TWI618691B

TWI618691B - 次磺醯胺滯焰劑

Info

Publication number: TWI618691B
Application number: TW103138693A
Authority: TW
Inventors: 卡爾－埃里克維倫; 梅勒妮奧伯特; 泰雅蒂里; 維朗妮卡帕維列克
Original assignee: 卡爾－埃里克維倫; 梅勒妮奧伯特; 泰雅蒂里; 維朗妮卡帕維列克
Priority date: 2013-11-08
Filing date: 2014-11-07
Publication date: 2018-03-21
Also published as: KR102326228B1; US20160289566A1; EP3066153A1; CN105829430B; PL3066153T3; JP2020073644A; US11292968B2; EP3066153B1; WO2015067736A1; JP2017500432A; TW201529545A; CN105829430A; KR20160083108A; JP7021850B2; CN110872384B; CN110872384A; EP2871208A1

Abstract

本發明為滯焰劑的領域，且與使用次磺醯胺作為滯焰劑有關，特別是在聚合基質中。

Description

次磺醯胺滯焰劑

本發明是在滯焰劑的領域中，且與使用次磺醯胺作為滯焰劑有關，特別是在聚合基質中。

滯焰劑被加至合成以及天然的聚合材料，以增強聚合物的滯焰劑特性。無機以及有機化合物已被用於在各種類型聚合物中達成滯焰劑特性。滯焰劑的主要類型包括鹵化碳氫化合物、含磷化合物、例如金屬氧化物以及氫氧化物之類的金屬化合物、以及三聚氰胺衍生物。由於它們的有效性，鹵化滯焰劑是常用的。然而，鹵化化合物的使用已一般變成環境問題。為了減少與鹵化滯焰劑有關的問題，增效劑常與鹵化滯焰劑組合使用。增效劑是增強其他滯焰劑的滯焰特性的化合物，且因此能夠以實質上減少的量來使用其他滯焰劑。增效化合物包含一群已知為「自由基起始劑」的化合物，其包括有機過氧化物（見例如US3058926）、二苯甲基化合物（見例如US 3271333以及US3420786）、二硫化物（見例如US3284544）、腙（見US3269962）、次磺醯胺（見例如US3296340以及FR1391298）以及偶氮化合物，見（例如US4237179、US3897373、US4486347以及FR1425563）。這種增效劑只與其他滯焰劑組合使用，且典型地與鹵化滯焰劑組合使用，及/或它們自己可被鹵化。非鹵化N-烴基氧基受阻胺（也已知為NOR-受阻胺）已被提出為替代的滯焰劑。這些可單獨使用，例如取代鹵化滯焰劑，或作為用於滯焰劑應用的增效劑（見例如WO9900450）。此外，一些非鹵化偶氮、聯胺以及過氧化物衍生物也已被建議用於改進一些聚合物的滯焰特性（見例如WO2005030852以及WO2008101845）。然而，仍存在有對於有效非非鹵化滯焰化合物的需要，其將提供對於鹵化滯焰劑化合物的產業與環境上想要的替代方案。

因此本發明的目的是提供非鹵化滯焰劑化合物，以克服上述缺點。本發明的目的是使用分子式（I）化合物作為滯焰化合物來達成，包含該分子式（I）化合物的滯焰組成物的特徵在於獨立申請專利範圍中所說明的。本發明的較佳實施方式揭露於附屬申請專利範圍中。本發明是基於，如果單獨應用或與其他無鹵素滯焰劑組合使用，次磺醯胺提供了極佳的滯焰特性給聚合物基質的令人驚訝的體現。當本身具有任何滯焰活性時，本發明的化合物具有先前技術中未揭露的特定S-N核心。

本發明與使用分子式（I）化合物作為滯焰劑有關，分子式（I）化合物具有結構其中 L1、L2以及L3每個獨立地選自鍵結、C_1-10 -亞烷基、-(C=O)-、-O-(C=O)-、-(C=O)-O-、O、NH-(C=O)-、-(C=O)-NH-、NH以及NR20所組成的群組；每個R1以及R2獨立地選自H、S(=O)_p R3、C_1-30 -烷基、以R10隨選地取代一或更多次的C_3-7 -環烷基、C_2-30 -烯基、C_2-30 -炔基、C_1-10 -亞烷基-X-C_1-20 -烷基、以R10隨選地取代一或更多次的C_1-10 -亞烷基-X-C_1-7 -環烷基、以R10隨選地取代一或更多次的飽和或部分不飽和的單或雙環雜環以及以R10隨選地取代一或更多次的單或雙環芳基或雜芳基所組成的群組；或 L1、L2、R1以及R2與它們附接至的N原子一起形成NR1R2基團，該NR1R2基團所選自的群組的組成是以R10隨選地取代一或更多次的飽和或部分不飽和的單或雙環雜環；以R10隨選地取代一或更多次的單、雙、三、四或五環雜芳基；N=CR1’R2’；以及N=S=S； R3選自C_1-30 -烷基、以R30隨選地取代一或更多次的C_3-7 -環烷基、C_2-30 -烯基、C_2-30 -炔基、NR1R2、以R30隨選地取代一或更多次的飽和或部分不飽和的單或雙環雜環以及以R30隨選地取代一或更多次的單、雙或三環芳基或雜芳基所組成的群組；或 L1、L3、R1以及R3與它們附接至的N原子以及S原子一起形成基團，該基團選自以R40隨選地取代一或更多次的單、雙或三環雜芳基以及以R40隨選地取代一或更多次的飽和或部分不飽和的單或雙環雜環；以及R2是如上述所定義；或 L1、L2、L3、R1、R2以及R3與它們附接至的S原子以及N原子一起形成以R50隨選地取代一或更多次的單、雙或三環雜芳基；如上述所定義，每個R1’以及R2’分別獨立地是R1或R2，或R1’以及R2’與它們附接至的C原子一起形成CR1’R2’基團，該CR1’R2’基團選自以R10隨選地取代一或更多次的C_3-7 -環烷基、以R10隨選地取代一或更多次的飽和或部分不飽和的單或雙環雜環、以R10隨選地取代一或更多次的單或雙環芳基或雜芳基所組成的群組， X是O、S、NH、NR20、P、Si或Se；每個R10獨立地選自NO₂ 、CN、SO₃ H、COOH、COOR20、CHO、COR20、OCOR20、O(C=O)O-(NR1’’R2’’)-S(=O)_p R3、=O、=S、R20、NHCOR20、NH₂ 、NHR20、N(R20)₂ 、OH、OR20、OSiH₃ 、OSi(R20)₃ 、S(=O)_p R3、=N-S(=O)_p R3、-N=N-(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3以及=N-N=(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3所組成的群組，其中R1’’R2’’N形成以一或更多個R10’隨選地取代的單環飽和雜環；倘若當R10是O(C=O)O-(NR1’’R2’’)-S(=O)_p R3、S(=O)_p R3、=N-S(=O)_p R3、-N=N-(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3或=N-N=(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3時，該R3不以NR1R2或SNR1R2取代；每個R10’獨立地選自NO₂ 、CN、SO₃ H、COOH、COOR20、CHO、COR20、OCOR20、=O、R20、NHCOR20、NH₂ 、NHR20、N(R20)₂ 、OH、OR20、OSiH₃ 以及OSi(R20)₃ 所組成的群組；每個R20獨立地選自C_1-30 -烷基、C_2-30 -烯基、C_2-30 -炔基、芳基、C_1-10 -亞烷基-芳基、雜芳基以及C_1-10 -亞烷基-雜芳基所組成的群組，其中該芳基或雜芳基以C_1-4 -烷基、NO₂ 、CN、NH₂ 、NMe₂ 、OH及/或OMe隨選地取代一或更多次；每個R30獨立地選自NO₂ 、CN、SO₃ H、COOH、COOR20、CHO、COR20、OCOR20、=O、R20、OH、OR20、OSiH₃ 、OSi(R20)₃ 、NHCOR20、NR1R2以及S(=O)_p -NR1R2所組成的群組，倘若當R30是NR1R2或S(=O)_p -NR1R2時，該NR1R2不以O(C=O)O-(NR1’’R2’’)-S(=O)_p R3、S(=O)_p R3、=N-S(=O)_p R3、-N=N-(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3或=N-N=(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3取代；每個R40獨立地選自NO₂ 、CN、SO₃ H、COOH、COOR20、CHO、COR20、OCOR20、=O、R20、OH、OR20、OSiH₃ 、OSi(R20)₃ 、NHCOR20、NR1R2、S(=O)_p R3以及以R10’隨選地取代一或更多次的飽和或部分不飽和單環雜環所組成的群組，倘若當R40是NR1R2或S(=O)_p R3時，該R3不以NR1R2或S(=O)_p -NR1R2取代，以及該NR1R2不以O(C=O)O-(NR1’’R2’’)-S(=O)_p R3、-S(=O)_p R3、=N-S(=O)_p R3、-N=N-(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3或=N-N=(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3取代；每個R50獨立地選自NO₂ 、CN、SO₃ H、COOH、COOR20、CHO、COR20、OCOR20、=O、R20、OH、OR20、OSiH₃ 、OSi(R20)₃ 、NHCOR20、NR1R2、S(=O)_p R3以及以R10’隨選地取代一或更多次的飽和或部分不飽和單環雜環所組成的群組，倘若當R50是NR1R2或S(=O)_p R3時，該R3不以NR1R2或S(=O)_p -NR1R2取代，以及該NR1R2不以O(C=O)O-(NR1’’R2’’)-S(=O)_p R3、S(=O)_p R3、=N-S(=O)_p R3、-N=N-(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3或=N-N=(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3取代；以及每個p獨立地選自0、1以及2所組成的群組。此外，本發明與包含一或更多個重複單元的聚合物的使用有關，其中至少一個重複單元包含分子式（II）的次磺醯胺基元作為滯焰劑其中該次磺醯胺基元被包括在聚合物的主鏈中、在聚合物的側基中、或是聚合物交聯的一部分，以及其中 L1、L2以及L3每個獨立地選自鍵結、C_1-10 -亞烷基、-(C=O)-、-O-(C=O)-、-(C=O)-O-、O、NH-(C=O)-、-(C=O)-NH-、NH以及NR20所組成的群組；每個R1以及R2獨立地選自H、S(=O)_p R3、C_1-30 -烷基、以R10隨選地取代一或更多次的C_3-7 -環烷基、C_2-30 -烯基、C_2-30 -炔基、C_1-10 -亞烷基-X-C_1-20 -烷基、以R10隨選地取代一或更多次的C_1-10 -亞烷基-X-C_1-7 -環烷基、以R10隨選地取代一或更多次的飽和或部分不飽和的單或雙環雜環以及以R10隨選地取代一或更多次的單或雙環芳基或雜芳基所組成的群組；或 L1、L2、R1以及R2與它們附接至的N原子一起形成NR1R2基團，該NR1R2基團選自以R10隨選地取代一或更多次的飽和或部分不飽和的單或雙環雜環；以R10隨選地取代一或更多次的單、雙、三、四或五環雜芳基；N=CR1’R2’；以及N=S=S所組成的群組； R3選自C_1-30 -烷基、以R30隨選地取代一或更多次的C_3-7 -環烷基、C_2-30 -烯基、C_2-30 -炔基、NR1R2、以R30隨選地取代一或更多次的飽和或部分不飽和的單或雙環雜環以及以R30隨選地取代一或更多次的單、雙或三環芳基或雜芳基組成的群組；或 L1、L3、R1以及R3與它們附接至的N原子以及S原子一起形成基團，該基團選自以R40隨選地取代一或更多次的單、雙或三環雜芳基以及以R40隨選地取代一或更多次的飽和或部分不飽和的單或雙環雜環；以及R2是如上述所定義；或 L1、L2、L3、R1、R2以及R3與它們附接至的S原子以及N原子一起形成以R50隨選地取代一或更多次的單、雙或三環雜芳基；每個R1’以及R2’分別獨立地是如上述所定義的R1或R2，或R1’以及R2’與它們附接至的C原子一起形成CR1’R2’基團，該CR1’R2’基團選自以R10隨選地取代一或更多次的C_3-7 -環烷基、以R10隨選地取代一或更多次的飽和或部分不飽和的單或雙環雜環、以R10隨選地取代一或更多次的單或雙環芳基或雜芳基所組成的群組， X是O、S、NH、NR20、P、Si或Se；每個R10獨立地選自NO₂ 、CN、SO₃ H、COOH、COOR20、CHO、COR20、OCOR20、O(C=O)O-(NR1’’R2’’)-S(=O)_p R3、=O、=S、R20、NHCOR20、NH₂ 、NHR20、N(R20)₂ 、OH、OR20、OSiH₃ 、OSi(R20)₃ 、S(=O)_p R3、=N-S(=O)_p R3、-N=N-(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3以及=N-N=(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3所組成的群組，其中R1’’R2’’N形成以一或更多個R10’隨選地取代的單環飽和雜環；倘若當R10是O(C=O)O-(NR1’’R2’’)-S(=O)_p R3、S(=O)_p R3、=N-S(=O)_p R3、-N=N-(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3或=N-N=(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3時，該R3不以NR1R2或SNR1R2取代；每個R10’獨立地選自NO₂ 、CN、SO₃ H、COOH、COOR20、CHO、COR20、OCOR20、=O、R20、NHCOR20、NH₂ 、NHR20、N(R20)₂ 、OH、OR20、OSiH₃ 以及OSi(R20)₃ 所組成的群組；每個R20獨立地選自C_1-30 -烷基、C_2-30 -烯基、C_2-30 -炔基、芳基、C_1-10 -亞烷基-芳基、雜芳基以及C_1-10 -亞烷基-雜芳基所組成的群組，其中該芳基或雜芳基以C_1-4 -烷基、NO₂ 、CN、NH₂ 、NMe₂ 、OH及/或OMe隨選地取代一或更多次；每個R30獨立地選自NO₂ 、CN、SO₃ H、COOH、COOR20、CHO、COR20、OCOR20、=O、R20、OH、OR20、OSiH₃ 、OSi(R20)₃ 、NHCOR20、NR1R2以及S(=O)_p -NR1R2所組成的群組，倘若當R30是NR1R2或S(=O)_p -NR1R2時，該NR1R2不以O(C=O)O-(NR1’’R2’’)-S(=O)_p R3、S(=O)_p R3、=N-S(=O)_p R3、-N=N-(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3或=N-N=(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3取代；每個R40獨立地選自所組成的群組NO₂ 、CN、SO₃ H、COOH、COOR20、CHO、COR20、OCOR20、=O、R20、OH、OR20、OSiH₃ 、OSi(R20)₃ 、NHCOR20、NR1R2、S(=O)_p R3以及以R10’隨選地取代一或更多次的飽和或部分不飽和單環雜環所組成的群組，倘若當R40是NR1R2或S(=O)_p R3時，該R3不以NR1R2或S(=O)_p -NR1R2取代，以及該NR1R2不以O(C=O)O-(NR1’’R2’’)-S(=O)_p R3、-S(=O)_p R3、=N-S(=O)_p R3、-N=N-(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3或=N-N=(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3取代；每個R50獨立地選自NO₂ 、CN、SO₃ H、COOH、COOR20、CHO、COR20、OCOR20、=O、R20、OH、OR20、OSiH₃ 、OSi(R20)₃ 、NHCOR20、NR1R2、S(=O)_p R3以及以R10’隨選地取代一或更多次的飽和或部分不飽和單環雜環所組成的群組，倘若當R50是NR1R2或S(=O)_p R3時，該R3不以NR1R2或S(=O)_p -NR1R2取代，以及該NR1R2不以O(C=O)O-(NR1’’R2’’)-S(=O)_p R3、S(=O)_p R3、=N-S(=O)_p R3、-N=N-(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3或=N-N=(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3取代；以及每個p獨立地選自0、1以及2所組成的群組；倘若R1、R2以及R3的至少其中之一連接至聚合物。