TWI606298B - 感光性樹脂組成物及其應用 - Google Patents

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Description

感光性樹脂組成物及其應用
本發明係有關一種黑色矩陣用感光性樹脂組成物及使用該黑色矩陣所形成之彩色濾光片及液晶顯示元件。特別是提供一種高精細度的圖案直線性佳的黑色矩陣用感光性樹脂組成物及使用該黑色矩陣所形成之彩色濾光片及液晶顯示元件。
近年來，隨著液晶顯示器各種技術之蓬勃發展，且提高液晶顯示器的對比度及顯示品質，通常會設置黑色矩陣(black matrix)於液晶顯示器之彩色濾光片的條紋(stripe)及點(dot)間之間隙中。該黑色矩陣可防止畫素間之漏光(light leakage)所引起的對比度(contrast ratio)下降及色純度(color purity)下降等之缺陷。
一般而言，黑色矩陣可為具有鉻或氧化鉻等之蒸鍍膜。然而，以前述之蒸鍍膜製作黑色矩陣時，其具有製程複雜且材料昂貴等之缺點。為了解決此問題，黑色矩陣係藉由光平版印刷(photo lithographic)技術形成。
日本專利特開第2006-259716號公報揭示一種黑色矩陣用之感光性樹脂組成物。該感光性樹脂組成物包含高使用量的黑色顏料、鹼可溶性樹脂、光聚合起始劑、具有二官能基的反應性單體及有機溶劑。該具有二官能基的反應性單體可改善化合物之間的反應，而可形成精細的圖案(fine pattern)。因此，所製得之感光性樹脂組成物 具有良好之遮光性及感度。
其次，日本專利特開第2008-268854號公報揭示一種黑 色矩陣用的感光性樹脂組成物。該感光性樹脂組成物包含具有羧酸基及具有不飽和基的鹼可溶性樹脂、具有乙烯性不飽和基之光聚合單體、光聚合起始劑及高使用量的黑色顏料。上述具有羧酸基及具有不飽和基的鹼可溶性樹脂可改善感光性樹脂組成物之解析度。
雖然現有技術中提高了黑色顏料使用量之感光性樹脂組 成物能夠增加遮光性等，然而，上述各前案之感光性樹脂組成物在顯影後，黑色矩陣之高精細度的圖案直線性仍未能令業界所接受。有鑑於此，仍有需要開發出高精細度的圖案直線性佳的黑色矩陣用感光性樹脂組成物。
本發明利用提供特殊鹼可溶性樹脂及特殊化合物之成分，而得到高精細度的圖案直線性佳之黑色矩陣用感光性樹脂組成物。
因此，本發明提供一種感光性樹脂組成物，包含：鹼可溶性樹脂(A)；具有乙烯性不飽和基之化合物(B)；光起始劑(C)；溶劑(D)；黑色顏料(E)；及具有式(1)結構之化合物(F)；其中：該鹼可溶性樹脂(A)包含一具有不飽和基之樹脂(A-1)，該具有不飽和基之樹脂(A-1)係由一混合物聚合形成，其中該混合物包含一具有至少二個環氧基之環氧化合物(a-1-1)，以及一具有至少
一個羧酸基與至少一個乙烯性不飽和基之化合物(a-1-2)；
於式(1)中：R'係選自由氫原子、經取代或未經取代之碳數1至20之烴基及醯基所組成之群；R'可為相同或不同；R"係選自由氫原子、經取代或未經取代之碳數1至15之烴基、醯基及硝基所組成之群；R"可為相同或不同；s表示0、1或2；及
W表示，其中Z表示氫原子或碳數為1至4之烷 基。
本發明亦提供一種黑色矩陣，其係由前述之感光樹脂組成物所形成。
本發明又提供一種彩色濾光片，係包含前述之黑色矩陣。
本發明再提供一種液晶顯示元件，係包含前述之彩色濾光片。
本發明提供一種感光性樹脂組成物，包含：鹼可溶性樹脂(A)；具有乙烯性不飽和基之化合物(B)；光起始劑(C)；溶劑(D)；黑色顏料(E)；及具有式(1)結構之化合物(F)；其中：該鹼可溶性樹脂(A)包含一具有不飽和基之樹脂(A-1)，該具有不飽和基之樹脂(A-1)係由一混合物聚合形成，其中該混合物包含一具有至少二個環氧基之環氧化合物(a-1-1)，以及一具有至少一個羧酸基與至少一個乙烯性不飽和基之化合物(a-1-2)；
於式(1)中：R'係選自由氫原子、經取代或未經取代之碳數1至20之烴基及醯基所組成之群；R'可為相同或不同；R"係選自由氫原子、經取代或未經取代之碳數1至15之烴基、醯基及硝基所組成之群；R"可為相同或不同；s表示0、1或2；及 W表示，其中Z表示氫原子或碳數為1至4之烷 基。
根據本發明之鹼可溶性樹脂(A)包含一具有不飽和基之樹脂(A-1)。該鹼可溶性樹脂(A)可選擇性地包含其他鹼可溶性樹脂(A-2)。
該具有不飽和基之樹脂(A-1)係由一混合物聚合形成。該混合物包含具有至少二個環氧基之環氧化合物(a-1-1)及具有至少一個羧酸基與至少一個乙烯性不飽和基之化合物(a-1-2)。再者，該混合物可選擇性地包含羧酸酐化合物(a-1-3)及具有環氧基之化合物(a-1-4)。
該具有至少二個環氧基之環氧化合物(a-1-1)包含具有如下式(2)所示之結構的化合物、具有如下式(3)所示之結構的化合物及上述化合物之組合：
於式(2)中，A1至A4分別獨立地代表氫原子、鹵素原子、碳數為1至5之烷基、碳數為1至5之烷氧基、碳數為6至12之芳香基或碳數為6至12之芳烷基。
該具有如式(2)所示之結構的化合物可包含具有環氧基 之雙酚茀型化合物，其中該具有環氧基之雙酚茀型化合物可由雙酚茀型化合物(bisphenol fluorene)與鹵化環氧丙烷(epihalohydrin)反應而得，但並不限於此。
前述之雙酚茀型化合物之具體例可包含但不限於9,9-雙 (4-羥基苯基)茀[9,9-bis(4-hydroxyphenyl)fluorine]、9,9-雙(4-羥基-3-甲基苯基)茀[9,9-bis(4-hydroxy-3-methylphenyl)fluorine]、9,9-雙(4-羥基-3-氯苯基)茀[9,9-bis(4-hydroxy-3-chlorophenyl)fluorine]、9,9-雙(4-羥基-3-溴苯基)茀[9,9-bis(4-hydroxy-3-bromophenyl)fluorine]、9,9-雙(4-羥基-3-氟苯基)茀[9,9-bis(4-hydroxy-3-fluorophenyl)fluorine]、9,9-雙(4-羥基-3-甲氧基苯基)茀[9,9-bis(4-hydroxy-3-methoxyphenyl)fluorine]、9,9-雙(4-羥基-3,5-二甲基苯基)茀[9,9-bis(4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)fluorine]、9,9-雙(4-羥基-3,5-二氯苯基)茀[9,9-bis(4-hydroxy-3,5-dichlorophenyl)fluorine]、9,9-雙(4-羥基-3,5-二溴苯基)茀[9,9-bis(4-hydroxy-3,5-dibromophenyl)fluorine]、雙酚茀型化合物之類似化合物，或上述化合物之任意組合。
前述鹵化環氧丙烷(epihalohydrin)之具體例可包含但不 限於3-氯-1,2-環氧丙烷(epichlorohydrin)、3-溴-1,2-環氧丙烷(epibromohydrin)、鹵化環氧丙烷之類似化合物，或上述化合物之任意組合。
該具有環氧基之雙酚茀型化合物的具體例可包含但不限 於：(1)新日鐵化學製造之商品，例如：型號為ESF-300之產品或類似產品；(2)大阪瓦斯製造之商品，例如：型號為PG-100或EG-210之產品，或者類似產品；(3)S.M.S Technology Co.製造之商品，例如：型號為SMS-F9PhPG、SMS-F9CrG或SMS-F914PG之產品，或者類似產品。
於本發明之另一具體例中，該具有至少二個環氧基的環 氧化合物(a-1-1)具有如下式(3)所示之結構：
於式(3)中，A5至A18分別獨立地代表氫原子、鹵素原子、碳數為1至8之烷基或碳數為6至15之芳香基；且u代表0至10之整數。
具有如式(3)所示之結構的化合物(a-1-1)可在鹼金屬氫氧化物的存在下，使具有如下式(3-1)所示之結構的化合物與鹵化環氧丙烷進行反應而得：
於式(3-1)中，A5至A18及u之定義如前所述，在此不另贅述。
具有如式(3)所示之結構的化合物之合成方法係先在酸觸媒存在下，對具有如下式(3-1-1)所示之結構的化合物及酚(phenol)類化合物進行縮合反應，以形成具有如式(3-1)所示之結構的化合物：
於式(3-1-1)中，A19及A20分別獨立地代表氫原子、鹵素原子、碳數為1至8的烷基或碳數為6至15的芳香基；L1及L2分別獨立地代表鹵素原子、碳數為1至6的烷基或碳數為1至6的烷氧基。上述之烷基較佳為甲基、乙基或第三丁基，且烷氧基較佳為甲氧基或乙氧基。
前述酚類化合物之具體例可包含但不限於酚(phenol)、甲酚(cresol)、乙酚(ethylphenol)、n-丙酚(n-propylphenol)、異丁酚(isobutylphenol)、t-丁酚(t-butylphenol)、辛酚(octylphenol)、壬基苯酚(nonylphenol)、茬酚(xylenol)、甲基丁基苯酚(methylbutylphenol)、二第三丁基酚(di-t-butylphenol)、乙烯苯酚(vinylphenol)、丙烯苯酚(propenylphenol)、乙炔苯酚(ethinylphenol)、環戊苯酚(cyclopentylphenol)、環己基酚(cyclohexylphenol)、環己基甲酚(cyclohexylcresol)或酚類化合物之類似化合物。該酚類化合物可單獨一種或混合複數種使用。
基於前述具有如式(3-1-1)所示之結構的化合物之使用量為1莫耳，該酚類化合物之使用量為0.5莫耳至20莫耳，且較佳為2莫耳至15莫耳。
上述酸觸媒之具體例可包含但不限於鹽酸、硫酸、對甲苯磺酸(p-toluenesulfonic acid)、草酸(oxalic acid)、三氟化硼(boron trifluoride)、無水氯化鋁(aluminium chloride anhydrous)、氯化鋅(zinc chloride)或酸觸媒之類似物。該酸觸媒可單獨一種或混合複數種使用。
該酸觸媒較佳可為對甲苯磺酸、硫酸、鹽酸或上述化合物之任意組合。
該酸觸媒之使用量並無特別之限制。基於前述具有如式(3-1-1)所示之結構的化合物之使用量為100重量百分比，該酸觸媒之 使用量為0.1重量百分比至30重量百分比。
前述之縮合反應可在無溶劑或有機溶劑之存在下進行，其中該有機溶劑之具體例可為甲苯(toluene)、二甲苯(xylene)、甲基異丁基酮(methyl isobutyl ketone)或其類似物。該有機溶劑可為單獨一種或混合複數種使用。
基於前述具有如式(3-1-1)所示之結構的化合物及酚類化合物之總使用量為100重量百分比，該有機溶劑之使用量為50重量百分比至300重量百分比，較佳為100重量百分比至250重量百分比。
該縮合反應之反應溫度可為40℃至180℃，且反應時間可為1小時至8小時。
在完成該縮合反應後，可選擇性地進行中和處理或水洗處理。
上述之中和處理係將反應後之溶液的pH值調整為pH 3至pH 7，較佳為pH 5至pH 7。
上述之水洗處理可利用中和劑來進行。該中和劑可為鹼性物質，且中和劑之具體例可包含但不限於氨(ammonia)、磷酸二氫鈉(sodium dihydrogen phosphate)；氫氧化鈉(sodium hydroxide)或氫氧化鉀(potassium hydroxide)等之鹼金屬氫氧化物；氫氧化鈣(calcium hydroxide)或氫氧化鎂(magnesium hydroxide)等之鹼土類金屬氫氧化物；二伸乙三胺(diethylene triamine)、三伸乙四胺(triethylenetetramine)、苯胺(aniline)或苯二胺(phenylene diamine)等之有機胺或上述化合物之任意組合。該中和劑可單獨一種或混合複數種使用。
該水洗處理可採用習知之方法進行。例如：將含有中和劑之水溶液加至反應後之溶液中，並反覆進行萃取。經中和處理或水洗處理後，溶液中未反應之酚類化合物及溶劑可藉由減壓加熱處理去 除，並進行濃縮，以獲得具有如式(3-1)所示之結構的化合物。
當縮合反應完成後，加入過量之鹵化環氧丙烷，以使鹵 化環氧丙烷與具有如式(3-1)所示之結構的化合物進行脫鹵化氫反應(dehydrohalogenation)，而可製得具有如式(3)所示之結構的化合物。
前述鹵化環氧丙烷之具體例可包含但不限於3-氯-1,2-環 氧丙烷、3-溴-1,2-環氧丙烷或上述化合物之組合。
當進行前述之脫鹵化氫反應前，氫氧化鈉或氫氧化鉀等 之鹼金屬氫氧化合物可預先添加或於反應過程中加至反應溶液中。該脫鹵化氫反應之反應溫度可為20℃至120℃，且反應時間可為1小時至10小時。
在一實施例中，前述之鹼金屬氫氧化合物可為水溶液。 在此實施例中，當鹼金屬氫氧化合物水溶液連續加至脫鹵化氫反應之反應系統中，同時可於減壓或常壓下，連續蒸餾出水及鹵化環氧丙烷，以分離並去除水，且鹵化環氧丙烷可連續地回流至反應系統中。
當進行脫鹵化氫反應前，氯化四甲銨(tetramethyl ammonium chloride)、溴化四甲銨(tetramethyl ammonium bromide)、三甲基苄基氯化銨(trimethyl benzyl ammonium chloride)等之四級銨鹽可添加至反應系統中，以作為觸媒，並在50℃至150℃反應1小時至5小時後，將鹼金屬氫氧化物或其水溶液加至反應系統中。然後，於20℃至120℃反應1小時至10小時，以進行脫鹵化氫反應。
基於前述具有如式(3-1)所示之結構的化合物中之羥基總 當量數為1當量，該鹵化環氧丙烷之使用量為1當量至20當量，且較佳為2當量至10當量。基於前述具有如式(3-1)所示之結構的化合物中之羥基總當量數為1當量，脫鹵化氫反應中之鹼金屬氫氧化物的使用量為0.5當量至15當量，且較佳為0.9當量至11當量。
為了使上述脫鹵化氫反應順利進行，甲醇或乙醇等之醇 類化合物可添加至反應系統中。此外，二甲碸(dimethyl sulfone)或二甲亞碸(dimethyl sulfoxide)等之非質子性(aprotic)的極性溶媒亦可加至反應系統中。
當使用醇類化合物時，基於上述的鹵化環氧丙烷的總使 用量為100重量百分比，醇類化合物之使用量為2重量百分比至20重量百分比，且較佳為4重量百分比至15重量百分比。當使用非質子性的極性溶媒時，基於鹵化環氧丙烷的總使用量為100重量百分比，非質子性的極性溶媒的使用量為5重量百分比至100重量百分比，且較佳為10重量百分比至90重量百分比。
當前述之脫鹵化氫反應後，反應系統可選擇性地進行水 洗處理。然後，於溫度為110℃至250℃且壓力為1.3kPa(10mmHg)以下之環境中，去除鹵化環氧丙烷、醇類化合物及非質子性的極性溶媒。
為了避免所形成之環氧樹脂具有加水分解性之鹵素，進 行脫鹵化氫反應後之溶液可加入甲苯、甲基異丁基酮(methyl isobutyl ketone)等之溶劑及氫氧化鈉或氫氧化鉀等之鹼金屬氫氧化物水溶液，並再次進行脫鹵化氫反應。在前述之脫鹵化氫反應中，基於前述具有如式(3-1)所示之結構的化合物中之羥基總當量數為1當量，鹼金屬氫氧化合物之使用量為0.01莫耳至0.3莫耳，且較佳為0.05莫耳至0.2莫耳。此外，該脫鹵化氫反應之反應溫度可為50℃至120℃，且反應時間可為0.5小時至2小時。
當脫鹵化氫反應完成後，反應溶液中之鹽類可藉由過濾 及水洗等步驟去除，且甲苯、甲基異丁基酮等之溶劑可藉由加熱減壓之方式餾除，以形成具有如式(3)所示之結構的化合物(a-1-1)。該具有如式(3)所示之結構的化合物(a-1-1)之具體例可包含但不限於日本化藥製造之商品，其型號為NC-3000、NC-3000H、NC-3000S及NC-3000P 等。
根據本發明之該具有至少一個羧酸基與至少一個乙烯性 不飽和基之化合物(a-1-2)可選自於由下述(1)至(3)所組成之群組：(1)丙烯酸、甲基丙烯酸、2-甲基丙烯醯氧乙基丁二酸(2-methacryloyloxyethylbutanedioic acid)、2-甲基丙烯醯氧丁基丁二酸、2-甲基丙烯醯氧乙基己二酸、2-甲基丙烯醯氧丁基己二酸、2-甲基丙烯醯氧乙基六氫鄰苯二甲酸、2-甲基丙烯醯氧乙基馬來酸、2-甲基丙烯醯氧丙基馬來酸、2-甲基丙烯醯氧丁基馬來酸、2-甲基丙烯醯氧丙基丁二酸、2-甲基丙烯醯氧丙基己二酸、2-甲基丙烯醯氧丙基四氫鄰苯二甲酸、2-甲基丙烯醯氧丙基鄰苯二甲酸、2-甲基丙烯醯氧丁基鄰苯二甲酸或2-甲基丙烯醯氧丁基氫鄰苯二甲酸等之化合物；(2)由具有羥基之(甲基)丙烯酸酯與二元羧酸化合物反應而得的化合物，其中該二元羧酸化合物之具體例可包含己二酸、丁二酸、馬來酸或鄰苯二甲酸等之化合物；(3)由具有羥基之(甲基)丙烯酸酯與下述之羧酸酐化合物(a-1-3)反應而得的半酯化合物，其中該具有羥基的(甲基)丙烯酸酯之具體例可包含2-羥基乙基丙烯酸酯[(2-hydroxyethyl)acrylate]、2-羥基乙基甲基丙烯酸酯[(2-hydroxyethyl)methacrylate]、2-羥基丙基丙烯酸酯[(2-hydroxypropyl)acrylate]、2-羥基丙基甲基丙烯酸酯[(2-hydroxypropyl)methacrylate]、4-羥基丁基丙烯酸酯[(4-hydroxybutyl)acrylate]、4-羥基丁基甲基丙烯酸酯[(4-hydroxybutyl)methacrylate]或季戊四醇三甲基丙烯酸酯等之化合物。 另外，此處所述之羧酸酐化合物可與下述之羧酸酐化合物(a-1-3)相同，故於此不再贅述。
根據本發明之該羧酸酐化合物(a-1-3)可選自於二元羧酸 酐化合物、四元羧酸酐化合物或上述化合物之任意組合。
前述之二元羧酸酐化合物可包含但不限於丁二酸酐 (butanedioic anhydride)、順丁烯二酸酐(maleic anhydride)、衣康酸酐(Itaconic anhydride)、鄰苯二甲酸酐(phthalic anhydride)、四氫鄰苯二甲酸酐(tetrahydrophthalic anhydride)、六氫鄰苯二甲酸酐(hexahydrophthalic anhydride)、甲基四氫鄰苯二甲酸酐、甲基六氫鄰苯二甲酸酐、甲基橋亞甲基四氫鄰苯二甲酸酐(methyl endo-methylene tetrahydro phthalic anhydride)、氯茵酸酐(chlorendic anhydride)、戊二酸酐或偏三苯甲酸酐(1,3-dioxoisobenzofuran-5-carboxylic anhydride)等之二元羧酸酐化合物
前述之四元羧酸酐化合物可包含但不限於二苯甲酮四甲酸二酐(benzophenone tetracarboxylic dianhydride；BTDA)、雙苯四甲酸二酐或雙苯醚四甲酸二酐等之四元羧酸酐化合物。
根據本發明之該具有環氧基之化合物(a-1-4)之具體例可包含但不限於甲基丙烯酸環氧丙酯、3,4-環氧基環己基甲基丙烯酸酯、具有不飽和基的縮水甘油醚化合物、具有環氧基的不飽和化合物或上述化合物的組合。
前述具有不飽和基的縮水甘油醚化合物之具體例包含但不限於長瀨化成工業股份有限公司製造之商品，其型號為Denacol EX-111、Denacol EX-121、Denacol EX-141、Denacol EX-145、Denacol EX-146、Denacol EX-171及Denacol EX-192。
於本發明之一具體例中，該具有不飽和基之樹脂(A-1)可由具有如式(2)所示之結構的具有至少二個環氧基之環氧化合物(a-1-1)及具有至少一個羧酸基與至少一個乙烯性不飽和基之化合物(a-1-2)進行反應，以形成具有羥基的反應產物。然後，將所製得之反應產物與羧酸酐化合物(a-1-3)進行反應，以製得本發明具有不飽和基之樹脂(A-1)。基於前述具有羥基之反應產物的羥基總當量數為1當量，該羧酸酐化合物(a-1-3)之酸酐基的當量數為0.4當量至1當量，且較佳為 0.75當量至1當量。當使用多個羧酸酐化合物(a-1-3)時，此些羧酸酐化合物(a-1-3)可依序添加或同時添加至反應中。當羧酸酐化合物(a-1-3)包含二元羧酸酐化合物及四元羧酸酐化合物時，二元羧酸酐化合物及四元羧酸酐化合物之莫耳比例為1/99至90/10，較佳為5/95至80/20。上述反應的操作溫度範圍為50℃至130℃。
於本發明之另一具體例中，該具有不飽和基之樹脂(A- 1)可由具有如式(3)所示之結構的具有至少二個環氧基之環氧化合物(a-1-1)及具有至少一個羧酸基與至少一個乙烯性不飽和基之化合物(a-1-2)進行反應，以形成具有羥基的反應產物。然後，將所製得之反應產物與羧酸酐化合物(a-1-3)及/或具有環氧基之化合物(a-1-4)進行反應，以製得本發明具有不飽和基之樹脂(A-1)。基於具有如式(3)所示之結構的具有至少二個環氧基之環氧化合物(a-1-1)中的環氧基之總當量數為1當量，該具有至少一個羧酸基及至少一個乙烯性不飽和基之化合物(a-1-2)的酸價當量數為0.8當量至1.5當量，且較佳為0.9當量至1.1當量。基於前述具有羥基之反應產物的羥基總量為100莫耳百分比，該羧酸酐化合物(a-1-3)之使用量為10莫耳百分比至100莫耳百分比，較佳為20莫耳百分比至100莫耳百分比，且更佳為30莫耳百分比至100莫耳百分比。
