基-3-喹啉基、2-甲氧基-6-喹啉基、6-酞嗪基、7-酞嗪基、1-甲氧基-6-酞嗪基、1,4-二甲氧基-6-酞嗪基、1,8-萘啶-2-基、2-喹噁啉基、6-喹噁啉基、2,3-二甲基-6-喹噁啉基、2,3- 二甲氧基-6-喹噁啉基、2-喹唑啉基、7-喹唑啉基、2-二甲基胺基-6-喹唑啉基、3-啉基、6-啉基、7-啉基、3-甲氧基-7-啉基、2-喋啶基、6-喋啶基、7-喋啶基、6,7-二甲氧基-2-喋啶基、2-咔唑基、3-咔唑基、9-甲基-2-咔唑基、9-甲基-3-咔唑基、β-哢啉-3-基、1-甲基-β-哢啉-3-基、1-甲基-β-哢啉-6-基、3-菲啶基、2-吖啶基、3-吖啶基、2-萘嵌間二氮苯基、1-甲基-5-萘嵌間二氮苯基、5-菲咯啉基、6-菲咯啉基、1-吩嗪基、2-吩嗪基、3-異噻唑基、4-異噻唑基、5-異噻唑基、2-吩噻嗪基、3-吩噻嗪基、10-甲基-3-吩噻嗪基、3-異噁唑基、4-異噁唑基、5-異噁唑基、4-甲基-3-呋呫基、2-吩噁基、10-甲基-2-吩噁基等。
該C3-C20雜芳基尤其為噻吩基、苯并[b]噻吩基、噻蒽基、噻噸基、1-甲基-2-吲哚基或1-甲基-3-吲哚基;尤其為噻吩基。
該C4-C20雜芳基羰基係經由CO基團連接至分子其餘部分之如上文所定義C3-C20雜芳基。
該經取代之芳基(苯基、萘基、C6-C20芳基或C5-C20雜芳基)係分別經1至7次、1至6次或1至4次、尤其1次、2次或3次取代。顯而易見,所定義芳基不能具有比芳基環處之自由位置為多之取代基。
該苯基環上之取代基較佳在苯基環上之位置4中或呈3,4-、3,4,5-、2,6-、2,4-或2,4,6-組態。
該間雜1次或多次之經間雜基團間雜(例如)1至19次、1至15次、1至12次、1至9次、1至7次、1至5次、1至4次、1至3次或1次或2次(顯而易見,間雜原子數取決於擬間雜之C原子數)。經1次或多次取代之經取代基團具有(例如)1至7個、1至5個、1至4個、1至3個或1個或2個相同或不同取代基。
該經一或多個所定義取代基取代之基團意欲具有一個取 代基或多個如所給出相同或不同定義之取代基。鹵素係氟、氯、溴及碘,尤其為氟、氯及溴,較佳為氟及氯。若R1及R2、R2及R3、R3及R4或R5及Re、R6及R7、R7及R8彼此獨立地共同為;則形成(例如)以下結構(Ia)-I(i): 亦或(例如)諸如 (Id)-(Ih)等結構:
較佳者係結構(Ia)。
該具有式(II)所示結構之光起始劑(E-1)之特徵在於至少一個苯基環與咔唑部分稠合以形成「萘基」環。亦即上述結構中之一者係以式(II)所示結構給出。
若R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8彼此獨立地共同為-(CH2)P-Y-(CH2)q-,則形成(例如)諸如 等結構。
若苯基或萘基環上之取代基OR17、SR18、SOR18、SO2R18或NR19R20經由基團R17、R18、R19及/或R20與萘基環之一個碳原子形成5員或6員環,則獲得包含3個或更多個環(包括萘基環)之結構。
實例係 等。
若R17形成鍵結至其上具有基團之苯基或萘基環之一個碳原子之直接鍵,則形成(例 如)諸如等結構。
若R16係經SR18取代之苯基,其中基團R19表示鍵結至其中附接有COR16基團之咔唑部分之苯基或萘基環的直接鍵,則形成 (例如)諸如等結構。亦即,若R16係經SR18取代之苯基,其中基團R18表示鍵結至其中附接有COR16基團之咔唑部分之苯基或萘基環的直接鍵,則噻噸基部分與咔唑部分之一個苯基或萘基環一起形成。
若R19及R20與其所附接之N原子一起形成視情況間雜有O、S或NR17之5員或6員飽和或不飽和環,則形成飽和或不飽和環,例如氮丙啶、吡咯、噻唑、吡咯啶、噁唑、吡啶、1,3-二嗪、1,2-二嗪、六氫吡啶或嗎啉。較佳地,若R19及R20與其所附接之N原子一起形成視情況間雜有O、S或NR17之5員或6員飽和或不飽和環,則形成未經間雜或間雜有O或NR17、尤其O之5員或6員飽和環。
若R21及R22與其所附接之N原子一起形成視情況間雜有 O、S或NR26之5員或6員飽和或不飽和環,且苯環視情況與該飽和或不飽和環稠合,則形成飽和或不飽和環,例如氮丙啶、吡咯、噻唑、吡咯啶、噁唑、吡啶、1,3-二嗪、1,2-二嗪、六氫吡啶或嗎啉或相應成環環(例如)等。
若R19及R20與其所附接之N原子一起形成雜芳香族環系統,則該環系統意欲包含一個以上環(例如2個或3個環)以及來自相同種類或不同種類之一個或一個以上雜原子。適宜雜原子係(例如)N、S、O或P、尤其N、S或O。實例係咔唑、吲哚、異吲哚、吲唑、嘌呤、異喹啉、喹啉、哢啉、吩噻嗪等。
術語「及/或」或「或/及」在本發明上下文中意欲表達不僅可存在所定義替代物(取代基)中之一者,而且可存在總共若干所定義替代物(取代基),即不同替代物(取代基)之混合物。
術語「至少」意欲定義一者或一者以上,例如一者或兩者或三者、較佳一者或兩者。
術語「視情況經取代」意指其提及之基團未經取代或經取代。
術語「視情況經間雜」意指其提及之基團未經雜或經間雜。
在整個本說明書及下文之申請專利範圍中,除非上下文另有要求,否則詞語「包含(comprise)」或變體(例如,「comprises」或「comprising」)應理解為暗指包括所述整數或步驟或整數群組或步驟群組,但並不排除任一其他整數或步驟或整數群組或步驟群組。術語「(甲基)丙烯酸酯」在本申請案上下文中意欲指丙烯酸酯以及相應甲基丙烯酸酯。
本發明上下文中用於本發明化合物之文字中所示較佳者 意欲指所有申請專利範圍類別,亦即亦指針對組合物、用途、方法、彩色濾光片等之申請專利範圍。
該具有式(II)所示結構之光起始劑(E-1)係藉由文獻中所述方法來製備,例如藉由在以下條件下使相應肟與醯鹵、尤其氯化物或酸酐反應:在惰性溶劑(例如第三丁基甲基醚、四氫呋喃(THF)或二甲基甲醯胺)中,在鹼(例如三乙胺或吡啶)存在時,或在鹼性溶劑(例如吡啶)中。在下文中作為實例,闡述式Ia化合物之製備,其中R7係肟酯基團且X係直接鍵係[自適當肟開始實施化合物(Ib)-(Ih)之反應]:
R1、R2、R5、R6、R8、R13、R14及R15係如上文所定義,Hal意指鹵素原子、尤其Cl。
R14較佳為甲基。
此等反應為彼等熟習此項技術者所熟知,且通常在-15℃至+50℃、較佳0至25℃之溫度下實施。
當X係CO時,相應肟係藉由用亞硝酸烷基酯(例如亞硝酸甲酯、亞硝酸乙酯、亞硝酸丙酯、亞硝酸丁酯或亞硝酸異戊酯)將亞甲基亞硝化來合成。然後,酯化係在與上文所述相同之條件下實施:
因此,本發明之標的亦係藉由在鹼或鹼之混合物存在下使相應肟化合物與式(a)之醯鹵或式(b)之酸酐反應來製備如上文所定義該具有式(II)所示結構之光起始劑(E-1)之方法。
其中Hal係鹵素、尤其Cl,且R14係如上文所定義。
所需作為起始材料之肟可藉由標準化學教材(例如J.March,Advanced Organic Chemistry,第4版,Wiley Interscience,1992)或專著(例如S.R.Sandler & W.Karo,Organic functional group preparations,第3卷,Academic Press)中所述多種方法來獲得。
最便利的一種方法係(例如)在極性溶劑(例如二甲基乙醯胺(DMA)、DMA水溶液、乙醇或乙醇水溶液)中使醛或酮與羥胺或其鹽反應。在此情形下,添加諸如乙酸鈉或吡啶等鹼來控制反應混合物之pH。眾所周知,反應速度具有pH依賴性,且可在開始時或在反應期間連續地添加鹼。亦可使用諸如吡啶等鹼性溶劑作為鹼及/或溶劑或共溶劑。反應溫度通常為室溫至混合物之回流溫度,一般為約20℃至120℃。
相應酮中間體係(例如)藉由文獻(例如標準化學教材,例如J.March,Advanced Organic Chemistry,第4版,Wiley Interscience,1992)中所述方法來製備。另外,連續弗裏德-克拉夫茨反應(Friedel-Crafts reaction)可有效用於合成中間體。此等反應為彼等熟習此項技術者所熟知。
肟之另一便利合成係用亞硝酸或亞硝酸烷基酯將「活性」亞甲基亞硝化。鹼性條件(如(例如)Organic Syntheses coll.第VI卷(J.Wiley & Sons,New York,1988),第199頁及第840頁中所 述)與酸性條件(如)例如)Organic Synthesis coll.第V卷,第32頁及第373頁,coll.第III卷,第191頁及第513頁,coll.第II卷,第202頁、第204頁及第363頁中所述)二者適於製備在本發明中用作起始材料之肟。一般自亞硝酸鈉產生亞硝酸。亞硝酸烷基酯可為(例如)亞硝酸甲酯、亞硝酸乙酯、亞硝酸丙酯、亞硝酸丁酯或亞硝酸異戊酯。
本發明另一實施例係具有游離式(IA)所示結構之光起始劑(E-1):
