TWI601914B - 烤爐 - Google Patents

Description

烤爐

本發明係關於一種烤爐，尤其是一種用於面板產業來加熱和烘乾一液晶顯示器基板之烤爐。

在面板產業中，溼式製程發展的已經相當成熟。然而，受限於現有的機構設計，在實際操作中仍存在許多問題。如在烤爐中，因為烤爐內部的空氣持續被加熱，會導致壓力升高，為了解決壓力升高的問題，現有技術通過在該烤爐的周圍設置排氣孔進行減壓。如此雖然解決了壓力的問題，卻同時因為氣流不均勻以及溫度不均勻，進而造成所製成的液晶顯示面板會產生Mura現象(顯示器亮度不均勻造成各種痕跡的現象)。

因此，有必要提供一種烤爐，以解決上述之問題。

有鑑於此，本發明目的在於提供一烤爐，其具有改善上述之問題的功效。

為達成上述目的，本發明提供一種烤爐，用於加熱和乾燥至少一基板。該烤爐包括一操作腔室、一加熱板以及一多孔板。

該操作腔室具有至少一排氣孔用以排放該操作腔室內加熱的空氣。該加熱板，設置於該操作腔室底部，用以在該操作腔室內產生一 加熱效果。該多孔板，設置在該操作腔室中，其中該加熱的空氣至少部分地流過該多孔板來流入該排氣孔中。該至少一基板設置於該操作腔室中來接收該加熱板的加熱和乾燥。

在一較佳實施例中，該加熱板的面積跟該多孔板的面積的比值小於或等於10。

在一較佳實施例中，該多孔板設置於該加熱板的邊緣和該至少一排氣孔上。

在一較佳實施例中，該至少一排氣孔係設置於該操作腔室的周圍。

在一較佳實施例中，該多孔板係完全覆蓋該至少一排氣孔，使得該受熱空氣在流入該至少一排氣孔前須完全流過該多孔板。

在一較佳實施例中，該基板為一液晶顯示器基板。

在一較佳實施例中，該烤爐是用在該液晶顯示器基板的濕式製程中。

在一較佳實施例中，該基板為一液晶顯示器基板。

在一較佳實施例中，該烤爐是用在該液晶顯示器基板的濕式製程中。

在一較佳實施例中，該烤爐還包括一抽氣裝置，用於從該至少一排氣孔將該操作腔室中的氣體抽出。

在一較佳實施例中，該多孔板係造成該加熱的空氣擾流效果，而使該加熱空氣均勻分佈在該操作腔室中。

相較於先前技術，本發明通過設置該多孔板，讓該操作腔室 中的加熱氣流較為均勻，進而改善了加熱溫度不均勻現象。藉此，當該基板為一液晶顯示器基板(liquid crystal display substrate)時，所製成的液晶顯示面板的Mura現象(板亮度不均勻造成各種痕跡的現象)可被改善。

100、200‧‧‧烤爐

110‧‧‧操作腔室

120‧‧‧加熱板

130‧‧‧多孔板

140‧‧‧排氣孔

150‧‧‧基板

160‧‧‧抽氣裝置

第1圖，繪示本發明的第一較佳實施例的烤爐之正視剖視圖；第2圖，繪示根據第1圖的剖面線2-2所得之頂視剖視圖；以及第3圖，繪示本發明的第二較佳實施例的烤爐之正視剖視圖。

以下參照附圖詳細說明的實施例將會使得本發明的優點和特徵以及實現這些優點和特徵的方法更加明確。但是，本發明不局限於以下所公開的實施例，本發明能夠以互不相同的各種方式實施，以下所公開的實施例僅用於使本發明的公開內容更加完整，有助於本發明所屬技術領域的普通技術人員能夠完整地理解本發明之範疇，本發明是根據申請專利範圍而定義。在說明書全文中，相同的附圖標記表示相同的裝置元件。