當製備前述具有不飽和基之樹脂(A-1)時，為了加速反 應速率，鹼性化合物一般會添加至反應溶液中，以作為反應觸媒。該反應觸媒之具體例可包含但不限於三苯基膦(triphenyl phosphine)、三苯基銻(triphenyl stibine)、三乙胺(triethylamine)、三乙醇胺(triethanolamine)、氯化四甲基銨(tetramethylammonium chloride)或氯化苄基三乙基銨(benzyltriethylammonium chloride)等之化合物。前述之反應觸媒可單獨一種或混合複數種使用。
基於前述具有至少二個環氧基之環氧化合物(a-1-1)及具 有至少一個羧酸基與至少一個乙烯性不飽和基之化合物(a-1-2)的總使用量為100重量份，該反應觸媒之使用量為0.01重量份至10重量份，且較佳為0.3重量份至5重量份。
其次，為了控制前述具有不飽和基之樹脂(A-1)的聚合 度，阻聚劑(inhibitor)可加至反應溶液中。該阻聚劑之具體例可包含但不限於甲氧基酚(methoxyphenol)、甲基氫醌(methylhydroquinone)、氫醌(hydroquinone)、2,6-二第三丁基對甲酚(2,6-di-t-butyl-p-cresol)或吩噻嗪(phenothiazine)等之化合物。該阻聚劑可單獨一種或混合複數種使用。
基於前述具有至少二個環氧基之環氧化合物(a-1-1)及具 有至少一個羧酸基與至少一個乙烯性不飽和基之化合物(a-1-2)的總使用量為100重量份，該阻聚劑之使用量為0.01重量份至10重量份，且較佳為0.1重量份至5重量份。
此外，當製備前述具有不飽和基之樹脂(A-1)時，聚合 反應溶劑可加至反應溶液中。該聚合反應溶劑之具體例可包含但不限於乙醇、丙醇、異丙醇、丁醇、異丁醇、2-丁醇、己醇或乙二醇等之醇類化合物；甲乙酮或環己酮等之酮類化合物；甲苯或二甲苯等之芳香族烴類化合物；賽珞素或丁基賽珞素(butyl cellosolve)等之賽珞素(cellosolve)化合物；卡必妥或丁基卡必妥等之卡必妥化合物；丙二醇單甲醚等之丙二醇烷基醚類化合物；二丙二醇單甲醚[di(propylene glycol)methyl ether]等之多丙二醇烷基醚[poly(propylene glycol)alkyl ether]化合物；醋酸乙酯、醋酸丁酯、乙二醇乙醚醋酸酯(ethylene glycol monoethyl ether acetate)或丙二醇甲醚醋酸酯(propylene glycol methyl ether acetate)等之醋酸酯化合物；乳酸乙酯(ethyl lactate)或乳酸丁酯(butyl lactate)等之乳酸烷酯(alkyl lactate)化合物；或者二烷基二醇醚化合物。該聚合反應溶劑可單獨一種或混合複數種使用。
本發明所製得具有不飽和基之樹脂(A-1)的酸價為50 mgKOH/g至150mgKOH/g。
基於鹼可溶性樹脂(A)之使用量為100重量份，該具有不 飽和基之樹脂(A-1)的使用量為30重量份至100重量份，較佳為35重量份至95重量份，且更佳為40重量份至90重量份。
當本發明之鹼可溶性樹脂(A)不包含具有不飽和基之樹 脂(A-1)時，則該感光性樹脂組成物具有高精細度的圖案直線性不佳之缺點。
根據本發明之該其他鹼可溶性樹脂(A-2)可包含但不限 於含羧酸基或羥基之樹脂，該其他鹼可溶性樹脂(A-2)之具體例可為前述具有不飽和基之樹脂(A-1)以外的丙烯酸樹脂、胺基甲酸酯(urethane)樹脂、酚醛清漆(novolac)樹脂等之鹼可溶性樹脂。
基於鹼可溶性樹脂(A)之使用量為100重量份，其他鹼可 溶性樹脂(A-2)之使用量為0重量份至70重量份，較佳為5重量份至65重量份，且更佳為10重量份至60重量份。
根據本發明之具有乙烯性不飽和基之化合物(B)可包含 具有一個乙烯性不飽和基之化合物(B-1)或具有二個以上(包含二個)之乙烯性不飽和基的化合物(B-2)。
該具有一個乙烯性不飽和基之化合物(B-1)的具體例可 包含但不限於(甲基)丙烯醯胺[(meth)acrylamide]、(甲基)丙烯醯嗎啉、(甲基)丙烯酸-7-胺基-3,7-二甲基辛酯、異丁氧基甲基(甲基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯酸異冰片基氧乙酯、(甲基)丙烯酸異冰片酯、(甲基)丙烯酸-2-乙基己酯、乙基二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、第三辛基(甲基)丙烯醯胺、二丙酮(甲基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯酸二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸十二烷基酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯酯、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯酸四 氯苯酯、(甲基)丙烯酸-2-四氯苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸四氫糠酯[tetrahydrofurfuryl(meth)acrylate]、(甲基)丙烯酸四溴苯酯、(甲基)丙烯酸-2-四溴苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸-2-三氯苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸三溴苯酯、(甲基)丙烯酸-2-三溴苯氧基乙酯、2-羥基-(甲基)丙烯酸乙酯、2-羥基-(甲基)丙烯酸丙酯、乙烯基己內醯胺、氮-乙烯基吡咯烷酮、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸五氯苯酯、(甲基)丙烯酸五溴苯酯、聚單(甲基)丙烯酸乙二酯、聚單(甲基)丙烯酸丙二酯或(甲基)丙烯酸冰片酯等之化合物。該具有一個乙烯性不飽和基之化合物(B-1)可單獨一種或混合複數種使用。
該具有二個以上(包含二個)之乙烯性不飽和基的化合 物(B-2)之具體例可包含但不限於乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二(甲基)丙烯酸二環戊烯酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三(2-羥基乙基)異氰酸二(甲基)丙烯酸酯、三(2-羥基乙基)異氰酸三(甲基)丙烯酸酯、己內酯改質的三(2-羥基乙基)異氰酸三(甲基)丙烯酸酯、三(甲基)丙烯酸三羥甲基丙酯、環氧乙烷(ethylene oxide；EO)改質的三(甲基)丙烯酸三羥甲基丙酯、環氧丙烷(propylene oxide；PO)改質的三(甲基)丙烯酸三羥甲基丙酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、聚酯二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、己內酯改質的二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己內酯改質的二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、四(甲基)丙烯酸二三羥甲基丙酯[di(trimethylolpropane)tetra(meth)acrylate]、經環氧乙烷改質的雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、經環氧丙烷改質的雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、經環 氧乙烷改質的氫化雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、經環氧丙烷改質的氫化雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、經環氧丙烷改質的甘油三(甲基)丙烯酸酯、經環氧乙烷改質的雙酚F二(甲基)丙烯酸酯、酚醛清漆聚縮水甘油醚(甲基)丙烯酸酯或上述化合物之任意組合。該具有二個以上(包含二個)之乙烯性不飽和基的化合物(B-2)可單獨一種或混合複數種使用。
該具有不飽和基之化合物(B)的具體例可包含但不限於 三丙烯酸三羥甲基丙酯、經環氧乙烷改質的三丙烯酸三羥甲基丙酯、經環氧丙烷改質的三丙烯酸三羥甲基丙酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇四丙烯酸酯、己內酯改質的二季戊四醇六丙烯酸酯、四丙烯酸二三羥甲基丙酯、經環氧丙烷改質的甘油三丙烯酸酯或上述化合物之任意組合。
該具有乙烯性不飽和基之化合物(B)較佳可為三丙烯酸 三羥甲基丙酯、二季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯或上述化合物之任意組合。
基於鹼可溶性樹脂(A)之使用量為100重量份，該具有乙 烯性不飽和基之化合物(B)的使用量為20重量份至200重量份，較佳為25重量份至180重量份，且更佳為30重量份至150重量份。
根據本發明之該光起始劑(C)包含一具有式(4)所示結構 之光起始劑(C-1)：
其中，R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及R8彼此獨立地為 氫、C1-C20烷基、、COR16、OR17、鹵素、NO2或 ，或R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7 或R7及R8彼此獨立地為經取代之C2-C10烯基或R1 及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8彼此獨立地共同為-(CH2)P-Y-(CH2)q-； 或R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8 彼此獨立地共同為 但條件為R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或 R7及R8中至少一對係 R9、R10、R11及R12彼此獨立地為氫、C1-C20烷基，該C1-C20烷基未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、苯基、CN、OH、SH、C1-C4-烷氧基、(CO)OH或(CO)O(C1-C4烷基)； 或R9、R10、R11及R12彼此獨立地為未經取代之苯基或經一或多個以下基團取代之苯基：C1-C6烷基、鹵素、CN、OR17、SR18或NR19R20； 或R9、R10、R11及R12彼此獨立地為鹵素、CN、OR17、SR18、SOR18、SO2R18或NR19R20，其中該等取代基OR17、SR18或NR19R20視情況經由基團R17、R18、R19及/或R20與萘基環中一個碳原子形成5員或6員環； 或R9、R10、R11及R12彼此獨立地為、COR16或 NO2；Y係O、S、NR26或直接鍵；p係整數0、1、2或3； q係整數1、2或3；X係CO或直接鍵；R13係C1-C20烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、R17、COOR17、OR17、SR18、CONR19R20、 NR19R20、PO(OCkH2k+1)2或 或R13係C2-C20烷基，其間雜有一或多個O、S、SO、SO2、NR26或CO， 或係C2-C12烯基，其未經間雜或間雜有一或多個O、CO或NR26，其中經間雜之C2-C20烷基及未經間雜或經間雜之C2-C12烯基未經取代或經一或多個鹵素取代； 或R13係C4-C8環烯基、C2-C12炔基或未經間雜或間雜有一或多個O、S、CO或NR26之C3-C10環烷基； 或R13係苯基或萘基，其各未經取代或經一或多個以下基團 取代：OR17、SR18、NR19R20、、COR16、 CN、NO2、鹵素、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、間雜有一或多個O、S、CO或NR26之C2-C20烷基；或其各經C3-C10環烷基或間雜有一或多個O、S、CO或NR26之C3-C10環烷基取代；k係整數1至10；R14係氫、C3-C8環烷基、C2-C5烯基、C1-C20烷氧基或C1-C20烷基，其未經取代或經一或多個鹵素、苯基、C1-C20烷基苯基或CN取代；或R14係苯基或萘基，其各未經取代或經一或多個以下基團取代：C1-C6烷基、C1-C4鹵代烷基、鹵素、CN、OR17、SR18及/或NR19R20；或R14係C3-C20雜芳基、C1-C8烷氧基、苄氧基或苯氧基， 該苄氧基及苯氧基未經取代或經一或多個C1-C6烷基、C1-C4鹵代烷基及/或鹵素取代； R15係C6-C20芳基或C3-C20雜芳基，其各未經取代或經一或多個以下基團取代：苯基、鹵素、C1-C4鹵代烷基、CN、NO2、OR17、SR18、NR19R20、PO(OCkH2k+1)2、SO-C1-C10烷基、SO2-C1-C10烷基、間雜有一或多個O、S或NR26之C2-C20烷基；或其各經C1-C20烷基取代，該C1-C20烷基未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、COOR17、CONR19R20、苯基、C3-C8環烷基、C3-C20雜芳基、C6-C20芳氧基羰基、C3-C20雜芳氧基羰基、OR17、SR18或NR19R20； 或R15係氫、C2-C12烯基、未經間雜或間雜有一或多個O、CO或NR26之C3-C8環烷基； 或R15係C1-C20烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、OR17、SR18、C3-C8環烷基、C3-C20雜芳基、C6-C20芳氧基羰基、C3-C20雜芳氧基羰基、NR19R20、COOR17、 CONR19R20、PO(OCkH2k+1)2、、苯 基；或該C1-C20烷基經苯基取代，該苯基經鹵素、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、OR17、SR18或NR19R20取代； 或R15係C2-C20烷基，其間雜有一或多個O、SO或SO2，且該經間雜之C2-C20烷基未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、OR17、COOR17、CONR19R20、苯基或經OR17、SR18或NR19R20取代之苯基； 或R15係C2-C20烷醯基或苯甲醯基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：C1-C6烷基、鹵素、苯基、OR17、SR18或NR19R20； 或R15係未經取代或經一或多個OR17取代之萘甲醯基或係C3-C14雜芳基羰基；或R15係C2-C12烷氧基羰基，其未經間雜或間雜有一或多個O且該經間雜或未經間雜之C2-C12烷氧基羰基未經取代或經一或多個羥基取代；或R15係苯氧基羰基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：C1-C6烷基、鹵素、C1-C4鹵代烷基、苯基、OR17、SR18或NR19R20；或R15係CN、CONR19R20、NO2、C1-C4鹵代烷基、S(O)m-C1-C6烷基、未經取代或經C1-C12烷基或SO2-C1-C6烷基取代之S(O)m-苯基；或R15係SO2O-苯基，其未經取代或經C1-C12烷基取代；或係二苯基膦醯基或二(C1-C4烷氧基)-膦醯基；m係1或2；R'14具有針對R14所給出含義中之一者；R'15具有針對R15所給出含義中之一者；X1係O、S、SO或SO2；X2係O、CO、S或直接鍵；R16係C6-C20芳基或C3-C20雜芳基，其各未經取代或經一或多個以下基團取代：苯基、鹵素、C1-C4鹵代烷基、CN、NO2、OR17、SR18、NR19R20或間雜有一或多個O、S或NR26之C1-C20烷基；或其各經一或多個C1-C20烷基取代，該C1-C20烷基未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、COOR17、CONR19R20、苯基、C3-C8環烷基、C3-C20雜芳基、C6-C20芳氧基羰基、C3-C20雜芳氧基羰基、OR17、SR18或NR19R20；或R16係氫、C1-C20烷基，該C1-C20烷基未經取代或經一或 多個以下基團取代：鹵素、苯基、OH、SH、CN、C3-C6烯氧基、OCH2CH2CN、OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-苯基、(CO)OH或(CO)O(C1-C4烷基)；或R16係C2-C12烷基，其間雜有一或多個O、S或NR26；或R16係(CH2CH2O)n+1H、(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)、C2-C12烯基或C3-C8環烷基；或R16係經SR18取代之苯基，其中基團R18表示鍵結至其中附接有COR16之咔唑部分之苯基或萘基環的直接鍵；n係1至20；R17係氫、苯基-C1-C3烷基、C1-C20烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、OH、SH、CN、C3-C6烯氧基、OCH2CH2CN、OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(CO)-(C1-C4烷基)、OCO)-(C2-C4)烯基、O(CO)-苯基、(CO)OH、(CO)O(C1-C4烷基)、C3-C20環烷基、SO2-(C1-C4鹵代烷基)、O(C1-C4鹵代烷基)或間雜有一或多個O之C3-C20環烷基；或R17係C2-C20烷基，其間雜有一或多個O、S或NR26；或R17係(CH2CH2O)n+1H、(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)、C1-C8烷醯基、C2-C12烯基、C3-C6烯醯基或未經間雜或間雜有一或多個O、S、CO或NR26之C3-C20環烷基；或R17係C1-C8烷基-C3-C10環烷基，其未經間雜或間雜有一或多個O；或R17係苯甲醯基，其未經取代或經一或多個C1-C6烷基、鹵素、OH或C1-C3烷氧基取代；或R17係苯基、萘基或C3-C20雜芳基，其各未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、OH、C1-C12烷基、C1-C12烷氧基、CN、NO2、苯基-C1-C3烷氧基、苯氧基、C1-C12烷基硫 基、苯基硫基、N(C1-C12烷基)2、二苯基-胺基或 或R17形成鍵結至其上具有基團或 之苯基或萘基環之一個碳原子之直接鍵；R18係氫、C2-C12烯基、C3-C20環烷基或苯基-C1-C3烷基，其中C2-C12烯基、C3-C20環烷基或苯基-C1-C3烷基未經間雜或間雜有一或多個O、S、CO、NR26或COOR17；或R18係C1-C20烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：OH、SH、CN、C3-C6烯氧基、OCH2CH2CN、OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(CO)-(C2-C4)烯基、O(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-苯基或(CO)OR17；或R18係C2-C20烷基，其間雜有一或多個O、S、CO、NR26或COOR17；或R18係(CH2CH2O)nH、(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)、C2-C8烷醯基或C3-C6烯醯基；或R18係苯甲醯基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：C1-C6烷基、鹵素、OH、C1-C4烷氧基或C1-C4烷基硫基；或R18係苯基、萘基或C3-C20雜芳基，其各未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、C1-C12烷基、C1-C4鹵代烷基、C1-C12烷氧基、CN、NO2、苯基-C1-C3烷氧基、苯氧基、C1-C12烷基硫基、苯基硫基、N(C1-C12烷基)2、二苯基胺基、(CO)O(C1-C8烷基)、(CO)-C1-C8烷基、(CO)N(C1-C8烷基)2或 R19及R20彼此獨立地為氫、C1-C20烷基、C2-C4羥基烷基、 C2-C10烷氧基烷基、C2-C5烯基、C3-C20環烷基、苯基-C1-C3烷基、C1-C8烷醯基、C1-C8烷醯基氧基、C3-C12烯醯基、SO2-(C1-C4鹵代烷基)或苯甲醯基；或R19及R20係苯基、萘基或C3-C20雜芳基，其各未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、C1-C4鹵代烷基、C1-C20烷氧基、C1-C12烷基、苯甲醯基或C1-C12烷氧基； 或R19及R20與其所附接之N原子一起形成未經間雜或間雜有O、S或NR17之5員或6員飽和或不飽和環，且該5員或6員飽和或不飽和環未經取代或經一或多個以下基團取代：C1-C20烷基、C1-C20烷氧基、=O、OR17、SR18、NR21R22、(CO)R23、 NO2、鹵素、C1-C4-鹵代烷基、CN、苯基、或 C3-C20環烷基，該C3-C20環烷基未經間雜或間雜有一或多個O、S、CO或NR17； 或R19及R20與其所附接之N原子一起形成雜芳香族環系統，該環系統未經取代或經一或多個以下基團取代：C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、C1-C20烷氧基、=O、OR17、SR18、 NR21R22、(CO)R23、、鹵素、NO2、CN、苯基 或C3-C20環烷基，該C3-C20環烷基未經間雜或間雜有一或多個O、S、CO或NR17；R21及R22彼此獨立地為氫、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、C3-C10環烷基或苯基；或R21及R22與其所附接之N原子一起形成未經間雜或間雜有O、S或NR26之5員或6員飽和或不飽和環，且該5員或6員飽和或不飽和環未稠合或該5員或6員飽和或不飽和環係與苯環稠合；R23係氫、OH、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、間雜有一或 多個O、CO或NR26之C2-C20烷基、未經間雜或間雜有O、S、CO或NR26之C3-C20環烷基，或R23係苯基、萘基、苯基-C1-C4烷基、OR17、SR18或NR21R22；R24係(CO)OR17、CONR19R20、(CO)R17；或R24具有針對R19及R20所給出含義中之一者； R25係COOR17、CONR19R20、(CO)R17；或R25具有針對R17所給出含義中之一者；R26係氫、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、間雜有一或多個O或CO之C2-C20烷基；或係苯基-C1-C4烷基、未經間雜或間雜有一或多個O或CO之C3-C8環烷基；或係(CO)R19；或係苯基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：C1-C20烷基、鹵素、C1-C4鹵代烷基、OR17、SR18、NR19R20或 但條件為在該分子中存在至少一個基團或