其中,R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及R8彼此獨立地為氫、C1-C20烷基、、COR16、OR17、鹵素、NO2;或R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8彼 此獨立地為經取代之C2-C10烯基;或R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8彼此獨立地共同為-(CH2)P-Y-(CH2)q-;或R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8彼此獨立地共同為;但條件為R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8中至少一對係,R9、R10、R11及R12彼此獨立地為氫、C1-C20烷基,該C1-C20烷基未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、苯基、CN、OH、SH、C1-C4-烷氧基、(CO)OH或(CO)O(C1-C4烷基); 或R9、R10、R11及R12彼此獨立地為未經取代之苯基或經一或多個以下基團取代之苯基:C1-C6烷基、鹵素、CN、OR17、SR18或NR19R20;或R9、R10、R11及R12彼此獨立地為鹵素、CN、OR17、SR18、SOR18、SO2R18或NR19R20,其中該等取代基OR17、SR18或NR19R20視情況經由基團R17、R18、R19及/或R20與萘基環中一個碳原子形成5員或6員環;或R9、R10、R11及R12彼此獨立地為、COR16或NO2;Y係O、S、NR26或直接鍵;p係整數0、1、2或3;q係整數1、2或3;X係CO或直接鍵;R13係C1-C20烷基,其未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、R17、COOR17、OR17、SR18、CONR19R20、 NR19R20、PO(OCkH2k+1)2;或R13係C2-C20烷基,其間雜有一或多個O、S、SO、SO2、NR26或CO,或係C2-C12烯基,其未經間雜或間雜有一或多個O、CO或NR26,其中經間雜之C2-C20烷基及未經間雜或經間雜之C2-C12烯基未經取代或經一或多個鹵素取代;或R13係C4-C8環烯基、C2-C12炔基或C3-C10環烷基,其未經間雜或間雜有一或多個O、S、CO或NR26;或R13係苯基或萘基,其各未經取代或經一或多個以下基團取 代:OR17、SR18、NR19R20、COR16、CN、NO2、鹵素、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、C2-C20烷基,其間雜有一或多個O、S、CO或NR26;或其各經C3-C10環烷基 或間雜有一或多個O、S、CO或NR26之C3-C10環烷基取代;k係整數1至10;R15係C6-C20芳基或C3-C20雜芳基,其各未經取代或經一或多個以下基團取代:苯基、鹵素、C1-C4鹵代烷基、CN、NO2、OR17、SR18、NR19R20、PO(OCkH2k+1)2、SO-C1-C10烷基、SO2-C1-C10烷基、間雜有一或多個O、S或NR26之C2-C20烷基;或其各經C1-C20烷基取代,該C1-C20烷基未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、COOR17、CONR19R20、苯基、C3-C8環烷基、C3-C20雜芳基、C6-C20芳氧基羰基、C3-C20雜芳氧基羰基、OR17、SR18或NR19R20;或R15係氫、C2-C12烯基、C3-C8環烷基,其未經間雜或間雜有一或多個O、CO或NR26;或R15係C1-C20烷基,其未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、OR17、SR18、C3-C8環烷基、C3-C20雜芳基、C6-C20芳氧基羰基、C3-C20雜芳氧基羰基、NR19R20、 COOR17、CONR19R20、PO(OCkH2k+1)2、苯基;或該C1-C20烷基經苯基取代,該苯基經鹵素、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、OR17、SR18或NR19R20取代;或R15係C2-C20烷基,其間雜有一或多個O、SO或SO2,且該經間雜之C2-C20烷基未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、OR17、COOR17、CONR19R20、苯基或經OR17、SR18或NR19R20取代之苯基;或R15係C2-C20烷醯基或苯甲醯基,其未經取代或經一或多個以下基團取代:C1-C6烷基、鹵素、苯基、OR17、SR18或NR19R20; 或R15係未經取代或經一或多個OR17取代之萘甲醯基或係C3-C14雜芳基羰基;或R15係C2-C12烷氧基羰基,其未經間雜或間雜有一或多個O且該經間雜或未經間雜之C2-C12烷氧基羰基未經取代或經一或多個羥基取代;或R15係苯氧基羰基,其未經取代或經一或多個以下基團取代:C1-C6烷基、鹵素、C1-C4鹵代烷基、苯基、OR17、SR18或NR19R20;或R15係CN、CONR19R20、NO2、C1-C4鹵代烷基、S(O)m-C1-C6烷基、未經取代或經C1-C12烷基或SO2-C1-C6烷基取代之S(O)m-苯基;或R15係SO2O-苯基,其未經取代或經C1-C12烷基取代;或係二苯基膦醯基或二(C1-C4烷氧基)-膦醯基;m係1或2;R'15具有針對R15所給出含義中之一者;X1係O、S、SO或SO2;X2係O、CO、S或直接鍵;R16係C6-C20芳基或C3-C20雜芳基,其每一者未經取代或經一或多個以下基團取代:苯基、鹵素、C1-C4鹵代烷基、CN、NO2、OR17、SR18、NR19R20或間雜有一或多個O、S或NR26之C1-C20烷基;或其每一者經一或多個C1-C20烷基取代,該C1-C20烷基未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、COOR17、CONR19R20、苯基、C3-C8環烷基、C3-C20雜芳基、C6-C20芳氧基羰基、C3-C20雜芳氧基羰基、OR17、SR18或NR19R20;或R16係氫、未經取代或經一或多個以下基團取代之C1-C20烷基:鹵素、苯基、OH、SH、CN、C3-C6烯氧基、OCH2CH2CN、OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(CO)-(C1-C4 烷基)、O(CO)-苯基、(CO)OH或(CO)O(C1-C4烷基);或R16係間雜有一或多個O、S或NR26之C2-C12烷基;或R16係(CH2CH2O)n+1H、(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)、C2-C12烯基或C3-C8環烷基;或R16係經SR18取代之苯基,其中基團R18表示鍵結至其中附接有COR16基團之咔唑部分之苯基或萘基環的直接鍵;n係1至20;R17係氫、苯基-C1-C3烷基、C1-C20烷基,其未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、OH、SH、CN、C3-C6烯氧基、OCH2CH2CN、OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-(C2-C4)烯基、O(CO)-苯基、(CO)OH、(CO)O(C1-C4烷基)、SO2-(C1-C4鹵代烷基)、O(C1-C4鹵代烷基)、C3-C20環烷基或間雜有一或多個O之C3-C20環烷基;或R17係C2-C20烷基,其間雜有一或多個O、S或NR26;或R17係(CH2CH2O)n+1H、(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)、C1-C8烷醯基、C2-C12烯基、C3-C6烯醯基或C3-C20環烷基,其未經間雜或間雜有一或多個O、S、CO或NR26;或R17係C1-C8烷基-C3-C10環烷基,其未經間雜或間雜有一或多個O;或R17係苯甲醯基,其未經取代或經一或多個C1-C6烷基、鹵素、OH或C1-C3烷氧基取代;或R17係苯基、萘基或C3-C20雜芳基,其各未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、OH、C1-C12烷基、C1-C12烷氧基、CN、NO2、苯基-C1-C3烷氧基、苯氧基、C1-C12烷基硫 基、苯基硫基、N(C1-C12烷基)2、二苯基-胺基或; 或R17形成鍵結至其上具有基團之苯基或萘基環之一個碳原子之直接鍵;R18係氫、C2-C12烯基、C3-C20環烷基或苯基-C1-C3烷基,其中C2-C12烯基、C3-C20環烷基或苯基-C1-C3烷基未經間雜或間雜有一或多個O、S、CO、NR26或COOR17;或R18係C1-C20烷基,其未經取代或經一或多個以下基團取代:OH、SH、CN、C3-C6烯氧基、OCH2CH2CN、OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(CO)-(C2-C4)烯基、O(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-苯基或(CO)OR17;或R18係C2-C20烷基,其間雜有一或多個O、S、CO、NR26或COOR17;或R18係(CH2CH2O)nH、(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)、C2-C8烷醯基或C3-C6烯醯基;或R18係苯甲醯基,其未經取代或經一或多個以下基團取代:C1-C6烷基、鹵素、OH、C1-C4烷氧基或C1-C4烷基硫基;或R18係苯基、萘基或C3-C20雜芳基,其各未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、C1-C12烷基、C1-C4鹵代烷基、C1-C12烷氧基、CN、NO2、苯基-C1-C3烷氧基、苯氧基、C1-C12烷基硫基、苯基硫基、N(C1-C12烷基)2、二苯基胺基、(CO)O(C1-C8烷基)、(CO)-C1-C8烷基、(CO)N(C1-C8烷基)2;R19及R20彼此獨立地為氫、C1-C20烷基、C2-C4羥基烷基、C2-C10烷氧基烷基、C2-C5烯基、C3-C20環烷基、苯基-C1-C3烷基、SO2-(C1-C4鹵代烷基)、C1-C8烷醯基、C1-C8烷醯基氧基、C3-C12烯醯基或苯甲醯基;或R19及R20係苯基、萘基或C3-C20雜芳基,其各未經取代或經一或多個以下基團取代: 