特別地，本發明與分子式（I）化合物或包含一或更多個重複單元的聚合物的使用有關，其中至少一個重複單元包含分子式（II）的次磺醯胺基元作為滯焰劑，其中 L1、L2以及L3每個獨立地選自鍵結、C_1-10 -亞烷基、-(C=O)-、O、NH以及NR20所組成的群組；每個R1以及R2獨立地選自H、S(=O)_p R3、C_1-30 -烷基、以R10隨選地取代一或更多次的C_3-7 -環烷基、C_2-30 -烯基、C_2-30 -炔基、C_1-10 -亞烷基-X-C_1-20 -烷基、以R10隨選地取代一或更多次的C_1-10 -亞烷基-X-C_1-7 -環烷基、以R10隨選地取代一或更多次的飽和或部分不飽和的單或雙環雜環以及以R10隨選地取代一或更多次的單或雙環芳基或雜芳基所組成的群組；或 L1、L2、R1以及R2與它們附接至的N原子一起形成NR1R2基團，該NR1R2基團選自以R10隨選地取代一或更多次的飽和或部分不飽和的單或雙環雜環；以R10隨選地取代一或更多次的單、雙、三、四或五環雜芳基；N=CR1’R2’；以及N=S=S所組成的群組； R3選自C_1-30 -烷基、以R30隨選地取代一或更多次的C_3-7 -環烷基、C_2-30 -烯基、C_2-30 -炔基、NR1R2、以R30隨選地取代一或更多次的飽和或部分不飽和的單或雙環雜環以及以R30隨選地取代一或更多次的單、雙或三環芳基或雜芳基所組成的群組；或 L1、L3、R1以及R3與它們附接至的N原子以及S原子一起形成基團，該基團選自以R40隨選地取代一或更多次的單、雙或三環雜芳基以及以R40隨選地取代一或更多次的飽和或部分不飽和的單或雙環雜環；以及R2是如上述所定義；或 L1、L2、L3、R1、R2以及R3與它們附接至的S原子以及N原子一起形成以R50隨選地取代一或更多次的單、雙或三環雜芳基；每個R1’以及R2’分別獨立地是如上述所定義的R1或R2，或R1’以及R2’與它們附接至的C原子一起形成CR1’R2’基團，該CR1’R2’基團選自以R10隨選地取代一或更多次的C_3-7 -環烷基、以R10隨選地取代一或更多次的飽和或部分不飽和的單或雙環雜環、以R10隨選地取代一或更多次的單或雙環芳基或雜芳基所組成的群組， X是O、S、NH、NR20、P、Si或Se；每個R10獨立地選自NO₂ 、CN、SO₃ H、COOH、COOR20、CHO、COR20、OCOR20、=O、R20、NHCOR20、NH₂ 、NHR20、N(R20)₂ 、OH、OR20、OSiH₃ 、OSi(R20)₃ 、S(=O)_p R3、=N-S(=O)_p R3、-N=N-(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3以及=N-N=(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3所組成的群組，其中R1’’R2’’N形成以一或更多個R10’隨選地取代的單環飽和雜環；倘若當R10是S(=O)_p R3、=N-S(=O)_p R3、-N=N-(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3或=N-N=(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3時，該R3不以NR1R2或SNR1R2取代；每個R10’獨立地選自NO₂ 、CN、SO₃ H、COOH、COOR20、CHO、COR20、OCOR20、=O、R20、NHCOR20、NH₂ 、NHR20、N(R20)₂ 、OH、OR20、OSiH₃ 以及OSi(R20)₃ 所組成的群組；每個R20獨立地選自C_1-30 -烷基、C_2-30 -烯基、C_2-30 -炔基、芳基、C_1-10 -亞烷基-芳基、雜芳基以及C_1-10 -亞烷基-雜芳基所組成的群組，其中該芳基或雜芳基以C_1-4 -烷基、NO₂ 、CN、NH₂ 、NMe₂ 、OH及/或OMe隨選地取代一或更多次；每個R30獨立地選自NO₂ 、CN、SO₃ H、COOH、COOR20、CHO、COR20、OCOR20、=O、R20、OH、OR20、OSiH₃ 、OSi(R20)₃ 、NHCOR20、NR1R2以及S(=O)_p -NR1R2所組成的群組，倘若當R30是NR1R2或S(=O)_p -NR1R2時，該NR1R2不以S(=O)_p R3、=N-S(=O)_p R3、-N=N-(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3或=N-N=(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3取代；每個R40獨立地選自NO₂ 、CN、SO₃ H、COOH、COOR20、CHO、COR20、OCOR20、=O、R20、OH、OR20、OSiH₃ 、OSi(R20)₃ 、NHCOR20、NR1R2、S(=O)_p R3以及以R10’隨選地取代一或更多次的飽和或部分不飽和單環雜環所組成的群組，倘若當R40是NR1R2或S(=O)_p R3時，該R3不以NR1R2或S(=O)_p -NR1R2取代，以及該NR1R2不以-S(=O)_p R3、=N-S(=O)_p R3、-N=N-(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3或=N-N=(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3取代；每個R50獨立地選自NO₂ 、CN、SO₃ H、COOH、COOR20、CHO、COR20、OCOR20、=O、R20、OH、OR20、OSiH₃ 、OSi(R20)₃ 、NHCOR20、NR1R2、S(=O)_p R3以及以R10’隨選地取代一或更多次的飽和或部分不飽和單環雜環所組成的群組，倘若當R50是NR1R2或S(=O)_p R3時，該R3不以NR1R2或S(=O)_p -NR1R2取代，以及該NR1R2不以S(=O)_p R3、=N-S(=O)_p R3、-N=N-(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3或=N-N=(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3取代；以及每個p獨立地選自0、1以及2所組成的群組。分子式（I）化合物可與分子式（I）的一或更多個其他化合物、及/或其他滯焰劑及/或增效劑組合使用。同樣地，包含一或更多個重複單元的聚合物(其中至少一個重複單元包含分子式（II）次磺醯胺基元)可與包含一或更多個重複單元的一或更多個其他聚合物組合使用，其中至少一個重複單元包含分子式（II）的次磺醯胺基元、分子式（I）的一或更多個化合物、及/或其他滯焰劑及/或增效劑。分子式（I）化合物及/或包含一或更多個重複單元的聚合物的組合使用(其中至少一個重複單元包含分子式（II）次磺醯胺基元以及其他滯焰劑)協同地改進了其他滯焰劑的滯焰功效。分子式（I）化合物以及包含一或更多個重複單元的聚合物(其中至少一個重複單元包含分子式（II）的次磺醯胺基元)對於其他傳統滯焰劑可具有協同作用。在這種例子中，比起一個單獨或以相同的量，它們的使用允許了當應用傳統滯焰劑時的所需量的顯著降低，及/或達成了更好的滯焰分類。量是以本領域領域已知方式來選擇，以至於提供產業可接受的滯焰特性給聚合基質。當然，取決於，即，所使用的聚合基質以及所獲得滯焰使用聚合基質的應用的使用，有效量會不同，且可由技術人員來決定。作為範例，基於聚合基質，量是從0.1至20％w/w，較佳為0.1至10％。如果使用了與其他分子式（I）化合物或如本文中描述的分子式（I）化合物之外的其他滯焰劑的增效混合物，則當然需要較低量的分子式（I）化合物以及傳統滯焰劑來達成有效的滯焰效果。因此用語有效量也包括在這種增效混合物中使用的較低量。如本文中以及此後所使用的用語「C_1-30 -烷基」本身或作為另一基團的部分是脂肪族線性或分支碳氫化合物基團，其在烷基基元中適合地具有1至30個，較佳為1至7個碳原子，且因此C_1-7 -烷基包括甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、仲丁基、異丁基、叔丁基以及分支以及直鏈戊基、己基以及庚基。如本文中以及此後所使用的用語「C_1-10 -亞烷基」，是衍生自適合地具有1至10個碳原子的直鏈或支鏈碳氫化合物的二價基團。亞烷基的代表性範例包括，但不限於，-CH₂ -、-CH(CH₃ )-、-C(CH₃ )₂ -、-CH₂ CH₂ -、-CH₂ CH₂ CH₂ -、-CH₂ CH₂ CH₂ CH₂ -以及-CH₂ CH(CH₃ )CH₂ -。如本文中以及此後所使用的用語「C_2-30 -烯基」是在任何兩個碳原子之間具有至少一烯烴雙鍵，且在烯基基元中適合地具有1至30個，較佳為1至7個碳原子(例如乙烯基、1-丙烯基、2-丙烯基、3-丙烯基、丁烯基、戊烯基以及己烯基)之不飽和線性或分支碳氫化合物基團。如本文中所使用的用語「C_2-30 -炔基」是在任何兩個碳原子之間具有至少一烯烴三鍵，且在烯基基元中適合地具有1至30個，較佳為1至7個碳原子(例如乙炔基、丙炔基、丁炔基、戊炔基以及己炔基)的不飽和線性或分支碳氫化合物基團。如本文中以及此後所使用的用語「C_3-7 -環烷基」意指具有3至7個碳原子的環烷基，且因此包括環丙基、環丁基、環戊基、環己基以及環庚基。本文中所使用的用語「飽和或部分不飽和的單或雙環雜環」意指包含一或更多個雜原子作為環原子的脂肪族或部分不飽和環，較佳為1至4個雜原子，其中該雜原子至少包括在相同上下文中指稱的雜原子以及隨選地一或更多個進一步的雜原子。除非另外指出，每個雜原子獨立地選自N、S、O、P、Si以及Se，較佳為N、O以及S。飽和單環雜環的範例包括，但不限於，吡咯啶基、四氫呋喃基、咪唑啶基、吡唑啶基、哌啶基、四氫吡喃基、四氫噻哌喃基、哌嗪基、嗎啉基、硫代嗎啉基、二噁烷基以及二噻烷基。本文中以及此後所使用的用語「芳基」意指單以及多環芳香碳氫化合物。芳基的範例包括但不限於苯基以及萘基。芳基可以如本文中以及此後所定義的一或更多個取代基取代。本文中以及此後所使用的用語「雜芳基」意指包含一或更多個雜原子作為環原子的單以及多環芳香環，較佳為1至4個雜原子，其中該雜原子至少包括在相同上下文中指稱的雜原子以及隨選地一或更多個進一步的雜原子。除非另外指出，每個雜原子獨立地選自N、O、S、P、Si以及Se，較佳為N、O以及S。雜芳基只需要具有某種程度的芳香特徵。雜芳基可以如本文中以及此後所定義的一或更多個取代基取代。單環雜芳基的範例包括，但不限於，吡咯基、呋喃基、噻吩基、磷雜環戊二烯基、噻咯基、三唑基、呋吖基、噁二唑基、噻二唑基、二噻唑基、四唑基、咪唑基、吡啶基、吡喃基、噻哌喃基、鹽基（salinyl）、磷苯（phosphinine）、吡嗪基、嘧啶基、噠嗪基、噁嗪、噻嗪、二嗪、二噻、三嗪基以及四嗪基。雙環雜芳基的範例包括吲哚基、喹啉基、苯并氮呯基、苯并噻唑基以及從單環雜芳基以及苯環或另一單環雜芳基的融合產生的其他雙環芳基。三環雜芳基的範例包括咔唑基、吖啶基、從如上述所定義的雙環雜芳基以及苯環或另一單環雜芳基的融合產生的其他三環芳基。當任何變因在任何成分中或在分子式（I）中發生多於一次，其在每次發生上的定義獨立於其在每個其他發生的定義。此外，取代基及/或變因的組合是可允許的，只要這種組合產生穩定的化合物。如本文中所使用的，為聚合物主鏈（或骨架）部分的單體是在至少兩端上連接至聚合物鏈的重複單元。將可領略的是，基元可為骨架單體中的唯一基元。或者，基元可為單體骨架中的多個基元的其中之一：如本文中所使用的用語「側基（側基）」意指只在一端附接至聚合物骨架的基元。要了解的是，基元可直接連接至聚合物骨架，或可有額外的基元，例如，在基元以及聚合物骨架之間的鏈接基團，L’。附接可在R1、R2以及R3基團的任一。較佳地，鏈接基團L’選自鍵結、-O-、-NH-、-(C=O)-、-O-(C=O)-、-(C=O)-O-、-N(C=O)、-(C=O)-N-、-O-(C=O)-NH-、-NH-(C=O)-O-、-O-(C=O)-C_1-10 -亞烷基-O-、-O-C_1-10 -亞烷基-(C=O)-O-、-O(C=O)-O)-、-Si-、以R10隨選地取代一或更多次的單或雙環芳基或雜芳基所組成的群組，其中R10是如本文中所定義。如本文中以及此後所使用的用語「隨選地取代」意指其提及的基團是獨立地未取代或以一或更多個，較佳為1、2、3或4個，附接在任何可用原子的取代基取代，以產生穩定的化合物，一般而言，除外另外指出，「取代」意指如本文中所定義的取代基，其中連至包含於其中的氫原子的一或更多個鍵結被連至非氫原子的鍵結取代。「隨選的」或「隨選地」意指隨後描述的事件或情況可能但不需要發生，且該描述包括其中該事件或情況發生的例子以及其中未發生的例子。「包含（comprises）」或「包含（comprising）」意指隨後描述的集合可能但不需要包括其他元件。分子式（I）化合物以及包含一或更多個重複單元的聚合物具有先前技術中未揭露具有任何滯焰活性的特定S-N核心，其中至少一個重複單元包含本發明的分子式（II）的次磺醯胺基元。除了一些特定的2-苯并噻唑次磺醯胺衍生物之外，分子式（I）化合物以及包含一或更多個重複單元的聚合物未在先前技術中被揭露具有任何增效滯焰活性，其中至少一個重複單元包含分子式（II）的次磺醯胺基元。較佳的分子式（I）化合物或包含一或更多個重複單元的聚合物是其中每個p是0的那些，其中至少一個重複單元包含分子式（II）的次磺醯胺基元。特別地，較佳的分子式（I）化合物或包含一或更多個重複單元的聚合物是其中L1、L2以及L3每個是鍵結的那些，其中至少一個重複單元包含分子式（II）的次磺醯胺基元。進一步的較佳分子式（I）化合物或包含一或更多個重複單元之聚合物是其中每個p是0以及每個L1、L2以及L3是鍵結的那些，其中至少一個重複單元包含分子式（II）的次磺醯胺基元。