該具有式(4)所示結構之光起始劑(C-1)之特徵在於其在咔唑部分上包含一或多個成環(annelated)不飽和環。換言之，R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8中至少一對係
在一具體例中，該具有式(4)所示結構之光起始劑(C-1)，該C1-C20烷基係直鏈或支鏈且係(例如)C1-C18-、C1-C4-、C1-C12-、C1-C8-、C1-C8-或C1-C4烷基或C4-C12-或C4-C8烷基。實例係甲基、乙基、丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、異丁基、第三丁基、戊基、己基、庚基、2,4,4-三甲基戊基、2-乙基己基、辛基、壬基、癸基、十二基、十四基、十五基、十六基、十八基及二十基。 C1-C6烷基具有與上文針對C1-C20烷基所給出相同之含義且具有最高相應C原子數。
該含有一或多個C-C多重鍵之未經取代或經取代之C1-C20烷基係指如下文所解釋之烯基。
該C1-C4鹵代烷基係如下文所定義經鹵素取代之如上文所定義C1-C4烷基。烷基基團係(例如)單-或多鹵化，直至所有H-原子替換為鹵素。其係(例如)CnHxHaly，其中x+y=2n+1且Hal係鹵素，較佳為F。具體實例係氯甲基、三氯甲基、三氟甲基或2-溴丙基，尤其為三氟甲基或三氯甲基。C2-C4羥基烷基意指經一或兩個O原子取代之C2-C4烷基。烷基基團係直鏈或支鏈。實例係2-羥基乙基、1-羥基乙基、1-羥基丙基、2-羥基丙基、3-羥基丙基、1-羥基丁基、4-羥基丁基、2-羥基丁基、3-羥基丁基、2,3-二羥基丙基或2,4-二羥基丁基。C2-C10烷氧基烷基係間雜有一個O原子之C2-C10烷基。C2-C10烷基具有與上文針對C1-C20烷基所給出相同之含義且具有最高相應C原子數。實例係甲氧基甲基、甲氧基乙基、甲氧基丙基、乙氧基甲基、乙氧基乙基、乙氧基丙基、丙氧基甲基、丙氧基乙基、丙氧基丙基。
該間雜有一或多個O、S、NR26或CO之C2-C20烷基經O、S、NR26或CO間雜(例如)1至9次、1至5次、1至3次或1次或2次。若存在一個以上間雜基團，則其為相同種類或不同。該兩個O原子由至少一個亞甲基、較佳至少兩個亞甲基(即伸乙基)隔開。該等烷基係直鏈或支鏈。舉例而言，將存在以下結構單元：-CH2-CH2-O-CH2CH3、-[CH2CH2O]y-CH3(其中y=1至9)、-(CH2-CH2O)7-CH2CH3、-CH2-CH(CH3)-O-CH2-CH2CH3、-CH2-CH(CH3)-O-CH2-CH3、-CH2-CH2-S-CH2CH3、-CH2-CH(CH3)-NR26-CH2-CH3、-CH2-CH2-COO-CH2CH3或-CH2-CH(CH3)-OCO-CH2-CH2CH3。
該C3-C10環烷基、C3-C10環烷基及C3-C8環烷基在本申 請案上下文中應理解為至少包含一個環之烷基。其係(例如)環丙基、環丁基、環戊基、環己基、環辛基、戊基環戊基及環己基。C3-C10環烷基在本發明上下文中亦意欲涵蓋二環，換言之，橋聯環，例 如及相應環。其他實例係諸如 (例如)或等結構、以及橋 聯或稠合環系統，舉例而言，該術語亦意欲涵蓋 等。
該間雜有O、S、CO、NR26之C3-C20環烷基具有上文 給出之含義，其中烷基中至少一個CH2-基團替換為O、S、CO或 NR26。實例係諸如(例如 或等結構。
該C1-C8烷基-C3-C10環烷基係經一或多個具有最多8個 碳原子之烷基取代的如上文所定義之C3-C10環烷基。實例係 等。
該間雜有一或多個O之C1-C8烷基-C3-C10環烷基係經一或多個具有最多8個碳原子之烷基取代的如上文所定義之O間雜C3- C10環烷基。實例係等。
該C1-C12烷氧基係經一個O原子取代之C1-C12烷基。C1-C12烷基具有與上文針對C1-C20烷基所給出相同之含義且具有最高相應C原子數。該C1-C4烷氧基係直鏈或支鏈，例如甲氧基、乙氧 基、丙氧基、異丙氧基、正丁氧基、第二丁氧基、異丁氧基或第三丁氧基。C1-C8烷氧基及C1-C4-烷氧基具有與上文所述相同之含義且具有最高相應C原子數。
該C1-C12烷基硫基係經一個S原子取代之C1-C12烷基。 C1-C20烷基具有與上文針對C1-C20烷基所給出相同之含義且具有最高相應C原子數。該C1-C4烷基硫基係直鏈或支鏈，例如甲基硫基、乙基硫基、丙基硫基、異丙基硫基、正丁基硫基、第二丁基硫基、異丁基硫基、第三丁基硫基。
該苯基-C1-C3烷基係(例如)苄基、苯基乙基、α-甲基苄 基或α,α-二甲基-苄基，尤其為苄基。
該苯基-C1-C3烷氧基係(例如)苄氧基、苯基乙氧基、α- 甲基苄氧基或α,α-二甲基苄氧基，尤其為苄氧基。
該C2-C12烯基係單-或多不飽和且係(例如)C2-C10-、C2- C8-、C2-C5-烯基，例如乙烯基、烯丙基、甲基烯丙基、1,1-二甲基烯丙基、1-丁烯基、3-丁烯基、2-丁烯基、1,3-戊二烯基、5-己烯基、7-辛烯基或十二烯基，尤其為烯丙基。C2-C5烯基具有與上文針對C2-C12烯基所給出相同之含義且具有最高相應C原子數。
該間雜有一或多個O、CO或NR26之C2-C12烯基經O、 S、NR26或CO間雜(例如)1至9次、1至5次、1至3次或1次或2次。若存在一個以上間雜基團，則其為相同種類或不同。該兩個O原子由至少一個亞甲基、較佳至少兩個亞甲基(即伸乙基)隔開。該烯基係直鏈或支鏈且如上文所定義。舉例而言，可形成以下結構單元：-CH=CH-O-CH2CH3、-CH=CH-O-CH=CH2等。
該C4-C8環烯基具有一或多個雙鍵且係(例如)C4-C6- 環烯基或C6-C8-環烯基。實例係環丁烯基、環戊烯基、環己烯基或環辛烯基，尤其為環戊烯基及環己烯基，較佳為環己烯基。
該C3-C6烯氧基係單或多不飽和且具有上文針對烯基所 給出含義中之一者，且附接氧基具有最高相應C原子數。實例係烯丙氧基、甲基烯丙氧基、丁烯氧基、戊烯氧基、1,3-戊二烯氧基、5-己烯氧基。
該C2-C12炔基係單或多不飽和直鏈或支鏈且係(例如) C2-C8-、C2-C6-或C2-C4炔基。實例係乙炔基、丙炔基、丁炔基、1-丁炔基、3-丁炔基、2-丁炔基、戊炔基己炔基、2-己炔基、5-己炔基、辛炔基等。
該C2-C20烷醯基係直鏈或支鏈且係(例如)C2-C18-、 C2-C14-、C2-C12-、C2-C8-、C2-C6-或C2-C4烷醯基或C4-C12-或C4-C8烷醯基。實例係乙醯基、丙醯基、丁醯基、異丁醯基、戊醯基、己醯基、庚醯基、辛醯基、壬醯基、癸醯基、十二醯基、十四醯基、十五醯基、十六醯基、十八醯基、二十醯基，較佳為乙醯基。C1-C8烷醯基具有與上文針對C2-C20烷醯基所給出相同之含義且具有最高相應C原子數。
該C2-C12烷氧基羰基係直鏈或支鏈且係(例如)甲氧基 羰基、乙氧基羰基、丙氧基羰基、正丁氧基羰基、異丁氧基羰基、1,1-二甲基丙氧基羰基、戊氧基羰基、己氧基羰基、庚氧基羰基、辛氧基羰基、壬氧基羰基、癸氧基羰基或十二氧基羰基，尤其為甲氧基羰基、乙氧基羰基、丙氧基羰基、正丁氧基羰基或異丁氧基羰基，較佳為甲氧基羰基。
該間雜有一或多個O之C2-C12烷氧基羰基係直鏈或支 鏈。兩個O原子由至少兩個亞甲基(即伸乙基)隔開。該經間雜之烷氧基羰基未經取代或經一或多個羥基取代。該C6-C20芳氧基羰基係(例如)苯基氧基羰基[=苯基-O-(CO)-]、萘氧基羰基、蒽氧基羰基等。C5-C20雜芳氧基羰基係C5-C20雜芳基-O-CO-。
該C3-C10環烷基羰基係C3-C10環烷基-CO-，其中環烷 基具有上文所示含義中之一者且具有最高相應C原子數。該間雜有一或多個O、S、CO、NR26之C3-C10環烷基羰基係指經間雜環烷基-CO-，其中經間雜環烷基係如上文所述所定義。
該C3-C10環烷氧基羰基係C3-C10環烷基-O-(CO)-，其 中環烷基具有上文所示含義中之一者且具有最高相應C原子數。間雜有一或多個O、S、CO、NR26之C3-C10環烷氧基羰基係指經間雜環烷基-O-(CO)-，其中經間雜環烷基係如上文所述所定義。
該C1-C20烷基苯基係指經一或多個烷基取代之苯基，其 中C原子之總和最多為20。
該C6-C20芳基係(例如)苯基、萘基、蒽基、菲基、芘 基、基、并四苯基、聯伸三苯基等，尤其為苯基或萘基，較佳為苯基。萘基係1-萘基或2-萘基。
在本發明上下文中，該C3-C20雜芳基意欲包含單環或多 環系統，例如稠合環系統。實例係噻吩基、苯并[b]噻吩基、萘并[2,3-b]噻吩基、噻蒽基、呋喃基、二苯并呋喃基、唏基、呫噸基、噻噸基、啡噁噻基、吡咯基、咪唑基、吡唑基、吡嗪基、嘧啶基、噠嗪基、中氮茚基、異吲哚基、吲哚基、吲唑基、嘌呤基、喹嗪基、異喹啉基、喹啉基、酞嗪基、萘啶基、喹噁啉基、喹唑啉基、啉基、喋啶基、咔唑基、β-哢啉基、菲啶基、吖啶基、萘嵌間二氮苯基、菲咯啉基、吩嗪基、異噻唑基、吩噻嗪基、異噁唑基、呋呫基、吩噁基、7-菲基、蒽醌-2-基(=9,10-二側氧基-9,10-二氫蒽-2-基)、3-苯并[b]噻吩基、5-苯并[b]噻吩基、2-苯并[b]噻吩基、4-二苯并呋喃基、4,7-二苯并呋喃基、4-甲基-7-二苯并呋喃基、2-呫噸基、8-甲基-2-呫噸基、3-呫噸基、2-啡噁噻基、2,7-啡噁噻基、2-吡咯基、3-吡咯基、5-甲基-3-吡咯基、2-咪唑基、4-咪唑基、5-咪唑基、2-甲基-4-咪唑 基、2-乙基-4-咪唑基、2-乙基-5-咪唑基、1H-四唑-5-基、3-吡唑基、1-甲基-3-吡唑基、1-丙基-4-吡唑基、2-吡嗪基、5,6-二甲基-2-吡嗪基、2-中氮茚基、2-甲基-3-異吲哚基、2-甲基-1-異吲哚基、1-甲基-2-吲哚基、1-甲基-3-吲哚基、1,5-二甲基-2-吲哚基、1-甲基-3-吲唑基、2,7-二甲基-8-嘌呤基、2-甲氧基-7-甲基-8-嘌呤基、2-喹嗪基、3-異喹啉基、6-異喹啉基、7-異喹啉基、3-甲氧基-6-異喹啉基、2-喹啉基、6-喹啉基、7-喹啉基、2-甲氧基-3-喹啉基、2-甲氧基-6-喹啉基、6-酞嗪基、7-酞嗪基、1-甲氧基-6-酞嗪基、1,4-二甲氧基-6-酞嗪基、1,8-萘啶-2-基、2-喹噁啉基、6-喹噁啉基、2,3-二甲基-6-喹噁啉基、2,3-二甲氧基-6-喹噁啉基、2-喹唑啉基、7-喹唑啉基、2-二甲基胺基-6-喹唑啉基、3-啉基、6-啉基、7-啉基、3-甲氧基-7-啉基、2-喋啶基、6-喋啶基、7-喋啶基、6,7-二甲氧基-2-喋啶基、2-咔唑基、3-咔唑基、9-甲基-2-咔唑基、9-甲基-3-咔唑基、β-哢啉-3-基、1-甲基-β-哢啉-3-基、1-甲基-β-哢啉-6-基、3-菲啶基、2-吖啶基、3-吖啶基、2-萘嵌間二氮苯基、1-甲基-5-萘嵌間二氮苯基、5-菲咯啉基、6-菲咯啉基、1-吩嗪基、2-吩嗪基、3-異噻唑基、4-異噻唑基、5-異噻唑基、2-吩噻嗪基、3-吩噻嗪基、10-甲基-3-吩噻嗪基、3-異噁唑基、4-異噁唑基、5-異噁唑基、4-甲基-3-呋呫基、2-吩噁基、10-甲基-2-吩噁基等。
該C3-C20雜芳基尤其為噻吩基、苯并[b]噻吩基、噻蒽基、噻噸基、1-甲基-2-吲哚基或1-甲基-3-吲哚基；尤其為噻吩基。
該C4-C20雜芳基羰基係經由CO基團連接至分子其餘部分之如上文所定義C3-C20雜芳基。
該經取代之芳基(苯基、萘基、C6-C20芳基或C5-C20雜芳基)係分別經1至7次、1至6次或1至4次、尤其1次、2次或3次取代。顯而易見，所定義芳基不能具有比芳基環處之自由位置為多之取 代基。
該苯基環上之取代基較佳在苯基環上之位置4中或呈 3,4-、3,4,5-、2,6-、2,4-或2,4,6-組態。
該間雜1次或多次之經間雜基團間雜(例如)1至19次、1 至15次、1至12次、1至9次、1至7次、1至5次、1至4次、1至3次或1次或2次(顯而易見，間雜原子數取決於擬間雜之C原子數)。經1次或多次取代之經取代基團具有(例如)1至7個、1至5個、1至4個、1至3個或1個或2個相同或不同取代基。
該經一或多個所定義取代基取代之基團意欲具有一個取代基或多個如所給出相同或不同定義之取代基。鹵素係氟、氯、溴及碘，尤其為氟、氯及溴，較佳為氟及氯。若R1及R2、R2及R3、R3及 R4或R5及Re、R6及R7、R7及R8彼此獨立地共同為；則形 成(例如)以下結構(Ia)-I(i)： 亦或(例如)諸 如(Id)-(Ih)等結構：
較佳者係結構(Ia)。
該具有式(4)所示結構之光起始劑(C-1)之特徵在於至少一個苯基環與咔唑部分稠合以形成「萘基」環。亦即上述結構中之一者係以式(C-1)所示結構給出。
若R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8彼此獨立地共同為-(CH2)P-Y-(CH2)q-，則形成(例如)諸如 等結構。
若苯基或萘基環上之取代基OR17、SR18、SOR18、 SO2R18或NR19R20經由基團R17、R18、R19及/或R20與萘基環之一個碳原子形成5員或6員環，則獲得包含3個或更多個環(包括萘基環)之結構。
實例係
等。
若R17形成鍵結至其上具有基團或 之苯基或萘基環之一個碳原子之直接鍵，則形成(例 如)諸如等結構。
若R16係經SR18取代之苯基，其中基團R19表示鍵結至其中附接有COR16基團之咔唑部分之苯基或萘基環的直接鍵，則形成 (例如)諸如 等結構。亦即，若R16係經SR18取代之苯基，其中基團R18表示鍵結至其中附接有COR16基團之咔唑部分之苯基或萘基環的直接鍵，則噻噸 基部分與咔唑部分之一個苯基或萘基環一起形成。
若R19及R20與其所附接之N原子一起形成視情況間雜有 O、S或NR17之5員或6員飽和或不飽和環，則形成飽和或不飽和環，例如氮丙啶、吡咯、噻唑、吡咯啶、噁唑、吡啶、1,3-二嗪、1,2-二嗪、六氫吡啶或嗎啉。較佳地，若R19及R20與其所附接之N原子一起形成視情況間雜有O、S或NR17之5員或6員飽和或不飽和環，則形成未經間雜或間雜有O或NR17、尤其O之5員或6員飽和環。
若R21及R22與其所附接之N原子一起形成視情況間雜有O、S或NR26之5員或6員飽和或不飽和環，且苯環視情況與該飽和或不飽和環稠合，則形成飽和或不飽和環，例如氮丙啶、吡咯、噻唑、吡咯啶、噁唑、吡啶、1,3-二嗪、1,2-二嗪、六氫吡啶或嗎啉或相應 成環環(例如)等。
若R19及R20與其所附接之N原子一起形成雜芳香族環系統，則該環系統意欲包含一個以上環(例如2個或3個環)以及來自相同種類或不同種類之一個或一個以上雜原子。適宜雜原子係(例如)N、S、O或P、尤其N、S或O。實例係咔唑、吲哚、異吲哚、吲唑、嘌呤、異喹啉、喹啉、哢啉、吩噻嗪等。
術語「及/或」或「或/及」在本發明上下文中意欲表達不僅可存在所定義替代物(取代基)中之一者，而且可存在總共若干所定義替代物(取代基)，即不同替代物(取代基)之混合物。
術語「至少」意欲定義一者或一者以上，例如一者或兩者或三者、較佳一者或兩者。
術語「視情況經取代」意指其提及之基團未經取代或經取代。
術語「視情況經間雜」意指其提及之基團未經雜或經間 雜。
在整個本說明書及下文之申請專利範圍中，除非上下文 另有要求，否則詞語「包含(comprise)」或變體(例如，「comprises」或「comprising」)應理解為暗指包括所述整數或步驟或整數群組或步驟群組，但並不排除任一其他整數或步驟或整數群組或步驟群組。術語「(甲基)丙烯酸酯」在本申請案上下文中意欲指丙烯酸酯以及相應甲基丙烯酸酯。
本發明上下文中用於本發明化合物之文字中所示較佳者意欲指所有申請專利範圍類別，亦即亦指針對組合物、用途、方法、彩色濾光片等之申請專利範圍。
該具有式(4)所示結構之光起始劑(C-1)係藉由文獻中所述方法來製備，例如藉由在以下條件下使相應肟與醯鹵、尤其氯化物或酸酐反應：在惰性溶劑(例如第三丁基甲基醚、四氫呋喃(THF)或二甲基甲醯胺)中，在鹼(例如三乙胺或吡啶)存在時，或在鹼性溶劑(例如吡啶)中。在下文中作為實例，闡述式Ia化合物之製備，其中R7係肟酯基團且X係直接鍵係[自適當肟開始實施化合物(Ib)-(Ih)之反應]：
R1、R2、R5、R6、R8、R13、R14及R15係如上文所定義，Hal意指鹵素原子、尤其Cl。
R14較佳為甲基。
此等反應為彼等熟習此項技術者所熟知，且通常在-15℃至+50℃、較佳0至25℃之溫度下實施。
當X係CO時，相應肟係藉由用亞硝酸烷基酯(例如亞硝酸甲酯、亞硝酸乙酯、亞硝酸丙酯、亞硝酸丁酯或亞硝酸異戊酯)將亞甲基亞硝化來合成。然後，酯化係在與上文所述相同之條件下實施：
因此，本發明之標的亦係藉由在鹼或鹼之混合物存在下使相應肟化合物與式(a)之醯鹵或式(b)之酸酐反應來製備如上文所定義該具有式(4)所示結構之光起始劑(C-1)之方法。
其中Hal係鹵素、尤其Cl，且R14係如上文所定義。
所需作為起始材料之肟可藉由標準化學教材(例如J.March,Advanced Organic Chemistry，第4版，Wiley Interscience，1992)或專著(例如S.R.Sandler & W.Karo,Organic functional group preparations，第3卷，Academic Press)中所述多種方法來獲得。
最便利的一種方法係(例如)在極性溶劑(例如二甲基乙醯胺(DMA)、DMA水溶液、乙醇或乙醇水溶液)中使醛或酮與羥胺或其鹽反應。在此情形下，添加諸如乙酸鈉或吡啶等鹼來控制反應混合物之pH。眾所周知，反應速度具有pH依賴性，且可在開始時或在反應期間連續地添加鹼。亦可使用諸如吡啶等鹼性溶劑作為鹼及/或溶劑或共溶劑。反應溫度通常為室溫至混合物之回流溫度，一般為約20℃至120℃。
相應酮中間體係(例如)藉由文獻(例如標準化學教材，例如J.March,Advanced Organic Chemistry，第4版，Wiley Interscience，1992)中所述方法來製備。另外，連續弗裏德-克拉夫茨反應(Friedel-Crafts reaction)可有效用於合成中間體。此等反應為彼等熟習此項技術者所熟知。
肟之另一便利合成係用亞硝酸或亞硝酸烷基酯將「活性」亞甲基亞硝化。鹼性條件(如(例如)Organic Syntheses coll.第VI卷(J.Wiley & Sons,New York,1988)，第199頁及第840頁中所述)與酸性條件(如)例如)Organic Synthesis coll.第V卷，第32頁及第373頁，coll.第III卷，第191頁及第513頁，coll.第II卷，第202頁、第204頁及第363頁中所述)二者適於製備在本發明中用作起始材料之肟。一般自亞硝酸鈉產生亞硝酸。亞硝酸烷基酯可為(例如)亞硝酸甲酯、亞硝酸乙酯、亞硝酸丙酯、亞硝酸丁酯或亞硝酸異戊酯。