參考第1圖以及第2圖。第1圖，繪示本發明的第一較佳實施例的烤爐100之正視剖視圖。第2圖，繪示根據第1圖的剖面線2-2所得之頂視剖視圖。該烤爐100用於加熱和乾燥至少一基板150。在此較佳實施例中，該基板150為一在一濕式製程中的液晶顯示器基板(liquid crystal display substrate)。該液晶顯示器基板是用以製出一液晶顯示面板。換言之，該烤爐100是用在一液晶顯示器基板的濕式製程中。該烤爐100包括一操作腔室110、一加熱板120、一多孔板130、至少一排氣孔140。該至少一排氣孔140係設置於該操作腔室110的周圍。該加熱板120，設置於該操作腔室110底 部。該多孔板130，設置在該加熱板120的邊緣和該至少一排氣孔140上方。該至少一基板150設置於該操作腔室110中，較佳地是置放在該加熱板120上以接受該加熱板120的加熱和乾燥。在實際操作中，較佳地，該至少一基板150被放置於該加熱板120的中央(溫度最均勻的位置)，在加熱和乾燥的過程中，該至少一基板150上的液體會受熱汽化(接收該加熱板120的接觸熱以及該操作腔室110的空氣的傳導熱)。在此，因為設置了該多孔板130，使得該操作腔室110的加熱空氣產生了一定的擾流效果，進而使該操作腔室110的空氣的流動以及溫度較為均勻。

較佳地，在本較佳實施例中，該多孔板130僅設置於該加熱板120的邊緣並完全覆蓋該至少一排氣孔140，以便讓該操作腔室110的加熱空氣可以完全通過該多孔板130從該至少一排氣孔140排出該操作腔室110的內部。但是，也可以根據不同的設計需求，將該多孔板130設置在不同的位置，唯一需要注意的是，該至少一排氣孔140要能夠通過該多孔板130與該操作腔室110的空氣接觸。換言之，該加熱的空氣在流入該至少一排氣孔140中前要至少部分地流過該多孔板130。

較佳地，該加熱板120的面積跟該多孔板130的面積的比值小於或等於10。

第3圖，繪示本發明的第二較佳實施例的烤爐200之正視剖視圖。本較佳實施例與第一較佳實施例的差異在於：該烤爐200還包括一抽氣裝置160，用於從該至少一排氣孔140將該操作腔室110中的氣體抽出。藉由該抽氣裝置160，能夠讓該操作腔室110內部的壓力維持恆定，進一步穩定加熱和乾燥效果，使該至少一基板150能均勻受熱而在整個濕式製程中有一 均勻的機械、電氣和化學特性。如此，由該至少一基板150所得到的液晶顯示面板的Mura現象可被降至最低。

雖然本發明已用較佳實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，本發明所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作各種之更動與潤飾，因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。

100‧‧‧烤爐

110‧‧‧操作腔室

120‧‧‧加熱板

130‧‧‧多孔板

140‧‧‧排氣孔

150‧‧‧基板

Claims (8)

1. 一種烤爐，用於加熱和乾燥至少一基板，該烤爐包括：一操作腔室具有至少一排氣孔用以排放該操作腔室內加熱的空氣；一加熱板，設置於該操作腔室底部，用以在該操作腔室內產生一加熱效果；以及一多孔板，設置在該操作腔室中，其中該加熱的空氣至少部分地流過該多孔板來流入該排氣孔中；其中該至少一基板設置於該操作腔室中來接收該加熱板的加熱和乾燥，該基板為一液晶顯示器基板，該烤爐是用在該液晶顯示器基板的濕式製程中。
2. 如申請專利範圍第1項所述之烤爐，其中該加熱板的面積跟該多孔板的面積的比值小於或等於10。
3. 如申請專利範圍第1項所述之烤爐，其中該多孔板設置於該加熱板的邊緣和該至少一排氣孔上。
4. 如申請專利範圍第1項所述之烤爐，其中該至少一排氣孔係設置於該操作腔室的周圍。
5. 如申請專利範圍第3項所述之烤爐，其中該烤爐還包括一抽氣裝置，用於從該至少一排氣孔將該操作腔室中的氣體抽出。
6. 如申請專利範圍第1項所述之烤爐，其中該多孔板係完全覆蓋該至少一排氣孔，使得該受熱空氣在流入該至少一排氣孔前須完全流過該多孔板。
7. 如申請專利範圍第1項所述之烤爐，其中該烤爐還包括一抽氣裝置，用於從該至少一排氣孔將該操作腔室中的氣體抽出。
8. 如申請專利範圍第1項所述之烤爐，其中該多孔板係造成該加熱的空氣擾流效果，而使該加熱空氣均勻分佈在該操作腔室中。