在本發明的一個範例中，本發明與分子式（I）化合物或包含一或更多個重複單元的聚合物有關，其中至少一個重複單元包含分子式（II）的次磺醯胺基元，其中 L1、L2以及L3每個是鍵結；每個R1以及R2獨立地選自SR3、C_1-30 -烷基、以R10隨選地取代一或更多次的C_3-7 -環烷基、包含1至4個每個獨立地選自N、S以及O的雜原子且以R10隨選地取代一或更多次的飽和單環雜環以及包含1至4個每個獨立地選自N、S以及O的雜原子且以R10隨選地取代一或更多次的單或雙環芳基或雜芳基所組成的群組；或 L1、L2、R1以及R2與它們附接至的N原子一起形成NR1R2基團，該NR1R2基團選自隨選地進一步包含1至4個每個獨立地選自N、S以及O的雜原子且以R10隨選地取代一或更多次的飽和單環雜環；隨選地進一步包含1至4個每個獨立地選自N、S以及O的雜原子且以R10隨選地取代一或更多次的單、雙或三環雜芳基；N=CR1’R2’；以及N=S=S； R3選自下述所組成的群組：C_1-30 -烷基；C_3-7 -環烷基，其以R30隨選地取代一或更多次；NR1R2；包含1至4個每個獨立地選自N、S以及O的雜原子且以R30隨選地取代一或更多次的飽和單環雜環；以及包含1至4個每個獨立地選自N、S以及O的雜原子的單、雙或三環芳基或雜芳基，其以R30隨選地取代一或更多次；或 L1、L3、R1以及R2與它們附接至的N原子以及S原子一起形成基團，該基團選自隨選地進一步包含1至3個選自N、S以及O的雜原子且以R40隨選地取代一或更多次的單、雙或三環雜芳基以及隨選地進一步包含1至3個選自N、S以及O的雜原子且以R40隨選地取代一或更多次的飽和單或雙環雜環系統；以及R2是如上述所定義；或 L1、L2、L3、R1、R2以及R3與它們附接至的S原子以及N原子一起形成雙或三環雜芳基，該雙或三環雜芳基隨選地進一步包含1至4個每個獨立地選自N、S以及O，且以R50隨選地取代一或更多次的雜原子；每個R1’以及R2’ 分別獨立地是如上述所定義的R1或R2，或R1’以及R2’與它們附接至的C原子一起形成CR1’R2’基團，該CR1’R2’基團選自以R10隨選地取代一或更多次的C_3-7 -環烷基、以R10隨選地取代一或更多次的飽和或部分不飽和的單或雙環雜環、以R10隨選地取代一或更多次的單或雙環芳基或雜芳基所組成的群組，每個R10獨立地選自NO₂ 、CN、SO₃ H、COOH、COOR20、CHO、COR20、OCOR20、=O、R20、NHCOR20、NH₂ 、NHR20、N(R20)₂ 、OH、OR20、SR3、-N=N-(R1’’R2’’N)-SR3以及=N-N=(R1’’R2’’N)-SR3所組成的群組，其中R1’’R2’’N形成以一或更多個R10’隨選地取代的單環飽和雜環；倘若當R10是SR3、-N=N-(R1’’R2’’N)-SR3或=N-N=(R1’’R2’’N)-SR3時，該R3不以NR1R2或SNR1R2取代；每個R10’獨立地選自NO₂ 、CN、SO₃ H、COOH、COOR20、CHO、COR20、OCOR20、=O、R20、NHCOR20、NH₂ 、NHR20、N(R20)₂ 、OH以及OR20所組成的群組；每個R20獨立地選自C_1-30 -烷基、C_2-30 -烯基、C_2-30 -炔基、芳基、C_1-10 -亞烷基-芳基、雜芳基以及C_1-10 -亞烷基-雜芳基所組成的群組，其中該芳基或雜芳基以C_1-4 -烷基、NO₂ 、CN、NH₂ 、NMe₂ 、OH及/或OMe隨選地取代一或更多次；每個R30獨立地選自NO₂ 、CN、SO₃ H、COOH、COOR20、CHO、COR20、OCOR20、=O、R20、OH、OR20、NHCOR20、NR1R2以及SNR1R2所組成的群組，倘若當R30是NR1R2或SNR1R2時，該R1以及R2不以SR3、-N=N-(R1’’R2’’N)-SR3或=N-N=(R1’’R2’’N)-SR3取代；每個R40獨立地選自NO₂ 、CN、SO₃ H、COOH、COOR20、CHO、COR20、OCOR20、=O、R20、OH、OR20、NHCOR20、NR1R2、SR3以及以R10’隨選地取代一或更多次的飽和或部分不飽和單環雜環所組成的群組，倘若當R40是NR1R2或SR3時，該R3不以NR1R2或SNR1R2取代，以及該R1以及R2不以SR3、-N=N-(R1’’R2’’N)-SR3或=N-N=(R1’’R2’’N)-SR3取代；每個R50獨立地選自NO₂ 、CN、SO₃ H、COOH、COOR20、CHO、COR20、OCOR20、=O、R20、OH、OR20、NHCOR20、NR1R2、SR3以及以R10’隨選地取代一或更多次的飽和或部分不飽和單環雜環所組成的群組，倘若當R50是NR1R2或SR3時，該R3不以NR1R2或SNR1R2取代，以及該R1以及R2不以SR3、-N=N-(R1’’R2’’N)-SR3或=N-N=(R1’’R2’’N)-SR3取代。分子式（I）化合物或包含一或更多個重複單元的聚合物(其中至少一個重複單元包含分子式（II）的次磺醯胺基元，其中NR1R2形成環)是特別好的滯焰劑。特別地，雜芳基增加了分子式（I）化合物的熱穩定度。在本發明的一個範例中，本發明與分子式（I）化合物有關，其中R1以及R2與它們附接至的N原子一起形成單環、雙環或三環雜芳基，其以R20隨選地取代一或更多次。有利地，該芳香環系統是咔唑基，其以R20隨選地取代一或更多次。在此範例中，R3是如上述所定義，較佳為單或雙環芳香環系統，其如上述所定義以R30隨選地取代一或更多次，更佳地，R3是以R20隨選地取代一、二或三次的苯基，最佳地，R3選自苯基、甲氧基苯基、硝基苯基、甲基苯基以及三甲基苯基所組成的群組。其中NR1R2形成不飽和或芳香環系統的本發明分子式（I）化合物的特定範例是分子式（Ia）化合物其中每個m獨立地是0、1、2、3或4，較佳為0，每個R10以及R3是如上述所定義，以及Z是鍵結、O、S、NH、NR20、NSR3、CH₂ 、CHR20、C(R20)₂ 或C=O，較佳為鍵結、CH₂ 、CHR20、C(R20)₂ 或C=O，更佳地，Z是鍵結或NSR3。最佳地，Z是鍵結，以及分子式（Ia）化合物因此是分子式（Iaa）化合物其中每個m獨立地是0、1、2、3或4，較佳為0，以及每個R10以及R3獨立地如上述所定義。較佳地，R3是苯基或咔唑基，其中如上述所定義，該苯基或咔唑基隨選地以R30取代一、二或三次；每個R30有利地獨立地選自R20、NHCOR20、OH、OR20、N(R20)₂ 以及NR1R2所組成的群組；其中R20是如上述所定義，較佳為甲基；以及每個R1以及R2是如上述所定義；更佳地，每個R30獨立地是甲基或甲氧基。或者Z是N-SR3，以及分子式（Ia）化合物因此是分子式（Iab）化合物其中每個m獨立地是0、1、2、3或4，較佳為0，以及每個R10以及R3獨立地如上述所定義。較佳地，R3是芳基，更佳地，R3選自甲氧基苯基、硝基苯基、甲基苯基以及三甲基苯基所組成的群組。在其中NR1R2形成不飽和或芳香環系統的仍進一步的適合範例中是分子式（Iac）化合物其中m是0、1、2、3或4，較佳為0，以及T選自C=O、C=S、C=N-SR3、N-SR3、N、S、O以及P所組成的群組；以及每個R3以及R10獨立地是如上述所定義。較佳地，R3是芳基，更佳地，R3選自甲氧基苯基、硝基苯基、甲基苯基以及三甲基苯基所組成的群組。較佳地，T是C=O。在本發明的另一個有利範例中，R1以及R2的至少其中之一獨立地選自以R10隨選地取代一或更多次的單或雙環芳香或不飽和碳或雜環系統。較佳地，R1以及R2的至少其中之一選自苯基、萘基所組成的群組。芳基以及雜芳基增加了滯焰劑分子式（I）化合物或包含一或更多個重複單元的聚合物的熱穩定度，其中至少一個重複單元包含分子式（II）的次磺醯胺基元。在本發明的進一步範例中，分子式（I）化合物是分子式（Ib）化合物其中n是從0至8，較佳為0至4；Y是選自鍵結、CH₂ 、CHR10、C(R10)₂ 、N-SR3、C=O、C=N-SR3以及C=N-N(R1’’R2’’N)-SR3所組成的群組，其中R1’’R2’’N形成如上述所定義的單環飽和雜環；以及每個R10以及R3是如上述所定義。較佳地，在此範例中，n是4且每個R10是甲基，或n是2且每個R10是=O。進一步的較佳地，在此範例中，每個R3獨立地是C_1-7 -烷基或單或雙環芳基，其如上述所定義以R30隨選地取代一或更多次，更佳為苯基、甲基苯基、三甲基苯基、硝基苯基、甲氧基苯基、吡啶基或丁基。在本發明的一個適合的範例中，分子式（I）化合物是分子式（Iba）化合物其中n是0至8，較佳為2；R3是如上述所定義，較佳為以R30隨選地取代一或更多次的苯基；以及每個R10是如上述所定義，較佳為烷基，更佳為甲基。在上述的較佳範例中，分子式（I）化合物是分子式（Ibb）化合物其中Y是C=O、N-SR3、O或S，以及每個R3獨立地是如上述所定義。在上述的一個特定範例中，分子式（I）化合物是分子式（Ibc）化合物其中R3是如上述所定義。較佳地，在此範例中，R3是單或雙環芳基，其如上述所定義以R30隨選地取代一或更多次。更佳地，R3是苯基或吡啶基，如上述所定義該苯基或吡啶基以R30隨選地取代一、二或三次。進一步較佳地，每個R30選自甲基、甲氧基以及NO₂ 所組成的群組。在上述的進一步特定範例中，分子式（I）化合物是分子式（Ibd）化合物其中每個R3是如上述所定義，以及L是鍵結或C_1-10 -亞烷基-(C=O)-。較佳地，在此範例中，R3是單或雙環芳基，其如上述所定義以R30隨選地取代一或更多次。更佳地，R3是苯基或吡啶基，如上述所定義該苯基或吡啶基以R30隨選地取代一、二或三次。進一步較佳地，每個R30選自甲基、甲氧基以及NO₂ 所組成的群組。最佳地，R3是苯基。分子式（I）化合物以及包含一或更多個重複單元的聚合物(其中至少一個重複單元包含分子式（II）的次磺醯胺基元，其中R1、R2及/或R3是芳基及/或雜芳基)是另一個範例特別好的滯焰劑。芳香基團增加了該化合物以及聚合物的熱穩定度。在本發明的有利範例中，本發明與分子式（I）化合物或包含一或更多個重複單元的聚合物有關，其中至少一個重複單元包含分子式（II）的次磺醯胺基元，其中R3是單、雙或三環芳基或雜芳基，其以R30隨選地取代一或更多次。較佳地，在此範例中，R3選自苯基、萘基、吡啶基、吲哚基以及咔唑基所組成的群組，如上述所定義每個以R30隨選地取代一、二或三次。在本發明的仍另一個的範例中，分子式（I）化合物是分子式（Ic）化合物其中R1以及R2每個獨立地如上述所定義。較佳地，在此範例中，每個R1以及R2獨立地選自分支C_3-30 -烷基、C_3-7 -環烷基、以R10隨選地取代一或更多次的飽和單或雙環雜環、以R10隨選地取代一或更多次的單或雙環芳基或雜芳基；或R1以及R2與它們附接至的N原子一起形成飽和單或雙環雜環，該飽和單或雙環雜環隨選地進一步包含1至4個選自N、S以及O的雜原子，並以R10隨選地取代一或更多次；或單、雙、三環雜芳基隨選地進一步包含1至4個選自N、S以及O的雜原子，並以R10隨選地取代一或更多次，以及其中每個R10獨立地如上述所定義。更佳地，R1以及R2與它們附接至的N原子一起形成選自嗎啉基、鄰苯二甲醯亞胺基以及咔唑基的基團。在本發明的另一個範例中，L1以及L2都是鍵結，以及R1以及R2與它們附接至的N原子一起形成飽和單環雜環，該飽和單環雜環隨選地進一步包含選自N或O的1個雜原子，且由5或6個環原子組成，並如上述所定義以R10隨選地取代一或更多次，更佳地，每個R10獨立地選自甲基以及=O；或由6至14個環原子組成並以R10隨選地取代一或更多次的單環、雙環或三環雜芳基，更佳地，每個R10是=O。在上述的特定範例中，分子式（I）化合物是分子式（Id）化合物其中n是0至8，R10’’是H或R10，以及每個R10以及R3獨立地如上述所定義。較佳地，在此範例中，R3是單或雙環芳基，其如上述所定義以R30隨選地取代一或更多次。更佳地，R3是苯基或吡啶基，如上述所定義該苯基或吡啶基以R30隨選地取代一、二或三次。進一步較佳地，每個R30選自甲基、甲氧基以及NO₂ 所組成的群組。較佳地，在此範例中，R10’’是H、甲基、分支C_3-7 -烷基、C_1-6 -烷氧基、苯基、OSiH₃ 或OSi(Me)₃ 。在本發明的另一個進一步的適合範例中，分子式（I）化合物是分子式（Ie）化合物其中m是0至4，A是S、O或NH，以及R1、R2以及R30每個獨立地如上述所定義。較佳地，R1以及R2每個獨立地是分支C_3-7 -烷基或C_3-7 -環烷基，或R1以及R2的其中之一是SR3，其中R3是如上述所定義，更佳為單或雙環芳基或雜芳基，以及R1以及R2中的另一個是分支C_3-7 -烷基或C_3-7 -環烷基。在本發明的一個進一步的適合範例中，分子式（Ie）化合物是分子式（Iea）化合物其中m是0至4，以及R1、R2以及R30每個獨立地如上述所定義。較佳地，R1以及R2每個獨立地是分支C_3-7 -烷基或C_3-7 -環烷基，或R1以及R2的其中之一是SR3，其中R3是如上述所定義，更佳為雙環芳基或雜芳基，以及R1以及R2中的另一個是分支C_3-7 -烷基或C_3-7 -環烷基。在本發明的仍另一個進一步的適合範例中，分子式（I）化合物是分子式（If）化合物其中m是0至4，A是S、O或NH，以及R1、R2以及R30每個獨立地如上述所定義。較佳地，R1以及R2每個獨立地是分支C_3-7 -烷基或C_3-7 -環烷基，或R1以及R2的其中之一是SR3，其中R3是如上述所定義，更佳為單或雙環芳基或雜芳基，以及R1以及R2中的另一個是分支C_3-7 -烷基或C_3-7 -環烷基。. 在本發明的一個進一步的適合範例中，分子式（If）化合物是分子式（Ifa）化合物其中m是0至4，以及R1、R2以及R30每個獨立地如上述所定義。較佳地，R1以及R2每個獨立地是分支C_3-7 -烷基或C_3-7 -環烷基，或R1以及R2的其中之一是SR3，其中R3是如上述所定義，更佳為雙環芳基或雜芳基，以及R1以及R2中的另一個是分支C_3-7 -烷基或C_3-7 -環烷基。在本發明的仍另一個適合的範例中，分子式（I）化合物是分子式（Ig）化合物其中每個R1以及R2獨立地如上述所定義，較佳地，每個R1以及R2與它們附接至的氮一起形成單環脂肪族環，該單環脂肪族環隨選地進一步包含選自N以及O的一個雜原子，並由5至6個環原子組成，更佳地，該環是嗎啉基。在本發明的仍另一個進一步的適合範例中，分子式（I）化合物是分子式（Ih）化合物其中每個R10以及R3獨立地如上述所定義，以及n是0至4，較佳為0或1。較佳地，在此範例中，每個R3獨立地是C_1-7 -烷基或單或雙環芳基，如上述所定義以R30隨選地取代一或更多次，更佳為苯基、甲基苯基、三甲基苯基、硝基苯基、甲氧基苯基、吡啶基或丁基。在本發明的一個適合的範例中，分子式（I）化合物是分子式（II）化合物其中R1、R2、R3以及L3獨立地如上述所定義，以及X’是N、O或鍵結。較佳地，L3是鍵結。進一步較佳地，R1以及R2每個獨立地選自C_1-30 -烷基以及以R10隨選地取代一或更多次的脂肪族或芳香環。在本發明的一個有利的範例中，包含一或更多個重複單元的聚合物是分子式（IIIa）或（IIIb）的聚合物，其中至少一個重複單元包含分子式（II）的次磺醯胺基元其中R1、R2、R3、L1、L2以及L’是如本文中所定義，以及P*意指聚合骨架的重複單元。較佳為在此範例中，P*是如第27至31頁上的第1至21類中所定義的聚合物聚合骨架的重複單元。特別地，在此範例中，在子式（IIIb）的聚合物中，L1、L2、R1以及R2與它們附接至的N原子一起形成NR1R2基團，該NR1R2基團選自下述所組成的群組：以R10隨選地取代一或更多次的飽和或部分不飽和的單或雙環雜環；以及以R10隨選地取代一或更多次的單或雙環雜芳基。在本發明的特定範例中，其中至少一個重複單元包含分子式（II）的次磺醯胺基元，包含一或更多個重複單元的聚合物是分子式（IIIc）聚合物其中R3以及R10是如本文中所定義，n是0至8，較佳為0至4，R4是C_1-30 -亞烷基，以及y意指聚合物的重複單元數目，較佳地，y是從3至3000。在此範例中，R3較佳為單或雙環芳基或雜芳基，更佳為苯基，其如本文中所定義的隨選地以R30以取代一或更多次。進一步較佳地，R4是‑CH₂ CH[(CH₂ )_17-21 CH₃ ]-。較佳地，在任一上述範例中，NR1R2適合地選自下述所組成的群組：在本發明的一個較佳範例中，分子式（I）化合物選自下述所組成的群組： 2,2,6,6-四甲基-1-(苯硫基)哌啶-4-酮（1）； 1-((4-甲氧基苯基)硫基)-2,2,6,6-四甲基哌啶-4-酮（2）； 2,2,6,6-四甲基-1-((4-硝基苯基)硫基)哌啶-4-酮（3）； 1-(2-硝基苯硫基)-2,2,6,6-四甲基哌啶-4-酮（4）； 2,2,6,6-四甲基-1-(4-甲基苯硫基)哌啶-4-酮（5）； 1-(2,4,6-三甲基苯硫基)-2,2,6,6-四甲基哌啶-4-酮（6）； 1-(2-吡啶基硫基)-2,2,6,6-四甲基哌啶-4-酮（7）； 1,2-雙(2,2,6,6-四甲基-1-(苯硫基)哌啶-4-亞基)聯胺（8）； 2,2,6,6-四甲基-1-(苯硫基)-4-哌啶基甲基丙烯酸酯（9）； 1-[(1-二亞磺醯亞基胺基)亞磺醯基-2’2’6’6-四甲基哌啶-4-酮（10）；反式-2,5-二甲基-1,4-雙(苯硫基)哌嗪（11）； 1-丁基磺醯基-2’2’6’6-四甲基哌啶（12）； 4'-硫基雙-嗎啉（13）； 1,1'-硫基雙-(2,6-二甲基)哌啶（14）； 1,1'-硫基雙-(2,2,6,6-四甲基)哌啶（15）； N-1,5,9-((4-甲氧基苯基)硫基))-雙-(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)-胺（16）； 1,1’-硫基雙酞醯亞胺（17）； 1,1’-硫基雙-咔唑（18）； 2-[(4-甲氧基苯基)硫基]-1H-異吲哚-1,3(2H)-二酮（19）； 9-(苯硫基)-9H -咔唑（20), 9-[(4-甲氧基苯基)硫基]-9H -咔唑（21）；N -2-萘基-N -苯基-4-甲基苯次磺醯胺（22）； N-雙[4-(1-甲基-1-苯基乙基)苯基]-4-甲基苯次磺醯胺（23）； N-環己基-S-苯基-N-(苯硫基)硫基羥基胺（24）； 2,4,6-三(4-嗎啉基硫基)-[1,3,5]-三嗪（25）； S-(苯并[d]噻唑-2-基)-N,N-二異丙基硫基羥基胺（26）； S-(苯并[d]噻唑-2-基)-N,N-二環己基硫基羥基胺（27）； S-(苯并[d]噻唑-2-基)-N-(苯并[d]噻唑-2-基硫基)-N-(叔丁基)硫基羥基胺（28）；苯并[c][1,2,5]噻二唑（29）； 3-(哌嗪-1-基)苯并[d]異噻唑（30）； 5-硝基苯并[c]異噻唑-3-胺（31）； 3-苯基-1,2,4-噻二唑-5-胺（32）；雙(2,2,6,6-四甲基-1-(苯硫基)哌啶-4-基)癸二酸酯（33）；雙(2,2,6,6-四甲基-1-(苯硫基)哌啶-4-基)碳酸酯（34）；以及 1,3-雙(苯硫基)-1H-苯并[d]咪唑-2(3H)-酮（35）。