本發明另一實施例係具有游離式(IA)所示結構之光起始劑(C-1)：
其中，R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及R8彼此獨立地為 氫、C1-C20烷基、、COR16、OR17、鹵素、NO2或 彼此獨立地為經取代之C2-C10烯基； 或R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8 或R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8彼此獨立地共同為-(CH2)P-Y-(CH2)q-；或R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8 彼此獨立地共同為 R7及R8中至少一對係，R9、R10、R11及R12彼此獨 但條件為R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或 立地為氫、C1-C20烷基，該C1-C20烷基未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、苯基、CN、OH、SH、C1-C4-烷氧基、(CO)OH或(CO)O(C1-C4烷基)；或R9、R10、R11及R12彼此獨立地為未經取代之苯基或經一或多個以下基團取代之苯基：C1-C6烷基、鹵素、CN、OR17、SR18或NR19R20；或R9、R10、R11及R12彼此獨立地為鹵素、CN、OR17、SR18、SOR18、SO2R18或NR19R20，其中該等取代基OR17、SR18或NR19R20視情況經由基團R17、R18、R19及/或R20與萘基環中一個碳原子形成5員或6員環； 或R9、R10、R11及R12彼此獨立地為、COR16或 NO2；Y係O、S、NR26或直接鍵；p係整數0、1、2或3；q係整數1、2或3；X係CO或直接鍵；R13係C1-C20烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、R17、COOR17、OR17、SR18、CONR19R20、 NR19R20、PO(OCkH2k+1)2或 或R13係C2-C20烷基，其間雜有一或多個O、S、SO、SO2、NR26或CO，或係C2-C12烯基，其未經間雜或間雜有一或多個O、CO或NR26，其中經間雜之C2-C20烷基及未經間雜或經間雜之C2-C12烯基未經取代或經一或多個鹵素取代；或R13係C4-C8環烯基、C2-C12炔基或C3-C10環烷基，其未經間雜或間雜有一或多個O、S、CO或NR26；或R13係苯基或萘基，其各未經取代或經一或多個以下基團 取代：OR17、SR18、NR19R20、、COR16、CN、 NO2、鹵素、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、C2-C20烷基，其間雜有一或多個O、S、CO或NR26；或其各經C3-C10環烷基或間雜有一或多個O、S、CO或NR26之C3-C10環烷基取代；k係整數1至10；R15係C6-C20芳基或C3-C20雜芳基，其各未經取代或經一或多個以下基團取代：苯基、鹵素、C1-C4鹵代烷基、CN、NO2、OR17、SR18、NR19R20、PO(OCkH2k+1)2、SO-C1-C10烷基、SO2-C1-C10烷基、間雜有一或多個O、S或NR26之C2-C20烷基；或其各經C1-C20烷基取代，該C1-C20烷基未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、COOR17、CONR19R20、苯基、C3-C8環烷基、C3-C20雜芳基、C6-C20芳氧基羰基、C3-C20雜芳氧基羰基、OR17、SR18或NR19R20；或R15係氫、C2-C12烯基、C3-C8環烷基，其未經間雜或間雜有一或多個O、CO或NR26；或R15係C1-C20烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、OR17、SR18、C3-C8環烷基、C3-C20雜芳基、C6-C20芳氧基羰基、C3-C20雜芳氧基羰基、NR19R20、COOR17、 CONR19R20、PO(OCkH2k+1)2、、苯基；或 該C1-C20烷基經苯基取代，該苯基經鹵素、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、OR17、SR18或NR19R20取代；或R15係C2-C20烷基，其間雜有一或多個O、SO或SO2，且該經間雜之C2-C20烷基未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、OR17、COOR17、CONR19R20、苯基或經OR17、SR18或NR19R20取代之苯基；或R15係C2-C20烷醯基或苯甲醯基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：C1-C6烷基、鹵素、苯基、OR17、SR18或NR19R20；或R15係未經取代或經一或多個OR17取代之萘甲醯基或係C3-C14雜芳基羰基；或R15係C2-C12烷氧基羰基，其未經間雜或間雜有一或多個O且該經間雜或未經間雜之C2-C12烷氧基羰基未經取代或經一或多個羥基取代；或R15係苯氧基羰基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：C1-C6烷基、鹵素、C1-C4鹵代烷基、苯基、OR17、SR18或NR19R20；或R15係CN、CONR19R20、NO2、C1-C4鹵代烷基、S(O)m-C1-C6烷基、未經取代或經C1-C12烷基或SO2-C1-C6烷基取代之S(O)m-苯基；或R15係SO2O-苯基，其未經取代或經C1-C12烷基取代；或係二苯基膦醯基或二(C1-C4烷氧基)-膦醯基；m係1或2；R'15具有針對R15所給出含義中之一者；X1係O、S、SO或SO2；X2係O、CO、S或直接鍵； R16係C6-C20芳基或C3-C20雜芳基，其每一者未經取代或經一或多個以下基團取代：苯基、鹵素、C1-C4鹵代烷基、CN、NO2、OR17、SR18、NR19R20或間雜有一或多個O、S或NR26之C1-C20烷基；或其每一者經一或多個C1-C20烷基取代，該C1-C20烷基未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、COOR17、CONR19R20、苯基、C3-C8環烷基、C3-C20雜芳基、C6-C20芳氧基羰基、C3-C20雜芳氧基羰基、OR17、SR18或NR19R20；或R16係氫、未經取代或經一或多個以下基團取代之C1-C20烷基：鹵素、苯基、OH、SH、CN、C3-C6烯氧基、OCH2CH2CN、OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-苯基、(CO)OH或(CO)O(C1-C4烷基)；或R16係間雜有一或多個O、S或NR26之C2-C12烷基；或R16係(CH2CH2O)n+1H、(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)、C2-C12烯基或C3-C8環烷基；或R16係經SR18取代之苯基，其中基團R18表示鍵結至其中附接有COR16基團之咔唑部分之苯基或萘基環的直接鍵；n係1至20；R17係氫、苯基-C1-C3烷基、C1-C20烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、OH、SH、CN、C3-C6烯氧基、OCH2CH2CN、OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-(C2-C4)烯基、O(CO)-苯基、(CO)OH、(CO)O(C1-C4烷基)、SO2-(C1-C4鹵代烷基)、O(C1-C4鹵代烷基)、C3-C20環烷基或間雜有一或多個O之C3-C20環烷基；或R17係C2-C20烷基，其間雜有一或多個O、S或NR26；或R17係(CH2CH2O)n+1H、(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)、C1-C8烷醯基、C2-C12烯基、C3-C6烯醯基或C3-C20環烷基，其未經間雜或間雜有一或多個O、S、CO或NR26； 或R17係C1-C8烷基-C3-C10環烷基，其未經間雜或間雜有一或多個O；或R17係苯甲醯基，其未經取代或經一或多個C1-C6烷基、鹵素、OH或C1-C3烷氧基取代；或R17係苯基、萘基或C3-C20雜芳基，其各未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、OH、C1-C12烷基、C1-C12烷氧基、CN、NO2、苯基-C1-C3烷氧基、苯氧基、C1-C12烷基硫基、苯基 硫基、N(C1-C12烷基)2、二苯基-胺基或 或R17形成鍵結至其上具有基團或之苯基 或萘基環之一個碳原子之直接鍵；R18係氫、C2-C12烯基、C3-C20環烷基或苯基-C1-C3烷基，其中C2-C12烯基、C3-C20環烷基或苯基-C1-C3烷基未經間雜或間雜有一或多個O、S、CO、NR26或COOR17；或R18係C1-C20烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：OH、SH、CN、C3-C6烯氧基、OCH2CH2CN、OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(CO)-(C2-C4)烯基、O(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-苯基或(CO)OR17；或R18係C2-C20烷基，其間雜有一或多個O、S、CO、NR26或COOR17；或R18係(CH2CH2O)nH、(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)、C2-C8烷醯基或C3-C6烯醯基；或R18係苯甲醯基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：C1-C6烷基、鹵素、OH、C1-C4烷氧基或C1-C4烷基硫基；或R18係苯基、萘基或C3-C20雜芳基，其各未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、C1-C12烷基、C1-C4鹵代烷基、C1-C12烷氧基、CN、NO2、苯基-C1-C3烷氧基、苯氧基、C1- C12烷基硫基、苯基硫基、N(C1-C12烷基)2、二苯基胺基、(CO)O(C1-C8烷基)、(CO)-C1-C8烷基、(CO)N(C1-C8烷基)2或 R19及R20彼此獨立地為氫、C1-C20烷基、C2-C4羥基烷基、C2-C10烷氧基烷基、C2-C5烯基、C3-C20環烷基、苯基-C1-C3烷基、SO2-(C1-C4鹵代烷基)、C1-C8烷醯基、C1-C8烷醯基氧基、C3-C12烯醯基或苯甲醯基；或R19及R20係苯基、萘基或C3-C20雜芳基，其各未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、C1-C4鹵代烷基、C1-C20烷氧基、C1-C12烷基、苯甲醯基或C1-C12烷氧基；或R19及R20與其所附接之N原子一起形成未經間雜或間雜有O、S或NR17之5員或6員飽和或不飽和環，且該5員或6員飽和或不飽和環未經取代或經一或多個以下基團取代：C1-C20烷基、C1-C20烷氧基、=O、OR17、SR18、NR21R22、(CO)R23、 NO2、鹵素、C1-C4-鹵代烷基、CN、苯基、或C3-C20 環烷基，該C3-C20環烷基未經間雜或間雜有一或多個O、S、CO或NR17；或R19及R20與其所附接之N原子一起形成雜芳香族環系統，該環系統未經取代或經一或多個以下基團取代：C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、C1-C20烷氧基、=O、OR17、SR18、 NR21R22、(CO)R23、、鹵素、NO2、CN、苯基或C3- C20環烷基，該C3-C20環烷基未經間雜或間雜有一或多個O、S、CO或NR17；R21及R22彼此獨立地為氫、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、C3-C10環烷基或苯基；或R21及R22與其所附接之N原子一起形成未經間雜或間雜有 O、S或NR26之5員或6員飽和或不飽和環，且該5員或6員飽和或不飽和環未稠合或該5員或6員飽和或不飽和環係與苯環稠合；R23係氫、OH、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、間雜有一或多個O、CO或NR26之C2-C20烷基、未經間雜或間雜有O、S、CO或NR26之C3-C20環烷基，或R23係苯基、萘基、苯基-C1-C4烷基、OR17、SR18或NR21R22；R24係(CO)OR17、CONR19R20、(CO)R17；或R24具有針對R19及R20所給出含義中之一者；R25係COOR17、CONR19R20、(CO)R17；或R25具有針對R17所給出含義中之一者；R26係氫、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、C2-C20烷基，其間雜有一或多個O或CO；或係苯基-C1-C4烷基、C3-C8環烷基，其未經間雜或間雜有一或多個O或CO；或係(CO)R19；或係苯基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：C1-C20烷基、鹵素、C1-C4鹵代烷基、OR17、SR18、 NR19R20或 但條件為在該分子中存在至少一個基團或
針對式(IA)所示結構之光起始劑(C-1)所定義基團之較佳者對應於如針對如下文所給出式(4)所示結構之光起始劑(C-1)給出 者，只是每一所定義肟酯基團(例如)皆替換為相應游離肟 基團
每一肟酯基團可以兩種構型(Z)或(E)存在。可藉由習用方法來分離異構體，但亦可使用異構體混合物作為(例如)光起始物質。因此，本發明亦係關於式(4)所示結構之光起始劑(C-1)之構型異構體之混合物。
較佳者係如上文所定義之式(4)所示結構之光起始劑(C-1)，其中，R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及R8彼此獨立地為氫、 C1-C20烷基、、COR16或NO2，或R1及R2、R2及R3、R3 及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8彼此獨立地共同為 但條件為R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或 R7及R8中至少一對係 X係CO或直接鍵；R13係C1-C20烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、OR17、SR18、COOR17、CONR19R20或PO(OCkH2k+1)2；或R13係C2-C20烷基，其間雜有一或多個O、S、NR26或CO；或R13係苯基或萘基，此二者未經取代或經一或多個 或COR16取代； R14係C1-C20烷基、苯基或C1-C8烷氧基；R15係苯基、萘基、C3-C20雜芳基，其各未經取代或經一或多個以下基團取代：苯基、鹵素、C1-C4鹵代烷基、OR17、SR18或C2-C20烷基，其間雜有一或多個O或S；或其各經一或多個C1-C20烷基取代，該C1-C20烷基未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、COOR17、CONR19R20、苯基、C3-C8環烷基、C3-C20雜芳基、C6-C20芳氧基羰基、C4-C20雜芳氧基羰基、OR17、SR18、NR19R20或PO(OCkH2k+1)2；或R15係C1-C20烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：OR17、SR18、C3-C8環烷基、C3-C20雜芳基、NR19R20、COOR17、CONR19R20或PO(OCkH2k+1)2； R'14具有針對R14所給出含義中之一者；R'15具有針對R15所給出含義中之一者；R16係苯基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：OR17、SR18、NR19R20或間雜有一或多個O、S或NR26之C2-C20烷基，或R16係苯基，其經一或多個C1-C20烷基取代，該C1-C20烷基未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、COOR17、CONR19R20、苯基、C3-C8環烷基、C3-C20雜芳基、C6-C20芳氧基羰基、C4-C20雜芳氧基羰基、OR17、SR18或NR19R20；或R16係C1-C20烷基，其未經取代或經以下基團取代：鹵素、苯基、OH、SH、CN、C3-C6烯氧基、OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(CO)-(C1-C4烷基)或(CO)O(C1-C4烷基)；R17係C1-C20烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(C1-C4烷基)、(CO)O(C1-C4烷基)、C3-C20環烷基或間雜有一或多個O之C3-C20環烷基；或R17係C2-C20烷基，其間雜有一或多個O；R18係經(CO)OR17取代之甲基；R19及R20彼此獨立地為氫、苯基、C1-C20烷基、C1-C8烷醯基或C1-C8烷醯基氧基；或R19及R20與其所附接之N原子一起形成雜芳香族環系統， 該環系統未經取代或經取代； 但條件為在該分子中存在至少一個基團或
必須重視如上文所定義之式(4)所示結構之光起始劑(C- 1)，其中R1、R2、R5、R6、R7及R8彼此獨立地為氫、 COR16或NO2，R3及R4一起為 R9、R10、R11及R12係氫；X係直接鍵；R13係C1-C20烷基；R14係C1-C20烷基；R15係C1-C20烷基或苯基，其經一或多個OR17或C1-C20烷基取代；R16係苯基，其經一或多個C1-C20烷基或OR17取代；且R17係未經取代或經一或多個鹵素取代之C1-C20烷基或係間雜有一或多個O之C2-C20烷基； 但條件為在該分子中存在至少一個基團
本發明之標的進一步係如上文所定義之式(4)所示結構之光起始劑(C-1)，其中，R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及R8彼此獨立地為氫，或R1及R2、R3及R4或R5及R6彼此獨立地共同為 但條件為R1及R2、R3及R4或R5及R6中至少一對為 或R2係、COR16、NO2或 或R7係或COR16； R9、R11及R12係氫；R10係氫、OR17或COR16；X係CO或直接鍵；R13係C1-C20烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、R17、OR17、SR18或PO(OCkH2k+1)2；或R13係C2-C20烷基，其間雜有一或多個O；或R13係苯基；k係整數2；R14係C1-C20烷基或噻吩基；R15係苯基或萘基，其各未經取代或經一或多個OR17或C1-C20烷基取代；或R15係噻吩基、氫、C1-C20烷基，該C1-C20烷基未經取代或經一或多個以下基團取代：OR17、SR18、C3-C8環烷基、NR19R20或COOR17；或R15係C2-C20烷基，其間雜有SO2；R16係苯基或萘基，其各未經取代或經一或多個以下基團取代：OR17、SR18、NR19R20或C1-C20烷基；或R16係噻吩基；R17係氫、C1-C8烷醯基、C1-C20烷基，其未經取代或經一或多個以下基團：鹵素、O(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-(C2-C4)烯基或間雜有一或多個O之C3-C20環烷基；或R17係C2-C20烷基，其間雜有一或多個O；R18係C3-C20環烷基、C1-C20烷基，其未經取代或經一或多個OH、O(CO)-(C2-C4)烯基或(CO)OR17取代；或R18係苯基，其未經取代或經一或多個鹵素取代；R19及R20彼此獨立地為C1-C8烷醯基或C1-C8烷醯基氧基；或R19及R20與其所附接之N原子一起形成間雜有O之5員或6 員飽和環； 但條件為在該分子中存在至少一個基團