鹵素、C1-C4鹵代烷基、C1-C20烷氧基、C1-C12烷基、苯甲醯基或C1-C12烷氧基;或R19及R20與其所附接之N原子一起形成未經間雜或間雜有O、S或NR17之5員或6員飽和或不飽和環,且該5員或6員飽和或不飽和環未經取代或經一或多個以下基團取代:C1-C20烷基、C1-C20烷氧基、=O、OR17、SR18、NR21R22、(CO)R23、NO2、鹵素、C1-C4-鹵代烷基、CN、苯基、或C3-C20環烷基,該C3-C20環烷基未經間雜或間雜有一或多個O、S、CO或NR17;或R19及R20與其所附接之N原子一起形成雜芳香族環系統,該環系統未經取代或經一或多個以下基團取代:C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、C1-C20烷氧基、=O、OR17、SR18、NR21R22、(CO)R23、鹵素、NO2、CN、苯基或C3-C20環烷基,該C3-C20環烷基未經間雜或間雜有一或多個O、S、CO或NR17;R21及R22彼此獨立地為氫、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、C3-C10環烷基或苯基;或R21及R22與其所附接之N原子一起形成未經間雜或間雜有O、S或NR26之5員或6員飽和或不飽和環,且該5員或6員飽和或不飽和環未稠合或該5員或6員飽和或不飽和環係與苯環稠合;R23係氫、OH、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、間雜有一或多個O、CO或NR26之C2-C20烷基、未經間雜或間雜有O、S、CO或NR26之C3-C20環烷基,或R23係苯基、萘基、苯基-C1-C4烷基、OR17、SR18或NR21R22;R24係(CO)OR17、CONR19R20、(CO)R17;或R24具有針對R19及R20所給出含義 中之一者;R25係COOR17、CONR19R20、(CO)R17;或R25具有針對R17所給出含義中之一者;R26係氫、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、C2-C20烷基,其間雜有一或多個O或CO;或係苯基-C1-C4烷基、C3-C8環烷基,其未經間雜或間雜有一或多個O或CO;或係(CO)R19;或係苯基,其未經取代或經一或多個以下基團取代:C1-C20烷基、鹵素、C1-C4鹵代烷基、OR17、SR18、NR19R20; 但條件為在該分子中存在至少一個基團
針對式(IA)所示結構之光起始劑(E-1)所定義基團之較佳者對應於如針對如下文所給出式(II)所示結構之光起始劑(E-1)給出 者,只是每一所定義肟酯基團(例如)皆替換為相應游離肟 基團
每一肟酯基團可以兩種構型(Z)或(E)存在。可藉由習用方法來分離異構體,但亦可使用異構體混合物作為(例如)光起始物質。因此,本發明亦係關於式(II)所示結構之光起始劑(E-1)之構型異構體之混合物。
較佳者係如上文所定義之式(II)所示結構之光起始劑(E-1),其中,R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及R8彼此獨立地為氫、 C1-C20烷基、、COR16或NO2,或R1及R2、R2及R3、R3 及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8彼此獨立地共同為;但條件為R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7 及R8中至少一對係; X係CO或直接鍵;R13係C1-C20烷基,其未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、OR17、SR18、COOR17、CONR19R20或PO(OCkH2k+1)2;或R13係C2-C20烷基,其間雜有一或多個O、S、NR26或CO;或R13係苯基或萘基,此二者未經取代或經一或多個或COR16取代;R14係C1-C20烷基、苯基或C1-C8烷氧基;R15係苯基、萘基、C3-C20雜芳基,其各未經取代或經一或多個以下基團取代:苯基、鹵素、C1-C4鹵代烷基、OR17、SR18或C2-C20烷基,其間雜有一或多個O或S;或其各經一或多個C1-C20烷基取代,該C1-C20烷基未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、COOR17、CONR19R20、苯基、C3-C8環烷基、C3-C20雜芳基、C6-C20芳氧基羰基、C4-C20雜芳氧基羰基、OR17、SR18、NR19R20或PO(OCkH2k+1)2;或R15係C1-C20烷基,其未經取代或經一或多個以下基團取代:OR17、SR18、C3-C8環烷基、C3-C20雜芳基、NR19R20、COOR17、CONR19R20或PO(OCkH2k+1)2;R'14具有針對R14所給出含義中之一者;R'15具有針對R15所給出含義中之一者;R16係苯基,其未經取代或經一或多個以下基團取代:OR17、SR18、NR19R20或間雜有一或多個O、S或NR26之C2-C20烷基,或R16係苯基,其經一或多個C1-C20烷基取代,該C1-C20烷基未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、COOR17、CONR19R20、苯基、C3-C8環烷基、C3-C20雜芳基、C6-C20芳 氧基羰基、C4-C20雜芳氧基羰基、OR17、SR18或NR19R20;或R16係C1-C20烷基,其未經取代或經以下基團取代:鹵素、苯基、OH、SH、CN、C3-C6烯氧基、OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(CO)-(C1-C4烷基)或(CO)O(C1-C4烷基);R17係C1-C20烷基,其未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(C1-C4烷基)、(CO)O(C1-C4烷基)、C3-C20環烷基或間雜有一或多個O之C3-C20環烷基;或R17係C2-C20烷基,其間雜有一或多個O;R18係經(CO)OR17取代之甲基;R19及R20彼此獨立地為氫、苯基、C1-C20烷基、C1-C8烷醯基或C1-C8烷醯基氧基;或R19及R20與其所附接之N原子一起形成雜芳香族環系統,該環系統未經取代或經取代; 但條件為在該分子中存在至少一個基團
必須重視如上文所定義之式(II)所示結構之光起始劑(E- 1),其中R1、R2、R5、R6、R7及R8彼此獨立地為氫、 COR16或NO2,R3及R4一起為;R9、R10、R11及R12係氫;X係直接鍵;R13係C1-C20烷基;R14係C1-C20烷基; R15係C1-C20烷基或苯基,其經一或多個OR17或C1-C20烷基取代;R16係苯基,其經一或多個C1-C20烷基或OR17取代;且R17係未經取代或經一或多個鹵素取代之C1-C20烷基或係間雜有一或多個O之C2-C20烷基; 但條件為在該分子中存在至少一個基團
本發明之標的進一步係如上文所定義之式(II)所示結構之光起始劑(E-1),其中,R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及R8彼此獨立地為氫,或R1及R2、R3及R4或R5及R6彼此獨立地共同為;但條件為R1及R2、R3及R4或R5及R6中至少一對為 ; 或R2、COR16、NO2; 或R7或COR16;R9、R11及R12係氫;R10係氫、OR17或COR16;X係CO或直接鍵;R13係C1-C20烷基,其未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、R17、OR17、SR18或PO(OCkH2k+1)2;或R13係C2-C20烷基,其間雜有一或多個O;或R13係苯基;k係整數2; R14係C1-C20烷基或噻吩基;R15係苯基或萘基,其各未經取代或經一或多個OR17或C1-C20烷基取代;或R15係噻吩基、氫、C1-C20烷基,該C1-C20烷基未經取代或經一或多個以下基團取代:OR17、SR18、C3-C8環烷基、NR19R20或COOR17;或R15係C2-C20烷基,其間雜有SO2;R16係苯基或萘基,其各未經取代或經一或多個以下基團取代:OR17、SR18、NR19R20或C1-C20烷基;或R16係噻吩基;R17係氫、C1-C8烷醯基、C1-C20烷基,其未經取代或經一或多個以下基團:鹵素、O(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-(C2-C4)烯基或間雜有一或多個O之C3-C20環烷基;或R17係C2-C20烷基,其間雜有一或多個O;R18係C3-C20環烷基、C1-C20烷基,其未經取代或經一或多個OH、O(CO)-(C2-C4)烯基或(CO)OR17取代;或R18係苯基,其未經取代或經一或多個鹵素取代;R19及R20彼此獨立地為C1-C8烷醯基或C1-C8烷醯基氧基;或R19及R20與其所附接之N原子一起形成間雜有O之5員或6員飽和環; 但條件為在該分子中存在至少一個基團
本發明化合物之實例係如上文所定義之式(Ia)-(Ig)化合物。式(Ia)、(Ib)、(Ic)、尤其式(Ia)或(Ic)、或式(Ia)、(Ic)或(Id)、尤其式(Ia)之化合物令人關注。
舉例而言,R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及R8彼此獨立地為氫、或COR16,或R1及R2、R2及R3、R3及R4或 R5及R6、R6及R7、R7及R8彼此獨立地共同為
舉例而言,R3及R4或R1及R2共同為或R3及 R4及R5及R6共同為;R3及R4尤其共同為
舉例而言,R1、R5、R6及R8係氫。
R7尤其為氫、或COR16。或R7 或COR16、尤其為
R2尤其為,COR16或R2與R1一 起為。R2尤其為COR16
X較佳為直接鍵。
舉例而言,R9、R10、R11及R12彼此獨立地為氫、C1-C20烷基、未經取代之苯基或經一或多個以下基團取代之苯基:C1-C6烷基、鹵素、OR17或SR18;或R9、R10、R11及R12彼此獨立地為鹵素、OR17、SR18或NR19R20,其中取代基OR17、SR18或NR19R20視情況經由基團R17、R18、R19及/或R20與萘基環之一個碳原子形成 5員或6員環;或R9、R10、R11及R12彼此獨立地為或COR16