在本發明的一個較佳範例中，包含一或更多個重複單元的聚合物是聚[3-甲基-4-(2-甲基二十二基)-1-(2,2,6,6-四甲基-1-(苯硫基)哌啶-4-基)吡咯啶-2,5-二酮]（36），其中至少一個重複單元包含分子式（II）的次磺醯胺基元。可將分子式（I）化合物及/或包含一或更多個重複單元的聚合物加至其火焰特性需要被修飾的任何材料中，其中至少一個重複單元包含分子式（II）的次磺醯胺基元。典型地，此材料是聚合材料，意指聚合物或包含聚合物以及添加物的塑膠材料。分子式（I）化合物可單獨或與分子式（I）的一或更多個化合物一起使用。包含一或更多個重複單元的聚合物(其中至少一個重複單元包含分子式（II）的次磺醯胺基元)可單獨或與一或更多個包含一或更多個重複單元的其他聚合物一起使用，其中至少一個重複單元包含分子式（II）的次磺醯胺基元。分子式（I）化合物及/或包含一或更多個重複單元的聚合物可進一步與一或更多個其他已知的滯焰劑化合物組合使用，其中至少一個重複單元包含分子式（II）的次磺醯胺基元。較佳地，其他已知的滯焰劑化合物是非鹵化滯焰劑。分子式（I）化合物可被加至第一聚合物質，其然後可用以作為另一聚合物質的添加物，或它可被加至例如塗層材料中，以增強最終產物的火焰特性。也可將本滯焰劑化合物直接加至用於製造最終產物的聚合物質中。可在任何階段進行加入，例如在聚合物的聚合作用過程期間，或在複合或混合的期間。也可將滯焰劑之外的傳統添加物加至聚合物質中。範例包括UV吸收劑、光穩定劑、抗氧化劑、著色劑，等等。分子式（I）化合物以及包含一或更多個重複單元的聚合物(其中至少一個重複單元包含本發明的分子式（II）的次磺醯胺基元)是顯著地適合用於將滯焰特性傳至聚合基質，即聚合物或含聚合物的材料，例如合成聚合物，尤其是熱塑性材料。因此，本發明的進一步實施方式與組成物有關，其包含（a）如本文中所定義的分子式（I）化合物，以及（b）聚合物基質。適合的聚合物基質由天然及/或合成聚合物組成，例如： 1．單以及二烯烴的聚合物，例如聚丙烯、聚異丁烯、聚丁烯-1、聚-4-甲基戊烯-1、聚乙烯環己烷、聚異戊二烯或聚丁二烯，且還有環烯烴的聚合物（polymerisate），例如環戊烯或降莰烯；且還有聚乙烯（其可隨選地交聯），例如高密度聚乙烯（HDPE）、高分子量的高密度聚乙烯（HDPE-HMW）、超高分子量的高密度聚乙烯（HDPE-UHMW）、中密度聚乙烯（MDPE）、低密度聚乙烯（LDPE）以及線性低密度聚乙烯（LLDPE）、（VLDPE）以及（ULDPE）。 2．在第1項下提到的聚合物的混合物：例如聚丙烯與聚異丁烯的混合物、聚丙烯與聚乙烯（例如PP/HDPE、PP/LDPE）以及不同類型的聚乙烯的混合物（例如LDPE/HDPE）。 3．單以及二烯烴與彼此或與其他乙烯單體的共聚物，例如乙烯/丙烯共聚物、線性低密度聚乙烯（LLDPE）以及與低密度聚乙烯（LDPE）的其混合物、丙烯/丁烯-1共聚物、丙烯/異丁烯共聚物、乙烯/丁烯-1共聚物、乙烯/己烯共聚物、乙烯/甲基戊烯共聚物、乙烯/庚烯共聚物、乙烯/辛烯共聚物、乙烯/乙烯環己烷共聚物、乙烯/環烯烴共聚物，例如乙烯/降莰烯（COC）(其中1-烯烴是在原處製備的乙烯/1-烯烴共聚物)、丙烯/丁二烯共聚物、異丁烯/異戊二烯共聚物、乙烯/乙烯環己烯共聚物、乙烯/烷基丙烯酸酯共聚物、乙烯/烷基甲基丙烯酸酯共聚物、乙烯/醋酸乙烯酯共聚物、乙烯/丙烯酸共聚物以及其鹽類（離子聚合物），且還有乙烯與丙烯以及二烯的三元共聚物，例如己二烯、二環戊二烯或亞乙基降莰烯；且還有這種共聚物與彼此或與第1項下提及的聚合物的混合物，例如聚丙烯-乙烯/丙烯共聚物、LDPE-乙烯/醋酸乙烯酯共聚物、LDPE-乙烯/丙烯酸共聚物、LLDPE-乙烯/醋酸乙烯酯共聚物、LLDPE-乙烯/丙烯酸共聚物，以及替代或隨機結構的聚亞烴基一氧化碳共聚物以及與其他聚合物的混合物，例如聚醯胺。 4．聚苯乙烯、聚(p-甲基苯乙烯）、聚(α-甲基苯乙烯)。 5．芳香同元聚合物以及衍生自乙烯-芳香單體的共聚物，例如苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯甲苯的所有異構物，例如p-乙烯甲苯，乙基苯乙烯的所有異構物、丙基苯乙烯、乙烯二苯基、乙烯萘、乙烯蒽以及其混合物；同元聚合物以及共聚物可具有間規、同排、半同排或雜排立體結構；較佳為雜排聚合物。也包括的是立體嵌段聚合物。 6．同元聚合物以及共聚物可具有間規、同排、半同排或雜排立體結構；較佳為雜排聚合物。也包括的是立體嵌段聚合物。 a）共聚物，包括已提及的乙烯-芳香單體以及共單體，其選自乙烯、丙烯、二烯、腈、酸、馬來酐、馬來酸醯胺、醋酸乙烯酯、氯乙烯以及丙烯酸衍生物以及其混合物，例如苯乙烯/丁二烯、苯乙烯/丙烯腈、苯乙烯/乙烯（互聚物）、苯乙烯/烷基甲基丙烯酸酯、苯乙烯/丁二烯/烷基丙烯酸酯以及甲基丙烯酸酯、苯乙烯/馬來酐、苯乙烯/丙烯腈/甲基丙烯酸酯；由苯乙烯共聚物以及另一聚合物組成的高衝擊強度混合物，例如聚丙烯酸酯、二烯聚合物或乙烯/丙烯/二烯三元共聚物；且還有苯乙烯嵌段共聚物，例如苯乙烯/丁二烯/苯乙烯、苯乙烯/異戊二烯/苯乙烯、苯乙烯/乙烯-丁烯/苯乙烯或苯乙烯/乙烯-丙烯/苯乙烯。 b）藉由第6項下提及的聚合物的氫化作用製備的氫化芳香聚合物，尤其是聚環己基乙烯（PCHE），常也稱為聚乙烯環己烷（PVCH），其是藉由雜排聚苯乙烯的氫化作用的製備。 c）藉由第6a項下提及的聚合物的氫化作用製備的氫化芳香聚合物。 7．乙烯芳香單體的接枝共聚物，例如在聚丁二烯上的苯乙烯、在聚丁二烯/苯乙烯或聚丁二烯/丙烯腈共聚物上的苯乙烯、在聚丁二烯上的苯乙烯以及丙烯腈（或甲基丙烯腈）；在聚丁二烯上的苯乙烯、丙烯腈以及甲基丙烯酸甲酯；在聚丁二烯上的苯乙烯以及馬來酐；在聚丁二烯上的苯乙烯、丙烯腈以及馬來酐或馬來酸醯亞胺；在苯乙烯以及在聚丁二烯上的馬來酸醯亞胺、在聚丁二烯上的苯乙烯以及烷基丙烯酸酯或烷基甲基丙烯酸酯、在乙烯/丙烯/二烯三元共聚物上的苯乙烯以及丙烯腈、在聚烷基丙烯酸酯或聚烷基甲基丙烯酸酯上的苯乙烯以及丙烯腈、在丙烯酸酯/丁二烯共聚物上的苯乙烯以及丙烯腈，以及與以上在第6段下提及的共聚物的其混合物，例如那些已知的，例如，如所謂的ABS、MBS、ASA或AES聚合物。 8．含鹵素聚合物，例如聚氯丁二烯、氯化橡膠、異丁烯/異戊二烯氯化以及溴化共聚物（鹵代丁基橡膠）、氯化或氯磺化聚乙烯、乙烯以及氯化乙烯的共聚物、表氯醇同質聚合物以及共聚物，尤其是含鹵素乙烯化合物的聚合物，例如聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯、聚氟乙烯、聚偏二氟乙烯；以及其共聚物，例如氯乙烯/偏二氯乙烯、氯乙烯/醋酸乙烯酯或偏二氯乙烯/醋酸乙烯酯。 9．衍生自α,β-不飽和酸的聚合物以及其衍生物，例如聚丙烯酸酯以及聚甲基丙烯酸酯或聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯醯胺以及以丙烯酸丁酯抗衝擊修飾的聚丙烯腈。 10．在第9段下提及的單體與彼此或與其他不飽和單體的共聚物，例如丙烯腈/丁二烯共聚物、丙烯腈/烷基丙烯酸酯共聚物、丙烯腈/烷氧基烷基丙烯酸酯共聚物、丙烯腈/乙烯鹵化物共聚物或丙烯腈/烷基甲基丙烯酸酯/丁二烯三元共聚物。 11．衍生自不飽和醇以及胺的聚合物或它們的醯基衍生物或縮醛，例如聚乙烯醇、聚乙烯醋酸酯、硬脂酸酯、苯甲酸酯或馬來酸酯、聚乙烯縮丁醛、聚酞酸烯丙酯、聚烯丙基三聚氰胺；以及其與在第1項下提及的烯烴的共聚物。 12．環醚的同質聚合物以及共聚物，例如聚烯烴二醇、聚環氧乙烷、聚丙烯氧化物或其與雙環氧丙基醚的共聚物。 13．聚縮醛，例如聚甲醛且還有含有共聚單體的那些聚甲醛，例如環氧乙烷；以熱塑性聚胺甲酸酯、丙烯酸酯或MBS修飾的聚縮醛。 14．聚苯醚以及硫化物，以及其與苯乙烯聚合物或聚醯胺的混合物。 15．聚醯胺以及衍生自二胺以及二羧酸及/或來自胺基羧酸或相對應內醯胺的共聚醯胺，例如聚醯胺4、聚醯胺6、聚醯胺6/6、6/10、6/9、6/12、4/6、12/12、聚醯胺11、聚醯胺12、衍生自間二甲苯的芳香聚醯胺、二胺以及己二酸；聚醯胺6/I（聚六亞甲間苯二甲醯亞胺、MXD（間亞二甲苯二胺）；從六亞甲二胺以及間及/或對苯二甲酸製備的聚醯胺以及隨選地彈性體作為修飾劑，例如聚-2,4,4-對苯二甲醯六亞甲基三甲基酯或聚聚間苯二甲醯間苯二胺。上述聚醯胺與聚烯烴、烯烴共聚物、離子聚合物或化學鍵結或接枝彈性體的嵌段共聚物；或與聚醚，例如與聚乙二醇、聚丙二醇或聚四甲烯乙二醇的嵌段共聚物。同樣地，以EPDM或ABS修飾的聚醯胺或共聚醯胺；以及在處理期間濃縮的聚醯胺（「RIM聚醯胺系統」）。可使用的聚醯胺以及共聚醯胺的範例衍生自，尤其是ε-己內醯胺、己二酸、癸二酸、十二酸、異苯二甲酸、對苯二甲酸、六亞甲二胺、四亞甲二胺、2-甲基-五亞甲二胺、2,2,4-三甲基六亞甲二胺、2,4,4-三甲基六亞甲二胺、間亞二甲苯二胺或雙(3-甲基-4-胺基環己基)甲烷；且還有半芳香聚醯胺，例如聚醯胺66/61，例如由70-95％聚醯胺6/6以及5-30％聚醯胺6/I組成；且還有三共聚物，其中一些聚醯胺6/6已被取代，例如由60-89％聚醯胺6/6、5-30％聚醯胺6/I以及1-10％的另一脂肪族聚醯胺組成；後者可由，例如，聚醯胺6、聚醯胺11、聚醯胺12或聚醯胺6/12單元組成。這種三共聚物可因此被指稱為聚醯胺66/6I/6、聚醯胺66/61/11、聚醯胺66/61/12、聚醯胺66/61/610或聚醯胺66/61/612。 16．聚脲、聚醯亞胺、聚醯胺醯亞胺、聚醚醯亞胺、聚酯醯亞胺、聚乙內醯脲以及聚苯并咪唑。 17．衍生自二羧酸以及二醇及/或來自羥基羧酸或相對應的内酯的聚酯，例如聚乙烯對苯二甲酸酯、聚丙烯對苯二甲酸酯、聚丁烯對苯二甲酸酯、聚-1,4-環己烷二甲醇對苯二甲酸酯、聚萘二甲酸烷二酯（PAN）以及聚羥基苯甲酸酯，且還有衍生自聚醚與羥基端基的嵌段聚醚酯；且還有以聚碳酸酯或MBS修飾的聚酯。 18．聚碳酸酯以及聚酯碳酸酯。 19．前述聚合物的混合物（聚混合物），例如PP/EPDM、聚醯胺/EPDM或ABS、PVC/EVA、PVC/ABS、PVC/MBS、PC/ABS、PBTP/ABS、PC/ASA、PC/PBT、PVC/CPE、PVC/丙烯酸酯、POM/熱塑性PUR、PC/熱塑性PUR、POM/丙烯酸酯、POM/MBS、PPO/HIPS、PPO/PA 6.6以及共聚物、PA/HDPE、PA/PP、PA/PPO、PBT/PC/ABS或PBT/PET/PC。較佳為其中熱塑性聚合物是高衝擊聚苯乙烯（HIPS）、可發性聚苯乙烯（EPS）、擠製成形聚苯乙烯（XPS）、聚苯醚（PPE）、聚醯胺、聚酯、聚碳酸酯（PC)或ABS（丙烯腈-丁二烯-苯乙烯）或PC/ABS（聚碳酸酯/丙烯腈-丁二烯-苯乙烯）或PPE/HIPS（聚苯醚/高衝擊聚苯乙烯）類型的聚合物混合物的組成物，尤其是聚醯胺、聚酯或PPE/HIPS混合物。特別較佳的是根據本發明包含填充劑或強化劑的聚合組成物，尤其是玻璃纖維強化聚合物，例如玻璃纖維強化聚醯胺。 20．天然聚合物，例如纖維素、澱粉（直鏈澱粉以及支鏈澱粉）、木質織維素、蛋白絲、聚羥基烷酸酯、聚胜肽。聚多糖：黃原膠、B-聚葡萄糖、幾丁聚醣以及天然橡膠。 21．生物聚合物，例如聚己内酯、聚乳酸交酯、聚(乳酸交酯-共聚-乙交酯)共聚物（PLGA）、聚(乙醇酸)（PGA）以及聚二噁烷酮（PDS）。較佳的實施方式與滯焰劑組成物有關，其中聚合物基質（b）由聚苯乙烯、聚苯乙烯共聚物、聚乙烯、聚丙烯或聚丙烯與聚烯烴的混合物組成。範例為聚丙烯與聚乙烯的混合物，聚乙烯選自高密度聚乙烯（HDPE）、高分子量高密度聚乙烯（HMW HDPE）、超高分子量高密度聚乙烯（UHMW HDPE）、中密度聚乙烯（MDPE）、低密度聚乙烯（LDPE）、線性低密度聚乙烯（LLDPE）、分支低密度聚乙烯（BLDPE）以及含有小比例二烯的乙烯-丙烯-二烯三元聚合物（EPDM）所組成的群組。本發明進一步與滯焰劑組成物有關，除了如上述所定義的成分（a）以及（b）之外，其包含，（c）選自聚合物穩定劑以及額外非鹵化滯焰劑所組成的群組的進一步添加物，例如含有三聚氰胺的滯焰劑、含磷滯焰劑、含三聚氰胺滯焰劑之外的進一步含氮滯焰劑以及無機滯焰劑。穩定劑較佳為無鹵素的，並選自硝醯基穩定劑、氮穩定劑、氧化胺穩定劑、苯并呋喃酮穩定劑、亞磷酸酯以及亞膦酸酯穩定劑、甲基化醌穩定劑以及2,2'-烷基二烯雙酚的單丙烯酸酯穩定劑。作為本成分（c）的額外滯焰劑是已知的成分，為商業物件，或可藉由已知的方法來獲得。代表性的含三聚氰胺滯焰劑，是，例如，包含三聚氰胺的化合物，其中三聚氰胺結構：1,3,5-三嗪-2,4,6-三胺（=氰尿酸三醯胺）或其濃縮物是存在的。該定義適用於三聚氰胺的單體、寡聚或聚合化合物、三聚氰胺的濃縮物或三聚氰胺以及其含磷物的濃縮物。較佳的含三聚氰胺化合物是氰尿酸三聚氰胺、磷酸三聚氰胺、磷酸二三聚氰胺、焦磷酸三聚氰胺、聚磷酸三聚氰胺、三聚氰胺膦酸苯酯、硼酸三聚氰胺、三聚氰胺磷酸銨、三聚氰胺聚磷酸銨、三聚氰胺焦磷酸銨、蜜勒胺、蜜白胺或鯨蠟或蜜勒胺、蜜白胺或鯨蠟的聚磷酸酯。代表性的含磷滯焰劑是，例如：有機金屬亞膦酸鹽（亞膦酸鋁，Exolit OP，科萊恩（Clariant））、新戊四醇磷酸酯、間苯二酚二亞磷酸四苯酯（FYROLFLEX® RDP，阿克蘇諾貝爾（Akzo Nobel））、硫化四(羥基-甲基)鏻、磷酸三苯酯、N,N-雙(2-羥基乙基)-胺基-甲基膦酸二乙酯、磷酸以及環膦酸鹽的羥基烷基酯（ADK STAB FP 600/800/2200，艾迪科公司（Adeka Corp））、AFLAMMIT PCO 900/800/700（Thor GmbH）、聚磷酸銨（APP）。（EXOLIT AP 766，科萊恩）或（HOSTAFLAM® AP750，科萊恩）、間苯二酚二磷酸鹽寡聚物（RDP）膦氮烯滯焰劑、9,10-二氫-9-氧雜-10-膦菲-10-氧化物（DOPO）或其衍生物、二(乙烯二胺)磷酸酯（DEDAP）以及乙烯二胺二磷酸酯（EDAP）或它們的混合物（例如BUDIT 3167，Budenheim）。含三聚氰胺滯焰劑之外的進一步含氮滯焰劑為，例如，異氰尿酸酯滯焰劑，例如聚異氰尿酸酯、異氰尿酸或異氰尿酸酯、三聚氰胺金屬磷酸鹽（SAFIRE® 200/400/600，Floridienne Chimie）。代表性範例是羥基烷基異氰尿酸酯，例如三-(2-羥基乙基)異氰尿酸酯、三(羥基甲基)異氰尿酸酯、三(3-羥基-n-proyl)異氰尿酸鹽或異氰尿酸三環氧丙酯。進一步的範例為：苯胍胺、三(羥基乙基)異氰尿酸鹽、尿囊素、乙炔脲、氰尿酸三聚氰胺、氰尿酸尿素、聚-[2,4-(哌嗪-1,4-基)-6-(嗎啉-4-基)-1,3,5-三嗪]/哌嗪（MCA® PPM TRIAZINE HF、MCA Technologies）、偶氮烷以及有關的化合物（例如AZONOR、吖嗪、氧偶氮基、腙、三氮烯基、INAZO）、NOR化合物（FLAMESTAB® NOR 116、TINUVIN™ NOR 371、BASF）或聚磷酸銨。次磺醯胺也可與基於其他自由基產生器的增效劑一起使用，例如二硫化物或過氧化物。代表性的有機鹵化合物滯焰劑為，例如：聚溴化二苯基氧化物（DE-60F，Great Lakes Corp.）、十溴二苯乙烷（SAYTEX™ 8010，Albemarle）、六溴環十二烷（SAYTEX™ HP 900P，Albemarle）、溴化聚合物以及寡聚物，例如苯乙烯-丁二烯嵌段共聚物（EMERALD INNOVATION™ 3000，Chemtura，GREEN ARMOR™、GREEN CREST™，Albemarle，FR-122P™，ICL）、聚苯醚以及其衍生物、溴化聚丙烯酸酯（FR-1025 P™，ICL）、十溴二苯醚（DBDPO；SAYTEX® 102E）、三[3-溴-2,2-雙(溴甲基)丙基]磷酸酯（PB 370®，FMC Corp.）、三(2,3-二溴丙基)磷酸酯、三(2,3-二氯丙基)磷酸酯、氯橋酸、四氯苯二甲酸、四溴苯二甲酸、聚-β-氯乙基三膦酸酯混合物、四溴雙酚A雙(2,3-二溴丙基醚)（PE68）、溴化環氧樹脂、乙烯-雙(四溴酞醯亞胺)（SAYTEX® BT-93）、雙(六氯環戊二烯并)-環辛烷（DECHLORANE PLUS®）、氯化石蠟S、八溴二苯基醚、六氯環戊二烯衍生物、1,2-雙(三溴苯氧基)乙烷（FF680）、四溴-雙酚A（SAYTEX® RB100）、乙烯雙-(二溴-降莰烷二羧醯亞胺)（SAYTEX® BN-451）、雙-(六氯環環戊二烯并)環辛烷、PTFE、三-(2,3-二溴丙基)-異-氰尿酸酯以及乙烯-雙-四溴酞醯亞胺。