本發明化合物之實例係如上文所定義之式(Ia)-(Ig)化合物。式(Ia)、(Ib)、(Ic)、尤其式(Ia)或(Ic)、或式(Ia)、(Ic)或(Id)、尤其式(Ia)之化合物令人關注。
舉例而言，R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及R8彼此 獨立地為氫、或COR16，或R1及R2、R2及R3、R3及R4或 R5及R6、R6及R7、R7及R8彼此獨立地共同為 R4及R5及R6共同為；R3及R4尤其共同為
舉例而言，R3及R4或R1及R2共同為或R3及
舉例而言，R1、R5、R6及R8係氫。 或COR16、尤其為
R7尤其為氫、或COR16。或R7係 起為。R2尤其為COR16。
R2尤其為，COR16或或R2與R1一
X較佳為直接鍵。
舉例而言，R9、R10、R11及R12彼此獨立地為氫、C1-C20烷基、未經取代之苯基或經一或多個以下基團取代之苯基：C1-C6烷基、鹵素、OR17或SR18；或R9、R10、R11及R12彼此獨立地為鹵素、OR17、SR18或NR19R20，其中取代基OR17、SR18或NR19R20視情況經由基團R17、R18、R19及/或R20與萘基環之一個碳原子形成 5員或6員環；或R9、R10、R11及R12彼此獨立地為或 COR16。
具體而言，舉例而言，R9、R10、R11及R12彼此獨立地為氫、C1-C20烷基、未經取代之苯基或經一或多個以下基團取代之苯基：C1-C6烷基、鹵素、OR17或SR18；或R9、R10、R11及R12彼此獨立地為鹵素、OR17、SR18或NR19R20；或R9、R10、R11及R12彼此獨立地為或COR16。
舉例而言，R9、R10、R11及R12彼此獨立地為氫、C1-C20烷基、未經取代之苯基或經一或多個C1-C6烷基取代之苯基；或R9、R10、R11及R12彼此獨立地為或COR16。
在另一實施例中，舉例而言，R9、R10、R11及R12彼此獨立地為氫、C1-C20烷基、未經取代之苯基或經一或多個以下基團取代之苯基：C1-C6烷基、鹵素、OR17或SR18；或R9、R10、R11及R12彼此獨立地為鹵素、OR17、SR18或NR19R20，其中取代基OR17、SR18或NR19R20視情況經由基團R17、R18、R19及/或R20與萘基環之一個碳原子形成5員或6員環。
此外，舉例而言，R9、R10、R11及R12彼此獨立地為氫、C1-C20烷基、未經取代之苯基或經一或多個以下基團取代之苯基：C1-C6烷基、鹵素、OR17或SR18，或R9、R10、R11及R12彼此獨立地為鹵素、OR17、SR18、NR19R20或COR16。
或舉例而言，R9、R10、R11及R12彼此獨立地為氫、C1-C20烷基、未經取代之苯基或經一或多個以下基團取代之苯基：C1-C6烷基、鹵素、OR17或SR18，或R9、R10、R11及R12彼此獨立地為鹵素、OR17、COR16或NR19R20。
較佳地，R9、R11及R12係氫且R10係氫、OR17或COR16。
R13係(例如)C1-C20烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、COOR17或CONR19R20；或R13係C2-C20烷基，其間雜有一或多個O、S、SO、SO2、NR26或CO，或係C2-C12烯基，其視情況間雜有一或多個O、CO或NR26，或R13係C3-C10環烷基，其視情況間雜有一或多個O、S、CO、NR26，或R13係苯基或萘基，此二者未經取代或經一或多個以下基團取代：OR17、SR18、 NR19R20、、COR16、NO2、鹵素、C1-C20烷基、C1- C4鹵代烷基、C2-C20烷基，其間雜有一或多個O；或係C1-C20烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、R17、COOR17、OR17、SR18、CONR19R20或PO(OCkH2k+1)2；或係C2-C20烷基，其間雜有一或多個O。
此外，R13係(例如)C1-C20烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、R17、COOR17、OR17、SR18、CONR19R20或PO(OCkH2k+1)2；或係C2-C20烷基，其間雜有一或多個O；或係C2-C12烯基、C2-C10環烷基；或R13係苯基或萘基，此二者未經取代或經一或多個以下基團取代：OR17、SR18、NR19R20、 、COR16、NO2、鹵素、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷 基、C2-C20烷基，其間雜有一或多個O。
在另一實施例中，R13係(例如)C1-C20烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、R17、OR17、SR18或PO(OCkH2k+1)2；或係C2-C20烷基，其間雜有一或多個O；或係C2-C12烯基、C3-C10環烷基、苯基或萘基。
或R13係(例如)C1-C20烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、R17、OR17、SR18或PO(OCkH2k+1)2；或係C2-C20烷基，其間雜有一或多個O；或係苯基、C2-C12烯基或C3-C10環 烷基。
或R13係(例如)C1-C20烷基、苯基、C2-C12烯基或C3-C10環烷基。
或R13係(例如)C1-C20烷基、C2-C12烯基或C3-C10環烷基。
較佳地，R13係C1-C20烷基，尤其為C1-C8烷基，例如2-乙基己基。
R14係(例如)氫、C3-C8環烷基、C2-C5烯基、C1-C20烷氧基或C1-C20烷基，其未經取代或經一或多個鹵素或苯基取代；或R14係苯基或萘基，此二者未經取代或經一或多個以下基團取代：C1-C6烷基、C1-C4鹵代烷基、鹵素、OR17、SR18及/或NR19R20；或R14係C3-C5雜芳基，例如噻吩基，或係C1-C8烷氧基、苄氧基或苯氧基。
或R14係(例如)C1-C20烷基，其未經取代或經一或多個鹵素或苯基取代；或R14係C3-C5雜芳基(例如噻吩基)或係未經取代或經取代一或多個以下基團取代之苯基：C1-C6烷基、C1-C4鹵代烷基、鹵素、OR17、SR18及/或NR19R20；或R14係C1-C8烷氧基、苄氧基或苯氧基。
在另一實施例中，R14表示C1-C20烷基，其未經取代或經苯基取代；或R14係苯基，其未經取代或經一或多個C1-C6烷基取代。
較佳地，R14係C1-C20烷基、C3-C5雜芳基(例如噻吩基)，或係苯基，尤其為C1-C20烷基或噻吩基，尤其為C1-C8烷基。
R15係(例如)C6-C20芳基或C5-C20雜芳基，其各未經取代或經一或多個以下基團取代：苯基、鹵素、C1-C4鹵代烷基、CN、 NO2、OR17、SR18、NR19R20、C1-C20烷基；或R15係氫、C3-C8環烷基，該C3-C8環烷基視情況間雜有一或多個O、CO或NR26；或R15係C1-C20烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、OR17、C3-C8環烷基、C5-C20雜芳基、C8-C20苯氧基羰基、C5-C20雜芳氧基-羰基、NR19R20、COOR17、CONR19R20、PO(OCkH2k+1)2、 、苯基或經以下基團取代之苯基：鹵素、C1-C20烷基、C1- C4鹵代烷基、OR17或NR19R20；或R15係C2-C20烷基，其間雜有一或多個O、S或SO2，或R15係C2-C20烷醯基、苯甲醯基、C2-C12烷氧基羰基、苯氧基羰基、CONR19R20、NO2或C1-C4鹵代烷基。
此外，R15係(例如)氫、C6-C20芳基，尤其為苯基或萘基，其各未經取代或經C1-C12烷基取代；或係C3-C5雜芳基，例如噻吩基；或係C3-C8環烷基、C1-C20烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：OR17、SR17、C3-C8-環烷基、NR19R20或COOR17；或R15係C2-C20烷基，其間雜有一或多個O或SO2。
該具有式(4)所示結構之光起始劑(C-1)令人關注，其中R15係(例如)氫、苯基、萘基，其各未經取代或經C1-C8烷基取代；或R15係噻吩基、C1-C20烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：OR17、SR17、C3-C8-環烷基、NR19R20或COOR17；或R15係C2-C20烷基，其間雜有一或多個O或SO2。
R15尤其為(例如)C3-C8環烷基或C1-C20烷基，尤其為C1-C20烷基，尤其為C1-C12烷基。
R'14及R'15之較佳者分別係如上文針對R14及R15所給出者。
X1係(例如)O、S或SO，例如O或S，尤其為O。
R16係(例如)C6-C20芳基(尤其苯基或萘基、尤其苯基) 或C5-C20雜芳基(尤其噻吩基)，其各未經取代或經一或多個以下基團取代：苯基、鹵素、C1-G4鹵代烷基、CN、NO2、OR17、SR18、NR19R20或間雜有一或多個O之C1-C20烷基；或其各經一或多個C1-C20烷基取代，該C1-C20烷基未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、COOR17、CONR19R20、苯基、C3-C8環烷基、C5-C20雜芳基、C6-C20芳氧基羰基、C5-C20雜芳氧基羰基、OR17、SR18或NR19R20；或R16係氫、C1-C20烷基，該C1-C20烷基未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、苯基、OH、SH、C3-C6烯氧基、OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-苯基、(CO)OH或(CO)O(C1-C4烷基)；或R16係C2-C12烷基，其間雜有一或多個O；或係(CH2CH2O)n+1H、(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)、C2-C12烯基或C3-C8環烷基，且n係1至20，例如1至12或1至8，尤其為1或2。
此外，R16係(例如)苯基或萘基，尤其為苯基、噻吩基或咔唑，其各未經取代或經一或多個以下基團取代：苯基、鹵素、C1-C4鹵代烷基、OR17、SR18、NR19R20或C1-C20烷基；或R16係C1-C20烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、苯基、OH、SH、C3-C6烯氧基、OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-苯基、(CO)OH或(CO)O(C1-C4烷基)；或R16係C2-C12烷基，其間雜有一或多個O；或係(CH2CH2O)n+1H、(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)、C2-C12烯基或C3-C8環烷基，且n係1至20，例如1至12或1至8，尤其為1或2。
此外，R16係(例如)苯基或萘基，尤其為苯基，其各未經取代或經一或多個以下基團取代：苯基、鹵素、C1-C4鹵代烷基、OR17、SR18、NR19R20或C1-C20烷基；或R16係C3-C5雜芳基，尤其為噻吩基。
R16尤其為(例如)苯基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：OR17、SR18、NR19R20或C1-C20烷基，或R16係噻吩基。
較佳地，R16係(例如)苯基或萘基，其各未經取代或經一或多個C1-C20烷基取代。
R16尤其為苯基，其經一或多個C1-C20烷基取代。
R17係(例如)氫、苯基-C1-C3烷基、C1-C20烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、OH、OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-(C2-C4)烯基、O(CO)-苯基、(CO)OH、(CO)O(C1-C4烷基)、C3-C20環烷基或間雜有一或多個O之C3-C20環烷基；或R17係C2-C20烷基，其間雜有一或多個O；係(CH2CH2O)n+1H、(GH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)、C1-C8烷醯基、C2-C12烯基、C3-C6烯醯基或C3-C20環烷基，其視情況間雜有一或多個O；或R17係苯甲醯基，其未經取代或經一或多個C1-C6烷基、鹵素、OH或C1-C3烷氧基取代；或R17係苯基、萘基或C5-C20雜芳基，其各未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、OH、C1-C12烷基、C1-C12烷氧基、CN、NO2、苯基-C1-C3烷氧基、苯氧基、C1-C12烷基硫基、苯基硫基、N(C1-C12烷基)2、二苯 基-胺基或 在另一實施例中，R17係(例如)氫、苯基-C1-C3烷基、C1-C20烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、O(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-(C2-C4烯基)或間雜有一或多個O之C2-C20烷基；或係C1-C8烷醯基、C2-C12烯基、C3-C6烯醯基、間雜有一或多個O之C2-C20烷基、視情況間雜有一或多個O之C3-C20環烷基；或係苯甲醯基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：C1-C6烷基、鹵素、OH或C1-C3烷氧基；或係苯基或萘基，其各未經取代或經 一或多個以下基團取代：鹵素、C1-C12烷基或C1-C12烷氧基。
R17亦為(例如)氫、苯基-C1-C3烷基、C1-C8烷醯基、C1-C20烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、C3-C20環烷基、O(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-(C2-C4烯基)或間雜有一或多個O之C2-C20烷基，或R17係C2-C20烷基，其間雜有一或多個O。
R17尤其為氫、C1-C8烷醯基、C1-C20烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：O(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-(C2-C4烯基)或間雜有一或多個O之C2-C20烷基，或R17係C2-C20烷基，其間雜有一或多個O。
R18係(例如)C3-C20環烷基，其未經間雜或間雜有一或多個O；或R18係C1-C20烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：OH、O(CO)-(C2-C4)烯基、O(CO)-(C1-C4烷基)或(CO)OR17；或R18係C2-C20烷基，其間雜有一或多個O、S、CO、NR26或COOR17；或R18係C2-C8烷醯基或C3-C6烯醯基、苯甲醯基；或R18係苯基、萘基或C3-C20雜芳基，其各未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、C1-C12烷基、C1-C4鹵代烷基、C1-C12烷氧基或NO2。
在另一實施例中，R18係(例如)C3-C20環烷基、C1-C20烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：OH、O(CO)-(C2-C4)烯基、O(CO)-(C1-C4烷基)或(CO)OR17；或R18係苯基或萘基，其各未經取代或經一或多個鹵素或C1-C12烷基、尤其鹵素取代。
R18係(例如)C1-C20烷基、C2-C12烯基、C3-C20環烷基、苯基-C1-C3烷基、C2-C8烷醯基、苯甲醯基、苯基或萘基。
舉例而言，R18係C1-C20烷基，其經一或多個以下基團取代：OH、O(CO)-(C2-C4)烯基、O(CO)-(C1-C4烷基)或(CO)OR17，或R18係苯基，其經一或多個鹵素取代。
較佳地，R18係C1-C8烷基，其如上文所定義經取代。
舉例而言，R19及R20彼此獨立地為氫、C1-C20烷基、C2-C4羥基烷基、C3-C20環烷基、苯基-C1-C3烷基、苯基或萘基、C1-C8烷醯基、C1-C8烷醯基氧基、C3-C12烯醯基或苯甲醯基；或R19及R20與其所附接之N原子一起形成視情況間雜有O、S或NR17之5員或6員飽和或不飽和環；或R19及R20與其所附接之N原子一起形成雜芳香族環系統，該環系統未經取代或經一或多個以下基團取代：C1-C20烷 基、C1-C4鹵代烷基、或
此外，舉例而言，R19及R20彼此獨立地為氫、C1-C20烷基、C2-C4羥基烷基、C3-C20環烷基、苯基-C1-C3烷基、C1-C8烷醯基、C1-C8烷醯基氧基、C3-C12烯醯基或苯甲醯基；或R19及R20與其所附接之N原子一起形成視情況間雜有O或NR17之5員或6員飽和環；或R19及R20與其所附接之N原子一起形成咔唑環。
舉例而言，R19及R20彼此獨立地為氫、C1-C20烷基、C2-C4羥基烷基、C3-C20環烷基、苯基-C1-C3烷基、C1-C8烷醯基、C1-C8烷醯基氧基、C3-C12烯醯基或苯甲醯基；或R19及R20與其所附接之N原子一起形成視情況間雜有O或NR17之5員或6員飽和環。
較佳地，R19及R20彼此獨立地為C1-C8烷醯基、C1-C8烷醯基氧基；或R19及R20與其所附接之N原子一起形成嗎啉環。
舉例而言，R21及R22彼此獨立地為氫、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、C3-C10環烷基或苯基；或R21及R22與其所附接之N原子一起形成嗎啉環。R21及R22尤其彼此獨立地為氫或C1-C20烷基。
R23係(例如)氫、OH、苯基或C1-C20烷基。R23尤其為氫、OH或C1-C4烷基。
R24之較佳者係如針對R19及R20所給出。R25之較佳者係如針對R17所給出。
R26係(例如)氫、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、C2-C20烷基，其間雜有一或多個O或CO；或係苯基-C1-C4烷基、C3-C8環烷基，其視情況間雜有一或多個O或CO；或係(CO)R19或苯基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：C1-C20烷基、鹵素、C1-C4鹵代烷基、OR17、SR18、NR19R20。
或R26表示(例如)氫、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基；係苯基-C1-C4烷基、C3-C8環烷基、(CO)R19或苯基，其未經取代或經一或多個C1-C20烷基取代。此外，R26係(例如)氫或C1-C20烷基、尤其為C1-C4烷基。
本發明該具有式(4)所示結構之光起始劑(C-1)之實例如下所示：
該具有式(4)所示結構之光起始劑(C-1)用於使包含至少一種烯系不飽和光可聚合化合物之組合物光聚合之用途。
於本發明之具體例中，基於該鹼可溶性樹脂(A)之使用量總和為100重量份，該具有式(4)所示結構之光起始劑(C-1)之使用量為5重量份至40重量份，較佳為7重量份至35重量份，更佳為10重量份至30重量份。當使用該具有式(4)所示結構之光起始劑(C-1)時，則該感光性樹脂組成物具有高精細度的圖案直線性佳之優點。
該光起始劑(C)可進一步包含其它光起始劑(C-2)。該其它光起始劑(C-2)之具體例可包含但不限於O-醯基肟化合物、三氮雜苯化合物、苯乙烷酮化合物、二咪唑化合物、二苯甲酮化合物、α-二酮化合物、酮醇化合物、酮醇醚化合物、醯膦氧化物、醌類化合物、含鹵素化合物、過氧化物或上述化合物之任意組合。