具體而言,舉例而言,R9、R10、R11及R12彼此獨立地為氫、C1-C20烷基、未經取代之苯基或經一或多個以下基團取代之苯基:C1-C6烷基、鹵素、OR17或SR18;或R9、R10、R11及R12彼此獨立地為鹵素、OR17、SR18或NR19R20;或R9、R10、R11及R12彼此獨立地為或COR16
舉例而言,R9、R10、R11及R12彼此獨立地為氫、C1- C20烷基、未經取代之苯基或經一或多個C1-C6烷基取代之苯基;或 R9、R10、R11及R12彼此獨立地為或COR16
在另一實施例中,舉例而言,R9、R10、R11及R12彼此獨立地為氫、C1-C20烷基、未經取代之苯基或經一或多個以下基團取代之苯基:C1-C6烷基、鹵素、OR17或SR18;或R9、R10、R11及R12彼此獨立地為鹵素、OR17、SR18或NR19R20,其中取代基OR17、SR18或NR19R20視情況經由基團R17、R18、R19及/或R20與萘基環之一個碳原子形成5員或6員環。
此外,舉例而言,R9、R10、R11及R12彼此獨立地為氫、C1-C20烷基、未經取代之苯基或經一或多個以下基團取代之苯基:C1-C6烷基、鹵素、OR17或SR18,或R9、R10、R11及R12彼此獨立地為鹵素、OR17、SR18、NR19R20或COR16
或舉例而言,R9、R10、R11及R12彼此獨立地為氫、C1-C20烷基、未經取代之苯基或經一或多個以下基團取代之苯基:C1-C6烷基、鹵素、OR17或SR18,或R9、R10、R11及R12彼此獨立地為鹵素、OR17、COR16或NR19R20
較佳地,R9、R11及R12係氫且R10係氫、OR17或COR16
R13係(例如)C1-C20烷基,其未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、COOR17或CONR19R20;或R13係C2-C20烷基,其間雜有一或多個O、S、SO、SO2、NR26或CO,或係C2-C12烯基,其視情況間雜有一或多個O、CO或NR26,或R13係C3-C10環烷基,其視情況間雜有一或多個O、S、CO、NR26,或R13係苯基或萘基,此二者未經取代或經一或多個以下基團取代:OR17、SR18、 NR19R20、COR16、NO2、鹵素、C1-C20烷基、C1- C4鹵代烷基、C2-C20烷基,其間雜有一或多個O;或係C1-C20烷基,其未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、R17、COOR17、OR17、SR18、CONR19R20或PO(OCkH2k+1)2;或係C2-C20烷基,其間雜有一或多個O。
此外,R13係(例如)C1-C20烷基,其未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、R17、COOR17、OR17、SR18、CONR19R20或PO(OCkH2k+1)2;或係C2-C20烷基,其間雜有一或多個O;或係C2-C12烯基、C3-C10環烷基;或R13係苯基或萘基,此二者未經取代或經一或多個以下基團取代:OR17、SR18、NR19R20、COR16、NO2、鹵素、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、C2-C20烷基,其間雜有一或多個O。
在另一實施例中,R13係(例如)C1-C20烷基,其未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、R17、OR17、SR18或PO(OCkH2k+1)2;或係C2-C20烷基,其間雜有一或多個O;或係C2-C12烯基、C3-C10環烷基、苯基或萘基。
或R13係(例如)C1-C20烷基,其未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、R17、OR17、SR18或PO(OCkH2k+1)2;或係C2-C20烷基,其間雜有一或多個O;或係苯基、C2-C12烯基或C3-C10環烷基。
或R13係(例如)C1-C20烷基、苯基、C2-C12烯基或C3-C10環烷基。
或R13係(例如)C1-C20烷基、C2-C12烯基或C3-C10環烷基。
較佳地,R13係C1-C20烷基,尤其為C1-C8烷基,例如2-乙基己基。
R14係(例如)氫、C3-C8環烷基、C2-C5烯基、C1-C20烷氧基或C1-C20烷基,其未經取代或經一或多個鹵素或苯基取代;或R14係苯基或萘基,此二者未經取代或經一或多個以下基團取代:C1-C6烷基、C1-C4鹵代烷基、鹵素、OR17、SR18及/或NR19R20;或R14係C3-C5雜芳基,例如噻吩基,或係C1-C8烷氧基、苄氧基或苯氧基。
或R14係(例如)C1-C20烷基,其未經取代或經一或多個鹵素或苯基取代;或R14係C3-C5雜芳基(例如噻吩基)或係未經取代或經取代一或多個以下基團取代之苯基:C1-C6烷基、C1-C4鹵代烷基、鹵素、OR17、SR18及/或NR19R20;或R14係C1-C8烷氧基、苄氧基或苯氧基。
在另一實施例中,R14表示C1-C20烷基,其未經取代或經苯基取代;或R14係苯基,其未經取代或經一或多個C1-C6烷基取代。
較佳地,R14係C1-C20烷基、C3-C5雜芳基(例如噻吩基),或係苯基,尤其為C1-C20烷基或噻吩基,尤其為C1-C8烷基。
R15係(例如)C6-C20芳基或C5-C20雜芳基,其各未經取代或經一或多個以下基團取代:苯基、鹵素、C1-C4鹵代烷基、CN、NO2、OR17、SR18、NR19R20、C1-C20烷基;或R15係氫、C3-C8環烷基,該C3-C8環烷基視情況間雜有一或多個O、CO或NR26;或R15係C1-C20烷基,其未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、OR17、C3-C8環烷基、C5-C20雜芳基、C8-C20苯氧基羰基、C5-C20雜芳氧基-羰基、NR19R20、COOR17、CONR19R20、PO(OCkH2k+1)2、苯基或經以下基團取代之苯基:鹵素、C1-C20烷基、C1- C4鹵代烷基、OR17或NR19R20;或R15係C2-C20烷基,其間雜有一或多個O、S或SO2,或R15係C2-C20烷醯基、苯甲醯基、C2-C12烷氧基羰基、苯氧基羰基、CONR19R20、NO2或C1-C4鹵代烷基。
此外,R15係(例如)氫、C6-C20芳基,尤其為苯基或萘基,其各未經取代或經C1-C12烷基取代;或係C3-C5雜芳基,例如噻吩基;或係C3-C8環烷基、C1-C20烷基,其未經取代或經一或多個以下基團取代:OR17、SR17、C3-C8-環烷基、NR19R20或COOR17;或R15係C2-C20烷基,其間雜有一或多個O或SO2
該具有式(II)所示結構之光起始劑(E-1)令人關注,其中R15係(例如)氫、苯基、萘基,其各未經取代或經C1-C8烷基取代;或R15係噻吩基、C1-C20烷基,其未經取代或經一或多個以下基團取代:OR17、SR17、C3-C8-環烷基、NR19R20或COOR17;或R15係C2-C20烷基,其間雜有一或多個O或SO2
R15尤其為(例如)C3-C8環烷基或C1-C20烷基,尤其為C1-C20烷基,尤其為C1-C12烷基。
R'14及R'15之較佳者分別係如上文針對R14及R15所給出者。
X1係(例如)O、S或SO,例如O或S,尤其為O。
R16係(例如)C6-C20芳基(尤其苯基或萘基、尤其苯基)或C5-C20雜芳基(尤其噻吩基),其各未經取代或經一或多個以下基團取代:苯基、鹵素、C1-G4鹵代烷基、CN、NO2、OR17、SR18、NR19R20或間雜有一或多個O之C1-C20烷基;或其各經一或多個C1-C20烷基取代,該C1-C20烷基未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、COOR17、CONR19R20、苯基、C3-C8環烷基、C5-C20雜芳基、C6-C20芳氧基羰基、C5-C20雜芳氧基羰基、OR17、SR18或NR19R20;或R16係氫、C1-C20烷基,該C1-C20烷基未經取代或經一 或多個以下基團取代:鹵素、苯基、OH、SH、C3-C6烯氧基、OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-苯基、(CO)OH或(CO)O(C1-C4烷基);或R16係C2-C12烷基,其間雜有一或多個O;或係(CH2CH2O)n+1H、(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)、C2-C12烯基或C3-C8環烷基,且n係1至20,例如1至12或1至8,尤其為1或2。
此外,R16係(例如)苯基或萘基,尤其為苯基、噻吩基或咔唑,其各未經取代或經一或多個以下基團取代:苯基、鹵素、C1-C4鹵代烷基、OR17、SR18、NR19R20或C1-C20烷基;或R16係C1-C20烷基,其未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、苯基、OH、SH、C3-C6烯氧基、OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-苯基、(CO)OH或(CO)O(C1-C4烷基);或R16係C2-C12烷基,其間雜有一或多個O;或係(CH2CH2O)n+1H、(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)、C2-C12烯基或C3-C8環烷基,且n係1至20,例如1至12或1至8,尤其為1或2。
此外,R16係(例如)苯基或萘基,尤其為苯基,其各未經取代或經一或多個以下基團取代:苯基、鹵素、C1-C4鹵代烷基、OR17、SR18、NR19R20或C1-C20烷基;或R16係C3-C5雜芳基,尤其為噻吩基。
R16尤其為(例如)苯基,其未經取代或經一或多個以下基團取代:OR17、SR18、NR19R20或C1-C20烷基,或R16係噻吩基。