上述的滯焰劑常與無機氫氧化物增效劑結合。最常用於此用途的是氫氧化鋁，例如AI(OH)3或AIOOH、氫氧化鎂、鋅或氧化銻，例如Sb2O3或Sb2O5。硼化合物也是適合的。上述的額外滯焰劑化合物有利地以大約0.25％至大約45.0％的有機聚合物基質重量的量被包含在本發明的組成物中；例如大約0.25％至大約35.0％；例如大約0.25％至大約30.0％的聚合物重量。如上所述，根據本發明的組成物可額外地含有一或更多種傳統添加物，例如選自色素、染料、塑化劑、阻滴劑，例如氟化聚合物（PTFE，Metablen A3800，Mitsubishi Rayon）、奈米黏土（Cloisite 30B）以及硼酸鹽（FIREBRAKE®，Borax）、抗氧化劑、觸變劑、均勻助劑、基礎共安定劑、金屬鈍化劑、金屬氧化物、有機磷化合物、進一步的光穩定劑以及其混合物，尤其是色素、酚的抗氧化劑、硬脂酸鈣、硬脂酸鋅、2-羥基-二苯基酮的UV吸收劑、2-(2'-羥基苯基)苯并三唑及/或2-(2-羥基苯基)-1,3,5-三嗪基團。上述添加物較佳以相對於聚合物基質（b）的重量的0.01至10.0％的量被包含於其中，尤其是0.05至5.0％。因此本發明也與如上述所定義的分子式（I）化合物的使用有關，用於將耐燃特性給予至聚合物基質，例如合成聚合物，尤其至熱塑性，且還有與將耐燃特性給予至合成聚合物的方法有關，其中根據本發明的至少一分子式（I）化合物併入於聚合物基質中，或塗佈至它們的表面。分子式（I）化合物以及如上述所定義的隨選額外成分併入至聚合物基質是藉由已知的方法來進行，例如為粉末形式的乾混合或為溶液形式的濕混合，分散或懸浮於，例如鈍性溶劑、水或油中。可在，例如，塑造之前或之後，或也藉由對聚合物材料應用溶解或分散的添加物或添加物混合物，有或沒有隨後的溶劑或懸浮/分散劑的蒸發，來併入分子式（I）化合物以及隨選的進一步添加物。可將它們直接地加至處理裝置中（例如擠壓機、內部混合器，等等），例如作為乾混合物或粉末或作為溶液或分散液或懸浮液或熔化物。或者，可將本發明化合物併入至聚合基質或聚合基質的部分或聚合基質的一或更多個聚合成分的骨架中。可使用在取代基R1、R2、R3、R10、R30、R40及/或R50中包含官能基（例如雙或三鍵、OH、-NH2、-COOH）的分子式（I）化合物(其與聚合材料的官能基具反應性)來以本技術已知的方式達到接枝。因此分子式（I）化合物以及它們作為滯焰劑的用途也涵蓋了這種實施方式，其中它們化學地併入至聚合基質的部分或所有的聚合材料（「官能化/接枝」聚合材料）中。如果聚合基質包含二或更多種不同的聚合材料，分子式（I）化合物可藉由與其中一種材料混合或或接枝來結合，且剩下的被加至獲得的第一組成物中。添加物成分對聚合物基質（b）的加入可在所有慣用的混合機器中進行，其中聚合物被熔化，並與添加物混合。適合的機器對於本領域的技術人員是已知的。它們主要是混合器、揉合機以及擠壓機。如果加入多個成分，這些可被預混合或個別地加入。以這種操作，可以粉末、顆粒、溶液以及懸浮液的形式或以晶格的形式來使用聚合物。也可將分子式（I）化合物（a）以及隨選的進一步添加物加至為母料（濃縮物）形式的聚合物基質（b）中，其含有濃度為，例如大約1.0％至大約40.0％，以及較佳為2.0％至大約20.0％重量的成分併入於聚合物中。以這種操作，可以粉末、顆粒、溶液以及懸浮液的形式或以晶格的形式來使用聚合物。併入可在成形操作之前或期間進行。含有本文中所描述的本發明添加物的材料較佳用於模製物品的製造，例如滾塑物品、射出成形物品、輪廓以及諸如此類，且尤其是纖維、熔紡非編織、薄膜或發泡體。因此，本發明進一步與模製或擠壓成形物品有關，例如包含本發明組成物的管子、電線以及電纜、纖維、熔紡非編織或發泡體。因此，可使用依照如本文中所定義的本發明分子式（I）化合物以及包含如本文中進一步定義的分子式（I）化合物的組成物，以提供耐燃產品。分子式（I）化合物以及包含一或更多個重複單元的聚合物(其中至少一個重複單元包含分子式（II）的次磺醯胺基元)可藉由本領域技術人員已知的方法，或藉由下面展示用於合成本發明的分子式（I）化合物範例的方法來製備。例如在Chemical Reviews, 1989, 89 (4), 689-712中描述了適合的方法。包含一或更多個重複單元的聚合物(其中至少一個重複單元包含分子式（II）的次磺醯胺基元)可藉由例如以-S-R3取代一或更多個重複單元的胺基（-NH）來製備。或者，分子式（II）的基元可藉由適合的鏈結基團來鏈結至聚合骨架。範例所有使用的化學藥品為試劑等級，且從奧瑪瑞奇（Aldrich）購得。1H以及13C NMR光譜被記錄在Bruker Avance 600上（1H 600.1 MHz, 13C 150.9 MHz）。根據文獻來合成亞磺醯氯（Li, Yuye; Shi, Yi; Huang, Zhong-Xing; Wu, Xin-Hu; Xu, Peng-Fei; Wang, Jian-Bo; Zhang, Yan , Organic Letters (2011), 13(5), 1210-1213）。在下述中，RT代表室溫，RH代表室內濕度。範例 1 2,2,6,6-四甲基-1-(苯硫基)哌啶-4-酮的合成在氬氣下，在RT中，將在CCl₄ （50 mL）中的苯亞磺醯氯（6.62 g，46 mmol）溶液逐滴地加至在CCl₄ （50 mL）中的2,2,6,6-四甲基哌啶-4-酮（17.85 g，115 mmol）懸浮液中，並攪拌隔夜。將反應混合物以50 ml的H₂ O沖洗兩次，並將所結合的水相以25 ml的CH₂ Cl₂ 沖洗一次。將有機相結合，通過Na₂ SO₄ 乾燥並蒸發。在二乙醚中的再結晶以及多次沖洗以71％產率產生了純產物。¹ H NMR(600 MHz, CDCl3): δ 7.37 (dd,J = 8.3, 3.1 Hz, 2 H), 7.29 (ddd,J = 8.3, 7.2, 3.1 Hz, 2 H), 7.07 (td,J = 7.2, 2.1 Hz, 1H), 2.80 (d,J = 13 Hz, 2 H), 2.43 (d,J = 13 Hz, 2 H), 1.37 (s, 6 H), 1.29 (s, 6 H)¹³ C NMR (150 MHz, CDCl3): δ 208.2, 144.9, 128.4, 124.3, 121.6, 64.0, 55.2, 32.2, 26.9範例 2 1-((4-甲氧基苯基)硫基)-2,2,6,6-四甲基哌啶-4-酮的合成使用了如上的相同程序，但從4-甲氧基苯亞磺醯氯（8.03 g，46 mmol）開始。產率73％。¹ H NMR (600 MHz, CDCl₃ ): δ 7.27 (d,J = 8.3 Hz, 2 H), 6.87 (d,J = 8.3 Hz, 2 H), 3.79 (s, 3 H), 2.78 (d,J = 12.9 Hz, 2H), 2.42 (d,J = 12.9 Hz, 2 H), 1.38 (s, 6 H), 1.29 (s, 6H)¹³ C NMR (150 MHz, CDCl₃ ): 208.7, 157.5, 135.8, 123.8, 114.6, 64.4, 55.4, 32.8, 27.1範例 3 2,2,6,6-四甲基-1-((4-硝基苯基)硫基)哌啶-4-酮的合成使用了如上的相同程序，但從4-硝基苯亞磺醯氯（8.74 g，46 mmol）開始。產率62％。¹ H NMR (250 MHz, CDCl₃ ): δ 8.15 (d,J = 8.3 Hz, 2H, CH), 7.49 (d,J = 8.3 Hz, 2H, CH), 2.83 (d,J = 12.9 Hz, 2H, CH₂ ), 2.46 (d,J = 12.9 Hz, 2H, CH2), 1.35 (s, 6H, CH₃ ), 1.31 (s, 6H, CH₃ )¹³ C NMR (63 MHz, CDCl₃ ): δ 207.2, 154.8, 144.9, 123.8, 121.8, 64.4, 54.8, 31.8, 26.8範例 4 1-(2-硝基苯硫基)-2,2,6,6-四甲基哌啶-4-酮的合成使用了如上的相同程序，但從4-硝基苯亞磺醯氯（8.74 g，46 mmol）開始。產率17％。¹ H NMR (250 MHz, CDCl₃ ): δ 8.26 (d,J = 8.3 Hz, 1H, CH), 8.19 (d,J = 8.2 Hz, 1H, CH), 7.60 (t,J = 7.6 Hz, 1H, CH), 7.23 (t,J = 7.6 Hz, 1H, CH), 2.82 (d,J = 12.7 Hz, 2H, CH₂ ), 2.45 (d,J = 12.7 Hz, 2H, CH₂ ), 1.36 (s, 6H, CH₃ ), 1.29 (s, 6H, CH₃ )¹³ C NMR (63 MHz, CDCl₃ ): δ 208.2, 146.9, 142.4, 133.4, 126.2, 125.8, 124.5, 63.9, 55.5, 31.2, 27.3範例 5 2,2,6,6-四甲基-1-(4-甲基苯硫基)哌啶-4-酮的合成使用了如上的相同程序，但從4-甲基苯亞磺醯氯（7.27 g，46 mmol）開始。產率28％。¹ H NMR (250 MHz, CDCl₃ ): δ 7.24 (d,J = 8.4 Hz, 2H, CH), 7.11 (d,J = 8.4 Hz, 2H, CH), 2.80 (d,J = 12.7 Hz, 2H, CH₂ ), 2.42 (d,J = 12.7 Hz, 2H, CH₂ ), 2.31 (s, 3H, CH₃ ), 1.38 (s, 6H, CH₃ ), 1.28 (s, 6H, CH₃ )¹³ C NMR (63 MHz, CDCl₃ ): δ 208.3, 141.3, 133.9, 129.2, 121.8, 64.0, 55.1, 32.3, 26.7, 20.9範例 6 1-(2,4,6-三甲基苯硫基)-2,2,6,6-四甲基哌啶-4-酮的合成使用了如上的相同程序，但從2,4,6-三甲基苯亞磺醯氯（7.27 g，46 mmol）開始。產率53％。¹ H NMR (250 MHz, CDCl₃ ): δ 6.78 (s, 2H), 2.56 (s, 6H), 2.53 (s, 3H), 2.23 (s, 4H), 1.34 (s, 12H)¹³ C NMR (63 MHz, CDCl₃ ): δ 208.4, 136.2, 135.0, 130.4, 128.9, 64.8, 55.4, 55.2, 32.0, 21.4, 21.2範例 7 1-(2-吡啶基硫基)-2,2,6,6-四甲基哌啶-4-酮的合成使用了如上的相同程序，但從2-吡啶基亞磺醯氯（6.67 g，46 mmol）開始。產率40％。¹ H NMR (250 MHz, CDCl₃ ): δ 8.37 (m, 1H, CH), 7.60 (m, 2H, CH), 6.95 (m, 1H, CH), 2.80 (d,J = 13.1 Hz, 2H, CH₂ ), 2.45 (d,J = 13.1 Hz, 2H, CH₂ ), 1.38 (s, 6H, CH₃ ), 1.31 (s, 6H, CH₃ )¹³ C NMR (63 MHz, CDCl₃ ): δ 208.0, 167.8, 148.7, 136.4, 119.0, 117.8, 64.0, 55.0, 31.9, 26.8範例 8 2,2,6,6-四甲基-1-(苯硫基)-4-哌啶基甲基丙烯酸酯的合成使用了如上的相同程序，但從苯亞磺醯氯（1.92 g，13.36 mmol）以及2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基甲基丙烯酸酯（7.5 g，33.4 mmol）開始。產率71％。可進一步聚合所獲得的產物，以產出具有側基次磺醯胺基團的PMMA。¹ H NMR (250 MHz, CDCl₃ ): δ 7.51 (d, 2H), 7.32 (m, 2 H), 7.07 (t, 1H), 6.15 (m, 1H), 5.61 (m, 1H), 5.27 (m, 1H), 2.12 (d, 2H), 1.99 (s, 3H), 1.80 (t, 2H), 1.40 (s, 6H), 1.33 (s, 6H)¹³ C NMR (63 MHz, CDCl₃ ): δ 167.1, 145.5, 136.7, 128.3, 125.5, 123.9, 121.8, 67.1, 60.9, 45.7, 32.3, 25.8, 18.3範例 9 1-[(1-二亞磺醯亞基胺基)亞磺醯基-2’2’6’6-四甲基哌啶-4-酮的合成在2小時的期間，在攪拌下於10-15℃下，對在500 ml的甲苯中的31.0 g（0.2 mol）的2,2,6,6-四甲基哌啶酮溶液逐滴地加入在80 ml的己烷中的27.0 g（0.2 mol）的一氯化硫溶液。在加入完成之後，將反應混合物倒入300 g的冰以及200 g的35％氨水中。然後分離有機相，以水沖洗，並通過硫酸鎂乾燥。在減壓下蒸發溶劑，產生了紅色固體，其以甲苯在矽膠60上層析，以14％產率產生了紅色粗結晶。¹ H NMR (600 MHz, CDCl₃ ): δ 2.67 (s, 4H, CH₂ ), 1.46 (s, 12H, CH₃ )¹³ C NMR (150 MHz, CDCl₃ ): δ 206.7, 63.0, 54.2, 31.7範例 10 1,2-雙(2,2,6,6-四甲基-1-(苯硫基)哌啶-4-亞基)聯胺的合成在0℃下，對在EtOH（375 mL）中的單水合聯胺（2.265 g，45.2 mmol）溶液緩慢地加入2,2,6,6-四甲基-1-(苯硫基)哌啶-4-酮（25 g，94.9 mmol）。將混合物通過蒸氣浴加熱15分鐘，然後回流3小時。在加入飽和NaHCO₃ （150 mL）水溶液之前，在RT中讓反應繼續進行額外12小時。過濾出沉澱物，溶解在CH₂ Cl₂ 中，並以水沖洗。將有機相通過Na₂ SO₄ 乾燥，並將溶劑蒸發。從沸騰的EtOH或i -PROH中再結晶，以69％產率產生了純產物。¹ H NMR(600 MHz, CDCl₃ ): δ 7.26 (d,J = 8.3 Hz, 4H), 7.18 (dd,J = 8.3, 7.3 Hz, 4H), 6.96 (td,J = 7.3, 2.1 Hz, 2H), 3.38 (d,J = 13.0 Hz, 1H), 3.17 (d,J = 13.0 Hz, 1H), 2.59 (d,J = 13.1 Hz, 1H), 2.55 (d,J = 13.1 Hz, 1H), 2.46 (d,J = 13.1 Hz, 2H), 2.23 (d,J = 13.3 Hz, 1H), 2.17 (d,J = 13.3 Hz, 1H), 1.3–1.26 (m, 12H), 1.23 (s, 3H), 1.19 (s, 3H), 1.14 (s, 3H), 1.13 (s, 3H)¹³ C NMR (150 MHz, CDCl₃ ): δ 165.09, 162.64 (C=N), 145.56 (C-S), 128.45, 124.31, 122.09 (CH), 49.44, 49.26, 42.79, 42.68 (CH2), 32.15, 32.12, 32.06, 32.04, 26.89, 26.74, 26.28, 26.12 (CH3)範例 11 反式-2,5-二甲基-1,4-雙(苯硫基)哌嗪的合成將反式-2,5-二甲基哌嗪（0.51 g，3.5 mmol）溶解在20 ml的CCl₄ 中。在氬氣下，在室溫下，在1小時期間逐滴地加入在CCl₄ 中的苯亞磺醯氯溶液（1.1 mM，3.18 ml）。形成了白色的沉澱物。將反應混合物留下反應12小時，並以10 ml的H₂ O沖洗兩次。將有機相結合，通過MgSO₄ 乾燥並蒸發。從二乙醚再結晶，以52％產率產生了化合物。¹ H NMR(600 MHz, CDCl₃ ): δ 7.38 (d,J = 7.7 Hz, 4H) , 7.32 (t,J = 7.7 Hz, 4H) 7.22 (t,J = 7.2 Hz, 2H), 3.24 (dd,J = 11.9, 2.6 Hz, 2H), 2.96 (m, 2H), 2.81 (d,J =11.9 Hz, 2H)¹³ C NMR (150 MHz, CDCl₃ ): δ 17.7, 57.8, 65.0, 127.0, 128.5, 128.8, 137.5範例 12 1-丁基磺醯基-2’2’6’6-四甲基哌啶的合成將在甲苯（20 mL）中的2,2,6,6-四甲基哌啶（17.7 g，0.125 mol）冷卻至0℃，並逐滴地加入在甲苯中的正丁基亞磺醯氯（6.2 g，0.05 mol），以至於溫度不超過10℃。