上述O-醯基肟化合物之具體例可包含但不限於1-[4-(苯基硫代)苯基]-庚烷-1,2-二酮2-(O-苯醯基肟)、1-[4-(苯基硫代)苯基]-辛烷-1,2-二酮-2-(O-苯醯基肟)、1-[4-(苯醯基)苯基]-庚烷-1,2-二酮-2-(O-苯醯基肟)、1-[9-乙基-6-(2-甲基苯醯基)-9H-咔唑-3-取代基]-乙烷酮-1-(O-乙醯基肟)、1-[9-乙基-6-(3-甲基苯醯基)-9H-咔唑-3-取代基]-乙烷酮-1-(O-乙醯基肟)、1-(9-乙基-6-苯醯基-9H-咔唑-3-取代基)-乙烷酮-1-(O-乙醯基肟)、乙烷酮-1-[9-乙基-6-(2-甲基-4-四氫呋喃基苯醯基)-9H-咔唑-3-取代基]-1-(O-乙醯基肟)、乙烷酮-1-[9-乙基-6-(2-甲基-5-四氫吡喃基苯醯基)-9H-咔唑-3-取代基]-1-(O-乙醯基肟)、乙烷酮-1- [9-乙基-6-(2-甲基-5-四氫呋喃基苯醯基)-9H-咔唑-3-取代基]-1-(O-乙醯基肟)、乙烷酮-1-[9-乙基-6-(2-甲基-5-四氫吡喃基苯醯基)-9H-咔唑-3-取代基]-1-(O-乙醯基肟)、乙烷酮-1-[9-乙基-6-(2-甲基-4-四氫呋喃基甲氧基苯醯基)-9H-咔唑-3-取代基]-1-(O-乙醯基肟)、乙烷酮-1-[9-乙基-6-(2-甲基-4-四氫吡喃基甲氧基苯醯基)-9H-咔唑-3-取代基]-1-(O-乙醯基肟)、乙烷酮-1-[9-乙基-6-(2-甲基-5-四氫呋喃基甲氧基苯醯基)-9H-咔唑-3-取代基]-1-(O-乙醯基肟)、乙烷酮-1-[9-乙基-6-(2-甲基-5-四氫吡喃基甲氧基苯醯基)-9H-咔唑-3-取代基]-1-(O-乙醯基肟)、乙烷酮-1-{9-乙基-6-[2-甲基-4-(2,2-二甲基-1,3-二氧雜戊環基)苯醯基]-9H-咔唑-3-取代基}-1-(O-乙醯基肟)、乙烷酮-1-{9-乙基-6-[2-甲基-4-(2,2-二甲基-1,3-二氧雜戊環基)甲氧基苯醯基]-9H-咔唑-3-取代基}-1-(O-乙醯基肟)等之化合物，或者上述化合物之任意組合。
較佳地，該O-醯基肟化合物可為1-[4-(苯基硫代)苯基]-辛烷-1,2-二酮-2-(O-苯醯基肟)，其可為汽巴精化有限公司製造之商品，且型號為OXE-01；1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-取代基]-乙烷酮-1-(O-乙醯基肟)，其可為汽巴精化有限公司製造之商品，且型號為OXE-02；乙烷酮-1-[9-乙基-6-(2-甲基-4-四氫呋喃甲氧基苯醯基)-9H-咔唑-3-取代基]-1-(O-乙醯基肟)；乙烷酮-1-{9-乙基-6-[2-甲基-4-(2,2-二甲基-1,3-二氧雜戊環基)甲氧基苯醯基]-9H-咔唑-3-取代基}-1-(O-乙醯基肟)或上述化合物之任意組合。該O-醯基肟化合物可單獨一種或混合複數種使用。
上述三氮雜苯化合物之具體例可包含但不限於乙烯基-鹵代甲基-s-三氮雜苯化合物、2-(萘并-1-取代基)-4,6-雙-鹵代甲基-s-三氮雜苯化合物、4-(對-胺基苯基)-2,6-二-鹵代甲基-s-三氮雜苯化合物等之化合物，或者上述化合物之任意組合。
前述乙烯基-鹵代甲基-s-三氮雜苯化合物之具體例可包 含但不限於2,4-雙(三氯甲基)-6-對-甲氧基苯乙烯基-s-三氮雜苯、2,4-雙(三氯甲基)-3-(1-對-二甲基胺基苯基-1,3-丁二烯基)-s-三氮雜苯或2-三氯甲基-3-胺基-6-對-甲氧基苯乙烯基-s-三氮雜苯等之化合物，或者上述化合物之任意組合。
前述2-(萘并-1-取代基)-4,6-雙-鹵代甲基-s-三氮雜苯化合物之具體例可包含但不限於2-(萘并-1-取代基)-4,6-雙-三氯甲基-s-三氮雜苯、2-(4-甲氧基-萘并-1-取代基)-4,6-雙-三氯甲基-s-三氮雜苯、2-(4-乙氧基-萘并-1-取代基)-4,6-雙-三氯甲基-s-三氮雜苯、2-(4-丁氧基-萘并-1-取代基)-4,6-雙-三氯甲基-s-三氮雜苯、2-[4-(2-甲氧基乙基)-萘并-1-取代基]-4,6-雙-三氯甲基-s-三氮雜苯、2-[4-(2-乙氧基乙基)-萘并-1-取代基]-4,6-雙-三氯甲基-s-三氮雜苯、2-[4-(2-丁氧基乙基)-萘并-1-取代基]-4,6-雙-三氯甲基-s-三氮雜苯、2-(2-甲氧基-萘并-1-取代基)-4,6-雙-三氯甲基-s-三氮雜苯、2-(6-甲氧基-5-甲基-萘并-2-取代基)-4,6-雙-三氯甲基-s-三氮雜苯、2-(6-甲氧基-萘并-2-取代基)-4,6-雙-三氯甲基-s-三氮雜苯、2-(5-甲氧基-萘并-1-取代基)-4,6-雙-三氯甲基-s-三氮雜苯、2-(4,7-二甲氧基-萘并-1-取代基)-4,6-雙-三氯甲基-s-三氮雜苯、2-(6-乙氧基-萘并-2-取代基)-4,6-雙-三氯甲基-s-三氮雜苯或2-(4,5-二甲氧基-萘并-1-取代基)-4,6-雙-三氯甲基-s-三氮雜苯等之化合物，或者上述化合物之任意組合。
前述4-(對-胺基苯基)-2,6-二-鹵代甲基-s-三氮雜苯化合物之具體例可包含但不限於4-[對-N,N-二(乙氧基羰基甲基)胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-[鄰-甲基-對-N,N-二(乙氧基羰基甲基)胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-[對-N,N-二(氯乙基)胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-[鄰-甲基-對-N,N-二(氯乙基)胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-(對-N-氯乙基胺基苯基)-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-(對-N-乙氧基羰基甲基胺基苯 基)-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-[對-N,N-二(苯基)胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-(對-N-氯乙基羰基胺基苯基)-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-[對-N-(對-甲氧基苯基)羰基胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-[間-N,N-二(乙氧基羰基甲基)胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-[間-溴-對-N,N-二(乙氧基羰基甲基)胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-[間-氯-對-N,N-二(乙氧基羰基甲基)胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-[間-氟-對-N,N-二(乙氧基羰基甲基)胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-[鄰-溴-對-N,N-二(乙氧基羰基甲基)胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-[鄰-氯-對-N,N-二(乙氧基羰基甲基)胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-[鄰-氟-對-N,N-二(乙氧基羰基甲基)胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-[鄰-溴-對-N,N-二(氯乙基)胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-[鄰-氯-對-N,N-二(氯乙基)胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-[鄰-氟-對-N,N-二(氯乙基)胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-[間-溴-對-N,N-二(氯乙基)胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-[間-氯-對-N,N-二(氯乙基)胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-[間-氟-對-N,N-二(氯乙基)胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-(間-溴-對-N-乙氧基羰基甲基胺基苯基)-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-(間-氯-對-N-乙氧基羰基甲基胺基苯基)-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-(間-氟-對-N-乙氧基羰基甲基胺基苯基)-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-(鄰-溴-對-N-乙氧基羰基甲基胺基苯基)-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-(鄰-氯-對-N-乙氧基羰基甲基胺基苯基)-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-(鄰-氟-對-N-乙氧基羰基甲基胺基苯基)-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-(間-溴-對-N-氯乙基胺基苯基)-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-(間-氯-對-N-氯乙基胺基苯基)-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-(間- 氟-對-N-氯乙基胺基苯基)-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-(鄰-溴-對-N-氯乙基胺基苯基)-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-(鄰-氯-對-N-氯乙基胺基苯基)-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-(鄰-氟-對-N-氯乙基胺基苯基)-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯或2,4-雙(三氯甲基)-6-{3-溴-4-[N,N-雙(乙氧基羰基甲基)胺基]苯基}-1,3,5-三氮雜苯等之化合物，或者上述化合物之任意組合。
上述三氮雜苯化合物較佳可為4-[間-溴-對-N,N-二(乙氧基羰基甲基)胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、2,4-雙(三氯甲基)-6-對-甲氧基苯乙烯基-s-三氮雜苯或上述化合物之組合。該三氮雜苯化合物可單獨一種或混合複數種使用。
上述苯乙烷酮化合物之具體例可包含但不限於對二甲胺苯乙烷酮、α,α’-二甲氧基氧化偶氮苯乙烷酮、2,2’-二甲基-2-苯基苯乙烷酮、對-甲氧基苯乙烷酮、2-苄基-2-N,N-二甲胺-1-(4-嗎啉代苯基)-1-丁酮或2-甲基-1-(4-甲基硫代苯基)-2-嗎啉代-1-丙酮等之化合物，或者上述化合物之任意組合。該苯乙烷酮化合物較佳可為2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-嗎福啉代-1-丙酮、2-苄基-2-N,N-二甲胺-1-(4-嗎啉代苯基)-1-丁酮。上述之苯乙烷酮化合物可單獨一種或混合複數種使用。
上述二咪唑化合物之具體例可包含但不限於2,2’-雙(鄰-氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基二咪唑、2,2’-雙(鄰-氟苯基)-4,4’,5,5’-四苯基二咪唑、2,2’-雙(鄰-甲基苯基)-4,4’,5,5’-四苯基二咪唑、2,2’-雙(鄰-甲氧基苯基)-4,4’,5,5’-四苯基二咪唑、2,2’-雙(鄰-乙基苯基)-4,4’,5,5’-四苯基二咪唑、2,2’-雙(對-甲氧基苯基)-4,4’,5,5’-四苯基二咪唑、2,2’-雙(2,2’,4,4’-四甲氧基苯基)-4,4’,5,5’-四苯基二咪唑、2,2’-雙(2-氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基二咪唑或2,2’-雙(2,4-二氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基二咪唑等之化合物，或者上述化合物之任意組合。上述二咪唑化合物 可單獨一種或混合複數種使用。該二咪唑化合物較佳可為2,2’-雙(2,4-二氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基二咪唑。
上述二苯甲酮化合物之具體例可包含噻噸酮、2,4-二乙基噻噸酮、噻噸酮-4-碸、二苯甲酮、4,4’-雙(二甲胺)二苯甲酮或4,4’-雙(二乙胺)二苯甲酮等之化合物，或者上述化合物之任意組合。該二苯甲酮化合物可單獨-種或混合複數種使用。該二苯甲酮化合物較佳可為4,4’-雙(二乙胺)二苯甲酮。
上述α-二酮化合物之具體例可包含但不限於苯偶醯或乙醯基等。
上述酮醇化合物之具體例可包含但不限於二苯乙醇酮。
上述酮醇醚化合物之具體例可包含但不限於二苯乙醇酮甲醚、二苯乙醇酮乙醚或二苯乙醇酮異丙醚等之化合物，或者上述化合物之任意組合。
上述醯膦氧化物之具體例可包含但不限於2,4,6-三甲基苯醯二苯基膦氧化物或雙-(2,6-二甲氧基苯醯)-2,4,4-三甲基苯基膦氧化物等之化合物，或者上述化合物之任意組合。
上述醌類化合物之具體例可包含但不限於蒽醌或1,4-萘醌等之化合物，或者上述化合物之任意組合。
上述含鹵素類化合物之具體例可包含但不限於苯醯甲基氯、三溴甲基苯碸或三(三氯甲基)-s-三氮雜苯等之化合物，或者上述化合物之任意組合。
上述過氧化物之具體例可包含但不限於二-第三丁基過氧化物等之化合物。
較佳地，該光起始劑(C-2)可為1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-取代基]-乙烷酮-1-(O-乙醯基肟)，其可為汽巴精化 有限公司製造之商品，且型號為OXE-02；1-[4-(苯基硫代)苯基]-辛烷-1,2-二酮-2-(O-苯醯基肟)，其可為汽巴精化有限公司製造之商品，且型號為OXE-01；2-甲基-1-(4-甲基硫代苯基)-2-嗎啉代-1-丙酮，其可為汽巴精化有限公司製造之商品，且型號為IRGACURE 907或上述化合物之任意組合。
基於鹼可溶性樹脂(A)之使用量為100重量份，該光起始劑(C-2)之使用量為0重量份至60重量份，較佳為1重量份至55重量份，且更佳為5重量份至50重量份。
基於鹼可溶性樹脂(A)之使用量為100重量份，該光起始劑(C)的使用量為5重量份至100重量份，較佳為8重量份至90重量份，且更佳為15重量份至80重量份。
根據本發明之該溶劑(D)之具體例可包含但不限於烷基二醇單烷醚化合物、烷基二醇單烷醚醋酸酯化合物、二乙二醇烷基醚、其他醚類化合物、酮類化合物、乳酸烷酯化合物、其他酯類化合物、芳香族烴類化合物、羧酸胺化合物或上述化合物之任意組合。上述之溶劑(D)可單獨一種或混合複數種使用。
前述烷基二醇單烷醚化合物之具體例可包含但不限於乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇單正丙醚、二乙二醇單正丁醚、三乙二醇單甲醚、三乙二醇單乙醚、丙二醇單甲醚、丙二醇單乙醚、二丙二醇單甲醚、二丙二醇單乙醚、二丙二醇單正丙醚、二丙二醇單正丁醚、三丙二醇單甲醚或三丙二醇單乙醚等之化合物，或者上述化合物之任意組合。
前述烷基二醇單烷醚醋酸酯化合物之具體例可包含但不限於乙二醇甲醚醋酸酯、乙二醇乙醚醋酸酯、丙二醇甲醚醋酸酯或丙二醇乙醚醋酸酯等之化合物，或者上述化合物之任意組合。
前述二乙二醇烷基醚之具體例可包含但不限於二乙二醇 二甲醚、二乙二醇甲乙醚或二乙二醇二乙醚等之化合物，或者上述化合物之任意組合。
前述其他醚類化合物之具體例可包含但不限於四氫呋喃等之化合物。
前述酮類化合物之具體例可包含甲乙酮、環己酮、2-庚酮、3-庚酮或二丙酮醇等之化合物，或者上述化合物之任意組合。
前述乳酸烷酯化合物之具體例可包含但不限於乳酸甲酯或乳酸乙酯等之化合物，或者上述化合物之任意組合。
前述其他酯類化合物之具體例可包含但不限於2-羥基-2-甲基丙酸甲酯、2-羥基-2-甲基丙酸乙酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙氧基醋酸乙酯、羥基醋酸乙酯、2-羥基-3-甲基丁酸甲酯、3-甲基-3-甲氧基丁基醋酸酯、3-甲基-3-甲氧基丁基丙酸酯、醋酸乙酯、醋酸正丙酯、醋酸異丙酯、醋酸正丁酯、醋酸異丁酯、醋酸正戊酯、醋酸異戊酯、丙酸正丁酯、丁酸乙酯、丁酸正丙酯、丁酸異丙酯、丁酸正丁酯、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、丙酮酸正丙酯、乙醯醋酸甲酯、乙醯醋酸乙酯或2-氧基丁酸乙酯等之化合物，或者上述化合物之任意組合。
前述芳香族烴類化合物之具體例可包含但不限於甲苯或二甲苯等之化合物，或者上述化合物之任意組合。
前述羧酸胺化合物之具體例可為N-甲基吡咯烷酮、N,N-二甲基甲醯胺或N,N-二甲基乙醯胺等之化合物，或上述化合物之任意組合。
較佳地，該溶劑(D)可為丙二醇甲醚醋酸酯或3-乙氧基丙酸乙酯。
基於鹼可溶性樹脂(A)之使用量為100重量份，該溶劑(D)之使用量為800重量份至3000重量份，較佳為850重量份至2500重 量份，且更佳為900重量份至2000重量份。
根據本發明之黑色顏料(E)較佳可為具有耐熱性、耐光性及耐溶劑性之黑色顏料。
該黑色顏料(E)之具體例可包含二萘嵌苯黑(perylene black)、花青黑(cyanine black)或苯胺黑(aniline black)等之黑色有機顏料；由紅、藍、綠、紫、黃色、花青(cyanine)或洋紅(magenta)等之顏料中，選擇兩種或兩種以上的顏料進行混合，以形成接近黑色之混色有機顏料；碳黑(carbon black)、氧化鉻、氧化鐵、鈦黑(titanium black)或石墨等之遮光材。
上述碳黑之具體例可包含C.I.Pigment black 7，或者三菱化學公司所製造之商品，其型號為MA100、MA230、MA8、#970、#1000、#2350或#2650。該黑色顏料(E)可單獨一種或混合複數種使用。
較佳地，黑色顏料(E)可為碳黑，或者前述型號為MA100或MA230之商品。
基於鹼可溶性樹脂(A)之使用量為100重量份，該黑色顏料(E)之使用量為100重量份至500重量份，較佳為130重量份至450重量份，且更佳為150重量份至400重量份。
根據本發明之具有式(1)結構之化合物(F)： 於式(1)中： R'係選自由氫原子、經取代或未經取代之碳數1至20之烴基及醯基所組成之群；R'可為相同或不同；R"係選自由氫原子、經取代或未經取代之碳數1至15之烴基、醯基及硝基所組成之群；R"可為相同或不同；s表示0、1或2；及 W表示，其中，Z表示氫原子或碳數為1至4之 烷基。
根據本發明之該具有式(1)結構之化合物(F)係為甘脲(glycoluril)衍生物，其特徵為在雙環系統中，至少2個縮水甘油基各別在環系統中之氮-取代位置上，其中，該2個縮水甘油基之取代位置如式(1)所示，亦即2個縮水甘油基是各別鍵結在同一五員環之氮-取代位置(1,3-位)。另外，本發明之該具有式(1)結構之化合物(F)亦包含2個縮水甘油基各別鍵結在兩個五員環之氮-取代位置(1,5-位或1,7-位)。本發明之該具有式(1)結構之化合物(F)也可包含具有3個縮水甘油基，該3個縮水甘油基各別鍵結在兩個五員環之氮-取代位置(1,3,5-位或1,3,7-位)。本發明之該具有式(1)結構之化合物(F)也可包含具有4個縮水甘油基，該4個縮水甘油基各別鍵結在兩個五員環之氮-取代位置(1,3,5,7-位)。
式(1)中，R'係選自由氫原子、經取代或未經取代之碳數1至20之烴基及醯基所組成之群。較佳地，R'之碳數為1至15；更佳地，R'之碳數為1至12。R'之碳數小於上述碳數亦可，例如：R'之碳數為10、8或4。上述數值亦適用於未經取代之R'。當該上述烴基係經取代，則更多碳數可導入至R'，其中針對上述烴基說明如下。此處針對烴基之說明亦適用於醯基。
上述R'之烴基可為包含上述碳數1至20之直鏈狀及/或分支狀烷基及烯基；芳基亦可。根據本發明之定義，烴基可包含狹義之芳香基，亦即單獨由一芳香環系統構成的烷芳基(alkaryl)或芳烷基(aralkyl)。當R'表示芳基、芳烷基或烷芳基時，其較佳具體例可包含但不限於苯基、芐基、甲苯基、二甲苯基或上述之同族化合物。
此外，上述R'亦可為環烷基或環烯基，該環烷基或環烯基亦包含具有經取代之環烷基或環烯基。另一方面，R'表示飽和或部分飽和之環狀基時，較佳為環戊基、環己基及其衍生物。再一方面，R'表示雜環狀基時，較佳為含有O、N及/或S之環化合物。上述之環系統較佳為具有1個、2個或3個雜原子，或為飽合、不飽合或芳香族之環狀基。
視需要，本發明之R'可進一步具有其它取代基，其較佳具體例為鹵素、烷氧基、醯基或醯氧基，其中，鹵素以氯及/或溴為較佳。
當R'進一步含有烴基取代基時，較佳地，該取代基之碳數不超過10個，更佳為不超過8個；尤佳為不超過6個；特佳為不超過4個。本發明之烴基取代基包含但不限於含鹵素、烷氧基等取代基之芳基、芳烷基、烷芳基、環烷基及/或烷基。另外也包含前述之雜環系，例如含雜原子數1至3的雜環系。
根據本發明之該具有式(1)結構之化合物(F)，R'在不考慮取代基存在之情況下之全部碳原子數為不超過12個；較佳為不超過10個；更佳為不超過8個；尤佳為不超過4個或6個。上述全部碳原子數之數值亦適用於含有取代基之R'。