較佳地,R16係(例如)苯基或萘基,其各未經取代或經一或多個C1-C20烷基取代。
R16尤其為苯基,其經一或多個C1-C20烷基取代。
R17係(例如)氫、苯基-C1-C3烷基、C1-C20烷基,其未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、OH、 OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-(C2-C4)烯基、O(CO)-苯基、(CO)OH、(CO)O(C1-C4烷基)、C3-C20環烷基或間雜有一或多個O之C3-C20環烷基;或R17係C2-C20烷基,其間雜有一或多個O;係(CH2CH2O)n+1H、(GH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)、C1-C8烷醯基、C2-C12烯基、C3-C6烯醯基或C3-C20環烷基,其視情況間雜有一或多個O;或R17係苯甲醯基,其未經取代或經一或多個C1-C6烷基、鹵素、OH或C1-C3烷氧基取代;或R17係苯基、萘基或C5-C20雜芳基,其各未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、OH、C1-C12烷基、C1-C12烷氧基、CN、NO2、苯基-C1-C3烷氧基、苯氧基、C1-C12烷基硫基、苯基硫基、N(C1-C12烷基)2、二苯 基-胺基或
在另一實施例中,R17係(例如)氫、苯基-C1-C3烷基、C1-C20烷基,其未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、O(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-(C2-C4烯基)或間雜有一或多個O之C2-C20烷基;或係C1-C8烷醯基、C2-C12烯基、C3-C6烯醯基、間雜有一或多個O之C2-C20烷基、視情況間雜有一或多個O之C3-C20環烷基;或係苯甲醯基,其未經取代或經一或多個以下基團取代:C1-C6烷基、鹵素、OH或C1-C3烷氧基;或係苯基或萘基,其各未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、C1-C12烷基或C1-C12烷氧基。
R17亦為(例如)氫、苯基-C1-C3烷基、C1-C8烷醯基、C1-C20烷基,其未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、C3-C20環烷基、O(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-(C2-C4烯基)或間雜有一或多個O之C2-C20烷基,或R17係C2-C20烷基,其間雜有一或多個O。
R17尤其為氫、C1-C8烷醯基、C1-C20烷基,其未經取代或經一或多個以下基團取代:O(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-(C2- C4烯基)或間雜有一或多個O之C2-C20烷基,或R17係C2-C20烷基,其間雜有一或多個O。
R18係(例如)C3-C20環烷基,其未經間雜或間雜有一或多個O;或R18係C1-C20烷基,其未經取代或經一或多個以下基團取代:OH、O(CO)-(C2-C4)烯基、O(CO)-(C1-C4烷基)或(CO)OR17;或R18係C2-C20烷基,其間雜有一或多個O、S、CO、NR26或COOR17;或R18係C2-C8烷醯基或C3-C6烯醯基、苯甲醯基;或R18係苯基、萘基或C3-C20雜芳基,其各未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素、C1-C12烷基、C1-C4鹵代烷基、C1-C12烷氧基或NO2
在另一實施例中,R18係(例如)C3-C20環烷基、C1-C20烷基,其未經取代或經一或多個以下基團取代:OH、O(CO)-(C2-C4)烯基、O(CO)-(C1-C4烷基)或(CO)OR17;或R18係苯基或萘基,其各未經取代或經一或多個鹵素或C1-C12烷基、尤其鹵素取代。
R18係(例如)C1-C20烷基、C2-C12烯基、C3-C20環烷基、苯基-C1-C3烷基、C2-C8烷醯基、苯甲醯基、苯基或萘基。
舉例而言,R18係C1-C20烷基,其經一或多個以下基團取代:OH、O(CO)-(C2-C4)烯基、O(CO)-(C1-C4烷基)或(CO)OR17,或R18係苯基,其經一或多個鹵素取代。
較佳地,R18係C1-C8烷基,其如上文所定義經取代。
舉例而言,R19及R20彼此獨立地為氫、C1-C20烷基、C2-C4羥基烷基、C3-C20環烷基、苯基-C1-C3烷基、苯基或萘基、C1-C8烷醯基、C1-C8烷醯基氧基、C3-C12烯醯基或苯甲醯基;或R19及R20與其所附接之N原子一起形成視情況間雜有O、S或NR17之5員或6員飽和或不飽和環;或R19及R20與其所附接之N原子一起形成雜芳香族環系統,該環系統未經取代或經一或多個以下基團取代:C1-C20烷 基、C1-C4鹵代烷基、或
此外,舉例而言,R19及R20彼此獨立地為氫、C1-C20烷基、C2-C4羥基烷基、C3-C20環烷基、苯基-C1-C3烷基、C1-C8烷醯基、C1-C8烷醯基氧基、C3-C12烯醯基或苯甲醯基;或R19及R20與其所附接之N原子一起形成視情況間雜有O或NR17之5員或6員飽和環;或R19及R20與其所附接之N原子一起形成咔唑環。
舉例而言,R19及R20彼此獨立地為氫、C1-C20烷基、C2-C4羥基烷基、C3-C20環烷基、苯基-C1-C3烷基、C1-C8烷醯基、C1-C8烷醯基氧基、C3-C12烯醯基或苯甲醯基;或R19及R20與其所附接之N原子一起形成視情況間雜有O或NR17之5員或6員飽和環。
較佳地,R19及R20彼此獨立地為C1-C8烷醯基、C1-C8烷醯基氧基;或R19及R20與其所附接之N原子一起形成嗎啉環。
舉例而言,R21及R22彼此獨立地為氫、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、C3-C10環烷基或苯基;或R21及R22與其所附接之N原子一起形成嗎啉環。R21及R22尤其彼此獨立地為氫或C1-C20烷基。
R23係(例如)氫、OH、苯基或C1-C20烷基。R23尤其為氫、OH或C1-C4烷基。
R24之較佳者係如針對R19及R20所給出。R25之較佳者係如針對R17所給出。
R26係(例如)氫、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、C2-C20烷基,其間雜有一或多個O或CO;或係苯基-C1-C4烷基、C3-C8環烷基,其視情況間雜有一或多個O或CO;或係(CO)R19或苯基,其未經取代或經一或多個以下基團取代:C1-C20烷基、鹵素、C1-C4鹵代烷基、OR17、SR18、NR19R20
或R26表示(例如)氫、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基;係 苯基-C1-C4烷基、C3-C8環烷基、(CO)R19或苯基,其未經取代或經一或多個C1-C20烷基取代。此外,R26係(例如)氫或C1-C20烷基、尤其為C1-C4烷基。
本發明該具有式(II)所示結構之光起始劑(E-1)之實例如下所示:
該具有式(II)所示結構之光起始劑(E-1)用於使包含至少一種烯系不飽和光可聚合化合物之組合物光聚合之用途。
上述具有式(II)所示結構之光起始劑(E-1)可單獨一種或混合複數種使用。
於本發明之具體例中,基於該鹼可溶性樹脂(C)之使用量總和為100重量份,該具有式(II)所示結構之光起始劑(E-1)之使用量為0.1重量份至15重量份,較佳為1重量份至12重量份,更佳為3重量份至10重量份。當未使用該具有式(II)所示結構之光起始劑(E-1)時,該感光性樹脂組成物具有圖案平滑性不佳之問題。
根據本發明之光起始劑(E)可進一步包含其它自由基型光起始劑(E-2)。
該其它自由基型光起始劑(E-2)可選自於苯乙酮系化合物(acetophenone)、二咪唑系化合物(biimidazole)、醯肟系化合物(acyl oxime)或此等之一組合。
上述的苯乙酮系化合物是選自於對二甲胺苯乙酮(p-dimethylamino-acetophenone)、α,α’-二甲氧基氧化偶氮苯乙酮(α,α’-dimethoxyazoxy-acetophenone)、2,2’-二甲基-2-苯基苯乙酮(2,2’-dimethyl-2-phenyl-acetophenone)、對甲氧基苯乙酮(p-methoxy-acetophenone)、2-甲基-1-(4-甲基硫代苯基)-2-嗎啉代-1-丙酮〔2-methyl-1-(4-methylthio phenyl)-2-morpholino-1-propanone〕、2-苄基-2-氮,氮-二甲胺-1-(4-嗎啉代苯基)-1-丁酮〔2-benzyl-2-N,N-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-1-butanone〕。