將所產生的黃色混合物留下在RT中反應隔夜。將固體顆粒濾出，並將有機相以二乙醚萃取並蒸發。獲得為黃色液體的純產物，產率70％。¹ H NMR(600 MHz, CDCl₃ ): δ 2.60 (t,J = 7.0 Hz, 2H, CH₂ ), 1.53 (m, 4H, CH₂ ), 1.39 (m, 6H, CH₃ ), 1.26 (m, 6H, CH₃ ), 1.10 (m, 6H, CH₃ ), 0.87 (t,J = 6.5 Hz, 3H, 烷基 CH₃ )¹³ C NMR (150 MHz, CDCl₃ ): δ 59.1, 43.8, 40.9, 33.8, 28.7, 24.0, 22.4, 17.4, 13.9範例 13 4,4'-硫基雙-嗎啉的合成在0℃下將在CH₂ Cl₂ （40 mL）中的溴（1.47 g，9.2 mmol）溶液緩慢地加至五水合硫代硫酸鈉（1.14 g，4.6 mmol）、嗎啉（3.0 g，34.4 mmol）以及己烷（50 mL）的攪拌懸浮液中。允許反應混合物回溫至室溫，攪拌12小時，過濾，並在真空下移除有機溶劑。從甲醇再結晶，以73％產率產生了純產物。¹ H NMR (250 MHz, CDCl₃ ): δ 3.63 (d,J = 4.1 Hz, 2H, CH₂ ), 3.28 (d,J = 4.1 Hz, 2H, CH₂ )¹³ C NMR (63 MHz, CDCl₃ ): δ 67.8, 57.7範例 14 1,1'-硫基雙-(2,6-二甲基)哌啶的合成在28℃下對在無水DMF（30 mL）中的2,6-二甲基哌啶（5.0 g，45.0 mmol）溶液分批加入一氯化硫（6.07 g，45.0 mmol）。在28℃下將反應混合物攪拌20小時，並過濾。將濾液溶解在CHCl3中，並以水沖洗。將有機溶劑蒸發，以60％產率產生純產物。¹ H NMR (250 MHz, CDCl₃ ): δ 3.06 (m, 4H, CH), 1.86-1.62 (m, 12H, CH₂ ), 1.53 (s, 6H, CH₃ ), 1.50 (s, 6H, CH₃ )¹³ C NMR (63 MHz, CDCl₃ ): δ 54.3, 30.3, 22.9, 19.5範例 15 1,1'-硫基雙-(2,2,6,6-四甲基)哌啶的合成使用如上的相同程序，但從2,2,6,6-四甲基哌啶（6.34 g，45.0 mmol）開始。產率55％。¹ H NMR (250 MHz, CDCl₃ ): δ 1.69 (m, 12H, CH₂ ), 1.57 (s, 12H, CH₃ ), 1.56 (s, 12H, CH₃ )¹³ C NMR (63 MHz, CDCl₃ ): δ 57.0, 35.2, 27.6, 16.4範例 16 N-1,5,9-((4-甲氧基苯基)硫基))-雙-(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)-胺的合成在氮氣下，在0℃下將在CCl₄ （50 mL）中的4-甲氧基苯亞磺醯氯（0.6 g，3.4 mmol）溶液逐滴地加至在CCl₄ （50 mL）中的雙(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)-胺（根據EP 0336895製備）（2.5 g，8.5 mmol）以及三乙胺（0.5 g，5.1 mol）溶液中。在RT中將反應混合物攪拌12小時。將有機相以水沖洗，並通過乾燥硫酸鈉。在二乙醚中再結晶，產生了0.45 g的單、二以及三取代衍生物的混合物。範例 17 1,1’-硫基雙酞醯亞胺的合成使用如範例10中的相同程序，但從酞醯亞胺（6.61 g，45.0 mmol）酞醯亞胺（6.61 g，45.0 mmol）開始。產率58％。¹ H NMR (250 MHz, CDCl₃ ): δ 7.84 (m, 4H), 7.71 (m, 4H)¹³ C NMR (63 MHz, CDCl₃ ): δ 166.1, 135.2, 131.3, 124.4範例 18 1,1’-硫基雙-咔唑的合成在鈍氣下混合硫粉末（0.16 g，2.5 mmol）、咔唑（6.68 g，40 mmol）以及吡啶（7 mL），並加熱至135℃直到試劑溶解。將在吡啶（7 mL）中的碘（1.27 g，5 mmol）溶液引入至反應混合物中，並攪拌混合物直到脫色。將固體過濾，以水沖洗，並在真空下乾燥。固體以THF沖洗三次，以產出43％的產物。¹³ C NMR (63 MHz, THF): δ 137.5, 127.4, 123.6, 121.5, 118.1, 108.7範例 19 2-[(4-甲氧基苯基)硫基]-1H-異吲哚-1,3(2H)-二酮的合成根據Gilis, H. Martin; Greene, Lana; Thompson, Alison, Synlett (2009), (1), 112-116中所揭露的程序來進行合成。範例 20 9-(苯硫基)-9H -咔唑的合成在氮氣下，在0℃下，在2小時的期間將在CCl₄ （50 mL）中的苯亞磺醯氯（2.6 g，17.9 mmol）溶液逐滴地加至在CH₂ Cl₂ （200 mL）中的9H-咔唑（3.0 g，17.9 mmol）以及三乙胺（2.73 g，27.0 mmol）溶液中。在RT中將反應混合物攪拌12小時。將有機相以水沖洗，並通過硫酸鈉乾燥。從二乙醚再結晶，以75％產率產生了純產物。¹ H NMR (250 MHz, CDCl₃ ): δ 8.13 (d, 2H,J =8.3 Hz), 7.80 (d,J = 7.8 Hz, 2H), 7.52 (t,J = 7.8 Hz, 2H), 7.37 (t,J = 7.3 Hz 2H), 7.19 (m, 3H), 7.03 (d, 2H,J = 7.7 Hz)¹³ C NMR (63 MHz, CDCl₃ ): δ 143.4, 138.0, 129.2, 126.1, 126.6, 124.6, 124.0, 121.2, 120.3, 111.1範例 21 9-[(4-甲氧基苯基)硫基]-9H -咔唑的合成在氮氣下，在0℃下，在2小時期間將在CCl4（50 mL）中的4-甲氧基苯亞磺醯氯（2.1 g，12.0 mmol）溶液逐滴地加至在CH₂ Cl₂ （160 mL）中的9H-咔唑（2 g，12.0 mmol）以及三乙胺（1.8 g，18.0 mol）溶液中。在RT中將反應混合物攪拌12小時。將有機相以水沖洗，並通過硫酸鈉乾燥。在二乙醚中再結晶並多次沖洗，以66％產率產生了2.4 g的純產物。¹ H NMR (250 MHz, CDCl₃ ): δ 8.08 (d, 2H,J = 7.9 Hz), 7.91 (d, 2H,J = 8.1 Hz), 7.55 (t,J = 4.7 Hz, 2H), 7.34 (m, 4H), 6.76 (d, 2H,J = 8.4 Hz), 3.66 (m, 3H)¹³ C NMR (63 MHz, CDCl₃ ): δ 159.8, 143.5, 130.1, 128.0, 126.4, 124.6, 121.1, 120.2, 114.8, 111.2, 55.3範例 22 N -2-萘基-N -苯基-4-甲基苯次磺醯胺的合成將在CCl₄ （50 mL）中的4-甲基苯基亞磺醯氯（1.3 g，8.1 mmol）溶液逐滴地加至在CH₂ Cl₂ （50 mL）中的N -苯基-2-萘胺（3.6 g，16.2 mmol）以及三乙胺（2.46 g，24.4 mmol）溶液中。在室溫下將混合物攪拌12小時。將有機相以水沖洗，並通過硫酸鈉乾燥。在二乙醚中再結晶以及多次沖洗，以77％產率產生了純產物。¹ H NMR (250 MHz, CDCl₃ ): δ 8.41 (d, 1H,J = 9.8 Hz), 7.81 (t, 2H,J = 10.5 Hz), 7.63-7.04 (m, 13H), 2.29 (s, 3H)¹³ C NMR (63 MHz, CDCl₃ ): δ 145.8, 141.4, 136.5, 135.2, 133.3, 131.3, 129.9, 129.5, 129.1, 128.5, 127.8, 126.5, 125.0, 123.0, 121.3, 118.8, 116.3, 108.5, 20.8範例 23 N-雙[4-(1-甲基-1-苯基乙基)苯基]-4-甲基苯次磺醯胺的合成使用如上的相同程序，但從4-(1-甲基-1-苯基乙基)-N -[4-(1-甲基-1-苯基乙基)苯基]-benzen胺（6.56 g，16.2 mmol）開始。產率40％。¹ H NMR (250 MHz, CDCl₃ ): δ 7.36-7.15 (m, 22H, CH), 2.39 (s, 3H, CH₃ ), 1.76 (s, 12H, CH₃ )¹³ C NMR (63 MHz, CDCl₃ ): δ 150.5, 146.7, 145.7, 138.4, 135.4, 129.8, 128.0, 127.5, 126.9, 125.7, 123.1, 121.5, 42.5, 30.8, 21.1範例 24 N-環己基-S-苯基-N-(苯硫基)硫基羥基胺的合成根據Bowman, W. Russell; Clark, David N.; Marmon, Robert J. Journal of Chemical Research, Synopses (1995), (12), 514-15中揭露的程序來進行合成。範例 25 2,4,6-三(4-嗎啉基硫基)-[1,3,5]-三嗪的合成將三硫基氰尿酸（0.52 g，3.0 mmol）以及嗎啉（0.86 g，9.9 mmol）加入至在DMSO（20 mL）中的CuI（0.03 g，0.15 mmol）以及二吡啶（0.02 g，0.15 mmol）混合物中。將反應混合物於100℃下攪拌24小時。將混合物以CH₂ Cl₂ （25 mL）萃取，並以水（50 mL）以及鹽水沖洗兩次。將有機相通過Na₂ SO₄ 乾燥、過濾，並將有機溶劑蒸發，以89％產率產生純產物。¹ H NMR (250 MHz, CDCl₃ ): δ 3.77-3.67 (m, 24H)¹³ C NMR (63 MHz, CDCl₃ ): δ 165.3, 66.9, 43.6.範例 33 雙(2,2,6,6-四甲基-1-(苯硫基)哌啶-4-基)癸二酸酯的合成在1.5小時的期間，對在無水CH₂ Cl₂ （15 mL）中的Tinuvin® 770（3.0 g，6.24 mmol）以及三乙胺（1.5 g，15.0 mmol）溶液逐滴地加入在CCl₄ 中的苯亞磺醯氯（16 mL，15.6 mmol）溶液。在完成加入之後，將反應混合物攪拌12小時。將有機相以水沖洗，並通過硫酸鈉乾燥。從二乙醚再結晶，以70％產率產生了純產物。¹ H NMR (250 MHz, CDCl₃ ): δ 7.32-7.22 (m, CH, 8H), 7.03 (t, CH, 2H), 5.20 (m, CH, 2H), 2.32 (t, CH₂ , 4H), 2.04 (m, CH₂ , 4H), 1.72 (m, CH₂ , 4H), 1.65 (m, CH₂ , 4H), 1.33 (m, CH₂ , 20H), 1.26 (s, CH₃ , 12H)¹³ C NMR (63 MHz, CDCl₃ ): δ 173.7, 145.7, 128.3, 124.3, 122.0, 66.6, 60.9, 45.8, 34.6, 32.4, 29.0, 25.7, 24.6範例 34 雙(2,2,6,6-四甲基哌啶-4-基)碳酸酯的合成根據EP 1731 508 B1中描述的程序來合成雙(2,2,6,6-四甲基哌啶-4-基)碳酸酯。 ¹ HNMR (CDCl₃ ): 5.04 (m, CH, 2H), 2.04 (d, CH₂ , 2H), 2.02 (d, CH₂ , 2H), 1.25 (s, CH₃ , 12H), 1.20 (m, 4H), 1.17 (s, CH₃ , 12H).¹³ CNMR (CDCl₃ ):154.28, 72.70, 51.76, 44.05, 35.01, 28.81. 雙(2,2,6,6-四甲基-1-(苯硫基)哌啶-4-基)碳酸酯的合成將0.5 g，0.0015 mol）溶解於無水二氯甲烷（5 mL）中，並加入三乙胺（0.52 mL，0.0036 mol）。然後，逐滴地加入苯亞磺醯氯（4.07 mL，0.0037 mol）。將反應混合物維持在RT中隔夜。將有機相以水沖洗（3*10 mL），通過Na₂ SO₄ 乾燥並蒸發。將產物從DEE再結晶兩次，並以84％產率獲得標題化合物（0.7 g）。¹ HNMR (CDCl₃ ): 7.24 (m, CH, 8H), 7.06 (t, CH, 2H), 5.04 (CH, 2H), 2.19, 2.16 (CH₂ , 4H), 1.80 (CH₂ , 4H), 1.36 (s, CH₃ , 12H), 1.28 (s, CH₃ , 12H).¹³ CNMR (CDCl₃ ):154.21, 145.01, 128.03, 124.14, 121.67, 70.73, 61.18, 45, 27, 32.18, 25.46.範例 35 1,3-雙(苯硫基)-1H-苯并[d]咪唑-2(3H)-酮的合成將1,3-二氫-2H-苯并[d]咪唑-2-酮（2 g，0.015 mol）部分地溶解在無水二氯甲烷（15 mL）以及無水二甲基甲醯胺（15 mL）混合物（1：1）中。將反應物在RT中攪拌10分鐘，並加入三乙胺（4.25 g，0.042 mol）。對於此反應混合物，在1小時期間內逐滴地加入無水苯亞磺醯氯（40.5 mL，0.037 mol）溶液。將反應混合物在RT中攪拌12小時，並溶解於二氯甲烷中。將有機相以水沖洗三次，通過硫酸鈉乾燥並蒸發。從二乙醚再結晶，以52％產率產生了純產物。¹ HNMR (250 MHz, DMSO): δ 7.38 (4H), 7.35-7.33 (4H), 7.32-7.29 (4H), 7.19 (2H).¹³ CNMR (250 MHz, DMSO): δ 156.4, 136.04, 131.92, 130.08, 128.71, 127.12, 124.18, 110.66.範例 36 苯亞磺醯基取代的Uvinul 5050 H的合成Uvinul® 5050 H（9.9 g，游離胺推算18 mmol，分子量3,000-4,000 g/mol）溶解於150 ml的CH₂ Cl₂ 中，並加入三乙胺（45 mmol，6.1 mL）。在氬氣下，在RT中逐滴地加入苯亞磺醯氯溶液（14.1 mL，1.275 mmol/mL，18 mmol）。持續混合12小時(其中加入50 ml的蒸餾水，並分離出有機相之後)。將CH₂ Cl₂ 溶液以40 ml的水萃取三次，通過Na₂ SO₄ 乾燥、過濾，並將溶劑蒸發。以78％產率獲得了帶黃色的白色固體聚合產物（9.2 g）。商業可得的化合物 除了那些上述製備的之外，也測試了一些商業可得的次磺醯胺以及磺胺，即化合物26化合物27化合物28化合物29化合物30化合物31化合物32參考化合物A 測試範例 1 除非另外說明，商業的聚丙烯或低密度聚乙烯以及下表中給定的化合物是在Haake混合器中分別於210℃以及190℃下混合（60 rpm，5分鐘）。測試薄膜（200 µm）是藉由在熱壓中的壓模來製備。用於PP的擠壓溫度為210℃，用於LDPE則為135℃。聚苯乙烯樣本是藉由來自CH2Cl2的溶劑澆鑄來製備。在測試之前（厚度400 µm），薄膜在RT下在真空烘箱中被乾燥，並有條件處理3天（23℃，50％RH）。依照DIN 4102-1 B2（邊緣燃燒，火焰長度= 40 mm）來調查滯焰性。火焰施加時間為15秒。在下表中：「配方」代表測試樣本的組成物，其中PP意指聚丙烯，LDPE意指低密度聚乙烯，以及PS意指聚苯乙烯。所使用的滯焰劑化合物編號被給出作為其如上述製備的範例編號，或作為如上列出的商業可得化合物編號。「量」意指加至參考材料中的滯焰劑化合物量。平均燃燒時間是從火焰施加的時間來計算。根據基準DIN 4102-1 B2，將整體的結果給定成通過或失敗。燃燒時間以及損害的低值反映了增加的滯焰性。表1示出了參考聚丙烯（PP）（不具任何滯焰劑）以及PP與各種如上述範例中所製備以及上面列出的一些商業可得化合物的組合的測試結果。表2同樣地示出了低密度聚乙烯（LDPE）聚合物以及表3示出了聚苯乙烯（PS）的測試結果。 