視需要，若本發明之R"不為氫原子時，則可為相同或不同之烴基。較佳地，各別烴基之碳原子數不超過12個；更佳地為不超過10個或8個；尤佳為不超過6個或4個。有關R'之敘述亦適用於R"。
根據R"之烴基可為含有上述碳數1至15之直鏈狀及/或分支狀之烷基及烯基等；芳基亦可。有關R'之敘述亦適用於R"，故該芳基亦包含烷芳基或芳烷基而R'中關於環烷基、環烯基及雜環基之敘述亦適用於R"。
較佳地，該R"上之取代基為鹵素、羥基、胺基、N-取代胺基、巰基、烷巰基、芳巰基、烷氧基、芳氧基及/或醯氧基等。該R"上可具有上述一個或多個取代基。較佳地，R"上具有1至3個取代基；更佳地，R"具有經取代或未經取代之烷基，而R'中關於該數值之限定的定義可適用於R"。
於本發明之較佳具體例中，該具有式(1)結構之化合物(F)為包含表1所示之N,N'-二縮水甘油基甘脲。
其中，-表示氫原子。
若完全無使用具有式(1)結構之化合物(F)時，則該感光性樹脂組成物會有高精細度的圖案直線性不佳之缺點。
基於鹼可溶性樹脂(A)之使用量為100重量份，該化合物(F)之使用量為1重量份至40重量份，較佳為2重量份至35重量份，且更佳為3重量份至30重量份。
在不影響本發明功效之前提下，本發明的感光性樹脂組成物可進一步選擇性地添加添加劑(G)。該添加劑(G)之具體例可包含但不限於界面活性劑、填充劑、密著促進劑、抗氧化劑、防凝集劑或前述鹼可溶性樹脂(A)以外之其他能增加各種性質(例如機械性質)的聚合物。
前述界面活性劑之具體例可包含但不限於陽離子型界面活性劑、陰離子型界面活性劑、非離子型界面活性劑、兩性界面活性劑、聚矽氧烷界面活性劑、氟素界面活性劑或上述界面活性劑之任意組合。
該界面活性劑之具體例可包含但不限於聚乙氧基十二烷基醚、聚乙氧基硬酯醯醚或聚乙氧基油醚等之聚乙氧基烷基醚類；聚乙氧基辛基苯基醚或聚乙氧基壬基苯基醚等之聚乙氧基烷基苯基醚類；聚乙二醇二月桂酸酯或聚乙二醇二硬酸酯等之聚乙二醇二酯類；山梨糖醇酐脂肪酸酯化合物；脂肪酸改質的聚酯化合物；三級胺改質的聚胺基甲酸酯化合物；或者市售之商品。其中，該市售商品可為信越化學工業公司製造之產品，且其型號為KP；道康寧東麗股份有限公司(Dow Corning Toray Co.,Ltd.)製造之產品，且其型號為SF-8427；共榮社油脂化學工業製造之產品，且其型號為Polyflow；得克姆股份有限公司(Tochem Products Co.,Ltd.)製造之產品，且其型號為F-Top；大日本印墨化學工業製造之產品，且其型號為Megafac；住友3M製造之產品，且其型號為Fluorade；或者旭硝子公司製造之產品，且其型號為Asahi Guard或Surflon。該界面活性劑可單獨一種或混合複數種使用。
前述填充劑之具體例可包含但不限於玻璃或鋁等。
前述密著促進劑之具體例可包含但不限於乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、乙烯基三(2-甲氧基乙氧基)矽烷、N-(2-胺基乙基)-3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、N-(2-胺基乙基)-3-胺基丙基三甲氧基矽烷、3-胺丙基三乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷(信越化學製造之商品，且其型號為KBM-403)、3-環氧丙氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、2-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷、3-氯丙基甲基二甲氧基矽烷、3-氯丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙醯氧基丙基三甲氧基矽烷或3-統丙基三甲氧基矽烷等之化合物，或者上述化合物之任意組合。
前述抗氧化劑之具體例可包含2,2-硫代雙(4-甲基-6-第三丁基苯酚)、2,6-二-第三丁基苯酚或上述化合物之任意組合。
前述防凝集劑之具體例可為聚丙烯酸鈉等之化合物。
基於前述鹼可溶性樹脂(A)之使用量為100重量份，該添加劑(G)中之填充劑、密著促進劑、抗氧化劑、防凝集劑或鹼可溶性樹脂(A)以外之聚合物的使用量為10重量份以下，且較佳為6重量份以下。
本發明之感光性樹脂組成物的製備係將前述之鹼可溶性樹脂(A)、具有乙烯性不飽和基之化合物(B)、光起始劑(C)、溶劑(D)、黑色顏料(E)及具有式(1)結構之化合物(F)放置於攪拌器中攪拌，使其均勻混合成溶液狀態，必要時亦可添加添加劑(G)，予以均勻混合後，即可獲得溶液狀態之感光性樹脂組成物。
本發明之之感光性樹脂組成物的製備方法並沒有特別之限制。黑色顏料(E)可直接加至由鹼可溶性樹脂(A)、具有乙烯性不飽和基之化合物(B)、光起始劑(C)、溶劑(D)及具有式(1)結構之化合物(F)所組成的混合物中，而可分散形成前述溶液狀態之感光性樹脂組成物。或者，先將部份之黑色顏料(E)加至由部份鹼可溶性樹脂(A)及部份溶劑(D)所組成之混合物中，以形成顏料分散液。然後，將其餘之鹼可溶性樹脂(A)、具有乙烯性不飽和基之化合物(B)、光起始劑(C)、其餘之溶劑(D)、剩餘之黑色顏料及具有式(1)結構之化合物(F)加至前述之顏料分散液中，以製得溶液狀態之感光性樹脂組成物。
其次，上述黑色顏料(E)的分散步驟可藉由珠磨機(beads mill)或輥磨機(roll mill)等之混合器來進行。
本發明亦提供一種黑色矩陣，其係由前述之感光樹脂組成物所形成。
根據本發明之黑色矩陣係將上述的感光樹脂組成物塗佈在基板上，並依序進行預烤處理、曝光處理、顯影處理及後烤處理後 即可製得。當所製得之黑色矩陣的膜厚為1μm時，光學密度範圍可為3.0以上，較佳為3.2至5.5，且更佳為3.5至5.5。以下詳述本發明之黑色矩陣的製備方法。
首先，藉由旋轉塗佈(spin coating)或流延塗佈(cast coating)等之塗佈方式，將溶液狀態的黑色矩陣用之感光性樹脂組成物均勻地塗佈在基板上，以形成塗膜。上述基板之具體例可包含用於液晶顯示裝置等之無鹼玻璃、鈉鈣玻璃、硬質玻璃(例如：派勒斯玻璃)、石英玻璃及於前述之玻璃上附著透明導電膜者；或者用於固體攝影裝置等之光電變換裝置基板(例如：矽基板)等。
形成塗膜之後，以減壓乾燥之方式去除大部份之溶劑。然後，以預烤(pre-bake)之方式去除剩餘之溶劑，以形成預烤塗膜。根據各成分之種類及比例的不同，前述之減壓乾燥及預烤的條件係隨之改變。減壓乾燥一般係在小於200mmHg之壓力下進行1秒至20秒，且預烤係在70℃至110℃對塗膜加熱處理1分鐘至15分鐘。
接著，以具有特定圖案之光罩對前述之預烤塗膜進行曝光處理。曝光處理所使用之光線可為g線、h線或i線等之紫外光，且紫外光之照射裝置可為(超)高壓水銀燈或金屬鹵素燈。
進行曝光處理後，將前述曝光後之預烤塗膜浸漬於21℃至25℃之顯影液(developing solution)中，以去除上述未經曝光之部分的預烤塗膜，而可在基板上形成特定的圖案。
前述之顯影液可為氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉、碳酸氫鈉、碳酸鉀、碳酸氫鉀、矽酸鈉、甲基矽酸鈉、氨水、乙胺、二乙胺、二甲基乙醇胺、氫氧化四甲胺、氫氧化四乙胺、膽鹼、吡咯、哌啶或1,8-二氮雜二環-[5,4,0]-7-十一烯等之鹼性化合物。該顯影液之濃度一般為0.001重量百分比至10重量百分比，較佳為0.005重量百分比至5重量百分比，且更佳為0.01重量百分比至1重量百分比。
進行顯影處理後，將具有特定圖案之基板以水洗淨，並利用壓縮空氣或壓縮氮氣風乾上述之基板。然後，以熱板或烘箱等加熱裝置進行後烤處理，即可於基板上形成黑色矩陣。後烤處理之溫度一般為150℃至250℃。當加熱裝置係使用熱板時，其加熱時間為5分鐘至60分鐘；當加熱裝置係使用烘箱時，其加熱時間為15分鐘至150分鐘。經過以上之處理步驟後，即可於基板上形成黑色矩陣。
本發明又提供一種彩色濾光片，係包含前述之黑色矩陣。
本發明之彩色濾光片之製備係先藉由旋轉塗佈、流延塗佈或輥式塗佈等塗布方式，將溶液狀態之彩色濾光片用的感光性樹脂組成物均勻地塗佈在前述具有黑色矩陣之基板上，以形成塗膜。
形成塗膜後，藉由減壓乾燥去除大部份之溶劑，且以預烤之方式去除剩餘之溶劑，以形成預烤塗膜。其中，根據各成分之種類或比例的不同，減壓乾燥及預烤之條件係隨之改變。減壓乾燥一般係在0mmHg至200mmHg之壓力下進行1秒至60秒，且預烤係在70℃至110℃下對塗膜加熱處理1分鐘至15分鐘。
然後，以具有特定圖案之光罩對前述之預烤塗膜進行曝光處理。曝光處理所使用之光線可為g線、h線或i線等之紫外光，且紫外光之照射裝置可為(超)高壓水銀燈或金屬鹵素燈。
進行曝光處理後，將前述曝光後之預烤塗膜浸漬於21℃至25℃之顯影液(developing solution)中，以去除上述未經曝光之部分的預烤塗膜，而可在基板上形成特定的圖案。
進行顯影處理後，將具有特定圖案之基板以水洗淨，並利用壓縮空氣或壓縮氮氣風乾上述之基板。然後，以熱板或烘箱等加熱裝置進行後烤處理。後烤處理之條件如前所述，在此不另贅述。重 複上述之步驟，以形成紅、綠、藍等畫素著色層於基板上。
接著，於220℃至250℃之真空環境下，利用濺鍍之方式形成ITO保護膜(蒸鍍膜)於前述畫素著色層之表面上。必要時，對ITO保護膜進行蝕刻與佈線，並在ITO保護膜表面塗佈液晶配向膜(液晶配向膜用聚醯亞胺)，而可形成具有畫素層的彩色濾光片。
本發明再提供一種液晶顯示元件，係包含前述之彩色濾光片。
根據本發明之液晶顯示元件可藉由如下方式形成：將上述所製得之彩色濾光片及設有薄膜電晶體(thin film transistor；TFT)之基板作對向配置，並且在上述兩者之間設置間隙(晶胞間隔；cell gap)。然後，以黏著劑貼合彩色濾光片與上述基板的周圍部分並且留下注入孔。接著，在基板表面以及黏著劑所分隔出的間隙內由注入孔注入液晶，並封住注入孔，以形成液晶層。之後，將偏光板設置在彩色濾光片中接觸液晶層的另一側與基板中接觸液晶層的另一側，而可製成液晶顯示器。
上述之液晶可為液晶化合物或液晶組成物，此處並未特別限定，惟可使用任何一種液晶化合物及液晶組成物。
再者，前述彩色濾光片中所使用的液晶配向膜是用來限制液晶分子的配向，且其沒有特別的限制，舉凡無機物或有機物任一者均可。此外，形成液晶配向膜之技術為本發明所屬技術領域中具有通常知識者所熟知，故於此不再贅述。
茲以下列實例予以詳細說明本發明，唯並不意謂本發明僅侷限於此等實例所揭示之內容。
製備鹼可溶性樹脂(A)
合成例A-1-1
首先，將100重量份的茀環氧化合物(新日鐵化學公司 製造之產品，其型號為ESF-300，且其環氧當量為231)、30重量份的丙烯酸、0.3重量份的氯化苄基三乙基銨、0.1重量份的2,6-二第三丁基對甲酚及130重量份的丙二醇甲醚醋酸酯以連續添加之方式加至500毫升的四口燒瓶中。反應物之入料速度控制在25重量份/分鐘，且在100℃至110℃下進行反應。反應15小時後，即可獲得固成分濃度為50重量百分比的淡黃色透明混合液。
接著，將100重量份之上述淡黃色透明混合液加至25重量份的乙二醇乙醚醋酸酯中，並同時添加6重量份的四氫鄰苯二甲酸酐及13重量份的二苯甲酮四甲酸二酐。然後，於110℃至115℃進行反應。反應2小時後，即可製得具有不飽和基之樹脂A-1-1，且其酸價為98.0mgKOH/g。
合成例A-1-2
首先，將100重量份的茀環氧化合物(新日鐵化學公司製造之產品，其型號為ESF-300，且其環氧當量為231)、30重量份的丙烯酸、0.3重量份的氯化苄基三乙基銨、0.1重量份的2,6-二第三丁基對甲酚及130重量份的丙二醇甲醚醋酸酯以連續添加之方式加入500毫升的四口燒瓶中。反應物之入料速度控制在25重量份/分鐘，且在100℃至110℃下進行反應。反應15小時後，即可獲得固成分濃度為50重量百分比之淡黃色透明混合液。
接著，將100重量份的上述所得的淡黃色透明混合液溶於25重量份的乙二醇乙醚醋酸酯中，並添加13重量份的二苯甲酮四甲酸二酐。然後，於110℃至115℃進行反應。反應2小時後，添加6重量份的四氫鄰苯二甲酸酐，並於90℃至95℃下反應4小時，即可製得具有不飽和基之樹脂A-1-2，且其酸價為99.0mgKOH/g。
合成例A-1-3
首先，將400重量份的環氧化合物(日本化藥股份有限 公司製造之產品，其型號為NC-3000，且其環氧當量為288)、102重量份的丙烯酸、0.3重量份的甲氧基酚(methoxyphenol)、5重量份的三苯基膦及264重量份的丙二醇甲醚醋酸酯置於反應瓶中。於95℃下進行反應，經過9小時後，即可獲得酸價為2.2mgKOH/g的中間產物。接著，加入151重量份的四氫鄰苯二甲酸酐(tetrahydrophthalic anhydride)。然後，在95℃下反應4小時，即可製得具有不飽和基之樹脂A-1-3，其酸價為102mgKOH/g，且其重量平均分子量為3200。
合成例A-2-1
首先，將1重量份的2,2’-偶氮雙異丁腈、240重量份的丙二醇甲醚醋酸酯、20重量份的甲基丙烯酸、15重量份的苯乙烯、35重量份的甲基丙烯酸苯甲酯、10重量份的甘油單甲基丙烯酸酯及20重量份的N-苯基馬來醯亞胺加至具有攪拌器的圓底燒瓶中。然後，在圓底燒瓶上架設冷凝器，並使圓底燒瓶內部充滿氮氣。接著，緩慢攪拌並升溫至80℃，以使各反應物均勻混合並進行聚合反應。反應4小時後，升溫至100℃，並添加0.5重量份的2,2’-偶氮二異丁腈進行反應。反應1小時後，即可製得其它鹼可溶性樹脂A-2-1。
合成例A-2-2
首先，將2重量份的2,2’-偶氮雙異丁腈、300重量份的二丙二醇單甲醚、15重量份的甲基丙烯酸、15重量份的2-羥基丙烯酸乙酯及70重量份的甲基丙烯酸苯甲酯加至具有攪拌器的圓底燒瓶中。然後，在圓底燒瓶上架設冷凝器，並使圓底燒瓶內部充滿氮氣。接著，緩慢攪拌並升溫至80℃，以使各反應物均勻混合並進行聚合反應。反應3小時後，升溫至100℃，並添加0.5重量份的2,2’-偶氮二異丁腈進行反應。反應1小時後，即可製得其他鹼可溶性樹脂A-2-2。
製備感光性樹脂組成物
以下係根據表2及3製備實施例1至9及比較例1至7之感光性樹脂組成物。
實施例1
將100重量份前述之鹼可溶性樹脂A-1-1、20重量份的三丙烯酸三經甲基丙酯(以下簡稱為B-1)、30重量份的1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-取代基]-乙烷酮1-(O-乙醯基肟)(汽巴精化有限公司製造之產品，且其型號為OXE-02，以下簡稱為C-2-1)、200重量份的MA100(三菱化學製造之產品，以下簡稱為E-1)及3重量份的如表2所示之F-1化合物加至1200重量份的丙二醇甲醚醋酸酯(以下簡稱為D-1)中，並以搖動式攪拌器(shaking type stirrer)攪拌均勻後，即可製得實施例1之感光性樹脂組成物。所得之感光性樹脂組成物以下述評價方式進行評價，所得結果如表2所示。
實施例2至9及比較例1至7：實施例2至9及比較例1至7係使用與實施例1之感光性樹脂組成物的製作方法相同之製備方法，不同之處在於實施例2至9及比較例1至7係改變感光性樹脂組成物中原料的種類及使用量，且其配方及評價結果分別如表2及表3所示，在此不另贅述。
表2及表3中：
評價方式：
<高精細度的圖案直線性評價方式>
將實施例1至9以及比較例1至7所製得之感光性樹脂組成物以旋轉塗佈的方式，塗佈在100mm×100mm之玻璃基板上，先進行減壓乾燥，壓力100mmHg、時間30秒鐘，然後再進行預烤，溫度80℃、時間3分鐘，可形成膜厚2.5μm之預烤塗膜。將該預烤塗膜隔著具有25μm寬(間距(pitch)50μm)的條狀圖案的光罩，利用300mJ/cm2的紫外光(曝光機型號AG500-4N)，藉此進行了曝光，之後浸 漬於23℃之顯影液2分鐘，以純水洗淨，再以200℃後烤80分鐘，即可在玻璃基板上形成膜厚2.0μm之感光性樹脂層。
利用光學顯微鏡對所述方法所形成的條狀圖案進行觀察及評價。評價的等級如下所述：◎：直線性良好；○：部分直線性不良；×：直線性不良。
上述實施例僅為說明本發明之原理及其功效，而非限制本發明。習於此技術之人士對上述實施例所做之修改及變化仍不違背本發明之精神。本發明之權利範圍應如後述之申請專利範圍所列。

Claims (10)

  1. 一種感光性樹脂組成物，包含：鹼可溶性樹脂(A)；具有乙烯性不飽和基之化合物(B)；光起始劑(C)；溶劑(D)；黑色顏料(E)；及具有式(1)結構之化合物(F)；其中：該鹼可溶性樹脂(A)包含一具有不飽和基之樹脂(A-1)，該具有不飽和基之樹脂(A-1)係由一混合物聚合形成，其中該混合物包含一具有至少二個環氧基之環氧化合物(a-1-1)，以及一具有至少一個羧酸基與至少一個乙烯性不飽和基之化合物(a-1-2)； 於式(1)中：R'係選自由氫原子、經取代或未經取代之碳數1至20之烴基及醯基所組成之群；R'可為相同或不同；R"係選自由氫原子、經取代或未經取代之碳數1至15之烴基、醯基及硝基所組成之群；R"可為相同或不同；s表示0、1或2；及 W表示，其中，Z表示氫原子或碳數為1至4之烷 基。
  2. 根據請求項1之感光性樹脂組成物，其中該具有至少二個環氧基之環氧化合物(a-1-1)包含具有如下式(2)所示之結構的化合物、如下式(3)所示之結構的化合物或上述化合物之組合： 其中，於式(2)及式(3)中，A1至A4分別獨立地代表氫原子、鹵素原子、碳數為1至5之烷基、碳數為1至5之烷氧基、碳數為6至12之芳香基或碳數為6至12之芳烷基；A5至A18分別獨立地代表氫原子、鹵素原子、碳數為1至8之烷基或碳數為6至15之芳香基；及u代表0至10之整數。
  3. 根據請求項1之感光性樹脂組成物，基於該鹼可溶性樹脂(A)之使用量為100重量份，該具有不飽和基之樹脂(A-1)之使用量為30重量份至100重量份；該具有乙烯性不飽和基之化合物(B)之使用量為20重量份至200重量份；該光起始劑(C)之使用量為5重量份至100重量份；該溶劑(D)之使用量為800重量份至3000重量份；該 黑色顏料(E)之使用量為100重量份至500重量份；及該具有式(1)結構之化合物(F)之使用量為1重量份至40重量份。