上述的二咪唑系化合物是選自於2,2’-雙(鄰-氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基二咪唑〔2,2’-bis(o-chlorophenyl)-4,4’,5,5’-tetraphenyl-biimidazole〕、2,2’-雙(鄰-氟苯基)-4,4,5,5’-四苯基二咪唑〔2,2’-bis(o-fluorophenyl)-4,4’,5,5’-tetraphenyl-biimidazole〕、2,2’-雙(鄰-甲基苯基)-4,4’,5,5’-四苯基二咪唑〔2,2’-bis(o-methyl phenyl)-4,4’,5,5’-tetraphenyl-biimidazole〕、2,2’-雙(鄰-甲氧基苯基)-4,4’,5,5’-四苯基二咪唑〔2,2’-bis(o-methoxyphenyl)-4,4’,5,5’-tetraphenyl-biimidazole〕、2,2’-雙(鄰-乙基苯基)-4,4’,5,5’-四苯基二咪唑〔2,2’-bis(o-ethylphenyl)-4,4’,5,5’-tetraphenyl-biimidazole〕、2,2’-雙(對甲氧基苯基)-4,4’,5,5’-四苯基二咪唑〔2,2’-bis(p-methoxyphenyl)-4,4’,5,5’-tetraphenyl-biimidazole〕、2,2’-雙(2,2’,4,4’-四甲氧基苯基)-4,4’,5,5’-四苯基二咪唑〔2,2’-bis(2,2’,4,4’-tetramethoxyphenyl)-4,4’,5,5’- tetraphenyl-biimidazole〕、2,2’-雙(2-氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基二咪唑〔2,2’-bis(2-chlorophenyl)-4,4’,5,5’-tetraphenyl-biimidazole〕、2,2’-雙(2,4-二氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基二咪唑〔2,2’-bis(2,4-dichlorophenyl)-4,4’,5,5’-tetraphenyl-biimidazole〕。
上述的醯肟系化合物是選自於乙烷酮,1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9氫-咔唑-3-取代基]-,1-(氧-乙醯肟)〔Ethanone,1-[9-ethyl-6-(2-methylbenzoyl)-9H-carbazole-3-yl]-,1-(O-acetyl oxime),例如Ciba Specialty Chemicals製之品名為CGI-242者,其結構如下式(E-2-1)所示〕、1-[4-(苯基硫代)苯基]-辛烷-1,2-二酮2-(O-苯醯基肟)〔1-[4-(benzoyl)phenyl]-heptane-1,2-dione 2-(O-benzoyloxime),例如Ciba Specialty Chemicals製造之商品名為CGI-124之商品,其結構如下式(E-2-2)所示〕、乙烷酮,1-[9-乙基-6-(2-氯-4-苯甲基-硫代-苯甲醯基)-9氫-咔唑-3-取代基]-,1-(氧-乙醯肟)〔Ethanone,1-[9-ethyl-6-(2-cholro-4-benzyl-thio-benzoyl)-9H-carbazole-3-yl]-,1-(O-acetyl oxime),例如旭電化公司製,其結構如下式(E-2-3)所示〕:
較佳地,該其它自由基型光起始劑(E-2)為2-甲基-1-(4-甲基硫代苯基)-2-嗎啉代-1-丙酮、2-苄基-2-氮,氮-二甲胺-1-(4-嗎啉代苯基)-1-丁酮、2,2’-雙(鄰-氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基二咪唑、乙烷酮,1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9氫-咔唑-3-取代基]-,1-(氧-乙醯肟)或此等之一組合。
本發明之其它自由基型光起始劑(E-2)可進一步添加下列之化合物:噻噸酮(thioxanthone)、2,4-二乙基噻噸酮(2,4-diethyl-thioxanthanone)、噻噸酮-4-碸(thioxanthone-4-sulfone)、二苯甲酮(benzophenone)、4,4’-雙(二甲胺)二苯甲酮〔4,4’-bis(dimethylamino)benzophenone〕、4,4’-雙(二乙胺)二苯甲酮〔4,4’-bis(diethylamino)benzophenone〕等之二苯甲酮(benzophenone)類化合物;苯偶醯(benzil)、乙醯基(acetyl)等之α-二酮(α-diketone)類化合物;二苯乙醇酮(benzoin)等之酮醇(acyloin)類化合物;二苯乙醇酮甲醚(benzoin methylether)、二苯乙醇酮乙醚(benzoin ethylether)、二苯乙醇酮異丙醚(benzoin isopropyl ether)等之酮醇醚(acyloin ether)類化合物;2,4,6-三甲基苯醯二苯基膦氧化物(2,4,6-trimethyl-benzoyl-diphenyl-phosphineoxide)、雙-(2,6-二甲氧基苯醯)-2,4,4-三甲基苯基膦氧化物〔bis-(2,6-dimethoxy-benzoyl)-2,4,4-trimethyl-benzyl-phosphineoxide〕等之醯膦氧化物(acylphosphineoxide)類化合物;蒽醌(anthraquinone)、1,4-萘醌(1,4- naphthoquinone)等之醌(quinone)類化合物;苯醯甲基氯(phenacyl chloride)、三溴甲基苯碸(tribromomethyl-phenylsulfone)、三(三氯甲基)-s-三嗪〔tris(trichloromethyl)-s-triazine〕等之鹵化物;以及二-第三丁基過氧化物(di-tertbutylperoxide)等之過氧化物。其中,以二苯甲酮(benzophenone)類化合物較佳,尤以4,4’-雙(二乙胺)二苯甲酮為最佳。
上述其它自由基型光起始劑(E-2)可單獨一種或混合複數種使用。
於本發明之具體例中,基於該鹼可溶性樹脂(C)之使用量總和為100重量份,該其它自由基型光起始劑(E-2)之使用量範圍為9.9重量份至85重量份;較佳為14重量份至78重量份;更佳為17重量份至70重量份。
基於該鹼可溶性樹脂(C)之使用量總和為100重量份,該光起始劑(E)之使用量為10重量份至100重量份;較佳為15重量份至90重量份;更佳為20重量份至80重量份。
本發明該感光性樹脂組成物的製備,通常是先將該顏料(A)以外的各成份溶解於有機溶劑(F)中,調製成液狀組成物,再加入該顏料(A)均勻混合。該有機溶劑(F)需選擇可溶解該染料(B)、鹼可溶性樹脂(C)、含乙烯性不飽和基之化合物(D)以及光起始劑(E),且需不與該等成份相互反應並具有適當揮發性。
基於該鹼可溶性樹脂(C)之使用量總和為100重量份,該有機溶劑(F)之使用量範圍為500重量份至5,000重量份;較佳為800重量份至4,500重量份;更佳為1,000重量份至4,000重量份。
此外,該有機溶劑(F)可與製備該鹼可溶性樹脂(C)所使用的溶劑相同,在此不再贅述。較佳地,該有機溶劑(F)是擇自於丙二醇甲醚醋酸酯或3-乙氧基丙酸乙酯。
於本發明之較佳具體例中,該感光性樹脂組成物還包括添加劑(G),例如:填充劑、鹼可溶性樹脂(C)以外的高分子化合物、密著促進劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、防凝集劑等。
該添加劑(G)可單獨或混合使用,且該添加劑(G)包含但不限於玻璃、鋁等填充劑;聚乙烯醇、聚乙二醇單烷基醚、聚氟丙烯酸烷酯等鹼可溶性樹脂(C)以外的高分子化合物;乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、乙烯基三(2-甲氧乙氧基)矽烷、氮-(2-胺基乙基)-3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、氮-(2-胺基乙基)-3-胺基丙基三甲氧基矽烷、3-胺基丙基三乙氧基矽烷、3-環氧丙醇丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙醇丙基甲基二甲氧基矽烷、2-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷、3-氯丙基甲基二甲氧基矽烷、3-氯丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-硫醇基丙基三甲氧基矽烷等密著促進劑;2,2-硫代雙(4-甲基-6-第三丁基苯酚)、2,6-二-第三丁基苯酚等抗氧化劑;2-(3-第三丁基-5-甲基-2-羥基苯基)-5-氯苯基疊氮、烷氧基苯酮等紫外線吸收劑;及聚丙烯酸鈉等防凝集劑。
本發明亦提供一種彩色濾光片之製造方法,其係使用前述之彩色濾光片用感光性樹脂組成物形成一畫素層。
本發明又提供一種彩色濾光片,其係由前述之方法所製得。
較佳地,該彩色濾光片包含有畫素層,且該畫素層係使用前述彩色濾光片用感光性樹脂組成物所形成。
本發明之彩色濾光片之形成方法,主要係藉由迴轉塗佈、流延塗佈、噴墨塗佈(ink-jet)或輥式塗佈等塗佈方式,將混合成溶液狀態之前述彩色濾光片用感光性組成物塗佈在基板上。塗佈後,先以減壓乾燥之方式,去除大部分之溶劑,再以預烤(pre-bake)方式將溶劑去除而形成一預烤塗膜。其中,減壓乾燥及預烤之條件,依各 成份之種類,配合比率而異,通常,減壓乾燥乃是在0至200mmHg之壓力下進行1秒鐘至60秒鐘,而預烤乃是在70至110℃溫度下進行1分鐘至15分鐘。預烤後,該預烤塗膜於所指定之光罩(mask)下曝光,於23±2℃溫度下浸漬於顯影液15秒至5分鐘進行顯影,除去不要之部分而形成圖案。曝光使用之光線,以g線、h線、i線等之紫外線為佳,而紫外線裝置可為(超)高壓水銀燈或金屬鹵素燈。
前述基板之具體例如:用於液晶顯示裝置等之無鹼玻璃、鈉鈣玻璃、硬質玻璃(派勒斯玻璃)、石英玻璃及於此等玻璃上附著透明導電膜者;或用於固體攝影裝置等之光電變換裝置基板(如:矽基板)等等。此等基板一般係先形成隔離各畫素著色層之黑色矩陣(black matrix)。
再者,顯影液之具體例如:氫氧化鈉,氫氧化鉀,碳酸鈉,碳酸氫鈉,碳酸鉀,碳酸氫鉀,矽酸鈉,甲基矽酸鈉,氨水,乙胺,二乙胺,二甲基乙醇胺,氫氧化四甲銨,氫氧化四乙銨,膽鹼,吡咯,呱啶,1,8-二氮雜二環-(5,4,0)-7-十一烯等鹼性化合物所構成之鹼性水溶液,其濃度一般為0.001至10重量%,較佳為0.005至5重量%,更佳為0.01至1重量%。
使用前述鹼性水溶液所構成之顯影液時,一般係於顯影後再以水洗淨,其次以壓縮空氣或壓縮氮氣將圖案風乾。