測試範例 2 將滯焰劑添加物在160℃下與聚苯乙烯（PS，Styrolution PS 158N）、在170℃下與高衝擊聚苯乙烯（HIPS，BASF 聚苯乙烯454 KG2）或在210℃下與聚丙烯（PP，Moplen HP500N）在Haake混合器（60 rpm，5分鐘）中混合。藉由在熱壓中壓模來製備測試薄膜（200 µm）。用於PP的擠壓溫度為210℃，用於HIPS為170℃，以及用於PS為160℃。依照DIN 4102-1 B2標準（邊緣燃燒，火焰長度= 40 mm）來調查滯焰性。火焰施加時間為15秒。此外，根據UL 94 V標準來測試易燃性。UL94測試條狀物是藉由在熱壓中壓模來製備（條狀物厚度1.5 mm）。用於PP的擠壓溫度為210℃，以及用於PS為160℃。在施加焰之後計算了4條狀物的總燃燒時間（t₁ 以及t₂ ）。藉由雙螺擠出機，以設定在200℃的模具溫度來化合出聚苯乙烯 GPPS 25SPI（LG Chemical），接著在200℃下射出成型為1.6 mm厚的條狀物（127 x 12.7 x 1.6 mm³ ）。同樣地以設定在200℃的模具溫度來化合出聚丙烯 Moplen HP 552R，接著在200℃下射出成型。計算了五個檢體的總燃燒時間（t₁ 以及t₂ ）。表4示出了次磺醯胺28本身在兩個不同聚苯乙烯等級中或其與在聚苯乙烯PS 158N中的磷酸三苯酯（TPP）一起的協同作用的滯焰效果劑。可看到的是，對於只含有5重量％的次磺醯胺28的兩種PS等級都觀察到了非常短的燃燒時間。PS 158N達到了UL 94 V2分類（由於燃燒的滴液），而GPPS 25SPI配方達到了UL 94 V0評分。在PS 158N的例子中，然而V0也可藉由使用例如TPP以及次磺醯胺28作為增效組合來獲得。表5示出了在聚丙烯（PP）中的聚磷酸銨（APP）以及三氫氧化銨（ATH）的協同作用。可看到的是，APP以及ATH的滯焰劑功效可藉由加入次磺醯胺來顯著地改進。表6示出了在高衝擊聚苯乙烯中次磺醯胺與FP800或FP600的協同作用。可看到的是，當使用次磺醯胺分別與FP800或FP600的組合時，沒有發生紙的點燃。表7示出了次磺醯胺以及PCO 900之間的強協同作用。可看到的是，當將次磺醯胺加至聚丙烯配方中時，強力地增強了PCO 900的滯焰效能，即非常短的燃燒時間。表8示出了聚丙烯中次磺醯胺以及Budit 3167的協同作用。可看到的是，藉由加入了1重量％的次磺醯胺33，Budit 3167的LOI值從21增加到27。 1）從火焰施加開始計算 2）在火焰施加之後4個條狀物的總燃燒時間（t₁ 以及t₂ ） 3）NC = 未分類的，V-0以及V-2根據UL 94標準 4）測試實驗室：英國ITRI。聚苯乙烯GPPS 25SPI（LG Chemical） 5）對於五個檢體計算的總燃燒時間（t₁ 以及t₂ ）。 1）在火焰施加之後4個條狀物的總燃燒時間（t₁ 以及t₂ ） 2）NC =未分類的，V-0以及V-2根據UL 94標準 1）從火焰施加開始計算，薄膜厚度200 µm 1) 從火焰施加開始計算，薄膜厚度200 µm 2) 測試實驗室：英國ITRI。 3) 對於五個檢體計算的總燃燒時間。 4) NC = 未分類的，V-2根據UL 94標準對於本領域的技術人員將為顯而易見的是，隨著技術進步，具創造性的概念可以各種方式來實施。本發明以及其實施方式不限於上述範例，但可在申請專利範圍的範圍內變化。

Claims

一種分子式（I）化合物作為一滯焰劑的用途其中 L1、L2以及L3每個獨立地選自一鍵結、C_1-10 -亞烷基、-(C=O)-、-O-(C=O)-、-(C=O)-O-、O、NH-(C=O)-、-(C=O)-NH-、NH以及NR20所組成的群組；每個R1以及R2獨立地選自H、S(=O)_p R3、C_1-30 -烷基、以R10隨選地取代一或更多次的C_3-7 -環烷基、C_2-30 -烯基、C_2-30 -炔基、C_1-10 -亞烷基-X-C_1-20 -烷基、以R10隨選地取代一或更多次的C_1-10 -亞烷基-X-C_1-7 -環烷基、以R10隨選地取代一或更多次的一飽和或部分不飽和的單或雙環雜環以及以R10隨選地取代一或更多次的一單或雙環芳基或雜芳基所組成的群組；或 L1、L2、R1以及R2與它們附接至的N原子一起形成一NR1R2基團，該NR1R2基團選自下述所組成的群組：以R10隨選地取代一或更多次的一飽和或部分不飽和的單或雙環雜環；以R10隨選地取代一或更多次的一單、雙、三、四或五環雜芳基；N=CR1’R2’；以及N=S=S； R3是選自C_1-30 -烷基、以R30隨選地取代一或更多次的C_3-7 -環烷基、C_2-30 -烯基、C_2-30 -炔基、NR1R2、以R30隨選地取代一或更多次的一飽和或部分不飽和的單或雙環雜環、以及以R30隨選地取代一或更多次的一單、雙或三環芳基或雜芳基所組成的群組；或 L1、L3、R1以及R3與它們附接至的N原子以及S原子一起形成選自以R40隨選地取代一或更多次的一單、雙或三環雜芳基以及以R40隨選地取代一或更多次的一飽和或部分不飽和的單或雙環雜環的基團；以及R2是如上述所定義；或 L1、L2、L3、R1、R2以及R3與它們附接至的S原子以及N原子一起形成以R50隨選地取代一或更多次的一單、雙或三環雜芳基；每個R1’以及R2’分別獨立地是如上述所定義的R1或R2，或R1’以及R2’與它們附接至的C原子一起形成一CR1’R2’基團，該CR1’R2’基團選自以R10隨選地取代一或更多次的一C_3-7 -環烷基、以R10隨選地取代一或更多次的一飽和或部分不飽和的單或雙環雜環、以R10隨選地取代一或更多次的一單或雙環芳基或雜芳基所組成的群組；每個R10獨立地選自NO₂ 、CN、SO₃ H、COOH、COOR20、CHO、COR20、OCOR20、O(C=O)O-(NR1’’R2’’)-S(=O)_p R3、=O、=S、R20、NHCOR20、NH₂ 、NHR20、N(R20)₂ 、OH、OR20、OSiH₃ 、OSi(R20)₃ 、S(=O)_p R3、=N-S(=O)_p R3、-N=N-(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3以及=N-N=(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3所組成的群組，其中R1’’R2’’N形成以一或更多個R10’隨選地取代的一單環飽和雜環；倘若當R10是O(C=O)O-(NR1’’R2’’)-S(=O)_p R3、S(=O)_p R3、=N-S(=O)_p R3、-N=N-(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3或=N-N=(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3時，該R3不以NR1R2或SNR1R2取代；每個R10’獨立地選自NO₂ 、CN、SO₃ H、COOH、COOR20、CHO、COR20、OCOR20、=O、R20、NHCOR20、NH₂ 、NHR20、N(R20)₂ 、OH、OR20、OSiH₃ 以及OSi(R20)₃ 所組成的群組；每個R20獨立地選自C_1-30 -烷基、C_2-30 -烯基、C_2-30 -炔基、芳基、C_1-10 -亞烷基-芳基、雜芳基以及C_1-10 -亞烷基-雜芳基所組成的群組，其中該芳基或雜芳基以C_1-4 -烷基、NO₂ 、CN、NH₂ 、NMe₂ 、OH及/或OMe隨選地取代一或更多次；每個R30獨立地選自NO₂ 、CN、SO₃ H、COOH、COOR20、CHO、COR20、OCOR20、=O、R20、OH、OR20、OSiH₃ 、OSi(R20)₃ 、NHCOR20、NR1R2以及S(=O)_p -NR1R2所組成的群組，倘若當R30是NR1R2或S(=O)_p -NR1R2時，該NR1R2不以O(C=O)O-(NR1’’R2’’)-S(=O)_p R3、S(=O)_p R3、=N-S(=O)_p R3、-N=N-(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3或=N-N=(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3取代；每個R40獨立地選自NO₂ 、CN、SO₃ H、COOH、COOR20、CHO、COR20、OCOR20、=O、R20、OH、OR20、OSiH₃ 、OSi(R20)₃ 、NHCOR20、NR1R2、S(=O)_p R3以及以R10’隨選地取代一或更多次的一飽和或部分不飽和單環雜環所組成的群組，倘若當R40是NR1R2或S(=O)_p R3時，該R3不以NR1R2或S(=O)_p -NR1R2取代，以及該NR1R2不以O(C=O)O-(NR1’’R2’’)-S(=O)_p R3、-S(=O)_p R3、=N-S(=O)_p R3、-N=N-(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3或=N-N=(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3取代；每個R50獨立地選自NO₂ 、CN、SO₃ H、COOH、COOR20、CHO、COR20、OCOR20、=O、R20、OH、OR20、OSiH₃ 、OSi(R20)₃ 、NHCOR20、NR1R2、S(=O)_p R3以及以R10’隨選地取代一或更多次的一飽和或部分不飽和單環雜環所組成的群組，倘若當R50是NR1R2或S(=O)_p R3時，該R3不以NR1R2或S(=O)_p -NR1R2取代，以及該NR1R2不以O(C=O)O-(NR1’’R2’’)-S(=O)_p R3、S(=O)_p R3、=N-S(=O)_p R3、-N=N-(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3或=N-N=(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3取代；以及每個p獨立地選自0、1以及2所組成的群組。
一種包含一或更多個重複單元的聚合物的用途，其中該重複單元的至少其中之一包含分子式（II）的一次磺醯胺基元作為一滯焰劑其中該磺胺基元被包括在該聚合物的一主鏈中、該聚合物的一側基中、或是該聚合物的一交聯部分，以及其中 L1、L2以及L3每個獨立地選自一鍵結、C_1-10 -亞烷基、-(C=O)-、-O-(C=O)-、-(C=O)-O-、O、NH-(C=O)-、-(C=O)-NH-、NH以及NR20所組成的群組；每個R1以及R2獨立地選自H、S(=O)_p R3、C_1-30 -烷基、以R10隨選地取代一或更多次的C_3-7 -環烷基、C_2-30 -烯基、C_2-30 -炔基、C_1-10 -亞烷基-X-C_1-20 -烷基、以R10隨選地取代一或更多次的C_1-10 -亞烷基-X-C_1-7 -環烷基、以R10隨選地取代一或更多次的一飽和或部分不飽和的單或雙環雜環以及以R10隨選地取代一或更多次的一單或雙環芳基或雜芳基所組成的群組；或 L1、L2、R1以及R2與它們附接至的N原子一起形成一NR1R2基團，該NR1R2基團選自下述所組成的群組：以R10隨選地取代一或更多次的一飽和或部分不飽和的單或雙環雜環；以R10隨選地取代一或更多次的一單、雙、三、四或五環雜芳基；N=CR1’R2’；以及N=S=S； R3選自C_1-30 -烷基、以R30隨選地取代一或更多次的C_3-7 -環烷基、C_2-30 -烯基、C_2-30 -炔基、NR1R2、以R30隨選地取代一或更多次的一飽和或部分不飽和的單或雙環雜環以及以R30隨選地取代一或更多次的一單、雙或三環芳基或雜芳基所組成的群組；或 L1、L3、R1以及R3與它們附接至的N原子以及S原子一起形成一基團，該基團選自以R40隨選地取代一或更多次的一單、雙或三環雜芳基以及以R40隨選地取代一或更多次的一飽和或部分不飽和的單或雙環雜環；以及R2如上述所定義；或 L1、L2、L3、R1、R2以及R3與它們附接至的S原子以及N原子一起形成以R50隨選地取代一或更多次的一單、雙或三環雜芳基；每個R1’以及R2’分別獨立地是如上述所定義的R1或R2，或R1’以及R2’與它們附接至的C原子一起形成一CR1’R2’基團，該CR1’R2’基團選自以R10隨選地取代一或更多次的一C_3-7 -環烷基、以R10隨選地取代一或更多次的一飽和或部分不飽和的單或雙環雜環、以R10隨選地取代一或更多次的一單或雙環芳基或雜芳基所組成的群組， X是O、S、NH、NR20、P、Si或Se；每個R10獨立地選自NO₂ 、CN、SO₃ H、COOH、COOR20、CHO、COR20、OCOR20、O(C=O)O-(NR1’’R2’’)-S(=O)_p R3、=S、=O、R20、NHCOR20、NH₂ 、NHR20、N(R20)₂ 、OH、OR20、OSiH₃ 、OSi(R20)₃ 、S(=O)_p R3、=N-S(=O)_p R3、-N=N-(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3以及=N-N=(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3所組成的群組，其中R1’’R2’’N形成以一或更多個R10’隨選地取代的一單環飽和雜環；倘若當R10是O(C=O)O-(NR1’’R2’’)-S(=O)_p R3、S(=O)_p R3、=N-S(=O)_p R3、-N=N-(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3或=N-N=(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3時，該R3不以NR1R2或SNR1R2取代；每個R10’獨立地選自NO₂ 、CN、SO₃ H、COOH、COOR20、CHO、COR20、OCOR20、=O、R20、NHCOR20、NH₂ 、NHR20、N(R20)₂ 、OH、OR20、OSiH₃ 以及OSi(R20)₃ 所組成的群組；每個R20獨立地選自C_1-30 -烷基、C_2-30 -烯基、C_2-30 -炔基、芳基、C_1-10 -亞烷基-芳基、雜芳基以及C_1-10 -亞烷基-雜芳基所組成的群組，其中該芳基或雜芳基以C_1-4 -烷基、NO₂ 、CN、NH₂ 、NMe₂ 、OH及/或OMe隨選地取代一或更多次；每個R30獨立地選自NO₂ 、CN、SO₃ H、COOH、COOR20、CHO、COR20、OCOR20、=O、R20、OH、OR20、OSiH₃ 、OSi(R20)₃ 、NHCOR20、NR1R2以及S(=O)_p -NR1R2所組成的群組，倘若當R30是NR1R2或S(=O)_p -NR1R2時，該NR1R2不以O(C=O)O-(NR1’’R2’’)-S(=O)_p R3、S(=O)_p R3、=N-S(=O)_p R3、-N=N-(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3或=N-N=(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3取代；每個R40獨立地選自NO₂ 、CN、SO₃ H、COOH、COOR20、CHO、COR20、OCOR20、=O、R20、OH、OR20、OSiH₃ 、OSi(R20)₃ 、NHCOR20、NR1R2、S(=O)_p R3以及以R10’隨選地取代一或更多次的一飽和或部分不飽和單環雜環所組成的群組，倘若當R40是NR1R2或S(=O)_p R3時，該R3不以NR1R2或S(=O)_p -NR1R2取代，以及該NR1R2不以O(C=O)O-(NR1’’R2’’)-S(=O)_p R3、-S(=O)_p R3、=N-S(=O)_p R3、-N=N-(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3或=N-N=(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3取代；每個R50獨立地選自NO₂ 、CN、SO₃ H、COOH、COOR20、CHO、COR20、OCOR20、=O、R20、OH、OR20、OSiH₃ 、OSi(R20)₃ 、NHCOR20、NR1R2、S(=O)_p R3以及以R10’隨選地取代一或更多次的一飽和或部分不飽和單環雜環所組成的群組，倘若當R50是NR1R2或S(=O)_p R3時，該R3不以NR1R2或S(=O)_p -NR1R2取代，以及該NR1R2不以O(C=O)O-(NR1’’R2’’)-S(=O)_p R3、S(=O)_p R3、=N-S(=O)_p R3、-N=N-(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3或=N-N=(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3取代；以及每個p獨立地選自0、1以及2所組成的群組；倘若R1、R2以及R3的至少其中之一鏈結至該聚合物。