  4. 根據請求項1之感光性樹脂組成物，其中，該光起始劑(C)包含一具有式(4)所示結構之光起始劑(C-1)： 其中，R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及R8彼此獨立地為 氫、C1-C20烷基、、COR16、OR17、鹵素、NO2或 或R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8彼 此獨立地為經取代之C2-C10烯基； 或R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8彼此獨立地共同為-(CH2)p-Y-(CH2)q-；或R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8彼 此獨立地共同為 但條件為R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7 及R8中之至少一對係，R9、R10、R11及R12彼此獨立 地為氫、C1-C20烷基，該C1-C20烷基係未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、苯基、CN、OH、SH、C1-C4-烷氧基、(CO)OH或(CO)O(C1-C4烷基)；或R9、R10、R11及R12彼此獨立地為未經取代之苯基或經一或多個以下基團取代之苯基：C1-C6烷基、鹵素、CN、OR17、 SR18或NR19R20；或R9、R10、R11及R12彼此獨立地為鹵素、CN、OR17、SR18、SOR18、SO2R18或NR19R20，其中該等取代基OR17、SR18或NR19R20視情況經由該等基團R17、R18、R19及/或R20與萘基環中一個碳原子形成5員或6員環； 或R9、R10、R11及R12彼此獨立地為、COR16或 NO2；Y係O、S、NR26或直接鍵；p係整數0、1、2或3；q係整數1、2或3；X係CO或直接鍵；R13係C1-C20烷基，其係未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、R17、COOR17、OR17、SR18、CONR19R20、 NR19R20、PO(OCkH2k+1)2或 或R13係C2-C20烷基，其間雜有一或多個O、S、SO、SO2、NR26或CO，或係C2-C12烯基，其係未經間雜或間雜有一或多個O、CO或NR26，其中該經間雜之C2-C20烷基及該未經間雜或經間雜之C2-C12烯基係未經取代或經一或多個鹵素取代；或R13係C4-C8環烯基、C2-C12炔基或未經間雜或間雜有一或多個O、S、CO或NR26之C3-C10環烷基；或R13係苯基或萘基，其各為未經取代或經一或多個以下基團 取代：OR17、SR18、NR19R20、、COR16、 CN、NO2、鹵素、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、間雜有一或多個O、S、CO或NR26之C2-C20烷基；或其各經C3-C10環烷基或間雜有一或多個O、S、CO或NR26之C3-C10環烷基取代； k係整數1至10；R14係氫、C3-C8環烷基、C2-C5烯基、C1-C20烷氧基或C1-C20烷基，其係未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、苯基、C1-C20烷基苯基或CN；或R14係苯基或萘基，其各未經取代或經一或多個以下基團取代：C1-C6烷基、C1-C4鹵代烷基、鹵素、CN、OR17、SR18及/或NR19R20；或R14係C3-C20雜芳基、C1-C8烷氧基、苄氧基或苯氧基，該苄氧基及苯氧基係未經取代或經一或多個以下基團取代：C1-C6烷基、C1-C4鹵代烷基及/或鹵素；R15係C6-C20芳基或C3-C20雜芳基，其各係未經取代或經一或多個以下基團取代：苯基、鹵素、C1-C4鹵代烷基、CN、NO2、OR17、SR18、NR19R20、PO(OCkH2k+1)2、SO-C1-C10烷基、SO2-C1-C10烷基、間雜有一或多個O、S或NR26之C2-C20烷基；或其各經C1-C20烷基取代，該C1-C20烷基係未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、COOR17、CONR19R20、苯基、C3-C8環烷基、C3-C20雜芳基、C6-C20芳氧基羰基、C3-C20雜芳氧基羰基、OR17、SR18或NR19R20；或R15係氫、C2-C12烯基、未經間雜或間雜有一或多個O、CO或NR26之C3-C8環烷基；或R15係C1-C20烷基，其係未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、OR17、SR18、C3-C8環烷基、C3-C20雜芳基、C6-C20芳氧基羰基、C3-C20雜芳氧基羰基、NR19R20、COOR17、 CONR19R20、PO(OCkH2k+1)2、、苯 基；或該C1-C20烷基係經苯基取代，該苯基係經鹵素、C1-C20烷 基、C1-C4鹵代烷基、OR17、SR18或NR19R20取代；或R15係C2-C20烷基，其間雜有一或多個O、SO或SO2，且該經間雜之C2-C20烷基係未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、OR17、COOR17、CONR19R20、苯基或經OR17、SR18或NR19R20取代之苯基；或R15係C2-C20烷醯基或苯甲醯基，其係未經取代或經一或多個以下基團取代：C1-C6烷基、鹵素、苯基、OR17、SR18或NR19R20；或R15係未經取代或經一或多個OR17取代之萘甲醯基或係C3-C14雜芳基羰基；或R15係C2-C12烷氧基羰基，其係未經間雜或間雜有一或多個O且該經間雜或未經間雜之C2-C12烷氧基羰基係未經取代或經一或多個羥基取代；或R15係苯氧基羰基，其係未經取代或經一或多個以下基團取代：C1-C6烷基、鹵素、C1-C4鹵代烷基、苯基、OR17、SR18或NR19R20；或R15係CN、CONR19R20、NO2、C1-C4鹵代烷基、S(O)m-C1-C6烷基、未經取代或經C1-C12烷基或SO2-C1-C6烷基取代之S(O)m-苯基；或R15係SO2O-苯基，其係未經取代或經C1-C12烷基取代；或係二苯基膦醯基或二(C1-C4烷氧基)-膦醯基；m係1或2；R'14具有針對R14所給出含義中之一者；R'15具有針對R15所給出含義中之一者；X1係O、S、SO或SO2；X2係O、CO、S或直接鍵； R16係C6-C20芳基或C3-C20雜芳基，其各係未經取代或經一或多個以下基團取代：苯基、鹵素、C1-C4鹵代烷基、CN、NO2、OR17、SR18、NR19R20或間雜有一或多個O、S或NR26之C1-C20烷基；或其各經一或多個C1-C20烷基取代，該C1-C20烷基係未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、COOR17、CONR19R20、苯基、C3-C8環烷基、C3-C20雜芳基、C6-C20芳氧基羰基、C3-C20雜芳氧基羰基、OR17、SR18或NR19R20；或R16係氫、C1-C20烷基，該C1-C20烷基係未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、苯基、OH、SH、CN、C3-C6烯氧基、OCH2CH2CN、OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-苯基、(CO)OH或(CO)O(C1-C4烷基)；或R16係C2-C12烷基，其間雜有一或多個O、S或NR26；或R16係(CH2CH2O)n+1H、(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)、C2-C12烯基或C3-C8環烷基；或R16係經SR18取代之苯基，其中該基團R18表示鍵結至該COR16基團所附接之該咔唑部分之該苯基或萘基環的直接鍵；n係1至20；R17係氫、苯基-C1-C3烷基、C1-C20烷基，其係未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、OH、SH、CN、C3-C6烯氧基、OCH2CH2CN、OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-(C2-C4)烯基、O(CO)-苯基、(CO)OH、(CO)O(C1-C4烷基)、C3-C20環烷基、SO2-(C1-C4鹵代烷基)、O(C1-C4鹵代烷基)或間雜有一或多個O之C3-C20環烷基；或R17係C2-C20烷基，其間雜有一或多個O、S或NR26；或R17係(CH2CH2O)n+1H、(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)、C1-C8烷醯基、C2-C12烯基、C3-C6烯醯基或未經間雜或間雜有 一或多個O、S、CO或NR26之C3-C20環烷基；或R17係C1-C8烷基-C3-C10環烷基，其係未經間雜或間雜有一或多個O；或R17係苯甲醯基，其係未經取代或經一或多個C1-C6烷基、鹵素、OH或C1-C3烷氧基取代；或R17係苯基、萘基或C3-C20雜芳基，其各係未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、OH、C1-C12烷基、C1-C12烷氧基、CN、NO2、苯基-C1-C3烷氧基、苯氧基、C1-C12烷基硫基、苯基硫基、N(C1-C12烷基)2、二苯基-胺基或 或R17形成鍵結至該基團或所處之苯 基或萘基環之其中一個碳原子的直接鍵；R18係氫、C2-C12烯基、C3-C20環烷基或苯基-C1-C3烷基，其中該C2-C12烯基、C3-C20環烷基或苯基-C1-C3烷基係未經間雜或間雜有一或多個O、S、CO、NR26或COOR17；或R18係C1-C20烷基，其係未經取代或經一或多個以下基團取代：OH、SH、CN、C3-C6烯氧基、OCH2CH2CN、OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(CO)-(C2-C4)烯基、O(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-苯基或(CO)OR17；或R18係C2-C20烷基，其間雜有一或多個O、S、CO、NR26或COOR17；或R18係(CH2CH2O)nH、(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)、C2-C8烷醯基或C3-C6烯醯基；或R18係苯甲醯基，其係未經取代或經一或多個以下基團取代：C1-C6烷基、鹵素、OH、C1-C4烷氧基或C1-C4烷基硫基； 或R18係苯基、萘基或C3-C20雜芳基，其各係未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、C1-C12烷基、C1-C4鹵代烷基、C1-C12烷氧基、CN、NO2、苯基-C1-C3烷氧基、苯氧基、C1-C12烷基硫基、苯基硫基、N(C1-C12烷基)2、二苯基胺基、(CO)O(C1-C8烷基)、(CO)-C1-C8烷基、(CO)N(C1-C8烷基)2或 R19及R20彼此獨立地為氫、C1-C20烷基、C2-C4羥基烷基、C2-C10烷氧基烷基、C2-C5烯基、C3-C20環烷基、苯基-C1-C3烷基、C1-C8烷醯基、C1-C8烷醯基氧基、C3-C12烯醯基、SO2-(C1-C4鹵代烷基)或苯甲醯基；或R19及R20係苯基、萘基或C3-C20雜芳基，其各係未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、C1-C4鹵代烷基、C1-C20烷氧基、C1-C12烷基、苯甲醯基或C1-C12烷氧基；或R19及R20與其所附接之N原子一起形成未經間雜或間雜有O、S或NR17之5員或6員飽和或不飽和環，且該5員或6員飽和或不飽和環係未經取代或經一或多個以下基團取代：C1-C20烷基、C1-C20烷氧基、=O、OR17、SR18、NR21R22、(CO)R23、 NO2、鹵素、C1-C4-鹵代烷基、CN、苯基、或 未經間雜或間雜有一或多個O、S、CO或NR17之C3-C20環烷基；或R19及R20與其所附接之N原子一起形成雜芳香族環系統，該環系統係未經取代或經一或多個以下基團取代：C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、C1-C20烷氧基、=O、OR17、SR18、 NR21R22、(CO)R23、、鹵素、NO2、CN、苯基 或未經間雜或間雜有一或多個O、S、CO或NR17之C3-C20環烷 基；R21及R22彼此獨立地為氫、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、C3-C10環烷基或苯基；或R21及R22與其所附接之N原子一起形成未經間雜或間雜有O、S或NR26之5員或6員飽和或不飽和環，且該5員或6員飽和或不飽和環係未稠合或該5員或6員飽和或不飽和環與苯環稠合；R23係氫、OH、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、間雜有一或多個O、CO或NR26之C2-C20烷基、未經間雜或間雜有O、S、CO或NR26之C3-C20環烷基，或R23係苯基、萘基、苯基-C1-C4烷基、OR17、SR18或NR21R22；R24係(CO)OR17、CONR19R20、(CO)R17；或R24具有針對R19及R20所給出含義中之一者；R25係COOR17、CONR19R20、(CO)R17；或R25具有針對R17所給出含義中之一者；R26係氫、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、C2-C20烷基，其間雜有一或多個O或CO；或係苯基-C1-C4烷基、C3-C8環烷基，其係未經間雜或間雜有一或多個O或CO；或係(CO)R19；或係苯基，其係未經取代或經一或多個以下基團取代：C1-C20烷基、鹵素、C1-C4鹵代烷基、OR17、SR18、NR19R20或 但條件為在該分子中存在至少一個基團或
  5. 根據請求項4之感光性樹脂組成物，其中，該光起始劑(C)包含一具有式(4)所示結構之光起始劑(C-1)，其中，R1、R2、R3、 R4、R5、R6、R7及R8彼此獨立地為氫、C1-C20烷基、 、COR16或NO2，或R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5 及R6、R6及R7或R7及R8彼此獨立地共同為 但條件為R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7 及R8中至少一對係 X係CO或直接鍵；R13係C1-C20烷基，其係未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、OR17、SR18、COOR17、CONR19R20或PO(OCkH2k+1)2；或R13係C2-C20烷基，其間雜有一或多個O、S、NR26或CO；或R13係苯基或萘基，此二者係未經取代或經一或多個 或COR16取代； R14係C1-C20烷基、苯基或C1-C8烷氧基；R15係苯基、萘基、C3-C20雜芳基，其各係未經取代或經一或多個以下基團取代：苯基、鹵素、C1-C4鹵代烷基、OR17、SR18或C2-C20烷基，其間雜有一或多個O或S；或其各經一或多個C1-C20烷基取代，該C1-C20烷基係未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、COOR17、CONR19R20、苯基、C3-C8環烷基、C3-C20雜芳基、C6-C20芳氧基羰基、C4-C20雜芳氧基羰基、OR17、SR18、NR19R20或PO(OCkH2k+1)2；或R15係C1-C20烷基，其係未經取代或經一或多個以下基團取代：OR17、SR18、C3-C8環烷基、C3-C20雜芳基、NR19R20、COOR17、CONR19R20或PO(OCkH2k+1)2；R'14具有針對R14所給出含義中之一者；R'15具有針對R15所給出含義中之一者； R16係苯基，其係未經取代或經一或多個以下基團取代：OR17、SR18、NR19R20或間雜有一或多個O、S或NR26之C2-C20烷基，或R16係苯基，其係經一或多個C1-C20烷基取代，該C1-C20烷基係未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、COOR17、CONR19R20、苯基、C3-C8環烷基、C3-C20雜芳基、C6-C20芳氧基羰基、C4-C20雜芳氧基羰基、OR17、SR18或NR19R20；或R16係C1-C20烷基，其係未經取代或經以下基團取代：鹵素、苯基、OH、SH、CN、C3-C6烯氧基、OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(CO)-(C1-C4烷基)或(CO)O(C1-C4烷基)；R17係C1-C20烷基，其係未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(C1-C4烷基)、(CO)O(C1-C4烷基)、C3-C20環烷基或間雜有一或多個O之C3-C20環烷基；或R17係C2-C20烷基，其間雜有一或多個O；R18係經(CO)OR17取代之甲基；R19及R20彼此獨立地為氫、苯基、C1-C20烷基、C1-C8烷醯基或C1-C8烷醯基氧基；或R19及R20與其所附接之N原子一起形成雜芳香族環系統，該 環系統係未經取代或經取代； 但條件為在該分子中存在至少一個基團或
  6. 根據請求項4之感光性樹脂組成物，其中，該光起始劑(C)包含一具有式(4)所示結構之光起始劑(C-1)，其中，R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及R8彼此獨立地為氫，或R1及R2、R3及R4或 R5及R6彼此獨立地共同為 但條件為R1及R2、R3及R4或R5及R6中至少一對為 或R2係、COR16、NO2或 或R7係或COR16； R9、R11及R12係氫；R10係氫、OR17或COR16；X係CO或直接鍵；R13係C1-C20烷基，其係未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、R17、OR17、SR18或PO(OCkH2k+1)2；或R13係C2-C20烷基，其間雜有一或多個O；或R13係苯基；k係整數2；R14係C1-C20烷基或噻吩基；R15係苯基或萘基，其各係未經取代或經一或多個OR17或C1-C20烷基取代；或R15係噻吩基、氫、C1-C20烷基，該C1-C20烷基係未經取代或經一或多個以下基團取代：OR17、SR18、C3-C8環烷基、NR19R20或COOR17；或R15係C2-C20烷基，其間雜有SO2；R16係苯基或萘基，其各係未經取代或經一或多個以下基團取代：OR17、SR18、NR19R20或C1-C20烷基；或R16係噻吩基；R17係氫、C1-C8烷醯基、C1-C20烷基，該C1-C20烷基係未經取 代或經一或多個以下基團取代：鹵素、O(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-(C2-C4)烯基或間雜有一或多個O之C3-C20環烷基；或R17係C2-C20烷基，其間雜有一或多個O；R18係C3-C20環烷基、C1-C20烷基，其係未經取代或經一或多個OH、O(CO)-(C2-C4)烯基或(CO)OR17取代；或R18係苯基，其係未經取代或經一或多個鹵素取代；R19及R20彼此獨立地為C1-C8烷醯基或C1-C8烷醯基氧基；或R19及R20與其所附接之N原子一起形成間雜有O之5員或6員飽和環； 但條件為在該分子中存在至少一個基團
  7. 根據請求項4之感光性樹脂組成物，其中，基於該鹼可溶性樹脂(A)之使用量總和為100重量份，該具有式(4)所示結構之光起始劑(C-1)之使用量為5重量份至40重量份。
  8. 一種黑色矩陣，其係由根據請求項1至7任何一項之感光性樹脂組成物經一預烤處理、一曝光處理、一顯影處理及一後烤處理所形成。
  9. 一種彩色濾光片，係包含根據請求項8之黑色矩陣。
  10. 一種液晶顯示器，係包含根據請求項9之彩色濾光片。
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20220121113A1 (en) * 2019-01-23 2022-04-21 Basf Se Oxime ester photoinitiators having a special aroyl chromophore
CN113444032B (zh) * 2020-03-26 2023-05-09 优禘股份有限公司 一种咔唑肟酯化合物、制备方法、组合物及用途

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2116527A1 (en) * 2007-01-23 2009-11-11 FUJIFILM Corporation Oxime compound, photosensitive composition, color filter, method for production of the color filter, and liquid crystal display element
US20130188270A1 (en) * 2010-10-05 2013-07-25 Basf Se Oxime ester

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004029720A1 (ja) * 2002-09-30 2004-04-08 Zeon Corporation 感放射線性樹脂組成物、樹脂パターン膜とその形成方法、及び樹脂パターン膜の利用
WO2015076399A1 (ja) * 2013-11-25 2015-05-28 四国化成工業株式会社 官能基を有するグリコールウリル類とその利用
TW201638668A (zh) * 2015-04-22 2016-11-01 奇美實業股份有限公司 感光性樹脂組成物、畫素層、保護膜、間隙體、薄膜電晶體、彩色濾光片及液晶顯示裝置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2116527A1 (en) * 2007-01-23 2009-11-11 FUJIFILM Corporation Oxime compound, photosensitive composition, color filter, method for production of the color filter, and liquid crystal display element
US20110123929A1 (en) * 2007-01-23 2011-05-26 Fujifilm Corporation Oxime compound, photosensitive composition, color filter, production method for the color filter, and liquid crystal display element
US20130188270A1 (en) * 2010-10-05 2013-07-25 Basf Se Oxime ester

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