風乾後之具有光硬化塗膜層的基板,利用熱板或烘箱等加熱裝置,在溫度100至280℃下加熱1至15分鐘,將塗膜中的揮發性成分去除,並且使塗膜中未反應的乙烯性不飽和雙鍵進行熱硬化反應。使用各色(主要包括紅、綠、藍三色)之感光性樹脂組成物在預定的畫素上以同樣的步驟重複操作三次,即可得到紅、綠、藍三色之畫素著色層。
其次,在畫素著色層上,以220℃至250℃溫度於真空下 形成ITO(氧化銦錫)蒸鍍膜,必要時,對ITO蒸鍍膜施行蝕刻暨佈線之後,再塗佈液晶配向膜用聚醯亞胺,進而燒成之,即可作為液晶顯示器用之彩色濾光片。
本發明又一目的在於提供一種液晶顯示元件,該液晶顯示元件包含前述彩色濾光片。
本發明之液晶顯示元件,主要係藉由上述彩色濾光片形成方法所形成之彩色濾光片基板,以及設置有薄膜電晶體(TFT,Thin Film Transistor)之驅動基板所構成,其中,在2片基板間介入間隙(晶胞間隔,cell gap)作對向配置,2片基板的周圍部位用封止劑貼合,在基板表面以及封止劑所區分出的間隙內充填注入液晶,封住注入孔而構成液晶晶胞(cell)。然後,在液晶晶胞的外表面,亦即構成液晶晶胞的各個基板的其他側面上,貼合偏光板而製得液晶顯示元件。
至於前述使用的液晶,亦即液晶化合物或液晶組成物,此處並未特別限定,惟可使用任何一種液晶化合物及液晶組成物。
再者,前述使用的液晶配向膜,係用於限制液晶分子之配向,此處並未特別限定,舉凡無機物或有機物任一者均可。至於形成液晶配向膜之技術為本發明所屬技術領域中任何具有通常知識者所熟知,且非為本發明的重點,故不另贅述。
茲以下列實例予以詳細說明本發明,唯並不意謂本發明僅侷限於此等實例所揭示之內容。
合成例:第一鹼可溶性樹脂(C-1)之製備
合成例C-1-1之製造方法:
在一四頸錐瓶上設置攪拌器、溫度計、冷凝管及氮氣入口,並導入氮氣。然後,加入100重量份之丙二醇甲醚醋酸酯(簡稱為PGMEA),並將溫度升溫至100℃。接著,將3重量份之N-(2-苯基乙基)馬來醯亞胺(簡稱為NPME)、82重量份之甲基丙烯酸苯甲酯 (簡稱為BzMA)、10重量份之甲基丙烯酸3,4-環氧環己基甲酯(簡稱為ECMMA)及4重量份之2,2’-偶氮雙-2-甲基丁腈(簡稱為AMBN)溶於100重量份之丙二醇甲醚醋酸酯中,並將此混合溶液於2小時內逐滴滴入四頸錐瓶中。於100℃反應6.5小時後,將15重量份之丙烯酸(簡稱為AA)加至充滿氮氣之四頸錐瓶中,並將溫度上升至110℃。反應6小時後,即可製得合成例C-1-1之具有乙烯性不飽和基的樹脂。
合成例C-1-2至C-1-7之製造方法:
合成例C-1-2至C-1-7是以與合成例C-1-1相同的步驟來製備該第一鹼可溶性樹脂(C-1),不同的地方在於:改變成份的種類及使用量,且詳載於表1。
合成例:第二鹼可溶性樹脂(C-2)之製備
合成例C-2-1之製造方法:
將100重量份的芴環氧化合物(型號ESF-300,新日鐵化學製;環氧當量231)、30重量份的丙烯酸、0.3重量份的氯化苄基三乙基銨、0.1重量份的2,6-二第三丁基對甲酚及130重量份的丙二醇甲醚醋酸酯連續添加至500mL的四口燒瓶中,且入料速度控制在25重量份/分鐘,將溫度維持在100℃至110℃的範圍內,反應15小時後,即可獲得固體成分濃度為50wt%之淡黃色透明混合液。
接著,將100重量份的上述混合液溶於25重量份的乙二醇乙醚醋酸酯中,同時添加6重量份的四氫鄰苯二甲酸酐及13重量份的二苯甲酮四甲酸二酐,並加熱至110℃至115℃,反應2小時後,即可獲得酸價為98.0mgKOH/g,且數目平均分子量為1,623之第二鹼可溶性樹脂(C-2-1)。
合成例C-2-2之製造方法:
將100重量份的芴環氧化合物(型號ESF-300,新日鐵化學製;環氧當量231)、30重量份的丙烯酸、0.3重量份的氯化苄基三 乙基銨、0.1重量份的2,6-二第三丁基對甲酚及130重量份的丙二醇甲醚醋酸酯連續添加至500mL的四口燒瓶中,且入料速度控制在25重量份/分鐘,將溫度維持在100℃至110℃的範圍內,反應15小時後,即可獲得固體成分濃度為50wt%之淡黃色透明混合液。
接著,將100重量份的上述混合液溶於25重量份的乙二醇乙醚醋酸酯中,同時添加13重量份的二苯甲酮四甲酸二酐,在90℃至95℃下反應2小時,接著,添加6重量份的四氫鄰苯二甲酸酐,並於90℃至95℃下反應4小時,即可獲得酸價為99.0mgKOH/g,且數目平均分子量為2,162之第二鹼可溶性樹脂(C-2-2)。
合成例C-2-3之製造方法:
將400重量份的環氧化合物(型號NC-3000,日本化藥(株)製;環氧當量288)、102重量份的丙烯酸、0.3重量份的甲氧基酚(methoxyphenol)、5重量份的三苯基膦及264重量份的丙二醇甲醚醋酸酯置於反應瓶中,將溫度維持在95℃,反應9小時後,即可獲得酸價為2.2mgKOH/g之中間產物。接著,加入151重量份的四氫鄰苯二甲酸酐(tetrahydrophthalic anhydride),在95℃下反應4小時,即可獲得酸價為102mgKOH/g,且數目平均分子量為2,589之第二鹼可溶性樹脂(C-2-3)。
合成例:其他鹼可溶性樹脂(C')之製備
合成例C'-1-1之製造方法:
在一四頸錐瓶上設置攪拌器、溫度計、冷凝管及氮氣入口,並導入氮氣。然後,加入100重量份之丙二醇甲醚醋酸酯(簡稱為PGMEA),並將溫度升溫至100℃。接著,將70重量份之甲基丙烯酸2-羥基乙酯(簡稱為HEMA)、5重量份之甲基丙烯酸2-甲基環氧丙酯(簡稱為MGMA)、及4.5重量份之2,2’-偶氮雙-2-甲基丁腈(簡稱為AMBN)溶於100重量份之丙二醇甲醚醋酸酯中,並將此混合溶液於2 小時內逐滴滴入四頸錐瓶中。於105℃反應6小時後,將15重量份之2-甲基丙烯醯乙氧基丁二酸酯(簡稱為HOMS)及15重量份之甲基丙烯酸(簡稱為MAA)加至充滿氮氣之四頸錐瓶中,並將溫度上升至110℃。反應6小時後,即可製得合成例C'-1-1之具有乙烯性不飽和基的樹脂。
合成例C'-1-2至C'-1-3:
合成例C'-1-2至C'-1-3是以與合成例C'-1-1相同的步驟來製備該其他鹼可溶性樹脂(C'),不同的地方在於:改變成份的種類及使用量,且詳載於表1。
實施例:彩色濾光片用感光性樹脂組成物之製備
實施例1:
使用前述合成例所得之第一鹼可溶性樹脂(C-1-1)100重量份、50重量份的C.I.顏料紅254(以下簡稱A-1)、15重量份的C.I.酸性紅37(以下簡稱B-2-1)、20重量份的EO改質之三丙烯酸三羥甲基丙酯(以下簡稱D-2-1)、5重量份的具有式(II)所示結構之光起始劑(以下簡稱E-1-1)、50重量份的2-甲基-1-(4-甲基硫代苯基)-2-嗎啉代-1-丙酮(以下簡稱E-2-1)及5重量份的2,2’-雙(鄰-氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基二咪唑(以下簡稱E-2-2),加入1500重量份的3-乙氧基丙酸乙酯(以下簡稱F-1)後,以搖動式攪拌器,加以溶解混合,即可調製而得彩色濾光片用感光性樹脂組成物,該彩色濾光片用感光性樹脂組成物以下述之各測定評價方式進行評價,所得結果如表2所示。
實施例2至12及比較例1至6:
實施例2至12及比較例1至6係使用與實施例1之彩色濾光片用感光性樹脂組成物製作方法相同之操作方法,不同之處在於實施例2至12及比較例1至6係改變彩色濾光片用感光性樹脂組成物中原料的種類及使用量,其配方及下列之評價結果如表2所示。
評價方式:
對比:
將感光性樹脂組成物以旋轉塗佈的方式,塗佈在100mm×100mm之玻璃基板上,先進行減壓乾燥,壓力100mmHg、時間30秒鐘,然後再進行預烤,溫度80℃、時間2分鐘,可形成一膜厚2.5μm之預烤塗膜。再以紫外光(曝光機Canon PLA-501F)100mJ/cm2的光量照射該預烤塗膜後,該預烤塗膜再浸漬於23℃之顯影液1分鐘,以純水洗淨。
其次,再以235℃後烤30分鐘,即可在玻璃基板上形成一膜厚2.0μm之感光性樹脂層。
由所得之感光性樹脂層,以圖1及圖2所示之方法所測得之輝度計算對比;其中,將所得的感光性樹脂層1置於兩枚偏光板2、3之間,從光源4所照射出來的光依序透過偏光板2、感光性樹脂層1、偏光板3,而最後透過偏光板3的輝度(cd/cm2)則以輝度計5(日本Topcon公司製,型號BM-5A)進行測量。
如圖1所示,當偏光板3的偏光方向與偏光板2的偏光方向互相平行時,所測得之輝度為A(cd/cm2);另外,如圖2所示,當偏光板3的偏光方向與偏光板2的偏光方向互相垂直時,所測得之輝度為B(cd/cm2);則對比度可藉由輝度A與輝度B的比值(輝度A/輝度B)而得,其評價標準如下所示。
◎:(輝度A/輝度B)≧3500
○:3300≦(輝度A/輝度B)<3500
△:3000≦(輝度A/輝度B)<3300
×:(輝度A/輝度B)<3000
圖案平滑性:
將感光性樹脂組成物以旋轉塗佈的方式,塗佈在具有SiO2膜之鈉玻璃基板上,於90℃溫度下進行預烤100秒,可形成一膜厚2.5μm之預烤塗膜。接著待基板冷卻至室溫後,再介入光罩並使用包含365nm、405nm及436nm之波長的高壓水銀燈進行照射,該照射量為400J/m2。然後將基板浸漬於23℃的0.04wt%之氫氧化鉀水溶液1分鐘進行顯影。接著用純水洗淨基板並風乾,再於220℃的烘箱內烘烤30分鐘而得到畫素著色層。
接著以Digital Instruments社製造之原子間力顯微鏡對該畫素著色層表面進行測定,其評價標準如下所示。
◎:40Å>表面粗度
○:40Å≦表面粗度<50Å
△:50Å≦表面粗度<60Å
×:表面粗度≧60Å
泡狀顯示缺陷:
將製成之液晶顯示元件,放在高溫100℃及高濕度95RH%之環境,以肉眼觀察泡狀顯示缺陷出現之時間t,其評價標準如下所示。
◎:t>500小時
○:400小時<t≦500小時
△:300小時<t≦400小時
×:t≦300小時
上述實施例僅為說明本發明之原理及其功效,而非限制本發明。習於此技術之人士對上述實施例所做之修改及變化仍不違背本發明之精神。本發明之權利範圍應如後述之申請專利範圍所列。

Claims (17)