一種如申請專利範圍第1項所述的化合物的用途或如申請專利範圍第2項所述的聚合物的用途，其中 L1、L2以及L3每個獨立地選自一鍵結、C_1-10 -亞烷基、-(C=O)-、O、NH以及NR20所組成的群組；每個R1以及R2獨立地選自H、S(=O)_p R3、C_1-30 -烷基、以R10隨選地取代一或更多次的C_3-7 -環烷基、C_2-30 -烯基、C_2-30 -炔基、C_1-10 -亞烷基-X-C_1-20 -烷基、以R10隨選地取代一或更多次的C_1-10 -亞烷基-X-C_1-7 -環烷基、以R10隨選地取代一或更多次的一飽和或部分不飽和的單或雙環雜環以及以R10隨選地取代一或更多次的一單或雙環芳基或雜芳基所組成的群組；或 L1、L2、R1以及R2與它們附接至的N原子一起形成一NR1R2基團，該NR1R2基團選自下述所組成的群組：以R10隨選地取代一或更多次的一飽和或部分不飽和的單或雙環雜環、以R10隨選地取代一或更多次的一單、雙、三、四或五環雜芳基；N=CR1’R2’；以及N=S=S； R3選自C_1-30 -烷基、以R30隨選地取代一或更多次的C_3-7 -環烷基、C_2-30 -烯基、C_2-30 -炔基、NR1R2、以R30隨選地取代一或更多次的一飽和或部分不飽和的單或雙環雜環以及以R30隨選地取代一或更多次的一單、雙或三環芳基或雜芳基所組成的群組；或 L1、L3、R1以及R3與它們附接至的N原子以及S原子一起形成一基團，該基團選自以R40隨選地取代一或更多次的一單、雙或三環雜芳基以及以R40隨選地取代一或更多次的一飽和或部分不飽和的單或雙環雜環；以及R2如上述所定義；或 L1、L2、L3、R1、R2以及R3與它們附接至的S原子以及N原子一起形成以R50隨選地取代一或更多次的一單、雙或三環雜芳基；每個R1’以及R2’分別獨立地是如上述所定義的R1或R2，或R1’以及R2’與它們附接至的C原子一起形成一CR1’R2’基團，該CR1’R2’基團選自以R10隨選地取代一或更多次的一C_3-7 -環烷基、以R10隨選地取代一或更多次的一飽和或部分不飽和的單或雙環雜環、以R10隨選地取代一或更多次的一單或雙環芳基或雜芳基所組成的群組， X是O、S、NH、NR20、P、Si或Se；每個R10獨立地選自NO₂ 、CN、SO₃ H、COOH、COOR20、CHO、COR20、OCOR20、=O、R20、NHCOR20、NH₂ 、NHR20、N(R20)₂ 、OH、OR20、OSiH₃ 、OSi(R20)₃ 、S(=O)_p R3、=N-S(=O)_p R3、-N=N-(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3以及=N-N=(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3所組成的群組，其中R1’’R2’’N形成以一或更多個R10’隨選地取代的一單環飽和雜環；倘若當R10是S(=O)_p R3、=N-S(=O)_p R3、-N=N-(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3或=N-N=(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3時，該R3不以NR1R2或SNR1R2取代；每個R10’獨立地選自NO₂ 、CN、SO₃ H、COOH、COOR20、CHO、COR20、OCOR20、=O、R20、NHCOR20、NH₂ 、NHR20、N(R20)₂ 、OH、OR20、OSiH₃ 以及OSi(R20)₃ 所組成的群組；每個R20獨立地選自C_1-30 -烷基、C_2-30 -烯基、C_2-30 -炔基、芳基、C_1-10 -亞烷基-芳基、雜芳基以及C_1-10 -亞烷基-雜芳基所組成的群組，其中該芳基或雜芳基以C_1-4 -烷基、NO₂ 、CN、NH₂ 、NMe₂ 、OH及/或OMe隨選地取代一或更多次；每個R30獨立地選自NO₂ 、CN、SO₃ H、COOH、COOR20、CHO、COR20、OCOR20、=O、R20、OH、OR20、OSiH₃ 、OSi(R20)₃ 、NHCOR20、NR1R2以及S(=O)_p -NR1R2所組成的群組，倘若當R30是NR1R2或S(=O)_p -NR1R2時，該NR1R2不以S(=O)_p R3、=N-S(=O)_p R3、-N=N-(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3或=N-N=(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3取代；每個R40獨立地選自NO₂ 、CN、SO₃ H、COOH、COOR20、CHO、COR20、OCOR20、=O、R20、OH、OR20、OSiH₃ 、OSi(R20)₃ 、NHCOR20、NR1R2、S(=O)_p R3以及以R10’隨選地取代一或更多次的一飽和或部分不飽和單環雜環所組成的群組，倘若當R40是NR1R2或S(=O)_p R3時，該R3不以NR1R2或S(=O)_p -NR1R2取代，以及該NR1R2不以-S(=O)_p R3、=N-S(=O)_p R3、-N=N-(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3或=N-N=(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3取代；每個R50獨立地選自NO₂ 、CN、SO₃ H、COOH、COOR20、CHO、COR20、OCOR20、=O、R20、OH、OR20、OSiH₃ 、OSi(R20)₃ 、NHCOR20、NR1R2、S(=O)_p R3以及以R10’隨選地取代一或更多次的一飽和或部分不飽和單環雜環所組成的群組，倘若當R50是NR1R2或S(=O)_p R3時，該R3不以NR1R2或S(=O)_p -NR1R2取代，以及該NR1R2不以S(=O)_p R3、=N-S(=O)_p R3、-N=N-(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3或=N-N=(R1’’R2’’N)-S(=O)_p R3取代；以及每個p獨立地選自0、1以及2所組成的群組。
如申請專利範圍第1項所述的用途，其中分子式（I）化合物選自分子式（Ia）、（Ib）、（Ic）、（Id）、（Ie）、（If）、（Ig）、（Ih）以及（Ii）化合物所組成的群組其中每個m獨立地是0、1、2、3或4，n是從0至8，X’是一鍵結、N或O，Z是選自一鍵結、O、S、NH、NR20、N-SR3、CH₂ 、CHR20、C(R20)₂ 以及C=O所組成的群組，Y是選自一鍵結、CH₂ 、CHR10、C(R10)₂ 、N-SR3、C=O、C=N-SR3以及C=N-N(R1’’R2’’N)-SR3所組成的群組，以及R1、R2、R3、R10、R20、R30、R40以及R50是如申請專利範圍第1項中所定義。
如申請專利範圍第1項所述的用途，其中分子式（I）化合物是一分子式（Ia）化合物，其中每個m獨立地是0、1、2、3或4，以及每個R10以及R3是如申請專利範圍第1項中所定義，以及Z是一鍵結、O、S、NH、NR20、NSR3、CH₂ 、CHR20、C(R20)₂ 或C=O。
如申請專利範圍第1項所述的用途，其中分子式（I）化合物是一分子式（Ib）化合物，其中n是從0至8，Y是選自CH₂ 、CHR10、C(R10)₂ 、N-SR3、C=O、C=N-SR3以及C=N-N(R1’’R2’’N)-SR3所組成的群組，其中R1’’R2’’N形成一單環飽和雜環，以及每個R10以及R3是如申請專利範圍第1項中所定義。
如申請專利範圍第1項所述的用途，其中該分子式（I）化合物是一分子式（Ic）化合物其中R1以及R2每個獨立地如申請專利範圍第1項中所定義。
如申請專利範圍第1項所述的用途，其中分子式（I）化合物是一分子式（Ie）化合物其中m是0至4，A是S、O或NH，以及R1、R2以及R30每個獨立地如申請專利範圍第1項中所定義。
如申請專利範圍第1項所述的用途，其中分子式（I）化合物是一分子式（If）化合物其中m是0至4，A是S、O或NH，以及R1、R2以及R30每個獨立地如申請專利範圍第1項中所定義。
如申請專利範圍第1項所述的用途，其中分子式（I）化合物是一分子式（Ig）化合物，其中每個R1以及R2獨立地如申請專利範圍第1項中所定義。
如申請專利範圍第1項所述的用途，其中分子式（I）化合物是一分子式（Ih）化合物其中每個R10以及R3獨立地如申請專利範圍第1項中所定義，以及n是0至4，較佳為0或1。
如申請專利範圍第1項所述的用途，其中分子式（I）化合物是一分子式（Iac）化合物其中m是0、1、2、3或4，較佳為0，以及T選自C=O、C=S、C=N-SR3、N-SR3、N、S、O以及P所組成的群組；以及每個R3以及R10獨立地如申請專利範圍第1項中所定義。
如申請專利範圍第1項所述的用途，其中分子式（I）化合物是一分子式（Ibd）化合物其中每個R3是如申請專利範圍第1項所述，以及L是鍵結或C_1-10 -亞烷基-(C=O)-。
如申請專利範圍第1項至第13項任一所述的用途，其中每個R1以及R2獨立地選自分支C_3-30 -烷基、C_3-7 -環烷基、以R10隨選地取代一或更多次的一單或雙環雜環、以R10隨選地取代一或更多次的一單或雙環芳基或雜芳基；或R1以及R2與它們附接至的N原子一起形成隨選地進一步包含1至4個選自N、S以及O的雜原子並以R10隨選地取代一或更多次的一飽和單或雙環雜；或隨選地進一步包含1至4個選自N、S以及O的雜原子並以R10隨選地取代一或更多次的一單、雙、三環雜芳基，以及其中每個R10獨立地如申請專利範圍第1項中所定義。
如申請專利範圍第1項至第13項任一所述的用途，其中R1以及R2每個獨立地選自分支C_3-7 -烷基、C_3-7 -環烷基、以R10隨選地取代一或更多次的飽和雜環、以R10隨選地取代一或更多次的單或雙環芳基或雜芳基所組成的群組。
如申請專利範圍第1項至第13項任一所述的用途，其中R1以及R2的其中之一是SR3，以及另一個是選自分支C_3-7 -烷基、C_3-7 -環烷基、以一或更多個R10隨選取代的飽和雜環、以一或更多個R10隨選取代的單或雙環芳基或雜芳基所組成的群組。
如申請專利範圍第1項至第13項任一所述的用途，其中NR1R2形成選自以下的基團：其中每個m獨立地是0、1、2、3或4，每個n獨立地是0、1、2、3、4、5、6、7或8，以及每個R3、R10以及R20獨立地如申請專利範圍第1項中所定義。
如申請專利範圍第2項所述的用途，其中該聚合物包含一或更多個重複單元，其中該重複的至少其中之一是分子式（IIIa）或（IIIb）的一聚合物其中R1、R2、R3、L1、L2以及L’是如申請專利範圍第2項中所定義，以及P*意指一聚合骨架的一重複單元。
如申請專利範圍第2項所述的用途，其中該聚合物包含一或更多個重複單元，其中該重複的至少其中之一是分子式（IIIa）或（IIIb）的一聚合物其中R1、R2、R3、L1、L2以及L’是如申請專利範圍第2項中所定義，以及P*意指一聚合骨架的一重複單元。
如申請專利範圍第1項至第19項任一所述的用途，其中R3是一單、雙或三環芳基或雜芳基，其以R30隨選地取代一或更多次。
如申請專利範圍第1項或第2項所述的用途，其中該分子式（I）化合物選自下述所組成的群組 2,2,6,6-四甲基-1-(苯硫基)哌啶-4-酮（1）； 1-((4-甲氧基苯基)硫基)-2,2,6,6-四甲基哌啶-4-酮（2）； 2,2,6,6-四甲基-1-((4-硝基苯基)硫基)哌啶-4-酮（3）； 1-(2-硝基苯硫基)-2,2,6,6-四甲基哌啶-4-酮（4）； 2,2,6,6-四甲基-1-(4-甲基苯硫基)哌啶-4-酮（5）； 1-(2,4,6-三甲基苯硫基)-2,2,6,6-四甲基哌啶-4-酮（6）； 1-(2-吡啶基硫基)-2,2,6,6-四甲基哌啶-4-酮（7）； 1,2-雙(2,2,6,6-四甲基-1-(苯硫基)哌啶-4-亞基)聯胺（8）； 2,2,6,6-四甲基-1-(苯硫基)-4-哌啶基甲基丙烯酸酯（9）； 1-[(1-二亞磺醯亞基胺基)亞磺醯基-2’2’6’6-四甲基哌啶-4-酮（10）；反式-2,5-二甲基-1,4-雙(苯硫基)哌嗪（11）； 1-丁基磺醯基-2’2’6’6-四甲基哌啶（12）； 4'-硫基雙-嗎啉（13）； 1,1'-硫基雙-(2,6-二甲基)哌啶（14）； 1,1'-硫基雙-(2,2,6,6-四甲基)哌啶（15）； N-1,5,9-((4-甲氧基苯基)硫基))-雙-(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)胺（16）； 1,1’-硫基雙酞醯亞胺（17）； 1,1’-硫基雙-咔唑（18）； 2-[(4-甲氧基苯基)硫基]-1H-異吲哚-1,3(2H)-二酮（19）； 9-(苯硫基)-9H -咔唑（20), 9-[(4-甲氧基苯基)硫基]-9H -咔唑（21）；N -2-萘基-N -苯基-4-甲基苯次磺醯胺（22）； N-雙[4-(1-甲基-1-苯基乙基)苯基]-4-甲基苯次磺醯胺（23）； N-環己基-S-苯基-N-(苯硫基)硫基羥基胺（24）； 2,4,6-三(4-嗎啉yl硫基)-[1,3,5]-三嗪（25）； S-(苯并[d]噻唑-2-基)-N,N-二異丙基硫基羥基胺（26）； S-(苯并[d]噻唑-2-基)-N,N-二環己基硫基羥基胺（27）； S-(苯并[d]噻唑-2-基)-N-(苯并[d]噻唑-2-基硫基)-N-(叔丁基)硫基羥基胺（28）；苯并[c][1,2,5]噻二唑（29）； 3-(哌嗪-1-基)苯并[d]異噻唑（30）； 5-硝基苯并[c]異噻唑-3-胺（31）；以及 3-苯基-1,2,4-噻二唑-5-胺（32) 雙(2,2,6,6-四甲基-1-(苯硫基)哌啶-4-基)癸二酸酯（33）；雙(2,2,6,6-四甲基-1-(苯硫基)哌啶-4-基)碳酸酯（34）；以及 1,3-雙(苯硫基)-1H-苯并[d]咪唑-2(3H)-酮（35）；或其中包含一或更多個重複單元的該聚合物是聚[3-甲基-4-(2-甲基二十二基)-1-(2,2,6,6-四甲基-1-(苯硫基)哌啶-4-基)吡咯啶-2,5-二酮]（36），其中該重複單元的至少其中之一包含一分子式（II）的次磺醯胺基元。
如申請專利範圍第1項至第21項任一所述的用途，其中該分子式（I）化合物及/或包含一或更多個重複單元的該聚合物是與一或更多個其他分子式（I）化合物組合用途，其中該重複單元的至少其中之一包含一分子式（II）的次磺醯胺基元。
如申請專利範圍第1項至第21項任一所述的用途，其中該分子式（I）化合物及/或包含一或更多個重複單元的該聚合物是與一或更多個其他的滯焰劑組合用途，其中該重複單元的至少其中之一包含一分子式（II）的次磺醯胺基元。
如申請專利範圍第23項所述的用途，其中該其他滯焰劑是一非鹵化滯焰劑。
如申請專利範圍第1項至第24項任一所述的用途，其中該分子式（I）化合物及/或包含一或更多個重複單元的該聚合物被用於提供滯焰特性給一聚合基質，其中該重複單元的至少其中之一包含一分子式（II）的次磺醯胺基元。
如申請專利範圍第25項所述的用途，其中該分子式（I）化合物被化學地併入該聚合基質的一部分或所有的該聚合材料中。
一種組成物，包含（a）一或更多個如申請專利範圍第1項以及第3項至第21項任一中所定義的分子式（I）化合物；以及（b）一聚合基質。
如申請專利範圍第27項所述的組成物，其中該分子式（I）化合物被化學地併入該聚合基質的一部分或所有的該聚合材料中。
如申請專利範圍第27項或第28項所述的組成物，其除了該成分（a）、(b)以及（c）之外，包含進一步的添加物，該添加物選自聚合物穩定劑以及額外滯焰劑所組成的群組，例如含三聚氰胺滯焰劑、含磷滯焰劑、含三聚氰胺滯焰劑之外的進一步的含氮滯焰劑以及無機滯焰劑。
如申請專利範圍第29項所述的組成物，其中該額外的滯焰劑是一非鹵化滯焰劑。
一種申請專利範圍第27項至第30項任一中定義的組成物作為一滯焰劑的用途。
一種提供如申請專利範圍第27項中所定義的滯焰組成物的方法，包含將如申請專利範圍第1項以及第3項至第21項任一中所定義的分子式（I）化合物加至一基質，以獲得一滯焰組成物的步驟。