  1. 一種感光性樹脂組成物,其包含:顏料(A);染料(B);鹼可溶性樹脂(C);含乙烯性不飽和基之化合物(D);光起始劑(E);及有機溶劑(F);其中:該鹼可溶性樹脂(C)包含一第一鹼可溶性樹脂(C-1),該第一鹼可溶性樹脂(C-1)具有如式(I)所示之結構單元:式(I)中:Z1及Z2分別獨立地代表氫原子或鹵素原子;其中,Z1及Z2為相同或不同;Z3、Z4及Z5分別獨立地代表氫原子、鹵素原子或烷基;其中,Z3、Z4及Z5為相同或不同;Z6及Z7分別獨立地代表氫原子或烷基;其中,Z6及Z7為相同或不同;及s表示1至2之整數;及該光起始劑(E)包含一具有式(II)所示結構之光起始劑(E-1):式(II)中:R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及R8彼此獨立地為氫、、COR16或NO2,且R3及R4或R5及R6共同為;及R12為氫;X係直接鍵;R13係C1-C20烷基R14係氫或C1-C20烷基;R15係C6-C20芳基,其係未經取代或經一或多個以下基團取代:OR17;或R15係C1-C20烷基;R16係C6-C20芳基,其係未經取代或經一或多個C1-C20烷基取代;R17係C1-C20烷基,其係未經取代或經一或多個以下基團取代:鹵素;或R17係C2-C20烷基,其間雜有一或多個O;但條件為在該分子中存在至少一個基團
  2. 根據請求項1之感光性樹脂組成物,其中該第一鹼可溶性樹脂(C-1)具有乙烯性不飽和基。
  3. 根據請求項1或2之感光性樹脂組成物,其中該第一鹼可溶性樹脂(C-1)係由具有式(i)所示結構之乙烯性不飽和單體(c-1-1)、具有一個或一個以上羧酸或羧酸酐之乙烯性不飽和單體(c-1-2)以及其他可共聚合之乙烯性不飽和單體(c-1-3)共聚合後,再與具有環氧基之乙烯性不飽和單體(c-1-4)反應而得;式(i)中:Z1及Z2分別獨立地代表氫原子或鹵素原子;其中,Z1及Z2為相同或不同;Z3、Z4及Z5分別獨立地代表氫原子、鹵素原子或烷基;其中,Z3、Z4及Z5為相同或不同;Z6及Z7分別獨立地代表氫原子或烷基;其中,Z6及Z7為相同或不同;及s表示1至2之整數。
  4. 根據請求項1之感光性樹脂組成物,該鹼可溶性樹脂(C)進一步包含一第二鹼可溶性樹脂(C-2),該第二鹼可溶性樹脂(C-2)是由一混合物進行聚合反應所製得,而該混合物含有一具有至少二個環氧基之環氧化合物(c-2-1)及一具有至少一個羧酸基及至少一個乙烯性不飽和基之化合物(c-2-2)。
  5. 根據請求項4之感光性樹脂組成物,其中該具有至少二個環氧基之環氧化合物(c-2-1)具有如式(C-I)或式(C-II)所示之結構;式(C-I)中:R61、R62、R63與R64分別為相同或不同,且表示氫原子、鹵素原子、C1至C5的烷基、C1至C5的烷氧基、C6至C12的芳基或C6至C12的芳烷基;式(C-II)中:R65至R78分別為相同或不同,且表示氫原子、鹵素原子、C1至C8的烷基或C6至C15的芳香基,且t表示0至10之整數。
  6. 根據請求項1之感光性樹脂組成物,其中該染料(B)包含一具有式(III)結構之紅色染料(B-1):式(III)中:L1至L4各自獨立表示氫、-L6、C6至C10之芳香烴基、或經鹵素原子、-L6、-OH、-OL6、-SO3 -、-SO3H、-SO3M、-COOH、-COOL6、-SO3L6、-SO2NHL8或-SO2NL8L9取代之C6至C10之芳香烴基;L5表示-SO3 -、-SO3H、-SO3M、-COOH、-COOL6、-SO3L6、-SO2NHL8或-SO2NL8L9;u表示0至5之整數;當u表示2至5時,複數個L5為相同或不同;W表示鹵素原子;a表示0或1;L6表示C1至C10之烷基或經鹵素原子取代之C1至C10之烷基,其中該C1至C10之烷基或經鹵素原子取代之C1至C10之烷基中之-CH2-係未經置換或經置換為-O-、羰基或-NL7-;L7表示C1至C10之烷基或經鹵素原子取代之C1至C10之烷基;L8及L9各自獨立表示C1至C10之直鏈烷基、C1至C10之支鏈烷基、C3至C30之環烷基、或-Q;其中,C1至C10之直鏈烷基、C1至C10之支鏈烷基或C3至C30之環烷基中之氫原子係未經取代或經一取代基所取代,該取代基係選自由羥基、鹵素原子、-Q、-CH=CH2及-CH=CH-L6所組成之群;C1至C10之直鏈烷基、C1至C10之支鏈烷基或C3至C30之環烷基中之-CH2-係未經置換或經置換為-O-、羰基或-NL7-;或L8和L9結合形成C1至C10之雜環基,其中C1至C10之雜環基中之氫原子係未經取代或經L6、-OH、或-Q所取代;Q表示C6至C10之芳香烴基、C5至C10之雜芳香基、經鹵素原子、-L6、-OH、-OL6、-NO2、-CH=CH2或-CH=CH-L6取代之C6至C10之芳香烴基、或經鹵素原子、-L6、-OH、-OL6、-NO2、-CH=CH2及-CH=CH-L6取代之C5至C10之雜芳香基;及M表示鉀或鈉。
  7. 根據請求項1之感光性樹脂組成物,其中該含乙烯性不飽和基之化合物(D)包含一具有羧酸基之乙烯性不飽和基之化合物(D-1)。
  8. 根據請求項1之感光性樹脂組成物,其中,基於該鹼可溶性樹脂(C)之使用量總和為100重量份,該顏料(A)之使用量範圍為30重量份至300重量份;該染料(B)之使用量範圍為5重量份至50重量份;該含乙烯性不飽和基之化合物(D)之使用量範圍為20重量份至200重量份;該光起始劑(E)之使用量範圍為10重量份至100重量份;及該有機溶劑(F)之使用量範圍為500重量份至5000重量份。
  9. 根據請求項6之感光性樹脂組成物,其中,基於該鹼可溶性樹脂(C)之使用量總和為100重量份,該具有式(III)結構之紅色染料(B-1)之使用量範圍為3重量份至50重量份。
  10. 根據請求項1之感光性樹脂組成物,其中,基於該鹼可溶性樹脂(C)之使用量總和為100重量份,該第一鹼可溶性樹脂(C-1)之使用量範圍為10重量份至100重量份。
  11. 根據請求項3之感光性樹脂組成物,其中,基於該第一鹼可溶性樹脂(C-1)之該具有式(i)所示結構之乙烯性不飽和單體(c-1-1)、具有一個或一個以上羧酸基之乙烯性不飽和單體(c-1-2)及其他可共聚合之乙烯性不飽和單體(c-1-3)共聚合用單體之使用量總和為100重量份,該具有式(i)所示結構之乙烯性不飽和單體(c-1-1)之使用量範圍為5重量份至50重量份。
  12. 根據請求項4之感光性樹脂組成物,其中,基於該鹼可溶性樹脂(C)之使用量總和為100重量份,該第二鹼可溶性樹脂(C-2)之使用量範圍為0重量份至90重量份。
  13. 根據請求項7之感光性樹脂組成物,其中,基於該鹼可溶性樹脂(C)之使用量總和為100重量份,該具有羧酸基之乙烯性不飽和基之化合物(D-1)之使用量範圍為3重量份至30重量份。
  14. 根據請求項1之感光性樹脂組成物,其中,基於該鹼可溶性樹脂(C)之使用量總和為100重量份,該具有式(II)所示結構之光起始劑(E-1)之使用量範圍為0.1重量份至15重量份。
  15. 一種彩色濾光片之製造方法,其係使用根據請求項1至14任一項之感光性樹脂組成物形成一畫素層。
  16. 一種彩色濾光片,其係由根據請求項15之方法所製得。
  17. 一種液晶顯示裝置,其特徵在於包含根據請求項16之彩色濾光片。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR102377188B1 (ko) * 2018-03-16 2022-03-22 동우 화인켐 주식회사 착색 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 컬러필터 및 표시장치
CN113444032B (zh) * 2020-03-26 2023-05-09 优禘股份有限公司 一种咔唑肟酯化合物、制备方法、组合物及用途

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201329044A (zh) * 2011-12-07 2013-07-16 Basf Se 肟酯光起始劑
TW201428012A (zh) * 2007-07-18 2014-07-16 Nippon Catalytic Chem Ind 新穎聚合物

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102033427A (zh) * 2009-09-30 2011-04-27 富士胶片株式会社 紫外线激光用着色感光性树脂组合物、图案形成方法、滤色器及其制造方法、显示装置
CN102073216A (zh) * 2009-11-18 2011-05-25 富士胶片株式会社 着色感光性树脂组合物、图案形成方法、滤色器的制造方法、滤色器及显示装置
EP2625166B1 (en) * 2010-10-05 2014-09-24 Basf Se Oxime ester derivatives of benzocarbazole compounds and their use as photoinitiators in photopolymerizable compositions
TWI604272B (zh) * 2013-05-24 2017-11-01 奇美實業股份有限公司 彩色濾光片用藍色感光性樹脂組成物及其應用
TWI490644B (zh) * 2013-08-09 2015-07-01 Chi Mei Corp 彩色濾光片用藍色感光性樹脂組成物及其應用

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201428012A (zh) * 2007-07-18 2014-07-16 Nippon Catalytic Chem Ind 新穎聚合物
TW201329044A (zh) * 2011-12-07 2013-07-16 Basf Se 肟酯光起始劑

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